ボロン酸エステル化合物の製造方法
本発明は、含窒素有機塩基、ニッケル触媒、ホスフィン化合物および溶媒の存在下、アリールハライド化合物とジボロンエステル化合物とを反応させることを特徴とする、ボロン酸エステル化合物の製造方法に関する。本発明の製造方法によれば、触媒としてニッケル触媒を用いた場合であっても、充分に高い収率で目的のボロン酸エステル化合物を得ることができ、さらにアリールハライド化合物として比較的安価で反応性の低いアリールクロライドやアリールブロミドを用いた場合であっても充分に高い収率で目的の生成物を得ることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ボロン酸エステル化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ボロン酸エステル化合物は、医農薬の合成中間体等として有用な化合物である。このボロン酸エステル化合物は、一般的にアリールハライドとジボロン化合物とをパラジウム触媒存在下で反応させることにより製造されていた（非特許文献１等参照）。
【０００３】
しかしながら、パラジウム触媒を用いた場合には、通常生成物から触媒を取り除くことが困難であるという問題がある。特に、医農薬を合成する場合には、生成物を極めて高い純度で得る必要があるが、純度を向上させるために精製を何度も繰り返した場合には生成物の収率が大幅に低下する（非特許文献２等参照）。
【０００４】
これに対して、特許文献１および２には、水洗等により容易に除去可能であり、かつ比較的安価なニッケル触媒を用いたボロン酸エステル化合物の製造方法が例示されている。
【０００５】
しかしながら、特許文献１および２等に記載の従来のニッケル触媒を用いたボロン酸エステル化合物の製造方法では、収率が不十分であるという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】国際公開第９８／４５２６５号
【特許文献２】米国特許出願公開第２００３／００３２８３８号明細書
【非特許文献１】Journal of Organic Chemistry 60 (23), 7508 (1995)
【非特許文献２】C. Someswara Rao, The Chemistry of Process Development in FineChemical & Pharmaceutical Industry Second Edition (John Wiley & sons,LTD, p. 981)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ニッケル触媒を用いて、充分に高い収率で目的の生成物を得ることが可能なボロン酸エステル化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、下記の［１］〜［２４］を提供する。
［１］ 含窒素有機塩基、ニッケル触媒、ホスフィン化合物および溶媒の存在下、式（１）
【化１】
［式中、Ａｒは、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、または置換されていてもよい芳香族複素環基を示し、Ｘは、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基、または置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基を示す。］で表される化合物と式（２）
【化２】
［式中、Ｒは２価の有機基を示す。］で表される化合物（ジボロン化合物）とを反応させることを特徴とする、式（３）
【化３】
［式中、ＡｒおよびＲは上記と同義である。］で表されるボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２］ Ａｒが、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基、置換されていてもよい含硫黄芳香族複素環基、または置換されていてもよい含酸素芳香族複素環基である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［３］ Ａｒが、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、または置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［４］ Ａｒが、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいピリジル基、置換されていてもよいインドリル基、または置換されていてもよいインダゾリル基である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［５］ ニッケル触媒が０価または２価のニッケル錯体である、［１］〜［４］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【０００９】
［６］ ニッケル触媒が、ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（０）−ホスフィン錯体、ニッケル（０）−亜リン酸エステル錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩、ニッケル（ＩＩ）有機酸塩、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）およびハロゲン化ニッケル（ＩＩ）−ホスフィン錯体からなる群より選ばれる少なくとも１種のニッケル錯体である、［１］〜［４］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［７］ ニッケル触媒が、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、硝酸ニッケル（ＩＩ）または塩化ニッケル（ＩＩ）である、［１］〜［４］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［８］ 含窒素有機塩基が３級アミン化合物または環状アミジン化合物である、［１］〜［７］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［９］ 含窒素有機塩基がトリアルキルアミン化合物、環状３級アミン化合物または環状アミジン化合物である、［１］〜［７］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１０］ 含窒素有機塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンである、［１］〜［７］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【００１０】
［１１］ ホスフィン化合物がトリアリールホスフィンである、［１］〜［１０］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１２］ ホスフィン化合物がトリフェニルホスフィンである、［１］〜［１０］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１３］ 溶媒が、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒である、［１］〜［１２］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１４］ 溶媒が、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒およびエステル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒である、［１］〜［１２］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１５］ アルコール溶媒がメタノールまたはエタノールである、［１３］または［１４］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１６］ アルコール溶媒がメタノールである、［１３］または［１４］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１７］ Ｒが、置換されていてもよいアルキレン基、または置換されていてもよいアリーレン基である、［１］〜［１６］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１８］ 式（２）で表される化合物がビス（ピナコラト）ジボロンである、［１］〜［１７］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１９］ Ｘが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基またはベンゼンスルホニルオキシ基である、［１］〜［１８］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２０］ Ｘが、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である、［１］〜［１８］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２１］ Ａｒが、下記：
【化４】
【化５】
【化６】
［式中、波線はＡｒにおける結合位置を示す。上記基は置換されていてもよい。］
からなる群より選ばれる芳香族複素環基である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２２］ 前記芳香族複素環基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシ基、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、ニトロ基、アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−アセチルアミノ基、ヒドロキシ基、メトキシ基、スルファニル基、メチルスルホニル基および式−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ３で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基で置換されている、［２１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２３］ 式（１）で表される化合物が、下記式：
【化７】
で表される化合物である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２４］ 式（３）で表される化合物が、下記式：
【化８】
で表される化合物である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のボロン酸エステル化合物の製造方法によれば、触媒としてニッケル触媒を用いた場合であっても、充分に高い収率で目的の生成物を得ることができる。
【００１２】
さらに、従来のニッケル触媒を用いたボロン酸エステル化合物の製造方法では、原料のアリールハライドとして比較的高価で反応性の高いアリールヨージドを用いる必要があったが、本発明によれば、比較的安価で反応性の低いアリールクロライドやアリールブロミドを用いた場合であっても充分に高い収率で目的の生成物を得ることができる。
【００１３】
さらに、本発明のボロン酸エステル化合物の製造方法によれば、従来のパラジウム触媒やニッケル触媒を用いた場合と比較して、温和な条件で反応が進行する。
【００１４】
以下、本発明の実施形態の例について詳細に説明するが、本発明は下記実施形態に限定されるものではない。
【００１５】
［式（１）で表される化合物］
上記Ａｒの「置換されていてもよい芳香族炭化水素基」における「芳香族炭化水素基」としては、炭素数６〜２０のアリール基が好ましい。その具体例としては、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基、フェナントリル基、アントリル基が挙げられる。
【００１６】
上記Ａｒの「置換されていてもよい芳香族複素環基」における「芳香族複素環基」としては、含窒素芳香族複素環基、含硫黄芳香族複素環基または含酸素芳香族複素環基が好ましく、含窒素芳香族複素環基がより好ましい。
【００１７】
含硫黄芳香族複素環基の具体例としては、チエニル基が挙げられる。なお、含硫黄芳香族複素環基は、チアゾリル基やベンゾチアゾリル基等といった硫黄と窒素とを含む芳香族複素環基であってもよい。
【００１８】
含酸素芳香族複素環基の具体例としては、フリル基、イソベンゾフラニル基が挙げられる。なお、含酸素芳香族複素環基は、オキサゾリル基やベンゾオキサゾリル基等といった酸素と窒素とを含む芳香族複素環基であってもよい。
【００１９】
含窒素芳香族複素環基の具体例としては、インドリル基、インダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、キノリル基、フタラジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、ピローリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基が挙げられる。
【００２０】
なお、含窒素芳香族複素環基がＮＨ残基を有する場合には、当該ＮＨ残基は、ベンジルオキシカルボニル基等の置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等の置換されていてもよいアルコキシカルボニル基；アリルオキシカルボニル基等の置換されていてもよいアリルオキシカルボニル基；テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−２−イル基、３−ブロモテトラヒドロフラン−２−イル基、１，４−ジオキサン−２−イル基等の置換されていてもよい環状エーテル−２−イル基；ベンジル基等の置換されていてもよいアラルキル基；ｐ−トルエンスルホニル基等の置換されていてもよいスルホニル基；アセチル基等の置換されていてもよいアシル基等の保護基によって保護されていてもよい。
なお、上記保護基の説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基等の置換基を有していてもよいことを示す。
【００２１】
また、上記Ａｒの説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、その他の特性基等の置換基を有していてもよいことを示す。
脂肪族炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロへキシル基、アダマンチル基、ドデシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐状または環状のアルキル基；ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、シクロヘキセニル基、オクタジエニル基等の炭素数２〜２０の直鎖、分岐状または環状のアルケニル基；エチニル基、プロピニル基、ドデシニル基等の炭素数２〜２０の直鎖、分岐状または環状のアルキニル基が挙げられる。これらの基は、上述の芳香族炭化水素基や後述するその他の特性基等によりさらに置換されていてもよく、また２以上の脂肪族炭化水素基が一緒になって環を形成していてもよい。
芳香族炭化水素基の具体例としては、上記と同様のものが挙げられる。なお、芳香族炭化水素基は、上述の脂肪族炭化水素基や、芳香族炭化水素基、後述するその他の特性基等によりさらに置換されていてもよい。
芳香族複素環基の具体例としては、上記と同様のものが挙げられる。
その他の特性基の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；カルボキシ基；メトキシカルボニル基等の置換されていてもよいアルコキシカルボキシ基；ホルミル基；アセチル基等のアシル基；メトキシ基、ベンジルオキシ基等の置換されていてもよいアルコキシ基；カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基等の置換されていてもよいカルバモイル基；アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アセチルアミノ基等の上述の保護基で保護されていてもよいアミノ基；ホルミル基やアセチル基とアミノ基とが脱水縮合してなるイミノ基等のイミノ基；ベンゼンスルホニル基等の置換されていてもよいスルホニル基；メチルチオ基等の置換されていてもよいアルキルチオ基；チオキソ基；シアノ基；ヒドロキシ基；スルファニル基；ニトロ基；式−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ３で表される基が挙げられる。
なお、上記その他の特性基の説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基等の置換基を有していてもよいことを示す。
【００２２】
上記Ａｒは、芳香族炭化水素基または含窒素芳香族複素環基であると好ましく、フェニル基、ピリジル基、インドリル基またはインダゾリル基であるとより好ましい。
【００２３】
上記Ｘにおける「ハロゲン原子」としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００２４】
上記Ｘにおける「置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基」の具体例としては、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。
【００２５】
上記Ｘにおける「置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基」の具体例としては、トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基が挙げられる。
【００２６】
なお、上記Ｘの説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、メチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基等の置換されていてもよいアルコキシ基；シアノ基等の置換基を有していてもよいことを示す。
【００２７】
上記Ｘは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基であると好ましく、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であるとより好ましい。
【００２８】
上述のＡｒおよびＸを有する式（１）で表される化合物の具体例としては、クロロベンゼン、４−クロロトルエン、４−クロロアニソール、４−クロロアセトフェノン、４−クロロベンゾニトリル、４−クロロピリジン、４−クロロインドール、２−アミノ−６−クロロトルエン、４−クロロスチレン、１−クロロ−４−エチニルベンゼン、１−クロロ−４−フェニルベンゼン、１−クロロ−４−フルオロベンゼン、４−クロロ安息香酸、４−クロロ安息香酸メチル、４−クロロ安息香酸アミド、２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−６−クロロトルエン、Ｎ−（３−クロロ−２−メチルフェニル）アセトアミド、４−クロロフェノール、１−クロロナフタレン、１−クロロフェナントレン、１−クロロアントラセン、４−クロロベンゾトリアゾール、４−クロロキノリン、５−クロロフタラジン、５−クロロピリミジン、４−クロロベンゾチアゾリン、４−クロロベンゾイソチアゾリン、４−クロロベンゾオキサゾリン、４−クロロベンゾイソオキサゾリン、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−クロロ−１Ｈ−インダゾール、２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−クロロ−２Ｈ−インダゾール、４−クロロ−１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、４−クロロ−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、４−クロロ−１−（テトラヒドロフラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、４−クロロ−２−（テトラヒドロフラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、１−アセチル−４−クロロ−１Ｈ−インダゾール、２−アセチル−４−クロロ−２Ｈ−インダゾールが挙げられる。
【００２９】
さらにこれらの化合物の位置異性体や、これらの化合物における塩素原子（クロロ基）が臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基で置換された化合物、上述の化合物がＮＨ残基を有する場合には当該ＮＨ残基が保護基により保護された化合物も式（１）で表される化合物の具体例として挙げられる。
【００３０】
［式（２）で表される化合物］
上記Ｒにおける「２価の有機基」としては、置換されていてもよいアルキレン基（特に炭素数２〜６のもの）、置換されていてもよいアリーレン基（特に炭素数６〜１０のもの）が挙げられる。
【００３１】
上記「置換されていてもよいアルキレン基」における「アルキレン基」の具体例としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基が挙げられる。
【００３２】
上記「置換されていてもよいアリーレン基」における「アリーレン基」の具体例としては、フェニレン基、ベンゾフェニレン基が挙げられる。
【００３３】
上記Ｒの説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、メチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の鎖状、分岐状または環状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基；エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基等の置換されていてもよいカルバモイル基等の置換基を有していてもよいことを示す。なお、上記アルキル基は、上述の芳香族炭化水素基を置換基として有していてもよく、上記アリール基は、上述の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を置換基として有していてもよい。
【００３４】
上述のＲを有する式（２）で表される化合物の具体例としては、下記の化合物：
【化９】
が挙げられ、ビス（ピナコラト）ジボロン、ビス（エタンジオラト）ジボロンおよびビス（ネオペンタンジオラト）ジボロンが好ましく、ビス（ピナコラト）ジボロンがより好ましい。
【００３５】
上記式（２）で表される化合物の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常１〜３０モル倍であり、１〜５モル倍であると好ましく、１〜２モル倍であるとより好ましい。
【００３６】
［含窒素有機塩基］
含窒素有機塩基としては、例えば、アミン化合物、環状アミジン化合物、置換されていてもよい含窒素芳香族複素環化合物が挙げられる。
【００３７】
アミン化合物としては、例えば、１級アミン化合物（特に炭素数１〜１０のもの）、２級アミン化合物（特に炭素数２〜２０のもの）、３級アミン化合物（特に炭素数３〜４０のもの）が挙げられる。
【００３８】
１級アミン化合物の具体例としては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、イソブチルアミン、アニリンが挙げられる。
【００３９】
２級アミン化合物の具体例としては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、Ｎ−メチルアニリン、モルホリンが挙げられる。
【００４０】
３級アミン化合物の具体例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、トリ−ｎ−ウンデシルアミン、トリ−ｎ−ドデシルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリベンジルアミン等の置換されていてもよいトリアルキルアミン化合物；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のジアルキルアリールアミン化合物；トリフェニルアミン等のトリアリールアミン化合物が挙げられる。
【００４１】
Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン等の環状３級アミン化合物が挙げられる。
【００４２】
環状アミジン化合物の具体例としては、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]−５−ノネンが挙げられる。
【００４３】
置換されていてもよい含窒素芳香族複素環化合物の具体例としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ピコリン、Ｎ−メチルイミダゾール、オキサゾールが挙げられる。
【００４４】
上記含窒素有機塩基は、３級アミン化合物または環状アミジン化合物であると好ましく、トリアルキルアミン化合物、環状３級アミン化合物または環状アミジン化合物であるとより好ましく、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンであると特に好ましい。
【００４５】
含窒素有機塩基の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常１〜３０モル倍であり、１〜１０モル倍であると好ましく、１〜５モル倍であるとより好ましい。
【００４６】
［ニッケル触媒］
ニッケル触媒としては、例えば、ニッケル錯体、ニッケル合金、ニッケル担持化合物が挙げられる。
【００４７】
ニッケル錯体とは、ニッケル原子を中心として、周囲に配位子が結合した構造を有する化合物をいい、例えば、０価ニッケル錯体、２価ニッケル錯体が挙げられる。
【００４８】
０価ニッケル錯体の具体例としては、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）等のニッケル（０）アルケン錯体；テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（０）等のニッケル（０）−ホスフィン錯体；テトラキス（亜リン酸トリフェニル）ニッケル（０）等のニッケル（０）−亜リン酸エステル錯体が挙げられる。
【００４９】
２価ニッケル錯体の具体例としては、硝酸ニッケル（ＩＩ）、硫酸ニッケル（ＩＩ）、炭酸ニッケル（ＩＩ）等のニッケル（ＩＩ）無機酸塩；トリフルオロメタンスルホン酸ニッケル（ＩＩ）、酢酸ニッケル（ＩＩ）、安息香酸ニッケル（ＩＩ）、ビスアセチルアセトン酸ニッケル（ＩＩ）等のニッケル（ＩＩ）有機酸塩；フッ化ニッケル（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）等のハロゲン化ニッケル（ＩＩ）；塩化ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）、臭化ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）等のハロゲン化ニッケル（ＩＩ）−ホスフィン錯体；酸化ニッケル（ＩＩ）；水酸化ニッケル（ＩＩ）が挙げられる。
【００５０】
ニッケル合金としては、例えば、ニッケル−１３族金属合金が挙げられ、ニッケル−アルミニウム合金、ラネーニッケルが好ましい。
【００５１】
ニッケル担持化合物としては、例えば、１３族もしくは１４族元素からなる単体または１３族もしくは１４族元素を含む化合物にニッケルが担持された化合物が挙げられ、ニッケル炭素、ニッケルアルミナが好ましい。
【００５２】
上記ニッケル触媒は、ニッケル錯体であると好ましく、ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（０）−ホスフィン錯体、ニッケル（０）−亜リン酸エステル錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩、ニッケル（ＩＩ）有機酸塩、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）またはハロゲン化ニッケル（ＩＩ）−ホスフィン錯体であるとより好ましく、ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩またはハロゲン化ニッケル（ＩＩ）であるとさらに好ましく、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）であると特に好ましい。
【００５３】
これらのニッケル触媒は、市販のものであってもよく、任意の公知の方法によって製造されたものであってもよい。また、ニッケル触媒は、水和物であってもよく、反応系中で発生させたものであってもよい。
【００５４】
上記ニッケル触媒の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常０．０００１〜０．５モル倍であり、０．００１〜０．３モル倍であると好ましく、０．０１〜０．１モル倍であるとより好ましい。
【００５５】
［ホスフィン化合物］
ホスフィン化合物としては、トリアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン、芳香族基を有する２座配位型ホスフィン化合物等といった芳香族基を有するホスフィン化合物；トリアルキルホスフィン、芳香族基を有しない２座配位型ホスフィン化合物等といった芳香族基を有しないホスフィン化合物が挙げられる。
【００５６】
トリアリールホスフィンの具体例としては、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（ｍ−トリル）ホスフィン、トリ（ｐ−トリル）ホスフィン、ジフェニル（トリル）ホスフィン、トリス（ジメチルフェニル）ホスフィン、トリメシチルホスフィン、トリス（メトキシフェニル）ホスフィン、ビス（メトキシフェニル）フェニルホスフィン、トリス（フルオロフェニル）ホスフィン、ビス（ペンタフルオロフェニル）フェニルホスフィン、トリフリルホスフィン、トリチエニルホスフィンが挙げられ、アルキルジアリールホスフィンの具体例としては、エチルジフェニルホスフィンが挙げられる。
【００５７】
芳香族基を有する２座配位型ホスフィン化合物の具体例としては、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、１−〔２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル〕エチルジシクロヘキシルホスフィン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルが挙げられる。
【００５８】
トリアルキルホスフィンの具体例としては、トリブチルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリ（ｎ−ヘキシル）ホスフィン、トリ（ｎ−オクチル）ホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンが挙げられる。
【００５９】
芳香族基を有しない２座配位型ホスフィン化合物の具体例としては、１，２−ビス（ジエチルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）エタン、１，３‐ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）プロパンが挙げられる。
【００６０】
上記ホスフィン化合物は、芳香族基を有するホスフィン化合物であると好ましく、トリアリールホスフィンであるとより好ましく、トリフェニルホスフィンであると特に好ましい。
【００６１】
これらのホスフィン化合物は、市販のものであってもよく、任意の公知の方法によって製造されたものであってもよい。また、上記ニッケル触媒が、配位子としてホスフィンを有するものである場合には、必ずしもホスフィンを添加しなくともよい。
【００６２】
上記ホスフィン化合物の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常０．０００１〜１．０モル倍であり、０．００１〜０．６モル倍であると好ましく、０．０１〜０．２モル倍であるとより好ましい。
【００６３】
［溶媒］
溶媒としては、例えば、アルコール溶媒、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒が挙げられる。
【００６４】
アルコール溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ペンタノール、ヘキサノール、エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール、２−メトキシエタノール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノールが挙げられる。
【００６５】
炭化水素溶媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ニトロベンゼン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサンが挙げられる。
【００６６】
エーテル溶媒の具体例としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテルが挙げられる。
【００６７】
エステル溶媒の具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、ブチロラクトンが挙げられる。
【００６８】
ケトン溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノンが挙げられる。
【００６９】
アミド溶媒の具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンが挙げられる。
【００７０】
ニトリル溶媒の具体例としては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、ベンゾニトリルが挙げられる。
【００７１】
スルホキシド溶媒の具体例としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。
【００７２】
ハロゲン化炭化水素溶媒の具体例としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロブタン、フルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンが挙げられる。
【００７３】
上記溶媒は、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒であると好ましく、メタノール、エタノール、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とメタノールもしくはエタノールとの混合溶媒であるとより好ましく、メタノール、または炭化水素溶媒、エーテル溶媒およびエステル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とメタノールとの混合溶媒であると特に好ましい。
【００７４】
上記混合溶媒を用いる場合におけるアルコール溶媒の割合は、混合溶媒全量に対して、通常１質量％以上であり、１０質量％以上であると好ましく、５０質量％以上であると特に好ましい。
【００７５】
上記溶媒の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常５００質量倍以下であり、０．１〜１００質量倍であると好ましく、１〜３０質量倍であるとより好ましい。
【００７６】
［含窒素有機塩基、ニッケル触媒およびホスフィン化合物の好適な組合せ］
含窒素有機塩基、ニッケル触媒およびホスフィン化合物は、
含窒素有機塩基：３級アミン化合物または環状アミジン化合物、
ニッケル触媒：０価または２価ニッケル錯体、
ホスフィン化合物：芳香族基を有するホスフィン化合物
の組合せであると好ましく、
含窒素有機塩基：トリアルキルアミン化合物、環状３級アミン化合物または環状アミジン化合物、
ニッケル触媒：ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩またはハロゲン化ニッケル（ＩＩ）、
ホスフィン化合物：トリアリールホスフィン
の組合せであるとより好ましく、
含窒素有機塩基：トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリンまたは１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン、
ニッケル触媒：ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、硝酸ニッケル（ＩＩ）または塩化ニッケル（ＩＩ）、
ホスフィン化合物：トリフェニルホスフィン、
の組合せであると特に好ましい。
【００７７】
［反応条件等］
本発明の製造方法によれば、上述の含窒素有機塩基、ニッケル触媒、ホスフィン化合物および溶媒の存在下、上記式（１）で表される化合物と上記式（２）で表される化合物とを反応させることにより、上記式（３）で表されるボロン酸エステル化合物が得られる。
【００７８】
上記反応における反応温度は、通常−４０〜１５０℃であり、−２０〜１００℃であると好ましく、０〜８０℃であるとより好ましい。好適な反応時間は反応温度等の反応条件により異なるが、通常１分間〜４８時間である。
【００７９】
上述の成分の混合順序は特に限定されないが、上記式（２）で表される化合物、含窒素有機塩基を予め溶媒中で混合した後に、ニッケル触媒、ホスフィン化合物、上記式（１）で表される化合物を連続して加えてもよく、上記式（２）で表される化合物、含窒素有機塩基、ニッケル触媒、ホスフィン化合物を予め溶媒中で混合した後に、式（１）で表される化合物を加えてもよく、上記式（２）で表される化合物、含窒素有機塩基、式（１）で表される化合物を予め溶媒中で混合した後に、ニッケル触媒とホスフィン化合物とを加えてもよく、上述の成分を一括して加えてもよい。
【００８０】
反応の進行は、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、ＮＭＲ等の通常の分析手段により確認することができる。
【００８１】
反応終了後、得られた反応混合物に、分液処理、濾過処理、洗浄処理、濃縮処理等の通常の後処理を施すことにより、上記式（３）で表されるボロン酸エステル化合物を単離することができる。上記後処理としては、より具体的には、反応混合物に水を加えて分液処理し、得られた有機層を減圧濃縮した後に水洗浄する方法や、反応混合物を減圧濃縮した後に水洗浄する方法等が挙げられる。
【００８２】
単離された上記式（３）で表されるボロン酸エステル化合物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー処理、蒸留処理等の通常の精製処理によって、さらに精製されてもよい。また、式（３）で表されるボロン酸エステル化合物が結晶性を有する場合には、再結晶処理により精製することもできる。
【００８３】
上記分液処理をする際に、反応で用いた溶媒が水と抽出溶媒のいずれにも溶解する場合には、該溶媒を留去した後に分液処理を行なうことが望ましい。また、反応混合物に不要な残留触媒や不溶不純物等が残留する場合は、これらを濾過処理により除去してから分液処理を行なうことが望ましい。
【００８４】
分液処理における抽出溶媒としては、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、イソプロピルエチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；トルエン等の芳香族炭化水素溶媒；ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒；酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒；メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒等が挙げられる。反応時にこれら抽出溶媒と同じ溶媒を使用した場合は、そのまま分液操作を行なうこともできる。
【００８５】
また、反応混合物に残留するニッケル触媒等の不純物を除去するために、水洗浄、食塩水洗浄、酸洗浄や塩基洗浄等を行なってもよい。酸としては例えば、塩化水素、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機酸や、酢酸、クエン酸、メタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。塩基としては、アンモニア、アンモニア水、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、リン酸カリウム等の無機塩基や、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基が挙げられる。酸や塩基の使用量は特に制限されないが、目的の生成物に影響を与えない範囲での使用が望ましい。
【００８６】
上記再結晶処理する場合に用いられる溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等のアルコール溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭素水素溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；水等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を同時に用いてもよい。好ましくは脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、あるいはこれらの混合溶媒である。再結晶に用いられる溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、通常、得られた生成物の重量に対して０．１〜１００倍の範囲である。
【００８７】
上述の本発明の製造方法により得られる上記式（３）で表されるボロン酸エステル化合物の具体例としては、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニソール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アセトフェノン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリル、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）インドール、２−アミノ−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）スチレン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−４−エチニルベンゼン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−４−フェニルベンゼン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−４−フルオロベンゼン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）安息香酸、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）安息香酸メチル、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）安息香酸アミド、２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン、Ｎ−［３−（４’，４’，５’，５’−テトラメチル−１’，３’，２’−ジオキサボロラン−２’−イル）−２−メチルフェニル］アセトアミド、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノール、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１−（テトラヒドロフラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２−（テトラヒドロフラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、１−アセチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、２−アセチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェナントレン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アントラセン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾトリアゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）キノリン、５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フタラジン、５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリミジン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾチアゾリン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾイソチアゾリン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾオキサゾリン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾイソオキサゾリンが挙げられる。
【００８８】
さらにこれらの化合物の位置異性体も式（３）で表されるボロン酸エステル化合物の具体例として挙げられる。
【実施例】
【００８９】
以下、実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。なお、各実施例において、
４−クロロ−１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾールは「クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾール」と、
４−クロロ−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾールは「クロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾール」と、
１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾールは「ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル」と、
２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾールは「ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル」と、
それぞれ略記する。
【００９０】
（クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物）
製造例１
窒素雰囲気下、フラスコに４−クロロインダゾール３３．０ｇ（含量９１．０重量％、１９６．６ｍｍｏｌ）とピリジニウム ｐ−トルエンスルホナート０．４９ｇ（２．０ｍｍｏｌ）と３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン３６．４ｇ（４３２．６ｍｍｏｌ）とジクロロメタン２６５ｇとを仕込み、得られた混合物を内温４５℃で８時間撹拌した。得られた反応混合物を２５℃に冷却し、そこにジクロロメタンと水を加えて撹拌した後、分液した。得られた有機層に５重量％炭酸水素ナトリウム水を加えて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動層：ヘキサン／酢酸エチル）を用いて精製し、４８．５ｇの油状物を得た。該油状物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールの含量は、合わせて９８．４重量％であった（クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾール：クロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾール＝１：３．３、収率１００％）。
【００９１】
製造例２
窒素雰囲気下、フラスコに４−クロロインダゾール３１．８ｇ（含量９４．３重量％、１９６．６ｍｍｏｌ）とピリジニウム ｐ−トルエンスルホナート０．９９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）と３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン３６．４ｇ（４３２．６ｍｍｏｌ）とトルエン１３２ｇとヘプタン１３２ｇとを仕込み、得られた混合物を４０℃まで加熱し、９時間撹拌した。得られた反応混合物に５％炭酸水素ナトリウム水溶液１０１ｇを加え混合しながら２５℃まで冷却した後、分液した。得られた有機層に再度、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液１０１ｇを加え、混合・分液を２回繰り返した後、トルエン２０ｇと炭酸水素ナトリウム０．３３ｇを加え減圧濃縮を行なった。この濃縮物にメタノールを加え再度、減圧濃縮し、濾過を行い、濾液７０.８ｇを得た。該濾液を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールの含量は、合わせて６５．２重量％であった（クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾール：クロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾール＝１：１３．７、収率１００％）。
【００９２】
（ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとの混合物）
【化１０】
実施例１
窒素雰囲気下、フラスコに、ビス（ピナコラト）ジボロン５５．８ｇ（０．２２ｍｏｌ）とメタノール１２０ｇとトリエチルアミン４４．５ｇ（０．４４ｍｏｌ）と製造例２で得たクロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールの混合物６１．３ｇ（合計含量：６５．２重量％、０．１７ｍｏｌ）を仕込み、窒素でバブリングしながら内温を０℃まで冷却した。そこに、硝酸ニッケル・６水和物２.０ｇ（６．８ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン３．６ｇ（１３．５ｍｍｏｌ）を仕込んだ。得られた反応混合物を内温５℃まで昇温し、２２時間撹拌した。その後、段階的に１５℃まで６時間かけて昇温しながら撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて４５.０ｇ（０．１４ｍｏｌ、反応収率８１％）含まれていた。
【００９３】
この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル４４０ｇと５重量％塩酸１６８ｇを加えｐＨ７．５に調整した後、分液した。得られた水層にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル３６０ｇを加えて再抽出を行った。それぞれ得られた有機層を合一し、水層を分離し、有機層を減圧濃縮した。得られた濃縮物にトルエン１６０ｇを加えて減圧濃縮し、濃縮物にトルエン１２０ｇと２０重量%メタノール水溶液を１５０ｇ加え混合・分液した。さらに得られた有機層に２０重量％メタノール水溶液１５０ｇを加え混合・分液を２回繰り返した。得られた有機層に活性炭２．０ｇを加え室温で１時間撹拌し、濾過を行なった。この濾液を減圧濃縮し、濃縮物を８１．６７ｇ得た。得られた濃縮物を高速液体クロマトグラフィーおよびガスクロマトグラフィーにて分析したところ、該濃縮物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、含量５５.０重量％（ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル＝３．０重量％、ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル＝５２．０重量％、トルエン＝２２．４重量％）で含まれていた。この濃縮物にトルエン８．５５ｇとヘプタン６２．４５ｇ加え、４５℃まで加熱した。この混合物にＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが混合した種晶を４０ｍｇ加えたところ結晶が析出した。その後、この混合物を４時間かけて２５℃まで冷却し、再び４５℃へ加熱した後、０℃まで冷却し、濾過を行なった。得られた結晶を０℃のヘプタン１１．２ｇとトルエン４．８ｇの混合液で洗浄・濾過した後、０℃のヘプタン２１．６ｇでさらに洗浄・濾過した。残った結晶を減圧下で乾燥したところ、３３．９ｇの結晶を得た。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、該結晶にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルは含まれておらずＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルのみが３０．０３ｇ含まれていた（９１．５ｍｍｏｌ、含量：８８．５重量％、収率５４％）。また、濾液と洗液の混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが１０．４ｇ、ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが２．３ｇ含まれていた。
【００９４】
実施例２
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．３２ｇ（１．２７ｍｍｏｌ）と脱気したエタノール３．６ｍｌとトリエチルアミン０．２６ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル９．３ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１７．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、製造例１に準じて得たクロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量１００．０重量％、０．８５ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で５時間撹拌した後、さらに７０℃で１時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．１６ｇ（０．４８ｍｍｏｌ、収率５６％）含まれていた。
【００９５】
実施例３
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．３２ｇ（１．２７ｍｍｏｌ）と脱気したｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル２．６ｇと脱気したメタノール０．３ｇとトリエチルアミン０．２６ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル９．３ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１７．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、製造例１に準じて得たクロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量９８．５重量％、０．８５ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で３時間撹拌した後、さらに６０℃で１時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．１６ｇ（０．４９ｍｍｏｌ、収率５８％）含まれていた。
【００９６】
実施例４〜６
ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルに代えて表１に記載の溶媒を用い、反応温度と反応時間をそれぞれ表１に記載のとおりに変更した以外は、実施例３と同様にして反応を行なった。結果を表１に示す。
【００９７】
【表１】
【００９８】
実施例７
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．６４ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．６６ｇ（５．０７ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル１８．６ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン３５．５ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．４５ｇ（合計含量８９．５重量％、１．６９ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で５時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．３９ｇ（１．１９ｍｍｏｌ、収率７０％）含まれていた。
【００９９】
実施例８
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．６４ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール３．０ｇとトリエチルアミン０．５１ｇ（５．０７ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、硝酸ニッケル・６水和物１９．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン３５．５ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．４５ｇ（合計含量８９．５重量％、１．６９ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で６時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．４５ｇ（１．３７ｍｍｏｌ、収率８１％）含まれていた。
【０１００】
実施例９〜１０
ビス（ピナコラト）ジボロンとトリエチルアミンの使用量を、それぞれ表２に記載のとおりに変えた以外は、実施例８と同様にして反応を行った。結果を表２に示す。
【０１０１】
【表２】
【０１０２】
実施例１１
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０.２４ｇ（０.９５ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール２．９ｇとトリエチルアミン０．１７ｇ（１．６８ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル１０ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１８ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量１００重量％、０．８４ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で３時間撹拌した。該反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．１９ｇ（０．５７ｍｍｏｌ、収率６８％）含まれていた。
【０１０３】
比較例１
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．１２ｇ（０．４７ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール１．４ｇとリチウムメトキシド３１ｍｇ（０．８２ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３．０ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン４．５ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．１０ｇ（合計含量９７．７重量％、０．４１ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で３．５時間撹拌した。その後、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３．０ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン４．５ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加え、再度、混合物を３０℃で２時間撹拌した。該反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて２２．９ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ、収率１７％）含まれていた。
【０１０４】
比較例２〜４
リチウムメトキシドに代えて表３に記載の塩基を用い、その使用量をそれぞれ表３に記載のとおりに変更した以外は、比較例１と同様にして反応を行なった。結果を表３に示す。
【０１０５】
【表３】
【０１０６】
比較例５
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．３２ｇ（１．２６ｍｍｏｌ）と脱気したジメチルスルホキシド３．６ｇと酢酸カリウム０．２５ｇ（２．５４ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル１０ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１８ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量１００重量％、０．８４ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で５時間撹拌した。その後さらに７０℃まで加熱し、１時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルは得られなかった（収率０％）。
【０１０７】
実施例１２
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．６４ｇ（２．５ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．６６ｇ（５．１ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、硝酸ニッケル・６水和物１９．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン３５．５ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．４５ｇ（合計含量８９．５重量％、１．６９ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で５時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．３６ｇ（１．２ｍｍｏｌ、収率７０％）含まれていた。
【０１０８】
実施例１３
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．３２ｇ（１．２７ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール２．８ｇとトリエチルアミン０．２６ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル９．３ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１７．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量１００．０重量％、０．８５ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で３時間撹拌した。その後、７０℃まで加熱して、さらに１時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．２３ｇ（０．７１ｍｍｏｌ、収率８３％）含まれていた。
【０１０９】
（その他の化合物の製造）
実施例１４：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．３５ｇ（５．３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとトリエチルアミン１．０８ｇ（１０．７ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３９ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン７５ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）と、クロロベンゼン０．４０ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．５０ｇ（２．５ｍｍｏｌ、収率６９％）含んでいた。
【０１１０】
実施例１５〜１７
トリエチルアミンに代えて表４に記載の塩基を用い、その仕込量を表４に記載のとおりに変更した以外は、実施例１４と同様にして反応を行なった。結果を表４に示す。
【０１１１】
【表４】
【０１１２】
実施例１８：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．３５ｇ（５．３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．3８ｇ（１０．７ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３９ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン７５ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）と、クロロベンゼン０．４４ｇ（３．９ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌後、５０℃で４時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．７９ｇ（３．９ｍｍｏｌ、収率９９％）含んでいた。
【０１１３】
実施例１９：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．３５ｇ（５．３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．３８ｇ（１０．７ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、硝酸ニッケル・６水和物４１ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン７５ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）と、クロロベンゼン０．４０ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌後、５０℃で４時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．６５ｇ（３．２ｍｍｏｌ、収率９０％）含んでいた。
【０１１４】
実施例２０
硝酸ニッケル・６水和物に代えて表５に記載の触媒を用い、その使用量を表５に記載のとおりに変更した以外は実施例１９と同様にして反応を行なった。結果を表５に示す。
【０１１５】
【表５】
【０１１６】
実施例２１：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．９７ｇ（３．８ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．９９ｇ（７．６ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル２８ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５３ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）と、ブロモベンゼン０．４０ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．４０ｇ（２．０ｍｍｏｌ、収率７７％）含んでいた。
【０１１７】
実施例２２：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．７５ｇ（２．９ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．７６ｇ（５．９ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル２２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン４１ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）と、ヨードベンゼン０．４４ｇ（２．２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．４１ｇ（２．０ｍｍｏｌ、収率９３％）含んでいた。
【０１１８】
実施例２３：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．２０ｇ（４．７ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．２３ｇ（９．５ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３５ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン６６ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）と、４−クロロトルエン０．４０ｇ（３．２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエンを０．４１ｇ（１．９ｍｍｏｌ、収率６０％）含んでいた。
【０１１９】
実施例２４：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニソール
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．０７ｇ（４．２ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．０９ｇ（８．４ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３１ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５９ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ）と、４−クロロアニソール０．４０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニソールを０．５８ｇ（２．７ｍｍｏｌ、収率９７％）含んでいた。
【０１２０】
実施例２５：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アセトフェノン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．９９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．００ｇ（７．８ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル２８ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５４ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）と、４’−クロロアセトフェノン０．４０ｇ（２．６ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アセトフェノンを０．５８ｇ（２．４ｍｍｏｌ、収率９１％）含んでいた。
【０１２１】
実施例２６：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリル
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．１１ｇ（４．４ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．１３ｇ（８．７ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３２ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン６１ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）と、４−クロロベンゾニトリル０．４０ｇ（２．９ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリルを０．５８ｇ（２．６ｍｍｏｌ、収率８８％）含んでいた。
【０１２２】
実施例２７：３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．３４ｇ（５．３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．３６ｇ（１０．６ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３９ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン７４ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）と、３−クロロピリジン０．４０ｇ（３．５２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンを０．２９ｇ（１．４２ｍｍｏｌ、収率４1％）含んでいた。
【０１２３】
実施例２８：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）インドール
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．５０ｇ（２．０ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．５１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル１５ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン２８ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）と、４−クロロインドール０．２０ｇ（１．３２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）インドールを０．２６ｇ（１．０５ｍｍｏｌ、収率８０％）含んでいた。
【０１２４】
実施例２９：２−アミノ−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．０８ｇ（４．２ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．１０ｇ（８．５ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３１ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５９ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）と、２−アミノ−６−クロロトルエン０．４０ｇ（２．８２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、２−アミノ−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエンを０．２６ｇ（１．１１ｍｍｏｌ、収率４０％）含んでいた。
【０１２５】
実施例３０：クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物
窒素雰囲気下、反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１１．０７ｋｇ（４３．６ｍｏｌ）とメタノール２３．８ｋｇとトリエチルアミン８．８３ｋｇ（８７．２ｍｏｌ）と製造例２に準じて製造したクロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールの混合物１５．４９ｋｇ（クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾール＝３．２重量％、クロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾール＝４８．１重量％、合計＝３３．５４ｍｏｌ）を仕込み、内温を６℃まで冷却した後、反応容器を減圧し窒素置換した。その後、反応容器に、硝酸ニッケル・６水和物０．３９ｋｇ（１．３ｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン０．７０ｋｇ（２．７ｍｏｌ）を仕込んだ。得られた反応混合物を内温２０℃まで昇温し、７時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて８．５４ｋｇ（２６．０２ｍｏｌ、収率７７．６％）含まれていた。
【０１２６】
この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル８７．３ｋｇと５重量％塩酸３４．５ｋｇを加えｐＨ７．５に調整した後、分液した。得られた水層にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル７１．５ｋｇを加えて再抽出を行った。それぞれ得られた有機層を合一し、水層を分離し、有機層を減圧濃縮した。得られた濃縮物にトルエン３１．８ｋｇを加えて減圧濃縮し、濃縮物にトルエン２３．８ｋｇと２０重量%メタノール水溶液を２９．８ｋｇ加え混合・分液した。さらに得られた有機層に２０重量％メタノール水溶液２９．８ｋｇを加え混合・分液を２回繰り返した。得られた有機層に活性炭０．４ｋｇを加え室温で１時間撹拌し、濾過を行なった。この濾液を減圧濃縮し、濃縮物を１４．７ｋｇ得た。得られた濃縮物を高速液体クロマトグラフィーおよびガスクロマトグラフィーにて分析したところ、該濃縮物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、含量５６．４重量％（ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル＝３．１重量％、ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル＝５３．３重量％、トルエン＝２０．４重量％）で含まれていた。さらに、ここでＩＣＰ発光分析をした結果、この濃縮物にはニッケルが０．７４ｇ含まれていた（ニッケル残留率は仕込んだニッケル量を基準として０．９４重量％）。この濃縮物にトルエン２．０ｋｇとヘプタン１１．６ｋｇ加え、４８℃まで加熱した。この混合物にＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが混合した種晶を１ｇ加えたところ結晶が析出した。その後、この混合物を９時間５０分かけて０℃まで冷却し、再び２０℃へ昇温した後、２℃まで冷却し、濾過を行なった。得られた結晶を０℃のヘプタン２．２ｋｇとトルエン１．０ｋｇの混合液で洗浄・濾過した後、残った結晶を減圧下で乾燥したところ、６．２９ｋｇの結晶を得た。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、該結晶にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル０．４重量％とＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル８８．０重量％が、合わせて５．５６ｋｇ（１６．９ｍｏｌ、収率５０．５％）含まれていた。またＩＣＰ発光分析を行ったところ、該結晶中のニッケル含量は４２ｐｐｍであった（ニッケル純分：０．２６ｇ、ニッケル残留率は仕込んだニッケル量を基準として０．３４重量％）。反応容器中に残留した結晶にメタノールを加えて溶解し、得られた溶液を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、該溶液にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．５０ｋｇ（１．５３ｍｏｌ、収率４．６％）含まれていた。
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
本発明の製造方法により得られるボロン酸エステル化合物、特にインダゾール骨格を有するボロン酸エステル化合物は、医農薬の合成中間体等として有用である（例えば、国際公開第２００７／１２７１８３号、国際公開第２００６／０４６０３１号、国際公開第２００６／０４６０４０号、国際公開第２００６／０４６０３５号、国際公開第２００７／１２９１６１号、国際公開第２００７／１３２１７１号、国際公開第２００７／１２７１７５号、国際公開第２００８／０７３７８５号、国際公開第２００８／０７０７４０号参照）。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ボロン酸エステル化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ボロン酸エステル化合物は、医農薬の合成中間体等として有用な化合物である。このボロン酸エステル化合物は、一般的にアリールハライドとジボロン化合物とをパラジウム触媒存在下で反応させることにより製造されていた（非特許文献１等参照）。
【０００３】
しかしながら、パラジウム触媒を用いた場合には、通常生成物から触媒を取り除くことが困難であるという問題がある。特に、医農薬を合成する場合には、生成物を極めて高い純度で得る必要があるが、純度を向上させるために精製を何度も繰り返した場合には生成物の収率が大幅に低下する（非特許文献２等参照）。
【０００４】
これに対して、特許文献１および２には、水洗等により容易に除去可能であり、かつ比較的安価なニッケル触媒を用いたボロン酸エステル化合物の製造方法が例示されている。
【０００５】
しかしながら、特許文献１および２等に記載の従来のニッケル触媒を用いたボロン酸エステル化合物の製造方法では、収率が不十分であるという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】国際公開第９８／４５２６５号
【特許文献２】米国特許出願公開第２００３／００３２８３８号明細書
【非特許文献１】Journal of Organic Chemistry 60 (23), 7508 (1995)
【非特許文献２】C. Someswara Rao, The Chemistry of Process Development in FineChemical & Pharmaceutical Industry Second Edition (John Wiley & sons,LTD, p. 981)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ニッケル触媒を用いて、充分に高い収率で目的の生成物を得ることが可能なボロン酸エステル化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、下記の［１］〜［２４］を提供する。
［１］ 含窒素有機塩基、ニッケル触媒、ホスフィン化合物および溶媒の存在下、式（１）
【化１】
［式中、Ａｒは、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、または置換されていてもよい芳香族複素環基を示し、Ｘは、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基、または置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基を示す。］で表される化合物と式（２）
【化２】
［式中、Ｒは２価の有機基を示す。］で表される化合物（ジボロン化合物）とを反応させることを特徴とする、式（３）
【化３】
［式中、ＡｒおよびＲは上記と同義である。］で表されるボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２］ Ａｒが、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基、置換されていてもよい含硫黄芳香族複素環基、または置換されていてもよい含酸素芳香族複素環基である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［３］ Ａｒが、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、または置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［４］ Ａｒが、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいピリジル基、置換されていてもよいインドリル基、または置換されていてもよいインダゾリル基である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［５］ ニッケル触媒が０価または２価のニッケル錯体である、［１］〜［４］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【０００９】
［６］ ニッケル触媒が、ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（０）−ホスフィン錯体、ニッケル（０）−亜リン酸エステル錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩、ニッケル（ＩＩ）有機酸塩、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）およびハロゲン化ニッケル（ＩＩ）−ホスフィン錯体からなる群より選ばれる少なくとも１種のニッケル錯体である、［１］〜［４］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［７］ ニッケル触媒が、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、硝酸ニッケル（ＩＩ）または塩化ニッケル（ＩＩ）である、［１］〜［４］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［８］ 含窒素有機塩基が３級アミン化合物または環状アミジン化合物である、［１］〜［７］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［９］ 含窒素有機塩基がトリアルキルアミン化合物、環状３級アミン化合物または環状アミジン化合物である、［１］〜［７］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１０］ 含窒素有機塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンである、［１］〜［７］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【００１０】
［１１］ ホスフィン化合物がトリアリールホスフィンである、［１］〜［１０］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１２］ ホスフィン化合物がトリフェニルホスフィンである、［１］〜［１０］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１３］ 溶媒が、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒である、［１］〜［１２］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１４］ 溶媒が、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒およびエステル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒である、［１］〜［１２］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１５］ アルコール溶媒がメタノールまたはエタノールである、［１３］または［１４］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１６］ アルコール溶媒がメタノールである、［１３］または［１４］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１７］ Ｒが、置換されていてもよいアルキレン基、または置換されていてもよいアリーレン基である、［１］〜［１６］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１８］ 式（２）で表される化合物がビス（ピナコラト）ジボロンである、［１］〜［１７］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［１９］ Ｘが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基またはベンゼンスルホニルオキシ基である、［１］〜［１８］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２０］ Ｘが、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である、［１］〜［１８］のいずれかに記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２１］ Ａｒが、下記：
【化４】
【化５】
【化６】
［式中、波線はＡｒにおける結合位置を示す。上記基は置換されていてもよい。］
からなる群より選ばれる芳香族複素環基である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２２］ 前記芳香族複素環基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシ基、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、ニトロ基、アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−アセチルアミノ基、ヒドロキシ基、メトキシ基、スルファニル基、メチルスルホニル基および式−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ３で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基で置換されている、［２１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２３］ 式（１）で表される化合物が、下記式：
【化７】
で表される化合物である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
［２４］ 式（３）で表される化合物が、下記式：
【化８】
で表される化合物である、［１］に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のボロン酸エステル化合物の製造方法によれば、触媒としてニッケル触媒を用いた場合であっても、充分に高い収率で目的の生成物を得ることができる。
【００１２】
さらに、従来のニッケル触媒を用いたボロン酸エステル化合物の製造方法では、原料のアリールハライドとして比較的高価で反応性の高いアリールヨージドを用いる必要があったが、本発明によれば、比較的安価で反応性の低いアリールクロライドやアリールブロミドを用いた場合であっても充分に高い収率で目的の生成物を得ることができる。
【００１３】
さらに、本発明のボロン酸エステル化合物の製造方法によれば、従来のパラジウム触媒やニッケル触媒を用いた場合と比較して、温和な条件で反応が進行する。
【００１４】
以下、本発明の実施形態の例について詳細に説明するが、本発明は下記実施形態に限定されるものではない。
【００１５】
［式（１）で表される化合物］
上記Ａｒの「置換されていてもよい芳香族炭化水素基」における「芳香族炭化水素基」としては、炭素数６〜２０のアリール基が好ましい。その具体例としては、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基、フェナントリル基、アントリル基が挙げられる。
【００１６】
上記Ａｒの「置換されていてもよい芳香族複素環基」における「芳香族複素環基」としては、含窒素芳香族複素環基、含硫黄芳香族複素環基または含酸素芳香族複素環基が好ましく、含窒素芳香族複素環基がより好ましい。
【００１７】
含硫黄芳香族複素環基の具体例としては、チエニル基が挙げられる。なお、含硫黄芳香族複素環基は、チアゾリル基やベンゾチアゾリル基等といった硫黄と窒素とを含む芳香族複素環基であってもよい。
【００１８】
含酸素芳香族複素環基の具体例としては、フリル基、イソベンゾフラニル基が挙げられる。なお、含酸素芳香族複素環基は、オキサゾリル基やベンゾオキサゾリル基等といった酸素と窒素とを含む芳香族複素環基であってもよい。
【００１９】
含窒素芳香族複素環基の具体例としては、インドリル基、インダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、キノリル基、フタラジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、ピローリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基が挙げられる。
【００２０】
なお、含窒素芳香族複素環基がＮＨ残基を有する場合には、当該ＮＨ残基は、ベンジルオキシカルボニル基等の置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等の置換されていてもよいアルコキシカルボニル基；アリルオキシカルボニル基等の置換されていてもよいアリルオキシカルボニル基；テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−２−イル基、３−ブロモテトラヒドロフラン−２−イル基、１，４−ジオキサン−２−イル基等の置換されていてもよい環状エーテル−２−イル基；ベンジル基等の置換されていてもよいアラルキル基；ｐ−トルエンスルホニル基等の置換されていてもよいスルホニル基；アセチル基等の置換されていてもよいアシル基等の保護基によって保護されていてもよい。
なお、上記保護基の説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基等の置換基を有していてもよいことを示す。
【００２１】
また、上記Ａｒの説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、その他の特性基等の置換基を有していてもよいことを示す。
脂肪族炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロへキシル基、アダマンチル基、ドデシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐状または環状のアルキル基；ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、シクロヘキセニル基、オクタジエニル基等の炭素数２〜２０の直鎖、分岐状または環状のアルケニル基；エチニル基、プロピニル基、ドデシニル基等の炭素数２〜２０の直鎖、分岐状または環状のアルキニル基が挙げられる。これらの基は、上述の芳香族炭化水素基や後述するその他の特性基等によりさらに置換されていてもよく、また２以上の脂肪族炭化水素基が一緒になって環を形成していてもよい。
芳香族炭化水素基の具体例としては、上記と同様のものが挙げられる。なお、芳香族炭化水素基は、上述の脂肪族炭化水素基や、芳香族炭化水素基、後述するその他の特性基等によりさらに置換されていてもよい。
芳香族複素環基の具体例としては、上記と同様のものが挙げられる。
その他の特性基の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；カルボキシ基；メトキシカルボニル基等の置換されていてもよいアルコキシカルボキシ基；ホルミル基；アセチル基等のアシル基；メトキシ基、ベンジルオキシ基等の置換されていてもよいアルコキシ基；カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基等の置換されていてもよいカルバモイル基；アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アセチルアミノ基等の上述の保護基で保護されていてもよいアミノ基；ホルミル基やアセチル基とアミノ基とが脱水縮合してなるイミノ基等のイミノ基；ベンゼンスルホニル基等の置換されていてもよいスルホニル基；メチルチオ基等の置換されていてもよいアルキルチオ基；チオキソ基；シアノ基；ヒドロキシ基；スルファニル基；ニトロ基；式−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ３で表される基が挙げられる。
なお、上記その他の特性基の説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基等の置換基を有していてもよいことを示す。
【００２２】
上記Ａｒは、芳香族炭化水素基または含窒素芳香族複素環基であると好ましく、フェニル基、ピリジル基、インドリル基またはインダゾリル基であるとより好ましい。
【００２３】
上記Ｘにおける「ハロゲン原子」としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００２４】
上記Ｘにおける「置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基」の具体例としては、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。
【００２５】
上記Ｘにおける「置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基」の具体例としては、トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基が挙げられる。
【００２６】
なお、上記Ｘの説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、メチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基等の置換されていてもよいアルコキシ基；シアノ基等の置換基を有していてもよいことを示す。
【００２７】
上記Ｘは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基であると好ましく、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であるとより好ましい。
【００２８】
上述のＡｒおよびＸを有する式（１）で表される化合物の具体例としては、クロロベンゼン、４−クロロトルエン、４−クロロアニソール、４−クロロアセトフェノン、４−クロロベンゾニトリル、４−クロロピリジン、４−クロロインドール、２−アミノ−６−クロロトルエン、４−クロロスチレン、１−クロロ−４−エチニルベンゼン、１−クロロ−４−フェニルベンゼン、１−クロロ−４−フルオロベンゼン、４−クロロ安息香酸、４−クロロ安息香酸メチル、４−クロロ安息香酸アミド、２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−６−クロロトルエン、Ｎ−（３−クロロ−２−メチルフェニル）アセトアミド、４−クロロフェノール、１−クロロナフタレン、１−クロロフェナントレン、１−クロロアントラセン、４−クロロベンゾトリアゾール、４−クロロキノリン、５−クロロフタラジン、５−クロロピリミジン、４−クロロベンゾチアゾリン、４−クロロベンゾイソチアゾリン、４−クロロベンゾオキサゾリン、４−クロロベンゾイソオキサゾリン、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−クロロ−１Ｈ−インダゾール、２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−クロロ−２Ｈ−インダゾール、４−クロロ−１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、４−クロロ−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、４−クロロ−１−（テトラヒドロフラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、４−クロロ−２−（テトラヒドロフラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、１−アセチル−４−クロロ−１Ｈ−インダゾール、２−アセチル−４−クロロ−２Ｈ−インダゾールが挙げられる。
【００２９】
さらにこれらの化合物の位置異性体や、これらの化合物における塩素原子（クロロ基）が臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基で置換された化合物、上述の化合物がＮＨ残基を有する場合には当該ＮＨ残基が保護基により保護された化合物も式（１）で表される化合物の具体例として挙げられる。
【００３０】
［式（２）で表される化合物］
上記Ｒにおける「２価の有機基」としては、置換されていてもよいアルキレン基（特に炭素数２〜６のもの）、置換されていてもよいアリーレン基（特に炭素数６〜１０のもの）が挙げられる。
【００３１】
上記「置換されていてもよいアルキレン基」における「アルキレン基」の具体例としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基が挙げられる。
【００３２】
上記「置換されていてもよいアリーレン基」における「アリーレン基」の具体例としては、フェニレン基、ベンゾフェニレン基が挙げられる。
【００３３】
上記Ｒの説明における「置換されていてもよい」とは、対象となる基が、メチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の鎖状、分岐状または環状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基；エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基等の置換されていてもよいカルバモイル基等の置換基を有していてもよいことを示す。なお、上記アルキル基は、上述の芳香族炭化水素基を置換基として有していてもよく、上記アリール基は、上述の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を置換基として有していてもよい。
【００３４】
上述のＲを有する式（２）で表される化合物の具体例としては、下記の化合物：
【化９】
が挙げられ、ビス（ピナコラト）ジボロン、ビス（エタンジオラト）ジボロンおよびビス（ネオペンタンジオラト）ジボロンが好ましく、ビス（ピナコラト）ジボロンがより好ましい。
【００３５】
上記式（２）で表される化合物の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常１〜３０モル倍であり、１〜５モル倍であると好ましく、１〜２モル倍であるとより好ましい。
【００３６】
［含窒素有機塩基］
含窒素有機塩基としては、例えば、アミン化合物、環状アミジン化合物、置換されていてもよい含窒素芳香族複素環化合物が挙げられる。
【００３７】
アミン化合物としては、例えば、１級アミン化合物（特に炭素数１〜１０のもの）、２級アミン化合物（特に炭素数２〜２０のもの）、３級アミン化合物（特に炭素数３〜４０のもの）が挙げられる。
【００３８】
１級アミン化合物の具体例としては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、イソブチルアミン、アニリンが挙げられる。
【００３９】
２級アミン化合物の具体例としては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、Ｎ−メチルアニリン、モルホリンが挙げられる。
【００４０】
３級アミン化合物の具体例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、トリ−ｎ−ウンデシルアミン、トリ−ｎ−ドデシルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリベンジルアミン等の置換されていてもよいトリアルキルアミン化合物；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のジアルキルアリールアミン化合物；トリフェニルアミン等のトリアリールアミン化合物が挙げられる。
【００４１】
Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン等の環状３級アミン化合物が挙げられる。
【００４２】
環状アミジン化合物の具体例としては、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]−５−ノネンが挙げられる。
【００４３】
置換されていてもよい含窒素芳香族複素環化合物の具体例としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ピコリン、Ｎ−メチルイミダゾール、オキサゾールが挙げられる。
【００４４】
上記含窒素有機塩基は、３級アミン化合物または環状アミジン化合物であると好ましく、トリアルキルアミン化合物、環状３級アミン化合物または環状アミジン化合物であるとより好ましく、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンであると特に好ましい。
【００４５】
含窒素有機塩基の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常１〜３０モル倍であり、１〜１０モル倍であると好ましく、１〜５モル倍であるとより好ましい。
【００４６】
［ニッケル触媒］
ニッケル触媒としては、例えば、ニッケル錯体、ニッケル合金、ニッケル担持化合物が挙げられる。
【００４７】
ニッケル錯体とは、ニッケル原子を中心として、周囲に配位子が結合した構造を有する化合物をいい、例えば、０価ニッケル錯体、２価ニッケル錯体が挙げられる。
【００４８】
０価ニッケル錯体の具体例としては、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）等のニッケル（０）アルケン錯体；テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（０）等のニッケル（０）−ホスフィン錯体；テトラキス（亜リン酸トリフェニル）ニッケル（０）等のニッケル（０）−亜リン酸エステル錯体が挙げられる。
【００４９】
２価ニッケル錯体の具体例としては、硝酸ニッケル（ＩＩ）、硫酸ニッケル（ＩＩ）、炭酸ニッケル（ＩＩ）等のニッケル（ＩＩ）無機酸塩；トリフルオロメタンスルホン酸ニッケル（ＩＩ）、酢酸ニッケル（ＩＩ）、安息香酸ニッケル（ＩＩ）、ビスアセチルアセトン酸ニッケル（ＩＩ）等のニッケル（ＩＩ）有機酸塩；フッ化ニッケル（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）等のハロゲン化ニッケル（ＩＩ）；塩化ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）、臭化ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）等のハロゲン化ニッケル（ＩＩ）−ホスフィン錯体；酸化ニッケル（ＩＩ）；水酸化ニッケル（ＩＩ）が挙げられる。
【００５０】
ニッケル合金としては、例えば、ニッケル−１３族金属合金が挙げられ、ニッケル−アルミニウム合金、ラネーニッケルが好ましい。
【００５１】
ニッケル担持化合物としては、例えば、１３族もしくは１４族元素からなる単体または１３族もしくは１４族元素を含む化合物にニッケルが担持された化合物が挙げられ、ニッケル炭素、ニッケルアルミナが好ましい。
【００５２】
上記ニッケル触媒は、ニッケル錯体であると好ましく、ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（０）−ホスフィン錯体、ニッケル（０）−亜リン酸エステル錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩、ニッケル（ＩＩ）有機酸塩、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）またはハロゲン化ニッケル（ＩＩ）−ホスフィン錯体であるとより好ましく、ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩またはハロゲン化ニッケル（ＩＩ）であるとさらに好ましく、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）であると特に好ましい。
【００５３】
これらのニッケル触媒は、市販のものであってもよく、任意の公知の方法によって製造されたものであってもよい。また、ニッケル触媒は、水和物であってもよく、反応系中で発生させたものであってもよい。
【００５４】
上記ニッケル触媒の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常０．０００１〜０．５モル倍であり、０．００１〜０．３モル倍であると好ましく、０．０１〜０．１モル倍であるとより好ましい。
【００５５】
［ホスフィン化合物］
ホスフィン化合物としては、トリアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン、芳香族基を有する２座配位型ホスフィン化合物等といった芳香族基を有するホスフィン化合物；トリアルキルホスフィン、芳香族基を有しない２座配位型ホスフィン化合物等といった芳香族基を有しないホスフィン化合物が挙げられる。
【００５６】
トリアリールホスフィンの具体例としては、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（ｍ−トリル）ホスフィン、トリ（ｐ−トリル）ホスフィン、ジフェニル（トリル）ホスフィン、トリス（ジメチルフェニル）ホスフィン、トリメシチルホスフィン、トリス（メトキシフェニル）ホスフィン、ビス（メトキシフェニル）フェニルホスフィン、トリス（フルオロフェニル）ホスフィン、ビス（ペンタフルオロフェニル）フェニルホスフィン、トリフリルホスフィン、トリチエニルホスフィンが挙げられ、アルキルジアリールホスフィンの具体例としては、エチルジフェニルホスフィンが挙げられる。
【００５７】
芳香族基を有する２座配位型ホスフィン化合物の具体例としては、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、１−〔２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル〕エチルジシクロヘキシルホスフィン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルが挙げられる。
【００５８】
トリアルキルホスフィンの具体例としては、トリブチルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリ（ｎ−ヘキシル）ホスフィン、トリ（ｎ−オクチル）ホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンが挙げられる。
【００５９】
芳香族基を有しない２座配位型ホスフィン化合物の具体例としては、１，２−ビス（ジエチルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）エタン、１，３‐ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）プロパンが挙げられる。
【００６０】
上記ホスフィン化合物は、芳香族基を有するホスフィン化合物であると好ましく、トリアリールホスフィンであるとより好ましく、トリフェニルホスフィンであると特に好ましい。
【００６１】
これらのホスフィン化合物は、市販のものであってもよく、任意の公知の方法によって製造されたものであってもよい。また、上記ニッケル触媒が、配位子としてホスフィンを有するものである場合には、必ずしもホスフィンを添加しなくともよい。
【００６２】
上記ホスフィン化合物の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常０．０００１〜１．０モル倍であり、０．００１〜０．６モル倍であると好ましく、０．０１〜０．２モル倍であるとより好ましい。
【００６３】
［溶媒］
溶媒としては、例えば、アルコール溶媒、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒が挙げられる。
【００６４】
アルコール溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ペンタノール、ヘキサノール、エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール、２−メトキシエタノール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノールが挙げられる。
【００６５】
炭化水素溶媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ニトロベンゼン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサンが挙げられる。
【００６６】
エーテル溶媒の具体例としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテルが挙げられる。
【００６７】
エステル溶媒の具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、ブチロラクトンが挙げられる。
【００６８】
ケトン溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノンが挙げられる。
【００６９】
アミド溶媒の具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンが挙げられる。
【００７０】
ニトリル溶媒の具体例としては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、ベンゾニトリルが挙げられる。
【００７１】
スルホキシド溶媒の具体例としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。
【００７２】
ハロゲン化炭化水素溶媒の具体例としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロブタン、フルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンが挙げられる。
【００７３】
上記溶媒は、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒であると好ましく、メタノール、エタノール、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とメタノールもしくはエタノールとの混合溶媒であるとより好ましく、メタノール、または炭化水素溶媒、エーテル溶媒およびエステル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とメタノールとの混合溶媒であると特に好ましい。
【００７４】
上記混合溶媒を用いる場合におけるアルコール溶媒の割合は、混合溶媒全量に対して、通常１質量％以上であり、１０質量％以上であると好ましく、５０質量％以上であると特に好ましい。
【００７５】
上記溶媒の使用量は、上記式（１）で表される化合物に対して、通常５００質量倍以下であり、０．１〜１００質量倍であると好ましく、１〜３０質量倍であるとより好ましい。
【００７６】
［含窒素有機塩基、ニッケル触媒およびホスフィン化合物の好適な組合せ］
含窒素有機塩基、ニッケル触媒およびホスフィン化合物は、
含窒素有機塩基：３級アミン化合物または環状アミジン化合物、
ニッケル触媒：０価または２価ニッケル錯体、
ホスフィン化合物：芳香族基を有するホスフィン化合物
の組合せであると好ましく、
含窒素有機塩基：トリアルキルアミン化合物、環状３級アミン化合物または環状アミジン化合物、
ニッケル触媒：ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩またはハロゲン化ニッケル（ＩＩ）、
ホスフィン化合物：トリアリールホスフィン
の組合せであるとより好ましく、
含窒素有機塩基：トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリンまたは１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン、
ニッケル触媒：ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、硝酸ニッケル（ＩＩ）または塩化ニッケル（ＩＩ）、
ホスフィン化合物：トリフェニルホスフィン、
の組合せであると特に好ましい。
【００７７】
［反応条件等］
本発明の製造方法によれば、上述の含窒素有機塩基、ニッケル触媒、ホスフィン化合物および溶媒の存在下、上記式（１）で表される化合物と上記式（２）で表される化合物とを反応させることにより、上記式（３）で表されるボロン酸エステル化合物が得られる。
【００７８】
上記反応における反応温度は、通常−４０〜１５０℃であり、−２０〜１００℃であると好ましく、０〜８０℃であるとより好ましい。好適な反応時間は反応温度等の反応条件により異なるが、通常１分間〜４８時間である。
【００７９】
上述の成分の混合順序は特に限定されないが、上記式（２）で表される化合物、含窒素有機塩基を予め溶媒中で混合した後に、ニッケル触媒、ホスフィン化合物、上記式（１）で表される化合物を連続して加えてもよく、上記式（２）で表される化合物、含窒素有機塩基、ニッケル触媒、ホスフィン化合物を予め溶媒中で混合した後に、式（１）で表される化合物を加えてもよく、上記式（２）で表される化合物、含窒素有機塩基、式（１）で表される化合物を予め溶媒中で混合した後に、ニッケル触媒とホスフィン化合物とを加えてもよく、上述の成分を一括して加えてもよい。
【００８０】
反応の進行は、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、ＮＭＲ等の通常の分析手段により確認することができる。
【００８１】
反応終了後、得られた反応混合物に、分液処理、濾過処理、洗浄処理、濃縮処理等の通常の後処理を施すことにより、上記式（３）で表されるボロン酸エステル化合物を単離することができる。上記後処理としては、より具体的には、反応混合物に水を加えて分液処理し、得られた有機層を減圧濃縮した後に水洗浄する方法や、反応混合物を減圧濃縮した後に水洗浄する方法等が挙げられる。
【００８２】
単離された上記式（３）で表されるボロン酸エステル化合物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー処理、蒸留処理等の通常の精製処理によって、さらに精製されてもよい。また、式（３）で表されるボロン酸エステル化合物が結晶性を有する場合には、再結晶処理により精製することもできる。
【００８３】
上記分液処理をする際に、反応で用いた溶媒が水と抽出溶媒のいずれにも溶解する場合には、該溶媒を留去した後に分液処理を行なうことが望ましい。また、反応混合物に不要な残留触媒や不溶不純物等が残留する場合は、これらを濾過処理により除去してから分液処理を行なうことが望ましい。
【００８４】
分液処理における抽出溶媒としては、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、イソプロピルエチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；トルエン等の芳香族炭化水素溶媒；ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒；酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒；メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒等が挙げられる。反応時にこれら抽出溶媒と同じ溶媒を使用した場合は、そのまま分液操作を行なうこともできる。
【００８５】
また、反応混合物に残留するニッケル触媒等の不純物を除去するために、水洗浄、食塩水洗浄、酸洗浄や塩基洗浄等を行なってもよい。酸としては例えば、塩化水素、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機酸や、酢酸、クエン酸、メタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。塩基としては、アンモニア、アンモニア水、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、リン酸カリウム等の無機塩基や、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基が挙げられる。酸や塩基の使用量は特に制限されないが、目的の生成物に影響を与えない範囲での使用が望ましい。
【００８６】
上記再結晶処理する場合に用いられる溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等のアルコール溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭素水素溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；水等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を同時に用いてもよい。好ましくは脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、あるいはこれらの混合溶媒である。再結晶に用いられる溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、通常、得られた生成物の重量に対して０．１〜１００倍の範囲である。
【００８７】
上述の本発明の製造方法により得られる上記式（３）で表されるボロン酸エステル化合物の具体例としては、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニソール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アセトフェノン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリル、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）インドール、２−アミノ−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）スチレン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−４−エチニルベンゼン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−４−フェニルベンゼン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−４−フルオロベンゼン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）安息香酸、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）安息香酸メチル、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）安息香酸アミド、２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン、Ｎ−［３−（４’，４’，５’，５’−テトラメチル−１’，３’，２’−ジオキサボロラン−２’−イル）−２−メチルフェニル］アセトアミド、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノール、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１−（テトラヒドロフラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２−（テトラヒドロフラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、１−アセチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾール、２−アセチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾール、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェナントレン、１−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アントラセン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾトリアゾール、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）キノリン、５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フタラジン、５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリミジン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾチアゾリン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾイソチアゾリン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾオキサゾリン、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾイソオキサゾリンが挙げられる。
【００８８】
さらにこれらの化合物の位置異性体も式（３）で表されるボロン酸エステル化合物の具体例として挙げられる。
【実施例】
【００８９】
以下、実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。なお、各実施例において、
４−クロロ−１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾールは「クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾール」と、
４−クロロ−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾールは「クロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾール」と、
１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インダゾールは「ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル」と、
２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２Ｈ−インダゾールは「ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル」と、
それぞれ略記する。
【００９０】
（クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物）
製造例１
窒素雰囲気下、フラスコに４−クロロインダゾール３３．０ｇ（含量９１．０重量％、１９６．６ｍｍｏｌ）とピリジニウム ｐ−トルエンスルホナート０．４９ｇ（２．０ｍｍｏｌ）と３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン３６．４ｇ（４３２．６ｍｍｏｌ）とジクロロメタン２６５ｇとを仕込み、得られた混合物を内温４５℃で８時間撹拌した。得られた反応混合物を２５℃に冷却し、そこにジクロロメタンと水を加えて撹拌した後、分液した。得られた有機層に５重量％炭酸水素ナトリウム水を加えて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動層：ヘキサン／酢酸エチル）を用いて精製し、４８．５ｇの油状物を得た。該油状物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールの含量は、合わせて９８．４重量％であった（クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾール：クロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾール＝１：３．３、収率１００％）。
【００９１】
製造例２
窒素雰囲気下、フラスコに４−クロロインダゾール３１．８ｇ（含量９４．３重量％、１９６．６ｍｍｏｌ）とピリジニウム ｐ−トルエンスルホナート０．９９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）と３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン３６．４ｇ（４３２．６ｍｍｏｌ）とトルエン１３２ｇとヘプタン１３２ｇとを仕込み、得られた混合物を４０℃まで加熱し、９時間撹拌した。得られた反応混合物に５％炭酸水素ナトリウム水溶液１０１ｇを加え混合しながら２５℃まで冷却した後、分液した。得られた有機層に再度、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液１０１ｇを加え、混合・分液を２回繰り返した後、トルエン２０ｇと炭酸水素ナトリウム０．３３ｇを加え減圧濃縮を行なった。この濃縮物にメタノールを加え再度、減圧濃縮し、濾過を行い、濾液７０.８ｇを得た。該濾液を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールの含量は、合わせて６５．２重量％であった（クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾール：クロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾール＝１：１３．７、収率１００％）。
【００９２】
（ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとの混合物）
【化１０】
実施例１
窒素雰囲気下、フラスコに、ビス（ピナコラト）ジボロン５５．８ｇ（０．２２ｍｏｌ）とメタノール１２０ｇとトリエチルアミン４４．５ｇ（０．４４ｍｏｌ）と製造例２で得たクロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールの混合物６１．３ｇ（合計含量：６５．２重量％、０．１７ｍｏｌ）を仕込み、窒素でバブリングしながら内温を０℃まで冷却した。そこに、硝酸ニッケル・６水和物２.０ｇ（６．８ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン３．６ｇ（１３．５ｍｍｏｌ）を仕込んだ。得られた反応混合物を内温５℃まで昇温し、２２時間撹拌した。その後、段階的に１５℃まで６時間かけて昇温しながら撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて４５.０ｇ（０．１４ｍｏｌ、反応収率８１％）含まれていた。
【００９３】
この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル４４０ｇと５重量％塩酸１６８ｇを加えｐＨ７．５に調整した後、分液した。得られた水層にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル３６０ｇを加えて再抽出を行った。それぞれ得られた有機層を合一し、水層を分離し、有機層を減圧濃縮した。得られた濃縮物にトルエン１６０ｇを加えて減圧濃縮し、濃縮物にトルエン１２０ｇと２０重量%メタノール水溶液を１５０ｇ加え混合・分液した。さらに得られた有機層に２０重量％メタノール水溶液１５０ｇを加え混合・分液を２回繰り返した。得られた有機層に活性炭２．０ｇを加え室温で１時間撹拌し、濾過を行なった。この濾液を減圧濃縮し、濃縮物を８１．６７ｇ得た。得られた濃縮物を高速液体クロマトグラフィーおよびガスクロマトグラフィーにて分析したところ、該濃縮物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、含量５５.０重量％（ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル＝３．０重量％、ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル＝５２．０重量％、トルエン＝２２．４重量％）で含まれていた。この濃縮物にトルエン８．５５ｇとヘプタン６２．４５ｇ加え、４５℃まで加熱した。この混合物にＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが混合した種晶を４０ｍｇ加えたところ結晶が析出した。その後、この混合物を４時間かけて２５℃まで冷却し、再び４５℃へ加熱した後、０℃まで冷却し、濾過を行なった。得られた結晶を０℃のヘプタン１１．２ｇとトルエン４．８ｇの混合液で洗浄・濾過した後、０℃のヘプタン２１．６ｇでさらに洗浄・濾過した。残った結晶を減圧下で乾燥したところ、３３．９ｇの結晶を得た。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、該結晶にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルは含まれておらずＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルのみが３０．０３ｇ含まれていた（９１．５ｍｍｏｌ、含量：８８．５重量％、収率５４％）。また、濾液と洗液の混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが１０．４ｇ、ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが２．３ｇ含まれていた。
【００９４】
実施例２
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．３２ｇ（１．２７ｍｍｏｌ）と脱気したエタノール３．６ｍｌとトリエチルアミン０．２６ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル９．３ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１７．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、製造例１に準じて得たクロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量１００．０重量％、０．８５ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で５時間撹拌した後、さらに７０℃で１時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．１６ｇ（０．４８ｍｍｏｌ、収率５６％）含まれていた。
【００９５】
実施例３
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．３２ｇ（１．２７ｍｍｏｌ）と脱気したｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル２．６ｇと脱気したメタノール０．３ｇとトリエチルアミン０．２６ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル９．３ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１７．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、製造例１に準じて得たクロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量９８．５重量％、０．８５ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で３時間撹拌した後、さらに６０℃で１時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．１６ｇ（０．４９ｍｍｏｌ、収率５８％）含まれていた。
【００９６】
実施例４〜６
ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルに代えて表１に記載の溶媒を用い、反応温度と反応時間をそれぞれ表１に記載のとおりに変更した以外は、実施例３と同様にして反応を行なった。結果を表１に示す。
【００９７】
【表１】
【００９８】
実施例７
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．６４ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．６６ｇ（５．０７ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル１８．６ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン３５．５ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．４５ｇ（合計含量８９．５重量％、１．６９ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で５時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．３９ｇ（１．１９ｍｍｏｌ、収率７０％）含まれていた。
【００９９】
実施例８
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．６４ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール３．０ｇとトリエチルアミン０．５１ｇ（５．０７ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、硝酸ニッケル・６水和物１９．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン３５．５ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．４５ｇ（合計含量８９．５重量％、１．６９ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で６時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．４５ｇ（１．３７ｍｍｏｌ、収率８１％）含まれていた。
【０１００】
実施例９〜１０
ビス（ピナコラト）ジボロンとトリエチルアミンの使用量を、それぞれ表２に記載のとおりに変えた以外は、実施例８と同様にして反応を行った。結果を表２に示す。
【０１０１】
【表２】
【０１０２】
実施例１１
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０.２４ｇ（０.９５ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール２．９ｇとトリエチルアミン０．１７ｇ（１．６８ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル１０ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１８ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量１００重量％、０．８４ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で３時間撹拌した。該反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．１９ｇ（０．５７ｍｍｏｌ、収率６８％）含まれていた。
【０１０３】
比較例１
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．１２ｇ（０．４７ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール１．４ｇとリチウムメトキシド３１ｍｇ（０．８２ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３．０ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン４．５ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．１０ｇ（合計含量９７．７重量％、０．４１ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で３．５時間撹拌した。その後、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３．０ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン４．５ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加え、再度、混合物を３０℃で２時間撹拌した。該反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて２２．９ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ、収率１７％）含まれていた。
【０１０４】
比較例２〜４
リチウムメトキシドに代えて表３に記載の塩基を用い、その使用量をそれぞれ表３に記載のとおりに変更した以外は、比較例１と同様にして反応を行なった。結果を表３に示す。
【０１０５】
【表３】
【０１０６】
比較例５
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．３２ｇ（１．２６ｍｍｏｌ）と脱気したジメチルスルホキシド３．６ｇと酢酸カリウム０．２５ｇ（２．５４ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル１０ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１８ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量１００重量％、０．８４ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で５時間撹拌した。その後さらに７０℃まで加熱し、１時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルは得られなかった（収率０％）。
【０１０７】
実施例１２
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．６４ｇ（２．５ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．６６ｇ（５．１ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、硝酸ニッケル・６水和物１９．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン３５．５ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．４５ｇ（合計含量８９．５重量％、１．６９ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で５時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．３６ｇ（１．２ｍｍｏｌ、収率７０％）含まれていた。
【０１０８】
実施例１３
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．３２ｇ（１．２７ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール２．８ｇとトリエチルアミン０．２６ｇ（２．５３ｍｍｏｌ）とを仕込み、得られた混合物を内温２５℃で撹拌しながら、そこに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル９．３ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン１７．７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）と、クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物０．２０ｇ（合計含量１００．０重量％、０．８５ｍｍｏｌ）を仕込み、得られた混合物を３０℃で３時間撹拌した。その後、７０℃まで加熱して、さらに１時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．２３ｇ（０．７１ｍｍｏｌ、収率８３％）含まれていた。
【０１０９】
（その他の化合物の製造）
実施例１４：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．３５ｇ（５．３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとトリエチルアミン１．０８ｇ（１０．７ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３９ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン７５ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）と、クロロベンゼン０．４０ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．５０ｇ（２．５ｍｍｏｌ、収率６９％）含んでいた。
【０１１０】
実施例１５〜１７
トリエチルアミンに代えて表４に記載の塩基を用い、その仕込量を表４に記載のとおりに変更した以外は、実施例１４と同様にして反応を行なった。結果を表４に示す。
【０１１１】
【表４】
【０１１２】
実施例１８：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．３５ｇ（５．３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．3８ｇ（１０．７ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３９ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン７５ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）と、クロロベンゼン０．４４ｇ（３．９ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌後、５０℃で４時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．７９ｇ（３．９ｍｍｏｌ、収率９９％）含んでいた。
【０１１３】
実施例１９：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．３５ｇ（５．３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．３８ｇ（１０．７ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、硝酸ニッケル・６水和物４１ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン７５ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）と、クロロベンゼン０．４０ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌後、５０℃で４時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．６５ｇ（３．２ｍｍｏｌ、収率９０％）含んでいた。
【０１１４】
実施例２０
硝酸ニッケル・６水和物に代えて表５に記載の触媒を用い、その使用量を表５に記載のとおりに変更した以外は実施例１９と同様にして反応を行なった。結果を表５に示す。
【０１１５】
【表５】
【０１１６】
実施例２１：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．９７ｇ（３．８ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．９９ｇ（７．６ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル２８ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５３ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）と、ブロモベンゼン０．４０ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．４０ｇ（２．０ｍｍｏｌ、収率７７％）含んでいた。
【０１１７】
実施例２２：（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．７５ｇ（２．９ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．７６ｇ（５．９ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル２２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン４１ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）と、ヨードベンゼン０．４４ｇ（２．２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンを０．４１ｇ（２．０ｍｍｏｌ、収率９３％）含んでいた。
【０１１８】
実施例２３：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．２０ｇ（４．７ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．２３ｇ（９．５ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３５ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン６６ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）と、４−クロロトルエン０．４０ｇ（３．２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエンを０．４１ｇ（１．９ｍｍｏｌ、収率６０％）含んでいた。
【０１１９】
実施例２４：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニソール
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．０７ｇ（４．２ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．０９ｇ（８．４ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３１ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５９ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ）と、４−クロロアニソール０．４０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニソールを０．５８ｇ（２．７ｍｍｏｌ、収率９７％）含んでいた。
【０１２０】
実施例２５：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アセトフェノン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．９９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．００ｇ（７．８ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル２８ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５４ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）と、４’−クロロアセトフェノン０．４０ｇ（２．６ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アセトフェノンを０．５８ｇ（２．４ｍｍｏｌ、収率９１％）含んでいた。
【０１２１】
実施例２６：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリル
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．１１ｇ（４．４ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．１３ｇ（８．７ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３２ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン６１ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）と、４−クロロベンゾニトリル０．４０ｇ（２．９ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリルを０．５８ｇ（２．６ｍｍｏｌ、収率８８％）含んでいた。
【０１２２】
実施例２７：３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．３４ｇ（５．３ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．３６ｇ（１０．６ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３９ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン７４ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）と、３−クロロピリジン０．４０ｇ（３．５２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンを０．２９ｇ（１．４２ｍｍｏｌ、収率４1％）含んでいた。
【０１２３】
実施例２８：４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）インドール
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン０．５０ｇ（２．０ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン０．５１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル１５ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン２８ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）と、４−クロロインドール０．２０ｇ（１．３２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）インドールを０．２６ｇ（１．０５ｍｍｏｌ、収率８０％）含んでいた。
【０１２４】
実施例２９：２−アミノ−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエン
窒素雰囲気下、２０ｍｌ容の反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１．０８ｇ（４．２ｍｍｏｌ）と脱気したメタノール７．２ｇとジイソプロピルエチルアミン１．１０ｇ（８．５ｍｍｏｌ）とを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル３１ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５９ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）と、２−アミノ−６−クロロトルエン０．４０ｇ（２．８２ｍｍｏｌ）を仕込み、３０℃で２１時間撹拌した。その後、５０℃で３時間撹拌した。該反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、２−アミノ−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエンを０．２６ｇ（１．１１ｍｍｏｌ、収率４０％）含んでいた。
【０１２５】
実施例３０：クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールとの混合物
窒素雰囲気下、反応容器に、ビス（ピナコラト）ジボロン１１．０７ｋｇ（４３．６ｍｏｌ）とメタノール２３．８ｋｇとトリエチルアミン８．８３ｋｇ（８７．２ｍｏｌ）と製造例２に準じて製造したクロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールとクロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールの混合物１５．４９ｋｇ（クロロ−ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾール＝３．２重量％、クロロ−ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾール＝４８．１重量％、合計＝３３．５４ｍｏｌ）を仕込み、内温を６℃まで冷却した後、反応容器を減圧し窒素置換した。その後、反応容器に、硝酸ニッケル・６水和物０．３９ｋｇ（１．３ｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン０．７０ｋｇ（２．７ｍｏｌ）を仕込んだ。得られた反応混合物を内温２０℃まで昇温し、７時間撹拌した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、該反応混合物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて８．５４ｋｇ（２６．０２ｍｏｌ、収率７７．６％）含まれていた。
【０１２６】
この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル８７．３ｋｇと５重量％塩酸３４．５ｋｇを加えｐＨ７．５に調整した後、分液した。得られた水層にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル７１．５ｋｇを加えて再抽出を行った。それぞれ得られた有機層を合一し、水層を分離し、有機層を減圧濃縮した。得られた濃縮物にトルエン３１．８ｋｇを加えて減圧濃縮し、濃縮物にトルエン２３．８ｋｇと２０重量%メタノール水溶液を２９．８ｋｇ加え混合・分液した。さらに得られた有機層に２０重量％メタノール水溶液２９．８ｋｇを加え混合・分液を２回繰り返した。得られた有機層に活性炭０．４ｋｇを加え室温で１時間撹拌し、濾過を行なった。この濾液を減圧濃縮し、濃縮物を１４．７ｋｇ得た。得られた濃縮物を高速液体クロマトグラフィーおよびガスクロマトグラフィーにて分析したところ、該濃縮物にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、含量５６．４重量％（ＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル＝３．１重量％、ＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル＝５３．３重量％、トルエン＝２０．４重量％）で含まれていた。さらに、ここでＩＣＰ発光分析をした結果、この濃縮物にはニッケルが０．７４ｇ含まれていた（ニッケル残留率は仕込んだニッケル量を基準として０．９４重量％）。この濃縮物にトルエン２．０ｋｇとヘプタン１１．６ｋｇ加え、４８℃まで加熱した。この混合物にＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが混合した種晶を１ｇ加えたところ結晶が析出した。その後、この混合物を９時間５０分かけて０℃まで冷却し、再び２０℃へ昇温した後、２℃まで冷却し、濾過を行なった。得られた結晶を０℃のヘプタン２．２ｋｇとトルエン１．０ｋｇの混合液で洗浄・濾過した後、残った結晶を減圧下で乾燥したところ、６．２９ｋｇの結晶を得た。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、該結晶にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル０．４重量％とＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステル８８．０重量％が、合わせて５．５６ｋｇ（１６．９ｍｏｌ、収率５０．５％）含まれていた。またＩＣＰ発光分析を行ったところ、該結晶中のニッケル含量は４２ｐｐｍであった（ニッケル純分：０．２６ｇ、ニッケル残留率は仕込んだニッケル量を基準として０．３４重量％）。反応容器中に残留した結晶にメタノールを加えて溶解し、得られた溶液を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、該溶液にはＴＨＰ−１Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルとＴＨＰ−２Ｈ−インダゾールボロン酸ピナコールエステルが、合わせて０．５０ｋｇ（１．５３ｍｏｌ、収率４．６％）含まれていた。
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
本発明の製造方法により得られるボロン酸エステル化合物、特にインダゾール骨格を有するボロン酸エステル化合物は、医農薬の合成中間体等として有用である（例えば、国際公開第２００７／１２７１８３号、国際公開第２００６／０４６０３１号、国際公開第２００６／０４６０４０号、国際公開第２００６／０４６０３５号、国際公開第２００７／１２９１６１号、国際公開第２００７／１３２１７１号、国際公開第２００７／１２７１７５号、国際公開第２００８／０７３７８５号、国際公開第２００８／０７０７４０号参照）。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
含窒素有機塩基、ニッケル触媒、ホスフィン化合物および溶媒の存在下、式（１）
【化１】
［式中、Ａｒは、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、または置換されていてもよい芳香族複素環基を示し、Ｘは、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基、または置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基を示す。］
で表される化合物と式（２）
【化２】
［式中、Ｒは２価の有機基を示す。］
で表される化合物とを反応させることを特徴とする、式（３）
【化３】
［式中、ＡｒおよびＲは上記と同義である。］
で表されるボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２】
Ａｒが、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基、置換されていてもよい含硫黄芳香族複素環基、または置換されていてもよい含酸素芳香族複素環基である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項３】
Ａｒが、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、または置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項４】
Ａｒが、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいピリジル基、置換されていてもよいインドリル基、または置換されていてもよいインダゾリル基である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項５】
ニッケル触媒が０価または２価のニッケル錯体である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項６】
ニッケル触媒が、ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（０）−ホスフィン錯体、ニッケル（０）−亜リン酸エステル錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩、ニッケル（ＩＩ）有機酸塩、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）およびハロゲン化ニッケル（ＩＩ）−ホスフィン錯体からなる群より選ばれる少なくとも１種のニッケル錯体である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項７】
ニッケル触媒が、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、硝酸ニッケル（ＩＩ）または塩化ニッケル（ＩＩ）である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項８】
含窒素有機塩基が３級アミン化合物または環状アミジン化合物である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項９】
含窒素有機塩基がトリアルキルアミン化合物、環状３級アミン化合物または環状アミジン化合物である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１０】
含窒素有機塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンである、請求項１〜７のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１１】
ホスフィン化合物がトリアリールホスフィンである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１２】
ホスフィン化合物がトリフェニルホスフィンである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１３】
溶媒が、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１４】
溶媒が、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒およびエステル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１５】
アルコール溶媒がメタノールまたはエタノールである、請求項１３または１４に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１６】
アルコール溶媒がメタノールである、請求項１３または１４に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１７】
Ｒが、置換されていてもよいアルキレン基、または置換されていてもよいアリーレン基である、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１８】
式（２）で表される化合物がビス（ピナコラト）ジボロンである、請求項１〜１７のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１９】
Ｘが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基またはベンゼンスルホニルオキシ基である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２０】
Ｘが、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２１】
Ａｒが、下記：
【化４】
【化５】
【化６】
［式中、波線はＡｒにおける結合位置を示す。上記基は置換されていてもよい。］
からなる群より選ばれる芳香族複素環基である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２２】
前記芳香族複素環基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシ基、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、ニトロ基、アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−アセチルアミノ基、ヒドロキシ基、メトキシ基、スルファニル基、メチルスルホニル基および式−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ３で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基で置換されている、請求項２１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２３】
式（１）で表される化合物が、下記式：
【化７】
で表される化合物である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２４】
式（３）で表される化合物が、下記式：
【化８】
で表される化合物である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１】
含窒素有機塩基、ニッケル触媒、ホスフィン化合物および溶媒の存在下、式（１）
【化１】
［式中、Ａｒは、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、または置換されていてもよい芳香族複素環基を示し、Ｘは、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基、または置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基を示す。］
で表される化合物と式（２）
【化２】
［式中、Ｒは２価の有機基を示す。］
で表される化合物とを反応させることを特徴とする、式（３）
【化３】
［式中、ＡｒおよびＲは上記と同義である。］
で表されるボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２】
Ａｒが、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基、置換されていてもよい含硫黄芳香族複素環基、または置換されていてもよい含酸素芳香族複素環基である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項３】
Ａｒが、置換されていてもよい芳香族炭化水素基、または置換されていてもよい含窒素芳香族複素環基である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項４】
Ａｒが、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいピリジル基、置換されていてもよいインドリル基、または置換されていてもよいインダゾリル基である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項５】
ニッケル触媒が０価または２価のニッケル錯体である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項６】
ニッケル触媒が、ニッケル（０）−アルケン錯体、ニッケル（０）−ホスフィン錯体、ニッケル（０）−亜リン酸エステル錯体、ニッケル（ＩＩ）無機酸塩、ニッケル（ＩＩ）有機酸塩、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）およびハロゲン化ニッケル（ＩＩ）−ホスフィン錯体からなる群より選ばれる少なくとも１種のニッケル錯体である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項７】
ニッケル触媒が、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、硝酸ニッケル（ＩＩ）または塩化ニッケル（ＩＩ）である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項８】
含窒素有機塩基が３級アミン化合物または環状アミジン化合物である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項９】
含窒素有機塩基がトリアルキルアミン化合物、環状３級アミン化合物または環状アミジン化合物である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１０】
含窒素有機塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンである、請求項１〜７のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１１】
ホスフィン化合物がトリアリールホスフィンである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１２】
ホスフィン化合物がトリフェニルホスフィンである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１３】
溶媒が、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１４】
溶媒が、アルコール溶媒、または、炭化水素溶媒、エーテル溶媒およびエステル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒とアルコール溶媒との混合溶媒である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１５】
アルコール溶媒がメタノールまたはエタノールである、請求項１３または１４に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１６】
アルコール溶媒がメタノールである、請求項１３または１４に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１７】
Ｒが、置換されていてもよいアルキレン基、または置換されていてもよいアリーレン基である、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１８】
式（２）で表される化合物がビス（ピナコラト）ジボロンである、請求項１〜１７のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項１９】
Ｘが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基またはベンゼンスルホニルオキシ基である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２０】
Ｘが、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２１】
Ａｒが、下記：
【化４】
【化５】
【化６】
［式中、波線はＡｒにおける結合位置を示す。上記基は置換されていてもよい。］
からなる群より選ばれる芳香族複素環基である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２２】
前記芳香族複素環基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシ基、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、ニトロ基、アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−アセチルアミノ基、ヒドロキシ基、メトキシ基、スルファニル基、メチルスルホニル基および式−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ３で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基で置換されている、請求項２１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２３】
式（１）で表される化合物が、下記式：
【化７】
で表される化合物である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項２４】
式（３）で表される化合物が、下記式：
【化８】
で表される化合物である、請求項１に記載のボロン酸エステル化合物の製造方法。
【公表番号】特表２０１２−５２１４２０（Ｐ２０１２−５２１４２０Ａ）
【公表日】平成２４年９月１３日（２０１２．９．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５０１９７１（Ｐ２０１２−５０１９７１）
【出願日】平成２１年３月２４日（２００９．３．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０３８０２９
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１１０７８２
【国際公開日】平成２２年９月３０日（２０１０．９．３０）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【出願人】（５０７１４７３４５）ジェネンテック，インコーポレーテッド (3)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年９月１３日（２０１２．９．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月２４日（２００９．３．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０３８０２９
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１１０７８２
【国際公開日】平成２２年９月３０日（２０１０．９．３０）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【出願人】（５０７１４７３４５）ジェネンテック，インコーポレーテッド (3)
【Ｆターム（参考）】
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