エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイド
【課題】金属及び、樹脂摩耗粉を、ハンドレール裏面の駆動輪走行範囲に付着させないことにより、ハンドレール裏面の摩擦係数を維持することで、ハンドレール裏面の清掃を必要としないエスカレーターハンドレール摺動走行ガイドを提供する。
【解決手段】エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、摺動走行ガイド中央部の凹部幅Aとハンドレールを駆動する駆動輪幅Bの関係が、少なくともA＞（B＋α）である構造とした。
【解決手段】エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、摺動走行ガイド中央部の凹部幅Aとハンドレールを駆動する駆動輪幅Bの関係が、少なくともA＞（B＋α）である構造とした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般にエスカレーターにおいては、乗客を乗せるステップと同期して同方向に移動するハンドレールを設け、このハンドレールにより乗客が転倒しないようにしている。このハンドレールは、ハンドレール駆動装置部における駆動輪でハンドレールを挟圧して、駆動輪とハンドレール裏面との摩擦力でハンドレールを駆動させている。
【０００３】
また、ハンドレールは、無端状で、金属及び、樹脂材の摺動走行ガイド上を摺動し回転する。このハンドレールの走行においては、ハンドレールの裏面は、摺動走行ガイドとの摩擦により、摺動走行ガイド及び、ハンドレールの裏面自身を摩耗させ、ハンドレール裏面は、摺動ガイド材の金属摩耗粉及び、樹脂摩耗粉、ハンドレール裏面摩耗粉が付着する。
【０００４】
ここで、ハンドレール裏面に金属摩耗粉及び、樹脂摩耗粉などの摩耗粉が付着するとハンドレール裏面の摩擦係数が低下し、前記駆動輪とハンドレール間でスリップが生じ、ハンドレールの停止事故に繋がる。
【０００５】
従って、ハンドレール裏面における駆動輪走行面は、摩擦係数を一定以上維持する必要がある。
【０００６】
このような、前記ハンドレール裏面の駆動輪走行面の摩擦係数の維持方法としては、エスカレーターを停止させハンドレールを取外し、ブラシでハンドレール裏面を清掃する方法、また、エスカレーターを稼動させて清掃する方法としては、円筒上のブラシを備えた裏面清掃器具を用いた方法がある（特許文献１）。
【０００７】
また、清掃ブラシ基盤に調節ネジを設け、ブラシとハンドレール裏面の接触圧力の調節設備を設けた裏面清掃器具がある（特許文献２）。
【特許文献１】特開平８−４８４８４号 （段落１９〜２４、図３）
【特許文献２】特開平５−２４６６７９号（段落１２、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記ハンドレール裏面の清掃方法においては、ブラシにより除去した摩耗粉、ゴミ等を自動でハンドレールの外側に排出できないこと。またさらには、ブラッシングによりハンドレール裏面を傷つけてしまう。
【０００９】
また、一旦、ハンドレール裏面に金属及び、樹脂摩耗粉が付着すると、ハンドレール走行時ハンドレール裏面は、駆動輪上を通過する時、駆動輪走行範囲においては、駆動輪の挟圧力により摩耗粉が押し固められ、ブラシでは全てを除去するのは困難である。
【００１０】
本発明の目的は、金属及び、樹脂摩耗粉が、ハンドレール裏面の駆動輪走行範囲に付着させないことにより、ハンドレール裏面の清掃を必要としないエスカレーターハンドレール摺動走行ガイドを提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、
本発明の請求項１では、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド中央部の凹部幅Aとハンドレールを駆動する駆動輪幅Bの関係が、少なくともA＞（B＋α）である構造にすることを特徴とした。これにより、ハンドレール裏面は、駆動輪走行面は、摺動走行ガイドと接触することなく走行することができる。
【００１２】
また請求項２では、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイドの断面方向に少なくとも１つ以上の凹み部と、凹み部は摺動走行ガイドの断面方向に傾斜をもつ構造にしたことを特徴とした。これにより、ハンドレール裏面の摺動走行ガイド接触部においては、摺動走行ガイドの摩耗粉が前記凹み部に落ちる。
【００１３】
また、前記凹み部を摺動走行ガイド断面方向に傾斜を持つ構造とした為、ハンドレール走行振動により、摺動走行ガイドの摩耗粉が摺動走行ガイド上に溜まることなく、ハンドレールが走行することができる。
【００１４】
また請求項３では、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド材は、導電性物質を含み、導電性を有することを特徴とした。 これによりハンドレールの裏面と摺動走行ガイド間で静電気を発生させることなくハンドレールが走行することができる。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１による効果としては、
ハンドレール裏面の駆動輪走行面は、摺動走行ガイドと接触することなく走行することにより、ハンドレール裏面の駆動輪走行面に、摺動走行ガイドの摩耗粉が付着させることなく、ハンドレールを走行することができる。これにより、ハンドレール裏面の清掃をすることなくハンドレール裏面の摩擦係数を維持することができる。
【００１６】
請求項２による効果としては、
摺動走行ガイドの断面方向に少なくとも１つ以上の凹み部と、凹み部は摺動走行ガイドの断面方向に傾斜をもつ構造にしたことにより、ハンドレール裏面の摺動走行ガイド接触部においては、摺動走行ガイドの摩耗粉が前記凹み部に落ちること。
【００１７】
また、前記凹み部を摺動走行ガイド断面方向に傾斜を持つ構造とした為、ハンドレール走行振動により、摺動走行ガイドの摩耗粉が摺動走行ガイド上に溜まることなく、ハンドレールが走行する為、摺動走行ガイド摩耗粉は、常に摺動走行ガイド上から排泄される為、摩耗粉とハンドレール裏面のガイド摺動部への摩耗粉付着を低減させ、さらに摩耗粉がハンドレール裏面の駆動輪走行面に転写することなくハンドレールが走行出来る。これにより、ハンドレール裏面の摩擦係数を維持することができる。
【００１８】
請求項３による効果としては、
摺動走行ガイド材は、導電性物質を含み、導電性を有することを特徴とした。上記構造とすることで、ハンドレールの裏面と摺動走行ガイド間で静電気を発生させることなくハンドレールが走行でき、摺走行ガイド摩耗粉が静電気によりハンドレール裏面に付着することをなくすことが可能となる。これにより、ハンドレール裏面の摺動走行ガイドとの接触部分においても摩耗粉の付着を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明になるハンドレールの摺動走行面の清掃方法の実施形態を図に基づいて説明する。
【００２０】
図１は、本発明の実施形態に係るエスカレーターの全体概要図。
【００２１】
図２は、本発明の実施形態に係るハンドレール駆動装置部における、ハンドレール裏面の駆動輪走行面と、駆動輪の概要図。
【００２２】
図３は、本発明の実施形態に係る摺動走行ガイドの断面図及び、ハンドレール裏面における駆動輪走行面を示すハンドレール断面図。
【００２３】
図４は、本発明の実施の形態に係る摺動走行ガイドの断面図・側面図及び、斜視図。
【００２４】
図５は、ハンドレール走行におけるハンドレール裏面と摺動走行ガイド間での静電気発生概要を示す図。
【００２５】
図１において、一般に、搬送装置、例えばエスカレーター１のハンドレール２は図１に示すように、上部機械室内に設けられたエスカレーター駆動用ドライビングマシン１０１駆動回転を、ドライビングチェーン１０２でハンドレール駆動スプロケット１０３の回転をハンドレール駆動チェーン１０４でハンドレール駆動装置１０５に伝達し、このハンドレール駆動装置１０５に伝達されて回転する駆動輪１０６で、無端状に配置されたハンドレール２を挟圧し、駆動輪１０６の回転を利用してハンドレール２は、摺動走行ガイド３上を稼動する。
【００２６】
図２において、ハンドレール駆動装置部１０５のハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１と駆動輪１０６の間において、ハンドレール２には、ハンドレール２の自重及び、摺動走行ガイド面上（図示せず）を走行することにより、ハンドレール走行方向とは逆むきの走行抵抗F４が生じる。また、駆動輪１０６は、ハンドレール２を走行させるグリップ力を保つ為、ハンドレールに挟圧力P５を負荷する構造である。ここで、ハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１の摩擦係数μ６が著しく低下すると、前記駆動輪１０６と、ハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１の間で摩擦力が無くなり、スリップが生じる。以上のような概要によりハンドレールは走行する。
【００２７】
図３において、摺動走行ガイド３は、ハンドレール裏面のハンドレール湾曲部２０２と接触し、摺動走行ガイド３は、中央部が凹型３０１で、ハンドレール２の駆動輪走行面２０１と否接触となる構成とし、中央部の凹型部３０１で摺動走行ガイド３とエスカレーター欄干７とを締結ねじ８で締結される構造とした。
【００２８】
また、摺動走行ガイド３は、ハンドレールの駆動輪走行面２０１と否接触となるように摺動走行ガイド凹部の非接触部寸法A３０２と駆動輪寸法B１０７の関係をA＞（B＋α）となる構造とした。上記構造により、ハンドレール２が走行することが可能な為、ハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１上に、摺動走行ガイド３の摩耗粉が付着しないことにより、ブラシ清掃などを使用することなく、駆動輪走行面２０１の摩擦係数を維持することができる。
【００２９】
図４において、摺動走行ガイド３は、断面方向に、凹型溝３０３を構成した。また、前記凹型溝３０３は、ガイド断面方向に傾斜勾配を持つ構造とした。
【００３０】
上記構造により、摺動走行ガイド３の摩耗粉は、ハンドレール２の走行に伴い、凹型溝３０３に運ばれる。また、凹型溝３０３は、傾斜勾配構造とすることにより、摩耗粉が、摺動走行ガイド３上に堆積することなく、ハンドレール２が走行できる為、摺動走行ガイド３の摩耗粉は、常に摺動走行ガイド３上から排泄される為、摩耗粉とハンドレール裏面のガイド摺動部（図示せず）への摩耗粉の再付着をさせないことが可能となる。これにより、摩耗粉がハンドレール裏面のガイド摺動部（図示せず）に過剰に堆積することが無いため、ハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１に転写することなくハンドレール２が走行可能となる。これにより、ハンドレール裏面の摩擦係数を維持することができる。
【００３１】
図５において、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド材は、カーボンの粒子を材料中に含ませる構造とした。これにより、摺動走行ガイドは、導電性を有する。上記構造にすることにより、ハンドレールの裏面と摺動走行ガイド間で静電気９を発生させることなくハンドレールが走行することが可能となる。これにより、静電気９によりハンドレール裏面に付着することをなくすことができ、ハンドレール裏面の摺動走行ガイド３との接触部分において摩耗粉の付着を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施形態に係るエスカレーターの全体概要図。
【図２】本発明の実施形態に係るハンドレール駆動装置部における、ハンドレール裏面の駆動輪走行面と、駆動輪の概要図。
【図３】本発明の実施形態に係る摺動走行ガイドの断面図及び、ハンドレール裏面における駆動輪走行面を示すハンドレール断面図。
【図４】本発明の実施の形態に係る摺動走行ガイドの断面図・側面図及び、斜視図。
【図５】ハンドレール走行におけるハンドレール裏面と摺動走行ガイド間での静電気発生概要を示す図。
【符号の説明】
【００３３】
１ エスカレーター
１０１ エスカレーター駆動用ドライビングマシン
１０２ ドライビングチェーン
１０３ ハンドレール駆動スプロケット
１０４ ハンドレール駆動チェーン
１０５ ハンドレール駆動装置
１０６ 駆動輪
１０７ 駆動輪寸法B
２ ハンドレール
２０１ ハンドレール裏面の駆動輪走行面
２０２ ハンドレール裏面のハンドレール湾曲部
３ 摺動走行ガイド
３０１ 摺動走行ガイドの中央部凹型
３０２ ガイド凹部の非接触部寸法A
３０３ 凹型溝
４ 走行抵抗F
５ 挟圧力P
６ 摩擦係数μ
７ エスカレーター欄干
８ 締結ねじ
９ 静電気
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般にエスカレーターにおいては、乗客を乗せるステップと同期して同方向に移動するハンドレールを設け、このハンドレールにより乗客が転倒しないようにしている。このハンドレールは、ハンドレール駆動装置部における駆動輪でハンドレールを挟圧して、駆動輪とハンドレール裏面との摩擦力でハンドレールを駆動させている。
【０００３】
また、ハンドレールは、無端状で、金属及び、樹脂材の摺動走行ガイド上を摺動し回転する。このハンドレールの走行においては、ハンドレールの裏面は、摺動走行ガイドとの摩擦により、摺動走行ガイド及び、ハンドレールの裏面自身を摩耗させ、ハンドレール裏面は、摺動ガイド材の金属摩耗粉及び、樹脂摩耗粉、ハンドレール裏面摩耗粉が付着する。
【０００４】
ここで、ハンドレール裏面に金属摩耗粉及び、樹脂摩耗粉などの摩耗粉が付着するとハンドレール裏面の摩擦係数が低下し、前記駆動輪とハンドレール間でスリップが生じ、ハンドレールの停止事故に繋がる。
【０００５】
従って、ハンドレール裏面における駆動輪走行面は、摩擦係数を一定以上維持する必要がある。
【０００６】
このような、前記ハンドレール裏面の駆動輪走行面の摩擦係数の維持方法としては、エスカレーターを停止させハンドレールを取外し、ブラシでハンドレール裏面を清掃する方法、また、エスカレーターを稼動させて清掃する方法としては、円筒上のブラシを備えた裏面清掃器具を用いた方法がある（特許文献１）。
【０００７】
また、清掃ブラシ基盤に調節ネジを設け、ブラシとハンドレール裏面の接触圧力の調節設備を設けた裏面清掃器具がある（特許文献２）。
【特許文献１】特開平８−４８４８４号 （段落１９〜２４、図３）
【特許文献２】特開平５−２４６６７９号（段落１２、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記ハンドレール裏面の清掃方法においては、ブラシにより除去した摩耗粉、ゴミ等を自動でハンドレールの外側に排出できないこと。またさらには、ブラッシングによりハンドレール裏面を傷つけてしまう。
【０００９】
また、一旦、ハンドレール裏面に金属及び、樹脂摩耗粉が付着すると、ハンドレール走行時ハンドレール裏面は、駆動輪上を通過する時、駆動輪走行範囲においては、駆動輪の挟圧力により摩耗粉が押し固められ、ブラシでは全てを除去するのは困難である。
【００１０】
本発明の目的は、金属及び、樹脂摩耗粉が、ハンドレール裏面の駆動輪走行範囲に付着させないことにより、ハンドレール裏面の清掃を必要としないエスカレーターハンドレール摺動走行ガイドを提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、
本発明の請求項１では、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド中央部の凹部幅Aとハンドレールを駆動する駆動輪幅Bの関係が、少なくともA＞（B＋α）である構造にすることを特徴とした。これにより、ハンドレール裏面は、駆動輪走行面は、摺動走行ガイドと接触することなく走行することができる。
【００１２】
また請求項２では、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイドの断面方向に少なくとも１つ以上の凹み部と、凹み部は摺動走行ガイドの断面方向に傾斜をもつ構造にしたことを特徴とした。これにより、ハンドレール裏面の摺動走行ガイド接触部においては、摺動走行ガイドの摩耗粉が前記凹み部に落ちる。
【００１３】
また、前記凹み部を摺動走行ガイド断面方向に傾斜を持つ構造とした為、ハンドレール走行振動により、摺動走行ガイドの摩耗粉が摺動走行ガイド上に溜まることなく、ハンドレールが走行することができる。
【００１４】
また請求項３では、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド材は、導電性物質を含み、導電性を有することを特徴とした。 これによりハンドレールの裏面と摺動走行ガイド間で静電気を発生させることなくハンドレールが走行することができる。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１による効果としては、
ハンドレール裏面の駆動輪走行面は、摺動走行ガイドと接触することなく走行することにより、ハンドレール裏面の駆動輪走行面に、摺動走行ガイドの摩耗粉が付着させることなく、ハンドレールを走行することができる。これにより、ハンドレール裏面の清掃をすることなくハンドレール裏面の摩擦係数を維持することができる。
【００１６】
請求項２による効果としては、
摺動走行ガイドの断面方向に少なくとも１つ以上の凹み部と、凹み部は摺動走行ガイドの断面方向に傾斜をもつ構造にしたことにより、ハンドレール裏面の摺動走行ガイド接触部においては、摺動走行ガイドの摩耗粉が前記凹み部に落ちること。
【００１７】
また、前記凹み部を摺動走行ガイド断面方向に傾斜を持つ構造とした為、ハンドレール走行振動により、摺動走行ガイドの摩耗粉が摺動走行ガイド上に溜まることなく、ハンドレールが走行する為、摺動走行ガイド摩耗粉は、常に摺動走行ガイド上から排泄される為、摩耗粉とハンドレール裏面のガイド摺動部への摩耗粉付着を低減させ、さらに摩耗粉がハンドレール裏面の駆動輪走行面に転写することなくハンドレールが走行出来る。これにより、ハンドレール裏面の摩擦係数を維持することができる。
【００１８】
請求項３による効果としては、
摺動走行ガイド材は、導電性物質を含み、導電性を有することを特徴とした。上記構造とすることで、ハンドレールの裏面と摺動走行ガイド間で静電気を発生させることなくハンドレールが走行でき、摺走行ガイド摩耗粉が静電気によりハンドレール裏面に付着することをなくすことが可能となる。これにより、ハンドレール裏面の摺動走行ガイドとの接触部分においても摩耗粉の付着を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明になるハンドレールの摺動走行面の清掃方法の実施形態を図に基づいて説明する。
【００２０】
図１は、本発明の実施形態に係るエスカレーターの全体概要図。
【００２１】
図２は、本発明の実施形態に係るハンドレール駆動装置部における、ハンドレール裏面の駆動輪走行面と、駆動輪の概要図。
【００２２】
図３は、本発明の実施形態に係る摺動走行ガイドの断面図及び、ハンドレール裏面における駆動輪走行面を示すハンドレール断面図。
【００２３】
図４は、本発明の実施の形態に係る摺動走行ガイドの断面図・側面図及び、斜視図。
【００２４】
図５は、ハンドレール走行におけるハンドレール裏面と摺動走行ガイド間での静電気発生概要を示す図。
【００２５】
図１において、一般に、搬送装置、例えばエスカレーター１のハンドレール２は図１に示すように、上部機械室内に設けられたエスカレーター駆動用ドライビングマシン１０１駆動回転を、ドライビングチェーン１０２でハンドレール駆動スプロケット１０３の回転をハンドレール駆動チェーン１０４でハンドレール駆動装置１０５に伝達し、このハンドレール駆動装置１０５に伝達されて回転する駆動輪１０６で、無端状に配置されたハンドレール２を挟圧し、駆動輪１０６の回転を利用してハンドレール２は、摺動走行ガイド３上を稼動する。
【００２６】
図２において、ハンドレール駆動装置部１０５のハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１と駆動輪１０６の間において、ハンドレール２には、ハンドレール２の自重及び、摺動走行ガイド面上（図示せず）を走行することにより、ハンドレール走行方向とは逆むきの走行抵抗F４が生じる。また、駆動輪１０６は、ハンドレール２を走行させるグリップ力を保つ為、ハンドレールに挟圧力P５を負荷する構造である。ここで、ハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１の摩擦係数μ６が著しく低下すると、前記駆動輪１０６と、ハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１の間で摩擦力が無くなり、スリップが生じる。以上のような概要によりハンドレールは走行する。
【００２７】
図３において、摺動走行ガイド３は、ハンドレール裏面のハンドレール湾曲部２０２と接触し、摺動走行ガイド３は、中央部が凹型３０１で、ハンドレール２の駆動輪走行面２０１と否接触となる構成とし、中央部の凹型部３０１で摺動走行ガイド３とエスカレーター欄干７とを締結ねじ８で締結される構造とした。
【００２８】
また、摺動走行ガイド３は、ハンドレールの駆動輪走行面２０１と否接触となるように摺動走行ガイド凹部の非接触部寸法A３０２と駆動輪寸法B１０７の関係をA＞（B＋α）となる構造とした。上記構造により、ハンドレール２が走行することが可能な為、ハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１上に、摺動走行ガイド３の摩耗粉が付着しないことにより、ブラシ清掃などを使用することなく、駆動輪走行面２０１の摩擦係数を維持することができる。
【００２９】
図４において、摺動走行ガイド３は、断面方向に、凹型溝３０３を構成した。また、前記凹型溝３０３は、ガイド断面方向に傾斜勾配を持つ構造とした。
【００３０】
上記構造により、摺動走行ガイド３の摩耗粉は、ハンドレール２の走行に伴い、凹型溝３０３に運ばれる。また、凹型溝３０３は、傾斜勾配構造とすることにより、摩耗粉が、摺動走行ガイド３上に堆積することなく、ハンドレール２が走行できる為、摺動走行ガイド３の摩耗粉は、常に摺動走行ガイド３上から排泄される為、摩耗粉とハンドレール裏面のガイド摺動部（図示せず）への摩耗粉の再付着をさせないことが可能となる。これにより、摩耗粉がハンドレール裏面のガイド摺動部（図示せず）に過剰に堆積することが無いため、ハンドレール裏面の駆動輪走行面２０１に転写することなくハンドレール２が走行可能となる。これにより、ハンドレール裏面の摩擦係数を維持することができる。
【００３１】
図５において、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド材は、カーボンの粒子を材料中に含ませる構造とした。これにより、摺動走行ガイドは、導電性を有する。上記構造にすることにより、ハンドレールの裏面と摺動走行ガイド間で静電気９を発生させることなくハンドレールが走行することが可能となる。これにより、静電気９によりハンドレール裏面に付着することをなくすことができ、ハンドレール裏面の摺動走行ガイド３との接触部分において摩耗粉の付着を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施形態に係るエスカレーターの全体概要図。
【図２】本発明の実施形態に係るハンドレール駆動装置部における、ハンドレール裏面の駆動輪走行面と、駆動輪の概要図。
【図３】本発明の実施形態に係る摺動走行ガイドの断面図及び、ハンドレール裏面における駆動輪走行面を示すハンドレール断面図。
【図４】本発明の実施の形態に係る摺動走行ガイドの断面図・側面図及び、斜視図。
【図５】ハンドレール走行におけるハンドレール裏面と摺動走行ガイド間での静電気発生概要を示す図。
【符号の説明】
【００３３】
１ エスカレーター
１０１ エスカレーター駆動用ドライビングマシン
１０２ ドライビングチェーン
１０３ ハンドレール駆動スプロケット
１０４ ハンドレール駆動チェーン
１０５ ハンドレール駆動装置
１０６ 駆動輪
１０７ 駆動輪寸法B
２ ハンドレール
２０１ ハンドレール裏面の駆動輪走行面
２０２ ハンドレール裏面のハンドレール湾曲部
３ 摺動走行ガイド
３０１ 摺動走行ガイドの中央部凹型
３０２ ガイド凹部の非接触部寸法A
３０３ 凹型溝
４ 走行抵抗F
５ 挟圧力P
６ 摩擦係数μ
７ エスカレーター欄干
８ 締結ねじ
９ 静電気
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド中央部の凹部幅Aとハンドレールを駆動する駆動輪幅Bの関係が、少なくともA＞（B＋α）の関係である構造にすることを特徴とする、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイド。
【請求項２】
エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイドの断面方向に少なくとも１つ以上の凹み部と、凹み部は摺動走行ガイドの断面方向に傾斜をもつ構造にしたことを特徴とする、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイド。
【請求項３】
エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド材は、導電性物質を含み、導電性を有することを特徴とする、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイド。
【請求項１】
エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド中央部の凹部幅Aとハンドレールを駆動する駆動輪幅Bの関係が、少なくともA＞（B＋α）の関係である構造にすることを特徴とする、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイド。
【請求項２】
エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイドの断面方向に少なくとも１つ以上の凹み部と、凹み部は摺動走行ガイドの断面方向に傾斜をもつ構造にしたことを特徴とする、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイド。
【請求項３】
エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイドにおいて、
摺動走行ガイド材は、導電性物質を含み、導電性を有することを特徴とする、エスカレーターハンドレールの摺動走行ガイド。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００７−２３８２６３（Ｐ２００７−２３８２６３Ａ）
【公開日】平成１９年９月２０日（２００７．９．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−６２６０１（Ｐ２００６−６２６０１）
【出願日】平成１８年３月８日（２００６．３．８）
【出願人】（０００２３２９５５）株式会社日立ビルシステム (895)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月２０日（２００７．９．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年３月８日（２００６．３．８）
【出願人】（０００２３２９５５）株式会社日立ビルシステム (895)
【Ｆターム（参考）】
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