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国際特許分類[H01L23/538]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体または他の固体装置の細部 (40,832) | 動作中の装置内の1つの構成部品から他の構成部品へ電流を導く装置 (7,814) | 絶縁基板の上または中に形成される複数の半導体チップ間の相互接続構造 (17)

国際特許分類[H01L23/538]に分類される特許

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【課題】正常に動作しない半導体チップを含んでいても、正常に動作しない半導体チップを含んでいない場合と同等の機能を有するパッケージを容易に実現できるようにする。
【解決手段】積層チップパッケージ1Mは、本体2と配線3を備えている。本体2は、積層された複数の階層部分10を含む主要部分2Mと、主要部分2Mの上面と下面に配置された複数の端子とを有している。配線3は、複数の端子に電気的に接続された複数のライン(ワイヤW)を含んでいる。複数のラインは、複数の共通ラインと、複数の階層依存ラインとを含んでいる。複数の階層部分10の各々は、複数の共通ラインに電気的に接続された複数の共通電極と、複数の階層依存ラインのうち、その階層部分10が利用する階層依存ラインにのみ選択的に、電気的に接続された選択的接続電極とを含んでいる。選択的接続電極は、どの階層依存ラインに電気的に接続されるかに応じて形状が異なっている。 (もっと読む)


【課題】 同一構成の複数の半導体チップを所定角度回転させて積層する半導体装置において、使用されないバンプ及びそれに接続される貫通電極の数を削減する。
【解決手段】 半導体装置は、表面及び裏面を有する本体と、本体を表面から裏面まで貫通する第1の貫通電極と、第1の貫通電極の一端に形成された第1のバンプと、第1の貫通電極の他端が露出する本体の表面又は裏面であって、第1の貫通電極の他端に対し、予め設定された対称軸に関して所定角度だけ回転移動した位置に形成された第2のバンプと、第1の貫通電極と第2のバンプとを電気的に接続する導電部とを備えている。 (もっと読む)


デバイスを製作するために複数の実質的に同一のチップを積層する、マルチチップデバイスおよび方法が、提供される。マルチチップデバイス、または回路は、少なくとも2つのチップからの信号パッド間に並列接続をもたらす、少なくとも1つのスルーチップバイアと、少なくとも2つのチップからの信号パッド間に直列接続またはデイジーチェーン接続をもたらす、少なくとも1つのスルーチップバイアとを含む。コモン接続信号パッドは、複製コモン信号パッドに対してチップの中心線周りに対称に配列される。入力信号パッドは、対応する出力信号パッドに対して、チップの中心線周りに対称に配置される。積層体の中のチップは、この配列をもたらすために、実質的に同一のチップが交互に裏返されたバージョンである。2個以上のチップが積層されるとき、少なくとも1つの直列接続が積層され裏返されたチップの信号パッド間にもたらされる。
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【課題】 高周波数帯であっても共振することなく、安定した電源およびグランド配線を実現することができる半導体集積回路パッケージ、プリント配線板、半導体装置および電源供給配線構造を提供する。
【解決手段】 パッケージ1の内部で、電源配線10とグランド配線11とが、電磁気的な結合を有するように、所定の間隔で並設されたペア配線12を構成する。さらに複数組のペア配線12は集合され、その集合部分は、配線の延伸方向に垂直な断面において、千鳥(市松)配置とする。シリコンチップの内部およびプリント配線板の内部においても、パッケージ1と同じように、ペア配線構造を構成することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】良好な信号伝送特性を有する積層デバイスを提供する。
【解決手段】この積層デバイスは、下側基板1の上面に溝3を形成し、上側基板2の下面に溝3に対向する溝7を形成するとともに溝7の底に貫通孔8を形成し、溝3,7および貫通孔8の内壁に導電層4,9を形成し、溝3,7間の空間の長さ方向の中心線に沿って信号線5を設けるとともに貫通孔8の中心線に沿って信号線10を設け、信号線10の一方端を信号線5に接続したものである。したがって、積層デバイスの配線を同軸線路で構成できる。 (もっと読む)


【課題】パッドピッチが異なるチップ同士の接続を容易に行うことができる半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明にかかる半導体装置は、第1のパッドが第1の間隔で配置された第1の半導体チップ20と、第2のパッドが第1の間隔より大きい間隔である第2の間隔で配置された第2の半導体チップ30と、第1の半導体チップ20と第2の半導体チップ30との間に配置され、第1の間隔で配置された第1中継パッド40aが第1の半導体チップ20と対向する辺に沿って形成され、第2の間隔で配置された第2中継パッド40bが第2の半導体チップ30と対向する辺に沿って形成されている中継基板40とを有し、中継基板40を介して第1の半導体チップ20と第2の半導体チップ30とを接続する。 (もっと読む)


【課題】LSIプロセスによる制約のない最上位配線層を提供することで長距離配線における信号遅延を低減可能な半導体集積回路装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
半導体集積回路基板を提供する過程は、半導体集積回路用ベース基板11上に、半導体集積回路及び該半導体集積回路用の最上位配線層を含まない配線層12を形成する過程と、半導体集積回路用ベース基板の配線層上に、該配線層に接続される接続パッド13を形成する過程とからなる。配線基板を提供する過程は、配線基板用ベース基板1上に、半導体集積回路用の最上位配線層となる厚膜配線層3をメッキ形成する過程と、厚膜配線層上に、該厚膜配線層に接続される接合バンプ6を形成する過程とからなる。そして、半導体集積回路基板の接続パッドが形成される面と配線基板の接合バンプが形成される面とを対向させ接続パッド及び接合バンプを位置合わせして接合する。 (もっと読む)


【課題】シリコンチップ上面電極の配線に板状金属を用いた半導体装置において、シリコンチップの上面電極と配線部材の接合部の接続信頼性に優れた半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板の表面に配線パターンが形成された回路基板8と、前記回路基板8に搭載されたシリコンチップ4と、前記シリコンチップ4の上面電極と前記配線パターンとを電気的に接続する板状配線と、少なくとも前記シリコンチップ4及び板状配線を封止する封止樹脂10とを有し、前記板状配線が連続した空孔を有する金属であり、前記空孔に融点が130℃以上500℃以下のはんだと、前記封止樹脂10が充填されている半導体装置を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 半導体装置に配設される中継部材のボンディングパッドの配列及び当該ボンディングパッドを結ぶ配線を任意に設定できるようにして、異なる構造を有する他の半導体装置に対しても適用することができる当該中継部材及び当該中継部材を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】 半導体装置に配設される中継部材50は、第1の端子51と第2の端子52とを備える。第1の端子51に接続される第1端子用配線56の端部及び第2の端子に接続される第2端子用配線57の端部のうち少なくとも1つにより連結部60が形成される。少なくとも前記連結部に接続部材61が形成され、第1の端子51と第2の端子52が接続される。 (もっと読む)


【課題】 バスラインが発生するノイズの影響を低減し、半導体IC間を接続するバスラインを最短距離で配線することにより小型低背化及びノイズのさらなる低減を図る。
【解決手段】 半導体IC内蔵モジュール100は、第1及び第2の絶縁層101a,101bを有する多層基板101と、多層基板101内に埋め込まれたコントローラIC102及びメモリIC103とを備えており、多層基板101の内層には配線層104が設けられている。配線層104の一部はバスライン104Xを構成しており、コントローラIC102とメモリIC103との間はバスライン104Xで接続されている。コントローラIC102やメモリIC103は第2の絶縁層101bに埋め込まれている。第1及び第2の絶縁層101a,101bの表層にはそれぞれ第1及び第2のグランド層105a、105bが設けられている。 (もっと読む)


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