アルミニウム含有感光性組成物および電極の製造方法
【課題】保存安定性に極めて優れ、しかも安価で、薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性組成物およびその用途を提供すること。
【解決手段】無機粒子と感光性樹脂成分とからなる感光性組成物であって、前記無機粒子が、（Ａ）アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選ばれる１種以上の金属粉末を含み、前記感光性樹脂成分が、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｅ）光重合開始剤、（Ｆ）溶剤および（Ｇ）ラジカル捕獲剤を含み、前記金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであり、前記ラジカル捕獲剤（Ｇ）がフェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを含むことを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【解決手段】無機粒子と感光性樹脂成分とからなる感光性組成物であって、前記無機粒子が、（Ａ）アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選ばれる１種以上の金属粉末を含み、前記感光性樹脂成分が、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｅ）光重合開始剤、（Ｆ）溶剤および（Ｇ）ラジカル捕獲剤を含み、前記金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであり、前記ラジカル捕獲剤（Ｇ）がフェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを含むことを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルミニウム含有感光性組成物および電極の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、フラットパネルディスプレイなどのディスプレイパネルの部材、電子部品の高度実装材料の部材および太陽電池の部材を製造する際に用いられるアルミニウム含有感光性組成物ならびに該組成物を用いた電極の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、回路基板やディスプレイパネルにおけるパターン加工に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。このような要求が高まっているディスプレイパネルの中でも、プラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が特に注目されている。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は対向配置されたガラス基板、１０３および１１１は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、背面隔壁１０３および前面隔壁１１１によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光体であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の表面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の表面に形成された誘電体層であり、１１０は例えば酸化マグネシウムからなる保護層である。
【０００４】
上記構成を有するＰＤＰや図２に示されるＦＥＤに代表されるＦＰＤにおいては、パネルの大型化および高精細化が進んでおり、それに伴ってパターン加工技術の向上が要望されている。ところが、パネルの大型化および高精細化に伴い、パターン精度の要求が非常に厳しくなっている。このため、従来の工法であるスクリーン印刷法では、前記要望に対応できないという問題がある。
【０００５】
そこで現在では、フォトリソグラフィー法によるパターン形成が主に用いられている。例えば電極を製造する場合には、上記フォトリソグラフィー法において、導電性粒子を含有する感光性組成物を用いることにより、スクリーン印刷法では対応できなかった問題である大型および高精細なパターン形成が可能となっている。
【０００６】
上記導電性粒子としては、銀が挙げられる。ところが、銀は貴金属であるため高価である。このため、現在では高価な銀に代わる無機粒子として、アルミニウムを用いることが検討されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
しかしながら、ＰＤＰ用電極などの形成材料において、アルミニウム粉末と架橋剤（例：光重合性モノマー）とが通常は共存するため、該形成材料は保存安定性に欠けるという問題がある。具体的には、アルミニウム粉末と架橋剤とを含有する形成材料を用いて保存安定性試験を行うと、該形成材料の粘度が増加し、さらにはゲル化という現象が観察される。また、アルミニウムは銀よりも酸化されやすいため、焼成工程においてパターンの抵抗値が上昇してしまうという問題もある。
【０００８】
例えば、特許文献２は多層構造の感光性ドライレジストフィルムを開示するものであり
、該文献には感光性樹脂組成物の保存安定性に関する記載がある。具体的には、貯蔵中の架橋反応を防止するため、前記感光性樹脂組成物に重合禁止剤などを添加することが好ましいことが記載され、該重合禁止剤として種々の化合物が例示されている。
【０００９】
しかしながら、上記特許文献２の開示内容からでは、アルミニウム粉末と架橋剤とを含有する感光性組成物の保存安定性の向上にどのような重合禁止剤が寄与しえるかという点が不明である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平０９−３０６３４３号公報
【特許文献２】特開２００９−０３１３４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記従来技術に伴う問題を解決しようとするものである。すなわち、本発明は、アルミニウム粉末と架橋剤とを含有する感光性組成物の保存安定性を格段に向上させることを課題とする。
【００１２】
また、本発明は、前記特性を有するとともに、安価で、薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上などに形成可能な感光性組成物およびその用途を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、特定の粒子径を有するアルミニウム粉末と特定のラジカル捕獲剤とを用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
すなわち、本発明およびその好適な態様は、以下の［１］〜［８］に関する。
【００１５】
［１］無機粒子と感光性樹脂成分とからなる感光性組成物であって、前記無機粒子が、（Ａ）アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選ばれる１種以上の金属粉末を含み、前記感光性樹脂成分が、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｅ）光重合開始剤、（Ｆ）溶剤および（Ｇ）ラジカル捕獲剤を含み、前記金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであり、前記ラジカル捕獲剤（Ｇ）がフェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを含むことを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【００１６】
［２］前記フェノール系ラジカル捕獲剤が、ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤、ｐ−メトキシフェノールおよびｐ−ヒドロキシスチレンから選択される少なくとも１種であることを特徴とする前記［１］に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１７】
［３］前記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤が、前記フェノール系ラジカル捕獲剤１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部の量で含まれることを特徴とする前記［１］または［２］に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１８】
［４］前記フェノール系ラジカル捕獲剤および前記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤が合計で、前記感光性樹脂成分全量に対して０．１〜１５重量％の量で含まれることを特徴とする前記［１］〜［３］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１９】
［５］前記無機粒子がガラス粉末（Ｂ）をさらに含み、前記ガラス粉末（Ｂ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜５．０μｍであり、前記ガラス粉末（Ｂ）の最大粒子径（Ｄmax）が３０μｍ以下であることを特徴とする前記［１］〜［４］の何れかに記
載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００２０】
［６］前記ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が３００〜７００℃であり、前記ガラス粉末（Ｂ）が感光性組成物全量に対して０．５〜２０重量％の量で含まれることを特徴とする前記［５］に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００２１】
［７］前記金属粉末（Ａ）が、感光性組成物全量に対して２０〜７０重量％の量で含まれることを特徴とする前記［１］〜［６］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００２２】
［８］前記［１］〜［７］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする電極の製造方法。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、アルミニウム粉末と架橋剤とを含有する感光性組成物の保存安定性を格段に向上させることができる。具体的には、従来のＰＤＰ用電極形成材料は保存安定性試験を行うとゲル化するのに対し、本発明の感光性組成物は５℃・２３℃・４０℃・７０℃の条件で保存安定性試験を行ってもゲル化しない。
【００２４】
また、本発明によれば、上記特性を有するとともに、安価で、薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上などに形成可能な感光性組成物およびその用途が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。
【図２】図２は、一般的なＦＥＤの断面形状を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明のアルミニウム含有感光性組成物および電極の製造方法について、詳細に説明する。なお、以下では、前記感光性組成物を用いて形成される露光前の層を「感光性樹脂層」ともいう。
【００２７】
〔アルミニウム含有感光性組成物〕
本発明のアルミニウム含有感光性組成物（以下「感光性組成物」ともいう。）は、無機粒子と感光性樹脂成分とからなる。前記無機粒子は、金属粉末（Ａ）を含む。前記無機粒子は、ガラス粉末（Ｂ）をさらに含むことが好ましい。前記感光性樹脂成分は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）およびラジカル捕獲剤（Ｇ）を含む。本発明の感光性組成物は、５〜９０重量％の感光性樹脂成分と９５〜１０重量％の無機粒子とからなることが好ましい。
【００２８】
−無機粒子−
無機粒子には、金属粉末（Ａ）が含まれる。無機粒子には、ガラス粉末（Ｂ）がさらに含まれることが好ましい。また、無機粒子には、他の金属系粉末や無機系顔料などが含まれていてもよい。
【００２９】
《金属粉末（Ａ）》
金属粉末（Ａ）は、アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選ばれる１種以
上の金属粉末である。これらの中では、アルミニウム粉末が好ましい。
【００３０】
上記アルミニウム合金粉末としては、Ａｌ−Ｃｕ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｃｕ−Ｓｉ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｇ−Ｍｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ−Ｃｕ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系合金粉末などが挙げられる。
【００３１】
金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）は、１．０〜２０．０μｍ、好ましくは２．０〜２０．０μｍ、特に好ましくは５．０〜１５．０μｍである。Ｄ５０が前記範囲にあると、露光工程における露光光が感光性樹脂層の底部まで充分到達するため、高精細なパターンを形成できる。
【００３２】
なお、平均粒子径はレーザー回折式粒度分布測定法によって測定され、他の粉末においても同様である。また、Ｄ５０とは、粒度分布を有する粉末において、該粉末を粒子径の小さいものから累積して、累積量が全粉末量の５０重量％になる粒子径をいう。
【００３３】
金属粉末（Ａ）の形状は特に限定されないが、フレーク状および球状などが挙げられる。すなわち、金属粉末（Ａ）としては、フレーク状金属粉末（Ａ１）および球状金属粉末（Ａ２）などが挙げられる。これらの中では、フレーク状金属粉末（Ａ１）が好ましい。
【００３４】
＜フレーク状金属粉末（Ａ１）＞
フレーク状金属粉末（Ａ１）は、Ｄ５０が２．０〜２０．０μｍ、かつ平均厚さが０．１〜１．０μｍであることが好ましく；Ｄ５０が２．５〜１８．０μｍ、かつ平均厚さが０．１５〜０．９μｍであることがより好ましく；Ｄ５０が３．０〜１５．０μｍ、かつ平均厚さが０．１５〜０．８μｍであることが特に好ましい。
【００３５】
Ｄ５０または平均厚さが上記範囲を上回るフレーク状金属粉末を用いると、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。また、Ｄ５０または平均厚さが上記範囲を下回るフレーク状金属粉末を用いると、膜中の該粉末同士の接触が面接触傾向ではなく点接触傾向になるため、低抵抗のパターンを形成することが困難になることがある。なお、平均厚さは、ＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）観察により、後述する実施例記載の条件下で測定される。
【００３６】
フレーク状金属粉末（Ａ１）は、上記要件（Ｄ５０および平均厚さ）を満足するフレーク状金属粉末であれば特に限定されない。例えば、フレーク状金属粉末をそのまま用いてもよく、貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされたフレーク状金属粉末、あるいは脂肪酸により包接されたフレーク状金属粉末を用いてもよい。
【００３７】
フレーク状金属粉末（Ａ１）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３８】
上記貴金属コートおよび貴金属メッキで用いられる貴金属としては、金、銀、白金、これらの合金が挙げられる。これらの貴金属は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、この貴金属コートおよび貴金属メッキは、従来公知の方法に従って行うことができる。この貴金属コートおよび貴金属メッキの膜厚は、通常は５〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎｍである。
【００３９】
上記脂肪酸としては、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マ
ルガリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸などが挙げられる。これらの脂肪酸の中では、上記フレーク状金属粉末を効率的に包接および／または修飾できることから、オレイン酸が好ましい。なお、金属粉末の粉砕処理の際に、粉砕助剤として前記脂肪酸を添加すればよい。
【００４０】
ＦＰＤなどのディスプレイパネルを構成する電極を形成する場合には、ＪＩＳ Ｋ５９０６に記載の方法に従って測定されるリーフィング価が小さい（またはリーフィング価がない）、ノンリーフィング型のフレーク状金属粉末が特に好適に用いられる。オレイン酸などの脂肪酸を用いて、上記フレーク状金属粉末を包接および／または修飾することで、ノンリーフィング型のフレーク状金属粉末を容易に得ることができる。
【００４１】
そして、このようなノンリーフィング型のフレーク状金属粉末を用いることで、該金属粉末が感光性樹脂層の表面層に配列することを防止できるため、該樹脂層中に該金属粉末をより均一に分散できる。これにより、ノンリーフィング型のフレーク状金属粉末を含有する感光性樹脂層は露光光をほとんど反射しないため（すなわち、該樹脂層の透過率が向上するため）、パターン形成能が極めて良好となる。
【００４２】
＜球状金属粉末（Ａ２）＞
球状金属粉末（Ａ２）は、Ｄ５０が好ましくは１．０〜２０．０μｍ、より好ましくは１．５〜１８．０μｍ、さらに好ましくは２．０〜１５．０μｍである。なお、球状金属粉末（Ａ２）の形状とは、フレーク状（燐片状）以外の形状を意味し、特に限定はされない。
【００４３】
Ｄ５０が上記範囲を上回る球状金属粉末を用いると、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。また、Ｄ５０が上記範囲を下回る球状金属粉末を用いると、歩留りが悪いため、パターンを安価に形成することが困難になることがある。
【００４４】
球状金属粉末（Ａ２）としては、上記要件（Ｄ５０）を満足する球状金属粉末であれば特に限定されない。例えば、球状金属粉末をそのまま用いてもよく、貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされた球状金属粉末を用いてもよい。
【００４５】
球状金属粉末（Ａ２）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４６】
上記貴金属コートおよび貴金属メッキで用いられる貴金属としては、金、銀、白金、これらの合金が挙げられる。これらの貴金属は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、この貴金属コートおよび貴金属メッキは、従来公知の方法に従って行うことができる。この貴金属コートおよび貴金属メッキの膜厚は、通常は５〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎｍである。
【００４７】
＜構成比＞
金属粉末（Ａ）は、感光性組成物全量に対して、好ましくは２０〜７０重量％、より好ましくは２５〜６５重量％、特に好ましくは３０〜６０重量％の量で含まれる。金属粉末（Ａ）の含有量が前記範囲にあると、導電性に優れたパターンを形成できる。
【００４８】
フレーク状金属粉末（Ａ１）および球状金属粉末（Ａ２）は、（Ａ１）と（Ａ２）との配合比（重量比）（（Ａ１）／（Ａ２））が、好ましくは１００／０〜５０／５０、より好ましくは１００／０〜６０／４０、さらに好ましくは１００／０〜７０／３０となる割合で混合して用いることが望ましい。配合比（重量比）（（Ａ１）／（Ａ２））が前記範囲にあると、導電性に優れたパターンを形成できる。
【００４９】
《ガラス粉末（Ｂ）》
本発明の感光性組成物は、焼成後のパターン密着性の観点から、ガラス粉末（Ｂ）をさらに含有することが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）は、本発明の感光性組成物を用いて形成されるパターンの用途（例：ＦＰＤの部材、電子部品の高度実装材料の部材）に応じて適宜選択することができる。
【００５０】
ガラス粉末（Ｂ）としては、
１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2系）、
７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系）、
８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｐ2Ｏ5−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系）、
９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタンの混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＴｉＯ2系）、
１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ系）、
１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ系）、
１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3系）、
１４．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１５．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ナトリウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｎａ2Ｏ系）；などが挙げられる。
これらの中では、環境に配慮した無鉛ガラスが特に好ましい。
【００５１】
ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径は、パターンの形状を考慮して適宜選択される。ガラス粉末（Ｂ）は、５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜５．０μｍ、かつ最大粒子径（Ｄmax）が３０μｍ以下であることが好ましく；Ｄ５０が０．２〜４．０μｍ、かつＤmaxが２０μｍ以下であることがより好ましく；Ｄ５０が０．５〜３．８μｍ、かつＤmax
が１０μｍ以下であることが特に好ましい。
【００５２】
また、ガラス粉末（Ｂ）の１０重量％粒子径（Ｄ１０）は０．０５〜０．５μｍであることが好ましく、９０重量％粒子径（Ｄ９０）は１０〜２０μｍであることが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径（Ｄ５０、Ｄ１０、Ｄ９０）および最大粒子径（Ｄmax）
が上記範囲にあると、露光工程において、露光光が感光性樹脂層の底部まで充分到達するため、高精細なパターンを形成できる。
【００５３】
ガラス粉末（Ｂ）の軟化点は、３００〜７００℃であることが好ましく、４００〜６２０℃であることがより好ましい。前記軟化点を有するガラス粉末は、例えばＦＰＤなどのディスプレイパネルを構成する電極を形成する場合に好適である。なお、ガラス粉末（Ｂ
）の軟化点は、ＤＳＣ測定により、後述する実施例記載の条件下で測定される。
【００５４】
ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が上記範囲を下回ると、パターンの焼成工程において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融することがある。このため、形成される焼成パターン中に有機物質の一部が残留することがある。結果として、前記焼成パターンが着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が上記範囲を上回ると、その軟化点以上の高温でパターンを焼成する必要があるため、ガラス基板などの支持体に歪みなどが発生しやすい。
【００５５】
ガラス粉末（Ｂ）は、従来公知の方法および装置を用いて、所定の組成および軟化点を有するように原料酸化物を混合・溶融・固化させた後、所定の平均粒子径となるように当該固化物を粉砕することにより得られる。また、ガラス粉末（Ｂ）の形状は、不定形など特に限定されない。
【００５６】
粉砕方法としては、媒体撹拌ミル、コロイドミル、湿式ボールミルなどの湿式粉砕方法；ジェットミル、乾式ボールミル、ロールクラッシャーなどの乾式粉砕方法などが挙げられる。複数の粉砕方法を組み合せて用いてもよい。また、粉砕して得られる粉末の平均粒子径を調整するために分級処理を行ってもよい。分級処理としては、風力式分級機や篩い分け装置などを用いることができる。
【００５７】
ガラス粉末（Ｂ）は、感光性組成物全量に対して、好ましくは０．５〜２０重量％、より好ましくは１．５〜２０重量％の量で含まれる。ガラス粉末（Ｂ）の含有量が前記範囲にあると、抵抗値上昇の影響が少なく、焼成後の密着性に優れたパターンを形成することができる。
【００５８】
《他の無機粒子》
金属粉末（Ａ）とともに、本発明の目的を損なわない範囲で、他の金属系粉末（例：Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｍｏ、およびこれらの化合物の粉末）を用いてもよい。例えば、前記他の金属系粉末は、金属粉末（Ａ）１００重量部に対して、２５重量部以下の量で用いることができる。
【００５９】
また、本発明の感光性組成物には、無機系顔料からなる紫外線吸収剤を配合してもよい。紫外線吸収効果の高い無機系顔料を配合することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度なパターンが得られる。
【００６０】
無機系顔料としては、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する無機系顔料が好ましく用いられる。無機系顔料の具体例としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムが挙げられる。
【００６１】
無機系顔料を使用する場合、無機系顔料は、ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の量で含まれる。無機系顔料の含有量が前記範囲を下回ると、無機系顔料を配合した効果が減少することがある。無機系顔料の含有量が前記範囲を上回ると、無機系顔料を配合した効果が大きいため、感光性樹脂層の底部まで露光光が届かなくなることがある。このため、パターンを形成できなくなることや成膜強度を保てないことがある。
【００６２】
−感光性樹脂成分−
感光性樹脂成分には、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）およびラジカル捕獲剤（Ｇ）が含まれる。また、感光性樹脂成分には、前記各成分以外に、他の添加剤が含まれていてもよい。
【００６３】
《アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）》
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）は、アルカリ可溶性であれば特に限定されないが、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）との共重合体が好ましい。なお、アルカリ可溶性とは、目的とする現像処理が可能な程度にアルカリ現像液に溶解する性質をいう。
【００６４】
＜アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）＞
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）としては、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α−ヒドロキシメチル）アクリレートなどの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類；などのアルカリ可溶性官能基と不飽和結合とを有するモノマーなどが挙げられる。上記モノマー（Ｃ１）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６５】
上記モノマー（Ｃ１）の中では、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましい。
【００６６】
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）を共重合することにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与できる。アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の全構成単位中、通常は５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、より好ましくは１５〜７０重量％である。
【００６７】
＜（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）＞
（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されない。（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどの、上記モノマー（Ｃ１）以外の（メタ）アクリレート類が挙げられる。（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
また、本発明では、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）に代えて、あるいは（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）とともに、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メ
タ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどから得られるポリマーの一方の鎖末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーを用いてもよい。
【００６９】
＜有機溶剤＞
上記共重合の際、通常は有機溶剤が用いられる。有機溶剤としては特に限定されず、テキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テルピネオールなどが挙げられる。これらの有機溶剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７０】
上記有機溶剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー（マクロモノマーを含む。）１００重量部に対して、通常は５０〜１０００重量部程度である。
【００７１】
＜重合開始剤＞
上記共重合の際、重合開始剤を用いることが好ましい。重合開始剤としては、ビニル単量体の重合に用いられるラジカル重合開始剤を用いることができる。
【００７２】
上記ラジカル重合開始剤としては、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロ
ニトリル）、１，１'−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチル−２
，２'−アゾビスイソブチレート、４，４'−アゾビス（４−シアノバレリック酸）などのアゾ化合物；ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエートなどのパーオキシエステル類の有機過酸化物などが挙げられる。
【００７３】
これらの重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７４】
また、上記重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー（マクロモノマーを含む。）１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００７５】
＜連鎖移動剤＞
上記共重合の際、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、α−メチルスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカプタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンなどが挙げられる。これらの連鎖移動剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
本発明において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）はＳＨ基を有することが好ましい（以下、当該樹脂を「ＳＨ基含有樹脂」ともいう。）。光照射により、前記ＳＨ基含有樹脂は多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）とエン−チオール反応して、樹脂自体がさらに重合する。このため、ＳＨ基含有樹脂はＳＨ基を有しない樹脂に比べて高感度である。さらに、この重合により樹脂の分子量が大きくなるため、現像後のパターン形状が良好となる。
【００７７】
上記ＳＨ基含有樹脂は、連鎖移動剤として１分子中に少なくとも２つのＳＨ基を有する化合物（例：ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン）を用いることにより合成することができる。
【００７８】
上記連鎖移動剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー（マクロモノマーを含む。）１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００７９】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の物性＞
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値で、好ましくは５０００〜１０００００、より好ましくは１００００〜８００００である。また、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．２〜３．０、より好ましくは１．３〜２．０である。ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、上記モノマーの共重合割合、有機溶剤、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することにより制御できる。
【００８０】
Ｍｗが上記範囲を上回ると、現像後の膜荒れが発生しやすくなる。また、Ｍｗが上記範囲を下回ると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下するため、パターンの解像度が低下する場合がある。
【００８１】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは０〜１２０℃、より好ましくは１０〜１００℃である。ガラス転移温度が前記範囲を下回ると、塗膜にタックを生じやすく、またハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を上回ると、感光性樹脂層とガラス基板などの支持体との密着性が悪くなるため、後述する転写フィルムを用いる場合には、該樹脂層を転写できないことがある。なお、ガラス転移温度は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）および（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の量を変更することによって適宜調節できる。
【００８２】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸価は、好ましくは２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が前記範囲を下回ると未露光部をアルカリ現像液で除去し難くなるため、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。また、酸価が前記範囲を上回ると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像液に浸食されやすくなるため、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。
【００８３】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）は、感光性組成物全量に対して、好ましくは１０〜６０重量％、より好ましくは１５〜５５重量％の量で含まれる。
【００８４】
《多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）》
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としては、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）タクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタン（メタ）トリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香環に結合した水素原子のうち、１〜５個が塩素原子または臭素原子に置換されたモノマー；などが挙げられる。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８５】
本発明の感光性組成物において、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は、露光光に対する感度の点から、上記感光性樹脂成分全量に対して、好ましくは１０重量％以上、より好ましくは１５〜６０重量％の量で含まれる。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含有量が前記範囲を上回ると、焼成後の部材（例：ディスプレイパネル用部材）の形状が劣化することがある。
【００８６】
また、本発明の目的を損なわない範囲で、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）とともに、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどを用いてもよい。
【００８７】
《光重合開始剤（Ｅ）》
光重合開始剤（Ｅ）としては、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。また、露光感度を向上させるために、光重合開始剤（Ｅ）とともに増感剤を用いてもよい。
【００８８】
光重合開始剤（Ｅ）としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、カンファーキノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２，２’−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどのカルボニル化合物；
ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド系化合物；
ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィ
ド、トリフェニルホスフィン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン；
エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素と、アスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組み合せが挙げられる。光重合開始剤（Ｅ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８９】
本発明の感光性組成物において、光重合開始剤（Ｅ）は、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）１００重量部に対して、好ましくは１０〜１００重量部、より好ましくは２０〜８０重量部の量で含まれる。光重合開始剤（Ｅ）の含有量が前記範囲を上回ると、焼成後の部材（例：ディスプレイパネル用部材）の形状が劣化することがある。
【００９０】
上記増感剤としては、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。上記増感剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９１】
なお、上記増感剤の中には光重合開始剤（Ｅ）としても作用するものもある。このため、増感剤と光重合開始剤（Ｅ）との組み合せにより、増感剤であるか光重合開始剤（Ｅ）であるかが決定される。
【００９２】
本発明の感光性組成物において、上記増感剤は、光重合開始剤（Ｅ）１００重量部に対して、好ましくは５〜５０重量部、より好ましくは１０〜４０重量部の量で含まれる。上記増感剤の含有量が前記範囲を下回ると、光感度を向上させる効果が発揮されないことがある。上記増感剤の含有量が前記範囲を上回ると、露光部の残存率が小さくなり過ぎることがある。
【００９３】
《溶剤（Ｆ）》
溶剤（Ｆ）は、主として感光性組成物の粘度を調整するために用いられる。溶剤（Ｆ）は有機溶剤であることが好ましい。前記有機溶剤としては、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピネニルアセテート、リモネン、カルベオール、カルビニルアセテート、シトロネロール、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などが挙げられる
溶剤（Ｆ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９４】
溶剤（Ｆ）は、感光性組成物全量に対して、好ましくは１〜５０重量％、より好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは５〜３０重量％の量で含まれる。
【００９５】
《ラジカル捕獲剤（Ｇ）》
ラジカル捕獲剤（Ｇ）は、フェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを含む。このようにフェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを併用することにより、感光性組成物の保存安定性が極めて向上する。
【００９６】
＜フェノール系ラジカル捕獲剤＞
上記フェノール系ラジカル捕獲剤としては、ｐ−メトキシフェノール、ｐ−ヒドロキシスチレン、いわゆるヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤などが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９７】
なお、２つ以上の水酸基が１つのフェニル基に直接結合した有機基を有する化合物（例：ヒドロキノン、ピロガロール）およびそのモノエステル化物（例：ヒドロキノンのモノエステル化物）は、フェノール系ラジカル捕獲剤に含めないものとする。
【００９８】
上記ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤は、ヒンダードフェノール基を好ましくは１個以上、より好ましくは１〜６個有する。本発明において、ヒンダードフェノール基とは、フェノール基中のヒドロキシル基が結合した炭素原子の両側の炭素原子に、炭化水素基が結合した有機基をいう。
【００９９】
上記ヒンダードフェノール基は、好ましくは下記式（１）で表される有機基である。
【０１００】
【化１】
【０１０１】
式（１）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に炭素数１〜８、好ましくは１〜６の炭化水素基を示し、破線は結合手を示す。前記炭化水素基はアルキル基であることが好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる。これらの中では、Ｒ1がメチル基かつＲ2が炭素数１〜８の炭化水素基であることが好ましく、Ｒ1がメチル基かつＲ2が炭素数１〜８のアルキル基であることがより好ましく、Ｒ1がメチル基かつＲ2がtert−ブチル基であることが特に好ましい。
【０１０２】
ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤としては、
２，６−ジtert−ブチル−４−メチルフェノール、
２，６−ジtert−４−エチルフェノール、
エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］（IRGANOX 245）、
２，２−チオ−ジエチレンビス−［３−（３，５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（IRGANOX 1035）、
ベンゼンプロパン酸−３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ，Ｃ７−Ｃ９側鎖アルキルエステル（IRGANOX 1135）、
ジエチル［｛３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル｝メチル］ホスフォネート（IRGANOX 1222）、
ヘキサ−tert−ブチル−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール（IRGANOX 1330）、
１，３，５−トリス（３，５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（IRGANOX 3114）、
トリエチレングリコール−ビス｛３−（３−tert−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、
ペンタエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（IRGANOX 1010、Sumilizer BP-101）、
３，９−ビス［２−｛３−（３−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニロキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（Sumilizer GA-80）、
オクタデシル３−（３，５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（IRGANOX 1076, Sumilizer BP-76）
などが挙げられる（IRGANOXはチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）の登録商標であ
り、Sumilizerは住友化学工業（株）の登録商標である。）。
【０１０３】
上記ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤の中では、他成分との相溶性および重合禁止効果の観点から、２，６−ジtert−ブチル−４−メチルフェノールが好ましい。
【０１０４】
＜ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤＞
上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤としては、ニトロソ基を有するラジカル捕獲剤であれば特に限定されないが、下記式（２）で表される化合物およびその金属塩が好ましい。
【０１０５】
【化２】
【０１０６】
式（２）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に酸素原子、水酸基または炭素数１〜１８、好ましくは２〜１２の炭化水素基を示す。前記炭化水素基としては、メチル基などのアルキル基、フェニル基などの芳香族基などが挙げられる。
【０１０７】
上記式（２）で表される化合物としては、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン、Ｎ−ニトロソジメチルアミン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミンなどが挙げられる。
【０１０８】
また、上記式（２）で表される化合物の金属塩としては、アルミニウム塩などが挙げられ、具体的にはＮ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩などが挙げられる。
【０１０９】
＜他のラジカル捕獲剤＞
本発明において、上記フェノール系ラジカル捕獲剤および上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とともに、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、クロラニール、ピロガロールなどの他のラジカル捕獲剤を用いてもよい。
【０１１０】
上記フェノール系ラジカル捕獲剤および上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤は合計で、上記感光性樹脂成分全量に対して、好ましくは０．１〜１５重量％、より好ましくは０．２〜１０重量％で含まれる。
【０１１１】
また、上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤は、上記フェノール系ラジカル捕獲剤１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜１０重量部、より好ましくは０．０２〜５重量部、特に好ましくは０．０３〜３重量部の量で含まれる。
【０１１２】
上記フェノール系ラジカル捕獲剤および上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤の含有量が上記範囲にあると、感光性組成物の保存安定性をより一層向上させることができる、あるいは微細パターンを形成することができる。
【０１１３】
《添加剤》
本発明の感光性組成物には、有機系染料からなる紫外線吸収剤、ラジカル捕獲剤（Ｇ）以外の酸化防止剤、密着助剤、溶解促進剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、分散剤、上記無機粒子およびアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の沈降防止剤、レベリング剤などの添加剤を配合してもよい。
【０１１４】
＜紫外線吸収剤＞
本発明の感光性組成物には、有機系染料からなる紫外線吸収剤を配合してもよい。紫外線吸収効果の高い化合物を配合することによって、高アスペクト比、高精細および高解像度のパターンが得られる。
【０１１５】
有機系染料としては、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い紫外線吸収係数を有する有機系染料を好ましく用いることができる。有機系染料の具体例としては、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料が挙げられる。
【０１１６】
有機系染料を使用する場合、有機系染料は、ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の量で含まれる。有機系染料の含有量が前記範囲を下回ると、有機系染料を配合した効果が減少することがある。有機系染料の含有量が前記範囲を上回ると、有機系染料を配合した効果が大きいため、感光性樹脂層の底部まで露光光が届かなくなることがある。このため、パターンを形成できなくなることや成膜強度を保てないことがある。
【０１１７】
＜酸化防止剤＞
本発明の感光性組成物には、保存時におけるアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸化を防ぐために、ラジカル捕獲剤（Ｇ）以外の酸化防止剤を配合してもよい。酸化防止剤としては、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。
【０１１８】
酸化防止剤を使用する場合、該酸化防止剤は、感光性組成物全量に対して、好ましくは０．００１〜１重量％、より好ましくは０．００５〜０．５重量％の量で含まれる。
【０１１９】
＜密着助剤＞
本発明の感光性組成物には、感光性樹脂層とガラス基板などの支持体との密着性を向上させるため、密着助剤を配合してもよい。密着助剤としては、シラン化合物が好適に用いられる。
【０１２０】
シラン化合物としては、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン、
ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシラン、
ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシラン、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシラン、
ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシラン、
ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシラン、
ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシラン、
ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス−［３−（ト
リメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンなどが挙げられる。これらのシラン化合物は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１２１】
密着助剤を使用する場合、密着助剤は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部の量で含まれる。
【０１２２】
＜溶解促進剤＞
本発明の感光性組成物には、後述する現像液への充分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤を配合してもよい。溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用いられる。前記界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、脂肪酸などが挙げられる。
【０１２３】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、ＢＭ ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」；大日本インキ化学工業（株）製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」；住友スリーエム（株）製「フロラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１」；旭硝子（株）製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」などが挙げられる。
【０１２４】
シリコーン系界面活性剤の市販品としては、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」；信越化学工業（株）製「ＫＰ３４１」；新秋田化成（株）製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「同ＥＦ３５２」などが挙げられる。
【０１２５】
ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエ
チレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシアルキレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類などが挙げられる。
【０１２６】
ノニオン系界面活性剤の市販品としては、花王（株）製「エマルゲンＡ−６０」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」；共栄社化学（株）製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」などが挙げられる。
【０１２７】
脂肪酸としては、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸などが挙げられる。
【０１２８】
上記界面活性剤の中では、現像時に未露光部の除去が容易であることから、ノニオン系界面活性剤が好ましく、ポリオキシアルキレンアリールエーテル類がより好ましく、該ポリオキシアルキレンアリールエーテル類の中では、下記式（３）で表される化合物が特に好ましい。
【０１２９】
【化３】
【０１３０】
式（３）中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり；ｐは１〜５
の整数であり；ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり；ｔは１〜１００の整数、好ましくは１０〜２０の整数である。
【０１３１】
溶解促進剤を使用する場合、該溶解促進剤は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部の量で含まれる。溶解促進剤の含有量が前記範囲にあると、後述する現像液への溶解性に優れた感光性組成物が得られる。
【０１３２】
《感光性組成物の調製》
本発明の感光性組成物は、上記各成分を所定の組成比となるように調合し、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製される。本発明の感光性組成物は、ペースト状、固体状、液体状など何れの形状の組成物でも構わないが、成形性などの観点から、ペースト状の組成物であることが好ましい。例えば、感光性組成物の粘度は、１００〜５０００００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）であることが好ましい。なお、感光性組成物の粘度は、上記無機粒子、溶剤（Ｆ）、増粘剤、可塑剤および沈殿防止剤などの配合量によって適宜調整することができる。
【０１３３】
〔パターン形成方法〕
本発明のパターン形成方法は、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程（感光性樹脂層形成工程）、該感光性樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該感光性樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含む。また、前記感光性樹脂層形成、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃の加熱工程を導入してもよい。
【０１３４】
＜感光性樹脂層形成工程＞
本工程では、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する。感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、（i）上記感光性組成物を基板上に塗布して塗膜を
形成し、該塗膜を乾燥させて形成する方法、（ii）上記感光性組成物を支持フィルム上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて得られる感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いて、基板上に該樹脂層を転写する方法などが挙げられる。
【０１３５】
（i）上記感光性組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく、かつ均一
性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコータによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法、スクリーン印刷装置によるスクリーン印刷法が挙げられる。
【０１３６】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤（Ｆ）の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、乾燥温度が５０〜１５０℃、乾燥時間が０．５〜６０分程度である。
【０１３７】
感光性樹脂層の膜厚は、好ましくは３〜３００μｍ、より好ましくは５〜２００μｍである。なお、感光性組成物の塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す。）の感光性樹脂層を有する積層体を形成してもよい。
【０１３８】
（ii）上記感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いた転写工程の一例を以下に示す。基板と感光性樹脂層とが接するように、基板と転写フィルムとを重ね合わせ、該転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、該樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板上に感光性樹脂層が転写されて密着した状態となる。
【０１３９】
上記支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムを形成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどが挙げられる。
【０１４０】
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が１０〜２００℃、加熱ローラによるロール圧が０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分で
ある。また、上記基板は予熱されていてもよく、その予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【０１４１】
上記基板としては、ガラス、セラミック、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材などが挙げられる。これらの中では、耐熱性を有するガラス基板が好ましい。
【０１４２】
＜露光工程＞
本工程では、上記感光性樹脂層形成工程により基板上に感光性樹脂層を形成した後、露光装置を用いて露光を行う。具体的には、露光用マスクを介して、紫外線などの露光光を選択的に感光性樹脂層に照射して、該樹脂層にパターンの潜像を形成する。
【０１４３】
露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を採用することができる。フォトマスクの露光パターンは、目的によって異なるが、例えば１０〜５００μｍ幅のストライプまたは格子である。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
【０１４４】
露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機などを用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性樹脂層を形成した後に、これを搬送しながら露光することによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【０１４５】
露光光としては、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中では紫外線が好ましい。紫外線の光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが挙げられる。これらの中では超高圧水銀灯が好ましい。
【０１４６】
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、例えば１〜１００ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧
水銀灯を用いて０．０５〜１分間露光を行う。この場合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上させることができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上させることができる。
【０１４７】
＜現像工程＞
本工程では、上記露光後、露光部と非露光部との現像液に対する溶解度差を利用して、感光性樹脂層を現像してパターンを形成する。現像方法（例：浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法）および現像処理条件（例：現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度）などは、感光性樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
【０１４８】
現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【０１４９】
現像工程で用いられる現像液としては、感光性樹脂層中にアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）が存在するため、アルカリ水溶液などのアルカリ現像液を使用できる。また、感光性樹脂層中の有機物質を溶解可能な有機溶剤も使用できる。なお、前記有機溶剤にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。
【０１５０】
上記感光性樹脂層には上記無機粒子が含まれている。上記無機粒子はアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）により均一に分散されているため、該樹脂（Ｃ）を現像液で溶解して洗浄することにより、該無機粒子も同時に除去される。
【０１５１】
上記アルカリ水溶液としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ
酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。
【０１５２】
上記アルカリ水溶液のアルカリ濃度は、通常は０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部（未露光部）が除去されず、アルカリ濃度が高すぎるとパターンを剥離するおそれ、あるいは非可溶部（露光部）を腐食するおそれがある。
【０１５３】
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常は水洗処理が施される。
【０１５４】
＜焼成工程＞
本工程では、現像工程により形成されたパターンに含まれる有機物質を焼失させるために、焼成炉にて該パターンを焼成処理する。
【０１５５】
焼成雰囲気は、感光性組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【０１５６】
焼成処理条件は、パターン中の有機物質が焼失することが必要であるため、通常は、焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間程度である。例えば、ガラス基板上にパターンを形成する場合は、焼成温度が３５０〜６００℃、焼成時間が１０〜６０分程度である。
【０１５７】
〔電極の製造方法〕
本発明の電極の製造方法は、上記感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする。ここで、前記パターン形成は、〔パターン形成方法〕の欄に記載した方法を採用できる。特に、本発明の電極の製造方法を用いることにより、ＰＤＰ用電極を好適に製造にすることができる。
【０１５８】
また、上記パターン形成方法を用いることにより、ディスプレイパネル（例：ＦＰＤ）の電極以外の部材、電子部品の高度実装材料の部材（例：回路パターン）および太陽電池の部材（例：配線パターン）を形成することができる。
【実施例】
【０１５９】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【０１６０】
まず、物性の測定方法および評価方法について説明する。
【０１６１】
〔フレーク状アルミニウム粉末のリーフィング価〕
ＪＩＳ Ｋ５９０６に記載の方法に従って、フレーク状アルミニウム粉末のリーフィング価を測定した。なお、実施例および比較例で用いたフレーク状アルミニウム粉末は、全てオレイン酸による処理がなされたものである。
【０１６２】
〔５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）の測定方法〕
レーザー回折式粒度分布測定装置（島津製作所（株）製「ＳＡＬＤ−２０００Ｊ」）を用いて、アルミニウム粉末およびガラス粉末の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）を測定した。
【０１６３】
〔アルミニウム粉末の平均厚さの測定方法〕
電子顕微鏡装置（ＳＥＭ、日立テクノロジー（株）製「Ｓ−４３００」）を用いて、アルミニウム粉末１００個の厚さを測定し、これらの平均値をアルミニウム粉末の平均厚さとした。
【０１６４】
〔軟化点の測定方法〕
示差走査熱量計（ＤＳＣ）（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製「２９１０、モジュレイテッドＤＳＣ」）を用いて、ガラス粉末の軟化点を測定した。
【０１６５】
〔ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎの測定方法〕
アルカリ可溶性樹脂のＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー（株）製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。なお、ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー（株）製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒、測定温度４０℃の条件で行った。
【０１６６】
〔保存安定性の評価方法〕
実施例および比較例で得られたペースト状の感光性組成物２０ｇを３０ｍＬポリプロピレン容器に投入して、該容器を窒素ガスでパージした後に閉め、４０℃の条件下で２週間エージングし、該感光性組成物がゲル化しているか否か（ゲル化した場合には、ゲル化するまでの日数）の評価を行った。ここで、ゲル化とはペーストの固化を意味する。
【０１６７】
〔体積抵抗の測定方法〕
実施例および比較例で得られた感光性組成物を、ガラス基板上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を焼成することにより、該ガラス基板上に膜厚５μｍの焼成膜を形成した。次に、ＮＰＳ社製の「Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ Ｐｒｏｃｃｅｓｓｏｒ ＭｏｄｅｌΣ−５」を用いて、前記焼成膜の体積抵抗（μΩ・ｃｍ）を測定した。
【０１６８】
〔現像後および焼成後のパターンの評価方法〕
実施例および比較例で得られた現像後および焼成後の試験片を切断して、パターン切断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察して、パターンの幅および高さを計測し、それぞれを下記基準で評価した。なお、所望の規格は、パターンの幅が１００μｍ、高さが５μｍ、間隔が１００μｍである。
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格から±５％以内のもの。
Ｃ：所望の規格から±５％を超えて±２０％以内のもの。
Ｄ：所望の規格から±２０％を超えるもの。
【０１６９】
〔焼成後のパターン密着性の評価方法〕
実施例および比較例で得られた焼成後の試験片を用いて、パターンと支持体であるガラス基板との密着性を、以下のように評価した。加熱ローラを用いて、セロテープ（登録商標）（ニチバン社製）を、ガラス基板のパターン形成面に熱圧着した。熱圧着条件は、加熱ローラの表面温度を２３℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．
５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板のパターン形成面にセロテープ（登録商標）が転写されて、ガラス基板とセロテープ（登録商標）とが密着した状態となった。このセロ
テープ（登録商標）をガラス基板から剥離することで、パターン密着性を下記基準で評価した。
○：パターン剥れなし。
×：パターン剥れあり。
【０１７０】
〔合成例１〕
ｎ−ブチルメタクリレート４０部、２−エチルヘキシルメタクリレート３０部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１．０部、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）（堺化学工業（株）製）２部、テキサノール１５０部を攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、これらが均一に分散するまで攪拌した。
【０１７１】
次に、上記モノマーを８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合させた後、室温まで冷却して、ＳＨ基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）の重合率は９９％であり、重量平均分子量は２５０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８）であった。
【０１７２】
〔合成例２〕
ｎ−ブチルメタクリレート４０部、２−エチルヘキシルメタクリレート３０部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１．０部、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）（堺化学工業（株）製）２部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５０部を攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、これらが均一に分散するまで攪拌した。
【０１７３】
次に、上記モノマーを８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合させた後、室温まで冷却して、ＳＨ基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｃ２）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（Ｃ２）の重合率は９９％であり、重量平均分子量は２２０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８）であった。
【０１７４】
〔感光性樹脂成分の調製〕
表３に示す組成の感光性樹脂成分（１）〜（１１）を調製した。
【０１７５】
【表１】
【０１７６】
【表２】
【０１７７】
【表３】
【０１７８】
［実施例１］
表１に示すアルミニウム粉末Ａ１（３０ｇ）、表２に示すガラス粉末Ｂ１（５ｇ）および表３に示す感光性樹脂成分（１）（６５ｇ）を混練機で混練して、感光性組成物を調製した。前記感光性組成物を用いて、上記方法に従い、保存安定性および体積抵抗を評価・測定した。評価・測定結果を表４に示す。
【０１７９】
３２５メッシュのスクリーンを用いて、上記感光性組成物を試験片（ガラス基板、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×１．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさでベタに印刷し、８０℃で２０分間保持して乾燥し、感光性樹脂層を形成した。なお、感光性樹脂層の膜厚は、５μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１８０】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅１００μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、上記感光性樹脂層を上面から紫外線露
光した。露光量は３００ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１８１】
次に、露光後の感光性樹脂層に、２３℃に保持した０．５％炭酸ナトリウム水溶液をシャワーで６０秒間かけ、該感光性樹脂層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、未露光部を除去して、ガラス基板上にネガ型クロムマスクに対応する硬化パターンを形成した。上記評価方法に従い、この現像後の硬化パターンを評価した。評価結果を表４に示す。
【０１８２】
次に、上記硬化パターンを５８０℃で３０分間焼成して、電極パターンを形成した。上記評価方法に従い、この焼成後の電極パターンを評価した。評価結果を表４に示す。
【０１８３】
［実施例２〜１２、参考例１〜２、比較例１〜５］
実施例１において、表４に示す組成の感光性組成物を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。評価・測定結果を表４に示す。
【０１８４】
［実施例１３］
実施例１において、表１に示すアルミニウム粉末Ａ２に金メッキ処理がなされた粉末（メッキ膜厚：１００ｎｍ）（３０ｇ）、表２に示すガラス粉末Ｂ１（５ｇ）および表３に示す感光性樹脂成分（１）（６５ｇ）を混練機で混練して、感光性組成物を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。評価・測定結果を表４に示す。
【０１８５】
【表４】
【符号の説明】
【０１８６】
１０１ ガラス基板
１０２ ガラス基板
１０３ 背面隔壁
１０４ 透明電極
１０５ バス電極
１０６ アドレス電極
１０７ 蛍光体
１０８ 誘電体層
１０９ 誘電体層
１１０ 保護層
１１１ 前面隔壁
２０１ ガラス基板
２０２ ガラス基板
２０３ 絶縁層
２０４ 透明電極
２０５ エミッタ
２０６ カソード電極
２０７ 蛍光体
２０８ ゲート
２０９ スペーサ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルミニウム含有感光性組成物および電極の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、フラットパネルディスプレイなどのディスプレイパネルの部材、電子部品の高度実装材料の部材および太陽電池の部材を製造する際に用いられるアルミニウム含有感光性組成物ならびに該組成物を用いた電極の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、回路基板やディスプレイパネルにおけるパターン加工に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。このような要求が高まっているディスプレイパネルの中でも、プラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が特に注目されている。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は対向配置されたガラス基板、１０３および１１１は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、背面隔壁１０３および前面隔壁１１１によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光体であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の表面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の表面に形成された誘電体層であり、１１０は例えば酸化マグネシウムからなる保護層である。
【０００４】
上記構成を有するＰＤＰや図２に示されるＦＥＤに代表されるＦＰＤにおいては、パネルの大型化および高精細化が進んでおり、それに伴ってパターン加工技術の向上が要望されている。ところが、パネルの大型化および高精細化に伴い、パターン精度の要求が非常に厳しくなっている。このため、従来の工法であるスクリーン印刷法では、前記要望に対応できないという問題がある。
【０００５】
そこで現在では、フォトリソグラフィー法によるパターン形成が主に用いられている。例えば電極を製造する場合には、上記フォトリソグラフィー法において、導電性粒子を含有する感光性組成物を用いることにより、スクリーン印刷法では対応できなかった問題である大型および高精細なパターン形成が可能となっている。
【０００６】
上記導電性粒子としては、銀が挙げられる。ところが、銀は貴金属であるため高価である。このため、現在では高価な銀に代わる無機粒子として、アルミニウムを用いることが検討されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
しかしながら、ＰＤＰ用電極などの形成材料において、アルミニウム粉末と架橋剤（例：光重合性モノマー）とが通常は共存するため、該形成材料は保存安定性に欠けるという問題がある。具体的には、アルミニウム粉末と架橋剤とを含有する形成材料を用いて保存安定性試験を行うと、該形成材料の粘度が増加し、さらにはゲル化という現象が観察される。また、アルミニウムは銀よりも酸化されやすいため、焼成工程においてパターンの抵抗値が上昇してしまうという問題もある。
【０００８】
例えば、特許文献２は多層構造の感光性ドライレジストフィルムを開示するものであり
、該文献には感光性樹脂組成物の保存安定性に関する記載がある。具体的には、貯蔵中の架橋反応を防止するため、前記感光性樹脂組成物に重合禁止剤などを添加することが好ましいことが記載され、該重合禁止剤として種々の化合物が例示されている。
【０００９】
しかしながら、上記特許文献２の開示内容からでは、アルミニウム粉末と架橋剤とを含有する感光性組成物の保存安定性の向上にどのような重合禁止剤が寄与しえるかという点が不明である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平０９−３０６３４３号公報
【特許文献２】特開２００９−０３１３４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記従来技術に伴う問題を解決しようとするものである。すなわち、本発明は、アルミニウム粉末と架橋剤とを含有する感光性組成物の保存安定性を格段に向上させることを課題とする。
【００１２】
また、本発明は、前記特性を有するとともに、安価で、薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上などに形成可能な感光性組成物およびその用途を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、特定の粒子径を有するアルミニウム粉末と特定のラジカル捕獲剤とを用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
すなわち、本発明およびその好適な態様は、以下の［１］〜［８］に関する。
【００１５】
［１］無機粒子と感光性樹脂成分とからなる感光性組成物であって、前記無機粒子が、（Ａ）アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選ばれる１種以上の金属粉末を含み、前記感光性樹脂成分が、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｅ）光重合開始剤、（Ｆ）溶剤および（Ｇ）ラジカル捕獲剤を含み、前記金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであり、前記ラジカル捕獲剤（Ｇ）がフェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを含むことを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【００１６】
［２］前記フェノール系ラジカル捕獲剤が、ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤、ｐ−メトキシフェノールおよびｐ−ヒドロキシスチレンから選択される少なくとも１種であることを特徴とする前記［１］に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１７】
［３］前記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤が、前記フェノール系ラジカル捕獲剤１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部の量で含まれることを特徴とする前記［１］または［２］に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１８】
［４］前記フェノール系ラジカル捕獲剤および前記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤が合計で、前記感光性樹脂成分全量に対して０．１〜１５重量％の量で含まれることを特徴とする前記［１］〜［３］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１９】
［５］前記無機粒子がガラス粉末（Ｂ）をさらに含み、前記ガラス粉末（Ｂ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜５．０μｍであり、前記ガラス粉末（Ｂ）の最大粒子径（Ｄmax）が３０μｍ以下であることを特徴とする前記［１］〜［４］の何れかに記
載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００２０】
［６］前記ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が３００〜７００℃であり、前記ガラス粉末（Ｂ）が感光性組成物全量に対して０．５〜２０重量％の量で含まれることを特徴とする前記［５］に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００２１】
［７］前記金属粉末（Ａ）が、感光性組成物全量に対して２０〜７０重量％の量で含まれることを特徴とする前記［１］〜［６］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００２２】
［８］前記［１］〜［７］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする電極の製造方法。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、アルミニウム粉末と架橋剤とを含有する感光性組成物の保存安定性を格段に向上させることができる。具体的には、従来のＰＤＰ用電極形成材料は保存安定性試験を行うとゲル化するのに対し、本発明の感光性組成物は５℃・２３℃・４０℃・７０℃の条件で保存安定性試験を行ってもゲル化しない。
【００２４】
また、本発明によれば、上記特性を有するとともに、安価で、薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上などに形成可能な感光性組成物およびその用途が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。
【図２】図２は、一般的なＦＥＤの断面形状を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明のアルミニウム含有感光性組成物および電極の製造方法について、詳細に説明する。なお、以下では、前記感光性組成物を用いて形成される露光前の層を「感光性樹脂層」ともいう。
【００２７】
〔アルミニウム含有感光性組成物〕
本発明のアルミニウム含有感光性組成物（以下「感光性組成物」ともいう。）は、無機粒子と感光性樹脂成分とからなる。前記無機粒子は、金属粉末（Ａ）を含む。前記無機粒子は、ガラス粉末（Ｂ）をさらに含むことが好ましい。前記感光性樹脂成分は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）およびラジカル捕獲剤（Ｇ）を含む。本発明の感光性組成物は、５〜９０重量％の感光性樹脂成分と９５〜１０重量％の無機粒子とからなることが好ましい。
【００２８】
−無機粒子−
無機粒子には、金属粉末（Ａ）が含まれる。無機粒子には、ガラス粉末（Ｂ）がさらに含まれることが好ましい。また、無機粒子には、他の金属系粉末や無機系顔料などが含まれていてもよい。
【００２９】
《金属粉末（Ａ）》
金属粉末（Ａ）は、アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選ばれる１種以
上の金属粉末である。これらの中では、アルミニウム粉末が好ましい。
【００３０】
上記アルミニウム合金粉末としては、Ａｌ−Ｃｕ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｃｕ−Ｓｉ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｇ−Ｍｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ−Ｃｕ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系合金粉末などが挙げられる。
【００３１】
金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）は、１．０〜２０．０μｍ、好ましくは２．０〜２０．０μｍ、特に好ましくは５．０〜１５．０μｍである。Ｄ５０が前記範囲にあると、露光工程における露光光が感光性樹脂層の底部まで充分到達するため、高精細なパターンを形成できる。
【００３２】
なお、平均粒子径はレーザー回折式粒度分布測定法によって測定され、他の粉末においても同様である。また、Ｄ５０とは、粒度分布を有する粉末において、該粉末を粒子径の小さいものから累積して、累積量が全粉末量の５０重量％になる粒子径をいう。
【００３３】
金属粉末（Ａ）の形状は特に限定されないが、フレーク状および球状などが挙げられる。すなわち、金属粉末（Ａ）としては、フレーク状金属粉末（Ａ１）および球状金属粉末（Ａ２）などが挙げられる。これらの中では、フレーク状金属粉末（Ａ１）が好ましい。
【００３４】
＜フレーク状金属粉末（Ａ１）＞
フレーク状金属粉末（Ａ１）は、Ｄ５０が２．０〜２０．０μｍ、かつ平均厚さが０．１〜１．０μｍであることが好ましく；Ｄ５０が２．５〜１８．０μｍ、かつ平均厚さが０．１５〜０．９μｍであることがより好ましく；Ｄ５０が３．０〜１５．０μｍ、かつ平均厚さが０．１５〜０．８μｍであることが特に好ましい。
【００３５】
Ｄ５０または平均厚さが上記範囲を上回るフレーク状金属粉末を用いると、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。また、Ｄ５０または平均厚さが上記範囲を下回るフレーク状金属粉末を用いると、膜中の該粉末同士の接触が面接触傾向ではなく点接触傾向になるため、低抵抗のパターンを形成することが困難になることがある。なお、平均厚さは、ＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）観察により、後述する実施例記載の条件下で測定される。
【００３６】
フレーク状金属粉末（Ａ１）は、上記要件（Ｄ５０および平均厚さ）を満足するフレーク状金属粉末であれば特に限定されない。例えば、フレーク状金属粉末をそのまま用いてもよく、貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされたフレーク状金属粉末、あるいは脂肪酸により包接されたフレーク状金属粉末を用いてもよい。
【００３７】
フレーク状金属粉末（Ａ１）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３８】
上記貴金属コートおよび貴金属メッキで用いられる貴金属としては、金、銀、白金、これらの合金が挙げられる。これらの貴金属は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、この貴金属コートおよび貴金属メッキは、従来公知の方法に従って行うことができる。この貴金属コートおよび貴金属メッキの膜厚は、通常は５〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎｍである。
【００３９】
上記脂肪酸としては、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マ
ルガリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸などが挙げられる。これらの脂肪酸の中では、上記フレーク状金属粉末を効率的に包接および／または修飾できることから、オレイン酸が好ましい。なお、金属粉末の粉砕処理の際に、粉砕助剤として前記脂肪酸を添加すればよい。
【００４０】
ＦＰＤなどのディスプレイパネルを構成する電極を形成する場合には、ＪＩＳ Ｋ５９０６に記載の方法に従って測定されるリーフィング価が小さい（またはリーフィング価がない）、ノンリーフィング型のフレーク状金属粉末が特に好適に用いられる。オレイン酸などの脂肪酸を用いて、上記フレーク状金属粉末を包接および／または修飾することで、ノンリーフィング型のフレーク状金属粉末を容易に得ることができる。
【００４１】
そして、このようなノンリーフィング型のフレーク状金属粉末を用いることで、該金属粉末が感光性樹脂層の表面層に配列することを防止できるため、該樹脂層中に該金属粉末をより均一に分散できる。これにより、ノンリーフィング型のフレーク状金属粉末を含有する感光性樹脂層は露光光をほとんど反射しないため（すなわち、該樹脂層の透過率が向上するため）、パターン形成能が極めて良好となる。
【００４２】
＜球状金属粉末（Ａ２）＞
球状金属粉末（Ａ２）は、Ｄ５０が好ましくは１．０〜２０．０μｍ、より好ましくは１．５〜１８．０μｍ、さらに好ましくは２．０〜１５．０μｍである。なお、球状金属粉末（Ａ２）の形状とは、フレーク状（燐片状）以外の形状を意味し、特に限定はされない。
【００４３】
Ｄ５０が上記範囲を上回る球状金属粉末を用いると、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。また、Ｄ５０が上記範囲を下回る球状金属粉末を用いると、歩留りが悪いため、パターンを安価に形成することが困難になることがある。
【００４４】
球状金属粉末（Ａ２）としては、上記要件（Ｄ５０）を満足する球状金属粉末であれば特に限定されない。例えば、球状金属粉末をそのまま用いてもよく、貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされた球状金属粉末を用いてもよい。
【００４５】
球状金属粉末（Ａ２）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４６】
上記貴金属コートおよび貴金属メッキで用いられる貴金属としては、金、銀、白金、これらの合金が挙げられる。これらの貴金属は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、この貴金属コートおよび貴金属メッキは、従来公知の方法に従って行うことができる。この貴金属コートおよび貴金属メッキの膜厚は、通常は５〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎｍである。
【００４７】
＜構成比＞
金属粉末（Ａ）は、感光性組成物全量に対して、好ましくは２０〜７０重量％、より好ましくは２５〜６５重量％、特に好ましくは３０〜６０重量％の量で含まれる。金属粉末（Ａ）の含有量が前記範囲にあると、導電性に優れたパターンを形成できる。
【００４８】
フレーク状金属粉末（Ａ１）および球状金属粉末（Ａ２）は、（Ａ１）と（Ａ２）との配合比（重量比）（（Ａ１）／（Ａ２））が、好ましくは１００／０〜５０／５０、より好ましくは１００／０〜６０／４０、さらに好ましくは１００／０〜７０／３０となる割合で混合して用いることが望ましい。配合比（重量比）（（Ａ１）／（Ａ２））が前記範囲にあると、導電性に優れたパターンを形成できる。
【００４９】
《ガラス粉末（Ｂ）》
本発明の感光性組成物は、焼成後のパターン密着性の観点から、ガラス粉末（Ｂ）をさらに含有することが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）は、本発明の感光性組成物を用いて形成されるパターンの用途（例：ＦＰＤの部材、電子部品の高度実装材料の部材）に応じて適宜選択することができる。
【００５０】
ガラス粉末（Ｂ）としては、
１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2系）、
７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系）、
８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｐ2Ｏ5−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系）、
９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタンの混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＴｉＯ2系）、
１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ系）、
１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ系）、
１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3系）、
１４．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１５．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ナトリウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｎａ2Ｏ系）；などが挙げられる。
これらの中では、環境に配慮した無鉛ガラスが特に好ましい。
【００５１】
ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径は、パターンの形状を考慮して適宜選択される。ガラス粉末（Ｂ）は、５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜５．０μｍ、かつ最大粒子径（Ｄmax）が３０μｍ以下であることが好ましく；Ｄ５０が０．２〜４．０μｍ、かつＤmaxが２０μｍ以下であることがより好ましく；Ｄ５０が０．５〜３．８μｍ、かつＤmax
が１０μｍ以下であることが特に好ましい。
【００５２】
また、ガラス粉末（Ｂ）の１０重量％粒子径（Ｄ１０）は０．０５〜０．５μｍであることが好ましく、９０重量％粒子径（Ｄ９０）は１０〜２０μｍであることが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径（Ｄ５０、Ｄ１０、Ｄ９０）および最大粒子径（Ｄmax）
が上記範囲にあると、露光工程において、露光光が感光性樹脂層の底部まで充分到達するため、高精細なパターンを形成できる。
【００５３】
ガラス粉末（Ｂ）の軟化点は、３００〜７００℃であることが好ましく、４００〜６２０℃であることがより好ましい。前記軟化点を有するガラス粉末は、例えばＦＰＤなどのディスプレイパネルを構成する電極を形成する場合に好適である。なお、ガラス粉末（Ｂ
）の軟化点は、ＤＳＣ測定により、後述する実施例記載の条件下で測定される。
【００５４】
ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が上記範囲を下回ると、パターンの焼成工程において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融することがある。このため、形成される焼成パターン中に有機物質の一部が残留することがある。結果として、前記焼成パターンが着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が上記範囲を上回ると、その軟化点以上の高温でパターンを焼成する必要があるため、ガラス基板などの支持体に歪みなどが発生しやすい。
【００５５】
ガラス粉末（Ｂ）は、従来公知の方法および装置を用いて、所定の組成および軟化点を有するように原料酸化物を混合・溶融・固化させた後、所定の平均粒子径となるように当該固化物を粉砕することにより得られる。また、ガラス粉末（Ｂ）の形状は、不定形など特に限定されない。
【００５６】
粉砕方法としては、媒体撹拌ミル、コロイドミル、湿式ボールミルなどの湿式粉砕方法；ジェットミル、乾式ボールミル、ロールクラッシャーなどの乾式粉砕方法などが挙げられる。複数の粉砕方法を組み合せて用いてもよい。また、粉砕して得られる粉末の平均粒子径を調整するために分級処理を行ってもよい。分級処理としては、風力式分級機や篩い分け装置などを用いることができる。
【００５７】
ガラス粉末（Ｂ）は、感光性組成物全量に対して、好ましくは０．５〜２０重量％、より好ましくは１．５〜２０重量％の量で含まれる。ガラス粉末（Ｂ）の含有量が前記範囲にあると、抵抗値上昇の影響が少なく、焼成後の密着性に優れたパターンを形成することができる。
【００５８】
《他の無機粒子》
金属粉末（Ａ）とともに、本発明の目的を損なわない範囲で、他の金属系粉末（例：Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｍｏ、およびこれらの化合物の粉末）を用いてもよい。例えば、前記他の金属系粉末は、金属粉末（Ａ）１００重量部に対して、２５重量部以下の量で用いることができる。
【００５９】
また、本発明の感光性組成物には、無機系顔料からなる紫外線吸収剤を配合してもよい。紫外線吸収効果の高い無機系顔料を配合することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度なパターンが得られる。
【００６０】
無機系顔料としては、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する無機系顔料が好ましく用いられる。無機系顔料の具体例としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムが挙げられる。
【００６１】
無機系顔料を使用する場合、無機系顔料は、ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の量で含まれる。無機系顔料の含有量が前記範囲を下回ると、無機系顔料を配合した効果が減少することがある。無機系顔料の含有量が前記範囲を上回ると、無機系顔料を配合した効果が大きいため、感光性樹脂層の底部まで露光光が届かなくなることがある。このため、パターンを形成できなくなることや成膜強度を保てないことがある。
【００６２】
−感光性樹脂成分−
感光性樹脂成分には、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）およびラジカル捕獲剤（Ｇ）が含まれる。また、感光性樹脂成分には、前記各成分以外に、他の添加剤が含まれていてもよい。
【００６３】
《アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）》
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）は、アルカリ可溶性であれば特に限定されないが、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）との共重合体が好ましい。なお、アルカリ可溶性とは、目的とする現像処理が可能な程度にアルカリ現像液に溶解する性質をいう。
【００６４】
＜アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）＞
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）としては、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α−ヒドロキシメチル）アクリレートなどの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類；などのアルカリ可溶性官能基と不飽和結合とを有するモノマーなどが挙げられる。上記モノマー（Ｃ１）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６５】
上記モノマー（Ｃ１）の中では、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましい。
【００６６】
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）を共重合することにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与できる。アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の全構成単位中、通常は５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、より好ましくは１５〜７０重量％である。
【００６７】
＜（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）＞
（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されない。（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどの、上記モノマー（Ｃ１）以外の（メタ）アクリレート類が挙げられる。（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
また、本発明では、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）に代えて、あるいは（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）とともに、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メ
タ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどから得られるポリマーの一方の鎖末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーを用いてもよい。
【００６９】
＜有機溶剤＞
上記共重合の際、通常は有機溶剤が用いられる。有機溶剤としては特に限定されず、テキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テルピネオールなどが挙げられる。これらの有機溶剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７０】
上記有機溶剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー（マクロモノマーを含む。）１００重量部に対して、通常は５０〜１０００重量部程度である。
【００７１】
＜重合開始剤＞
上記共重合の際、重合開始剤を用いることが好ましい。重合開始剤としては、ビニル単量体の重合に用いられるラジカル重合開始剤を用いることができる。
【００７２】
上記ラジカル重合開始剤としては、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロ
ニトリル）、１，１'−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチル−２
，２'−アゾビスイソブチレート、４，４'−アゾビス（４−シアノバレリック酸）などのアゾ化合物；ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエートなどのパーオキシエステル類の有機過酸化物などが挙げられる。
【００７３】
これらの重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７４】
また、上記重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー（マクロモノマーを含む。）１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００７５】
＜連鎖移動剤＞
上記共重合の際、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、α−メチルスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカプタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンなどが挙げられる。これらの連鎖移動剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
本発明において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）はＳＨ基を有することが好ましい（以下、当該樹脂を「ＳＨ基含有樹脂」ともいう。）。光照射により、前記ＳＨ基含有樹脂は多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）とエン−チオール反応して、樹脂自体がさらに重合する。このため、ＳＨ基含有樹脂はＳＨ基を有しない樹脂に比べて高感度である。さらに、この重合により樹脂の分子量が大きくなるため、現像後のパターン形状が良好となる。
【００７７】
上記ＳＨ基含有樹脂は、連鎖移動剤として１分子中に少なくとも２つのＳＨ基を有する化合物（例：ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン）を用いることにより合成することができる。
【００７８】
上記連鎖移動剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー（マクロモノマーを含む。）１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００７９】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の物性＞
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値で、好ましくは５０００〜１０００００、より好ましくは１００００〜８００００である。また、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．２〜３．０、より好ましくは１．３〜２．０である。ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、上記モノマーの共重合割合、有機溶剤、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することにより制御できる。
【００８０】
Ｍｗが上記範囲を上回ると、現像後の膜荒れが発生しやすくなる。また、Ｍｗが上記範囲を下回ると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下するため、パターンの解像度が低下する場合がある。
【００８１】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは０〜１２０℃、より好ましくは１０〜１００℃である。ガラス転移温度が前記範囲を下回ると、塗膜にタックを生じやすく、またハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を上回ると、感光性樹脂層とガラス基板などの支持体との密着性が悪くなるため、後述する転写フィルムを用いる場合には、該樹脂層を転写できないことがある。なお、ガラス転移温度は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）および（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の量を変更することによって適宜調節できる。
【００８２】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸価は、好ましくは２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が前記範囲を下回ると未露光部をアルカリ現像液で除去し難くなるため、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。また、酸価が前記範囲を上回ると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像液に浸食されやすくなるため、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。
【００８３】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）は、感光性組成物全量に対して、好ましくは１０〜６０重量％、より好ましくは１５〜５５重量％の量で含まれる。
【００８４】
《多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）》
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としては、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）タクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタン（メタ）トリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香環に結合した水素原子のうち、１〜５個が塩素原子または臭素原子に置換されたモノマー；などが挙げられる。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８５】
本発明の感光性組成物において、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は、露光光に対する感度の点から、上記感光性樹脂成分全量に対して、好ましくは１０重量％以上、より好ましくは１５〜６０重量％の量で含まれる。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含有量が前記範囲を上回ると、焼成後の部材（例：ディスプレイパネル用部材）の形状が劣化することがある。
【００８６】
また、本発明の目的を損なわない範囲で、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）とともに、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどを用いてもよい。
【００８７】
《光重合開始剤（Ｅ）》
光重合開始剤（Ｅ）としては、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。また、露光感度を向上させるために、光重合開始剤（Ｅ）とともに増感剤を用いてもよい。
【００８８】
光重合開始剤（Ｅ）としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、カンファーキノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２，２’−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどのカルボニル化合物；
ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド系化合物；
ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィ
ド、トリフェニルホスフィン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン；
エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素と、アスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組み合せが挙げられる。光重合開始剤（Ｅ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８９】
本発明の感光性組成物において、光重合開始剤（Ｅ）は、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）１００重量部に対して、好ましくは１０〜１００重量部、より好ましくは２０〜８０重量部の量で含まれる。光重合開始剤（Ｅ）の含有量が前記範囲を上回ると、焼成後の部材（例：ディスプレイパネル用部材）の形状が劣化することがある。
【００９０】
上記増感剤としては、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。上記増感剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９１】
なお、上記増感剤の中には光重合開始剤（Ｅ）としても作用するものもある。このため、増感剤と光重合開始剤（Ｅ）との組み合せにより、増感剤であるか光重合開始剤（Ｅ）であるかが決定される。
【００９２】
本発明の感光性組成物において、上記増感剤は、光重合開始剤（Ｅ）１００重量部に対して、好ましくは５〜５０重量部、より好ましくは１０〜４０重量部の量で含まれる。上記増感剤の含有量が前記範囲を下回ると、光感度を向上させる効果が発揮されないことがある。上記増感剤の含有量が前記範囲を上回ると、露光部の残存率が小さくなり過ぎることがある。
【００９３】
《溶剤（Ｆ）》
溶剤（Ｆ）は、主として感光性組成物の粘度を調整するために用いられる。溶剤（Ｆ）は有機溶剤であることが好ましい。前記有機溶剤としては、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピネニルアセテート、リモネン、カルベオール、カルビニルアセテート、シトロネロール、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などが挙げられる
溶剤（Ｆ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９４】
溶剤（Ｆ）は、感光性組成物全量に対して、好ましくは１〜５０重量％、より好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは５〜３０重量％の量で含まれる。
【００９５】
《ラジカル捕獲剤（Ｇ）》
ラジカル捕獲剤（Ｇ）は、フェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを含む。このようにフェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを併用することにより、感光性組成物の保存安定性が極めて向上する。
【００９６】
＜フェノール系ラジカル捕獲剤＞
上記フェノール系ラジカル捕獲剤としては、ｐ−メトキシフェノール、ｐ−ヒドロキシスチレン、いわゆるヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤などが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９７】
なお、２つ以上の水酸基が１つのフェニル基に直接結合した有機基を有する化合物（例：ヒドロキノン、ピロガロール）およびそのモノエステル化物（例：ヒドロキノンのモノエステル化物）は、フェノール系ラジカル捕獲剤に含めないものとする。
【００９８】
上記ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤は、ヒンダードフェノール基を好ましくは１個以上、より好ましくは１〜６個有する。本発明において、ヒンダードフェノール基とは、フェノール基中のヒドロキシル基が結合した炭素原子の両側の炭素原子に、炭化水素基が結合した有機基をいう。
【００９９】
上記ヒンダードフェノール基は、好ましくは下記式（１）で表される有機基である。
【０１００】
【化１】
【０１０１】
式（１）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に炭素数１〜８、好ましくは１〜６の炭化水素基を示し、破線は結合手を示す。前記炭化水素基はアルキル基であることが好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる。これらの中では、Ｒ1がメチル基かつＲ2が炭素数１〜８の炭化水素基であることが好ましく、Ｒ1がメチル基かつＲ2が炭素数１〜８のアルキル基であることがより好ましく、Ｒ1がメチル基かつＲ2がtert−ブチル基であることが特に好ましい。
【０１０２】
ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤としては、
２，６−ジtert−ブチル−４−メチルフェノール、
２，６−ジtert−４−エチルフェノール、
エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］（IRGANOX 245）、
２，２−チオ−ジエチレンビス−［３−（３，５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（IRGANOX 1035）、
ベンゼンプロパン酸−３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ，Ｃ７−Ｃ９側鎖アルキルエステル（IRGANOX 1135）、
ジエチル［｛３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル｝メチル］ホスフォネート（IRGANOX 1222）、
ヘキサ−tert−ブチル−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール（IRGANOX 1330）、
１，３，５−トリス（３，５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（IRGANOX 3114）、
トリエチレングリコール−ビス｛３−（３−tert−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、
ペンタエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（IRGANOX 1010、Sumilizer BP-101）、
３，９−ビス［２−｛３−（３−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニロキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（Sumilizer GA-80）、
オクタデシル３−（３，５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（IRGANOX 1076, Sumilizer BP-76）
などが挙げられる（IRGANOXはチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）の登録商標であ
り、Sumilizerは住友化学工業（株）の登録商標である。）。
【０１０３】
上記ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤の中では、他成分との相溶性および重合禁止効果の観点から、２，６−ジtert−ブチル−４−メチルフェノールが好ましい。
【０１０４】
＜ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤＞
上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤としては、ニトロソ基を有するラジカル捕獲剤であれば特に限定されないが、下記式（２）で表される化合物およびその金属塩が好ましい。
【０１０５】
【化２】
【０１０６】
式（２）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に酸素原子、水酸基または炭素数１〜１８、好ましくは２〜１２の炭化水素基を示す。前記炭化水素基としては、メチル基などのアルキル基、フェニル基などの芳香族基などが挙げられる。
【０１０７】
上記式（２）で表される化合物としては、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン、Ｎ−ニトロソジメチルアミン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミンなどが挙げられる。
【０１０８】
また、上記式（２）で表される化合物の金属塩としては、アルミニウム塩などが挙げられ、具体的にはＮ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩などが挙げられる。
【０１０９】
＜他のラジカル捕獲剤＞
本発明において、上記フェノール系ラジカル捕獲剤および上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とともに、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、クロラニール、ピロガロールなどの他のラジカル捕獲剤を用いてもよい。
【０１１０】
上記フェノール系ラジカル捕獲剤および上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤は合計で、上記感光性樹脂成分全量に対して、好ましくは０．１〜１５重量％、より好ましくは０．２〜１０重量％で含まれる。
【０１１１】
また、上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤は、上記フェノール系ラジカル捕獲剤１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜１０重量部、より好ましくは０．０２〜５重量部、特に好ましくは０．０３〜３重量部の量で含まれる。
【０１１２】
上記フェノール系ラジカル捕獲剤および上記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤の含有量が上記範囲にあると、感光性組成物の保存安定性をより一層向上させることができる、あるいは微細パターンを形成することができる。
【０１１３】
《添加剤》
本発明の感光性組成物には、有機系染料からなる紫外線吸収剤、ラジカル捕獲剤（Ｇ）以外の酸化防止剤、密着助剤、溶解促進剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、分散剤、上記無機粒子およびアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の沈降防止剤、レベリング剤などの添加剤を配合してもよい。
【０１１４】
＜紫外線吸収剤＞
本発明の感光性組成物には、有機系染料からなる紫外線吸収剤を配合してもよい。紫外線吸収効果の高い化合物を配合することによって、高アスペクト比、高精細および高解像度のパターンが得られる。
【０１１５】
有機系染料としては、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い紫外線吸収係数を有する有機系染料を好ましく用いることができる。有機系染料の具体例としては、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料が挙げられる。
【０１１６】
有機系染料を使用する場合、有機系染料は、ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の量で含まれる。有機系染料の含有量が前記範囲を下回ると、有機系染料を配合した効果が減少することがある。有機系染料の含有量が前記範囲を上回ると、有機系染料を配合した効果が大きいため、感光性樹脂層の底部まで露光光が届かなくなることがある。このため、パターンを形成できなくなることや成膜強度を保てないことがある。
【０１１７】
＜酸化防止剤＞
本発明の感光性組成物には、保存時におけるアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸化を防ぐために、ラジカル捕獲剤（Ｇ）以外の酸化防止剤を配合してもよい。酸化防止剤としては、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。
【０１１８】
酸化防止剤を使用する場合、該酸化防止剤は、感光性組成物全量に対して、好ましくは０．００１〜１重量％、より好ましくは０．００５〜０．５重量％の量で含まれる。
【０１１９】
＜密着助剤＞
本発明の感光性組成物には、感光性樹脂層とガラス基板などの支持体との密着性を向上させるため、密着助剤を配合してもよい。密着助剤としては、シラン化合物が好適に用いられる。
【０１２０】
シラン化合物としては、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン、
ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシラン、
ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシラン、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシラン、
ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシラン、
ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシラン、
ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシラン、
ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス−［３−（ト
リメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンなどが挙げられる。これらのシラン化合物は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１２１】
密着助剤を使用する場合、密着助剤は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部の量で含まれる。
【０１２２】
＜溶解促進剤＞
本発明の感光性組成物には、後述する現像液への充分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤を配合してもよい。溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用いられる。前記界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、脂肪酸などが挙げられる。
【０１２３】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、ＢＭ ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」；大日本インキ化学工業（株）製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」；住友スリーエム（株）製「フロラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１」；旭硝子（株）製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」などが挙げられる。
【０１２４】
シリコーン系界面活性剤の市販品としては、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」；信越化学工業（株）製「ＫＰ３４１」；新秋田化成（株）製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「同ＥＦ３５２」などが挙げられる。
【０１２５】
ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエ
チレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシアルキレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類などが挙げられる。
【０１２６】
ノニオン系界面活性剤の市販品としては、花王（株）製「エマルゲンＡ−６０」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」；共栄社化学（株）製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」などが挙げられる。
【０１２７】
脂肪酸としては、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸などが挙げられる。
【０１２８】
上記界面活性剤の中では、現像時に未露光部の除去が容易であることから、ノニオン系界面活性剤が好ましく、ポリオキシアルキレンアリールエーテル類がより好ましく、該ポリオキシアルキレンアリールエーテル類の中では、下記式（３）で表される化合物が特に好ましい。
【０１２９】
【化３】
【０１３０】
式（３）中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり；ｐは１〜５
の整数であり；ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり；ｔは１〜１００の整数、好ましくは１０〜２０の整数である。
【０１３１】
溶解促進剤を使用する場合、該溶解促進剤は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部の量で含まれる。溶解促進剤の含有量が前記範囲にあると、後述する現像液への溶解性に優れた感光性組成物が得られる。
【０１３２】
《感光性組成物の調製》
本発明の感光性組成物は、上記各成分を所定の組成比となるように調合し、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製される。本発明の感光性組成物は、ペースト状、固体状、液体状など何れの形状の組成物でも構わないが、成形性などの観点から、ペースト状の組成物であることが好ましい。例えば、感光性組成物の粘度は、１００〜５０００００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）であることが好ましい。なお、感光性組成物の粘度は、上記無機粒子、溶剤（Ｆ）、増粘剤、可塑剤および沈殿防止剤などの配合量によって適宜調整することができる。
【０１３３】
〔パターン形成方法〕
本発明のパターン形成方法は、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程（感光性樹脂層形成工程）、該感光性樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該感光性樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含む。また、前記感光性樹脂層形成、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃の加熱工程を導入してもよい。
【０１３４】
＜感光性樹脂層形成工程＞
本工程では、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する。感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、（i）上記感光性組成物を基板上に塗布して塗膜を
形成し、該塗膜を乾燥させて形成する方法、（ii）上記感光性組成物を支持フィルム上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて得られる感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いて、基板上に該樹脂層を転写する方法などが挙げられる。
【０１３５】
（i）上記感光性組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく、かつ均一
性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコータによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法、スクリーン印刷装置によるスクリーン印刷法が挙げられる。
【０１３６】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤（Ｆ）の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、乾燥温度が５０〜１５０℃、乾燥時間が０．５〜６０分程度である。
【０１３７】
感光性樹脂層の膜厚は、好ましくは３〜３００μｍ、より好ましくは５〜２００μｍである。なお、感光性組成物の塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す。）の感光性樹脂層を有する積層体を形成してもよい。
【０１３８】
（ii）上記感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いた転写工程の一例を以下に示す。基板と感光性樹脂層とが接するように、基板と転写フィルムとを重ね合わせ、該転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、該樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板上に感光性樹脂層が転写されて密着した状態となる。
【０１３９】
上記支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムを形成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどが挙げられる。
【０１４０】
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が１０〜２００℃、加熱ローラによるロール圧が０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分で
ある。また、上記基板は予熱されていてもよく、その予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【０１４１】
上記基板としては、ガラス、セラミック、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材などが挙げられる。これらの中では、耐熱性を有するガラス基板が好ましい。
【０１４２】
＜露光工程＞
本工程では、上記感光性樹脂層形成工程により基板上に感光性樹脂層を形成した後、露光装置を用いて露光を行う。具体的には、露光用マスクを介して、紫外線などの露光光を選択的に感光性樹脂層に照射して、該樹脂層にパターンの潜像を形成する。
【０１４３】
露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を採用することができる。フォトマスクの露光パターンは、目的によって異なるが、例えば１０〜５００μｍ幅のストライプまたは格子である。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
【０１４４】
露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機などを用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性樹脂層を形成した後に、これを搬送しながら露光することによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【０１４５】
露光光としては、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中では紫外線が好ましい。紫外線の光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが挙げられる。これらの中では超高圧水銀灯が好ましい。
【０１４６】
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、例えば１〜１００ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧
水銀灯を用いて０．０５〜１分間露光を行う。この場合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上させることができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上させることができる。
【０１４７】
＜現像工程＞
本工程では、上記露光後、露光部と非露光部との現像液に対する溶解度差を利用して、感光性樹脂層を現像してパターンを形成する。現像方法（例：浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法）および現像処理条件（例：現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度）などは、感光性樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
【０１４８】
現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【０１４９】
現像工程で用いられる現像液としては、感光性樹脂層中にアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）が存在するため、アルカリ水溶液などのアルカリ現像液を使用できる。また、感光性樹脂層中の有機物質を溶解可能な有機溶剤も使用できる。なお、前記有機溶剤にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。
【０１５０】
上記感光性樹脂層には上記無機粒子が含まれている。上記無機粒子はアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）により均一に分散されているため、該樹脂（Ｃ）を現像液で溶解して洗浄することにより、該無機粒子も同時に除去される。
【０１５１】
上記アルカリ水溶液としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ
酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。
【０１５２】
上記アルカリ水溶液のアルカリ濃度は、通常は０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部（未露光部）が除去されず、アルカリ濃度が高すぎるとパターンを剥離するおそれ、あるいは非可溶部（露光部）を腐食するおそれがある。
【０１５３】
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常は水洗処理が施される。
【０１５４】
＜焼成工程＞
本工程では、現像工程により形成されたパターンに含まれる有機物質を焼失させるために、焼成炉にて該パターンを焼成処理する。
【０１５５】
焼成雰囲気は、感光性組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【０１５６】
焼成処理条件は、パターン中の有機物質が焼失することが必要であるため、通常は、焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間程度である。例えば、ガラス基板上にパターンを形成する場合は、焼成温度が３５０〜６００℃、焼成時間が１０〜６０分程度である。
【０１５７】
〔電極の製造方法〕
本発明の電極の製造方法は、上記感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする。ここで、前記パターン形成は、〔パターン形成方法〕の欄に記載した方法を採用できる。特に、本発明の電極の製造方法を用いることにより、ＰＤＰ用電極を好適に製造にすることができる。
【０１５８】
また、上記パターン形成方法を用いることにより、ディスプレイパネル（例：ＦＰＤ）の電極以外の部材、電子部品の高度実装材料の部材（例：回路パターン）および太陽電池の部材（例：配線パターン）を形成することができる。
【実施例】
【０１５９】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【０１６０】
まず、物性の測定方法および評価方法について説明する。
【０１６１】
〔フレーク状アルミニウム粉末のリーフィング価〕
ＪＩＳ Ｋ５９０６に記載の方法に従って、フレーク状アルミニウム粉末のリーフィング価を測定した。なお、実施例および比較例で用いたフレーク状アルミニウム粉末は、全てオレイン酸による処理がなされたものである。
【０１６２】
〔５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）の測定方法〕
レーザー回折式粒度分布測定装置（島津製作所（株）製「ＳＡＬＤ−２０００Ｊ」）を用いて、アルミニウム粉末およびガラス粉末の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）を測定した。
【０１６３】
〔アルミニウム粉末の平均厚さの測定方法〕
電子顕微鏡装置（ＳＥＭ、日立テクノロジー（株）製「Ｓ−４３００」）を用いて、アルミニウム粉末１００個の厚さを測定し、これらの平均値をアルミニウム粉末の平均厚さとした。
【０１６４】
〔軟化点の測定方法〕
示差走査熱量計（ＤＳＣ）（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製「２９１０、モジュレイテッドＤＳＣ」）を用いて、ガラス粉末の軟化点を測定した。
【０１６５】
〔ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎの測定方法〕
アルカリ可溶性樹脂のＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー（株）製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。なお、ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー（株）製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒、測定温度４０℃の条件で行った。
【０１６６】
〔保存安定性の評価方法〕
実施例および比較例で得られたペースト状の感光性組成物２０ｇを３０ｍＬポリプロピレン容器に投入して、該容器を窒素ガスでパージした後に閉め、４０℃の条件下で２週間エージングし、該感光性組成物がゲル化しているか否か（ゲル化した場合には、ゲル化するまでの日数）の評価を行った。ここで、ゲル化とはペーストの固化を意味する。
【０１６７】
〔体積抵抗の測定方法〕
実施例および比較例で得られた感光性組成物を、ガラス基板上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を焼成することにより、該ガラス基板上に膜厚５μｍの焼成膜を形成した。次に、ＮＰＳ社製の「Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ Ｐｒｏｃｃｅｓｓｏｒ ＭｏｄｅｌΣ−５」を用いて、前記焼成膜の体積抵抗（μΩ・ｃｍ）を測定した。
【０１６８】
〔現像後および焼成後のパターンの評価方法〕
実施例および比較例で得られた現像後および焼成後の試験片を切断して、パターン切断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察して、パターンの幅および高さを計測し、それぞれを下記基準で評価した。なお、所望の規格は、パターンの幅が１００μｍ、高さが５μｍ、間隔が１００μｍである。
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格から±５％以内のもの。
Ｃ：所望の規格から±５％を超えて±２０％以内のもの。
Ｄ：所望の規格から±２０％を超えるもの。
【０１６９】
〔焼成後のパターン密着性の評価方法〕
実施例および比較例で得られた焼成後の試験片を用いて、パターンと支持体であるガラス基板との密着性を、以下のように評価した。加熱ローラを用いて、セロテープ（登録商標）（ニチバン社製）を、ガラス基板のパターン形成面に熱圧着した。熱圧着条件は、加熱ローラの表面温度を２３℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．
５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板のパターン形成面にセロテープ（登録商標）が転写されて、ガラス基板とセロテープ（登録商標）とが密着した状態となった。このセロ
テープ（登録商標）をガラス基板から剥離することで、パターン密着性を下記基準で評価した。
○：パターン剥れなし。
×：パターン剥れあり。
【０１７０】
〔合成例１〕
ｎ−ブチルメタクリレート４０部、２−エチルヘキシルメタクリレート３０部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１．０部、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）（堺化学工業（株）製）２部、テキサノール１５０部を攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、これらが均一に分散するまで攪拌した。
【０１７１】
次に、上記モノマーを８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合させた後、室温まで冷却して、ＳＨ基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）の重合率は９９％であり、重量平均分子量は２５０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８）であった。
【０１７２】
〔合成例２〕
ｎ−ブチルメタクリレート４０部、２−エチルヘキシルメタクリレート３０部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１．０部、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）（堺化学工業（株）製）２部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５０部を攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、これらが均一に分散するまで攪拌した。
【０１７３】
次に、上記モノマーを８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合させた後、室温まで冷却して、ＳＨ基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｃ２）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（Ｃ２）の重合率は９９％であり、重量平均分子量は２２０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８）であった。
【０１７４】
〔感光性樹脂成分の調製〕
表３に示す組成の感光性樹脂成分（１）〜（１１）を調製した。
【０１７５】
【表１】
【０１７６】
【表２】
【０１７７】
【表３】
【０１７８】
［実施例１］
表１に示すアルミニウム粉末Ａ１（３０ｇ）、表２に示すガラス粉末Ｂ１（５ｇ）および表３に示す感光性樹脂成分（１）（６５ｇ）を混練機で混練して、感光性組成物を調製した。前記感光性組成物を用いて、上記方法に従い、保存安定性および体積抵抗を評価・測定した。評価・測定結果を表４に示す。
【０１７９】
３２５メッシュのスクリーンを用いて、上記感光性組成物を試験片（ガラス基板、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×１．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさでベタに印刷し、８０℃で２０分間保持して乾燥し、感光性樹脂層を形成した。なお、感光性樹脂層の膜厚は、５μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１８０】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅１００μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、上記感光性樹脂層を上面から紫外線露
光した。露光量は３００ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１８１】
次に、露光後の感光性樹脂層に、２３℃に保持した０．５％炭酸ナトリウム水溶液をシャワーで６０秒間かけ、該感光性樹脂層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、未露光部を除去して、ガラス基板上にネガ型クロムマスクに対応する硬化パターンを形成した。上記評価方法に従い、この現像後の硬化パターンを評価した。評価結果を表４に示す。
【０１８２】
次に、上記硬化パターンを５８０℃で３０分間焼成して、電極パターンを形成した。上記評価方法に従い、この焼成後の電極パターンを評価した。評価結果を表４に示す。
【０１８３】
［実施例２〜１２、参考例１〜２、比較例１〜５］
実施例１において、表４に示す組成の感光性組成物を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。評価・測定結果を表４に示す。
【０１８４】
［実施例１３］
実施例１において、表１に示すアルミニウム粉末Ａ２に金メッキ処理がなされた粉末（メッキ膜厚：１００ｎｍ）（３０ｇ）、表２に示すガラス粉末Ｂ１（５ｇ）および表３に示す感光性樹脂成分（１）（６５ｇ）を混練機で混練して、感光性組成物を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。評価・測定結果を表４に示す。
【０１８５】
【表４】
【符号の説明】
【０１８６】
１０１ ガラス基板
１０２ ガラス基板
１０３ 背面隔壁
１０４ 透明電極
１０５ バス電極
１０６ アドレス電極
１０７ 蛍光体
１０８ 誘電体層
１０９ 誘電体層
１１０ 保護層
１１１ 前面隔壁
２０１ ガラス基板
２０２ ガラス基板
２０３ 絶縁層
２０４ 透明電極
２０５ エミッタ
２０６ カソード電極
２０７ 蛍光体
２０８ ゲート
２０９ スペーサ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機粒子と感光性樹脂成分とからなる感光性組成物であって、
前記無機粒子が、（Ａ）アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選ばれる１種以上の金属粉末を含み、前記感光性樹脂成分が、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｅ）光重合開始剤、（Ｆ）溶剤および（Ｇ）ラジカル捕獲剤を含み、
前記金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであり、前記ラジカル捕獲剤（Ｇ）がフェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを含むことを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項２】
前記フェノール系ラジカル捕獲剤が、ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤、ｐ−メトキシフェノールおよびｐ−ヒドロキシスチレンから選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項３】
前記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤が、前記フェノール系ラジカル捕獲剤１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部の量で含まれることを特徴とする請求項１または２に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項４】
前記フェノール系ラジカル捕獲剤および前記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤が合計で、前記感光性樹脂成分全量に対して０．１〜１５重量％の量で含まれることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項５】
前記無機粒子がガラス粉末（Ｂ）をさらに含み、
前記ガラス粉末（Ｂ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜５．０μｍであり、前記ガラス粉末（Ｂ）の最大粒子径（Ｄmax）が３０μｍ以下である
ことを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項６】
前記ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が３００〜７００℃であり、
前記ガラス粉末（Ｂ）が感光性組成物全量に対して０．５〜２０重量％の量で含まれることを特徴とする請求項５に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項７】
前記金属粉末（Ａ）が、感光性組成物全量に対して２０〜７０重量％の量で含まれることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項８】
請求項１〜７の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする電極の製造方法。
【請求項１】
無機粒子と感光性樹脂成分とからなる感光性組成物であって、
前記無機粒子が、（Ａ）アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選ばれる１種以上の金属粉末を含み、前記感光性樹脂成分が、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｅ）光重合開始剤、（Ｆ）溶剤および（Ｇ）ラジカル捕獲剤を含み、
前記金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであり、前記ラジカル捕獲剤（Ｇ）がフェノール系ラジカル捕獲剤とニトロソ基含有ラジカル捕獲剤とを含むことを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項２】
前記フェノール系ラジカル捕獲剤が、ヒンダードフェノール系ラジカル捕獲剤、ｐ−メトキシフェノールおよびｐ−ヒドロキシスチレンから選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項３】
前記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤が、前記フェノール系ラジカル捕獲剤１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部の量で含まれることを特徴とする請求項１または２に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項４】
前記フェノール系ラジカル捕獲剤および前記ニトロソ基含有ラジカル捕獲剤が合計で、前記感光性樹脂成分全量に対して０．１〜１５重量％の量で含まれることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項５】
前記無機粒子がガラス粉末（Ｂ）をさらに含み、
前記ガラス粉末（Ｂ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜５．０μｍであり、前記ガラス粉末（Ｂ）の最大粒子径（Ｄmax）が３０μｍ以下である
ことを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項６】
前記ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が３００〜７００℃であり、
前記ガラス粉末（Ｂ）が感光性組成物全量に対して０．５〜２０重量％の量で含まれることを特徴とする請求項５に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項７】
前記金属粉末（Ａ）が、感光性組成物全量に対して２０〜７０重量％の量で含まれることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項８】
請求項１〜７の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする電極の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１０−２４３８１６（Ｐ２０１０−２４３８１６Ａ）
【公開日】平成２２年１０月２８日（２０１０．１０．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−９２８０５（Ｐ２００９−９２８０５）
【出願日】平成２１年４月７日（２００９．４．７）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月２８日（２０１０．１０．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年４月７日（２００９．４．７）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
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