【課題】 露光転写を行っている途中でも、電子線の電流密度を推定することができる方法を提供する。
【解決手段】 電子線源１から放出された電子線２は、照明光学系３を介してレチクル４の所定の領域を照明する。照明された領域にあるパターンの像が、投影光学系５を介して、ウエハ６上に形成されたレジスト上に形成される。それと共に、ウエハ６とレジストからは、反射電子７が発生するが、この反射電子７が電極板８ａに入射し、その電流値Ｉ_ｒが反射電子検出器８で検出される。反射電子検出器８で検出された電流値Ｉ_ｒは、制御装置０に送られ、制御装置９は、この値から、ウエハ６上のレジストに入射する電子線の電流密度を算出する。 （もっと読む）

【課題】透過波面の高さ方向の測定分解能を保ちつつ、その透過波面の面方向の測定分解能を高めることのできるシャックハルトマン式の波面収差測定装置を提供する。
【解決手段】被検光学系（ＰＯ）に測定光束を投光する投光手段と、前記被検光学系（ＰＯ）を透過した前記測定光束を複数に分割して所定面上に複数のスポットを形成する光学素子アレイ（１４）と、前記複数のスポットの各々の位置を検出する検出手段（１５）とを備え、前記位置の理想位置からのずれ量に基づき前記被検光学系の波面収差を求める方式の波面収差測定装置において、前記光学素子アレイ（１４）の各光学素子に個別に入射する各光束の周縁部の光量をそれぞれ低減するフィルタ手段（１６）を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スループットの低下を招くことなく基板の温度調節を適切に行ない、適切に露光処理を行なうことのできる露光装置を提供する
【解決手段】露光装置の受け渡し部１２０は、基板処理装置から露光装置へ搬送する基板が載置される第１の基板載置部１２１及び露光装置から基板処理装置へ搬送する基板が載置される第３の基板載置部１２３とは別に、さらに別の基板載置部（第２の基板載置部１２２）を温度調節部として具備する。コータ・デベロッパから第１の基板載置部１２１に載置された基板は、すぐに温調部（第２の基板載置部１２２）に搬送され、第２のウエハ載置台１２２で基板温度が高精度に調節された後、露光装置本体に搬送される。ウエハがすぐに第２のウエハ載置台１２２に搬送されるので、第１の基板載置部１２１はすぐに空となり、次の基板を受け取れるようになり、コータ・デベロッパから露光装置への基板の搬送が待機状態となる事態が解消され、スループットの低下が防止される。
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【課題】 プロキシミティタイプの露光装置の露光時にマスクの位置合せ用マークと基板の位置合せ用マークとを位置合わせするために用いる顕微鏡の対物レンズ取り付け部材であって、軽量で剛性に優れ、なおかつ熱膨張が小さい露光装置用対物レンズ取り付け部材を提供する。
【解決手段】 プロキシミティタイプの露光装置内に配置される対物レンズ取り付け部材を、Ｓｉマトリックス中にＳｉＣ強化材を３０〜８０体積％含有する金属基複合材料により形成する。このようにして、軽量で剛性に優れ、なおかつ熱膨張が小さい露光装置用対物レンズ取り付け部材を得る。このようにすると従来のアルミニウムを対物レンズ取り付け部材として用いた露光装置よりも高速度で露光を行うことが可能となった。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の光学素子表面への汚れ付着による光学特性の劣化を防止し、良好な投影露光を行う液浸露光装置を提供すること。
【解決手段】この液浸型投影露光装置は、光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、レチクルのパターンを基板上に投影する投影光学系と、投影光学系の最も基板近くに配置された光学素子の表面に液浸剤を供給する液浸剤供給部とを有し、パターンを基板に液浸剤を介して露光する露光装置であって、液浸剤とは異なる液体を光学素子の表面に供給する液体供給部をさらに有している。 （もっと読む）

【課題】 １枚のマスク上に複数の同一チップを作りこむ際のマスク欠陥検査において、Die to Die比較検査が可能となる荷電粒子線マスクの設計方法及び設計データ構造、荷電粒子線マスク、並びに荷電粒子線転写方法を提供する。
【解決手段】 本発明の荷電粒子線マスク設計方法においては、チップパターンのサイズがサブフィールド何個分に収まるかを算出して、これに基づきマスクをサブフィールド単位の複数のマスク領域に分割し、それぞれのマスク領域にチップパターンを形成する。このようにして、マスク上に複数形成される同一チップパターンがサブフィールドのサイズの整数倍のピッチで配置される荷電粒子線マスクを得る。 （もっと読む）

【課題】 カウンタマスシステムでも十分に相殺しきれない、ステージ装置の駆動反力によるステージ装置を搭載する定盤への影響を低減し、定盤の振動を低減・抑制する装置及び方法を提供すること。
【解決手段】 露光装置は、定盤１（１ａ、１ｂ）と、定盤１（１ａ、１ｂ）に搭載されて所定方向（矢印ａ）に移動するステージ装置５１と、定盤定盤１（１ａ、１ｂ）に搭載されてステージ装置５１の移動に伴って前記所定方向とは逆方向（矢印Ａａ、Ａｂ）に移動するカウンタマス５２ａ、５２ｂと、ステージ装置５１及びカウンタマス５２ａ、５２ｂの各々の動作物理量を検出するセンサ６１（６１ａ、６１ｂ）、６２、６３、６４ａ、６４ｂ、６５ａ、６５ｂ、６６ａ、６６ｂと、センサ６１（６１ａ、６１ｂ）、６２、６３、６４ａ、６４ｂ、６５ａ、６５ｂ、６６ａ、６６ｂによる検出結果に基づいて定盤１（１ａ、１ｂ）に制御力を与えるアクチュエータ１１（１１ａ〜１１ｈ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の反処理面に被処理物を再析出・付着させずにウェット処理が行えるウェット装置を提供することである。
【解決手段】現像装置２０は、ワーク１００上の未硬化レジストを除去させる第１処理液をワーク１００の被処理面側に噴出し使用後の第１処理液を回収して再び第１処理液として再使用する第１処理液再使用機構２３と、被処理面とは反対側の面である反処理面に対して未使用である第２処理液を噴出する第２処理液噴出機構２４とを有する。ワーク１００の被処理面側に噴出された第１処理液は、反処理面側に対して吹きかけられた第２処理液によってワーク１００の反処理面に回りこまない。このため、ワーク１００の反処理面に未硬化レジストを再析出・付着させずに現像処理が行える。
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【課題】マスクと投影光学系との間の空間が少ない場合であっても、マスクの撓みなどの影響を受けることなく、デフォーカスによる露光不良のない高精度なパターンの転写を実現する。
【解決手段】投影光学系ＰＬの視野内の評価点に対応するマスクＲ上の点に投影光学系と反対側から検出光ＤＬを照射し、その検出光のマスクからの反射光に基づいて、マスクのパターン面の前記評価点に対応する検出点における投影光学系ＰＬの光軸方向に関する位置情報を検出する位置検出装置（１６０ａ、１６０ｂ、４０）と、パターンの転写時に、位置検出装置で検出された前記位置情報に基づいて、マスクＲ及び物体Ｗの少なくとも一方の前記光軸方向の位置を制御する制御装置５０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ハンド部の位置ずれを検出し、ハンド部の位置を調整する。
【解決手段】レチクル中継部は、第２のロボット１８８のアーム１９０の一部（ハンド部１８０）に光Ｌ１、Ｌ２を照射する照射部１９７ａ，１９７ｂと、ハンド部とロードシェルフ２５とが所望の位置関係にあるときハンド部の異なる２箇所を経由した前記光を同時に受光可能で、所望の位置関係から外れたときは前記２箇所のうちの少なくとも１箇所を経由した光が受光不能となる光検出部１９９ａ，１９９ｂとを有する位置ずれ検出装置４５を備えている。このため、光の受光状況に基づいて第２のロボットがロードシェルフにレチクルＲを渡す際に、レチクルを保持したハンド部とロードシェルフとが所望の位置関係にあるか否か、すなわちハンド部１８０の位置ずれを確実に検出することができ、この検出結果に基づいてハンド部の位置を調整することができる。 （もっと読む）