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国際特許分類[H05K3/38]の内容

国際特許分類[H05K3/38]に分類される特許

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【課題】電子回路基板の製造工程において、熱伝導性および密着性に優れた液晶ポリエステルフィルムを形成する技術を提供する。
【解決手段】放熱用基板101と絶縁フィルム102と導電箔103とを有する電子回路基板100を製造する際に、絶縁フィルム102を次の手順で形成する。まず、溶媒と液晶ポリエステルと熱伝導充填材とを少なくとも含み、所定温度以下の状態で粘度が3000cP以上である液晶ポリエステル組成物を、所定温度以下の温度で、導電箔103上に流延する。その後、所定温度以下の温度で、溶媒の残存量が30質量%以下になるまで、液晶ポリエステル組成物を乾燥する。これにより、熱伝導充填材の沈降が抑制されるので、液晶ポリエステルフィルムの熱伝導性および密着性が向上する。 (もっと読む)


【課題】 金属箔と基材との接着性に優れ、高温長時間での使用でも接着力が低下せず、柔軟性と、耐熱性に優れ、しかも、製造にあたっては作業能率がよく低コストで大量生産ができるフレキシブルプリント基板、及び補強フレキシブルプリント基板を提供する。
【解決手段】 絶縁性の基材11と、粘接着層13及び金属箔31とが積層されてなり、粘接着層13がアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、及び硬化剤を含むことを特徴とし、また粘接着層13がアクリル系樹脂とエポキシ系樹脂とが海島構造であり、さらに前記アクリル系樹脂がEA−BA−ANをもつモノマーをラジカル重合してなるアクリル酸エステル共重合体で、前記エポキシ系樹脂がNBR変性エポキシ樹脂と、bis−A型エポキシ樹脂からなり、前記硬化剤がジシアンジアミド系の化合物であることも特徴とする。 (もっと読む)


【課題】無電解めっき技術で金属パターンを形成する方法において基板との密着性が優れ、且つ細線描画性の優れた金属パターン形成方法とそれを用いて形成された金属パターンを提供することである。
【解決手段】基板の上に、触媒を含有するインクをインクジェット方式でパターン部を印字、乾燥し、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成する方法において、該触媒が可溶性パラジウム金属錯体でかつ該触媒を含有するインクpHが10.0〜14.0であり、前記無電解めっき処理前の印字パターン部の表面粗さRaが30nm以上45nm以下であることを特徴とする金属パターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】樹脂層と導電層との接着力を強化可能な配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板2は、第1樹脂層6eと第1樹脂層6e上に形成された第1導電層7aとを備える。第1導電層7aは、周期表第4族、5族又は6族である遷移金属の炭化物を含み、且つ、第1樹脂層6eに接着する金属炭化物層7axを有する。第1樹脂層6eは、金属炭化物層7axが接着した第1領域6ejと、第1領域6ejよりも第1樹脂層6eの内部に位置する第2領域6ekとを有する。第1領域6ejは、炭素原子数に対する窒素原子数の比率が第2領域6ekよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】本発明は、より高精細なパターン状に特性が変化したパターンを有するパターン形成体、およびその製造方法等を提供することを主目的としている。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、表面に凸面および凹部領域が形成され、かつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する樹脂層を有し、前記凹部領域の側面および底面が、前記凸面の特性と異なる特性を有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 (もっと読む)


【課題】ポリイミド基板と導電性膜層との間の剥離が防止された積層板を提供する。
【解決手段】ポリイミド基板2の表面をアルカリ性水溶液に接触させることによって、ポリイミド基板表面にアルカリ処理層を形成するアルカリ処理工程と、前記アルカリ処理層を、金属触媒を含む水溶液に接触させ、前記アルカリ処理層に金属触媒を付与する触媒付与工程と、前記金属触媒が付与された前記アルカリ処理層を、還元処理溶液に接触させ、前記アルカリ処理層に付与された金属触媒を還元することによって、第1の表面処理層3を形成する還元工程と、前記第1の表面処理層表面をシランカップリング剤に浸透し、熱を印加し、表面の水分を乾燥させることによって、疎水性を有する第2の表面処理層を形成する第2の表面処理工程と、前記表面処理層上にシード層5を積層するシード層形成工程と、前記シード層上に金属層6を積層する金属層形成工程と、からなる積層板の製造方法。 (もっと読む)


部材の配置方法は、基板と第1の液体を準備する工程と、部材及び第2の液体を含有する部材含有液を準備する工程と、親水性領域に第1の液体を配置する工程と、前記親水性領域に配置された前記第1の液体に前記部材含有液を接触させる工程と、前記第1の液体および前記第2の液体を除去することによって、前記部材を前記親水性領域に配置する工程と、を具備する。前記親水性領域は、部材配置領域と、前記部材配置領域の周辺に形成された液体捕捉領域とから構成されている。前記液体捕捉領域は、X−(CH2n−S−(基板)またはY−(CH2m−S−(基板)で表される表面を具備する。XはN+R3Q-(QはCl、Br、またはI)、OR、またはハロゲン原子であり、Rは低級アルキル基であり、nは1以上3以下の自然数であり、YはCOOH、またはOHであり、mは1以上22以下の自然数である。
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【課題】製造に高価な真空設備を必要とせず、よってサイズ的な制限を受けることなく、また有機物接着剤を使用することなく、且つ基材の材質に制限されることなく種々の基材を用いて、高密度、高性能、十分な薄肉化を可能とすると共に、酸化雰囲気(特に高温の酸化雰囲気)において絶縁性の基材と導電層との界面における酸化物の成長を抑制できることで、絶縁性の基材とめっき層との剥離を防止でき、更にエッチング性の良好なプリント配線板用基板及びその製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】絶縁性の基材10の表面にめっき層30を積層してなるプリント配線板用基板1であって、前記絶縁性の基材10とめっき層30との界面にめっき層30の酸化を抑制する金属粒子Lを分散付着させてあることを特徴とするプリント配線板用基板である。 (もっと読む)


【課題】絶縁樹脂層表面の凹凸形状が小さい状態でも、配線導体に対して容易に高い接着力を発現し得る絶縁樹脂、配線板及び配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線導体の回路を有する基板上に、(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、(B)活性エステル基含有化合物、及び(D)エポキシ樹脂硬化促進剤を含む熱硬化性絶縁樹脂組成物によって設けられた絶縁樹脂層を熱硬化し、これに紫外線を照射後、この絶縁樹脂層上に、配線をめっきで形成して得られる配線板である。 (もっと読む)


【課題】ポストファイア法によるファインパターン形成方法を提供する。
【解決手段】セラミック基板上に、有機下地層を形成する第一工程、該有機下地層上に金属ペースト層を形成し、メタライズドセラミック基板前駆体を作製する第二工程、および、該メタライズドセラミック基板前駆体を焼成する第三工程を含むメタライズドセラミック基板の製造方法において、有機下地層が、金属ペースト層中の溶媒を吸収し、金属ペースト層を焼成する温度で熱分解する層とする。 (もっと読む)


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