ジアリルビスフェノール化合物の製造方法
【課題】着色が少なく純度の高いジアリルビスフェノール化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転移させてジアリルビスフェノール化合物を含有する反応液を得、次いで、当該反応液をアルカリ水溶液で処理してジアリルビスフェノール化合物を回収するジアリルビスフェノール化合物の製造方法において、クライゼン転移の前からアルカリ水溶液による反応液の処理に至るまでの間に反応系内に式（Ｉ）で表されるヒドロキシルアミン類から選ばれる少なくとも一種を添加して撹拌処理する。
【化１】
【解決手段】ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転移させてジアリルビスフェノール化合物を含有する反応液を得、次いで、当該反応液をアルカリ水溶液で処理してジアリルビスフェノール化合物を回収するジアリルビスフェノール化合物の製造方法において、クライゼン転移の前からアルカリ水溶液による反応液の処理に至るまでの間に反応系内に式（Ｉ）で表されるヒドロキシルアミン類から選ばれる少なくとも一種を添加して撹拌処理する。
【化１】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジアリルビスフェノール化合物の製造方法に関し、詳しくは、着色が少なく純度の高いジアリルビスフェノール化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にジアリルビスフェノール化合物は以下の方法によって製造されている。すなわち、先ず、ビスフェノール化合物を適当な溶媒に溶解した後、水酸化ナトリウム、ソジウムメチラート等の塩基によって塩とした後、塩化アリル、臭化アリル等のハロゲン化アリルと反応させることにより、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物を得る。次いで、パラフィンオイル、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアニリン等の高沸点溶媒の存在下または不存在下において、１５０〜２３０℃で０．１〜１００時間加熱することにより、上記のジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転位させる（例えば特許文献１及び特許文献２参照）。
【０００３】
また、ジアリルビスフェノール化合物の精製方法として、上記のクライゼン転移で得られた反応液をアルカリ水溶液で処理して約９５重量％以上の純度でジアリルビスフェノール化合物を回収する方法が提案されている（例えば特許文献３参照）。この方法は、反応液中に含まれる主要副生物であるモノアリル化ビスフェノール化合物を選択的に除去する方法であり、次の様なアルカリの作用に基づいている。
【０００４】
アルカリ水溶液中においてはアリル基の少ない化合物の方がアリル基の多い化合物よりアルカリ塩になり易く水に溶解し易い。すなわち、水に溶解してからアルカリ塩が形成されるが、水に対する溶解度に差があり、アリル基の少ない化合物の方の化合物の方溶解度が大きい。従って、アルカリの量を調節してアルカリ水溶液で洗浄することによりモノアリルビスフェノール化合物を選択的に除去することが出来る。
【０００５】
しかしながら、アルカリ水溶液で反応液を処理した場合、得られるジアリルビスフェノール化合物が着色とするという問題がある。
【０００６】
【特許文献１】特公平５−６０４５２号公報
【特許文献２】特公平５−６０４５１号公報
【特許文献３】ＷＯ２００６／０５９７７４Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、その目的は、着色が少なく純度の高いジアリルビスフェノール化合物の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明の要旨は、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転移させてジアリルビスフェノール化合物を含有する反応液を得、次いで、当該反応液をアルカリ水溶液で処理してジアリルビスフェノール化合物を回収するジアリルビスフェノール化合物の製造方法において、クライゼン転移の前からアルカリ水溶液による反応液の処理に至るまでの間に反応系内に式（Ｉ）で表されるヒドロキシルアミン類から選ばれる少なくとも一種を添加して撹拌処理すること特徴とするジアリルビスフェノール化合物の製造方法に存する。
【０００９】
【化１】
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、着色が少なく純度の高いジアリルビスフェノール化合物を製造することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明においては、基本的には、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転移させてジアリルビスフェノール化合物を含有する反応液を得、次いで、当該反応液をアルカリ水溶液で処理してジアリルビスフェノール化合物を回収する。
【００１２】
上記のジアリルエーテル化ビスフェノール化合物は、公知の方法に従い、アルカリ金属水酸化物などの塩基の存在下、ビスフェノール化合物に、塩化アリル、臭化アリル、メチルアリルクロライド等のハロゲン化アリルを反応させることにより得られる。
【００１３】
上記のビスフェノール化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビフェノール、４，４’−（１−メチル−エチリデン）ビス［２−メチルフェノール］、４，４’−（１，３−ジメチルブチリデン）ビスフェノール、４，４’−（２−フェニルエチリデン）ビスフェノール、４，４’−（２−エチルヘキシリデン）ビスフェノール、シクロヘキシリデンビスフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタノン、４，４’−（ジメチルシリレン）ビスフェノール、４，４’−オキシビスフェノール等が挙げられる。
【００１４】
本発明において、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物のクライゼン転移は、公知の方法に従って行うことが出来る。すなわち、パラフィンオイル、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアニリン等の高沸点溶媒の存在下または不存在下において、１５０〜２３０℃で０．１〜１００時間ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物を加熱する。得られた反応液は、目的物のジアリルビスフェノール化合物の他に、副生物としてモノアリルビスフェノール化合物などを含む。通常、反応液中のジアリルビスフェノール化合物の含有量は約９０重量％である。
【００１５】
本発明において、反応液のアルカリ水溶液による処理は前述の先行技術に記載された公知の方法によって行うことが出来る。すなわち、ジアリルビスフェノール化合物に対して０．０１〜０．４重量倍当量のアルカリを含むアルカリ水溶液で少なくとも一回以上洗浄する。通常、アルカリとしてはＮａＯＨが使用される。そして、上記のアルカリ処理においては、ジアリルビスフェノール化合物の一層の精製を図るため、モノアリルビスフェノール化合物を除去した溶液にアルカリ水溶液を添加してジアリルビスフェノール化合物の全量をアルカリ塩として水に溶解させ、有機溶媒で抽出することも出来る。
【００１６】
本発明の特徴は、クライゼン転移の前からアルカリ水溶液による反応液の処理に至るまでの間に反応系内に式（Ｉ）で表されるヒドロキシルアミン類から選ばれる少なくとも一種を添加して撹拌処理する点にある。
【００１７】
【化２】
【００１８】
上記（Ｉ）式で示されるヒドロキシルアミン類としては、例えば、ヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルヒドロキシルアミン、Ｎ−エチルヒドロキシルアミン、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシルアミン、Ｎ−シクロヘキシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシルアミン、及びＮ−メチル、Ｎ−エチルヒドロキシルアミン等が挙げられる。これらの中でも、ジアルキルヒドロキシルアミン、特に、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル，Ｎ−エチルヒドロキシルアミンがより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンが更に好ましい。また、上記ヒドロキシルアミン類の無機酸塩や有機酸塩も使用でき、その具体例としては、リン酸塩、スルファミン塩、酢酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、スルホサリチル酸塩、サリチル酸塩などが挙げられる。これらは二種以上を併用してもよい。
【００１９】
ヒドロキシルアミン類の添加量は、加熱転位前のアリルエーテル化多価フェノール化合物に対し、通常０．０２％〜３重量％、好ましくは０．２０％〜２．０重量％である。ヒドロキシルアミン類の添加量が上記の範囲より少ない場合は、ジアリルビスフェノール化合物の着色を防止ないしは抑制する効果が少なく、上記の範囲より多い場合は、効果が頭打ちになるだけでなく、処理後に残存する可能性が高まり、製品に影響を及ぼす恐れがある。
【００２０】
ヒドロキシルアミン類は、そのまま使用してもよく、または、必要に応じ、水や溶媒により希釈した溶液として添加することが出来る。添加する溶液中のヒドロキシルアミン及びその塩の濃度は、溶媒種、添加量などにより、適宜選択される。
【００２１】
ヒドロキシルアミン類の添加は、アルカリ水溶液による反応液の処理前の任意の段階で行うことが出来る。例えば、クライゼン転移前、クライゼン転移時、クライゼン転移後の何れであってもよい。通常は、クライゼン転移後、すなわち、クライゼン転移の反応液に添加される。ヒドロキシルアミン類の添加後の撹拌処理は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気で行うのが好ましい。また、処理温度は、通常０〜８０℃、好ましくは１５〜５０℃であり、処理時間は、反応液にヒドロキシルアミン類が均一に混合される時間で十分であり、通常３０分程度である。
【００２２】
ヒドロキシルアミン類によりジアリルビスフェノール化合物の着色が防止ないしは抑制される作用機構は、必ずしも明らかではないが、一応、次の様に推測される。すなわち、ジアリルビスフェノール化合物の着色は、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物のクライゼン転位、または、その後のアルカリ処理の際に生成した着色成分の前駆体が酸化を受けて着色成分に変換されることにより惹起されるが、着色成分に変換される前の前駆体であれば、これをヒドロキシルアミン類で還元して除去することが出来、それにより、ジアリルビスフェノール化合物の着色が防止ないしは抑制される。
【００２３】
なお、前述のアルカリ処理により、上記と同様の着色成分の前駆体が僅かに生成することがあるが、その場合は、必要に応じ、再度、上記と同様のヒドロキシルアミン類による処理を行ってもよい。
【００２４】
本発明によれば、着色が少なく純度の高いジアリルビスフェノール化合物が得られるが、斯かるジアリルビスフェノール化合物は、半導体封止用を始めとする電気・電子部品絶縁材料用に好適に利用するが出来る。また、プリント配線板やＣＦＲＰ（炭素繊維強化プラスチック）をはじめとする各種複合材料用、各種接着剤用、各種塗料用、構造用部材などに有用なポリイミド樹脂やエポキシ樹脂の原料として好適に利用することが出来る。特に式（II）で表される２，２’−ジアリルビスフェノールＡは有用である。
【００２５】
【化３】
【実施例】
【００２６】
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下の諸例においては、着色の程度はＹＩ値で評価を行なった。そして、ＹＩ値の測定において、試料は、得られたジアリルビスフェノール化合物１重量部にトルエン３重量部を加えて調製した。また、ジアリルビスフェノール化合物の純度（面積％）は以下の条件によるＨＰＬＣ分析によって求めた。
【００２７】
＜ＹＩ値（黄色度）＞
日本電色工業株式会社製分光式色彩計を使用し、反射法にてＹＩ値（黄色度）の測定を行った。得られた数値が小さいほど着色度合が小さい。
【００２８】
＜ＨＰＬＣ条件＞
カラム：ＯＤＳ（４．６ｍｍ×１５０ｍｍ）
移動層：アセトニトリル／水（７／３）
流量：０．８ｍＬ／分
検出波長：２８０ｎｍ
【００２９】
実施例１：
四つ口フラスコに４，４’−ジアリルオキシビスフェノールＡ：３０．８重量部、パラフィン系潤滑油（出光興産製「ダイアナフレシアＷ−８」）：３０．８重量部を仕込み、１９０℃にて１０時間反応（クライゼン転移）を行なった。反応終了後、室温まで冷却した。２層になった下層をコック付の四つ口フラスコへ移し、粗２，２’−ジアリルビスフェノールＡを得た。ＨＰＬＣにおける２，２’−ジアリルビスフェノールＡの純度は９２．５％であった。この中にＮ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン：０．０３重量部を加えよく撹拌した。
【００３０】
次いで、水酸化ナトリウム：８重量部とトルエン：１５重量部を加え、分液した後、上層のトルエン層を除去した。下層を更にトルエン１５重量部で２回洗浄した。その後、下層を３５重量％塩酸の２０．８重量部で中和した後、トルエン：２３重量部で抽出した。トルエン層を中性になるまで水洗し、トルエンを減圧留去すると、液体２５ｇが得られた（収率８１重量％）。ＨＰＬＣにおける２，２’−ジアリルビスフェノールＡの純度（面積％）は９７．３％であった。表１に得られた２，２’−ジアリルビスフェノールＡのＹＩ値と純度（面積％）を示す。
【００３１】
実施例２〜５：
実施例１において、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンの代わりに表１に記載の添加剤と添加量を採用した以外は、実施例１と同様にして２，２’−ジアリルビスフェノールＡを得た。表１に得られた２，２’−ジアリルビスフェノールＡのＹＩ値と純度（面積％）を示す。
【００３２】
比較例１及び２:
実施例１において、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンの代わりに表１に記載の添加剤と添加量を採用した以外は、実施例１と同様にして２，２’−ジアリルビスフェノールＡを得た。表１に得られた２，２’−ジアリルビスフェノールＡのＹＩ値と純度（面積％）を示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】
表１の結果から次のことが明らかである。すなわち、添加剤として、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンやヒドロキシルアミンを採用した場合は、還元剤に分類される亜硫酸ナトリウムを採用した場合や無添加の場合に比し、ＹＩ値が大幅に向上しており、面積％を損なうことなく着色抑制が達成されていることが明らかである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジアリルビスフェノール化合物の製造方法に関し、詳しくは、着色が少なく純度の高いジアリルビスフェノール化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にジアリルビスフェノール化合物は以下の方法によって製造されている。すなわち、先ず、ビスフェノール化合物を適当な溶媒に溶解した後、水酸化ナトリウム、ソジウムメチラート等の塩基によって塩とした後、塩化アリル、臭化アリル等のハロゲン化アリルと反応させることにより、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物を得る。次いで、パラフィンオイル、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアニリン等の高沸点溶媒の存在下または不存在下において、１５０〜２３０℃で０．１〜１００時間加熱することにより、上記のジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転位させる（例えば特許文献１及び特許文献２参照）。
【０００３】
また、ジアリルビスフェノール化合物の精製方法として、上記のクライゼン転移で得られた反応液をアルカリ水溶液で処理して約９５重量％以上の純度でジアリルビスフェノール化合物を回収する方法が提案されている（例えば特許文献３参照）。この方法は、反応液中に含まれる主要副生物であるモノアリル化ビスフェノール化合物を選択的に除去する方法であり、次の様なアルカリの作用に基づいている。
【０００４】
アルカリ水溶液中においてはアリル基の少ない化合物の方がアリル基の多い化合物よりアルカリ塩になり易く水に溶解し易い。すなわち、水に溶解してからアルカリ塩が形成されるが、水に対する溶解度に差があり、アリル基の少ない化合物の方の化合物の方溶解度が大きい。従って、アルカリの量を調節してアルカリ水溶液で洗浄することによりモノアリルビスフェノール化合物を選択的に除去することが出来る。
【０００５】
しかしながら、アルカリ水溶液で反応液を処理した場合、得られるジアリルビスフェノール化合物が着色とするという問題がある。
【０００６】
【特許文献１】特公平５−６０４５２号公報
【特許文献２】特公平５−６０４５１号公報
【特許文献３】ＷＯ２００６／０５９７７４Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、その目的は、着色が少なく純度の高いジアリルビスフェノール化合物の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明の要旨は、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転移させてジアリルビスフェノール化合物を含有する反応液を得、次いで、当該反応液をアルカリ水溶液で処理してジアリルビスフェノール化合物を回収するジアリルビスフェノール化合物の製造方法において、クライゼン転移の前からアルカリ水溶液による反応液の処理に至るまでの間に反応系内に式（Ｉ）で表されるヒドロキシルアミン類から選ばれる少なくとも一種を添加して撹拌処理すること特徴とするジアリルビスフェノール化合物の製造方法に存する。
【０００９】
【化１】
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、着色が少なく純度の高いジアリルビスフェノール化合物を製造することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明においては、基本的には、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転移させてジアリルビスフェノール化合物を含有する反応液を得、次いで、当該反応液をアルカリ水溶液で処理してジアリルビスフェノール化合物を回収する。
【００１２】
上記のジアリルエーテル化ビスフェノール化合物は、公知の方法に従い、アルカリ金属水酸化物などの塩基の存在下、ビスフェノール化合物に、塩化アリル、臭化アリル、メチルアリルクロライド等のハロゲン化アリルを反応させることにより得られる。
【００１３】
上記のビスフェノール化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビフェノール、４，４’−（１−メチル−エチリデン）ビス［２−メチルフェノール］、４，４’−（１，３−ジメチルブチリデン）ビスフェノール、４，４’−（２−フェニルエチリデン）ビスフェノール、４，４’−（２−エチルヘキシリデン）ビスフェノール、シクロヘキシリデンビスフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタノン、４，４’−（ジメチルシリレン）ビスフェノール、４，４’−オキシビスフェノール等が挙げられる。
【００１４】
本発明において、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物のクライゼン転移は、公知の方法に従って行うことが出来る。すなわち、パラフィンオイル、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアニリン等の高沸点溶媒の存在下または不存在下において、１５０〜２３０℃で０．１〜１００時間ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物を加熱する。得られた反応液は、目的物のジアリルビスフェノール化合物の他に、副生物としてモノアリルビスフェノール化合物などを含む。通常、反応液中のジアリルビスフェノール化合物の含有量は約９０重量％である。
【００１５】
本発明において、反応液のアルカリ水溶液による処理は前述の先行技術に記載された公知の方法によって行うことが出来る。すなわち、ジアリルビスフェノール化合物に対して０．０１〜０．４重量倍当量のアルカリを含むアルカリ水溶液で少なくとも一回以上洗浄する。通常、アルカリとしてはＮａＯＨが使用される。そして、上記のアルカリ処理においては、ジアリルビスフェノール化合物の一層の精製を図るため、モノアリルビスフェノール化合物を除去した溶液にアルカリ水溶液を添加してジアリルビスフェノール化合物の全量をアルカリ塩として水に溶解させ、有機溶媒で抽出することも出来る。
【００１６】
本発明の特徴は、クライゼン転移の前からアルカリ水溶液による反応液の処理に至るまでの間に反応系内に式（Ｉ）で表されるヒドロキシルアミン類から選ばれる少なくとも一種を添加して撹拌処理する点にある。
【００１７】
【化２】
【００１８】
上記（Ｉ）式で示されるヒドロキシルアミン類としては、例えば、ヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルヒドロキシルアミン、Ｎ−エチルヒドロキシルアミン、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシルアミン、Ｎ−シクロヘキシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシルアミン、及びＮ−メチル、Ｎ−エチルヒドロキシルアミン等が挙げられる。これらの中でも、ジアルキルヒドロキシルアミン、特に、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル，Ｎ−エチルヒドロキシルアミンがより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンが更に好ましい。また、上記ヒドロキシルアミン類の無機酸塩や有機酸塩も使用でき、その具体例としては、リン酸塩、スルファミン塩、酢酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、スルホサリチル酸塩、サリチル酸塩などが挙げられる。これらは二種以上を併用してもよい。
【００１９】
ヒドロキシルアミン類の添加量は、加熱転位前のアリルエーテル化多価フェノール化合物に対し、通常０．０２％〜３重量％、好ましくは０．２０％〜２．０重量％である。ヒドロキシルアミン類の添加量が上記の範囲より少ない場合は、ジアリルビスフェノール化合物の着色を防止ないしは抑制する効果が少なく、上記の範囲より多い場合は、効果が頭打ちになるだけでなく、処理後に残存する可能性が高まり、製品に影響を及ぼす恐れがある。
【００２０】
ヒドロキシルアミン類は、そのまま使用してもよく、または、必要に応じ、水や溶媒により希釈した溶液として添加することが出来る。添加する溶液中のヒドロキシルアミン及びその塩の濃度は、溶媒種、添加量などにより、適宜選択される。
【００２１】
ヒドロキシルアミン類の添加は、アルカリ水溶液による反応液の処理前の任意の段階で行うことが出来る。例えば、クライゼン転移前、クライゼン転移時、クライゼン転移後の何れであってもよい。通常は、クライゼン転移後、すなわち、クライゼン転移の反応液に添加される。ヒドロキシルアミン類の添加後の撹拌処理は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気で行うのが好ましい。また、処理温度は、通常０〜８０℃、好ましくは１５〜５０℃であり、処理時間は、反応液にヒドロキシルアミン類が均一に混合される時間で十分であり、通常３０分程度である。
【００２２】
ヒドロキシルアミン類によりジアリルビスフェノール化合物の着色が防止ないしは抑制される作用機構は、必ずしも明らかではないが、一応、次の様に推測される。すなわち、ジアリルビスフェノール化合物の着色は、ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物のクライゼン転位、または、その後のアルカリ処理の際に生成した着色成分の前駆体が酸化を受けて着色成分に変換されることにより惹起されるが、着色成分に変換される前の前駆体であれば、これをヒドロキシルアミン類で還元して除去することが出来、それにより、ジアリルビスフェノール化合物の着色が防止ないしは抑制される。
【００２３】
なお、前述のアルカリ処理により、上記と同様の着色成分の前駆体が僅かに生成することがあるが、その場合は、必要に応じ、再度、上記と同様のヒドロキシルアミン類による処理を行ってもよい。
【００２４】
本発明によれば、着色が少なく純度の高いジアリルビスフェノール化合物が得られるが、斯かるジアリルビスフェノール化合物は、半導体封止用を始めとする電気・電子部品絶縁材料用に好適に利用するが出来る。また、プリント配線板やＣＦＲＰ（炭素繊維強化プラスチック）をはじめとする各種複合材料用、各種接着剤用、各種塗料用、構造用部材などに有用なポリイミド樹脂やエポキシ樹脂の原料として好適に利用することが出来る。特に式（II）で表される２，２’−ジアリルビスフェノールＡは有用である。
【００２５】
【化３】
【実施例】
【００２６】
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下の諸例においては、着色の程度はＹＩ値で評価を行なった。そして、ＹＩ値の測定において、試料は、得られたジアリルビスフェノール化合物１重量部にトルエン３重量部を加えて調製した。また、ジアリルビスフェノール化合物の純度（面積％）は以下の条件によるＨＰＬＣ分析によって求めた。
【００２７】
＜ＹＩ値（黄色度）＞
日本電色工業株式会社製分光式色彩計を使用し、反射法にてＹＩ値（黄色度）の測定を行った。得られた数値が小さいほど着色度合が小さい。
【００２８】
＜ＨＰＬＣ条件＞
カラム：ＯＤＳ（４．６ｍｍ×１５０ｍｍ）
移動層：アセトニトリル／水（７／３）
流量：０．８ｍＬ／分
検出波長：２８０ｎｍ
【００２９】
実施例１：
四つ口フラスコに４，４’−ジアリルオキシビスフェノールＡ：３０．８重量部、パラフィン系潤滑油（出光興産製「ダイアナフレシアＷ−８」）：３０．８重量部を仕込み、１９０℃にて１０時間反応（クライゼン転移）を行なった。反応終了後、室温まで冷却した。２層になった下層をコック付の四つ口フラスコへ移し、粗２，２’−ジアリルビスフェノールＡを得た。ＨＰＬＣにおける２，２’−ジアリルビスフェノールＡの純度は９２．５％であった。この中にＮ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン：０．０３重量部を加えよく撹拌した。
【００３０】
次いで、水酸化ナトリウム：８重量部とトルエン：１５重量部を加え、分液した後、上層のトルエン層を除去した。下層を更にトルエン１５重量部で２回洗浄した。その後、下層を３５重量％塩酸の２０．８重量部で中和した後、トルエン：２３重量部で抽出した。トルエン層を中性になるまで水洗し、トルエンを減圧留去すると、液体２５ｇが得られた（収率８１重量％）。ＨＰＬＣにおける２，２’−ジアリルビスフェノールＡの純度（面積％）は９７．３％であった。表１に得られた２，２’−ジアリルビスフェノールＡのＹＩ値と純度（面積％）を示す。
【００３１】
実施例２〜５：
実施例１において、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンの代わりに表１に記載の添加剤と添加量を採用した以外は、実施例１と同様にして２，２’−ジアリルビスフェノールＡを得た。表１に得られた２，２’−ジアリルビスフェノールＡのＹＩ値と純度（面積％）を示す。
【００３２】
比較例１及び２:
実施例１において、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンの代わりに表１に記載の添加剤と添加量を採用した以外は、実施例１と同様にして２，２’−ジアリルビスフェノールＡを得た。表１に得られた２，２’−ジアリルビスフェノールＡのＹＩ値と純度（面積％）を示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】
表１の結果から次のことが明らかである。すなわち、添加剤として、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンやヒドロキシルアミンを採用した場合は、還元剤に分類される亜硫酸ナトリウムを採用した場合や無添加の場合に比し、ＹＩ値が大幅に向上しており、面積％を損なうことなく着色抑制が達成されていることが明らかである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転移させてジアリルビスフェノール化合物を含有する反応液を得、次いで、当該反応液をアルカリ水溶液で処理してジアリルビスフェノール化合物を回収するジアリルビスフェノール化合物の製造方法において、クライゼン転移の前からアルカリ水溶液による反応液の処理に至るまでの間に反応系内に式（Ｉ）で表されるヒドロキシルアミン類から選ばれる少なくとも一種を添加して撹拌処理すること特徴とするジアリルビスフェノール化合物の製造方法。
【化１】
【請求項２】
ジアリルビスフェノール化合物が式（II）で表される２，２’−ジアリルビスフェノールＡである請求項１に記載の製造方法。
【化２】
【請求項３】
ヒドロキシルアミン類の添加量がジアリルエーテル化ビスフェノール化合物に対し、０．０２〜３重量％である請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項１】
ジアリルエーテル化ビスフェノール化合物をクライゼン転移させてジアリルビスフェノール化合物を含有する反応液を得、次いで、当該反応液をアルカリ水溶液で処理してジアリルビスフェノール化合物を回収するジアリルビスフェノール化合物の製造方法において、クライゼン転移の前からアルカリ水溶液による反応液の処理に至るまでの間に反応系内に式（Ｉ）で表されるヒドロキシルアミン類から選ばれる少なくとも一種を添加して撹拌処理すること特徴とするジアリルビスフェノール化合物の製造方法。
【化１】
【請求項２】
ジアリルビスフェノール化合物が式（II）で表される２，２’−ジアリルビスフェノールＡである請求項１に記載の製造方法。
【化２】
【請求項３】
ヒドロキシルアミン類の添加量がジアリルエーテル化ビスフェノール化合物に対し、０．０２〜３重量％である請求項１又は２に記載の製造方法。
【公開番号】特開２００８−１１０９４５（Ｐ２００８−１１０９４５Ａ）
【公開日】平成２０年５月１５日（２００８．５．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２９５５５２（Ｐ２００６−２９５５５２）
【出願日】平成１８年１０月３１日（２００６．１０．３１）
【出願人】（３９６０２０４６４）株式会社エーピーアイ コーポレーション (39)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年５月１５日（２００８．５．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月３１日（２００６．１０．３１）
【出願人】（３９６０２０４６４）株式会社エーピーアイ コーポレーション (39)
【Ｆターム（参考）】
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