国際特許分類[H01J37/315]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | 放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの (7,637) | 物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管 (1,896) | 溶接するためのもの (4)
国際特許分類[H01J37/315]に分類される特許
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電子ビーム装置
【課題】カソードの消耗を抑制し、寿命を延ばす。
【解決手段】中央部が空けられたフィラメント60´(カソード)、グリッド7及びアノード8を有する電子銃5からの電子ビームを蒸発物質3に当て、蒸発粒子を基板上に膜状に付着させる様に成した電子ビーム蒸着装置であって、電子銃5の中心軸O′上に、その先端面が、アノード8から見て、フィラメント60´(カソード)の中央部空間内に位置する様にイオンコレクタ20を設け、更に、アノード8から見てフィラメント60´(カソード)側とは反対側に金属板21を設け、スパッタリングによって生じたイオンコレクタ20からのチタン粒子を金属板21上に堆積させ、電子銃5周辺内の酸素ガスを堆積したチタンに吸着させる様に成した。
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電子ビーム加工装置、制御方法及びプログラム
【課題】フィラメント電流値を自動的に調整することが可能な電子ビーム加工装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを照射する照射手段(5,1)と、照射手段(5,1)から照射された電子ビームのビーム電流を検出し、該検出したビーム電流実測値とビーム電流指令値との差分に応じたバイアス電圧値を取得する取得手段(3)と、照射手段(5,1)が電子ビームを照射する際に使用するフィラメント電流値を調整する調整手段(4)と、を有し、調整手段(4)は、取得手段(3)が取得した複数のバイアス電圧値を基に、バイアス電圧値の変化率を算出し、該算出したバイアス電圧値の変化率が所定の目標値に収束するように、フィラメント電流値を調整する。
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電子ビーム加工装置及び電子ビーム加工方法、並びに、電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法
【課題】アライメントの精度や信頼性などを向上させることができ、また、製造原価のコストダウンを図ることができる電子ビーム加工装置及び電子ビーム加工方法、並びに、電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法の提供を目的とする。
【解決手段】電子ビーム溶接装置1は、電子銃2と、集束コイル4と、アライメントコイル31、デジタル観測光学系32、デジタル画像処理コントローラ33及び情報処理装置34を有するアライメント制御手段3とを備え、情報処理装置34が、アッパーフォーカス状態とロアーフォーカス状態で電子ビームをターゲット10に照射し、これらの照射画像の位置座標の差分から算出した補正値にもとづいて、アライメントコイル31に、アライメント制御信号を出力する。
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電子線照射装置
【課題】直径100μm以下の微小領域において、溶接、融合、焼鈍などの熱処理を行うことができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】タングステンフィラメントからなる電子源1と、ポールピース3を有する集束レンズ2と、対物レンズ6とを備えた電子線照射装置において、ポールピース3の上部ポールピース31における上部通過孔31a、下部通過孔33aの直径を4mm以上として、電子線の電流値を高める。被照射体に照射される電子線の電流値を、直径100μm以下の照射領域において1nA以上とすることによって、100μm以下の微小な領域において、溶接、融合、焼鈍などの熱処理を行うことができる。
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