イオン発生装置及び美容装置
【課題】高圧発生部から発生した磁気ノイズに起因した誤作動を抑制することができるイオン発生装置及び美容装置を提供する。
【解決手段】美容装置１０は、放電によってイオンを生成する放電部を有するイオン生成機構１１と、装置全体の制御を司る電力制御部２０と、電力制御部２０からの指令に基づき、放電部に印加する高電圧を発生する高圧発生回路２６と、放電部で発生したイオンをハウジング４１外に放出させるための放出部４４とを備えている。そして、電力制御部２０は、第１の基板２１に設けられると共に、高圧発生回路２６は、第１の基板２１とは異なる位置に配置された第２の基板２７に設けられている。
【解決手段】美容装置１０は、放電によってイオンを生成する放電部を有するイオン生成機構１１と、装置全体の制御を司る電力制御部２０と、電力制御部２０からの指令に基づき、放電部に印加する高電圧を発生する高圧発生回路２６と、放電部で発生したイオンをハウジング４１外に放出させるための放出部４４とを備えている。そして、電力制御部２０は、第１の基板２１に設けられると共に、高圧発生回路２６は、第１の基板２１とは異なる位置に配置された第２の基板２７に設けられている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放電によって発生したイオンを外部に放出するイオン発生装置及びこれを備える美容装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、発生したイオンを外部に放出するイオン発生装置として、水などの液体をイオン化させて放出する装置が知られている。こうしたイオン発生装置は、放電部と、該放電部に液体を供給するための液体供給部とを備えている。そして、放電部に高圧発生部で発生した高電圧に基づいた駆動信号が入力されると、放電部を構成する放電電極の周りでコロナ放電が発生する。すると、放電部では、液体供給部から供給された液体がイオン化され、ナノサイズの微粒子液であるミストが生成される。そして、こうしたミストは、送風ファン（送風部）の駆動によって放出部から放出される。
【０００３】
特許文献１には、イオン発生装置を備える美容装置の一例が開示されている。この美容装置のハウジング内には、有底略四角筒状の支持部材が、所定方向に延びる軸線を中心に回動可能な状態で設けられている。この支持部材は、放電部、液体供給部、送風ファン及び放出部を備えるイオン放出ユニットを支持している。また、支持部材は、イオン放出ユニットを支持する側の反対側で、上記高圧発生部及び美容装置全体を制御する電力制御部などが実装された制御基板を支持している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−３８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、近年では、美容装置の更なる小型化が望まれている。しかしながら、高圧発生部及び電力制御部を同一の制御基板に実装する構成では、以下に示す問題が発生し得る。すなわち、高圧発生部からは、高電圧の発生に伴った大きな磁気ノイズが発生する。そのため、高圧発生部に近い位置に配置される電力制御部が高圧発生部で発生した磁気ノイズの影響を大きく受け、イオン放出ユニット（特に、放電部）が誤作動するおそれがある。
【０００６】
高圧発生部からの磁気ノイズの影響に起因したイオン放出ユニットの誤作動を抑制するためには、電力制御部にノイズフィルタを設けるなどのノイズ対策を行う必要がある。この場合には、電力制御部の部品点数が増加したり回路が複雑化したりすることで、制御基板の小型化が困難になる。つまり、特許文献１に記載の美容装置には、小型化を図る点で改善の余地がある。
【０００７】
なお、こうした問題は、例えばコロナ放電によってマイナスイオンやプラスイオンを放出するイオン発生装置でも同様に発生し得る。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、高圧発生部から発生した磁気ノイズに起因した誤作動を抑制することができるイオン発生装置及び美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明のイオン発生装置は、放電によってイオンを生成する放電部と、装置全体の制御を司る電力制御部と、前記電力制御部からの指令に基づき、前記放電部に印加する高電圧を発生する高圧発生部と、前記放電部で発生したイオンをハウジング外に放出させるための放出部と、を備え、前記電力制御部を第１の基板に設けると共に、該第１の基板とは異なる位置に配置された第２の基板に前記高圧発生部を設けることを要旨とする。
【０００９】
本発明のイオン発生装置において、前記放出部は、前記第１の基板と前記第２の基板とが並ぶ方向において当該各基板の間の位置に配置されていることが好ましい。
本発明のイオン発生装置において、前記電力制御部には、制御対象との間で信号の入力又は出力を行うための信号線が電気的に接続されており、前記高圧発生部は、その大部分が前記ハウジング内において中央よりも一方側に位置するように配置され、前記信号線は、前記ハウジング内において前記高圧発生部よりも他方側を通って前記制御対象に設けられた接続部位まで延びていることが好ましい。
【００１０】
本発明のイオン発生装置において、前記放電部は、前記高圧発生部で発生された高電圧に基づいた駆動信号が高圧放電線を介して入力されることにより放電するようになっており、前記高圧放電線は、前記高圧発生部から前記第２の基板における一方側を通って前記放電部まで延び、前記信号線は、前記第２の基板における他方側を通って前記制御対象の前記接続部位まで延びていることが好ましい。
【００１１】
本発明のイオン発生装置は、前記信号線が前記高圧発生部に接近することを規制するための規制手段をさらに備えることが好ましい。
本発明のイオン発生装置において、前記規制手段は、前記高圧発生部と前記信号線との間に配置される規制壁を有することが好ましい。
【００１２】
本発明のイオン発生装置において、前記規制壁は、磁気ノイズをシールドする機能を有することが好ましい。
本発明のイオン発生装置において、前記放電部の少なくとも一部は、前記各基板の並ぶ方向において前記高圧発生部と同一位置に位置しており、前記高圧放電線は、その延びる方向が前記信号線の延びる方向と交差するように配線されていることが好ましい。
【００１３】
本発明のイオン発生装置において、前記電力制御部には、複数の前記信号線が接続されており、前記各信号線は、一つに束ねられていることが好ましい。
本発明のイオン発生装置は、前記各基板が並ぶ方向において前記第２の基板を挟んで前記第１の基板の反対側に配置され、外部電源から電力を入力させるための電源ケーブルが接続される電源接続部を備え、前記電力制御部には、前記電源接続部から電源線を介して電力が供給されるようになっており、前記電源線は、前記第２の基板における他方側を通って前記電源接続部から前記電力制御部まで延びていることが好ましい。
【００１４】
本発明のイオン発生装置は、前記放電部に液体を供給する液体供給部と、前記第２の基板に設けられ、且つ前記液体供給部を駆動させるための電圧を発生する電力発生部と、をさらに備え、前記液体供給部は、前記電力発生部で発生した電圧に基づいた駆動信号が供給用電線を介して入力されることにより駆動するようになっており、前記供給用電線は、前記第２の基板から該第２の基板の他方側を通って前記液体供給部まで延びていることが好ましい。
【００１５】
本発明のイオン発生装置において、前記液体供給部の少なくとも一部は、前記各基板の並ぶ方向において前記高圧発生部と同一位置に位置しており、前記供給用電線は、その延びる方向が前記信号線の延びる方向と交差するように配線されていることが好ましい。
【００１６】
本発明のイオン発生装置は、前記電力制御部からの指令に基づき、風を発生させるための送風部と、前記送風部で発生した風を前記放電部まで導く送風経路を有する送風用ケースと、を備え、前記各基板は、前記送風用ケースに隣り合うように配置されていることが好ましい。
【００１７】
本発明の美容装置は、上記イオン発生装置を備えることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、高圧発生部から発生した磁気ノイズに起因した誤作動を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のイオン発生装置を備える美容装置の一実施形態の概略構成を示すブロック図。
【図２】（ａ）は本実施形態の美容装置の背面図、（ｂ）は美容装置の正面図。
【図３】図２（ｂ）の３−３線矢視断面図。
【図４】（ａ）（ｂ）はハウジングが支持台に対して回動する様子を示す側面図。
【図５】（ａ）（ｂ）は支持台の内部構成を示す断面図。
【図６】電源線が延びる様子を示す斜視図。
【図７】ハウジング内の内部構成を示す平面図。
【図８】イオン生成機構の構成を示す側断面図。
【図９】ハウジング内の内部構成を示す平面図。
【図１０】高圧放電線及び供給用電線が配線される様子を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図１０に従って説明する。
まず始めに、イオン発生装置の一例としての美容装置の概略構成について図１を参照して説明する。
【００２１】
図１に示すように、美容装置１０は、イオンを発生するイオン生成機構１１と、該イオン生成機構１１で発生したイオンを外部に放出させるべく駆動する送風部１２とを備えている。イオン生成機構１１には、高電圧が印加されることによりコロナ放電を発生させる放電部１３と、該放電部１３に液体としての水を供給する液体供給部としてのペルチェ素子１４とが設けられている。そして、放電部１３は、供給された水をコロナ放電によって静電霧化し、ミストを生成する。
【００２２】
送風部１２には、イオン生成機構１１に向けて風を送るべく駆動するファン１２ａが設けられている。そして、イオン生成機構１１で生成されたミストは、ファン１２ａからの風と共に美容装置１０外に放出される。なお、ここでいう「ミスト」とは、直径が数ｎｍ〜数百ｎｍの大きさのミストであって、人体の肌における角質層表面の隙間に浸透することによって肌に潤いとハリを与える効果を発現するものである。
【００２３】
また、美容装置１０に設けられる制御装置１５は、商用電源などの外部電源１６から延びる電源ケーブル１７が接続される電源接続部１８と、電源接続部１８から電源線１９を介して供給された電力に基づき、美容装置１０全体の制御を司る電力制御部２０とを備えている。この電力制御部２０は、第１の基板２１に設けられており、電源接続部１８から電源線１９を介して供給された電力が入力される電力入力部２２と、図示しないＣＰＵ及びメモリなどで構築されるマイクロコンピューター２３とを有している。電力入力部２２は、入力された電圧（直流電圧）を制御系の直流電圧に変換し、変換後の直流電圧をマイクロコンピューター２３に出力する。
【００２４】
マイクロコンピューター２３には、美容装置１０を駆動させる際及び停止させる際に操作される操作部としてのスイッチ２４が電気的に接続されている。そして、マイクロコンピューター２３のＣＰＵは、スイッチ２４がオン操作された場合には美容装置１０を駆動させるべく、上記メモリに記憶されるプログラムを実行する。すると、マイクロコンピューター２３からは、制御対象であるペルチェ駆動回路（電力発生部）２５、高圧発生回路（高圧発生部）２６及び送風部１２に向けて制御指令がそれぞれ出力される。また、スイッチ２４がオン操作されてから所定時間（例えば、８時間）が経過した場合、及びスイッチ２４がオフ操作された場合、マイクロコンピューター２３のＣＰＵがプログラムの実行を中止し、美容装置１０が停止される。
【００２５】
ペルチェ駆動回路２５及び高圧発生回路２６は、第１の基板２１とは異なる位置に配置される第２の基板２７に実装されている。ペルチェ駆動回路２５は、電力制御部２０から入力された信号に基づき、ペルチェ素子１４を駆動させるために必要な電圧を発生させるための回路である。そして、ペルチェ駆動回路２５で発生された電圧に基づいた駆動信号は、供給用電線２８を介してペルチェ素子１４に入力される。また、高圧発生回路２６は、電力制御部２０から入力された信号に基づき、放電部１３に印加させるために必要な高電圧を発生させるための回路である。そして、高圧発生回路２６で発生された高電圧に基づいた駆動信号は、高圧放電線２９を介して放電部１３に入力される。なお、放電部１３に印加する高電圧は、ペルチェ素子１４に印加する電圧よりも大きい。
【００２６】
本実施形態では、マイクロコンピューター２３と制御対象とは、制御指令に基づいた指令信号をマイクロコンピューター２３から制御対象に出力させるための信号線３０Ａ、及び制御対象の動作状態を示す信号をマイクロコンピューター２３に入力させるための信号線３０Ｂとで電気的に接続されている。なお、以降の記載において各信号線３０Ａ，３０Ｂをまとめて単に「信号線３０」というものとする。
【００２７】
次に、美容装置１０の具体的に構成について説明する。なお、以下の説明において、「前後方向」、「左右方向」、「上下方向」をいう場合には、図中における矢印に示す方向を示すものとする。
【００２８】
図２（ａ）（ｂ）に示すように、美容装置１０は、設置面Ｇｎｄ上に設置される支持台４０と、該支持台４０に回動可能に支持される楕円体状のハウジング４１とを備えている。このハウジング４１は、後側が開口する前側ハウジング４２と、前側が開口する後側ハウジング４３とを有している。そして、互いの開口同士を閉塞し合うように前側ハウジング４２に対して後側ハウジング４３を組み付けることにより、ハウジング４１が構成される。
【００２９】
前側ハウジング４２の上側には、ハウジング４１内で発生したミストを放出させるための放出部４４がハウジング４１内外を連通させるように形成されている。本実施形態では、放出部４４は、ハウジング４１の上下方向における中央よりも上側（即ち、支持台４０から離れた位置）に配置されている。
【００３０】
また、後側ハウジング４３の頂点（最上端）を含む頂部４５には、上記スイッチ２４が設けられている。つまり、スイッチ２４は、ハウジング４１において設置面Ｇｎｄ（即ち、支持台４０）から最も離れた位置に配置されている。なお、「頂部４５」とは、ハウジング４１において放出部４４よりも上側に設定された領域である。
【００３１】
図３に示すように、ハウジング４１の下部には、ハウジング４１内外を連通させる開口部４６が形成されている。そして、この開口部４６を介して支持台４０の一部分がハウジング４１内に収容される。
【００３２】
支持台４０は、略円板をなす脚部５０と、該脚部５０に支持されるハウジング支持部５１とを備えている。そして、支持台４０は、ハウジング支持部５１の大部分をハウジング４１内に配置させた状態で支持している。脚部５０には、脚部５０の下面５０ａと設置面Ｇｎｄとの接触を回避するためのゴム製の緩衝部材５２が設けられている。また、脚部５０の径方向中央には、上下方向に延びる連通孔５３が形成されている。この連通孔５３は、ハウジング４１内と連通している。そして、連通孔５３は、その下端から外部の空気を取り入れ、該空気をハウジング４１内に導くことが可能となっている。
【００３３】
ハウジング支持部５１は、脚部５０に一体化されており、該脚部５０の径方向中央から上方に延びるように構成されている。こうしたハウジング支持部５１は、下端から上端に向けて広がるように形成されている。具体的には、ハウジング支持部５１の外側面は、球面状をなしている。また、ハウジング支持部５１の下端の前後方向における幅Ｈ１は、ハウジング４１の開口部４６の前後方向における幅Ｈ２よりも狭い。そのため、図４（ａ）（ｂ）に示すように、ハウジング４１は、前後方向に直交する左右方向に延びる回転軸線Ｓ１（図５（ｂ）参照）を中心に、支持台４０（ハウジング支持部５１）に対して回動可能となっている。
【００３４】
また、図３及び図５（ａ）（ｂ）に示すように、脚部５０の後端には、電源ケーブル１７の接続端子１７ａが接続される電源接続部１８が配置されている。この電源接続部１８は、接続端子１７ａが接続されるコネクタ５５を備えている。また、電源接続部１８には、電力を電力制御部２０に供給するために設けられた複数本（本実施形態では２本）の電源線１９が電気的に接続されている。これら各電源線１９は、図５（ａ）（ｂ）及び図６に示すように、脚部５０内の後側から中央まで延び、該中央から連通孔５３内を通ってハウジング支持部５１内に進入し、ハウジング４１内の上方まで延びている。
【００３５】
また、各電源線１９において連通孔５３内に位置する部分は、図５（ａ）（ｂ）に示すように、連通孔５３を構成する内側面５３ａに設けられた第１の固定部６０によって固定されている。同様に、各電源線１９においてハウジング支持部５１内に位置する部分は、該ハウジング支持部５１の内側面５１ａに設けられた第２の固定部６１によって固定されている。本実施形態では、第２の固定部６１は２つ設けられている。各第２の固定部６１のうち上側に位置する第２の固定部６１は、ハウジング支持部５１の上端近傍に配置されている。そのため、電源線１９においてハウジング支持部５１内に位置する部分は、ハウジング４１が支持台４０に対して回動しても変位しない。したがって、本実施形態では、第２の固定部６１が、電源線１９においてハウジング支持部５１内に位置する部分を該ハウジング支持部５１の内側面（内面）５１ａに固定させるための固定部として機能する。
【００３６】
本実施形態において、各電源線１９の長さ及び太さは、以下に示す条件を満たすように設定されている。すなわち、電源ケーブル１７の接続端子１７ａをユーザーがコネクタ５５に接続させる場合、該ユーザーの指と支持台４０との間で静電気が発生し、該静電気に基づいた外乱ノイズが各電源線１９を流れる信号に重畳することがある。この際に発生し得る静電気の大きさは「数ｋＶ」以上であると推定される。
【００３７】
ここで、もし仮に電源線１９のインピーダンスが小さいと、電力制御部２０には、外乱ノイズがほとんど減衰されることなく入力される。こうした外乱ノイズの減衰量は、電源接続部１８から電力制御部２０までの電力供給経路のインピーダンスが大きいほど多くなる。そこで、本実施形態では、電源線１９のインピーダンスは、該電源線１９を入力された外乱ノイズを十分に減衰させる程度の値に設定される。つまり、上記電力供給経路のインピーダンスが、電源ケーブル１７の接続端子１７ａを電源接続部１８に接続する際に発生し得る静電気に起因した電気的なノイズの影響を抑制すべく設定された規定値（例えば、１０ｍΩ）以上となるように、電源線１９の長さ及び太さが設定されている。
【００３８】
ただし、電源線１９のインピーダンスを大きくし過ぎると、電源線１９での通電ロスに起因した電力不足や電源線１９での発熱量の増大などが発生するおそれがある。そこで、電源線１９のインピーダンスの上限値（例えば、１Ω）が設定されている。本実施形態では、電源線１９のインピーダンスは、「１０ｍΩ」〜「１Ω」の間の値（例えば、０．５Ω）に設定されている。
【００３９】
なお、インピーダンスは、線の長さを長くするほど大きくなると共に、線の細さを細くするほど大きくなる。そのため、本実施形態で使用される電源線１９は、比較的細い線を用いている。しかし、電源線１９の線を細くするほど、該電源線１９に流れる信号には、美容装置１０内で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号が重畳されやすくなる。そこで、本実施形態では、各電源線１９は、他の線（信号線３０、高圧放電線２９及び供給用電線２８）とは別に一つに束ねられている。これにより、ハウジング４１内で発生した磁気ノイズに基づいた各電源線１９での電圧の誘起が抑制される。
【００４０】
次に、ハウジング４１内の内部構成について説明する。
図３に示すように、ハウジング４１内において連通孔５３の直上位置には、上方に向けて風を送るための送風部１２が設けられている。送風部１２を構成するファン１２ａは、連通孔５３を介してハウジング４１外の空気を取り込んで上方に送り出している。このファン１２ａの上側には、該ファン１２ａからの風を上方に案内するための送風経路６５を内部に有する送風用ケース６６が設けられている。送風経路６５は、送風部１２から該送風部１２の後斜め上方に位置するイオン生成機構１１まで延びる第１の経路６５ａと、イオン生成機構１１から該イオン生成機構１１の前斜め上方に位置する放出部４４まで延びる第２の経路６５ｂとを有している。
【００４１】
また、設置面Ｇｎｄに直交する方向でもある上下方向において送風部１２と放出部４４との間には、第２の基板２７が支持部材Ａを介して送風用ケース６６に支持された状態で配置されている。この第２の基板２７は、送風用ケース６６との間に空間６７を介在させた状態で該送風用ケース６６と隣り合っている。そして、この空間６７には、ファン１２ａから発生した風の一部が上方に向けて通過する。また、図７に示すように、第２の基板２７に設けられた高圧発生回路２６の大部分は、ハウジング４１内の左右方向（直交方向）における中央を示す中央線Ｓ２よりも左側（一方側）に位置している。別の観点から見ると、高圧発生回路２６は、その右端と第２の基板２７における右端との間の間隔が所定間隔Ｈ３となるように、第２の基板２７に実装されている。
【００４２】
また、第２の基板２７に実装されるペルチェ駆動回路２５は、左右方向において中央線Ｓ２よりも右側に位置すると共に、供給用電線２８が接続されるコネクタ７０は、第２の基板２７内の右上部分に設けられている。さらに、電力制御部２０から延びている各信号線３０が接続されるコネクタ（接続部位）７１は、第２の基板２７の下側（詳しくは、右下側）に設けられている。
【００４３】
図３に示すように、送風用ケース６６の上側には、第１の基板２１が支持部材Ｂを介して送風用ケース６６に支持された状態で配置されている。この第１の基板２１は、その実装面が送風経路６５を構成する第２の経路６５ｂに沿うように、送風用ケース６６と隣り合っている。こうした第１の基板２１には、図７に示すように、電力制御部２０の左右方向に沿って配置される３つのコネクタ７５，７６，７７が実装されている。各コネクタ７５，７６，７７のうち左側に位置するコネクタ７５には、第２の基板２７の下側に設けられたコネクタ７１に接続される複数本の信号線３０が接続される。また、中央に位置するコネクタ７６には、送風部１２に設けられた図示しないコネクタ（接続部位）に接続された複数本の信号線３０が接続される。さらに、右側に位置するコネクタ（接続部位）７７には、電源接続部１８から延びてきた２本の電源線１９が接続される。
【００４４】
図３に示すように、イオン生成機構１１は、送風用ケース６６の後側に配置されている。詳しくは、イオン生成機構１１は、前後方向において送風部１２よりも後側に配置されている。本実施形態では、イオン生成機構１１の放電部１３の大部分は、上下方向において高圧発生回路２６と同一位置に位置している。また、イオン生成機構１１のペルチェ素子１４全体は、上下方向において高圧発生回路２６と同一位置に位置している。
【００４５】
放電部１３は、図８に示すように、前後方向に延びる針状の第１の電極８０と、該第１の電極８０よりも前側に配置される板状の第２の電極８１とを備えている。そして、各電極８０，８１間に高圧発生回路２６で発生された高電圧が印加されることにより、コロナ放電が発生する。
【００４６】
ペルチェ素子１４は、第１の電極８０の基端部（左端部）に当接している。そして、ペルチェ素子１４は、ペルチェ駆動回路２５で発生された電圧が印加されることにより第１の電極８０を冷却する。その結果、冷却された第１の電極８０の表面には、空気中の水分が結露する。このようにペルチェ素子１４の駆動によって第１の電極８０に供給された水は、放電部１３でのコロナ放電によって、レイリー分裂を起こして静電霧化される。そして、放電部１３で生成されたミストは、ファン１２ａからの風と共に送風経路６５（第２の経路６５ｂ）を通って放出部４４を介してハウジング４１外に放出される。
【００４７】
次に、ハウジング４１内での各線の配線態様について図９及び図１０を参照して説明する。
図９及び図１０に示すように、第２の基板２７の右側には、規制手段としての規制壁８５が設けられている。この規制壁８５は、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）及びＡＢＳ樹脂などの樹脂、又は磁気ノイズをシールドする機能を有するステンレスなどで構成されている。こうした規制壁８５の上端は、第２の基板２７の上端と上下方向において略同一位置に位置すると共に、規制壁８５の下端は、第２の基板２７のコネクタ７１よりも少し上側に位置している。また、規制壁８５の前端８５ａ（図１０における上端）は、第２の基板２７に実装される高圧発生回路２６の先端（図１０における上端）と略同一位置に位置すると共に、規制壁８５の後端は、第２の基板２７の後面２７ａよりも後側に位置している。
【００４８】
第１の基板２１に接続される各信号線３０は、下方に向けてそれぞれ延びている。これら各信号線３０は、第２の基板２７の右斜め上方に位置する束ね部８６によって一つに束ねられている。そして、各信号線３０は、第２の基板２７を右側から迂回するように下方に延びている。つまり、各信号線３０は、ハウジング４１の中央を示す中央線Ｓ２よりも上下方向と直交する左右方向（直交方向）における他方側を通って、即ち規制壁８５の右側を通って下方に延びている。同様に、電源接続部１８から第１の基板２１まで延びる各電源線１９は、第２の基板２７を右側から迂回するように上方に延びている。つまり、各電源線１９は、規制壁８５の右側を通って上方に延び、第１の基板２１に設けられたコネクタ７７に接続されている。
【００４９】
第２の基板２７の右斜め上側に設けられたコネクタ７０からは、ペルチェ素子１４に向けて２本の供給用電線２８が延びている。これら各供給用電線２８は、第２の基板２７のコネクタ７０から規制壁８５の前端８５ａを通り、該規制壁８５の右側に位置する各信号線３０及び各電源線１９を避けるように後側に延び、第２の基板２７よりも後側に位置するペルチェ素子１４に接続されている。つまり、各供給用電線２８は、第２の基板２７の右側（上下方向と直交する左右方向における他方側）を通ってペルチェ素子１４まで延びている。この際、各供給用電線２８の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向（この場合、上下方向）にほぼ直交（交差）している。
【００５０】
また、第２の基板２７からは、放電部１３に向けて高圧放電線２９が延びている。この高圧放電線２９は、高圧発生回路２６から第２の基板２７の左側（上下方向と直交する左右方向における一方側）を通って、第２の基板２７よりも後側に位置する放電部１３まで延びている。こうした高圧放電線２９の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向（この場合、上下方向）にほぼ直交（交差）している。
【００５１】
次に、本実施形態の美容装置１０の作用について説明する。
さて、美容装置１０を利用する際、ユーザーは、電源ケーブル１７の接続端子１７ａを、支持台４０に設けられた電源接続部１８のコネクタ５５に接続する（図３参照）。この際、ユーザーの指などの身体の一部が支持台４０に接触すると、静電気が発生するおそれがある。本実施形態では、電源接続部１８は、設置面Ｇｎｄ（即ち、グランド）に非常に近い。そのため、電源接続部１８と設置面Ｇｎｄとの間のインピーダンスである対地インピーダンスは小さい。その結果、電源接続部１８から第１の基板２１まで延びる各電源線１９には、電源ケーブル１７の電源接続部１８への接続時に発生した静電気に基づいたノイズ成分である外来ノイズが流れる。このとき、もし仮に電源線１９のインピーダンスが上記規定値未満であるとすると、インピーダンスが小さすぎるため、第１の基板２１に実装される電力制御部２０には外来ノイズがほとんど減衰されることなく入力される。
【００５２】
しかし、本実施形態では、電源線１９のインピーダンスが規定値以上の値に設定されている。具体的には、電力制御部２０はハウジング４１内において電源接続部１８から最も離れた位置に配置されると共に、各電源線１９の長さは、電力制御部２０を電源接続部１８に近い位置に配置される場合よりも長めに設定されている（図３参照）。さらに、各電源線１９としては、通常の電源線の太さよりも細い線が用いられている。そのため、各電源線１９に外来ノイズが流れたとしても、電源線１９のインピーダンスは規定値以上であるため、該外来ノイズは十分に減衰された状態で電力制御部２０に入力される。その結果、電源線１９に流れる外来ノイズに基づいた悪影響は抑制される。
【００５３】
また、静電気は、ユーザーが上記スイッチ２４を操作する際にも発生し得る。しかし、本実施形態では、スイッチ２４は、ハウジング４１において設置面Ｇｎｄから最も離れた位置である頂部４５に配置されている（図３参照）。そのため、スイッチ２４と設置面Ｇｎｄとの間のインピーダンスである対地インピーダンスは大きな値となる。この対地インピーダンスは、美容装置１０とユーザーの身体の一部との接触位置（この場合は、スイッチ２４）と、美容装置１０の設置面Ｇｎｄとの距離が長いほど大きな値となる。
【００５４】
ユーザーによるスイッチ２４の操作時に静電気が発生すると、電流は、ユーザーによる美容装置１０の接触部（この場合には、スイッチ２４）から、グランドである設置面Ｇｎｄに向けて流れる。このとき、対地インピーダンスが大きいほど、電流は流れにくい。そのため、本実施形態のように対地インピーダンスが極力大きくなるようにスイッチ２４を配置することにより、ユーザーによるスイッチ２４の操作時に発生する静電気に基づいたノイズ成分である外来ノイズは極力小さくなる。その結果、ユーザーによるスイッチ２４の操作に伴う外来ノイズに基づいた悪影響は抑制される。
【００５５】
そして、ユーザーによってスイッチ２４が操作されると、美容装置１０が駆動し始める。すると、第２の基板２７に設けられた高圧発生回路２６では、高電圧が発生し、該高電圧に基づいた駆動信号が高圧放電線２９を介して放電部１３に入力される。また、ペルチェ駆動回路２５では、ペルチェ素子駆動用の電圧が発生し、該電圧に基づいた駆動信号が供給用電線２８を介してペルチェ素子１４に入力される。すると、イオン生成機構１１でミストが生成され、該ミストは、ファン１２ａから送られる風と共に放出部４４からハウジング４１外に放出される。
【００５６】
この際、高圧発生回路２６では、高電圧の発生に伴い大きな磁気ノイズが発生する。従来のように電力制御部２０を高圧発生回路２６の近くに配置すると、磁気ノイズの悪影響によって、電力制御部２０によって制御されるイオン生成機構１１などが誤作動するおそれがある。この点、本実施形態では、電力制御部２０は、高圧発生回路２６から離れた位置に配置されている。具体的には、電力制御部２０は、上下方向において、放出部４４を挟んで高圧発生回路２６の反対側に位置している。そのため、電力制御部２０は、高圧発生回路２６から離して配置した分、該高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズによる悪影響を受けにくい（図３参照）。すなわち、イオン生成機構１１の誤作動が抑制される。
【００５７】
また、高圧発生回路２６は、その大部分が中央線Ｓ２よりも左側（一方側）に位置するようにハウジング４１内に配置されるのに対し、第１の基板２１に接続される各信号線３０及び各電源線１９は、中央線Ｓ２よりも右側（他方側）に位置している（図７及び図９参照）。そのため、各信号線３０及び各電源線１９に流れる信号には、これら各線を高圧発生回路２６に近い位置に配線される場合と比較して、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号が重畳されにくい。つまり、各信号線３０及び各電源線１９では、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいて電圧が誘起されにくい。
【００５８】
しかも、全ての信号線３０は一つに束ねられていると共に、全ての電源線１９は一つに束ねられている。こうした配線態様にすることにより、各線を一つに束ねない場合と比較して、各信号線３０及び各電源線１９は磁気ノイズに対して強くなる。その結果、各信号線３０及び各電源線１９がばらばらに配線される場合と比較して、各信号線３０及び各電源線１９に流れる信号には、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号がさらに重畳されにくい。
【００５９】
さらにいうと、高圧発生回路２６に接続された高圧放電線２９は、各信号線３０及び各電源線１９が配線された側（即ち、第２の基板２７の右側）とは反対側から放電部１３まで配線されている（図９及び図１０参照）。しかも、高圧放電線２９の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向（即ち、上下方向）とほぼ直交している。そのため、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向と高圧放電線２９の延びる方向がほぼ一致する場合と比較して、各信号線３０及び各電源線１９では、高圧放電線２９に駆動信号が流れることによって電圧が誘起されにくい。つまり、各信号線３０及び各電源線１９に流れる信号には、高圧放電線２９に駆動信号が流れることに起因したノイズ信号が重畳されにくい。
【００６０】
また、本実施形態では、ペルチェ駆動回路２５からペルチェ素子１４に駆動信号を入力させるための供給用電線２８の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向（即ち、上下方向）とほぼ直交している。そのため、各信号線３０及び各電源線１９には、供給用電線２８に駆動信号が流れることによって電圧が誘起されにくい。つまり、各信号線３０及び各電源線１９には、供給用電線２８に駆動信号が流れることに起因したノイズが流れにくい。
【００６１】
したがって、本実施形態の電力制御部２０は、ミストを発生させるために美容装置１０内で発生した磁気ノイズによる悪影響を受けにくい。
美容装置１０の使用中にミストの放出方向を変更すべく、ハウジング４１を支持台４０に対して回動させることがある。この場合、各電源線１９は、支持台４０に各固定部６０，６１によって固定されている（図５参照）。そのため、ハウジング４１の回動に伴って、電源線１９において支持台４０内に位置する部分が、ハウジング支持部５１の内側面５１ａと不必要に接触しない。その結果、固定部６０，６１が設けられない場合と比較して、電源線１９の摩耗が抑制される。
【００６２】
また、ハウジング４１の回動時には、該ハウジング４１内に配線される各種線の位置が変わることがある。例えば、第２の基板２７の右側に位置する各信号線３０及び各電源線１９が高圧発生回路２６に近づこうとする可能性がある。しかし、本実施形態では、第２の基板２７の右側には、規制壁８５が配置されている（図９及び図１０参照）。そのため、各信号線３０及び各電源線１９が高圧発生回路２６に近づくことは、規制壁８５によって規制される。つまり、高圧発生回路２６と各信号線３０及び各電源線１９との間隔は、規制壁８５によって、上記所定間隔Ｈ３以上で維持される。
【００６３】
以上説明したように、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）大きな磁気ノイズを発生する高圧発生回路２６は、電力制御部２０が設けられた第１の基板２１とはハウジング４１内において異なる位置に配置された第２の基板２７に設けられている。そのため、電力制御部２０と高圧発生回路２６とを同一の回路基板に設ける従来の場合と比較して、電力制御部２０を高圧発生回路２６から離して配置することができる分、電力制御部２０は高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズの影響を受けにくくなる。したがって、高圧発生回路２６から発生した磁気ノイズに起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６４】
（２）具体的には、上下方向において電力制御部２０と高圧発生回路２６との間には、放出部４４が配置されている。このように電力制御部２０を高圧発生回路２６から離して配置することにより、高圧発生回路２６から発生した磁気ノイズに起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６５】
（３）高圧発生回路２６の大部分は、上下方向と直交する左右方向における中央よりも一方側（左側）に位置するのに対し、各信号線３０及び各電源線１９は、ハウジング４１内において左右方向における中央よりも他方側（右側）に位置している。このように高圧発生回路２６を避けるように各信号線３０及び各電源線１９を配線することにより、該各信号線３０に流れる信号には、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号が重畳されにくい。したがって、美容装置１０の小型化を図りつつ、美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６６】
（４）具体的には、高圧発生回路２６の大部分は、第２の基板２７において左右方向における中央よりも一方側（左側）に位置し、各信号線３０及び各電源線１９は、第２の基板２７の右側に位置している。そのため、各信号線３０及び各電源線１９に流れる信号には、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号が重畳されにくい。したがって、美容装置１０の小型化を図りつつ、美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６７】
（５）さらに、高圧発生回路２６から延びる高圧放電線２９は、各信号線３０及び各電源線１９の配置位置の反対側である第２の基板２７の左側を通って、放電部１３に接続されている。このようにハウジング４１内において各信号線３０及び各電源線１９を避けるように高圧放電線２９を配線することにより、各信号線３０及び各電源線１９では、高圧放電線２９に駆動信号が流れることにより誘起される電圧を小さくできる。そのため、高圧放電線２９に駆動信号が流れることにより発生する磁気ノイズの影響に起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６８】
（６）しかも、高圧放電線２９の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とほぼ直交している。そのため、高圧放電線２９の延びる方向が各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向と一致する場合と比較して、高圧放電線２９に駆動信号が流れることで各信号線３０及び各電源線１９で誘起される電圧を極力小さくすることができる。
【００６９】
（７）また、本実施形態では、各信号線３０及び各電源線１９が左右方向において高圧発生回路２６に接近することが規制壁８５によって規制されている。そのため、美容装置１０の駆動中、美容装置１０の搬送中及び美容装置１０の組み立て中などに、各信号線３０及び各電源線１９が不必要に高圧発生回路２６に接近することを抑制することができる。つまり、ハウジング４１内において、各信号線３０及び各電源線１９と高圧発生回路２６との間隔を上記所定間隔Ｈ３以上で維持することができる。したがって、高圧放電線２９に駆動信号が流れることで各信号線３０及び各電源線１９で誘起される電圧が予め想定される設計値以上になることを抑制することができる。
【００７０】
（８）本実施形態の規制壁８５は、磁気ノイズをシールドする機能を有している。そのため、規制壁８５が磁気ノイズをシールドする機能を有していない場合と比較して、高圧放電線２９に駆動信号が流れることで各信号線３０及び各電源線１９で誘起される電圧を小さくすることができる。
【００７１】
（９）各信号線３０は一つに束ねられている。そのため、各信号線３０に流れる各信号には、他の線（例えば、高圧放電線２９や供給用電線２８）に駆動信号が流れることで発生した磁気ノイズに基づくノイズ信号が重畳しにくい。したがって、美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００７２】
（１０）同様に、各電源線１９は、各信号線３０とは別に一つに束ねられている。そのため、各電源線１９に流れる各信号には、他の線（例えば、高圧放電線２９や供給用電線２８）に駆動信号が流れることで発生した磁気ノイズに基づくノイズ信号が重畳しにくい。したがって、美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００７３】
（１１）また、イオン生成機構１１を構成するペルチェ素子１４を駆動させるためのペルチェ駆動回路２５は、第２の基板２７に設けられている。そのため、ペルチェ駆動回路２５を電力制御部２０が設けられる回路基板に設ける場合と比較して、電力制御部２０をペルチェ駆動回路２５から離して配置することができる分、電力制御部２０はペルチェ駆動回路２５で発生した磁気ノイズの影響を受けにくくなる。したがって、ペルチェ駆動回路２５から発生した磁気ノイズに起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００７４】
（１２）また、ペルチェ駆動回路２５で発生した電圧に基づいた駆動信号をペルチェ素子１４に入力させるための供給用電線２８は、第２の基板２７から右側を通ってペルチェ素子１４まで延びている。つまり、供給用電線２８は、高圧放電線２９とは左右方向における反対側に延びている。そのため、供給用電線２８に流れる駆動信号は、高圧放電線２９を駆動信号が流れることにより発生する磁気ノイズの影響を受けにくい。したがって、ペルチェ素子１４の誤作動を抑制することができる。
【００７５】
（１３）しかも、供給用電線２８の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とほぼ直交している。そのため、供給用電線２８の延びる方向が各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向と一致する場合と比較して、供給用電線２８に駆動信号が流れることで各信号線３０及び各電源線１９で誘起される電圧を小さくすることができる。
【００７６】
（１４）各基板２１，２７は、送風用ケース６６に隣り合うように配置されている。そのため、送風部１２を構成するファン１２ａから供給された風によって、各基板２１，２７及び各基板２１，２７に設けられた各種部品を冷却することができる。つまり、冷却用のファンを、ファン１２ａとは別途設けなくてもよい。
【００７７】
（１５）特に、第２の基板２７と送風用ケース６６との間には、ファン１２ａから供給される風の一部が流れる空間６７が設けられている。そのため、高圧発生回路２６及びペルチェ駆動回路２５を効率良く冷却することができる。
【００７８】
（１６）また、各電源線１９のインピーダンスは、電源ケーブル１７の接続端子１７ａを電源接続部１８に接続する際に発生し得る静電気に起因した電気的なノイズの影響を抑制すべく設定された規定値以上の値に設定されている。そのため、電源ケーブル１７を電源接続部１８に接続する際に発生した静電気に基づいた外来ノイズは、十分に減衰された状態で電力制御部２０に入力される。したがって、電源接続部１８と電力制御部２０とを繋ぐ電源線１９に外来ノイズが流れた場合における美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００７９】
（１７）本実施形態では、電力制御部２０は、ハウジング４１内において設置面Ｇｎｄから最も離れた領域（上方域）に配置されている。そのため、電力制御部２０をハウジング４１における上方域以外の領域に配置した場合と比較して、電源線１９を長くできる分、当該電源線１９のインピーダンスを大きくすることができる。
【００８０】
（１８）また、スイッチ２４は、ハウジング４１の頂部４５に設けられている。そのため、スイッチ２４と設置面Ｇｎｄとの間のインピーダンスである対地インピーダンスを極力大きな値にすることができる。したがって、ユーザーによるスイッチ２４の操作時に発生する静電気に基づいたノイズ成分を極力小さくでき、ひいてはユーザーによるスイッチ２４の操作に伴う外来ノイズに基づいた悪影響を抑制することができる。
【００８１】
（１９）また、電源接続部１８から電力制御部２０まで延びる電源線１９において支持台４０内に位置する部分は、各固定部６０，６１によって、支持台４０に固定されている。そのため、ハウジング４１を支持台４０に対して相対的に回動させたとしても、電源線１９において支持台４０内に位置する部分は、ハウジング支持部５１の内側面５１ａと不必要に接触しない。したがって、固定部６０，６１が設けられない場合と比較して、電源線１９の摩耗を抑制することができる。
【００８２】
なお、本実施形態は以下のような別の実施形態に変更してもよい。
・実施形態において、ファン１２ａから送り出された風が全て送風経路６５に導かれるように、送風用ケース６６を構成してもよい。このように構成しても、各基板２１，２７は、送風用ケース６６に隣り合うように配置されているため、各基板２１，２７に設けられる各種部品を好適に冷却することができる。
【００８３】
・実施形態において、供給用電線２８を、第２の基板２７の左側を通って、該第２の基板２７の後側に位置するペルチェ素子１４まで延びるように配線してもよい。この場合であっても、供給用電線２８の延びる方向を、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とほぼ直交させることができる。
【００８４】
・実施形態において、放電部１３全体が上下方向において高圧発生回路２６と同一位置に位置するように、イオン生成機構１１をハウジング４１内に配置してもよい。この場合でも、高圧放電線２９及び供給用電線２８の延びる方向を、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とそれぞれ交差させることができる。
【００８５】
・また、ペルチェ素子１４の一部のみが上下方向において高圧発生回路２６と同一位置に位置するように、イオン生成機構１１をハウジング４１内に配置してもよい。この場合でも、高圧放電線２９及び供給用電線２８の延びる方向を、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とそれぞれ交差させることができる。
【００８６】
・実施形態において、各電源線１９を、電源接続部１８から第２の基板２７の右側を通って、第１の基板２１まで延びるように配線してもよい。
・実施形態において、第１の基板２１に接続される各信号線３０を、一つに束ねなくてもよい。例えば、各信号線３０のうち第２の基板２７に接続される複数の信号線３０と、送風部１２に接続される複数の信号線３０とを別々に束ねてもよい。
【００８７】
・実施形態において、高圧放電線２９は、各信号線３０とは第２の基板２７を挟んで反対側から放電部１３まで延びるのであれば、第２の基板２７の右側を通さなくてもよい。例えば、高圧放電線２９を、第２の基板２７の前面から該第２の基板２７の上側の空間を通って、放電部１３まで延ばしてもよい。この場合、各信号線３０を、第２の基板２７の後面２７ａ側を通って下方に延ばすことが好ましい。より詳しくは、各信号線３０を、イオン生成機構１１とハウジング４１の内側面との間の空間を通って制御対象まで延ばすことがさらに好ましい。こうした構成では第２の基板２７が、各信号線３０が高圧発生回路２６に接近することを規制する規制手段を兼ねる。
【００８８】
・実施形態において、規制壁８５に帯電防止加工を施してもよい。このように構成すると、ハウジング４１内で発生した帯電微粒子が規制壁８５に付着することが抑制される。
・実施形態において、規制壁８５は、磁気ノイズをシールドする機能を有さない材料で構成してもよい。
【００８９】
・実施形態において、規制手段は、信号線３０及び電源線１９が高圧発生回路２６に接近することを規制できる構成であれば、規制壁８５以外の他の任意の構成であってもよい。例えば、規制手段は、前後方向に延びる複数の規制ピンを前後方向に沿って配置した構成であってもよい。また、規制手段は、第２の基板２７の右側に配置された網状部材であってもよい。
【００９０】
・実施形態において、規制手段を設けなくてもよい。
・実施形態において、各信号線３０を、第２の基板２７の左側を通って、第１の基板２１から下方まで延ばしてもよい。
【００９１】
・実施形態において、高圧発生回路２６を、その左右方向における中央が第２の基板２７の左右方向における中央と同一位置又は同一位置よりも左側に位置するのであれば、第２の基板２７に任意の態様で実装させてもよい。例えば、高圧発生回路２６全体を、第２の基板２７の左右方向における中央よりも右側に配置させてもよい。
【００９２】
・実施形態において、高圧発生回路２６が実装される第２の基板２７をハウジング４１内の上側に配置し、電力制御部２０が実装される第１の基板２１をハウジング４１内の下側に配置してもよい。このように配置しても、第２の基板２７を第１の基板２１から離して配置することにより、高圧発生回路２６から発生した磁気ノイズに起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００９３】
・実施形態において、液体供給部は、放電部１３に液体を供給可能な構成であれば、ペルチェ素子以外の他の液体供給部であってもよい。例えば、液体供給部は、液体を貯留するタンクと該タンク内から液体を供給すべく作動するポンプとを備えたものであってもよい。また、液体供給部は、タンクを放電部よりも上方に配置し、自重によってタンク内の液体を放電部に供給するものであってもよい。
【００９４】
・美容装置は、放電部を備えた構成であれば上記実施形態で示した美容装置以外の他の装置であってもよい。例えば、美容装置は、ヒーターなどの加熱部によって液体を沸騰させて温ミスト（「スチーム」ともいう。）を生成し、該温ミストを放電部での放電で微細化させてから放出させる装置であってもよい。また、美容装置は、ベンチュリー効果を利用する方法や超音波を利用する方法で気化させた冷ミストを、放電部での放電で微細化させてから放出させる装置であってもよい。こうした美容装置でも、第１の電極８０を白金などの金属を含有する端子とすることで放電時に金属微粒子（金属イオン）が発生し、該金属微粒子がミスト共に放出される。
【００９５】
・イオン発生装置としては、例えばコロナ放電によってマイナスイオンやプラスイオンを放出するイオン発生装置であってもよい。
【符号の説明】
【００９６】
１０…美容装置（イオン発生装置）、１２…送風部（制御対象）、１３…放電部、１４…液体供給部の一例としてのペルチェ素子、１６…外部電源、１７…電源ケーブル、１８…電源接続部、１９…電源線、２０…電力制御部、２１…第１の基板、２４…操作部としてのスイッチ、２５…電力発生部としてのペルチェ駆動回路（制御対象）、２６…高圧発生部としての高圧発生回路（制御対象）、２７…第２の基板、２８…供給用電線、２９…高圧放電線、３０，３０Ａ，３０Ｂ…信号線、４１…ハウジング、４４…放出部、４５…頂部、５０…脚部、５１…ハウジング支持部、５１ａ…内側面（内面）、６１…固定部としての第２の固定部、６５…送風経路、６６…送風用ケース、７１…コネクタ（接続部位）、７７…コネクタ（接続部位）、８５…規制手段としての規制壁、Ｇｎｄ…設置面。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放電によって発生したイオンを外部に放出するイオン発生装置及びこれを備える美容装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、発生したイオンを外部に放出するイオン発生装置として、水などの液体をイオン化させて放出する装置が知られている。こうしたイオン発生装置は、放電部と、該放電部に液体を供給するための液体供給部とを備えている。そして、放電部に高圧発生部で発生した高電圧に基づいた駆動信号が入力されると、放電部を構成する放電電極の周りでコロナ放電が発生する。すると、放電部では、液体供給部から供給された液体がイオン化され、ナノサイズの微粒子液であるミストが生成される。そして、こうしたミストは、送風ファン（送風部）の駆動によって放出部から放出される。
【０００３】
特許文献１には、イオン発生装置を備える美容装置の一例が開示されている。この美容装置のハウジング内には、有底略四角筒状の支持部材が、所定方向に延びる軸線を中心に回動可能な状態で設けられている。この支持部材は、放電部、液体供給部、送風ファン及び放出部を備えるイオン放出ユニットを支持している。また、支持部材は、イオン放出ユニットを支持する側の反対側で、上記高圧発生部及び美容装置全体を制御する電力制御部などが実装された制御基板を支持している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−３８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、近年では、美容装置の更なる小型化が望まれている。しかしながら、高圧発生部及び電力制御部を同一の制御基板に実装する構成では、以下に示す問題が発生し得る。すなわち、高圧発生部からは、高電圧の発生に伴った大きな磁気ノイズが発生する。そのため、高圧発生部に近い位置に配置される電力制御部が高圧発生部で発生した磁気ノイズの影響を大きく受け、イオン放出ユニット（特に、放電部）が誤作動するおそれがある。
【０００６】
高圧発生部からの磁気ノイズの影響に起因したイオン放出ユニットの誤作動を抑制するためには、電力制御部にノイズフィルタを設けるなどのノイズ対策を行う必要がある。この場合には、電力制御部の部品点数が増加したり回路が複雑化したりすることで、制御基板の小型化が困難になる。つまり、特許文献１に記載の美容装置には、小型化を図る点で改善の余地がある。
【０００７】
なお、こうした問題は、例えばコロナ放電によってマイナスイオンやプラスイオンを放出するイオン発生装置でも同様に発生し得る。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、高圧発生部から発生した磁気ノイズに起因した誤作動を抑制することができるイオン発生装置及び美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明のイオン発生装置は、放電によってイオンを生成する放電部と、装置全体の制御を司る電力制御部と、前記電力制御部からの指令に基づき、前記放電部に印加する高電圧を発生する高圧発生部と、前記放電部で発生したイオンをハウジング外に放出させるための放出部と、を備え、前記電力制御部を第１の基板に設けると共に、該第１の基板とは異なる位置に配置された第２の基板に前記高圧発生部を設けることを要旨とする。
【０００９】
本発明のイオン発生装置において、前記放出部は、前記第１の基板と前記第２の基板とが並ぶ方向において当該各基板の間の位置に配置されていることが好ましい。
本発明のイオン発生装置において、前記電力制御部には、制御対象との間で信号の入力又は出力を行うための信号線が電気的に接続されており、前記高圧発生部は、その大部分が前記ハウジング内において中央よりも一方側に位置するように配置され、前記信号線は、前記ハウジング内において前記高圧発生部よりも他方側を通って前記制御対象に設けられた接続部位まで延びていることが好ましい。
【００１０】
本発明のイオン発生装置において、前記放電部は、前記高圧発生部で発生された高電圧に基づいた駆動信号が高圧放電線を介して入力されることにより放電するようになっており、前記高圧放電線は、前記高圧発生部から前記第２の基板における一方側を通って前記放電部まで延び、前記信号線は、前記第２の基板における他方側を通って前記制御対象の前記接続部位まで延びていることが好ましい。
【００１１】
本発明のイオン発生装置は、前記信号線が前記高圧発生部に接近することを規制するための規制手段をさらに備えることが好ましい。
本発明のイオン発生装置において、前記規制手段は、前記高圧発生部と前記信号線との間に配置される規制壁を有することが好ましい。
【００１２】
本発明のイオン発生装置において、前記規制壁は、磁気ノイズをシールドする機能を有することが好ましい。
本発明のイオン発生装置において、前記放電部の少なくとも一部は、前記各基板の並ぶ方向において前記高圧発生部と同一位置に位置しており、前記高圧放電線は、その延びる方向が前記信号線の延びる方向と交差するように配線されていることが好ましい。
【００１３】
本発明のイオン発生装置において、前記電力制御部には、複数の前記信号線が接続されており、前記各信号線は、一つに束ねられていることが好ましい。
本発明のイオン発生装置は、前記各基板が並ぶ方向において前記第２の基板を挟んで前記第１の基板の反対側に配置され、外部電源から電力を入力させるための電源ケーブルが接続される電源接続部を備え、前記電力制御部には、前記電源接続部から電源線を介して電力が供給されるようになっており、前記電源線は、前記第２の基板における他方側を通って前記電源接続部から前記電力制御部まで延びていることが好ましい。
【００１４】
本発明のイオン発生装置は、前記放電部に液体を供給する液体供給部と、前記第２の基板に設けられ、且つ前記液体供給部を駆動させるための電圧を発生する電力発生部と、をさらに備え、前記液体供給部は、前記電力発生部で発生した電圧に基づいた駆動信号が供給用電線を介して入力されることにより駆動するようになっており、前記供給用電線は、前記第２の基板から該第２の基板の他方側を通って前記液体供給部まで延びていることが好ましい。
【００１５】
本発明のイオン発生装置において、前記液体供給部の少なくとも一部は、前記各基板の並ぶ方向において前記高圧発生部と同一位置に位置しており、前記供給用電線は、その延びる方向が前記信号線の延びる方向と交差するように配線されていることが好ましい。
【００１６】
本発明のイオン発生装置は、前記電力制御部からの指令に基づき、風を発生させるための送風部と、前記送風部で発生した風を前記放電部まで導く送風経路を有する送風用ケースと、を備え、前記各基板は、前記送風用ケースに隣り合うように配置されていることが好ましい。
【００１７】
本発明の美容装置は、上記イオン発生装置を備えることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、高圧発生部から発生した磁気ノイズに起因した誤作動を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のイオン発生装置を備える美容装置の一実施形態の概略構成を示すブロック図。
【図２】（ａ）は本実施形態の美容装置の背面図、（ｂ）は美容装置の正面図。
【図３】図２（ｂ）の３−３線矢視断面図。
【図４】（ａ）（ｂ）はハウジングが支持台に対して回動する様子を示す側面図。
【図５】（ａ）（ｂ）は支持台の内部構成を示す断面図。
【図６】電源線が延びる様子を示す斜視図。
【図７】ハウジング内の内部構成を示す平面図。
【図８】イオン生成機構の構成を示す側断面図。
【図９】ハウジング内の内部構成を示す平面図。
【図１０】高圧放電線及び供給用電線が配線される様子を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図１０に従って説明する。
まず始めに、イオン発生装置の一例としての美容装置の概略構成について図１を参照して説明する。
【００２１】
図１に示すように、美容装置１０は、イオンを発生するイオン生成機構１１と、該イオン生成機構１１で発生したイオンを外部に放出させるべく駆動する送風部１２とを備えている。イオン生成機構１１には、高電圧が印加されることによりコロナ放電を発生させる放電部１３と、該放電部１３に液体としての水を供給する液体供給部としてのペルチェ素子１４とが設けられている。そして、放電部１３は、供給された水をコロナ放電によって静電霧化し、ミストを生成する。
【００２２】
送風部１２には、イオン生成機構１１に向けて風を送るべく駆動するファン１２ａが設けられている。そして、イオン生成機構１１で生成されたミストは、ファン１２ａからの風と共に美容装置１０外に放出される。なお、ここでいう「ミスト」とは、直径が数ｎｍ〜数百ｎｍの大きさのミストであって、人体の肌における角質層表面の隙間に浸透することによって肌に潤いとハリを与える効果を発現するものである。
【００２３】
また、美容装置１０に設けられる制御装置１５は、商用電源などの外部電源１６から延びる電源ケーブル１７が接続される電源接続部１８と、電源接続部１８から電源線１９を介して供給された電力に基づき、美容装置１０全体の制御を司る電力制御部２０とを備えている。この電力制御部２０は、第１の基板２１に設けられており、電源接続部１８から電源線１９を介して供給された電力が入力される電力入力部２２と、図示しないＣＰＵ及びメモリなどで構築されるマイクロコンピューター２３とを有している。電力入力部２２は、入力された電圧（直流電圧）を制御系の直流電圧に変換し、変換後の直流電圧をマイクロコンピューター２３に出力する。
【００２４】
マイクロコンピューター２３には、美容装置１０を駆動させる際及び停止させる際に操作される操作部としてのスイッチ２４が電気的に接続されている。そして、マイクロコンピューター２３のＣＰＵは、スイッチ２４がオン操作された場合には美容装置１０を駆動させるべく、上記メモリに記憶されるプログラムを実行する。すると、マイクロコンピューター２３からは、制御対象であるペルチェ駆動回路（電力発生部）２５、高圧発生回路（高圧発生部）２６及び送風部１２に向けて制御指令がそれぞれ出力される。また、スイッチ２４がオン操作されてから所定時間（例えば、８時間）が経過した場合、及びスイッチ２４がオフ操作された場合、マイクロコンピューター２３のＣＰＵがプログラムの実行を中止し、美容装置１０が停止される。
【００２５】
ペルチェ駆動回路２５及び高圧発生回路２６は、第１の基板２１とは異なる位置に配置される第２の基板２７に実装されている。ペルチェ駆動回路２５は、電力制御部２０から入力された信号に基づき、ペルチェ素子１４を駆動させるために必要な電圧を発生させるための回路である。そして、ペルチェ駆動回路２５で発生された電圧に基づいた駆動信号は、供給用電線２８を介してペルチェ素子１４に入力される。また、高圧発生回路２６は、電力制御部２０から入力された信号に基づき、放電部１３に印加させるために必要な高電圧を発生させるための回路である。そして、高圧発生回路２６で発生された高電圧に基づいた駆動信号は、高圧放電線２９を介して放電部１３に入力される。なお、放電部１３に印加する高電圧は、ペルチェ素子１４に印加する電圧よりも大きい。
【００２６】
本実施形態では、マイクロコンピューター２３と制御対象とは、制御指令に基づいた指令信号をマイクロコンピューター２３から制御対象に出力させるための信号線３０Ａ、及び制御対象の動作状態を示す信号をマイクロコンピューター２３に入力させるための信号線３０Ｂとで電気的に接続されている。なお、以降の記載において各信号線３０Ａ，３０Ｂをまとめて単に「信号線３０」というものとする。
【００２７】
次に、美容装置１０の具体的に構成について説明する。なお、以下の説明において、「前後方向」、「左右方向」、「上下方向」をいう場合には、図中における矢印に示す方向を示すものとする。
【００２８】
図２（ａ）（ｂ）に示すように、美容装置１０は、設置面Ｇｎｄ上に設置される支持台４０と、該支持台４０に回動可能に支持される楕円体状のハウジング４１とを備えている。このハウジング４１は、後側が開口する前側ハウジング４２と、前側が開口する後側ハウジング４３とを有している。そして、互いの開口同士を閉塞し合うように前側ハウジング４２に対して後側ハウジング４３を組み付けることにより、ハウジング４１が構成される。
【００２９】
前側ハウジング４２の上側には、ハウジング４１内で発生したミストを放出させるための放出部４４がハウジング４１内外を連通させるように形成されている。本実施形態では、放出部４４は、ハウジング４１の上下方向における中央よりも上側（即ち、支持台４０から離れた位置）に配置されている。
【００３０】
また、後側ハウジング４３の頂点（最上端）を含む頂部４５には、上記スイッチ２４が設けられている。つまり、スイッチ２４は、ハウジング４１において設置面Ｇｎｄ（即ち、支持台４０）から最も離れた位置に配置されている。なお、「頂部４５」とは、ハウジング４１において放出部４４よりも上側に設定された領域である。
【００３１】
図３に示すように、ハウジング４１の下部には、ハウジング４１内外を連通させる開口部４６が形成されている。そして、この開口部４６を介して支持台４０の一部分がハウジング４１内に収容される。
【００３２】
支持台４０は、略円板をなす脚部５０と、該脚部５０に支持されるハウジング支持部５１とを備えている。そして、支持台４０は、ハウジング支持部５１の大部分をハウジング４１内に配置させた状態で支持している。脚部５０には、脚部５０の下面５０ａと設置面Ｇｎｄとの接触を回避するためのゴム製の緩衝部材５２が設けられている。また、脚部５０の径方向中央には、上下方向に延びる連通孔５３が形成されている。この連通孔５３は、ハウジング４１内と連通している。そして、連通孔５３は、その下端から外部の空気を取り入れ、該空気をハウジング４１内に導くことが可能となっている。
【００３３】
ハウジング支持部５１は、脚部５０に一体化されており、該脚部５０の径方向中央から上方に延びるように構成されている。こうしたハウジング支持部５１は、下端から上端に向けて広がるように形成されている。具体的には、ハウジング支持部５１の外側面は、球面状をなしている。また、ハウジング支持部５１の下端の前後方向における幅Ｈ１は、ハウジング４１の開口部４６の前後方向における幅Ｈ２よりも狭い。そのため、図４（ａ）（ｂ）に示すように、ハウジング４１は、前後方向に直交する左右方向に延びる回転軸線Ｓ１（図５（ｂ）参照）を中心に、支持台４０（ハウジング支持部５１）に対して回動可能となっている。
【００３４】
また、図３及び図５（ａ）（ｂ）に示すように、脚部５０の後端には、電源ケーブル１７の接続端子１７ａが接続される電源接続部１８が配置されている。この電源接続部１８は、接続端子１７ａが接続されるコネクタ５５を備えている。また、電源接続部１８には、電力を電力制御部２０に供給するために設けられた複数本（本実施形態では２本）の電源線１９が電気的に接続されている。これら各電源線１９は、図５（ａ）（ｂ）及び図６に示すように、脚部５０内の後側から中央まで延び、該中央から連通孔５３内を通ってハウジング支持部５１内に進入し、ハウジング４１内の上方まで延びている。
【００３５】
また、各電源線１９において連通孔５３内に位置する部分は、図５（ａ）（ｂ）に示すように、連通孔５３を構成する内側面５３ａに設けられた第１の固定部６０によって固定されている。同様に、各電源線１９においてハウジング支持部５１内に位置する部分は、該ハウジング支持部５１の内側面５１ａに設けられた第２の固定部６１によって固定されている。本実施形態では、第２の固定部６１は２つ設けられている。各第２の固定部６１のうち上側に位置する第２の固定部６１は、ハウジング支持部５１の上端近傍に配置されている。そのため、電源線１９においてハウジング支持部５１内に位置する部分は、ハウジング４１が支持台４０に対して回動しても変位しない。したがって、本実施形態では、第２の固定部６１が、電源線１９においてハウジング支持部５１内に位置する部分を該ハウジング支持部５１の内側面（内面）５１ａに固定させるための固定部として機能する。
【００３６】
本実施形態において、各電源線１９の長さ及び太さは、以下に示す条件を満たすように設定されている。すなわち、電源ケーブル１７の接続端子１７ａをユーザーがコネクタ５５に接続させる場合、該ユーザーの指と支持台４０との間で静電気が発生し、該静電気に基づいた外乱ノイズが各電源線１９を流れる信号に重畳することがある。この際に発生し得る静電気の大きさは「数ｋＶ」以上であると推定される。
【００３７】
ここで、もし仮に電源線１９のインピーダンスが小さいと、電力制御部２０には、外乱ノイズがほとんど減衰されることなく入力される。こうした外乱ノイズの減衰量は、電源接続部１８から電力制御部２０までの電力供給経路のインピーダンスが大きいほど多くなる。そこで、本実施形態では、電源線１９のインピーダンスは、該電源線１９を入力された外乱ノイズを十分に減衰させる程度の値に設定される。つまり、上記電力供給経路のインピーダンスが、電源ケーブル１７の接続端子１７ａを電源接続部１８に接続する際に発生し得る静電気に起因した電気的なノイズの影響を抑制すべく設定された規定値（例えば、１０ｍΩ）以上となるように、電源線１９の長さ及び太さが設定されている。
【００３８】
ただし、電源線１９のインピーダンスを大きくし過ぎると、電源線１９での通電ロスに起因した電力不足や電源線１９での発熱量の増大などが発生するおそれがある。そこで、電源線１９のインピーダンスの上限値（例えば、１Ω）が設定されている。本実施形態では、電源線１９のインピーダンスは、「１０ｍΩ」〜「１Ω」の間の値（例えば、０．５Ω）に設定されている。
【００３９】
なお、インピーダンスは、線の長さを長くするほど大きくなると共に、線の細さを細くするほど大きくなる。そのため、本実施形態で使用される電源線１９は、比較的細い線を用いている。しかし、電源線１９の線を細くするほど、該電源線１９に流れる信号には、美容装置１０内で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号が重畳されやすくなる。そこで、本実施形態では、各電源線１９は、他の線（信号線３０、高圧放電線２９及び供給用電線２８）とは別に一つに束ねられている。これにより、ハウジング４１内で発生した磁気ノイズに基づいた各電源線１９での電圧の誘起が抑制される。
【００４０】
次に、ハウジング４１内の内部構成について説明する。
図３に示すように、ハウジング４１内において連通孔５３の直上位置には、上方に向けて風を送るための送風部１２が設けられている。送風部１２を構成するファン１２ａは、連通孔５３を介してハウジング４１外の空気を取り込んで上方に送り出している。このファン１２ａの上側には、該ファン１２ａからの風を上方に案内するための送風経路６５を内部に有する送風用ケース６６が設けられている。送風経路６５は、送風部１２から該送風部１２の後斜め上方に位置するイオン生成機構１１まで延びる第１の経路６５ａと、イオン生成機構１１から該イオン生成機構１１の前斜め上方に位置する放出部４４まで延びる第２の経路６５ｂとを有している。
【００４１】
また、設置面Ｇｎｄに直交する方向でもある上下方向において送風部１２と放出部４４との間には、第２の基板２７が支持部材Ａを介して送風用ケース６６に支持された状態で配置されている。この第２の基板２７は、送風用ケース６６との間に空間６７を介在させた状態で該送風用ケース６６と隣り合っている。そして、この空間６７には、ファン１２ａから発生した風の一部が上方に向けて通過する。また、図７に示すように、第２の基板２７に設けられた高圧発生回路２６の大部分は、ハウジング４１内の左右方向（直交方向）における中央を示す中央線Ｓ２よりも左側（一方側）に位置している。別の観点から見ると、高圧発生回路２６は、その右端と第２の基板２７における右端との間の間隔が所定間隔Ｈ３となるように、第２の基板２７に実装されている。
【００４２】
また、第２の基板２７に実装されるペルチェ駆動回路２５は、左右方向において中央線Ｓ２よりも右側に位置すると共に、供給用電線２８が接続されるコネクタ７０は、第２の基板２７内の右上部分に設けられている。さらに、電力制御部２０から延びている各信号線３０が接続されるコネクタ（接続部位）７１は、第２の基板２７の下側（詳しくは、右下側）に設けられている。
【００４３】
図３に示すように、送風用ケース６６の上側には、第１の基板２１が支持部材Ｂを介して送風用ケース６６に支持された状態で配置されている。この第１の基板２１は、その実装面が送風経路６５を構成する第２の経路６５ｂに沿うように、送風用ケース６６と隣り合っている。こうした第１の基板２１には、図７に示すように、電力制御部２０の左右方向に沿って配置される３つのコネクタ７５，７６，７７が実装されている。各コネクタ７５，７６，７７のうち左側に位置するコネクタ７５には、第２の基板２７の下側に設けられたコネクタ７１に接続される複数本の信号線３０が接続される。また、中央に位置するコネクタ７６には、送風部１２に設けられた図示しないコネクタ（接続部位）に接続された複数本の信号線３０が接続される。さらに、右側に位置するコネクタ（接続部位）７７には、電源接続部１８から延びてきた２本の電源線１９が接続される。
【００４４】
図３に示すように、イオン生成機構１１は、送風用ケース６６の後側に配置されている。詳しくは、イオン生成機構１１は、前後方向において送風部１２よりも後側に配置されている。本実施形態では、イオン生成機構１１の放電部１３の大部分は、上下方向において高圧発生回路２６と同一位置に位置している。また、イオン生成機構１１のペルチェ素子１４全体は、上下方向において高圧発生回路２６と同一位置に位置している。
【００４５】
放電部１３は、図８に示すように、前後方向に延びる針状の第１の電極８０と、該第１の電極８０よりも前側に配置される板状の第２の電極８１とを備えている。そして、各電極８０，８１間に高圧発生回路２６で発生された高電圧が印加されることにより、コロナ放電が発生する。
【００４６】
ペルチェ素子１４は、第１の電極８０の基端部（左端部）に当接している。そして、ペルチェ素子１４は、ペルチェ駆動回路２５で発生された電圧が印加されることにより第１の電極８０を冷却する。その結果、冷却された第１の電極８０の表面には、空気中の水分が結露する。このようにペルチェ素子１４の駆動によって第１の電極８０に供給された水は、放電部１３でのコロナ放電によって、レイリー分裂を起こして静電霧化される。そして、放電部１３で生成されたミストは、ファン１２ａからの風と共に送風経路６５（第２の経路６５ｂ）を通って放出部４４を介してハウジング４１外に放出される。
【００４７】
次に、ハウジング４１内での各線の配線態様について図９及び図１０を参照して説明する。
図９及び図１０に示すように、第２の基板２７の右側には、規制手段としての規制壁８５が設けられている。この規制壁８５は、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）及びＡＢＳ樹脂などの樹脂、又は磁気ノイズをシールドする機能を有するステンレスなどで構成されている。こうした規制壁８５の上端は、第２の基板２７の上端と上下方向において略同一位置に位置すると共に、規制壁８５の下端は、第２の基板２７のコネクタ７１よりも少し上側に位置している。また、規制壁８５の前端８５ａ（図１０における上端）は、第２の基板２７に実装される高圧発生回路２６の先端（図１０における上端）と略同一位置に位置すると共に、規制壁８５の後端は、第２の基板２７の後面２７ａよりも後側に位置している。
【００４８】
第１の基板２１に接続される各信号線３０は、下方に向けてそれぞれ延びている。これら各信号線３０は、第２の基板２７の右斜め上方に位置する束ね部８６によって一つに束ねられている。そして、各信号線３０は、第２の基板２７を右側から迂回するように下方に延びている。つまり、各信号線３０は、ハウジング４１の中央を示す中央線Ｓ２よりも上下方向と直交する左右方向（直交方向）における他方側を通って、即ち規制壁８５の右側を通って下方に延びている。同様に、電源接続部１８から第１の基板２１まで延びる各電源線１９は、第２の基板２７を右側から迂回するように上方に延びている。つまり、各電源線１９は、規制壁８５の右側を通って上方に延び、第１の基板２１に設けられたコネクタ７７に接続されている。
【００４９】
第２の基板２７の右斜め上側に設けられたコネクタ７０からは、ペルチェ素子１４に向けて２本の供給用電線２８が延びている。これら各供給用電線２８は、第２の基板２７のコネクタ７０から規制壁８５の前端８５ａを通り、該規制壁８５の右側に位置する各信号線３０及び各電源線１９を避けるように後側に延び、第２の基板２７よりも後側に位置するペルチェ素子１４に接続されている。つまり、各供給用電線２８は、第２の基板２７の右側（上下方向と直交する左右方向における他方側）を通ってペルチェ素子１４まで延びている。この際、各供給用電線２８の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向（この場合、上下方向）にほぼ直交（交差）している。
【００５０】
また、第２の基板２７からは、放電部１３に向けて高圧放電線２９が延びている。この高圧放電線２９は、高圧発生回路２６から第２の基板２７の左側（上下方向と直交する左右方向における一方側）を通って、第２の基板２７よりも後側に位置する放電部１３まで延びている。こうした高圧放電線２９の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向（この場合、上下方向）にほぼ直交（交差）している。
【００５１】
次に、本実施形態の美容装置１０の作用について説明する。
さて、美容装置１０を利用する際、ユーザーは、電源ケーブル１７の接続端子１７ａを、支持台４０に設けられた電源接続部１８のコネクタ５５に接続する（図３参照）。この際、ユーザーの指などの身体の一部が支持台４０に接触すると、静電気が発生するおそれがある。本実施形態では、電源接続部１８は、設置面Ｇｎｄ（即ち、グランド）に非常に近い。そのため、電源接続部１８と設置面Ｇｎｄとの間のインピーダンスである対地インピーダンスは小さい。その結果、電源接続部１８から第１の基板２１まで延びる各電源線１９には、電源ケーブル１７の電源接続部１８への接続時に発生した静電気に基づいたノイズ成分である外来ノイズが流れる。このとき、もし仮に電源線１９のインピーダンスが上記規定値未満であるとすると、インピーダンスが小さすぎるため、第１の基板２１に実装される電力制御部２０には外来ノイズがほとんど減衰されることなく入力される。
【００５２】
しかし、本実施形態では、電源線１９のインピーダンスが規定値以上の値に設定されている。具体的には、電力制御部２０はハウジング４１内において電源接続部１８から最も離れた位置に配置されると共に、各電源線１９の長さは、電力制御部２０を電源接続部１８に近い位置に配置される場合よりも長めに設定されている（図３参照）。さらに、各電源線１９としては、通常の電源線の太さよりも細い線が用いられている。そのため、各電源線１９に外来ノイズが流れたとしても、電源線１９のインピーダンスは規定値以上であるため、該外来ノイズは十分に減衰された状態で電力制御部２０に入力される。その結果、電源線１９に流れる外来ノイズに基づいた悪影響は抑制される。
【００５３】
また、静電気は、ユーザーが上記スイッチ２４を操作する際にも発生し得る。しかし、本実施形態では、スイッチ２４は、ハウジング４１において設置面Ｇｎｄから最も離れた位置である頂部４５に配置されている（図３参照）。そのため、スイッチ２４と設置面Ｇｎｄとの間のインピーダンスである対地インピーダンスは大きな値となる。この対地インピーダンスは、美容装置１０とユーザーの身体の一部との接触位置（この場合は、スイッチ２４）と、美容装置１０の設置面Ｇｎｄとの距離が長いほど大きな値となる。
【００５４】
ユーザーによるスイッチ２４の操作時に静電気が発生すると、電流は、ユーザーによる美容装置１０の接触部（この場合には、スイッチ２４）から、グランドである設置面Ｇｎｄに向けて流れる。このとき、対地インピーダンスが大きいほど、電流は流れにくい。そのため、本実施形態のように対地インピーダンスが極力大きくなるようにスイッチ２４を配置することにより、ユーザーによるスイッチ２４の操作時に発生する静電気に基づいたノイズ成分である外来ノイズは極力小さくなる。その結果、ユーザーによるスイッチ２４の操作に伴う外来ノイズに基づいた悪影響は抑制される。
【００５５】
そして、ユーザーによってスイッチ２４が操作されると、美容装置１０が駆動し始める。すると、第２の基板２７に設けられた高圧発生回路２６では、高電圧が発生し、該高電圧に基づいた駆動信号が高圧放電線２９を介して放電部１３に入力される。また、ペルチェ駆動回路２５では、ペルチェ素子駆動用の電圧が発生し、該電圧に基づいた駆動信号が供給用電線２８を介してペルチェ素子１４に入力される。すると、イオン生成機構１１でミストが生成され、該ミストは、ファン１２ａから送られる風と共に放出部４４からハウジング４１外に放出される。
【００５６】
この際、高圧発生回路２６では、高電圧の発生に伴い大きな磁気ノイズが発生する。従来のように電力制御部２０を高圧発生回路２６の近くに配置すると、磁気ノイズの悪影響によって、電力制御部２０によって制御されるイオン生成機構１１などが誤作動するおそれがある。この点、本実施形態では、電力制御部２０は、高圧発生回路２６から離れた位置に配置されている。具体的には、電力制御部２０は、上下方向において、放出部４４を挟んで高圧発生回路２６の反対側に位置している。そのため、電力制御部２０は、高圧発生回路２６から離して配置した分、該高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズによる悪影響を受けにくい（図３参照）。すなわち、イオン生成機構１１の誤作動が抑制される。
【００５７】
また、高圧発生回路２６は、その大部分が中央線Ｓ２よりも左側（一方側）に位置するようにハウジング４１内に配置されるのに対し、第１の基板２１に接続される各信号線３０及び各電源線１９は、中央線Ｓ２よりも右側（他方側）に位置している（図７及び図９参照）。そのため、各信号線３０及び各電源線１９に流れる信号には、これら各線を高圧発生回路２６に近い位置に配線される場合と比較して、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号が重畳されにくい。つまり、各信号線３０及び各電源線１９では、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいて電圧が誘起されにくい。
【００５８】
しかも、全ての信号線３０は一つに束ねられていると共に、全ての電源線１９は一つに束ねられている。こうした配線態様にすることにより、各線を一つに束ねない場合と比較して、各信号線３０及び各電源線１９は磁気ノイズに対して強くなる。その結果、各信号線３０及び各電源線１９がばらばらに配線される場合と比較して、各信号線３０及び各電源線１９に流れる信号には、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号がさらに重畳されにくい。
【００５９】
さらにいうと、高圧発生回路２６に接続された高圧放電線２９は、各信号線３０及び各電源線１９が配線された側（即ち、第２の基板２７の右側）とは反対側から放電部１３まで配線されている（図９及び図１０参照）。しかも、高圧放電線２９の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向（即ち、上下方向）とほぼ直交している。そのため、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向と高圧放電線２９の延びる方向がほぼ一致する場合と比較して、各信号線３０及び各電源線１９では、高圧放電線２９に駆動信号が流れることによって電圧が誘起されにくい。つまり、各信号線３０及び各電源線１９に流れる信号には、高圧放電線２９に駆動信号が流れることに起因したノイズ信号が重畳されにくい。
【００６０】
また、本実施形態では、ペルチェ駆動回路２５からペルチェ素子１４に駆動信号を入力させるための供給用電線２８の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向（即ち、上下方向）とほぼ直交している。そのため、各信号線３０及び各電源線１９には、供給用電線２８に駆動信号が流れることによって電圧が誘起されにくい。つまり、各信号線３０及び各電源線１９には、供給用電線２８に駆動信号が流れることに起因したノイズが流れにくい。
【００６１】
したがって、本実施形態の電力制御部２０は、ミストを発生させるために美容装置１０内で発生した磁気ノイズによる悪影響を受けにくい。
美容装置１０の使用中にミストの放出方向を変更すべく、ハウジング４１を支持台４０に対して回動させることがある。この場合、各電源線１９は、支持台４０に各固定部６０，６１によって固定されている（図５参照）。そのため、ハウジング４１の回動に伴って、電源線１９において支持台４０内に位置する部分が、ハウジング支持部５１の内側面５１ａと不必要に接触しない。その結果、固定部６０，６１が設けられない場合と比較して、電源線１９の摩耗が抑制される。
【００６２】
また、ハウジング４１の回動時には、該ハウジング４１内に配線される各種線の位置が変わることがある。例えば、第２の基板２７の右側に位置する各信号線３０及び各電源線１９が高圧発生回路２６に近づこうとする可能性がある。しかし、本実施形態では、第２の基板２７の右側には、規制壁８５が配置されている（図９及び図１０参照）。そのため、各信号線３０及び各電源線１９が高圧発生回路２６に近づくことは、規制壁８５によって規制される。つまり、高圧発生回路２６と各信号線３０及び各電源線１９との間隔は、規制壁８５によって、上記所定間隔Ｈ３以上で維持される。
【００６３】
以上説明したように、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）大きな磁気ノイズを発生する高圧発生回路２６は、電力制御部２０が設けられた第１の基板２１とはハウジング４１内において異なる位置に配置された第２の基板２７に設けられている。そのため、電力制御部２０と高圧発生回路２６とを同一の回路基板に設ける従来の場合と比較して、電力制御部２０を高圧発生回路２６から離して配置することができる分、電力制御部２０は高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズの影響を受けにくくなる。したがって、高圧発生回路２６から発生した磁気ノイズに起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６４】
（２）具体的には、上下方向において電力制御部２０と高圧発生回路２６との間には、放出部４４が配置されている。このように電力制御部２０を高圧発生回路２６から離して配置することにより、高圧発生回路２６から発生した磁気ノイズに起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６５】
（３）高圧発生回路２６の大部分は、上下方向と直交する左右方向における中央よりも一方側（左側）に位置するのに対し、各信号線３０及び各電源線１９は、ハウジング４１内において左右方向における中央よりも他方側（右側）に位置している。このように高圧発生回路２６を避けるように各信号線３０及び各電源線１９を配線することにより、該各信号線３０に流れる信号には、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号が重畳されにくい。したがって、美容装置１０の小型化を図りつつ、美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６６】
（４）具体的には、高圧発生回路２６の大部分は、第２の基板２７において左右方向における中央よりも一方側（左側）に位置し、各信号線３０及び各電源線１９は、第２の基板２７の右側に位置している。そのため、各信号線３０及び各電源線１９に流れる信号には、高圧発生回路２６で発生した磁気ノイズに基づいたノイズ信号が重畳されにくい。したがって、美容装置１０の小型化を図りつつ、美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６７】
（５）さらに、高圧発生回路２６から延びる高圧放電線２９は、各信号線３０及び各電源線１９の配置位置の反対側である第２の基板２７の左側を通って、放電部１３に接続されている。このようにハウジング４１内において各信号線３０及び各電源線１９を避けるように高圧放電線２９を配線することにより、各信号線３０及び各電源線１９では、高圧放電線２９に駆動信号が流れることにより誘起される電圧を小さくできる。そのため、高圧放電線２９に駆動信号が流れることにより発生する磁気ノイズの影響に起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００６８】
（６）しかも、高圧放電線２９の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とほぼ直交している。そのため、高圧放電線２９の延びる方向が各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向と一致する場合と比較して、高圧放電線２９に駆動信号が流れることで各信号線３０及び各電源線１９で誘起される電圧を極力小さくすることができる。
【００６９】
（７）また、本実施形態では、各信号線３０及び各電源線１９が左右方向において高圧発生回路２６に接近することが規制壁８５によって規制されている。そのため、美容装置１０の駆動中、美容装置１０の搬送中及び美容装置１０の組み立て中などに、各信号線３０及び各電源線１９が不必要に高圧発生回路２６に接近することを抑制することができる。つまり、ハウジング４１内において、各信号線３０及び各電源線１９と高圧発生回路２６との間隔を上記所定間隔Ｈ３以上で維持することができる。したがって、高圧放電線２９に駆動信号が流れることで各信号線３０及び各電源線１９で誘起される電圧が予め想定される設計値以上になることを抑制することができる。
【００７０】
（８）本実施形態の規制壁８５は、磁気ノイズをシールドする機能を有している。そのため、規制壁８５が磁気ノイズをシールドする機能を有していない場合と比較して、高圧放電線２９に駆動信号が流れることで各信号線３０及び各電源線１９で誘起される電圧を小さくすることができる。
【００７１】
（９）各信号線３０は一つに束ねられている。そのため、各信号線３０に流れる各信号には、他の線（例えば、高圧放電線２９や供給用電線２８）に駆動信号が流れることで発生した磁気ノイズに基づくノイズ信号が重畳しにくい。したがって、美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００７２】
（１０）同様に、各電源線１９は、各信号線３０とは別に一つに束ねられている。そのため、各電源線１９に流れる各信号には、他の線（例えば、高圧放電線２９や供給用電線２８）に駆動信号が流れることで発生した磁気ノイズに基づくノイズ信号が重畳しにくい。したがって、美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００７３】
（１１）また、イオン生成機構１１を構成するペルチェ素子１４を駆動させるためのペルチェ駆動回路２５は、第２の基板２７に設けられている。そのため、ペルチェ駆動回路２５を電力制御部２０が設けられる回路基板に設ける場合と比較して、電力制御部２０をペルチェ駆動回路２５から離して配置することができる分、電力制御部２０はペルチェ駆動回路２５で発生した磁気ノイズの影響を受けにくくなる。したがって、ペルチェ駆動回路２５から発生した磁気ノイズに起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００７４】
（１２）また、ペルチェ駆動回路２５で発生した電圧に基づいた駆動信号をペルチェ素子１４に入力させるための供給用電線２８は、第２の基板２７から右側を通ってペルチェ素子１４まで延びている。つまり、供給用電線２８は、高圧放電線２９とは左右方向における反対側に延びている。そのため、供給用電線２８に流れる駆動信号は、高圧放電線２９を駆動信号が流れることにより発生する磁気ノイズの影響を受けにくい。したがって、ペルチェ素子１４の誤作動を抑制することができる。
【００７５】
（１３）しかも、供給用電線２８の延びる方向は、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とほぼ直交している。そのため、供給用電線２８の延びる方向が各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向と一致する場合と比較して、供給用電線２８に駆動信号が流れることで各信号線３０及び各電源線１９で誘起される電圧を小さくすることができる。
【００７６】
（１４）各基板２１，２７は、送風用ケース６６に隣り合うように配置されている。そのため、送風部１２を構成するファン１２ａから供給された風によって、各基板２１，２７及び各基板２１，２７に設けられた各種部品を冷却することができる。つまり、冷却用のファンを、ファン１２ａとは別途設けなくてもよい。
【００７７】
（１５）特に、第２の基板２７と送風用ケース６６との間には、ファン１２ａから供給される風の一部が流れる空間６７が設けられている。そのため、高圧発生回路２６及びペルチェ駆動回路２５を効率良く冷却することができる。
【００７８】
（１６）また、各電源線１９のインピーダンスは、電源ケーブル１７の接続端子１７ａを電源接続部１８に接続する際に発生し得る静電気に起因した電気的なノイズの影響を抑制すべく設定された規定値以上の値に設定されている。そのため、電源ケーブル１７を電源接続部１８に接続する際に発生した静電気に基づいた外来ノイズは、十分に減衰された状態で電力制御部２０に入力される。したがって、電源接続部１８と電力制御部２０とを繋ぐ電源線１９に外来ノイズが流れた場合における美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００７９】
（１７）本実施形態では、電力制御部２０は、ハウジング４１内において設置面Ｇｎｄから最も離れた領域（上方域）に配置されている。そのため、電力制御部２０をハウジング４１における上方域以外の領域に配置した場合と比較して、電源線１９を長くできる分、当該電源線１９のインピーダンスを大きくすることができる。
【００８０】
（１８）また、スイッチ２４は、ハウジング４１の頂部４５に設けられている。そのため、スイッチ２４と設置面Ｇｎｄとの間のインピーダンスである対地インピーダンスを極力大きな値にすることができる。したがって、ユーザーによるスイッチ２４の操作時に発生する静電気に基づいたノイズ成分を極力小さくでき、ひいてはユーザーによるスイッチ２４の操作に伴う外来ノイズに基づいた悪影響を抑制することができる。
【００８１】
（１９）また、電源接続部１８から電力制御部２０まで延びる電源線１９において支持台４０内に位置する部分は、各固定部６０，６１によって、支持台４０に固定されている。そのため、ハウジング４１を支持台４０に対して相対的に回動させたとしても、電源線１９において支持台４０内に位置する部分は、ハウジング支持部５１の内側面５１ａと不必要に接触しない。したがって、固定部６０，６１が設けられない場合と比較して、電源線１９の摩耗を抑制することができる。
【００８２】
なお、本実施形態は以下のような別の実施形態に変更してもよい。
・実施形態において、ファン１２ａから送り出された風が全て送風経路６５に導かれるように、送風用ケース６６を構成してもよい。このように構成しても、各基板２１，２７は、送風用ケース６６に隣り合うように配置されているため、各基板２１，２７に設けられる各種部品を好適に冷却することができる。
【００８３】
・実施形態において、供給用電線２８を、第２の基板２７の左側を通って、該第２の基板２７の後側に位置するペルチェ素子１４まで延びるように配線してもよい。この場合であっても、供給用電線２８の延びる方向を、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とほぼ直交させることができる。
【００８４】
・実施形態において、放電部１３全体が上下方向において高圧発生回路２６と同一位置に位置するように、イオン生成機構１１をハウジング４１内に配置してもよい。この場合でも、高圧放電線２９及び供給用電線２８の延びる方向を、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とそれぞれ交差させることができる。
【００８５】
・また、ペルチェ素子１４の一部のみが上下方向において高圧発生回路２６と同一位置に位置するように、イオン生成機構１１をハウジング４１内に配置してもよい。この場合でも、高圧放電線２９及び供給用電線２８の延びる方向を、各信号線３０及び各電源線１９の延びる方向とそれぞれ交差させることができる。
【００８６】
・実施形態において、各電源線１９を、電源接続部１８から第２の基板２７の右側を通って、第１の基板２１まで延びるように配線してもよい。
・実施形態において、第１の基板２１に接続される各信号線３０を、一つに束ねなくてもよい。例えば、各信号線３０のうち第２の基板２７に接続される複数の信号線３０と、送風部１２に接続される複数の信号線３０とを別々に束ねてもよい。
【００８７】
・実施形態において、高圧放電線２９は、各信号線３０とは第２の基板２７を挟んで反対側から放電部１３まで延びるのであれば、第２の基板２７の右側を通さなくてもよい。例えば、高圧放電線２９を、第２の基板２７の前面から該第２の基板２７の上側の空間を通って、放電部１３まで延ばしてもよい。この場合、各信号線３０を、第２の基板２７の後面２７ａ側を通って下方に延ばすことが好ましい。より詳しくは、各信号線３０を、イオン生成機構１１とハウジング４１の内側面との間の空間を通って制御対象まで延ばすことがさらに好ましい。こうした構成では第２の基板２７が、各信号線３０が高圧発生回路２６に接近することを規制する規制手段を兼ねる。
【００８８】
・実施形態において、規制壁８５に帯電防止加工を施してもよい。このように構成すると、ハウジング４１内で発生した帯電微粒子が規制壁８５に付着することが抑制される。
・実施形態において、規制壁８５は、磁気ノイズをシールドする機能を有さない材料で構成してもよい。
【００８９】
・実施形態において、規制手段は、信号線３０及び電源線１９が高圧発生回路２６に接近することを規制できる構成であれば、規制壁８５以外の他の任意の構成であってもよい。例えば、規制手段は、前後方向に延びる複数の規制ピンを前後方向に沿って配置した構成であってもよい。また、規制手段は、第２の基板２７の右側に配置された網状部材であってもよい。
【００９０】
・実施形態において、規制手段を設けなくてもよい。
・実施形態において、各信号線３０を、第２の基板２７の左側を通って、第１の基板２１から下方まで延ばしてもよい。
【００９１】
・実施形態において、高圧発生回路２６を、その左右方向における中央が第２の基板２７の左右方向における中央と同一位置又は同一位置よりも左側に位置するのであれば、第２の基板２７に任意の態様で実装させてもよい。例えば、高圧発生回路２６全体を、第２の基板２７の左右方向における中央よりも右側に配置させてもよい。
【００９２】
・実施形態において、高圧発生回路２６が実装される第２の基板２７をハウジング４１内の上側に配置し、電力制御部２０が実装される第１の基板２１をハウジング４１内の下側に配置してもよい。このように配置しても、第２の基板２７を第１の基板２１から離して配置することにより、高圧発生回路２６から発生した磁気ノイズに起因した美容装置１０の誤作動を抑制することができる。
【００９３】
・実施形態において、液体供給部は、放電部１３に液体を供給可能な構成であれば、ペルチェ素子以外の他の液体供給部であってもよい。例えば、液体供給部は、液体を貯留するタンクと該タンク内から液体を供給すべく作動するポンプとを備えたものであってもよい。また、液体供給部は、タンクを放電部よりも上方に配置し、自重によってタンク内の液体を放電部に供給するものであってもよい。
【００９４】
・美容装置は、放電部を備えた構成であれば上記実施形態で示した美容装置以外の他の装置であってもよい。例えば、美容装置は、ヒーターなどの加熱部によって液体を沸騰させて温ミスト（「スチーム」ともいう。）を生成し、該温ミストを放電部での放電で微細化させてから放出させる装置であってもよい。また、美容装置は、ベンチュリー効果を利用する方法や超音波を利用する方法で気化させた冷ミストを、放電部での放電で微細化させてから放出させる装置であってもよい。こうした美容装置でも、第１の電極８０を白金などの金属を含有する端子とすることで放電時に金属微粒子（金属イオン）が発生し、該金属微粒子がミスト共に放出される。
【００９５】
・イオン発生装置としては、例えばコロナ放電によってマイナスイオンやプラスイオンを放出するイオン発生装置であってもよい。
【符号の説明】
【００９６】
１０…美容装置（イオン発生装置）、１２…送風部（制御対象）、１３…放電部、１４…液体供給部の一例としてのペルチェ素子、１６…外部電源、１７…電源ケーブル、１８…電源接続部、１９…電源線、２０…電力制御部、２１…第１の基板、２４…操作部としてのスイッチ、２５…電力発生部としてのペルチェ駆動回路（制御対象）、２６…高圧発生部としての高圧発生回路（制御対象）、２７…第２の基板、２８…供給用電線、２９…高圧放電線、３０，３０Ａ，３０Ｂ…信号線、４１…ハウジング、４４…放出部、４５…頂部、５０…脚部、５１…ハウジング支持部、５１ａ…内側面（内面）、６１…固定部としての第２の固定部、６５…送風経路、６６…送風用ケース、７１…コネクタ（接続部位）、７７…コネクタ（接続部位）、８５…規制手段としての規制壁、Ｇｎｄ…設置面。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電によってイオンを生成する放電部と、
装置全体の制御を司る電力制御部と、
前記電力制御部からの指令に基づき、前記放電部に印加する高電圧を発生する高圧発生部と、
前記放電部で発生したイオンをハウジング外に放出させるための放出部と、を備え、
前記電力制御部を第１の基板に設けると共に、該第１の基板とは異なる位置に配置された第２の基板に前記高圧発生部を設けることを特徴とするイオン発生装置。
【請求項２】
前記放出部は、前記第１の基板と前記第２の基板とが並ぶ方向において当該各基板の間の位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のイオン発生装置。
【請求項３】
前記電力制御部には、制御対象との間で信号の入力又は出力を行うための信号線が電気的に接続されており、
前記高圧発生部は、その大部分が前記ハウジング内において中央よりも一方側に位置するように配置され、
前記信号線は、前記ハウジング内において前記高圧発生部よりも他方側を通って前記制御対象に設けられた接続部位まで延びていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のイオン発生装置。
【請求項４】
前記放電部は、前記高圧発生部で発生された高電圧に基づいた駆動信号が高圧放電線を介して入力されることにより放電するようになっており、
前記高圧放電線は、前記高圧発生部から前記第２の基板における一方側を通って前記放電部まで延び、
前記信号線は、前記第２の基板における他方側を通って前記制御対象の前記接続部位まで延びていることを特徴とする請求項３に記載のイオン発生装置。
【請求項５】
前記信号線が前記高圧発生部に接近することを規制するための規制手段をさらに備えることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載のイオン発生装置。
【請求項６】
前記規制手段は、前記高圧発生部と前記信号線との間に配置される規制壁を有することを特徴とする請求項５に記載のイオン発生装置。
【請求項７】
前記規制壁は、磁気ノイズをシールドする機能を有することを特徴とする請求項６に記載のイオン発生装置。
【請求項８】
前記放電部の少なくとも一部は、前記各基板の並ぶ方向において前記高圧発生部と同一位置に位置しており、
前記高圧放電線は、その延びる方向が前記信号線の延びる方向と交差するように配線されていることを特徴とする請求項４に記載のイオン発生装置。
【請求項９】
前記電力制御部には、複数の前記信号線が接続されており、
前記各信号線は、一つに束ねられていることを特徴とする請求項４又は請求項８に記載のイオン発生装置。
【請求項１０】
前記各基板が並ぶ方向において前記第２の基板を挟んで前記第１の基板の反対側に配置され、外部電源から電力を入力させるための電源ケーブルが接続される電源接続部を備え、
前記電力制御部には、前記電源接続部から電源線を介して電力が供給されるようになっており、
前記電源線は、前記第２の基板における他方側を通って前記電源接続部から前記電力制御部まで延びていることを特徴とする請求項４、請求項８及び請求項９のうち何れか一項に記載のイオン発生装置。
【請求項１１】
前記放電部に液体を供給する液体供給部と、
前記第２の基板に設けられ、且つ前記液体供給部を駆動させるための電圧を発生する電力発生部と、をさらに備え、
前記液体供給部は、前記電力発生部で発生した電圧に基づいた駆動信号が供給用電線を介して入力されることにより駆動するようになっており、
前記供給用電線は、前記第２の基板から該第２の基板の他方側を通って前記液体供給部まで延びていることを特徴とする請求項４及び請求項８〜請求項１０のうち何れか一項に記載のイオン発生装置。
【請求項１２】
前記液体供給部の少なくとも一部は、前記各基板の並ぶ方向において前記高圧発生部と同一位置に位置しており、
前記供給用電線は、その延びる方向が前記信号線の延びる方向と交差するように配線されていることを特徴とする請求項１１に記載のイオン発生装置。
【請求項１３】
前記電力制御部からの指令に基づき、風を発生させるための送風部と、
前記送風部で発生した風を前記放電部まで導く送風経路を有する送風用ケースと、を備え、
前記各基板は、前記送風用ケースに隣り合うように配置されていることを特徴とする請求項１〜請求項１２のうち何れか一項に記載のイオン発生装置。
【請求項１４】
請求項１〜請求項１３のうち何れか一項に記載のイオン発生装置を備えることを特徴とする美容装置。
【請求項１】
放電によってイオンを生成する放電部と、
装置全体の制御を司る電力制御部と、
前記電力制御部からの指令に基づき、前記放電部に印加する高電圧を発生する高圧発生部と、
前記放電部で発生したイオンをハウジング外に放出させるための放出部と、を備え、
前記電力制御部を第１の基板に設けると共に、該第１の基板とは異なる位置に配置された第２の基板に前記高圧発生部を設けることを特徴とするイオン発生装置。
【請求項２】
前記放出部は、前記第１の基板と前記第２の基板とが並ぶ方向において当該各基板の間の位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のイオン発生装置。
【請求項３】
前記電力制御部には、制御対象との間で信号の入力又は出力を行うための信号線が電気的に接続されており、
前記高圧発生部は、その大部分が前記ハウジング内において中央よりも一方側に位置するように配置され、
前記信号線は、前記ハウジング内において前記高圧発生部よりも他方側を通って前記制御対象に設けられた接続部位まで延びていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のイオン発生装置。
【請求項４】
前記放電部は、前記高圧発生部で発生された高電圧に基づいた駆動信号が高圧放電線を介して入力されることにより放電するようになっており、
前記高圧放電線は、前記高圧発生部から前記第２の基板における一方側を通って前記放電部まで延び、
前記信号線は、前記第２の基板における他方側を通って前記制御対象の前記接続部位まで延びていることを特徴とする請求項３に記載のイオン発生装置。
【請求項５】
前記信号線が前記高圧発生部に接近することを規制するための規制手段をさらに備えることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載のイオン発生装置。
【請求項６】
前記規制手段は、前記高圧発生部と前記信号線との間に配置される規制壁を有することを特徴とする請求項５に記載のイオン発生装置。
【請求項７】
前記規制壁は、磁気ノイズをシールドする機能を有することを特徴とする請求項６に記載のイオン発生装置。
【請求項８】
前記放電部の少なくとも一部は、前記各基板の並ぶ方向において前記高圧発生部と同一位置に位置しており、
前記高圧放電線は、その延びる方向が前記信号線の延びる方向と交差するように配線されていることを特徴とする請求項４に記載のイオン発生装置。
【請求項９】
前記電力制御部には、複数の前記信号線が接続されており、
前記各信号線は、一つに束ねられていることを特徴とする請求項４又は請求項８に記載のイオン発生装置。
【請求項１０】
前記各基板が並ぶ方向において前記第２の基板を挟んで前記第１の基板の反対側に配置され、外部電源から電力を入力させるための電源ケーブルが接続される電源接続部を備え、
前記電力制御部には、前記電源接続部から電源線を介して電力が供給されるようになっており、
前記電源線は、前記第２の基板における他方側を通って前記電源接続部から前記電力制御部まで延びていることを特徴とする請求項４、請求項８及び請求項９のうち何れか一項に記載のイオン発生装置。
【請求項１１】
前記放電部に液体を供給する液体供給部と、
前記第２の基板に設けられ、且つ前記液体供給部を駆動させるための電圧を発生する電力発生部と、をさらに備え、
前記液体供給部は、前記電力発生部で発生した電圧に基づいた駆動信号が供給用電線を介して入力されることにより駆動するようになっており、
前記供給用電線は、前記第２の基板から該第２の基板の他方側を通って前記液体供給部まで延びていることを特徴とする請求項４及び請求項８〜請求項１０のうち何れか一項に記載のイオン発生装置。
【請求項１２】
前記液体供給部の少なくとも一部は、前記各基板の並ぶ方向において前記高圧発生部と同一位置に位置しており、
前記供給用電線は、その延びる方向が前記信号線の延びる方向と交差するように配線されていることを特徴とする請求項１１に記載のイオン発生装置。
【請求項１３】
前記電力制御部からの指令に基づき、風を発生させるための送風部と、
前記送風部で発生した風を前記放電部まで導く送風経路を有する送風用ケースと、を備え、
前記各基板は、前記送風用ケースに隣り合うように配置されていることを特徴とする請求項１〜請求項１２のうち何れか一項に記載のイオン発生装置。
【請求項１４】
請求項１〜請求項１３のうち何れか一項に記載のイオン発生装置を備えることを特徴とする美容装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１３−４４１６（Ｐ２０１３−４４１６Ａ）
【公開日】平成２５年１月７日（２０１３．１．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１３６６７１（Ｐ２０１１−１３６６７１）
【出願日】平成２３年６月２０日（２０１１．６．２０）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月７日（２０１３．１．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年６月２０日（２０１１．６．２０）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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