【課題】均一な膜厚の機能性材料の膜を備え表示ムラのない高品質な有機ＥＬ装置の製造方法、及び有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】基板上の第１電極の周囲を囲んで第１隔壁部１０を形成する工程と、第１隔壁部１０の周囲を囲んで、第１隔壁部１０と離間した第２隔壁部５０を形成する工程と、第１隔壁部１０の側壁と第１隔壁部１０に囲まれた領域の底面とで囲まれる部分を有効受容部１００Ａとし、有効受容部１００Ａに有機機能層７０の形成材料を含む機能液を配置し有機機能層７０を形成する工程と、を備え、互いに向き合う第１隔壁部１０の側壁と第２隔壁部５０の側壁及びこれらの間の領域の底面とで囲まれる部分を緩衝受容部２００とし、有機機能層７０を形成する工程では、機能液を、有効受容部１００Ａからあふれ出す量以上の量であって、且つ、有効受容部１００Ａの容積と緩衝受容部２００の容積とを合わせた量未満の量を配置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】平坦化膜の流出をより効果的に防止し、あるいは、その防止手段がより多くの機能を持ち得るような発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置は、素子基板と、この素子基板上に形成された複数の有機ＥＬ素子と、これらを覆うように形成された平坦化膜８０と、素子基板の上、かつ、当該素子基板と平坦化膜との間に形成されたデータ線６と、平面視して前記平坦化膜の周囲に位置するように且つ前記データ線と同じ層で形成された、前記平坦化膜の流出を防止するための堰止部６０１と、を備える。堰止部６０１は、平坦化膜８０の流出を防止する（図中符号８０ＯＺ参照）とともに、水分及び酸素の基板面内への進入を抑制する（図中符号Ｇ参照）。 （もっと読む）

【課題】保護プレートによって覆われるマイクロディスプレイの電気接点の保護を可能にする。
【解決手段】ａ）ディスプレイ及び／又はこの保護プレート１１’に対して接着剤１０’を塗布するステップと、ｂ）保護プレート１１’を接着によってディスプレイに対して取り付けるステップと、ｃ）接着剤１０’を架橋するために保護プレート１１’を通じて放射するステップと、ｄ）接続領域を覆う保護プレート１１’の部分を除去するステップと、を備える電子ディスプレイ装置１を製造する方法であって、ステップａ）の前に、放射線を透過させないマスキング層１５が堆積され、それにより、この層が、接続領域とだけ対向して塗布される接着剤１０’の架橋を妨げ、ステップｄ）の後、保護プレート１１’の前記部分と共に除去されなかった架橋されない接着剤１０’を接続領域から除去する。 （もっと読む）

【課題】良好な特性を有するスタガ型の多結晶Ｓｉ-ＴＦＴ構造と、ディスプレイの大型化に有利な低抵抗配線構造を両立でき、低コストで高画質の有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】マトリックス状に配置された複数の画素を駆動するＴＦＴをスタガ型の多結晶Ｓｉ-ＴＦＴで構成し、該ＴＦＴのチャネルを形成する多結晶Ｓｉ層１１２より下層に、多結晶Ｓｉ形成時の高温に耐え得る高耐熱部材からなるゲート電極１０８を、多結晶Ｓｉ層１１２より上層には、低抵抗な部材からなるゲート配線１０４を配置し、ゲート絶縁膜に開口したスルーホール１２３を介してゲート電極１０８とゲート配線１０４とを接続する。該配線形成に際しては、有機発光素子の各構成部材を一部兼用することで、工程やプロセス、構成部材の増加を抑制する。 （もっと読む）

行、及び列に配列されるＥＬデバイスの２次元アレイを有し、駆動信号に応答する駆動回路によって、それぞれが駆動されるＥＬディスプレイを提供するステップと、ＥＬデバイスのための、３つのトランジスタを有する第１の駆動回路を提供し、かつＥＬデバイスのための、２つのトランジスタのみを有する第２の駆動回路を提供するステップであって、ディスプレイの第１の列は、少なくとも１つの第１の駆動回路を有し、隣接する第２の列は、少なくとも１つの第２の駆動回路を有するステップと、ＥＬデバイス、又は第１の駆動回路のトランジスタ、若しくはその双方の少なくとも１つの特性に基づいて、補正信号を導き出すステップと、補正信号を使用して、第１の駆動回路、及び１つ、又は２つ以上の隣接する第２の駆動回路に印加される駆動信号を調整するステップと、を有するＥＬディスプレイのトランジスタ、及びＥＬデバイスの特性の変化を補償する方法。 （もっと読む）

【課題】簡素な構造で放熱性に優れ、かつ短絡による発光不良を生じにくい有機ＥＬ装置および該有機ＥＬ装置を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】支持基板１０と封止基板３０と有機エレクトロルミネッセンス素子２０とを備える有機エレクトロルミネッセンス装置１Ａであって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が、前記支持基板上に搭載されていると共に前記支持基板と前記封止基板の間に囲繞されており、前記支持基板または前記封止基板のいずれか一方は、２Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導度を有する材料で形成され、かつ、前記熱伝導度を有する材料で形成された前記支持基板および／または前記封止基板の一面であって前記装置の外装を構成する面の表面粗さ（Ｒａ値）が１０ｎｍ以上、１ｍｍ以下であり、前記熱伝導度を有する材料で形成された基板と前記有機エレクトロルミネッセンス素子との間に絶縁層４０が介在する、有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

【課題】画像表示領域を取り巻く周辺領域の狭小化を可能としながら、画像表示領域内の全画素が略同量の機能性物質を保持し得る成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る成膜方法は、画像表示領域７ａに機能性物質を含む溶質とその溶媒とを含む第１材料（図中１８ＰＤ参照）を塗布する工程と、周辺領域９３ａに少なくとも前記溶媒と同一の材料を含む第２材料（図中１８５ＰＤ参照）を塗布する工程と、第１材料中の溶媒及び第２材料中の材料をともに蒸発させる工程と、を備える。第２材料の塗布量は、仮に、周辺領域９３ａにダミー画素が設けられ、その形成領域に第２材料が塗布されるとした場合における当該第２材料の量に基づいて定められる。 （もっと読む）

【課題】例えば、有機ＥＬ装置における陽極及び陰極間に生じる短絡不良を低減する。
【解決手段】基板（１０）上の画像表示領域（１１０）を構成する複数の画素領域（７０ｇ）の夫々に形成された陽極（９ａ）の一部が陽極（９ａ）上に向かって突出した部分である凸部（２０１）が露出するように陽極（９ａ）上にレジスト膜（２１０）を形成する。特に、レジスト膜（２１０）の膜厚を凸部（２０１）の高さより小さくすることによって、レジスト膜（２１０）を形成しただけでレジスト膜（２１０）から凸部（２０１）が露出することなり、レジスト膜（２１０）上からエッチング処理を施すことによって、レジスト膜（２１０）から露出した凸部（２０１）がエッチングされ、凸部（２０１）を簡単に除去可能である。 （もっと読む）

【課題】画素領域において信号線の延在方向に位置する外周部分が曲線部分あるいは屈曲部分からなる異形部分になっている場合に当該異形部分に沿って当該信号線に対する駆動回路を配置することができる電気光学装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００の素子基板１０では、画素領域１０ｂは、走査線駆動回路１０４ａ、１０４ｂと対向する部分に曲線部分からなる異形の外周部分を備えている。かかる形状に対応させて、走査線駆動回路１０４では、１乃至複数の単位回路を備えた単位回路ブロック４を有する回路ブロック４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄを走査線３ａの延在方向および／またはデータ線６ａの延在方向にずらしながら画素領域１０ｂの外周縁に沿って配列してある。また、単位回路ブロック４は、平面構成が同一の１種類の単位回路ブロックが用いられている。 （もっと読む）

【課題】水分の影響を効果的に防止し、かつ、製造コストを抑えることが出来る有機ＥＬ表示装置の固体封止方法を得る。
【解決手段】マザー封止シート４００とマザー素子基板１００を目合わせマーク＋を用いて接着する。マザー封止シート４００に点線で示す長方形の部分が分離線４１である。分離線内に接着材が形成され、接着材はマザー素子基板１００に形成された表示領域１０１と接着する。長方形の分離線４１のコーナー部と短辺部には切り欠きが形成され、長辺部には切り欠きとブリッジが形成されているので、マザー封止シートの不要部を接着の信頼性を損なうことなく除去することが出来る。 （もっと読む）