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国際特許分類[H01L23/31]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体または他の固体装置の細部 (40,832) | 封緘,例.封緘層,被覆 (7,021) | 配列に特徴のあるもの (2,863)

国際特許分類[H01L23/31]に分類される特許

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【課題】電子材料分野や光半導体封止に適したエポキシシリコーン樹脂の提供。
【解決手段】一般式(1)で表され、エポキシ当量が200〜2000g/eq.であるエポキシシシリコーン樹脂。


(式中、E1はエポキシ基を有する1価の有機残基であり、Zはノルボルネン構造を有する2価の基である。) (もっと読む)


【課題】LEDパッケージ製造システムにおいて、個片のLED素子の発光波長がばらつく場合にあってもLEDパッケージの発光特性を均一にして、生産歩留まりを向上させるとともに、発光色の多様な色調調整が可能な樹脂塗布装置および樹脂塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】LED素子を蛍光体を含む樹脂によって覆って成るLEDパッケージの製造に用いられる樹脂塗布において、種類の異なる蛍光体を含む2種類の樹脂8を順次試し塗布し、試し塗布された樹脂8を対象として発光特性を測定した測定結果に基づいて2種類の樹脂8についてそれぞれ適正樹脂塗布量を導出し、導出された適正樹脂塗布量を塗布制御部36に指令して複数のディスペンサ33A,33Bによって2種類の樹脂8を同一のLED実装部4bのLED素子に順次塗布する。 (もっと読む)


【課題】 歩留まりを向上させることが可能な半導体発光装置及びその製造方法を提供す
る。
【解決手段】 光を出射する発光部2と、前記発光部2の一方の主面M1側に設けられ、
蛍光体を含有する波長変換部8と、前記波長変換部8上に設けられている透明樹脂部9と
を備え、透明樹脂部9は、弾性率とショア硬さのうち少なくとも一方の値が波長変換部8
より高いことを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、常温でのハンドリング性と高温での溶融性が両立でき、反射率が高く、耐熱耐光性が良好な硬化物を与える熱硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の特徴は、(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)白色顔料、(E)無機充填材、(F)SiH基もしくはSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも1個含有するシリコーン化合物、(G)平均粒径1〜100nmのナノ粒子、を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物であって、(A)、(B)、(F)の少なくとも1成分が23℃において液体であり、かつ熱硬化性樹脂組成物としては23℃において固体であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低い線膨張係数を有し、かつ反射率が高く透過率が低い硬化物を与える硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の硬化性樹脂組成物は、(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも1個含有するシリコーン化合物、(E)無機充填材、(F)白色顔料を必須成分とし、460nm及び480nmでの分光反射率が90%以上で、硬化物の厚みが0.2mm以下のときの分光透過率が0.4%未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】硬化反応性に優れ、かつ、硬化物が優れた耐リフロークラック性を有する電子部品用接着剤を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂とエピスルフィド変性エポキシ樹脂とを含む硬化性化合物と、硬化剤及び任意に硬化促進剤とを含有し、硬化剤及び硬化促進剤の活性水素のモル数Hと、エポキシ樹脂及びエピスルフィド変性エポキシ樹脂のエポキシ基とエピスルフィド基との合計モル数Eとの比率H/Eが0.04〜0.2である電子部品用接着剤。 (もっと読む)


【課題】 200℃以上の高温で半導体チップと基板とを接続する場合のボイド発生を抑制し、且つ、基板配線上にメッキされたスズの酸化による導電性物質の生成を抑制する効果を付与することで、高絶縁信頼性を発揮する半導体用接着剤組成物を提供すること。
【解決手段】 (a)エポキシ樹脂と、(b)硬化剤と、(c)酸化防止剤と、を含有する、半導体用接着剤組成物であり、前記(c)酸化防止剤がヒンダードフェノール類を含む、半導体用接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低い線膨張係数を有する硬化物を与える硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の硬化性樹脂組成物は、(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも1個含有する(メタ)アクリル系重合体、(E)無機充填材、を必須成分とすることを特徴とする。特に金属基材の片面に本発明の硬化性樹脂組成物を成形したときに反りを低減することができる。 (もっと読む)


【課題】 良好な透明性を有する硬化物を与える光半導体封止用硬化性組成物、及び該光半導体封止用硬化性組成物を硬化して得られる硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を提供する。
【解決手段】 (A)直鎖状ポリフルオロ化合物、(B)SiH基及び含フッ素有機基を有する環状オルガノシロキサン、(C)白金族金属系触媒、(D)SiH基、含フッ素有機基及びエポキシ基を有する環状オルガノシロキサン、(E)SiH基、含フッ素有機基及び環状無水カルボン酸残基を有する環状オルガノシロキサンを含有する光半導体封止用硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】 300℃以上の高温で半導体チップと基板とを接続する場合のボイドの発生を抑制でき、配線間の十分な絶縁信頼性と、半導体チップと基板との間の十分な導通性とが得られる半導体封止用フィルム状接着剤を提供する。
【解決手段】 (a)ポリイミド樹脂と、(b)エポキシ樹脂と、(c)フェノール樹脂と、(d)硬化促進剤と、を含有する半導体封止用フィルム状接着剤であって、(d)硬化促進剤がイミダゾール類とイソシアヌル酸の付加物であり、350℃での溶融粘度が2000Pa・s以下であり、且つ、350℃で10秒間加熱した後の硬化反応率が50%以上であり、バンプを有する半導体チップと金属配線を有する基板とを300℃以上の温度で接続するために用いられる、半導体封止用フィルム状接着剤。 (もっと読む)


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