パターン修正方法およびパターン修正装置

【課題】欠陥部の周囲への修正液のはみ出しを抑え、欠陥部に塗布された修正液の厚みを均一にすることが可能なパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正方法では、液晶カラーフィルタ基板１の画素６の白欠陥６ａに修正インク７を塗布した後、修正インク７の厚みが均一になるように、溶媒１６の蒸気を含む気体を修正インク７に噴霧し、修正インク７の粘度を低下させる。したがって、白欠陥６ａに塗布した修正インク７の周囲へのはみ出しを抑えることができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、パターン修正方法およびパターン修正装置に関し、特に、基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正方法およびパターン修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイの代表例として、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイなどが知られている。これらのディスプレイでは、画面の大型化、高精細化が進められ、画素数が増大する傾向にある。このため、製造過程において画素に欠陥が発生する確率が高くなっており、歩留まりを高めるために画素に発生した欠陥を修正する技術が求められている。
【０００３】
たとえば、液晶カラーフィルタの着色層（画素）の一部が色抜けした白欠陥を修正する方法として、塗布針の先端部に修正液（修正インク）を付着させた後、その塗布針の先端を白欠陥に接触させて修正液を塗布する方法がある（たとえば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、着色層に発生した異物欠陥や白欠陥にレーザ光を照射して矩形の白欠陥を形成し、マイクロディスペンサを用いて矩形の白欠陥に修正液を流し込む方法がある（たとえば、特許文献２参照）。
【０００５】
また、矩形の白欠陥に修正液を塗布した場合、白欠陥の角部に修正液が充填されなかったり、修正液の中央部が膨らんで高くなったり、白欠陥の縁に修正液が引かれて修正液の中央部が窪むなどして、修正液の厚みが不均一になり易い。白欠陥に塗布された修正液の厚みを均一にする方法として、白欠陥に塗布した修正液に上方から気体を噴射する方法がある（たとえば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開平９−２３６９３３号公報
【特許文献２】特開２００６−１４５７８６号公報
【特許文献３】特開２００８−３２８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献３の方法では、高粘度の修正液を使用した場合や、低粘度であっても、乾燥が速くて粘度が高くなる傾向のある修正液を使用した場合は、修正液の厚みを均一にするためには、修正液に噴射する気体の圧力を高くする必要がある。しかし、噴射する気体の圧力が高過ぎると、修正液が白欠陥の周囲にはみ出す場合がある。
【０００７】
また、最近では、液晶テレビの大画面化に伴ってカラーフィルタの画素サイズが大型化しており、欠陥サイズも大きくなっている。修正液の塗布面積が大きくなると、修正液の厚みの不均一さがより大きくなる場合があり、修正液の盛り上がり方によっては、上方から気体を噴射すると修正液が欠陥画素の周りに押し出される場合がある。
【０００８】
それゆえに、この発明の主たる目的は、欠陥部に塗布された修正液の周囲へのはみ出しを抑え、修正液の厚みを均一にすることが可能なパターン修正方法およびパターン修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に係るパターン修正方法は、基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正方法であって、欠陥部に修正液を塗布する第１のステップと、欠陥部に塗布された修正液の厚みが均一になるように、修正液に溶媒の蒸気を吸収させて修正液の粘度を低下させる第２のステップとを含む。
【００１０】
好ましくは、溶媒は、修正液に含有された溶媒と同じものである。
また好ましくは、修正液に溶媒の蒸気を吸収させて修正液の厚みを均一にするために必要な時間を予め求めておき、第２のステップでは、予め求めた時間だけ修正液の溶媒を修正液に吸収させる。
【００１１】
また好ましくは、第２のステップでは、欠陥部に塗布された修正液を観察しながら修正液に溶媒を吸収させ、修正液の表面が平坦化したことに応じて第２のステップを終了する。
【００１２】
また好ましくは、第２のステップでは、欠陥部に塗布された修正液にノズルの先端を対峙させ、ノズルから溶媒の蒸気を含む気体を修正液に噴霧して、修正液に溶媒の蒸気を吸収させる。
【００１３】
また好ましくは、ノズルは、基板に対して略垂直または斜めに配置される。
また好ましくは、ノズルは白欠陥の周囲に複数配置される。
【００１４】
また好ましくは、第２のステップでは、溶媒が注入された容器内に気体を供給して、溶媒の蒸気を含む気体を生成する。
【００１５】
また好ましくは、容器内の溶媒中に気体を供給して泡を発生させ、溶媒の蒸気の発生量を増やす。
【００１６】
また好ましくは、容器内をヒータで加熱して溶媒の蒸気の発生量を増やす。
また好ましくは、第２のステップでは、欠陥部に塗布された修正液に対して、溶媒を吸収させたシートを近接させ、シートから溶媒の蒸気を修正液に供給する。
【００１７】
また好ましくは、基板は透明基板であり、パターンは複数の着色層を含むカラーフィルタであり、欠陥部は着色層の白欠陥である。
【００１８】
また、この発明に係るパターン修正装置は、基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、欠陥部に修正液を塗布する塗布手段と、欠陥部に塗布された修正液の厚みが均一になるように、修正液に溶媒の蒸気を吸収させて修正液の粘度を低下させる均一化手段とを備えたものである。
【００１９】
好ましくは、均一化手段は、溶媒が注入された容器と、容器内に気体を供給して溶媒の蒸気を含む気体を生成する気体供給手段と、容器に接続され、溶媒の蒸気を含む気体を欠陥部に塗布された修正液に噴霧するノズルとを含む。
【００２０】
また好ましくは、均一化手段は、溶媒を吸収したシートと、欠陥部に塗布された修正液にシートを対峙させる保持部材とを含む。
【発明の効果】
【００２１】
この発明に係るパターン修正方法およびパターン修正装置では、欠陥部に塗布された修正液の厚みが均一になるように、修正液に溶媒の蒸気を吸収させて修正液の粘度を低下させる。したがって、欠陥部の周囲への修正液のはみ出しを抑え、欠陥部に塗布された修正液の厚みを均一にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図１は、この発明の一実施の形態によるパターン修正方法の修正対象である液晶カラーフィルタ基板１の要部を示す図であり、図２は、その一部の断面図である。図１および図２において、液晶カラーフィルタ基板１は、ガラス基板２を含む。ガラス基板２の表面には、格子状のブラックマトリックス３が形成され、ブラックマトリックス３で囲まれた複数の領域にＲ画素４、Ｇ画素５、およびＢ画素６が一定の周期で形成されている。Ｒ画素４、Ｇ画素５、およびＢ画素６は、それぞれ赤色、緑色、および青色の着色層で構成されている。図１および図２では、Ｂ画素６の一部に矩形の白欠陥６ａが存在する状態が示されている。この矩形の白欠陥６ａは、そのＢ画素６に発生した任意形状の白欠陥あるいは異物欠陥を含む矩形の領域にレーザ光を照射して形成したものである。
【００２３】
図３（ａ）は、白欠陥６ａに修正インク７を塗布する工程を示す図である。図３（ａ）において、塗布針８の先端部に修正インク７を付着させ、塗布針８の先端を白欠陥６ａに接触させて白欠陥６ａに修正インク７を塗布する。修正インク７は、白欠陥が存在する部分（ここでは、Ｂ画素６）の色の顔料と樹脂と分散剤を溶媒に添加したものである。溶媒としては、高沸点系の溶媒、たとえばＰＧＭＥＡ（プロピレン・グリコール・モノメチル・エーテル・アセテート）が使用される。ＰＧＭＥＡの沸点は１４６℃である。
【００２４】
なお、塗布針８の先端部には、先端に向かって断面積が徐々に小さくなるテーパ部が形成され、塗布針８の先端には、円形の平坦面が形成されている。また、図３（ｂ）に示すように、マイクロディスペンサ９を用いて白欠陥６ａに修正インク７を塗布してもよい。また、白欠陥６ａに対して塗布形状が小さい場合には、塗布位置を変えて複数回塗布が行なわれる。
【００２５】
図４は、白欠陥６ａに修正インク７が塗布された状態を示す図である。図４では、白欠陥６ａに塗布された修正インク７は、白欠陥６ａの全域に充填されず、白欠陥６ａの角部には修正インク７の未充填部が残っている。
【００２６】
図５は、白欠陥６ａに塗布された修正インク７の厚みを均一にする工程を示す図である。図５において、白欠陥６ａに塗布された修正インク７は、たとえば中央が膨らみ、塗布厚みが不均一な状態にある。このパターン修正方法では、気体供給源（Ｇ）１０と、溶媒蒸気発生装置１１と、ノズル２０とが使用される。気体供給源１０は、所定の圧力の気体を供給する。気体としては、たとえば窒素ガスが用いられるが、使用する修正インク７の劣化がなければ圧縮空気でもよい。
【００２７】
溶媒蒸気発生装置１１は、気体供給源１０から供給される気体の圧力を調整するレギュレータ（Ｒ）１２と、レギュレータ１２と容器１５の入口との間に接続された電磁バルブ（Ｖ）１３と、電磁バルブ１３の開閉を制御するタイマ（Ｔ）１４と、修正インク７の溶媒と同じ溶媒１６（たとえば、ＰＧＭＥＡ）が注入された容器１５とを含む。
【００２８】
なお、溶媒１６が注入された容器１５が欠陥修正に伴って移動する場合、溶媒１６の液面が揺れてノズル２０側に溶媒１６が流れる場合が想定される。溶媒１６がノズル２０側に流れるのを防止するため、容器１５の気体出口部にフィルタ１７を設けてもよいし、溶媒１６をゲル状にしてよいし、溶媒１６を吸収させたシート１８を容器１５内に入れてもよい。
【００２９】
容器１５の出口とノズル２０の基端とは、配管１９によって接続される。ノズル２０は、修正対象の液晶カラーフィルタ基板１に対して略垂直に設けられ、その先端の開口部は白欠陥６ａに対して所定の隙間を開けて対峙される。ノズル２０の先端と液晶カラーフィルタ基板１との隙間は１ｍｍ〜１０ｍｍ程度とされる。また、ノズル２０から噴霧される領域は、白欠陥６ａを含む範囲であればよく、ノズル２０の内径は、たとえば、０．１ｍｍから５ｍｍ程度とされる。
【００３０】
レギュレータ１２によって気体の圧力を最適値に調整した後、電磁バルブ１３をタイマ１４で設定した時間だけ開放して、気体を容器１５内に流入させる。これにより、気体と溶媒１６の蒸気が混合される。溶媒１６の蒸気を含む気体は、ノズル２０を介して、白欠陥６ａの上方から白欠陥６ａを含む範囲に噴霧される。
【００３１】
図６は、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に溶媒１６の蒸気を含む気体を噴霧した後の状態を示す図である。修正インク７が気体中に含まれる溶媒１６の蒸気を吸収すると、修正インク７の粘度が低下して流動性が高まり、修正インク７の表面が平坦化される。また、修正インク７の流動性が高まると、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に塗りむら、たとえば、修正インク７が塗布されない領域があっても、白欠陥６ａの全域に修正インク７が流れて塗りむらが修復され、修正インク７の厚みが均一になる。なお、修正インク７の厚みを均一化するために必要な噴霧時間は予め予備実験などで求められ、求められた噴霧時間はタイマ１４に設定される。
【００３２】
この実施の形態では、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に溶媒１６の蒸気を含む気体を噴霧して修正インク７の粘度を低下させ、修正インク７の流動性を高めて修正インク７の厚みを均一にする。したがって、修正インク７の粘度が高い場合でも、気体の圧力を高める必要はないので、修正インク７が白欠陥６ａの周囲にはみ出すのを抑えることができる。
【００３３】
以下、この実施の形態の種々の変更例について説明する。図７の変更例では、観察光学系（図示せず）の対物レンズ２１が白欠陥６ａの真上に配置され、ノズル２０は白欠陥６ａに向けて斜めに配置される。この変更例では、白欠陥６ａに塗布された修正インク７の状態を観察しながら、ノズル２０から溶媒１６の蒸気を含む気体を噴霧することができる。したがって、修正インク７の表面の平坦化が完了したのを確認した後に電磁バルブ１３を閉じることにより、修正インク７の表面の平坦化を確実に行なうことが可能となる。
【００３４】
図８の変更例では、観察光学系（図示せず）の対物レンズ２１が白欠陥６ａの真上に配置され、複数（図では２個）のノズル２０が等角度間隔で白欠陥６ａの周りに配置され、各ノズル２０は白欠陥６ａに向けて斜めに配置される。図７の変更例では、白欠陥６ａの一方側から溶媒１６の蒸気を含む気体が噴霧されるので、溶媒１６の蒸気の密度が白欠陥６ａ内で不均一になり、修正インク７の流動性が不均一になって平坦化の妨げになる場合が想定される。これに対して図８のの変更例では、溶媒１６の蒸気を含む気体が白欠陥６ａに塗布された修正インク７に均一に噴霧されるので、修正インク７の厚みをより均一にすることができる。
【００３５】
また、液晶カラーフィルタ基板１の白欠陥６ａの修正においては、白欠陥６ａの周囲の正常な部分との色相を合わせたり、また、修正インク７の厚みを厚くするために、製造用のインクよりも高粘度の修正インク７を用いる場合が多い。また、白欠陥６ａに塗布される修正インク７の液量は微少であり、微量の修正インク１７は多量の修正インク１７よりも乾燥し易い。修正インク７の流動性を早く回復するためには、溶媒１６の蒸気量を増やす（濃度を高める）ことが効果的である。
【００３６】
そこで、図９の変更例では、容器１５に流入する気体を一旦、溶媒１６の液中に入れて泡を発生させ、溶媒１６の蒸発を促進する。また、図１０の変更例では、容器１５にヒータ２２を配置し、溶媒１６を温めて溶媒１６の蒸発を促進する。これにより、溶媒１６の蒸気濃度を高めることができ、単位時間当たりに修正インク７に吸収される溶媒量を増やすことが可能となる。また、溶媒１６の蒸気を含む気体の噴霧時間の短縮化が可能となる。
【００３７】
また、溶媒１６の蒸気量と噴霧時間は相対関係にあり、白欠陥６ａに塗布された修正インク７の液量と、溶媒１６の蒸気量が分かれば、平坦化に必要な各種条件はある程度予測ができる。また、予め実験により最適な修正条件を把握し、欠陥に応じて条件を変えるようにしてもよい。なお、欠陥修正を行なう部屋の環境、たとえば室温や湿度によっても塗布された修正インク７の乾燥性や流動性は異なるため、その環境に応じて、溶媒１６の蒸気量や噴霧時間を設定することが望ましい。
【００３８】
また、図１１の変更例では、１つのＢ画素６全体が白欠陥６ａになっている。インクジェット方式で製造された液晶カラーフィルタ基板１では、混色が数画素にまたがる場合がある。このような場合、ブラックマトリックス３を残して画素全体にレーザ光を照射して画素全体を白欠陥６ａに変換してから修正インク７を塗布する。
【００３９】
また、最近のカラーフィルタ基板１では、画面サイズの大型化に伴って１画素のサイズが大きくなっている。大きな画素６の一部のみに白欠陥６ａがある場合、その白欠陥６ａに修正インク７を塗布すると、画素６内に色むらが発生する場合がある。そこで、画素６内の色むらを防止するため、画素６全体にレーザ光を照射して画素６全体を白欠陥６ａに変換してから修正インク７を塗布する。このように大きな白欠陥６ａに修正インク７を塗布する場合、白欠陥６ａ内で塗布位置を変えながら複数回に分けて修正インク７を塗布する。
【００４０】
図１２では、塗布針８の先端に修正インク７を付着させ、塗布針８の位置をずらしながら複数回に渡って白欠陥６ａに修正インク７を塗布する状態が示されている。この場合、塗布形状が重なるように複数回塗布するので、修正インク７の厚みは、欠陥サイズが小さな場合に比べて不均一になり、色むらを生じ易くなる。
【００４１】
図１３は、図１２で示した方法で修正インク７が塗布された白欠陥６ａを示す断面図である。図１３において、白欠陥６ａに塗布された修正インク７は、均一な厚みとならず、その表面は凹凸状となる。特に、塗布回数が多くなった場合には修正インク７の厚みが不均一になる傾向が強い。
【００４２】
図１４では、図１３で示した白欠陥６ａを含む領域に図５で示した方法で溶媒１６の蒸気を含む気体を噴射して、修正インク７の厚みを均一化した状態が示されている。白欠陥６ａの面積が大きくても、白欠陥６ａ内に塗布された修正インク７の溶媒１６を吸収させることにより、修正インク７の粘度を低下させ、その流動性を高め、修正インク７の表面を平坦化することができる。修正インク７が紫外線硬化タイプであれば、その後紫外線を照射して修正インク７を硬化させる。また、必要があればその後焼成まで行なう。最近では、修正時間短縮のため、焼成工程を省略できるものがあり、紫外線硬化のみで十分な密着性が確保される。この変更例でも、実施の形態と同じ効果が得られる。
【００４３】
なお、溶媒１６の蒸気を含む気体の噴霧は、白欠陥６ａに塗布された修正インク７が平坦化するまで行なわれる。噴霧時間は、溶媒１６の蒸気の濃度、白欠陥６ａの形状、塗布された修正インク７の液量、修正インク７の粘度によってことなる。噴霧時間は、たとえば数秒に設定される。また、溶媒１６の蒸気を含む気体は、連続して噴霧してもよいし、噴霧と停止を繰り返し、間欠的に噴霧してもよい。
【００４４】
図１５の変更例では、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に溶媒１６の蒸気を噴霧する代わりに、溶媒１６を吸収させたシートを修正インク７に近接させて、修正インク７の平坦化を行なう。すなわち、溶媒蒸気発生装置２５は、支持棒２６と、その先端に固着されたシート２７とを含む。シート２７には、溶媒１６を吸収させておく。白欠陥６ａに修正インク７を塗布した後に、シート２７を白欠陥６ａに近接して対峙させる。シート２７から溶媒１６が蒸発し、その蒸気が白欠陥６ａに塗布された修正インク７に吸収され、修正インク７が平坦化される。シート２７は、たとえば円筒状のスポンジ、不織布、または多孔質材料である。溶媒１６の蒸発濃度は、カラーフィルタ基板１に対向するシート２７の面積や体積、溶媒１６の吸収量、対峙させる隙間によって異なる。
【００４５】
また、図１６は、図１〜図１４で示したパターン修正方法を実行するためのパターン修正装置３０の全体構成を示す斜視図である。図１６において、このパターン修正装置３０では、定盤３１の中央部にチャック３２が設けられている。チャック３２には、修正対象の液晶カラーフィルタ基板１が固定される。
【００４６】
また、定盤３１には、ガントリ型のＸＹステージ３３が搭載されている。ＸＹステージ３３は、Ｘ軸ステージ３３ａと門型のＹ軸ステージ３３ｂとを含む。Ｙ軸ステージ３３ｂは、チャック３２を跨ぐように設けられ、図中のＹ軸方向に移動する。Ｘ軸ステージ３３ａは、Ｙ軸ステージ３３ｂに搭載され、図中のＸ方向に移動する。
【００４７】
Ｘ軸ステージ３３ａには、上下方向に移動可能なＺ軸ステージ３４が搭載される。Ｚ軸ステージ３４には、観察光学系３５、レーザ３６、塗布ユニット３７、および溶媒蒸気発生装置１１が固定される。Ｘ軸ステージ３３ａ、Ｙ軸ステージ３３ｂ、およびＺ軸ステージ３４を制御することにより、観察光学系３５、レーザ３６、塗布ユニット３７、および溶媒蒸気発生装置１１の各々を基板１表面の所望の位置の上方に移動させることが可能となっている。
【００４８】
観察光学系３５は、対物レンズ２１を含み、修正前後の白欠陥６ａなどの観察に用いられる。レーザ３６は、観察光学系３５を介して基板１上の欠陥にレーザ光を照射し、レーザアブレーションによってその欠陥を矩形の白欠陥６ａに変換する。塗布ユニット３７は、ＸＹＺステージ、インクタンク、塗布針８などを含み、塗布針８の先端部に修正インク７を付着させ、塗布針８の先端を白欠陥６ａに接触させて白欠陥６ａに修正インク７を塗布する。溶媒蒸気発生装置１１は、溶媒１６の蒸気を含む気体をノズル２０を介して、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に噴射し、修正インク７の粘度を低下させて修正インク７の厚みを均一化させる。
【００４９】
このパターン修正装置３０によれば、液晶カラーフィルタ基板１の画素６に発生した白欠陥６ａにレーザ光を照射して矩形に整形し、その白欠陥６ａに修正インク７を塗布し、その修正インク７に溶媒１６の蒸気を含む気体を噴射してその厚みを均一にすることができる。したがって、塗りむらや色むらを生じることなく、白欠陥６ａを修正することができ、修正部の品位の向上を図ることができる。
【００５０】
なお、ノズル２０と溶媒蒸気発生装置１１の代わりに、図１５で示した溶媒蒸気発生装置２５を搭載してもよい。
【００５１】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】この発明の一実施の形態によるパターン修正方法の修正対象である液晶カラーフィルタ基板の要部を示す図である。
【図２】図１に示した白欠陥を含む画素の断面図である。
【図３】図２に示した白欠陥に修正インクを塗布する工程を示す断面図である。
【図４】図１に示した白欠陥に修正インクを塗布した状態を示す図である。
【図５】白欠陥に塗布された修正インクの厚みを均一化させる工程を示す断面図である。
【図６】図５で示した工程によって厚みが均一化された修正インクを示す断面図である。
【図７】実施の形態の変更例を示す断面図である。
【図８】実施の形態の他の変更例を示す断面図である。
【図９】実施の形態のさらに他の変更例を示す断面図である。
【図１０】実施の形態のさらに他の変更例を示す断面図である。
【図１１】実施の形態のさらに他の変更例の修正対象である液晶カラーフィルタ基板の要部を示す図である。
【図１２】図１１で示した白欠陥に修正インクを塗布する方法を示す図である。
【図１３】図１２で示した方法で塗布した修正インクを示す断面図である。
【図１４】厚みが均一化された修正インクを示す断面図である。
【図１５】実施の形態のさらに他の変更例を示す断面図である。
【図１６】図１〜図１４で示したパターン修正方法を行なうためのパターン修正装置の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５３】
１液晶カラーフィルタ基板、２ガラス基板、３ブラックマトリックス、４Ｒ画素、５Ｇ画素、６Ｂ画素、６ａ白欠陥、７修正インク、８塗布針、９マイクロディスペンサ、１０気体供給源、１１，２５溶媒蒸気発生装置、１２レギュレータ、１３電磁バルブ、１４タイマ、１５容器、１６溶媒、１７フィルタ、１８，２７シート、１９配管、２０ノズル、２１対物レンズ、２２ヒータ、２６支持棒、３０パターン修正装置、３１定盤、３２チャック、３３ＸＹステージ、３３ａＸ軸ステージ、３３ｂＹ軸ステージ、３４Ｚ軸ステージ、３５観察光学系、３６レーザ、３７塗布ユニット。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正方法であって、
前記欠陥部に修正液を塗布する第１のステップと、
前記欠陥部に塗布された前記修正液の厚みが均一になるように、前記修正液に溶媒の蒸気を吸収させて前記修正液の粘度を低下させる第２のステップとを含む、パターン修正方法。
【請求項２】
前記溶媒は、前記修正液に含有された溶媒と同じものである、請求項１に記載のパターン修正方法。
【請求項３】
前記修正液に前記溶媒の蒸気を吸収させて前記修正液の厚みを均一にするために必要な時間を予め求めておき、
前記第２のステップでは、予め求めた時間だけ前記修正液の溶媒を前記修正液に吸収させる、請求項１または請求項２に記載のパターン修正方法。
【請求項４】
前記第２のステップでは、前記欠陥部に塗布された前記修正液を観察しながら前記修正液に前記溶媒を吸収させ、前記修正液の表面が平坦化したことに応じて前記第２のステップを終了する、請求項１または請求項２に記載のパターン修正方法。
【請求項５】
前記第２のステップでは、前記欠陥部に塗布された前記修正液にノズルの先端を対峙させ、前記ノズルから前記溶媒の蒸気を含む気体を前記修正液に噴霧して、前記修正液に前記溶媒の蒸気を吸収させる、請求項１から請求項４までのいずれかに記載のパターン修正方法。
【請求項６】
前記ノズルは、前記基板に対して略垂直または斜めに配置される、請求項５に記載のパターン修正方法。
【請求項７】
前記ノズルは前記白欠陥の周囲に複数配置される、請求項５または請求項６に記載のパターン修正方法。
【請求項８】
前記第２のステップでは、前記溶媒が注入された容器内に気体を供給して、前記溶媒の蒸気を含む前記気体を生成する、請求項５から請求項７までのいずれかに記載のパターン修正方法。
【請求項９】
前記容器内の前記溶媒中に気体を供給して泡を発生させ、前記溶媒の蒸気の発生量を増やす、請求項８に記載のパターン修正方法。
【請求項１０】
前記容器内をヒータで加熱して前記溶媒の蒸気の発生量を増やす、請求項８または請求項９に記載のパターン修正方法。
【請求項１１】
前記第２のステップでは、前記欠陥部に塗布された前記修正液に対して、前記溶媒を吸収させたシートを近接させ、前記シートから前記溶媒の蒸気を前記修正液に供給する、請求項１から請求項４までのいずれかに記載のパターン修正方法。
【請求項１２】
前記基板は透明基板であり、
前記パターンは複数の着色層を含むカラーフィルタであり、
前記欠陥部は前記着色層の白欠陥である、請求項１から請求項１１までのいずれかに記載のパターン修正方法。
【請求項１３】
基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
前記欠陥部に修正液を塗布する塗布手段と、
前記欠陥部に塗布された前記修正液の厚みが均一になるように、前記修正液に溶媒の蒸気を吸収させて前記修正液の粘度を低下させる均一化手段とを備える、パターン修正装置。
【請求項１４】
前記均一化手段は、
前記溶媒が注入された容器と、
前記容器内に気体を供給して前記溶媒の蒸気を含む前記気体を生成する気体供給手段と、
前記容器に接続され、前記溶媒の蒸気を含む前記気体を前記欠陥部に塗布された前記修正液に噴霧するノズルとを含む、請求項１３に記載のパターン修正装置。
【請求項１５】
前記均一化手段は、
前記溶媒を吸収したシートと、
前記欠陥部に塗布された前記修正液に前記シートを対峙させる保持部材とを含む、請求項１３に記載のパターン修正装置。

【図１】