説明

一次元材料の熱伝導率測定装置及び測定方法

【課題】本発明は、一次元材料の熱伝導率測定装置及び測定方法に関する。
【解決手段】本発明の熱伝導率測定装置は、真空環境に配置された支持装置を備える。前記熱伝導率測定装置は、一次元の微小材料の熱伝導率を測定することに用いられ、前記支持装置は、基体と、四つの電極と、を含み、前記基体は、一つの溝部と、前記溝部の両側に位置する第一支持部及び第二支持部を含み、前記二の電極は、間隔をおいて前記基体の第一支持部に配置されていて、前記その他の二の電極は、間隔をおいて前記基体の第二支持部に配置されている。前記一次元の微小材料は、前記四つの電極を横切って跨るように、前記四つの電極に前記電気的に接続されている。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、一次元材料の熱伝導率測定装置及び測定方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
熱伝導率とは、ある物質について、熱の伝わりやすさを示す値のことである。一個の物質において温度差がある場合、温度の高い部分から低い部分へと熱の移動現象が生じる。この熱移動のおこりやすさが熱伝導率として表される。単位長(厚み)当たり1度の温度差がある場合に、単位時間で単位面積を移動する熱量が係数となる。具体的には、物質の両面に1度の温度差があるとき、1m当たり1時間に伝わる熱量が熱伝導率として表現される。この熱伝導率の値が大きければ大きいほど、移動する熱量は大きく、熱が伝わりやすいことになる。熱伝導率は金属、ガラス、プラスチック、セメント、木質材など、材料の種類と密度によって異なる。即ち、熱伝導率は材料の熱の特性を反映する重要なパラメーターである。応用に適切な材料を選択することは熱電導技術の重要な問題であるので、正確的に材料の熱伝導率を測定することは、応用に適切な材料を選択することに対して重要な意味がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
しかし、測定される材料が、カーボンナノチューブのような一次元のナノ材料である場合、熱伝導率を測定することが難しい。例えば、従来の接触式で該一次元のナノ材料の熱伝導率を測定する場合、前記一次元のナノ材料はナノサイズの微視体であり、温度検測探針は巨視体であり、且つ物体の熱容量が該物体の質量と正比例するので、前記温度検測探針が前記微視体の一次元のナノ材料の温度及び熱学状態に直接的に影響し得る。また、前記一次元のナノ材料の寸法が小さいので、該ナノ材料の各々の点の熱伝導率を測定することができないという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【0004】
従って、前記課題を解決するために、本発明は一次元のナノ材料の熱伝導率を精確に測定できる一次元ナノ材料の熱伝導率測定装置及び測定方法を提供する。
【0005】
本発明の熱伝導率測定装置は、真空環境に配置された支持装置を備える。前記熱伝導率測定装置は、一次元の微小材料の熱伝導率を測定することに用いられる。前記支持装置は、基体と、第一電極と、第二電極と、第三電極と、第四電極と、を含み、前記基体は、一つの溝部と、前記溝部の両側に位置する第一支持部及び第二支持部を含む凹形構造を有する。前記第一電極及び第二電極は、間隔をおいて前記基体の第一支持部に配置されていて、前記第三電極及び第四電極は、間隔をおいて前記基体の第二支持部に配置されている。前記一次元の微小材料は、前記第一、第二、第三及び第四電極を横切って跨るように、前記四つの電極に電気的に接続されている。
【0006】
本発明の一次元の微小材料の熱伝導率の測定方法は、一次元の微小材料を提供して、その横断面積を測定する第一ステップと、少なくとも四つの電極が間隔をおいて配置される支持装置を提供して、前記一次元の微小材料を、前記支持装置に前記四つの電極を横切って跨るように配置して、前記四つの電極の中間の二つの電極の間における前記一次元の微小材料の一部を懸架させる第二ステップと、前記一次元の微小材料の懸架される一部の長さを測定する第三ステップと、真空環境に前記四つの電極の両端の二つの電極によって、前記一次元の微小材料に電流を流入して、前記一次元の微小材料を昇温させて一つの熱平衡に到達させた後に、前記一次元の微小材料の電流を測定し、前記一次元の微小材料の懸架される一部の電圧を測定して、数式P=UIによって、前記一次元の微小材料の懸架される一部のその軸方向に沿って生じた熱出力Pを計算する第四ステップと、前記一次元の微小材料の懸架される一部の中心点及びいずれか一つの端点の温差を測定して、数式
【数1】

によって、前記一次元の微小材料の熱伝導率を計算して得る第五ステップと、含む。
【発明の効果】
【0007】
本発明の一次元のナノ材料の熱伝導率の測定方法は、従来の温度検測探針などの巨視体を用いず、一次元のナノ材料自身の温度を保持し、変化させない状態で測定を進行するので、一次元のナノ材料の熱伝導率を精確に測定できる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】本発明実施例1の一次元ナノ材料の熱伝導率測定装置の構造図である。
【図2】図1に示す一次元ナノ材料のラマンスペクトルの曲線図である。
【図3】図1に示す一次元ナノ材料のラマンスペクトルのGプライムバンドと温度の間の関係を表す曲線図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
【0010】
(実施例1)
図1を参照すると、本実施例の熱伝導率測定装置1は、測定目標200の熱伝導率を測定するために使用される。前記測定目標200は、一次元のナノメーターサイズ又はマイクロメートルサイズの材料からなる。前記一次元の材料は、ナノチューブ、ナノロッド、ナノワイヤー、ナノ繊維又はナノリボンであり得る。
【0011】
前記熱伝導率測定装置1は、支持装置10及び真空容器20を含んでいる。前記支持装置10は、真空容器20の中に設置されている。前記真空容器20は、石英又はガラスからなる。前記真空容器20の中の真空度が10−4Torrである。
【0012】
前記支持装置10は、基体11と、第一絶縁層12と、第二絶縁層13と、第一電極16と、第二電極17と、第三電極18と、第四電極19と、を備える。前記基体11には、一つの溝部112が設けられ、前記溝部112の対向する両側に第一支持部114及び第二支持部115が形成されている。前記溝部112は、前記基体11の中心に位置する。前記第一絶縁層12は、前記第一支持部114の上に配置されている。前記第二絶縁層13は、前記第二支持部115の上に配置されている。前記第一絶縁層12及び第二絶縁層13は、例えばSiOのような電気/熱絶縁材料からなる。前記第一電極16及び第二電極17は間隔をおいて、前記第一絶縁層12の前記第一支持部114に接触する表面の反対面に配置されている。前記第三電極18及び第四電極19は間隔をおいて、前記第二絶縁層13の前記第二支持部115に接触する表面の反対面に配置されている。前記第一電極16、第二電極17、第三電極18及び第四電極19は、互いに平行し、且つモリブデン、プラチナ又はニッケルからなる。本実施例において、前記第一電極16、第二電極17、第三電極18及び第四電極19は、モリブデンからなる。
【0013】
前記第一電極16は、一つの電流計(図示せず)及び一つの電源(図示せず)を通じて前記第四電極19に直列的に接続されている。前記第二電極17は、一つの電圧計(図示せず)を通じて前記第三電極18に直列的に接続されている。
【0014】
前記測定目標200は、前記第一電極16、第二電極17、第三電極18及び第四電極19を横切るように、これらの電極に電気的に接続される。即ち、一次元の直線形の前記測定目標200の長軸に沿って対向する二つの端部に対して、一つの端部は前記第一電極16及び第二電極17に取り付けられ、もう一つの端部は前記第三電極18及び第四電極19に取り付けら、該二つの端部の一部は前記第二電極17及び第三電極18の間に懸架される。前記測定目標200は、前記第一電極16、第二電極17、第三電極18及び第四電極19に垂直的に配置されている。前記第一電極16及び第四電極19の間に生じた電流が、前記第一電極16によって前記測定目標200に流入し、前記第四電極19によって前記測定目標200から流出する。
【0015】
前記測定目標200の懸架される一部の、前記第二電極17及び第三電極18に接触した点を、それぞれ点L及び点Lとして定義し、該点L及び点Lの中間点を点Oとして定義することができる。
【0016】
前記測定目標200の熱伝導率ωを次の数式により計算することができる。
【0017】
【数2】

【0018】
ここで、Pは前記測定目標200の点Lから点Lまでの部分の、前記測定目標200の軸方向に沿って生じる熱(熱流量)、ΔLは点Lから点Lまでの距離(前記測定目標200の懸架される一部の長さ)、Sは前記測定目標200の横断面積、ΔTは中心点Oから点Lまでの温度差又は中心点Oから点Lまでの温度差である。
【0019】
前記測定目標200の熱伝導率ωは、前記熱伝導率測定装置1によって測定される。以下、例えば前記測定目標200が、一本の単層カーボンナノチューブ(SWCNT)である場合について、その熱伝導率ωを計算する時に必要な各々のパラメータ(P、ΔL、S及びΔT)の測定方法について説明する。
【0020】
前記ΔLは、前記支持装置10の第二電極17及び第三電極18の間の距離である。前記ΔLは、走査型電子顕微鏡を使用して測定することができる。本実施例において、前記ΔLは、30μmである。
【0021】
前記Sを得ることには、前記単層カーボンナノチューブの横断面が環形を有するので、該単層カーボンナノチューブの外半径R及びその壁の厚さbを測定することが必要である。該単層カーボンナノチューブ外半径Rは、原子間力顕微鏡(AFM)により測定することができる。本実施例において、該単層カーボンナノチューブ外半径Rは1.8nmである。該単層カーボンナノチューブの壁の厚さbは定数であり、0.34nmである。前記環形を有する単層カーボンナノチューブの横断面の面積を次の数式により計算することができる。
【0022】
S=π(2R−b)b=1.1084π(nm) (2)
【0023】
ここで、Rは前記単層カーボンナノチューブの外半径、bは前記単層カーボンナノチューブの壁の厚さ、πは円周率である。
【0024】
前記Pを得ることについて、前記測定目標200に生じる総熱量は、周囲空気からの熱量、赤外線熱、及び前記測定目標200に電流が流れて生じる熱の合計と等しい。本実施例において、前記測定目標200を、高真空度を有する前記真空容器20の中に位置させて測定するので、前記測定目標200及び周囲空気の間の熱対流が無視できる。前記赤外線熱は、総熱量に比べて非常に小さいので無視できる。従って、前記測定目標200に生じる総熱量は、前記測定目標200に電流が流れて生じる熱量と等しいと見なされる。
【0025】
total=P=UI (3)
【0026】
ここで、Uは前記測定目標200の点Lから点Lまでの一部の電圧、Iは前記測定目標200に流れた電流である。
【0027】
本実施例において、Pを計算することは次のステップを含んでいる。ステップ(A)では、前記支持装置10の第一電極16、第二電極17、第三電極18及び第四電極19を横切るように、測定目標200を配置させる。ステップ(B)では、前記測定目標200及び支持装置10を、真空容器20の中に置く。ステップ(C)では、前記第一電極16及び第四電極19を通じて、前記測定目標200に電流を流入させ、前記測定目標200自身の温度を上げる。ステップ(D)では、一つの電流計(図示せず)によって、前記測定目標200に流入された電流を測定するが、前記測定目標200としたSWCNTの電流Iは、0.298マイクロアンペアである。ステップ(E)では、一つの電圧計(図示せず)によって、前記測定目標200の点Lから点Lまでの範囲における一部の電圧を測定するが、前記電圧は1.175ボルトである。ステップ(F)では、前記数式P=UIによって、前記測定目標200の前記部分の、前記測定目標200の軸方向に沿って生じた熱出力Pを計算するが、Pは、3.5×10、7(W)である。
【0028】
前記ステップ(A)において、前記支持装置10の前記四つの電極を横切るように、前記測定目標200を配置させることは、前記支持装置10の第一電極16又は第四電極19の外側の側方に一つの成長基板を提供して、且つそれらを併せて一つの反応室に置くサブステップ(A1)と、触媒前駆体とした10−6〜10−5mol/Lの塩化第二鉄溶液を提供するサブステップ(A2)と、60−200cm/minの速度で、前記反応室の中にHを含む保護ガスを導入して、前記塩化第二鉄溶液を950℃に加熱するサブステップ(A3)と、前記反応室の内にカーボンを含むガスを導入して、前記支持装置10の四つの電極の上にSWCNTを成長させるサブステップ(A4)と、を含む。
【0029】
前記サブステップ(A2)では、前記塩化第二鉄溶液の濃度が低いので、単一のSWCNTが成長することができる。前記塩化第二鉄溶液の濃度が3×10−6mol/Lであることが好ましい。
【0030】
前記サブステップ(A3)では、保護ガスは窒素ガスまたは不活性ガスであり、アルゴンガスが好ましい。
【0031】
前記サブステップ(A4)では、前記カーボンを含むガスとしては例えば、アセチレン、エチレン、メタンなどの活性な炭化水素が選択され、エチレンを選択することが好ましい。前記支持装置10の四つの電極にそれぞれSWCNTを成長させる場合、前記カーボンを含むガスの気流方向を制御して、SWCNTを前記支持装置10の四つの電極に倒すように成長させることを実現できる。別個の支持体を利用しないので、気流の方向によって前記支持装置10の四つの電極に前記SWCNTを倒すことが容易である。
【0032】
前記ΔTは、前記測定目標200の中心点Oから点L1(L2)までの温度差であり、前記測定目標200のラマンスペクトルのGプライムバンドと温度の間の関係曲線の傾きK及び、前記測定目標200の中心点O及び点L1(L2)の、ラマンスペクトルのGプライムバンドの差によって、前記ΔTは、次の数式により計算することができる。
【0033】
ΔT=KΔG (4)
【0034】
本実施例において、前記測定目標200は、SWCNTである。前記SWCNTのラマンスペクトルのGプライムバンドと温度の間の関係曲線が直線であるので、前記Kは直線の傾きである。
【0035】
本実施例において、ΔTを計算することは次のステップを含んでいる。
【0036】
ステップ21では、異なる温度で、前記測定目標200の異なるラマンスペクトルのGプライムバンドを獲得する。即ち、前記測定目標200を配置した支持装置10を、温度調節装置によって、所定温度までに昇温させる。この場合、前記測定目標200の各々の点の温度が同じであるので、一つのラマン分光計を利用して、前記測定目標200のいずれか一つの点にラマンレーザーを照射させて、前記ラマン分光計によって、前記測定目標200の一つのラマンスペクトルのGプライムバンドを得ることができる。前記方法により、異なる温度で、前記測定目標200の異なるラマンスペクトルのGプライムバンドを得る。
【0037】
ステップ22では、前記ステップ21で得た異なるラマンスペクトルのGプライムバンド数値と温度の間の関係を表す曲線を描画する。前記曲線を描画する方法は、線形回帰、非線形回帰又はBスプライン基体関数などの数学方法を利用することができる。図2を参照すると、本実施例において、前記ステップ21から得た異なるラマンスペクトルのGプライムバンド数値と温度の間の関係を表す曲線は、図2に示す破線である。前記破線の傾きは、K=−0.0257cm−1/Kである。即ち、前記測定目標200のラマンスペクトルのGプライムバンド数値は、その温度と数式(4)の関係を有する。
【0038】
ステップ23では、前記支持装置10に配置された前記測定目標200を、温度調節装置によって昇温せず、前記支持装置10の第一電極16及び第四電極19を通じて、前記測定目標200に電流を流入させて昇温させて、一つの熱平衡に到達させる。熱平衡に達した前記測定目標200は、安定な温度分布を有する。この場合、前記測定目標200の中心点O及び点L1と点L2のいずれか一つの、ラマンスペクトルのGプライムバンド数値を測定して比較する。前記中心点OのラマンスペクトルのGプライムバンド数値をG1として定義し、点L1(又はL2)のラマンスペクトルのGプライムバンド数値をG2として定義することができる。一つのラマン分光計を利用して、それから放射されたラマンレーザーを、前記測定目標200の中心点Oに集中照射させる。これにより、前記ラマン分光計から図3に示す実線のような曲線図を提供する。該実線から、前記中心点OのラマンスペクトルのプライムバンドG1を読み取る。前記ラマン分光計の放射されたラマンレーザーを、前記測定目標200の点L1(又は点L2)に集中照射させる。これにより、前記ラマン分光計から図3に示す破線のような曲線図を提供する。該破線から、前記点L1(又は点L2)のラマンスペクトルのプライムバンドG2を読み取る。前記ラマンレーザーの波長は514.5nmであり、分解能力は1μmである。前記G1及びG2を得ることを3回以上行って、前記3回以上の測定結果の平均値を用いて、ΔGを得ることができる。本実施例において、ΔG=−10.1cm−1である。
【0039】
ステップ24では、ステップ22から得た前記測定目標200のラマンスペクトルのGプライムバンド数値が、その温度と数式(4)の関係を有することにより、前記測定目標200の中心点Oから点L1までの温度差又は中心点Oから点L2までの温度差を計算する。本実施例において、ΔT=KΔG=(10.1cm−1)(0.0257cm−1/K)=393Kである。
【0040】
本実施例において、前記SWCNTのP=UI=3.5×10−7W、L=30μm、S=π(2R−b)b=1.1084π及びΔT=393Kであるので、その熱伝導率ωは2400W/mKである。
【符号の説明】
【0041】
1 熱伝導率測定装置
10 支持装置
11 基体
12 第一絶縁層
13 第二絶縁層
16 第一電極
17 第二電極
18 第三電極
19 第四電極
20 真空容器
112 溝部
114 第一支持部
115 第二支持部
200 測定目標

【特許請求の範囲】
【請求項1】
真空環境に配置された支持装置を備える熱伝導率測定装置であって、
前記熱伝導率測定装置は、一次元の微小材料の熱伝導率を測定することに用いられ、
前記支持装置は、基体と、第一電極と、第二電極と、第三電極と、第四電極と、を含み、
前記基体は、一つの溝部と、前記溝部の両側に位置する第一支持部及び第二支持部を含む凹形構造を有し、
前記第一電極及び第二電極は、間隔をおいて前記基体の第一支持部に配置されていて、
前記第三電極及び第四電極は、間隔をおいて前記基体の第二支持部に配置されていて、
前記一次元の微小材料は、前記第一、第二、第三及び第四電極を横切って跨るように、前記四つの電極に電気的に接続されていることを特徴とする一次元の微小材料の熱伝導率測定装置。
【請求項2】
一次元の微小材料を提供して、その横断面積を測定する第一ステップと、
少なくとも四つの電極が間隔をおいて配置される支持装置を提供して、前記一次元の微小材料を、前記支持装置に前記四つの電極を横切って跨るように配置して、前記四つの電極の中間の二つの電極の間における前記一次元の微小材料の一部を懸架させる第二ステップと、
前記一次元の微小材料の懸架される一部の長さを測定する第三ステップと、
真空環境において、前記四つの電極の両端の二つの電極によって、前記一次元の微小材料に電流を流入して、前記一次元の微小材料を昇温させて一つの熱平衡に到達させた後に、前記一次元の微小材料の電流を測定し、前記一次元の微小材料の懸架される一部の電圧を測定して、数式P=UIによって、前記一次元の微小材料の懸架される一部の、その軸方向に沿って生じた熱出力Pを計算する第四ステップと、
前記一次元の微小材料の懸架される一部の中心点及びいずれか一つの端点の温差を測定して、数式
【数1】

によって、前記一次元の微小材料の熱伝導率を計算して得る第五ステップと、
含むことを特徴とする一次元の微小材料の熱伝導率の測定方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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