ハイドロタルサイト及び該ハイドロタルサイトを含有してなる合成樹脂組成物
【課題】塩化ビニル系樹脂に含有させることによって電気絶縁性に優れた材料を提供するのに好適なハイドロタルサイトを提供すること。
【解決手段】ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下であることを特徴とするハイドロタルサイト。該ハイドロタルサイトは、下記一般式（Ｉ）で表されるものであることが好ましい。
Ｍｇx1Ｚｎx2Ａｌ2(ＯＨ)2(X1+X2)+4・ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ （Ｉ）
（式中、ｘ１及びｘ２は各々下記式で表される条件を満たす数を示し、ｍは実数を示す。０≦ｘ２／ｘ１＜１０，２≦ｘ１＋ｘ２＜２０）
【解決手段】ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下であることを特徴とするハイドロタルサイト。該ハイドロタルサイトは、下記一般式（Ｉ）で表されるものであることが好ましい。
Ｍｇx1Ｚｎx2Ａｌ2(ＯＨ)2(X1+X2)+4・ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ （Ｉ）
（式中、ｘ１及びｘ２は各々下記式で表される条件を満たす数を示し、ｍは実数を示す。０≦ｘ２／ｘ１＜１０，２≦ｘ１＋ｘ２＜２０）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のハイドロタルサイト及び該ハイドロタルサイトを含有してなる合成樹脂組成物に関し、詳しくは、塩化ビニル系樹脂に含有させることによって電気絶縁性に優れた材料を提供するのに好適なハイドロタルサイト、及び該ハイドロタルサイトを含有してなる合成樹脂組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハイドロタルサイトは、層状構造を有することに起因してポリ塩化ビニル等の塩化ビニル系樹脂の熱安定剤として作用したり、また、触媒成分及び／又は担体成分としてハロゲン含有化合物を用いたチーグラー型重合用触媒により製造されたオレフィン類の脱酸剤として使用される等、合成樹脂用途に良く使用される化合物として知られている。
【０００３】
しかしながら、ハイドロタルサイトを塩化ビニル系樹脂に含有させた場合、電気絶縁性に劣る材料となってしまう場合がある等の欠点があった。
【０００４】
例えば、特許文献１には、鉄化合物及びマンガン化合物を合計で金属（Ｆｅ＋Ｍｎ）に換算して０．０２重量％以下含有している等の条件を有するハイドロタルサイト粒子よりなることを特徴とする耐熱劣化剤が提案されているが、これらの条件を満たしたハイドロタルサイトでは、塩化ビニル系樹脂に含有させることによって電気絶縁性に優れた材料を提供することはできなかった。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２２５０５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、塩化ビニル系樹脂に含有させることによって電気絶縁性に優れた材料を提供するのに好適なハイドロタルサイトを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、製造方法に起因してハイドロタルサイト中に含有されるナトリウムの量が、ハイドロタルサイトを塩化ビニル系樹脂に添加して得られる合成樹脂組成物の電気絶縁性に対して大きな影響を与えるものであることを見出し、本発明に到達した。
【０００８】
即ち、本発明は、ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下であることを特徴とするハイドロタルサイトを提供するものである。
また、本発明は、合成樹脂１００質量部に、上記ハイドロタルサイト０．０１〜１０質量部を含有させてなることを特徴とする合成樹脂組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のハイドロタルサイトは、塩化ビニル系樹脂に含有させることによって電気絶縁性に優れた材料を提供するのに好適なものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明のハイドロタルサイトについて詳細に説明する。
【００１１】
本発明のハイドロタルサイトは、マグネシウム及び／又は亜鉛とアルミニウムとの炭酸複塩化合物であり、好ましくは下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
【００１２】
〔化１〕
Ｍｇx1Ｚｎx2Ａｌ2(ＯＨ)2(X1+X2)+4・ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ （Ｉ）
（式中、ｘ１及びｘ２は各々下記式で表される条件を満たす数を示し、ｍは実数を示す。０≦ｘ２／ｘ１＜１０，２≦ｘ１＋ｘ２＜２０）
【００１３】
本発明のハイドロタルサイトは、天然物であってもよく、また合成品であってもよい。該合成品の合成方法としては、特公昭４６−２２８０号公報、特公昭５０−３００３９号公報、特公昭５１−２９１２９号公報、特開昭６１−１７４２７０号公報等に記載の公知の方法を例示することができる。
【００１４】
合成品のハイドロタルサイトは、製造方法上の問題からナトリウムを含有しており、本発明者らは、そのナトリウム含有量が、塩化ビニル系樹脂に添加した場合に、得られる合成樹脂組成物の電気絶縁性に対して大きな影響を与えることを見出した。
【００１５】
本発明のハイドロタルサイトは、ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下、好ましくは２００ｐｐｍ以下である。ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍを超えると、塩化ビニル系樹脂に添加した場合に、得られる合成樹脂組成物の電気絶縁性が著しく低下する恐れがある。
【００１６】
本発明のハイドロタルサイトは、例えば、ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ超である合成品のハイドロタルサイトを、溶媒を用いて洗浄することによって得ることができる。該溶媒としては、水−エタノール混合溶液、水−メタノール混合溶液、水−イソプロパノール混合溶液等が挙げられる。効率的に洗浄を行なうためには、ハイドロタルサイトに対して１０〜１００質量倍の溶媒を用いることが好ましい。洗浄時間は、洗浄前のハイドロタルサイトのナトリウム含有量等に応じて適宜選択すればよいが、例えば、上記の好ましい溶媒量を採用する場合、洗浄前のハイドロタルサイトのナトリウム含有量が２５０〜６００ｐｐｍの範囲であれば、１０〜６０分から選択すればよい。
【００１７】
また、本発明のハイドロタルサイトは、その粒子が、レーザー回折散乱法で測定された平均２次粒子径が２μｍ以下であること、つまりほとんどの粒子が２次凝集していない１次粒子であることが好ましく、特に０．４〜１．０μｍの平均２次粒子径を有していることが好ましい。
【００１８】
また、本発明のハイドロタルサイトの粒子は、ＢＥＴ法により測定された比表面積が１〜３０ｍ2／ｇであることが好ましく、５〜２０μｍ2／ｇであることがより好ましい。さらに、本発明のハイドロタルサイトの粒子は、（ＢＥＴ法により測定された比表面積）／（ブレーン法により測定された比表面積）の比が１〜６、特に１〜３の範囲であると、樹脂に対する分散性が良好で好ましい。
【００１９】
本発明のハイドロタルサイトは、従来のハイドロタルサイトと同様に、合成樹脂用の熱安定剤、脱酸剤等として用いることができる。本発明のハイドロタルサイトを、電気絶縁性が求められる用途に用いられる塩化ビニル系樹脂組成物において熱安定剤として用いても、塩化ビニル系樹脂が本来有する優れた電気絶縁性を充分に確保することができる。
【００２０】
以下に本発明の合成樹脂組成物について詳述する。
【００２１】
本発明の合成樹脂組成物に用いる合成樹脂としては、例えば、フリーデルクラフト触媒やチーグラー触媒等の如きハロゲン及び／又は酸性物質含有触媒を用いて得られた合成樹脂（例えば、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、エピハロヒドリン系重合体、ポリオレフィン系重合体）が挙げられる。
【００２２】
これらの合成樹脂の中でも塩化ビニル系樹脂に対し、本発明のハイドロタルサイトを含有させてなる合成樹脂組成物は、電気絶縁性に優れるため好ましいものである。
【００２３】
本発明に使用することができる上記塩化ビニル系樹脂としては、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等その重合方法には特に限定されず、例えば、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリテン、塩素化ポリエチレン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニリトル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−各種ビニルエーテル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、及び、これら相互のブレンド品、あるいは他の塩素を含まない合成樹脂、例えば、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチル（メタ）アクリレート共重合体、ポリエステル等とのブレンド品、ブロック共重合体、グラフト共重合体等を挙げることができる。
【００２４】
本発明の合成樹脂組成物において、本発明のハイドロタルサイトは、その表面をステアリン酸のごとき高級脂肪酸、オレイン酸アルカリ金属塩のごとき高級脂肪酸金属塩、ドデシルベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩のごとき有機スルホン酸金属塩、高級脂肪酸アミド、高級脂肪酸エステル又はワックス等で被覆して使用してもよい。
【００２５】
本発明の合成樹脂組成物において、本発明のハイドロタルサイトの含有量は、塩化ビニル系樹脂等の上記合成樹脂１００質量部に対し、０．００１〜１０質量部、好ましくは０．０１〜５質量部である。該含有量が０．００１質量部未満ではその効果がほとんど見られず、１０質量部を超えても効果は上がらず、むしろ耐熱性、着色性等に悪影響を与えることすらある。
【００２６】
また、本発明の合成樹脂組成物には、通常塩化ビニル系樹脂組成物等の合成樹脂組成物に用いられる他の添加剤、例えば、可塑剤、有機酸金属塩、ゼオライト化合物、β−ジケトン化合物、過塩素酸塩類、エポキシ化合物、多価アルコール、リン系、フェノール系及び硫黄系等の酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系等の光安定剤、充填剤、滑剤、発泡剤等を含有させることができる。
【００２７】
上記可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ブチルヘキシルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルテレフタレート等のフタレート系可塑剤；ジオクチルアビペート、ジイソノニルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジ（ブチルジグリコール）アジペート等のアジペート系可塑剤；トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、トリ（イソプロピルフェニル）ホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリ（ブトキシエチル）ホスフェートオクチルジフェニルホスフェート等のホスフェート可塑剤系；多価アルコールとして、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等を用い、二塩基酸として、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フタール酸、イソフタール酸、テレフタール酸等を用い、必要により一価アルコール及び／又はモノカルボン酸をストッパーに使用したポリエステル系可塑剤；その他、テトラヒドロフタール酸系可塑剤、アゼライン酸系可塑剤、セバチン酸系可塑剤、ステアリン酸系可塑剤、クエン酸系可塑剤、トリメリット酸系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、ビフェニルテトラカルボン酸エステル系可塑剤、塩素系可塑剤等が挙げられる。
【００２８】
上記可塑剤の中でも、ポリエステル系可塑剤を使用すると、着色性、耐熱性、電気絶縁性に優れた合成樹脂組成物が得られるため好ましい。
【００２９】
上記可塑剤の使用量は任意であるが、好ましくは、上記合成樹脂１００質量部に対し、５〜１００質量部であり、特に好ましくは２０〜７０質量部である。５質量部未満では、合成樹脂に十分な柔軟性を与えることができず、１００質量部を超えて使用した場合には物性が低下する等のおそれがあるため好ましくない。
【００３０】
上記有機酸金属塩を提供し得る金属種としては、例えば、亜鉛、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、アルミニウム等が挙げられる。
【００３１】
上記有機酸金属塩を提供し得る有機酸としては、有機カルボン酸、フェノール類、有機リン酸類等が挙げられる。
上記有機カルボン酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、２−エチルヘキシル酸、ネオデカン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、イソステアリン酸、ステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、ベヘニン酸、モンタン酸、安息香酸、モノクロル安息香酸、ｐ−第三ブチル安息香酸、ジメチルヒドロキシ安息香酸、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、トルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、クミン酸、ｎ−プロピル安息香酸、アミノ安息香酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、サリチル酸、ｐ−第三オクチルサリチル酸、エライジン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、チオグリコール酸、メルカプトプロピオン酸、オクチルメルカプトプロピオン酸等の一価カルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フタール酸、イソフタール酸、テレフタール酸、ヒドロキシフタール酸、クロルフタール酸、アミノフタール酸、マレイン酸、フマール酸、シトラコン酸、メタコン酸、イタコン酸、アコニット酸、チオジプロピオン酸等の二価カルボン酸あるいはこれらのモノエステル又はモノアマイド化合物；ブタントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、ヘミメリット酸、トリメリット酸、メロファン酸、ピロメリット酸等の三価又は四価カルボン酸のジ又はトリエステル化合物が挙げられる。
【００３２】
また、上記フェノール類としては、例えば、第三ブチルフェノール、ノニルフェノール、ジノニルフェノール、シクロヘキシルフェノール、フェニルフェノール、オクチルフェノール、フェノール、クレゾール、キシレノール、ｎ−ブチルフェノール、イソアミルフェノール、エチルフェノール、イソプロピルフェノール、イソオクチルフェノール、２−エチルヘキシルフェノール、第三ノニルフェノール、デシルフェノール、第三オクチルフェノール、イソヘキシルフェノール、オクタデシルフェノール、ジイソブチルフェノール、メチルプロピルフェノール、ジアミルフェノール、メチルイソフキシルフェノール、メチル第三オクチルフェノール等が挙げられる。
【００３３】
また、上記有機リン酸類としては、例えば、モノ又はジオクチルリン酸、モノ又はジドデシルリン酸、モノ又はジオクタデシルリン酸、モノ又はジ−（ノニルフェニル）リン酸、ホスホン酸ノニルフェニルエステル、ホスホン酸ステアリルエステル等が挙げられる。
【００３４】
また、上記有機酸金属塩は、酸性塩、中性塩、塩基性塩、あるいは塩基性塩の塩基の一部又は全部を炭酸で中和した過塩基性錯体であってもよい。
【００３５】
上記ゼオライト化合物は、独特の三次元のゼオライト結晶構造を有するアルカリ又はアルカリ土類金属のアルミノケイ酸塩であり、その代表例としては、Ａ型、Ｘ型、Ｙ型及びＰ型ゼオライト、モノデナイト、アナルサイト、ソーダライト族アルミノケイ酸塩、クリノブチロライト、エリオナイト及びチャバサイト等を挙げることができ、これらのゼオライト化合物は、結晶水（いわゆるゼオライト水）を有する含水物又は結晶水を除去した無水物のいずれでもよい。また、その粒径が０．１〜５０μｍのものが好ましく、特に０．５〜１０μｍのものが好ましい。
【００３６】
上記β−ジケトン化合物としては、例えば、デヒドロ酢酸、ジベンゾイルメタン、パルミトイルベンゾイルメタン、ステアロイルベンゾイルメタン等が挙げられ、これらの金属塩も同様に有用である。
【００３７】
上記過塩素酸塩類としては、過塩素酸金属塩、過塩素酸アンモニウム、過塩素酸処理ハイドロタルサイト（但し、本発明のハイドロタルサイトは含まない）、過塩素酸処理珪酸塩等が挙げられる。
ここで上記過塩素酸金属塩を構成する金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カドミウム、鉛、アルミニウム等が例示できる。上記過塩素酸金属塩は、無水物でも含水塩でもよく、また、ブチルジグリコール、ブチルジグリコールアジペート等のアルコール系及びエステル系の溶剤に溶かしたもの及びその脱水物でもよい。
【００３８】
上記エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール型及びノボラック型のエポキシ樹脂、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシ化桐油、エポキシ化魚油、エポキシ化牛脂油、エポキシ化ヒマシ油、エポキシ化サフラワー油、エポキシ化トール油脂肪酸オクチル、エポキシ化アマニ油脂肪酸ブチル、エポキシステアリン酸メチル，−ブチル，−２−エチルヘキシル又はステアリル、トリス（エポキシプロピル）イソシアヌレート、３−（２−キセノキシ）−１，２−エポキシプロパン、エポキシ化ポリブタジエン、ビスフェノール−Ａジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジエポキサイド、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、３，４−エポキシシクロヘキシル−６−メチルエポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート等が挙げられる。
【００３９】
上記多価アルコールとしては、例えば、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールのステアリン酸部分エステル、ビス（ジペンタエタスリトール）アジペート、グリセリン、ジグリセリン、トリス（２ーヒドロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００４０】
上記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ、ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、ビス（２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェニル）・エチルホスファイト、ジフェニルアシッドホスファイト、２，２'−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、ジブチルアシッドホスファイト、ジラウリルアシッドホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、ビス（ネオペンチルグリコール）・１，４−シクロヘキサンジメチルジホスフィト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（Ｃ１２−１５混合アルキル）−４，４'−イソプロピリデンジフェニルホスファイト、ビス[２，２’−メチレンビス(４，６−ジアミルフェニル)]・イソプロピリデンジフェニルホスファイト、水素化−４，４'−イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、テトラトリデシル・４，４'−ブチリデンビス(２−第三ブチル−５−メチルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）・１，１，３−トリス（２−メチル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン・トリホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２−ブチル−２−エチルプロパンジオール・２，４，６−トリ第三ブチルフェノールモノホスファイト等が挙げられる。
【００４１】
上記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４'−チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコールエステル、４，４'−ブチリデンビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２'−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２'−エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、トリエチレングリコールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。
【００４２】
上記硫黄系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類が挙げられる。
【００４３】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、５，５'−メチレンビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ第三ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−第三ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−第三オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'．５'−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２'−メチレンビス（４−第三オクチル−６−ベンゾトリアゾリル）フェノール等の２−（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ第三ブチルフェニル−３'，５'−ジ第三ブチル−４'−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチル−２'−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４'−ドデシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシアノアクリレート類が挙げられる。
【００４４】
上記ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等が挙げられる。
【００４５】
上記充填剤としては、例えば、炭酸カルシウム、シリカ、クレー、ガラスビーズ、マイカ、セリサイト、ガラスフレーク、アスベスト、ウオラストナイト、チタン酸カリ、ＰＭＦ、石膏繊維、ゾノトライト、ＭＯＳ、ホスフェートファイバー、ガラス繊維、炭酸繊維、アラミド繊維等が挙げられる。
【００４６】
上記滑剤としては、例えば、天然パラフィン、低分子ポリエチレン等の炭化水素類、ステアリン酸、ラウリン酸、エルカ酸等の脂肪酸類、セチルアルコール、ステアリルアルコール等の脂肪族アルコール類、ステアリン酸アミド、メレンビスステアロアミド等の脂肪酸アミド類、ブチルステアレート等の脂肪酸の低級アルコールエステル類、グリセリンモノステアレート等の高級脂肪酸の高級アルコールエステル等が挙げられる。
【００４７】
上記発泡剤としては、例えば、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、ｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド、ｎ，ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミン、ｐ−トルエンスルホニルセミカルバジド、トリヒドラゾトリアジン等の分解型有機発泡剤及び重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム、亜硝酸アンモニウム、アジド化合物、ホウ水素化ナトリウム等の分解型無機発泡剤が挙げられる。
【００４８】
その他、本発明の合成樹脂組成物には、必要に応じて通常合成樹脂に使用される添加剤、例えば、架橋剤、帯電防止剤、防曇剤、プレートアウト防止剤、表面処理剤、難燃剤、蛍光剤、防黴剤、殺菌剤、金属不活性剤、離型剤、加工助剤、顔料等を配合することができる。
【００４９】
また、本発明の合成樹脂組成物は、合成樹脂の加工方法には制限なく使用することが可能であり、例えば、カレンダー加工、ロール加工、押し出し成形加工、溶融圧延法、射出成形加工、加圧成形加工、ペースト加工、粉体成型加工、発泡成形加工等に好適に使用することができる。
【００５０】
本発明の合成樹脂組成物の中でも、合成樹脂として塩化ビニル系樹脂を使用したものは、電気絶縁性に優れるため、電線被覆材に好適である。また、本発明の合成樹脂組成物は、例えば、壁材、床材、窓枠、壁材、波板、雨樋等の建材；自動車用内外装材；トレイ等の魚等の食品用の包装材；パッキン、ガスケット、ホース、パイプ、継ぎ手、シート、玩具等の雑貨として使用することもでき、熱安定性及び耐熱老化性に優れ、フォトブルーイングの抑制された成型品が得られるため、特に窓枠等の白色の建材として好適に使用することができる。
【実施例】
【００５１】
次に、実施例及び比較例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は下記の実施例等によって制限を受けるものではない。
【００５２】
〔実施例１及び比較例１〕
下記〔化２〕の組成式を有し、ナトリウム含有量が４４０ｐｐｍのハイドロタルサイト（No.6）を水−エタノール混合溶液を用いて洗浄時間を代えて洗浄し、下記表１に
記載のナトリウム含有量をそれぞれ有するハイドロタルサイトNo.1〜5を調製した。
【００５３】
〔化２〕
組成式：Ｍｇ4Ａｌ2(ＯＨ)12・ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ
【００５４】
【表１】
【００５５】
〔実施例２及び比較例２〕
下記の配合物を１７０℃、３０ｒｐｍで５分間ロール上で混練した後、１８０℃で５分間プレスして厚さ１ｍｍのシートを作成し、このシートから試験片を作成した。この試験片の黄色度（ａ値）を測定して着色性を評価し、さらに、２００℃のギヤーオーブン中で加熱し、黒化するまでの時間〔分〕を測定して熱安定性を評価した。また、ＪＩＳ Ｋ ６７２３に準拠して、体積固有抵抗率試験（ＶＲ）〔×１０12Ωｃｍ〕及び１９０℃でコンゴーレッド試験紙を用いた熱安定性試験（ＣＲ）〔分〕を行った。
それらの結果を〔表２〕に示す。
【００５６】
（配合） 質量部
塩化ビニル樹脂 １００
ポリエステル系可塑剤 ５０
（組成：アジピン酸−１，３／１，４−ブタンジオール−オクチル酸）
クレー １２
アクリル系滑剤 ０．２
ステアリン酸 ０．２
顔料 ０．８
ステアリン酸亜鉛 ０．６５
ジベンゾイルメタン ０．０５
ステアロイルベンゾイルメタン ０．０２５
１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三 ０．３
ブチルフェニル）ブタン
ソルビトール ０．０４
水酸化マグネシウム ０．１５
無水ケイ酸 ０．２５
ハイドロタルサイト〔表２参照〕 ３．５
【００５７】
【表２】
【００５８】
上記実施例より明らかなように、塩化ビニル樹脂にナトリウム含有量が２５０ｐｐｍを超えるハイドロタルサイトを添加して得られる合成樹脂組成物は電気絶縁性が十分ではない。
【００５９】
これに対して、塩化ビニル樹脂に対し、ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下、とりわけ２００ｐｐｍ以下のハイドロタルサイトを添加して得られる合成樹脂組成物は優れた電気絶縁性を有する。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のハイドロタルサイト及び該ハイドロタルサイトを含有してなる合成樹脂組成物に関し、詳しくは、塩化ビニル系樹脂に含有させることによって電気絶縁性に優れた材料を提供するのに好適なハイドロタルサイト、及び該ハイドロタルサイトを含有してなる合成樹脂組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハイドロタルサイトは、層状構造を有することに起因してポリ塩化ビニル等の塩化ビニル系樹脂の熱安定剤として作用したり、また、触媒成分及び／又は担体成分としてハロゲン含有化合物を用いたチーグラー型重合用触媒により製造されたオレフィン類の脱酸剤として使用される等、合成樹脂用途に良く使用される化合物として知られている。
【０００３】
しかしながら、ハイドロタルサイトを塩化ビニル系樹脂に含有させた場合、電気絶縁性に劣る材料となってしまう場合がある等の欠点があった。
【０００４】
例えば、特許文献１には、鉄化合物及びマンガン化合物を合計で金属（Ｆｅ＋Ｍｎ）に換算して０．０２重量％以下含有している等の条件を有するハイドロタルサイト粒子よりなることを特徴とする耐熱劣化剤が提案されているが、これらの条件を満たしたハイドロタルサイトでは、塩化ビニル系樹脂に含有させることによって電気絶縁性に優れた材料を提供することはできなかった。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２２５０５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、塩化ビニル系樹脂に含有させることによって電気絶縁性に優れた材料を提供するのに好適なハイドロタルサイトを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、製造方法に起因してハイドロタルサイト中に含有されるナトリウムの量が、ハイドロタルサイトを塩化ビニル系樹脂に添加して得られる合成樹脂組成物の電気絶縁性に対して大きな影響を与えるものであることを見出し、本発明に到達した。
【０００８】
即ち、本発明は、ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下であることを特徴とするハイドロタルサイトを提供するものである。
また、本発明は、合成樹脂１００質量部に、上記ハイドロタルサイト０．０１〜１０質量部を含有させてなることを特徴とする合成樹脂組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のハイドロタルサイトは、塩化ビニル系樹脂に含有させることによって電気絶縁性に優れた材料を提供するのに好適なものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明のハイドロタルサイトについて詳細に説明する。
【００１１】
本発明のハイドロタルサイトは、マグネシウム及び／又は亜鉛とアルミニウムとの炭酸複塩化合物であり、好ましくは下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
【００１２】
〔化１〕
Ｍｇx1Ｚｎx2Ａｌ2(ＯＨ)2(X1+X2)+4・ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ （Ｉ）
（式中、ｘ１及びｘ２は各々下記式で表される条件を満たす数を示し、ｍは実数を示す。０≦ｘ２／ｘ１＜１０，２≦ｘ１＋ｘ２＜２０）
【００１３】
本発明のハイドロタルサイトは、天然物であってもよく、また合成品であってもよい。該合成品の合成方法としては、特公昭４６−２２８０号公報、特公昭５０−３００３９号公報、特公昭５１−２９１２９号公報、特開昭６１−１７４２７０号公報等に記載の公知の方法を例示することができる。
【００１４】
合成品のハイドロタルサイトは、製造方法上の問題からナトリウムを含有しており、本発明者らは、そのナトリウム含有量が、塩化ビニル系樹脂に添加した場合に、得られる合成樹脂組成物の電気絶縁性に対して大きな影響を与えることを見出した。
【００１５】
本発明のハイドロタルサイトは、ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下、好ましくは２００ｐｐｍ以下である。ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍを超えると、塩化ビニル系樹脂に添加した場合に、得られる合成樹脂組成物の電気絶縁性が著しく低下する恐れがある。
【００１６】
本発明のハイドロタルサイトは、例えば、ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ超である合成品のハイドロタルサイトを、溶媒を用いて洗浄することによって得ることができる。該溶媒としては、水−エタノール混合溶液、水−メタノール混合溶液、水−イソプロパノール混合溶液等が挙げられる。効率的に洗浄を行なうためには、ハイドロタルサイトに対して１０〜１００質量倍の溶媒を用いることが好ましい。洗浄時間は、洗浄前のハイドロタルサイトのナトリウム含有量等に応じて適宜選択すればよいが、例えば、上記の好ましい溶媒量を採用する場合、洗浄前のハイドロタルサイトのナトリウム含有量が２５０〜６００ｐｐｍの範囲であれば、１０〜６０分から選択すればよい。
【００１７】
また、本発明のハイドロタルサイトは、その粒子が、レーザー回折散乱法で測定された平均２次粒子径が２μｍ以下であること、つまりほとんどの粒子が２次凝集していない１次粒子であることが好ましく、特に０．４〜１．０μｍの平均２次粒子径を有していることが好ましい。
【００１８】
また、本発明のハイドロタルサイトの粒子は、ＢＥＴ法により測定された比表面積が１〜３０ｍ2／ｇであることが好ましく、５〜２０μｍ2／ｇであることがより好ましい。さらに、本発明のハイドロタルサイトの粒子は、（ＢＥＴ法により測定された比表面積）／（ブレーン法により測定された比表面積）の比が１〜６、特に１〜３の範囲であると、樹脂に対する分散性が良好で好ましい。
【００１９】
本発明のハイドロタルサイトは、従来のハイドロタルサイトと同様に、合成樹脂用の熱安定剤、脱酸剤等として用いることができる。本発明のハイドロタルサイトを、電気絶縁性が求められる用途に用いられる塩化ビニル系樹脂組成物において熱安定剤として用いても、塩化ビニル系樹脂が本来有する優れた電気絶縁性を充分に確保することができる。
【００２０】
以下に本発明の合成樹脂組成物について詳述する。
【００２１】
本発明の合成樹脂組成物に用いる合成樹脂としては、例えば、フリーデルクラフト触媒やチーグラー触媒等の如きハロゲン及び／又は酸性物質含有触媒を用いて得られた合成樹脂（例えば、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、エピハロヒドリン系重合体、ポリオレフィン系重合体）が挙げられる。
【００２２】
これらの合成樹脂の中でも塩化ビニル系樹脂に対し、本発明のハイドロタルサイトを含有させてなる合成樹脂組成物は、電気絶縁性に優れるため好ましいものである。
【００２３】
本発明に使用することができる上記塩化ビニル系樹脂としては、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等その重合方法には特に限定されず、例えば、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリテン、塩素化ポリエチレン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニリトル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−各種ビニルエーテル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、及び、これら相互のブレンド品、あるいは他の塩素を含まない合成樹脂、例えば、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチル（メタ）アクリレート共重合体、ポリエステル等とのブレンド品、ブロック共重合体、グラフト共重合体等を挙げることができる。
【００２４】
本発明の合成樹脂組成物において、本発明のハイドロタルサイトは、その表面をステアリン酸のごとき高級脂肪酸、オレイン酸アルカリ金属塩のごとき高級脂肪酸金属塩、ドデシルベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩のごとき有機スルホン酸金属塩、高級脂肪酸アミド、高級脂肪酸エステル又はワックス等で被覆して使用してもよい。
【００２５】
本発明の合成樹脂組成物において、本発明のハイドロタルサイトの含有量は、塩化ビニル系樹脂等の上記合成樹脂１００質量部に対し、０．００１〜１０質量部、好ましくは０．０１〜５質量部である。該含有量が０．００１質量部未満ではその効果がほとんど見られず、１０質量部を超えても効果は上がらず、むしろ耐熱性、着色性等に悪影響を与えることすらある。
【００２６】
また、本発明の合成樹脂組成物には、通常塩化ビニル系樹脂組成物等の合成樹脂組成物に用いられる他の添加剤、例えば、可塑剤、有機酸金属塩、ゼオライト化合物、β−ジケトン化合物、過塩素酸塩類、エポキシ化合物、多価アルコール、リン系、フェノール系及び硫黄系等の酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系等の光安定剤、充填剤、滑剤、発泡剤等を含有させることができる。
【００２７】
上記可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ブチルヘキシルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルテレフタレート等のフタレート系可塑剤；ジオクチルアビペート、ジイソノニルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジ（ブチルジグリコール）アジペート等のアジペート系可塑剤；トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、トリ（イソプロピルフェニル）ホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリ（ブトキシエチル）ホスフェートオクチルジフェニルホスフェート等のホスフェート可塑剤系；多価アルコールとして、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等を用い、二塩基酸として、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フタール酸、イソフタール酸、テレフタール酸等を用い、必要により一価アルコール及び／又はモノカルボン酸をストッパーに使用したポリエステル系可塑剤；その他、テトラヒドロフタール酸系可塑剤、アゼライン酸系可塑剤、セバチン酸系可塑剤、ステアリン酸系可塑剤、クエン酸系可塑剤、トリメリット酸系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、ビフェニルテトラカルボン酸エステル系可塑剤、塩素系可塑剤等が挙げられる。
【００２８】
上記可塑剤の中でも、ポリエステル系可塑剤を使用すると、着色性、耐熱性、電気絶縁性に優れた合成樹脂組成物が得られるため好ましい。
【００２９】
上記可塑剤の使用量は任意であるが、好ましくは、上記合成樹脂１００質量部に対し、５〜１００質量部であり、特に好ましくは２０〜７０質量部である。５質量部未満では、合成樹脂に十分な柔軟性を与えることができず、１００質量部を超えて使用した場合には物性が低下する等のおそれがあるため好ましくない。
【００３０】
上記有機酸金属塩を提供し得る金属種としては、例えば、亜鉛、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、アルミニウム等が挙げられる。
【００３１】
上記有機酸金属塩を提供し得る有機酸としては、有機カルボン酸、フェノール類、有機リン酸類等が挙げられる。
上記有機カルボン酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、２−エチルヘキシル酸、ネオデカン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、イソステアリン酸、ステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、ベヘニン酸、モンタン酸、安息香酸、モノクロル安息香酸、ｐ−第三ブチル安息香酸、ジメチルヒドロキシ安息香酸、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、トルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、クミン酸、ｎ−プロピル安息香酸、アミノ安息香酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、サリチル酸、ｐ−第三オクチルサリチル酸、エライジン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、チオグリコール酸、メルカプトプロピオン酸、オクチルメルカプトプロピオン酸等の一価カルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フタール酸、イソフタール酸、テレフタール酸、ヒドロキシフタール酸、クロルフタール酸、アミノフタール酸、マレイン酸、フマール酸、シトラコン酸、メタコン酸、イタコン酸、アコニット酸、チオジプロピオン酸等の二価カルボン酸あるいはこれらのモノエステル又はモノアマイド化合物；ブタントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、ヘミメリット酸、トリメリット酸、メロファン酸、ピロメリット酸等の三価又は四価カルボン酸のジ又はトリエステル化合物が挙げられる。
【００３２】
また、上記フェノール類としては、例えば、第三ブチルフェノール、ノニルフェノール、ジノニルフェノール、シクロヘキシルフェノール、フェニルフェノール、オクチルフェノール、フェノール、クレゾール、キシレノール、ｎ−ブチルフェノール、イソアミルフェノール、エチルフェノール、イソプロピルフェノール、イソオクチルフェノール、２−エチルヘキシルフェノール、第三ノニルフェノール、デシルフェノール、第三オクチルフェノール、イソヘキシルフェノール、オクタデシルフェノール、ジイソブチルフェノール、メチルプロピルフェノール、ジアミルフェノール、メチルイソフキシルフェノール、メチル第三オクチルフェノール等が挙げられる。
【００３３】
また、上記有機リン酸類としては、例えば、モノ又はジオクチルリン酸、モノ又はジドデシルリン酸、モノ又はジオクタデシルリン酸、モノ又はジ−（ノニルフェニル）リン酸、ホスホン酸ノニルフェニルエステル、ホスホン酸ステアリルエステル等が挙げられる。
【００３４】
また、上記有機酸金属塩は、酸性塩、中性塩、塩基性塩、あるいは塩基性塩の塩基の一部又は全部を炭酸で中和した過塩基性錯体であってもよい。
【００３５】
上記ゼオライト化合物は、独特の三次元のゼオライト結晶構造を有するアルカリ又はアルカリ土類金属のアルミノケイ酸塩であり、その代表例としては、Ａ型、Ｘ型、Ｙ型及びＰ型ゼオライト、モノデナイト、アナルサイト、ソーダライト族アルミノケイ酸塩、クリノブチロライト、エリオナイト及びチャバサイト等を挙げることができ、これらのゼオライト化合物は、結晶水（いわゆるゼオライト水）を有する含水物又は結晶水を除去した無水物のいずれでもよい。また、その粒径が０．１〜５０μｍのものが好ましく、特に０．５〜１０μｍのものが好ましい。
【００３６】
上記β−ジケトン化合物としては、例えば、デヒドロ酢酸、ジベンゾイルメタン、パルミトイルベンゾイルメタン、ステアロイルベンゾイルメタン等が挙げられ、これらの金属塩も同様に有用である。
【００３７】
上記過塩素酸塩類としては、過塩素酸金属塩、過塩素酸アンモニウム、過塩素酸処理ハイドロタルサイト（但し、本発明のハイドロタルサイトは含まない）、過塩素酸処理珪酸塩等が挙げられる。
ここで上記過塩素酸金属塩を構成する金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カドミウム、鉛、アルミニウム等が例示できる。上記過塩素酸金属塩は、無水物でも含水塩でもよく、また、ブチルジグリコール、ブチルジグリコールアジペート等のアルコール系及びエステル系の溶剤に溶かしたもの及びその脱水物でもよい。
【００３８】
上記エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール型及びノボラック型のエポキシ樹脂、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシ化桐油、エポキシ化魚油、エポキシ化牛脂油、エポキシ化ヒマシ油、エポキシ化サフラワー油、エポキシ化トール油脂肪酸オクチル、エポキシ化アマニ油脂肪酸ブチル、エポキシステアリン酸メチル，−ブチル，−２−エチルヘキシル又はステアリル、トリス（エポキシプロピル）イソシアヌレート、３−（２−キセノキシ）−１，２−エポキシプロパン、エポキシ化ポリブタジエン、ビスフェノール−Ａジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジエポキサイド、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、３，４−エポキシシクロヘキシル−６−メチルエポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート等が挙げられる。
【００３９】
上記多価アルコールとしては、例えば、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールのステアリン酸部分エステル、ビス（ジペンタエタスリトール）アジペート、グリセリン、ジグリセリン、トリス（２ーヒドロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００４０】
上記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ、ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、ビス（２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェニル）・エチルホスファイト、ジフェニルアシッドホスファイト、２，２'−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、ジブチルアシッドホスファイト、ジラウリルアシッドホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、ビス（ネオペンチルグリコール）・１，４−シクロヘキサンジメチルジホスフィト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（Ｃ１２−１５混合アルキル）−４，４'−イソプロピリデンジフェニルホスファイト、ビス[２，２’−メチレンビス(４，６−ジアミルフェニル)]・イソプロピリデンジフェニルホスファイト、水素化−４，４'−イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、テトラトリデシル・４，４'−ブチリデンビス(２−第三ブチル−５−メチルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）・１，１，３−トリス（２−メチル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン・トリホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２−ブチル−２−エチルプロパンジオール・２，４，６−トリ第三ブチルフェノールモノホスファイト等が挙げられる。
【００４１】
上記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４'−チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコールエステル、４，４'−ブチリデンビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２'−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２'−エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、トリエチレングリコールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。
【００４２】
上記硫黄系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類が挙げられる。
【００４３】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、５，５'−メチレンビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ第三ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−第三ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−第三オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'．５'−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２'−メチレンビス（４−第三オクチル−６−ベンゾトリアゾリル）フェノール等の２−（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ第三ブチルフェニル−３'，５'−ジ第三ブチル−４'−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチル−２'−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４'−ドデシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシアノアクリレート類が挙げられる。
【００４４】
上記ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等が挙げられる。
【００４５】
上記充填剤としては、例えば、炭酸カルシウム、シリカ、クレー、ガラスビーズ、マイカ、セリサイト、ガラスフレーク、アスベスト、ウオラストナイト、チタン酸カリ、ＰＭＦ、石膏繊維、ゾノトライト、ＭＯＳ、ホスフェートファイバー、ガラス繊維、炭酸繊維、アラミド繊維等が挙げられる。
【００４６】
上記滑剤としては、例えば、天然パラフィン、低分子ポリエチレン等の炭化水素類、ステアリン酸、ラウリン酸、エルカ酸等の脂肪酸類、セチルアルコール、ステアリルアルコール等の脂肪族アルコール類、ステアリン酸アミド、メレンビスステアロアミド等の脂肪酸アミド類、ブチルステアレート等の脂肪酸の低級アルコールエステル類、グリセリンモノステアレート等の高級脂肪酸の高級アルコールエステル等が挙げられる。
【００４７】
上記発泡剤としては、例えば、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、ｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド、ｎ，ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミン、ｐ−トルエンスルホニルセミカルバジド、トリヒドラゾトリアジン等の分解型有機発泡剤及び重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム、亜硝酸アンモニウム、アジド化合物、ホウ水素化ナトリウム等の分解型無機発泡剤が挙げられる。
【００４８】
その他、本発明の合成樹脂組成物には、必要に応じて通常合成樹脂に使用される添加剤、例えば、架橋剤、帯電防止剤、防曇剤、プレートアウト防止剤、表面処理剤、難燃剤、蛍光剤、防黴剤、殺菌剤、金属不活性剤、離型剤、加工助剤、顔料等を配合することができる。
【００４９】
また、本発明の合成樹脂組成物は、合成樹脂の加工方法には制限なく使用することが可能であり、例えば、カレンダー加工、ロール加工、押し出し成形加工、溶融圧延法、射出成形加工、加圧成形加工、ペースト加工、粉体成型加工、発泡成形加工等に好適に使用することができる。
【００５０】
本発明の合成樹脂組成物の中でも、合成樹脂として塩化ビニル系樹脂を使用したものは、電気絶縁性に優れるため、電線被覆材に好適である。また、本発明の合成樹脂組成物は、例えば、壁材、床材、窓枠、壁材、波板、雨樋等の建材；自動車用内外装材；トレイ等の魚等の食品用の包装材；パッキン、ガスケット、ホース、パイプ、継ぎ手、シート、玩具等の雑貨として使用することもでき、熱安定性及び耐熱老化性に優れ、フォトブルーイングの抑制された成型品が得られるため、特に窓枠等の白色の建材として好適に使用することができる。
【実施例】
【００５１】
次に、実施例及び比較例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は下記の実施例等によって制限を受けるものではない。
【００５２】
〔実施例１及び比較例１〕
下記〔化２〕の組成式を有し、ナトリウム含有量が４４０ｐｐｍのハイドロタルサイト（No.6）を水−エタノール混合溶液を用いて洗浄時間を代えて洗浄し、下記表１に
記載のナトリウム含有量をそれぞれ有するハイドロタルサイトNo.1〜5を調製した。
【００５３】
〔化２〕
組成式：Ｍｇ4Ａｌ2(ＯＨ)12・ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ
【００５４】
【表１】
【００５５】
〔実施例２及び比較例２〕
下記の配合物を１７０℃、３０ｒｐｍで５分間ロール上で混練した後、１８０℃で５分間プレスして厚さ１ｍｍのシートを作成し、このシートから試験片を作成した。この試験片の黄色度（ａ値）を測定して着色性を評価し、さらに、２００℃のギヤーオーブン中で加熱し、黒化するまでの時間〔分〕を測定して熱安定性を評価した。また、ＪＩＳ Ｋ ６７２３に準拠して、体積固有抵抗率試験（ＶＲ）〔×１０12Ωｃｍ〕及び１９０℃でコンゴーレッド試験紙を用いた熱安定性試験（ＣＲ）〔分〕を行った。
それらの結果を〔表２〕に示す。
【００５６】
（配合） 質量部
塩化ビニル樹脂 １００
ポリエステル系可塑剤 ５０
（組成：アジピン酸−１，３／１，４−ブタンジオール−オクチル酸）
クレー １２
アクリル系滑剤 ０．２
ステアリン酸 ０．２
顔料 ０．８
ステアリン酸亜鉛 ０．６５
ジベンゾイルメタン ０．０５
ステアロイルベンゾイルメタン ０．０２５
１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三 ０．３
ブチルフェニル）ブタン
ソルビトール ０．０４
水酸化マグネシウム ０．１５
無水ケイ酸 ０．２５
ハイドロタルサイト〔表２参照〕 ３．５
【００５７】
【表２】
【００５８】
上記実施例より明らかなように、塩化ビニル樹脂にナトリウム含有量が２５０ｐｐｍを超えるハイドロタルサイトを添加して得られる合成樹脂組成物は電気絶縁性が十分ではない。
【００５９】
これに対して、塩化ビニル樹脂に対し、ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下、とりわけ２００ｐｐｍ以下のハイドロタルサイトを添加して得られる合成樹脂組成物は優れた電気絶縁性を有する。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下であることを特徴とするハイドロタルサイト。
【請求項２】
下記一般式（Ｉ）で表される請求項１記載のハイドロタルサイト。
〔化１〕
Ｍｇx1Ｚｎx2Ａｌ2(ＯＨ)2(X1+X2)+4・ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ （Ｉ）
（式中、ｘ１及びｘ２は各々下記式で表される条件を満たす数を示し、ｍは実数を示す。０≦ｘ２／ｘ１＜１０，２≦ｘ１＋ｘ２＜２０）
【請求項３】
上記ナトリウム含有量が２００ｐｐｍ以下である請求項１又は２記載のハイドロタルサイト。
【請求項４】
合成品である請求項１〜３の何れかに記載のハイドロタルサイト。
【請求項５】
合成樹脂１００質量部に、請求項１〜４の何れかに記載のハイドロタルサイト０．０１〜１０質量部を含有させてなることを特徴とする合成樹脂組成物。
【請求項６】
塩化ビニル系樹脂１００質量部に、請求項１〜４の何れかに記載のハイドロタルサイト０．０１〜１０質量部を含有させてなる合成樹脂組成物。
【請求項７】
さらにポリエステル系可塑剤５〜１００質量部を含有させてなる請求項６記載の合成樹脂組成物。
【請求項８】
電線被覆用途に用いられる請求項６又は７記載の合成樹脂組成物。
【請求項１】
ナトリウム含有量が２５０ｐｐｍ以下であることを特徴とするハイドロタルサイト。
【請求項２】
下記一般式（Ｉ）で表される請求項１記載のハイドロタルサイト。
〔化１〕
Ｍｇx1Ｚｎx2Ａｌ2(ＯＨ)2(X1+X2)+4・ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ （Ｉ）
（式中、ｘ１及びｘ２は各々下記式で表される条件を満たす数を示し、ｍは実数を示す。０≦ｘ２／ｘ１＜１０，２≦ｘ１＋ｘ２＜２０）
【請求項３】
上記ナトリウム含有量が２００ｐｐｍ以下である請求項１又は２記載のハイドロタルサイト。
【請求項４】
合成品である請求項１〜３の何れかに記載のハイドロタルサイト。
【請求項５】
合成樹脂１００質量部に、請求項１〜４の何れかに記載のハイドロタルサイト０．０１〜１０質量部を含有させてなることを特徴とする合成樹脂組成物。
【請求項６】
塩化ビニル系樹脂１００質量部に、請求項１〜４の何れかに記載のハイドロタルサイト０．０１〜１０質量部を含有させてなる合成樹脂組成物。
【請求項７】
さらにポリエステル系可塑剤５〜１００質量部を含有させてなる請求項６記載の合成樹脂組成物。
【請求項８】
電線被覆用途に用いられる請求項６又は７記載の合成樹脂組成物。
【公開番号】特開２００８−２７４０３２（Ｐ２００８−２７４０３２Ａ）
【公開日】平成２０年１１月１３日（２００８．１１．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１１６５２２（Ｐ２００７−１１６５２２）
【出願日】平成１９年４月２６日（２００７．４．２６）
【出願人】（００００００３８７）株式会社ＡＤＥＫＡ (987)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１１月１３日（２００８．１１．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年４月２６日（２００７．４．２６）
【出願人】（００００００３８７）株式会社ＡＤＥＫＡ (987)
【Ｆターム（参考）】
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