プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置
【課題】水や二酸化炭素と言った不純ガスがパネル内に進入する前に吸着・除去をすることで、不純ガスが活性な保護膜材料に触れないようにすることで、保護膜が持つ本来の放電特性を維持できるＰＤＰのパネル構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化カルシウムなどで構成される吸着材料１を前面側ガラス基板２と背面側ガラス基板３の間の気密用のシール６の周囲に配置する。焼成時に外部から流入する不純ガスをこの吸着材料１で吸着することにより、ＰＤＰ内部への不純ガスの流入を防止する。
【解決手段】酸化カルシウムなどで構成される吸着材料１を前面側ガラス基板２と背面側ガラス基板３の間の気密用のシール６の周囲に配置する。焼成時に外部から流入する不純ガスをこの吸着材料１で吸着することにより、ＰＤＰ内部への不純ガスの流入を防止する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示用デバイスなどに用いられるプラズマディスプレイパネルの構造、及びその製造方法、製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、大画面化に好適なフルカラー表示装置として、注目されると共に、広く一般に普及した製品である。特に、三電極面放電方式を用いるＡＣ型ＰＤＰは、表示側のガラス基板（前面側ガラス基板）上に面放電を発生する複数のＩＴＯなどで構成される。
【０００３】
また、背面側のガラス基板（背面側ガラス基板）には、その表示電極対と表示面側から見て直交するアドレス電極、及びそれを被覆する蛍光体層を形成する。
【０００４】
前面側ガラス基板と背面側ガラス基板は低融点ガラスシールにより封入されており、背面側ガラス基板に設けられたガス導入管から放電ガスを導入後、このガス導入管を封止し、切断する。
【０００５】
特開２００２−３５８８９２号公報（特許文献１）には、シール（フリット）の内側またはシール中に不純ガスを吸着する物質を配置することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−３５８８９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上記特許文献１にも問題が存在する。
【０００８】
特許文献１記載の技術では、パネル内の不純ガスを吸着剤によって吸着することはできる。しかし、保護膜材料が活性の場合、同時に保護膜もパネル内の不純ガスを吸着することは避けられず、所望の放電特性が得られない。
【０００９】
本発明の目的は、不純ガスがパネル内に進入する前に吸着・除去をすることで、不純ガスが活性な保護膜材料に触れることを防止し、保護膜が持つ本来の放電特性を維持できるＰＤＰのパネル構造及びその製造方法を提供することにある。
【００１０】
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次の通りである。
【００１２】
本発明の代表的な実施の形態に関わるプラズマディスプレイパネルは、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、これらの前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルであって、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するシールの外側に、パネルの特性に影響を与えるガスを吸着できる吸着材料が配されていることを特徴とする。
【００１３】
このプラズマディスプレイパネルは、吸着材料がパネルの特性に影響を与える水または二酸化炭素、またはその両方を吸着可能なことを特徴としても良い。
【００１４】
これらのプラズマディスプレイパネルにおいて、吸着材料が酸化カルシウムであること、吸着材料が酸化ストロンチウムであること、吸着材料が酸化バリウムであることを特徴としても良い。
【００１５】
これらのプラズマディスプレイパネルにおいて、吸着材料が元素記号Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａでイオン交換したゼオライトであることを特徴としても良く、また、イモゴライト構造を持つ非晶質アルミニウムケイ酸からなる材料であることを特徴としても良い。
【００１６】
これらのプラズマディスプレイパネルにおいて、吸着材料が、粉体、または粉体により構成された膜、または粉体を成形したものであることを特徴としても良い。
【００１７】
本発明の代表的な実施の形態に関わるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するものであって、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、粉体の吸着材料を吹き付ける吸着材料生成ステップと、を含むことを特徴とする。
【００１８】
このプラズマディスプレイパネルの製造方法において、吸着材料生成ステップでエアロゾルポジション法を用いることを特徴としても良い。
【００１９】
本発明の代表的な実施の形態に関わる別のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、これらの前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するものであって、粉体の吸着材料を所望の形状に成形し、成形後吸着材料を生成する吸着材料成形ステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板、及び成形後吸着材料の位置合わせを行うアライメントステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板、及び成形後吸着材料を重ね合わせる重ね合わせステップと、を含むことを特徴とする。
【００２０】
本発明の代表的な実施の形態に関わる別のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するものであって、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、重ね合わせステップの後、粉体の吸着材料をペースト状にして塗布する吸着材料塗布ステップと、を含むことを特徴とする。
【００２１】
本発明の代表的な実施の形態に関わる別のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するものであって、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、所望の形状に成形された成形後吸着材料を前面側ガラス基板と背面側ガラス基板の間の所望の位置に配置する成形後吸着材料載置ステップと、を含むことを特徴とする。
【００２２】
これらのプラズマディスプレイパネルの製造方法において、さらに低融点ガラスシールにより封止後のプラズマディスプレイパネルから吸着材料の一部又は全部を除去する吸着材料除去ステップを含むことを特徴としても良い。
【００２３】
本発明の代表的な実施の形態に関わるプラズマディスプレイパネルの製造装置は、前面側ガラス基板及び背面側ガラス基板を重ね合わせてアライメントするアライメント機構と、クリップで前面側ガラス基板及び背面側ガラス基板を挟み固定するガラス基板固定機構と、吸着材料を所望の位置に配置する吸着材料載置機構と、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に関わるプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置により、パネルの製造工程中での保護膜と不純ガスとの反応を抑制すると共に、画像表示面内の放電特性を均一にして、品質の優れた画像を表示できるパネルを製造することが可能となる。
【００２５】
また、本発明に関わるプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置により、パネルの製造工程中大気中に配置された封着排気装置を用いることができ、製造単価を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明に関わる構造を用いたＡＣ型ＰＤＰの上面透視図である。
【図２】本発明に関わる構造を用いた封止前のＡＣ型ＰＤＰのＡ−ａ断面図である。
【図３】本発明に関わる構造を用いた封止後のＡＣ型ＰＤＰのＡ−ａ断面図である。
【図４】本発明の第1の実施の形態のＰＤＰに関わる封着排気に対する効果検討のためのプロファイルである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下の実施の形態においては、便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明する。しかし、特に明示した場合を除き、それは互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部又は全部の変形例、詳細、補足説明などの関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数など（個数、数値、量、範囲などを含む）に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合などを除き、その特定の数に限定されるものでなく、特定の数以上でも以下でも良い。
【００２８】
さらに、以下の実施の形態において、その構成要素は、特に明示した場合及び原理的に明らかに必須であると考えられる場合を除き、必ずしも必須のものでないことは言うまでもない。
【００２９】
以下、図を用いて本発明の実施の形態を説明する。なお、本明細書及び添付する特許請求の範囲に関わる「プラズマディスプレイパネル」あるいは「ＰＤＰ」は、画像表示の目的でないものであってもその対象に含むものとする。拒絶理由通知が発せられた際の対応で画像表示の目的のみに減縮する場合には、「画像表示専用プラズマディスプレイパネル」などの用語を用いる。また画像表示以外の目的に減縮する場合には「非画像表示用プラズマパネル」を、照明用途に用いる場合には「照明用プラズマパネル」などの用語を用いる。
【００３０】
（本発明に関わるＰＤＰの基本的な構成）
図１は、本発明に関わる構造を用いたＡＣ型ＰＤＰの上面透視図である。また、図２は本発明に関わる構造を用いた封止前のＡＣ型ＰＤＰの断面図である。図２の断面図は、図１のＡ−ａ断面のものである。また図３は、本発明に関わる構造を用いた封止後のＡＣ型ＰＤＰのＡ−ａ断面の断面図である。
【００３１】
このＡＣ型ＰＤＰは、吸着材料１、前面側ガラス基板２、背面側ガラス基板３、ガス導入孔４、表示領域５、シール６、表示電極７、アドレス電極８、背面板側誘電体９、リブ１０、蛍光体１１、前面板側の誘電体１２、保護膜１３を含んで構成される。
【００３２】
前面側ガラス基板２は、表示装置としてのプラズマディスプレイテレビの表示面となるガラス基板である。この前面側ガラス基板２上には透明電極と金属電極とで作製された表示電極対７、誘電体層１２、該誘電体層を保護する保護膜１３などが配置されている。なお図１では、表示電極７、誘電体層１２、保護膜１３は省略している。
【００３３】
背面側ガラス基板３は、図１で図示するガス導入孔４及びシール６、図１では図示しない、アドレス電極８、背面板側の誘電体層９、発光セルを構成する図示しないリブ１０、及びリブ間の空間に設けられた蛍光体１１を備える構造部材である。
【００３４】
ガス導入孔４は、ＰＤＰ内の不純ガスを排気し、また、排気後に放電ガスを導入するための開口部である。
【００３５】
表示領域５は、パネルの完成及び製品実装後に画像の表示が行われる領域である。
【００３６】
シール６は、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を気密封止するシールである。シール６は表示面から見ると、前面側ガラス基板２と背面側ガラス基板３の重複箇所の外周に配置される。
【００３７】
表示電極７は、いわゆる維持電極及び走査電極と言われる前面側ガラス基板２上に設けられる電極である。ＰＤＰの動作周期である１）リセット期間、２）アドレス期間、３）サステイン期間、の内、３）サステイン期間中にサステインパルスが各電極の駆動回路（図示せず）から入力される。また１）リセット期間及び２）アドレス期間にも所定の信号が入力される。
【００３８】
表示電極７は、ＩＴＯを真空成膜・パターニングした透明電極及び銀により構成される。
【００３９】
アドレス電極８は、主にアドレス期間に動作する、背面側ガラス基板３上に設けられる電極である。
【００４０】
アドレス電極８は、銀を主成分として構成されることが多い。
【００４１】
誘電体層９は背面側ガラス基板３上のアドレス電極８を被覆するように形成される。また、誘電体層１２は、前面側ガラス基板２上の表示電極７を被覆するように形成される。
【００４２】
誘電体層９と誘電体層１２は、低融点ガラスペーストを印刷・焼成して形成されることが多い。
【００４３】
リブ１０は、画素の放電空間を確保するための低融点ガラス製の構造体である。
【００４４】
蛍光体１１は、サステイン放電により発生する真空紫外光に反応して発光する有色の蛍光体である。
【００４５】
保護膜１３は、誘電体層１２を保護するための層である。保護膜１３は、酸化マグネシウムや酸化カルシウムを真空蒸着して形成される。
【００４６】
上記の一般的なＰＤＰの構成部材に対し、本発明においては吸着材料１を配置する点に特徴がある。
【００４７】
吸着材料１は、シール６の更に外周に配置される、水又は二酸化炭素などの不純ガスを吸着する部材である。シール６封止時に、この吸着材料１が存在するために、シール６外周からの不純ガスのＰＤＰ内部への流入を防ぐことができる。
【００４８】
下記で述べるとおり、本明細書では、吸着材料１は酸化カルシウム粉を使用することを想定している。しかし、これに限られるものではない。例えば、水や二酸化炭素を吸着する酸化ストロンチウム、酸化バリウムを用いても良い。また、酸化ストロンチウムと酸化カルシウムの混晶のように、これらの２種類以上を含む混合物あるいは化合物を吸着材料１に用いても良い。
【００４９】
他にも、吸着材料１の特性をコントロールする目的で、アルミニウムやチタンなどの元素を添加しても良い。
【００５０】
また、吸着材料１に二酸化炭素の吸着・分解作用、水の吸着作用があるカルシウムイオン交換型のフォージャサイト構造を持つゼオライトを用いても良い。また、カルシウムイオン交換型だけでなく、カリウムイオン交換型、マグネシウムイオン交換型のゼオライトでも良い。また、リチウムイオン交換型モルデナイトまたはクリノプチロライトなどのゼオライトを用いることもできる。また、リチウム、ナトリウム、バリウムでイオン交換したゼオライトであっても良い。
【００５１】
同様に、二酸化炭素や水の吸着作用があることで知られている、オルトケイ酸ナトリウムと塩化アルミニウム六水和物より形成した前駆体を加熱し作製した１次元結晶でチューブ内に形成された細孔、またはチューブ同士によって細孔が形成されているイモゴライト構造を持つ非晶質アルミニウムケイ酸を用いることもできる。
【００５２】
（第１の実施の形態）
次に、本実施の形態の吸着材料１及びＰＤＰの形成方法について説明する。
【００５３】
まず、板ガラス上に表示電極７を形成した後、誘電体層１２及び保護膜１３を生成し、前面側ガラス基板２を形成する。以下保護膜材料が酸化カルシウムの場合に関して記述するが、酸化カルシウムに限定するものではない。
【００５４】
次に、背面側ガラス基板３を形成する。
【００５５】
また、板ガラスなどの基材にアドレス電極８及び誘電体層９、リブ１０を形成する。また、リブ１０の間の放電空間には加法混色の三原色である赤緑青の蛍光体１１を配置する。その後、表示領域５の周囲にシール６となるシール材を形成する。
【００５６】
これにより背面側ガラス基板３の形成が完了する。
【００５７】
その後、生成した前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３をアライメントしつつ重ね合わせる。
【００５８】
重ね合わせた後、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた断面に向けて平均粒径１μｍ以下の酸化カルシウム粉を窒素ガスで圧送しノズル（図示せず）から噴射し塗布を開始する。
【００５９】
このノズルを、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた断面に沿って移動させ、シール材の外周を全て覆う様にする。この酸化カルシウム粉が吸着材料１である。
【００６０】
なお、上記では前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた後に吸着材料１生成用の酸化カルシウム粉を塗布する方式で説明した。しかしこれだけには限られず、吸着材料１を所望の形に形成した後に、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせる方法を採用しても良い。第２及び第３の実施の形態でも、異なる手法の一部を開示する。
【００６１】
吸着材料１の塗布が終了すると、クリップで前面側ガラス基板２と背面側ガラス基板３を固定する。この状態で、大気中で封着排気装置を用いて封着排気を行う。通常の大気中に配置された通常の封着排気装置は、大気中に３３０ｐｐｍ程度の濃度の二酸化炭素を含んでいるために、吸着材料１が無い従来のパネルを大気中で封着排気すると、封着前のシールと、それと対向する基板との隙間から水及び二酸化炭素が浸入し、保護膜の酸化カルシウムが水及び二酸化炭素を吸着し、それぞれ容易に水酸化カルシウムや炭酸カルシウムに変化する。しかし、吸着材料１をシールの周囲に配すると吸着材料１がパネル内への二酸化炭素や水の浸入を抑制するために、通常の封着排気装置を用いて封着排気を行っても保護膜１３が水酸化物や炭酸塩になることを抑制できる。
【００６２】
このための設備としては、従来の重ね合わせ装置と同様に前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３とを重ね合わせてアライメントする機構と、クリップで前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を挟み固定する機構とに加え、吸着剤を所望の位置に配置する機構を含むことを要する。また、これらの設備全体を窒素などの不活性な雰囲気にすることで実現可能である。これは、第２の実施の形態、第３の実施の形態も同様である。
【００６３】
上記酸化カルシウム粉等の吸着材料１を通過する過程で、概ね水及び二酸化炭素は吸着され、封着前のシール６頂上と前面側ガラス基板２の隙間からの不純ガスのパネル内への進入が抑制されるが、パネル内への進入が抑制されたかは次のパネル特性を確認することで明らかになる。
【００６４】
この条件で行った封着排気と、真空雰囲気で行った封着排気との対比をする。図４は、封着排気の温度プロファイルを示す。本発明の第１の実施の形態のＰＤＰに関わる封着排気では、図４の昇温過程（ａ）及びシールが溶けて封着する（ｂ）領域は大気雰囲気で、排気過程（ｃ）では真空引きを行う。一方、真空雰囲気で封着排気を行う場合は、（ａ）と、（ｂ）と（ｃ）のいずれの工程も真空雰囲気で行う。真空雰囲気で封着排気を行った場合、雰囲気中に二酸化炭素及び水が無いため、保護膜１３の酸化カルシウムは劣化していない。
【００６５】
保護膜１３に酸化カルシウムを用いて真空雰囲気で封着排気を行うと、パネルの第一点灯電圧（Ｖｆ１）は１９５Ｖになる。
【００６６】
一方、吸着材料１をシール６外周に配置して大気中で封着排気を行った場合、パネルの第一点灯電圧（Ｖｆ１）は２０４Ｖになる。この値は、実用上真空雰囲気で封着排気を行った場合とほぼ同等のものである。
【００６７】
パネルが完成した後は、シール６によって放電空間は密閉され、以降水や二酸化炭素の浸入は妨げられる。従ってパネル周囲に吹き付けられた吸着材料１をそのまま残しておいても、ブローあるいはブラシで除去しても、パネル特性に影響が及ぶことはない。
【００６８】
以上のように、シール６外周に吸着材料１を塗布する本発明に関わるＰＤＰ及びその製造方法を採用することにより、パネルの製造工程中大気中に配置された封着排気装置を用いることができ、製造単価を低減することが可能となる。
【００６９】
（第２の実施の形態）
次に本発明の第２の実施の形態について説明する。
【００７０】
本実施の形態及び第３の実施の形態は、第１の実施の形態同様、製法に関わるものである。その製法について説明する。
【００７１】
本実施の形態では、まず銀を主成分とするアドレス電極８及び低融点ガラスからなる誘電体層９、およびリブ１０、リブ間に蛍光体１１を形成した背面板の周囲にシールペーストをディスペンサーで塗布・乾燥した後に、酸化カルシウム粉体と低沸点の溶媒（たとえばエタノール）と混合したペーストをシールの高さより高くなるように形成し、真空乾燥する。
【００７２】
次に、前面側ガラス基板２にＩＴＯを真空成膜・パターニングした透明電極と銀を主成分とするバス電極からなる表示電極７と、低融点ガラスペーストを印刷・焼成してなる誘電体層１２、および酸化カルシウムの真空蒸着によりなる保護膜１３を形成する。
【００７３】
続けて、窒素ガス雰囲気中で前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３をアライメントしつつ重ね合わせる。その後、クリップで前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を固定し、大気中で封着排気装置を用いて封着排気を行う。
【００７４】
このような手法でも、（本発明に関わるＰＤＰの基本的な構成）で表したＰＤＰを構成することが可能である。
【００７５】
（第３の実施の形態）
次に本発明の第３の実施の形態に関わる製法について説明する。
【００７６】
この実施の形態では、まず酸化カルシウムの粉体をリボン状の形状に圧縮成形する。
【００７７】
次に、窒素ガス雰囲気中で、これまでの実施の形態と同様に形成された前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３において、図２の吸着材料１の位置に、フィルム状の形状に成形した酸化カルシウムを置く。その後、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせ、アライメントした後に前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３をクリップで固定する。
【００７８】
クリップによる固定後に、大気中で封着排気装置を用いて封着排気を行う。圧縮成形の条件をコントロールすることで、封着工程でシールが軟化し潰れる過程で、成形した酸化カルシウム粉が崩れ、図３のごとくシールと同じ高さになる。
【００７９】
なお、上記では、成形した酸化カルシウムを配した後に、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせたが、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた後に、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３の隙間にフィルム状に成形した吸着材料１を挿入しても良い。
【００８０】
また、上記では吸着材を前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３の隙間に配したが、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合せた外周に配しても良い。その場合は、封着工程でシール６が潰れるに伴い、吸着材料１の厚みも変化する必要はないので、酸化カルシウム粉を焼結させて、容易に崩れないようにした吸着材を用いることが出来る。吸着材料１の形状が安定であれば、パネル化後に水と二酸化炭素を吸着した吸着材を焼成することで再生させ、何度も使うことも可能である。
【００８１】
以上のように、シール６外周に吸着材料１を塗布する本発明に関わるＰＤＰ及びその製造方法を採用することにより、パネルの製造工程中大気中に配置された封着排気装置を用いることができ、製造単価を低減することが可能となる。
【００８２】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更が可能であることは言うまでもない。
【００８３】
例えば、第１、第２及び第３の実施の形態では、吸着材料１は粉の状態かあるいは粉を成形した状態で所望の位置に配した。しかし、エアロゾルデポジション法を用いて吸着材料１を形成する酸化カルシウム粉などを前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた外周に吹き付けることで、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３の隙間を塞ぐように膜を形成しても良い。
【００８４】
また、上記ではプラズマディスプレイパネルと、表示用のみに特化した記載としている。しかし、照明用に用いるなど、他の用途のパネルであっても本発明の射程に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
上記では、プラズマディスプレイパネルでの製造について説明した。しかし、これだけには限られず、気密を必要とするデバイス例えば封止を必要とする有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）への適用も可能である。
【符号の説明】
【００８６】
１…吸着材料、２…前面側ガラス基板、３…背面側ガラス基板、４…ガス導入孔、
５…表示領域、６…シール、７…表示電極、８…アドレス電極、９、１２…誘電体層、
１０…リブ、１１…蛍光体、１３…保護膜。
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示用デバイスなどに用いられるプラズマディスプレイパネルの構造、及びその製造方法、製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、大画面化に好適なフルカラー表示装置として、注目されると共に、広く一般に普及した製品である。特に、三電極面放電方式を用いるＡＣ型ＰＤＰは、表示側のガラス基板（前面側ガラス基板）上に面放電を発生する複数のＩＴＯなどで構成される。
【０００３】
また、背面側のガラス基板（背面側ガラス基板）には、その表示電極対と表示面側から見て直交するアドレス電極、及びそれを被覆する蛍光体層を形成する。
【０００４】
前面側ガラス基板と背面側ガラス基板は低融点ガラスシールにより封入されており、背面側ガラス基板に設けられたガス導入管から放電ガスを導入後、このガス導入管を封止し、切断する。
【０００５】
特開２００２−３５８８９２号公報（特許文献１）には、シール（フリット）の内側またはシール中に不純ガスを吸着する物質を配置することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−３５８８９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上記特許文献１にも問題が存在する。
【０００８】
特許文献１記載の技術では、パネル内の不純ガスを吸着剤によって吸着することはできる。しかし、保護膜材料が活性の場合、同時に保護膜もパネル内の不純ガスを吸着することは避けられず、所望の放電特性が得られない。
【０００９】
本発明の目的は、不純ガスがパネル内に進入する前に吸着・除去をすることで、不純ガスが活性な保護膜材料に触れることを防止し、保護膜が持つ本来の放電特性を維持できるＰＤＰのパネル構造及びその製造方法を提供することにある。
【００１０】
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次の通りである。
【００１２】
本発明の代表的な実施の形態に関わるプラズマディスプレイパネルは、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、これらの前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルであって、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するシールの外側に、パネルの特性に影響を与えるガスを吸着できる吸着材料が配されていることを特徴とする。
【００１３】
このプラズマディスプレイパネルは、吸着材料がパネルの特性に影響を与える水または二酸化炭素、またはその両方を吸着可能なことを特徴としても良い。
【００１４】
これらのプラズマディスプレイパネルにおいて、吸着材料が酸化カルシウムであること、吸着材料が酸化ストロンチウムであること、吸着材料が酸化バリウムであることを特徴としても良い。
【００１５】
これらのプラズマディスプレイパネルにおいて、吸着材料が元素記号Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａでイオン交換したゼオライトであることを特徴としても良く、また、イモゴライト構造を持つ非晶質アルミニウムケイ酸からなる材料であることを特徴としても良い。
【００１６】
これらのプラズマディスプレイパネルにおいて、吸着材料が、粉体、または粉体により構成された膜、または粉体を成形したものであることを特徴としても良い。
【００１７】
本発明の代表的な実施の形態に関わるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するものであって、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、粉体の吸着材料を吹き付ける吸着材料生成ステップと、を含むことを特徴とする。
【００１８】
このプラズマディスプレイパネルの製造方法において、吸着材料生成ステップでエアロゾルポジション法を用いることを特徴としても良い。
【００１９】
本発明の代表的な実施の形態に関わる別のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、これらの前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するものであって、粉体の吸着材料を所望の形状に成形し、成形後吸着材料を生成する吸着材料成形ステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板、及び成形後吸着材料の位置合わせを行うアライメントステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板、及び成形後吸着材料を重ね合わせる重ね合わせステップと、を含むことを特徴とする。
【００２０】
本発明の代表的な実施の形態に関わる別のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するものであって、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、重ね合わせステップの後、粉体の吸着材料をペースト状にして塗布する吸着材料塗布ステップと、を含むことを特徴とする。
【００２１】
本発明の代表的な実施の形態に関わる別のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するものであって、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、前面側ガラス基板と背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、所望の形状に成形された成形後吸着材料を前面側ガラス基板と背面側ガラス基板の間の所望の位置に配置する成形後吸着材料載置ステップと、を含むことを特徴とする。
【００２２】
これらのプラズマディスプレイパネルの製造方法において、さらに低融点ガラスシールにより封止後のプラズマディスプレイパネルから吸着材料の一部又は全部を除去する吸着材料除去ステップを含むことを特徴としても良い。
【００２３】
本発明の代表的な実施の形態に関わるプラズマディスプレイパネルの製造装置は、前面側ガラス基板及び背面側ガラス基板を重ね合わせてアライメントするアライメント機構と、クリップで前面側ガラス基板及び背面側ガラス基板を挟み固定するガラス基板固定機構と、吸着材料を所望の位置に配置する吸着材料載置機構と、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に関わるプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置により、パネルの製造工程中での保護膜と不純ガスとの反応を抑制すると共に、画像表示面内の放電特性を均一にして、品質の優れた画像を表示できるパネルを製造することが可能となる。
【００２５】
また、本発明に関わるプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置により、パネルの製造工程中大気中に配置された封着排気装置を用いることができ、製造単価を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明に関わる構造を用いたＡＣ型ＰＤＰの上面透視図である。
【図２】本発明に関わる構造を用いた封止前のＡＣ型ＰＤＰのＡ−ａ断面図である。
【図３】本発明に関わる構造を用いた封止後のＡＣ型ＰＤＰのＡ−ａ断面図である。
【図４】本発明の第1の実施の形態のＰＤＰに関わる封着排気に対する効果検討のためのプロファイルである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下の実施の形態においては、便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明する。しかし、特に明示した場合を除き、それは互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部又は全部の変形例、詳細、補足説明などの関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数など（個数、数値、量、範囲などを含む）に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合などを除き、その特定の数に限定されるものでなく、特定の数以上でも以下でも良い。
【００２８】
さらに、以下の実施の形態において、その構成要素は、特に明示した場合及び原理的に明らかに必須であると考えられる場合を除き、必ずしも必須のものでないことは言うまでもない。
【００２９】
以下、図を用いて本発明の実施の形態を説明する。なお、本明細書及び添付する特許請求の範囲に関わる「プラズマディスプレイパネル」あるいは「ＰＤＰ」は、画像表示の目的でないものであってもその対象に含むものとする。拒絶理由通知が発せられた際の対応で画像表示の目的のみに減縮する場合には、「画像表示専用プラズマディスプレイパネル」などの用語を用いる。また画像表示以外の目的に減縮する場合には「非画像表示用プラズマパネル」を、照明用途に用いる場合には「照明用プラズマパネル」などの用語を用いる。
【００３０】
（本発明に関わるＰＤＰの基本的な構成）
図１は、本発明に関わる構造を用いたＡＣ型ＰＤＰの上面透視図である。また、図２は本発明に関わる構造を用いた封止前のＡＣ型ＰＤＰの断面図である。図２の断面図は、図１のＡ−ａ断面のものである。また図３は、本発明に関わる構造を用いた封止後のＡＣ型ＰＤＰのＡ−ａ断面の断面図である。
【００３１】
このＡＣ型ＰＤＰは、吸着材料１、前面側ガラス基板２、背面側ガラス基板３、ガス導入孔４、表示領域５、シール６、表示電極７、アドレス電極８、背面板側誘電体９、リブ１０、蛍光体１１、前面板側の誘電体１２、保護膜１３を含んで構成される。
【００３２】
前面側ガラス基板２は、表示装置としてのプラズマディスプレイテレビの表示面となるガラス基板である。この前面側ガラス基板２上には透明電極と金属電極とで作製された表示電極対７、誘電体層１２、該誘電体層を保護する保護膜１３などが配置されている。なお図１では、表示電極７、誘電体層１２、保護膜１３は省略している。
【００３３】
背面側ガラス基板３は、図１で図示するガス導入孔４及びシール６、図１では図示しない、アドレス電極８、背面板側の誘電体層９、発光セルを構成する図示しないリブ１０、及びリブ間の空間に設けられた蛍光体１１を備える構造部材である。
【００３４】
ガス導入孔４は、ＰＤＰ内の不純ガスを排気し、また、排気後に放電ガスを導入するための開口部である。
【００３５】
表示領域５は、パネルの完成及び製品実装後に画像の表示が行われる領域である。
【００３６】
シール６は、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を気密封止するシールである。シール６は表示面から見ると、前面側ガラス基板２と背面側ガラス基板３の重複箇所の外周に配置される。
【００３７】
表示電極７は、いわゆる維持電極及び走査電極と言われる前面側ガラス基板２上に設けられる電極である。ＰＤＰの動作周期である１）リセット期間、２）アドレス期間、３）サステイン期間、の内、３）サステイン期間中にサステインパルスが各電極の駆動回路（図示せず）から入力される。また１）リセット期間及び２）アドレス期間にも所定の信号が入力される。
【００３８】
表示電極７は、ＩＴＯを真空成膜・パターニングした透明電極及び銀により構成される。
【００３９】
アドレス電極８は、主にアドレス期間に動作する、背面側ガラス基板３上に設けられる電極である。
【００４０】
アドレス電極８は、銀を主成分として構成されることが多い。
【００４１】
誘電体層９は背面側ガラス基板３上のアドレス電極８を被覆するように形成される。また、誘電体層１２は、前面側ガラス基板２上の表示電極７を被覆するように形成される。
【００４２】
誘電体層９と誘電体層１２は、低融点ガラスペーストを印刷・焼成して形成されることが多い。
【００４３】
リブ１０は、画素の放電空間を確保するための低融点ガラス製の構造体である。
【００４４】
蛍光体１１は、サステイン放電により発生する真空紫外光に反応して発光する有色の蛍光体である。
【００４５】
保護膜１３は、誘電体層１２を保護するための層である。保護膜１３は、酸化マグネシウムや酸化カルシウムを真空蒸着して形成される。
【００４６】
上記の一般的なＰＤＰの構成部材に対し、本発明においては吸着材料１を配置する点に特徴がある。
【００４７】
吸着材料１は、シール６の更に外周に配置される、水又は二酸化炭素などの不純ガスを吸着する部材である。シール６封止時に、この吸着材料１が存在するために、シール６外周からの不純ガスのＰＤＰ内部への流入を防ぐことができる。
【００４８】
下記で述べるとおり、本明細書では、吸着材料１は酸化カルシウム粉を使用することを想定している。しかし、これに限られるものではない。例えば、水や二酸化炭素を吸着する酸化ストロンチウム、酸化バリウムを用いても良い。また、酸化ストロンチウムと酸化カルシウムの混晶のように、これらの２種類以上を含む混合物あるいは化合物を吸着材料１に用いても良い。
【００４９】
他にも、吸着材料１の特性をコントロールする目的で、アルミニウムやチタンなどの元素を添加しても良い。
【００５０】
また、吸着材料１に二酸化炭素の吸着・分解作用、水の吸着作用があるカルシウムイオン交換型のフォージャサイト構造を持つゼオライトを用いても良い。また、カルシウムイオン交換型だけでなく、カリウムイオン交換型、マグネシウムイオン交換型のゼオライトでも良い。また、リチウムイオン交換型モルデナイトまたはクリノプチロライトなどのゼオライトを用いることもできる。また、リチウム、ナトリウム、バリウムでイオン交換したゼオライトであっても良い。
【００５１】
同様に、二酸化炭素や水の吸着作用があることで知られている、オルトケイ酸ナトリウムと塩化アルミニウム六水和物より形成した前駆体を加熱し作製した１次元結晶でチューブ内に形成された細孔、またはチューブ同士によって細孔が形成されているイモゴライト構造を持つ非晶質アルミニウムケイ酸を用いることもできる。
【００５２】
（第１の実施の形態）
次に、本実施の形態の吸着材料１及びＰＤＰの形成方法について説明する。
【００５３】
まず、板ガラス上に表示電極７を形成した後、誘電体層１２及び保護膜１３を生成し、前面側ガラス基板２を形成する。以下保護膜材料が酸化カルシウムの場合に関して記述するが、酸化カルシウムに限定するものではない。
【００５４】
次に、背面側ガラス基板３を形成する。
【００５５】
また、板ガラスなどの基材にアドレス電極８及び誘電体層９、リブ１０を形成する。また、リブ１０の間の放電空間には加法混色の三原色である赤緑青の蛍光体１１を配置する。その後、表示領域５の周囲にシール６となるシール材を形成する。
【００５６】
これにより背面側ガラス基板３の形成が完了する。
【００５７】
その後、生成した前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３をアライメントしつつ重ね合わせる。
【００５８】
重ね合わせた後、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた断面に向けて平均粒径１μｍ以下の酸化カルシウム粉を窒素ガスで圧送しノズル（図示せず）から噴射し塗布を開始する。
【００５９】
このノズルを、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた断面に沿って移動させ、シール材の外周を全て覆う様にする。この酸化カルシウム粉が吸着材料１である。
【００６０】
なお、上記では前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた後に吸着材料１生成用の酸化カルシウム粉を塗布する方式で説明した。しかしこれだけには限られず、吸着材料１を所望の形に形成した後に、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせる方法を採用しても良い。第２及び第３の実施の形態でも、異なる手法の一部を開示する。
【００６１】
吸着材料１の塗布が終了すると、クリップで前面側ガラス基板２と背面側ガラス基板３を固定する。この状態で、大気中で封着排気装置を用いて封着排気を行う。通常の大気中に配置された通常の封着排気装置は、大気中に３３０ｐｐｍ程度の濃度の二酸化炭素を含んでいるために、吸着材料１が無い従来のパネルを大気中で封着排気すると、封着前のシールと、それと対向する基板との隙間から水及び二酸化炭素が浸入し、保護膜の酸化カルシウムが水及び二酸化炭素を吸着し、それぞれ容易に水酸化カルシウムや炭酸カルシウムに変化する。しかし、吸着材料１をシールの周囲に配すると吸着材料１がパネル内への二酸化炭素や水の浸入を抑制するために、通常の封着排気装置を用いて封着排気を行っても保護膜１３が水酸化物や炭酸塩になることを抑制できる。
【００６２】
このための設備としては、従来の重ね合わせ装置と同様に前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３とを重ね合わせてアライメントする機構と、クリップで前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を挟み固定する機構とに加え、吸着剤を所望の位置に配置する機構を含むことを要する。また、これらの設備全体を窒素などの不活性な雰囲気にすることで実現可能である。これは、第２の実施の形態、第３の実施の形態も同様である。
【００６３】
上記酸化カルシウム粉等の吸着材料１を通過する過程で、概ね水及び二酸化炭素は吸着され、封着前のシール６頂上と前面側ガラス基板２の隙間からの不純ガスのパネル内への進入が抑制されるが、パネル内への進入が抑制されたかは次のパネル特性を確認することで明らかになる。
【００６４】
この条件で行った封着排気と、真空雰囲気で行った封着排気との対比をする。図４は、封着排気の温度プロファイルを示す。本発明の第１の実施の形態のＰＤＰに関わる封着排気では、図４の昇温過程（ａ）及びシールが溶けて封着する（ｂ）領域は大気雰囲気で、排気過程（ｃ）では真空引きを行う。一方、真空雰囲気で封着排気を行う場合は、（ａ）と、（ｂ）と（ｃ）のいずれの工程も真空雰囲気で行う。真空雰囲気で封着排気を行った場合、雰囲気中に二酸化炭素及び水が無いため、保護膜１３の酸化カルシウムは劣化していない。
【００６５】
保護膜１３に酸化カルシウムを用いて真空雰囲気で封着排気を行うと、パネルの第一点灯電圧（Ｖｆ１）は１９５Ｖになる。
【００６６】
一方、吸着材料１をシール６外周に配置して大気中で封着排気を行った場合、パネルの第一点灯電圧（Ｖｆ１）は２０４Ｖになる。この値は、実用上真空雰囲気で封着排気を行った場合とほぼ同等のものである。
【００６７】
パネルが完成した後は、シール６によって放電空間は密閉され、以降水や二酸化炭素の浸入は妨げられる。従ってパネル周囲に吹き付けられた吸着材料１をそのまま残しておいても、ブローあるいはブラシで除去しても、パネル特性に影響が及ぶことはない。
【００６８】
以上のように、シール６外周に吸着材料１を塗布する本発明に関わるＰＤＰ及びその製造方法を採用することにより、パネルの製造工程中大気中に配置された封着排気装置を用いることができ、製造単価を低減することが可能となる。
【００６９】
（第２の実施の形態）
次に本発明の第２の実施の形態について説明する。
【００７０】
本実施の形態及び第３の実施の形態は、第１の実施の形態同様、製法に関わるものである。その製法について説明する。
【００７１】
本実施の形態では、まず銀を主成分とするアドレス電極８及び低融点ガラスからなる誘電体層９、およびリブ１０、リブ間に蛍光体１１を形成した背面板の周囲にシールペーストをディスペンサーで塗布・乾燥した後に、酸化カルシウム粉体と低沸点の溶媒（たとえばエタノール）と混合したペーストをシールの高さより高くなるように形成し、真空乾燥する。
【００７２】
次に、前面側ガラス基板２にＩＴＯを真空成膜・パターニングした透明電極と銀を主成分とするバス電極からなる表示電極７と、低融点ガラスペーストを印刷・焼成してなる誘電体層１２、および酸化カルシウムの真空蒸着によりなる保護膜１３を形成する。
【００７３】
続けて、窒素ガス雰囲気中で前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３をアライメントしつつ重ね合わせる。その後、クリップで前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を固定し、大気中で封着排気装置を用いて封着排気を行う。
【００７４】
このような手法でも、（本発明に関わるＰＤＰの基本的な構成）で表したＰＤＰを構成することが可能である。
【００７５】
（第３の実施の形態）
次に本発明の第３の実施の形態に関わる製法について説明する。
【００７６】
この実施の形態では、まず酸化カルシウムの粉体をリボン状の形状に圧縮成形する。
【００７７】
次に、窒素ガス雰囲気中で、これまでの実施の形態と同様に形成された前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３において、図２の吸着材料１の位置に、フィルム状の形状に成形した酸化カルシウムを置く。その後、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせ、アライメントした後に前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３をクリップで固定する。
【００７８】
クリップによる固定後に、大気中で封着排気装置を用いて封着排気を行う。圧縮成形の条件をコントロールすることで、封着工程でシールが軟化し潰れる過程で、成形した酸化カルシウム粉が崩れ、図３のごとくシールと同じ高さになる。
【００７９】
なお、上記では、成形した酸化カルシウムを配した後に、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせたが、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた後に、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３の隙間にフィルム状に成形した吸着材料１を挿入しても良い。
【００８０】
また、上記では吸着材を前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３の隙間に配したが、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合せた外周に配しても良い。その場合は、封着工程でシール６が潰れるに伴い、吸着材料１の厚みも変化する必要はないので、酸化カルシウム粉を焼結させて、容易に崩れないようにした吸着材を用いることが出来る。吸着材料１の形状が安定であれば、パネル化後に水と二酸化炭素を吸着した吸着材を焼成することで再生させ、何度も使うことも可能である。
【００８１】
以上のように、シール６外周に吸着材料１を塗布する本発明に関わるＰＤＰ及びその製造方法を採用することにより、パネルの製造工程中大気中に配置された封着排気装置を用いることができ、製造単価を低減することが可能となる。
【００８２】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更が可能であることは言うまでもない。
【００８３】
例えば、第１、第２及び第３の実施の形態では、吸着材料１は粉の状態かあるいは粉を成形した状態で所望の位置に配した。しかし、エアロゾルデポジション法を用いて吸着材料１を形成する酸化カルシウム粉などを前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３を重ね合わせた外周に吹き付けることで、前面側ガラス基板２及び背面側ガラス基板３の隙間を塞ぐように膜を形成しても良い。
【００８４】
また、上記ではプラズマディスプレイパネルと、表示用のみに特化した記載としている。しかし、照明用に用いるなど、他の用途のパネルであっても本発明の射程に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
上記では、プラズマディスプレイパネルでの製造について説明した。しかし、これだけには限られず、気密を必要とするデバイス例えば封止を必要とする有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）への適用も可能である。
【符号の説明】
【００８６】
１…吸着材料、２…前面側ガラス基板、３…背面側ガラス基板、４…ガス導入孔、
５…表示領域、６…シール、７…表示電極、８…アドレス電極、９、１２…誘電体層、
１０…リブ、１１…蛍光体、１３…保護膜。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルであって、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するシールの外側に、パネルの特性に影響を与えるガスを吸着できる吸着材料が配されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料がパネルの特性に影響を与える水または二酸化炭素、またはその両方を吸着可能なことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が酸化カルシウムであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が酸化ストロンチウムであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が酸化バリウムであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が元素記号Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａでイオン交換したゼオライトであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料がイモゴライト構造を持つ非晶質アルミニウムケイ酸からなる材料であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が粉体、または粉体により構成された膜、または粉体を成形したものであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、
粉体の吸着材料を吹き付ける吸着材料生成ステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
粉体の吸着材料を所望の形状に成形し、成形後吸着材料を生成する吸着材料成形ステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板、及び前記成形後吸着材料の位置合わせを行うアライメントステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板、及び前記成形後吸着材料を重ね合わせる重ね合わせステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、
粉体の吸着材料をペースト状にして塗布する吸着材料塗布ステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、
所望の形状に成形された成形後吸着材料を前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板の間の所望の位置に配置する成形後吸着材料載置ステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１３】
請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記吸着材料生成ステップにおいてエアロゾルポジション法を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
請求項９乃至１３の何れか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
さらに低融点ガラスシールによる封着後のプラズマディスプレイパネルから前記吸着材料の一部又は全部を除去する吸着材料除去ステップを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前面側ガラス基板及び背面側ガラス基板を重ね合わせてアライメントするアライメント機構と、
クリップで前記前面側ガラス基板及び前記背面側ガラス基板を挟み固定する機構と、吸着材料を所望の位置に配置する機構と、を含むプラズマディスプレイパネルの製造装置。
【請求項１６】
請求項１４の前記吸着材料の一部又は全部を除去する機構と除去した吸着材料の一部又は全部を再生する機構を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造装置。
【請求項１】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルであって、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するシールの外側に、パネルの特性に影響を与えるガスを吸着できる吸着材料が配されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料がパネルの特性に影響を与える水または二酸化炭素、またはその両方を吸着可能なことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が酸化カルシウムであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が酸化ストロンチウムであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が酸化バリウムであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が元素記号Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａでイオン交換したゼオライトであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料がイモゴライト構造を持つ非晶質アルミニウムケイ酸からなる材料であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記吸着材料が粉体、または粉体により構成された膜、または粉体を成形したものであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、
粉体の吸着材料を吹き付ける吸着材料生成ステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
粉体の吸着材料を所望の形状に成形し、成形後吸着材料を生成する吸着材料成形ステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板、及び前記成形後吸着材料の位置合わせを行うアライメントステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板、及び前記成形後吸着材料を重ね合わせる重ね合わせステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、
粉体の吸着材料をペースト状にして塗布する吸着材料塗布ステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
前面側ガラス基板と、背面側ガラス基板と、を有し、前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板との間で放電ガスを封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板の位置合わせを行うアライメントステップと、
前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板を重ね合わせる重ね合わせステップと、
所望の形状に成形された成形後吸着材料を前記前面側ガラス基板と前記背面側ガラス基板の間の所望の位置に配置する成形後吸着材料載置ステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１３】
請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記吸着材料生成ステップにおいてエアロゾルポジション法を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
請求項９乃至１３の何れか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
さらに低融点ガラスシールによる封着後のプラズマディスプレイパネルから前記吸着材料の一部又は全部を除去する吸着材料除去ステップを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前面側ガラス基板及び背面側ガラス基板を重ね合わせてアライメントするアライメント機構と、
クリップで前記前面側ガラス基板及び前記背面側ガラス基板を挟み固定する機構と、吸着材料を所望の位置に配置する機構と、を含むプラズマディスプレイパネルの製造装置。
【請求項１６】
請求項１４の前記吸着材料の一部又は全部を除去する機構と除去した吸着材料の一部又は全部を再生する機構を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１２−２０４１１７（Ｐ２０１２−２０４１１７Ａ）
【公開日】平成２４年１０月２２日（２０１２．１０．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−６７０３１（Ｐ２０１１−６７０３１）
【出願日】平成２３年３月２５日（２０１１．３．２５）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月２２日（２０１２．１０．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月２５日（２０１１．３．２５）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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