側鎖上に不斉炭素を有する複素環式化合物及びその製造方法
【課題】側鎖上に不斉炭素を有する複素環式化合物（アンチＳN２’化合物）を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）：
｛式中、Ｒ1及びＲ2は、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基；保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ、ＰＭＢ等であり、ｍは、１〜６の整数である）からなる群から選択され；及びＲ3は、置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択される｝で表されるアンチＳN２’化合物、並びに該化合物を製造する方法。
【解決手段】下記式（Ｉ）：
｛式中、Ｒ1及びＲ2は、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基；保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ、ＰＭＢ等であり、ｍは、１〜６の整数である）からなる群から選択され；及びＲ3は、置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択される｝で表されるアンチＳN２’化合物、並びに該化合物を製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、側鎖上に不斉炭素を有する新規な複素環式化合物（アンチＳN２’化合物）、及びそれらを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ｎ−アルキル側鎖を有する複素環式化合物（又はヘテロ環式化合物）とは異なり、側鎖上に不斉炭素を有する化合物を材料、医薬品、イオン液体の創製に使用する研究は遅れている。これまで、側鎖上に不斉炭素を有する化合物を効率よく製造する方法は知られていない。
【０００３】
第１級アルコールのスルホナート（水酸基（ＨＯ−）を脱離基（ＲＳＯ3−）に置換した化合物）と複素環式化合物由来のアニオンとの反応は効率的に反応し、ｎ−アルキル側鎖を有する複素環式化合物を与える。しかしながら、第２級アルコールのスルホナートと複素環式化合物由来のアニオンとの反応は、非常に遅いか又はほとんど進行しない。この場合、反応条件をさらに厳しくすると、脱離反応が進行してしまう。一方、アリル化反応を用いて、第２級アリルアルコール誘導体（多くの場合、エステル）に複素環式化合物由来のアニオンを反応させた例はない。
【０００４】
例えば、銅によって促進される第２級アリルアルコール誘導体のアリル置換は、不斉Ｃ−Ｃ結合を構築するための有用な方法である。しかしながら、アリル部分のα位及びγ位は反応性が高いため、位置（α位対γ位）選択及び立体選択を制御することは困難である。さらに、脱離基を得るために試薬の化学量論的な使用及び低コストが望まれる。これまで、良好ないし極めて優れたレベルでのこのような選択性は、例えば、Ｒ2Ｚｎ／ＣｕＣＮ・２ＬｉＣｌと共にＣ6Ｆ5ＣＯ2−、２，６−Ｆ2Ｃ6Ｈ3ＣＯ2−、及びｏ−（Ｐｈ）2Ｐ（＝Ｏ）Ｃ6Ｈ4ＣＯ2−（ｏ−ＤＰＰＢオキシド基）；Ｒ2Ｚｎ／ＣｕＣＮ・２ＬｉＣｌと共に（ＲＯ）2Ｐ（Ｏ）Ｏ−；Ｒ2Ｃｕ（ＣＮ）Ｌｉ２・ＢＦ3又はＲＣｕ（ＣＮ）Ｌｉ・ＢＦ3と共にγ−メシルオキシ−α，β−不飽和エステルのＭｓＯ；ＲＭｇＸ／ＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓと共にｏ−（Ｐｈ）2ＰＣ6Ｈ4ＣＯ2−（ｏ−ＤＰＰＢ基）（非特許文献１）のような脱離基／試薬系を用いて達成されている。これらの脱離基の中で、ｏ−ＤＰＰＢ基は、試薬の化学両論に関する要件を満たし、したがって、デオキシ型およびトコフェロールの立体選択的合成を簡潔に達成している。しかしながら、ｏ−ＤＰＰＢ基は非常に高価であり、他の脱離基は、概して、非常に多量の試薬を必要とするという欠点がある。
【０００５】
従来の反応系は、アルキル試薬（ｓｐ3−Ｃ試薬）用に開発されてきた。また、アリール及びアルケニル試薬（ｓｐ2−Ｃ試薬）に対する系の応用は、ある種のタイプの反応性のある又は立体的に偏った基質を除いては、成功していない。ｓｐ2−Ｃ試薬は、反応性が低い求核種であり、上手くいかない。最近、ラセミ体のアリルｏ−ＤＰＰＢエステルと、ＰｈＭｇＢｒ及びＣＨ2＝Ｃ（Ｍｅ）ＭｇＢｒ由来の試薬との反応において、位置選択性は改善されたものの、改善された条件によって及ぼされる範囲及び不斉転写率は全く特定されていない。
【０００６】
【非特許文献１】Ｄｅｍｅｌ，Ｐ．，ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２００６，１２，６６６９−６６８３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、側鎖上に不斉炭素を有する新規な複素環式化合物（アンチＳN２’化合物）、及びそれらを効率的に製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記事情に鑑み、本発明者らは、まず、グリニャール（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）試薬（本明細書中、単に「ＲＭｇＸ」と表示する場合がある。）及びＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓから調製した銅試薬と、光学活性な第２級アリルピコレートのアンチＳN２’選択的アリル反応を開発した（Ｋｉｙｏｔｓｕｋａ，Ｙ．，ｅｔ ａｌ．，Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００８，１０，１７１９−１７２２を参照されたい）。さらに、本発明者らは、複素環式化合物の直接的なリチオ化又はハロゲン・リチウム交換によって容易に調製できる複素環式化合物のアニオンに着目し、これらのアニオン及びＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓから調製した錯体と、第２級アリルピコレートとのアリル化反応を検討した。ＰｈＬｉ及びＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓから調製した試薬を用いて実験を行った結果、目的物とピコリン酸基が外れたアルコールとの混合物を生じたが、この反応系にＭｇＢｒ2をさらに添加することによって反応が首尾よく進行し、アンチＳN２’化合物を効率的（立体選択的、位置選択的、及び妥当な収率）に与えることができ、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明は、下記に関する。
［１］下記式（Ｉ）：
【化１】
〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基｛ここで、保護基は、ＴＢＳ（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基）、ＰＭＢ（４−メトキシベンジル基）、ＴＭＳ（トリメチルシリル基）、ＴＥＳ（トリエチルシリル基）、及びＴＢＤＰＳ（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基）からなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である｝からなる群から選択され；及び
Ｒ3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択される〕
で表されるアンチＳN２’化合物。
【００１０】
［２］Ｒ1及びＲ2が、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、及びＣ1-6アルキル基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ又はＰＭＢであり、ｍは、１〜３の整数である）からなる群から選択され；及び
Ｒ3が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基及びＣ6-10アリール基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又は５〜６員複素環式基からなる群から選択される、前記［１］に記載の化合物。
【００１１】
［３］前記化合物が、
（Ｒ，Ｅ）−２−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−４−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−２−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−４−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−２−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（フラン−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（チオフェン−２−イル）−３−ヘキセン；
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（ピリジン−２−イル）−３−ヘキセン；又は
（Ｒ，Ｅ）−１，３−ビベンジル−２−（１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニルヘキサ−３−エン−２−イル）−１Ｈ−イミダゾール−３−イウム・ブロミド
である、前記［１］又は［２］に記載の化合物。
【００１２】
［４］下記式（ＩＩ）：
【化２】
〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ、ＰＭＢ、ＴＭＳ、ＴＥＳ、及びＴＢＤＰＳからなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である）からなる群から選択される〕
で表される第２級アリルピコリネートを、
Ｒ3Ｍ （ＩＩＩ）
｛式中、
Ｒ3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択され；及び
Ｍは、Ｌｉ、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、又はＭｇＩである｝
及び一価の金属塩から調製される錯体と反応させて、
下記式（Ｉ）：
【化３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、上記で定義される通りである）
で表されるアンチＳN２’化合物を製造する方法。
【００１３】
［５］Ｒ1及びＲ2が、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、及びＣ1-6アルキル基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ又はＰＭＢであり、ｍは、１〜３の整数である）からなる群から選択される、前記［４］に記載の方法。
【００１４】
［６］Ｒ3が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基及びＣ6-10アリール基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又は５〜６員複素環式基からなる群から選択される、前記［４］又は［５］に記載の方法。
【００１５】
［７］Ｍが、Ｌｉ又はＭｇＢｒである、前記［４］〜［６］のいずれか１つに記載の方法。
【００１６】
［８］ＭがＬｉである場合、反応中にＭｇＢｒ2をさらに添加することを特徴とする、前記［７］に記載の方法。
【００１７】
［９］一価の金属塩の金属が、銅である、前記［４］〜［８］のいずれか１つに記載の方法。
【００１８】
［１０］一価の金属塩が、ＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＣＮ、及びＣｕＯＡｃからなる群から選択される、前記［９］に記載の方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の上記一般式（Ｉ）で表される側鎖上に不斉炭素を有する複素環式化合物（アンチＳＮ２’化合物）は、これまでｎ−アルキル側鎖を有する複素環式化合物を使用してきた材料、医薬品、イオン液体などの有用物質の物性・性質をさらに向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の用語の定義は以下の通りである。
本明細書中で使用するとき、「ハロゲン原子」とは、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、フッ素原子を意味する。好ましくは、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子である。
【００２１】
本明細書中で使用するとき、「Ｃ1-8アルキル基」とは、炭素数１〜８個の直鎖状又は分枝状のアルキル基を意味し、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基が挙げられる。好ましくは、メチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基である。
【００２２】
本明細書中で使用するとき、「Ｃ1-8アルキルオキシ基」とは、炭素数１〜８個の直鎖状又は分枝状のアルキルオキシ基を意味し、例えば、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、２−メチルブチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、１−エチルプロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、１−メチルペンチルオキシ基、３，３−ジメチルブチルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオキシ基、２−エチルブチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基が挙げられる。
【００２３】
本明細書中で使用するとき、「ハロＣ1-8アルキル基」とは、同一であるか又は異なっていてもよい１〜５個のハロゲン原子が前記Ｃ1-8アルキル基に結合した基を意味し、例えば、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、３−ブロモプロピル基、３−クロロプロピル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル基が挙げられる。
【００２４】
本明細書中で使用するとき、「ハロＣ1-8アルキルオキシ基」とは、同一であるか又は異なっていてもよい１〜５個のハロゲン原子が前記Ｃ1-8アルキルオキシ基に結合した基を意味し、例えば、トリフルオロメチルオキシ基、２−フルオロエチルオキシ基、２−クロロエチルオキシ基、２−ブロモエチルオキシ基、３−ブロモプロピルオキシ基、３−クロロプロピルオキシ基、４−フルオロブチルオキシ基、４−クロロブチルオキシ基が挙げられる。
【００２５】
本明細書で使用するとき、「Ｃ1-8アルキレン基」とは、炭素数１〜８個の直鎖状又は分枝状のアルキレン基を意味し、例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、１−メチルエチレン基、２−メチルエチレン基、ｎ−ブチレン基、１−メチルプロピレン基、３−メチルプロピレン基、１，１−ジメチルエチレン基、１，２−ジメチルエチレン基、１−エチルエチレン基、２−エチルエチレン基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチレン基、２−メチルブチレン基、３−メチルブチレン基、１，１−ジメチルプロピレン基、２，２−ジメチルプロピレン基、３，３−ジメチルプロピレン基、１，２−ジメチルプロピレン基、１，３−ジメチルプロピレン基、２，３−ジメチルプロピレン基、１−エチルプロピレン基、２−エチルプロピレン基、１，１−ジメチルブチレン基、２，４−ジメチルブチレン基、２−エチル−２−メチルプロピレン基、３−エチル−２−メチルプロピレン基、１，１−ジエチルエチレン基、２，２−ジエチルエチレン基が挙げられる。
【００２６】
本明細書中で使用するとき、「Ｃ6-10アリール基」とは、炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基を意味する。好ましくは、フェニル基、ナフチル基又はアズレニル基である。
【００２７】
本明細書中で使用するとき、「複素環式基」とは、環を構成する原子として炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び少なくとも１個以上の窒素原子から選ばれる１〜４個の複素原子を含む、場合により適切な置換基で置換されてもよい５〜７員の芳香族複素環、飽和複素環、不飽和複素環又はこれらの複素環とベンゼン環が縮合した縮合複素環を意味する。複素環式基の例には、限定されないが、ピロ−ル−１−イル基、ピリジン−２−イル基、ピペリジン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、１，２−ジヒドロピラジン−１−イル基、１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、フラン−２−イル基、チオフェン−２−イル基、ヘキサヒドロピリミジン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロフタラジン−２−イル基、１，４−ジヒドロシンノリン−１−イル基、２，３−ジヒドロシンノリン−２−イル基、インドール−１−イル基、ジヒドロイソインドール−２−イル基、イソインドール−２−イル基、イミダゾール−１−イル基、１−アルキル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル基、オキソピラゾール−１−イル基、チアゾール−３−イル基、オキサゾール−３−イル基、イソオキサゾール−３−イル基、ピロリジン−１−イル基、ベンゾイミダゾール−１−イル基、ベンゾチアゾール−３−イル基、ベンゾオキサゾール−３−イル基、１，２−ジヒドロキノリン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル基、１，２−ジヒドロイソキノリン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−２−イル基、チアジアゾール−３−イル基、チアジアゾール−５−イル基、モルホリン−４−イル基、１，２，３−トリアゾール−１−イル基、１，２，４−トリアゾール−１−イル基、テトラゾール−１−イル基、テトラゾール−２−イル基が挙げられる。好ましくは、１−アルキル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル基、フラン−２−イル基、チオフェン−２−イル基、ピリジン−２−イル基である。なお、上記「適切な置換基」には、限定されないが、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ、ＰＭＢ、ＴＭＳ、ＴＥＳ、及びＴＢＤＰＳからなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である）が含まれる。
【００２８】
本明細書中で使用するとき、「保護基」とは 、官能基の特性又は化合物の特性を全体として遮蔽又は変質する化合物の部分を意味する。保護／脱保護のための化学保護基および戦略は、当該技術分野において周知である。例えば、「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１）を参照されたい。本発明において使用することができる保護には、限定されないが、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、４−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基、ｔ-ブチルジフェニルシリル基等の三置換シリル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、１−（エトキシ）エチル基が含まれる。好ましくは、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、４−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）である。
【００２９】
本明細書中で使用するとき、「一価の金属塩」とは、金属の酸化状態が＋１である有機金属塩又は無機金属塩をいう。典型的な一価の金属塩には、限定されないが、臭化第一銅（ＣｕＢｒ）、塩化第一銅（ＣｕＣｌ）、ヨウ化第一銅（ＣｕＩ）、シアン化第一銅（ＣｕＣＮ）、酢酸第一銅（ＣｕＯＡｃ）などが含まれる。好ましくは、臭化第一銅、塩化第一銅、ヨウ化第一銅である。本発明の一態様では、一価の金属塩は、上記の金属塩にジメチルスルフィド（Ｍｅ2Ｓ）、Ｒ4ＳＲ5（ここで、Ｒ4及びＲ５は、アルキル基又はアリール基である）などが配位した錯体の形態であってもよい。このような錯体としては、ＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓが好ましい。
その他、ここに定義のない基及び用語については、通常の定義に従う。
【００３０】
本発明の一般式（Ｉ）で表される側鎖上に不斉炭素を有する複素環式化合物（アンチＳN２’化合物）は、一般式（ＩＩ）の第２級アリルピコリネートと、一般式（ＩＩＩ）のＲ3Ｍ及び一価の金属塩から調製される錯体とを反応させることによって、側鎖上に不斉炭素を有する複素環式化合物を製造することができる。
【００３１】
本発明の製造方法を容易に理解するために、下記の反応スキームを用いて説明する。この反応スキームにおいては、一価の金属塩としてＣｕＸ（Ｘはハロゲンである）を典型例として用いた場合の反応機構を示したものであり、本発明の製造方法を限定するものではない。
【００３２】
【化４】
【００３３】
溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル性溶媒）中のＲ3Ｍ（ＩＩＩ）（Ｒ3及びＭは、上記で定義した通りであり、典型的には、Ｒ3は、５〜６員の複素環式基、Ｍは、Ｌｉ又はＭｇＢｒであるが、これらに限定されない）に、一価の金属塩、例えば、臭化銅（ＣｕＢｒ）（又は臭化銅ジメチルスルフィド錯体）を添加して錯体を調製する。この錯体を調製する工程で、溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル性溶媒）中の臭化マグネシウムを添加してもよい。なお、前記錯体の調製では、特に限定されないが、−６０〜０℃で溶液を撹拌しながら反応させることが好ましい。全体の調製時間は、約１０〜６０分である。
【００３４】
次に、上記錯体溶液に、溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル性溶媒）中の第２級アリルピコリネートをゆっくり滴下し、好ましくは氷冷下で反応混合物を１０分〜１２時間撹拌させる。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させ、反応生成物を酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出することができる。さらに、必要に応じて、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等の当業者に周知である一般的な精製手法を用いて反応生成物を精製することができる。
【００３５】
上記製造方法に加えて、必要に応じて官能基変換を行うこともできる。このような変更を行うための一般に用いられる方法は、当業者であれば、例えば、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．を参考にして行うことができる。
【００３６】
また、一般式（Ｉ）で表されるアンチＳN２’化合物は、塩酸塩、硫酸塩等の鉱酸、及びマレイン酸塩等の有機酸塩に代表される任意の塩を形成することができ、これらの塩も本発明に含まれる。また、一般式（Ｉ）で表されるアンチＳN２’化合物は、水和物に代表される任意の溶媒和物を形成することができ、これらの溶媒和物も本発明に含まれる。
【００３７】
さらに、一般式（Ｉ）で表されるアンチＳN２’化合物が、複素環（Ｒ3基）近くの不斉炭素以外に不斉炭素を有する場合において、光学異性体や幾何異性体が存在する場合は、これらすべての異性体は本発明に含まれる。
【００３８】
本発明によれば、上述した通り、アンチＳN２’化合物を選択的に製造することができる。本発明の製造方法を用いて製造されるアンチＳN２’化合物は、キラルＨＰＬＣによって得られる生成物と基質の各々の光学異性体過剰率（％ｅｅ）の比、即ち、下記の式：
【００３９】
【化５】
【００４０】
によって計算される不斉転写率（Ｃｈｉｒａｌｉｔｙ Ｔｒａｎｓｆｅｒ：Ｃ／Ｔ（％））を用いて特徴付けることができる。本発明の製造方法によって製造されるアンチＳN２’化合物は、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上、さらにより好ましくは９５％以上、なおさらに好ましくは９９％の不斉転写率を有する。
【実施例】
【００４１】
次に、実施例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００４２】
アンチＳN２’反応用試薬として、下記のアンチＳN２’化合物を製造するために共通に用いられる臭化銅ジメチルスルフィド錯体及び臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液を下記のように予め製造した。
【００４３】
（１）臭化銅ジメチルスルフィド錯体
臭化銅（Ｉ）（和光純薬工業株式会社）（３．００ｇ，２０．６ｍｍｏｌ）にメチルスルフィド（東京化成工業株式会社）（３０ｍＬ）をゆっくり加えた。反応混合物を１時間加熱還流し、室温に冷却した後ヘキサン（３０ｍＬ）を加えた。生じた結晶を濾取し、ヘキサンで数回洗浄した。結晶を減圧乾燥し、臭化銅ジメチルスルフィド錯体（３．７４ｇ，１８．２ｍｍｏｌ）を白色結晶として得た。
【００４４】
（２）臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液
マグネシウム（削状）（ナカライテスク株式会社）（８０．７ｍｇ，３．３２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン懸濁液（５ｍＬ）にエチレンブロミド（東京化成工業株式会社）（０．３２０ｍＬ，３．７１ｍｍｏｌ）を数回に分けて滴下した。得られた混合物が透明溶液になるまで加熱還流した後、テトラヒドロフラン（１１．３ｍＬ）を加え、０．２０Ｍ臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（１６．６ｍＬ）を得た。
【００４５】
実施例１
（Ｒ，Ｅ）−２−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−３−ヘキセン（３）の製造
【００４６】
【化６】
【００４７】
氷冷下、１−ベンジルイミダゾール（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ）（３１．６ｍｇ，０．２００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．５ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ）（１．６Ｍ，０．１１０ｍＬ，０．１７６ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン２の赤色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．４０ｍＬ，０．２８０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１８．７ｍｇ，０．０９１０ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（３７．４ｍｇ，０．０９０９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、生成物３（３６．１ｍｇ，０．０８０８ｍｍｏｌ）を収率８９％で得た。
【００４８】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１２５６，１１０１，８３７ｃｍ-1；1Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−０．０６（ｓ，３Ｈ），−０．０２（ｓ，３Ｈ），０．８３（ｓ，９Ｈ），２．２７（ｄｔ，Ｊ＝７，８Ｈｚ，２Ｈ），２．６０（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），３．５２（ｄｄｄ，Ｊ＝８，８，８Ｈｚ，１Ｈ），３．８５（ｄｄ，Ｊ＝１０，８Ｈｚ，１Ｈ），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝１０，８Ｈｚ，１Ｈ），５．００（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），５．１２（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），５．３６（ｄｔ，Ｊ＝１６，７Ｈｚ，１Ｈ），５．６２（ｄｄ，Ｊ＝１６，８Ｈｚ，１Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，３Ｈ），７．０９−７．２０（ｍ，３Ｈ），７．２２−７．３４（ｍ，５Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．４（−），１８．３（＋），２５．９（−），３４．３（＋），３５．６（＋），４３．８（−），４９．２（＋），６６．５（＋），１１９．７（−），１２５．８（−），１２６．７（−），１２７．７（−），１２７．８（−），１２８．３（−），１２８．４（−），１２８．５（−），１２８．９（−），１３２．５（−），１３６．９（＋），１４１．９（＋），１４８．３（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ28Ｈ38Ｎ2ＯＳｉＮａ［（Ｍ＋Ｎａ）+］についての計算値４６９．２６５１，実測値４６９．２６４９．鏡像異性体の情報（９４％ｅｅ，＞９９％Ｃ／Ｔ）は、対応するアルコールのキラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＪ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９７／３，０．５ｍＬ／分，４０°Ｃオーブン；ｔR／分＝８５．３（Ｒ），１００．８（Ｓ）．
【００４９】
実施例２
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン（５）の製造
【００５０】
【化７】
【００５１】
氷冷下、Ｎ−メチルイミダゾール（東京化成工業株式会社）（０．０１７ｍＬ，０．２１３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．５ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１３０ｍＬ，０．２０８ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン４の黄色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．５０ｍＬ，０．３００ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（２０．６ｍｇ，０．１００ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（４１．２ｍｇ，０．１００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、生成物５（３０．１ｍｇ，０．０８１２ｍｍｏｌ）を収率８１％で得た。
【００５２】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１４９２，１４７１，１２５５，１１０２ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−０．０５（ｓ，３Ｈ），−０．０１（ｓ，３Ｈ），０．８４（ｓ，９Ｈ），２．３５（ｄｔ，Ｊ＝７，８Ｈｚ，２Ｈ），２．６８（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），３．５３（ｓ，３Ｈ），３．５８（ｄｄｄ，Ｊ＝８，８，７Ｈｚ，１Ｈ），３．８７（ｄｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ，１Ｈ），３．９３（ｄｄ，Ｊ＝１０，８Ｈｚ，１Ｈ），５．５１（ｄｔ，Ｊ＝１５，７Ｈｚ，１Ｈ），５．６８（ｄｄ，Ｊ＝１５，８Ｈｚ，１Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ），７．１２−７．２１（ｍ，３Ｈ），７．２２−７．３１（ｍ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．３６（−），１８．３（＋），２５．９（−），３２．６（−），３４．４（＋），３５．７（＋），４３．５（−），６６．７（＋），１２０．３（−），１２５．９（−），１２７．３（−），１２８．３（−），１２８．４（−），１２８．５（−），１３２．４（−），１４１．９（＋），１４８．２（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ22Ｈ35Ｎ2ＯＳｉ（Ｍ+）についての計算値３７０．２５１９，実測値３７１．２５１６．鏡像異性体の情報は（９５％ｅｅ，９８％Ｃ／Ｔ）、キラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＤ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９８／２，０．５ｍＬ／分，室温のオーブン；ｔR／分＝２８．１（Ｒ），４９．５（Ｓ）．
【００５３】
実施例３
（Ｓ，Ｅ）−４−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−２−ヘキセン（７）の製造
【００５４】
【化８】
【００５５】
氷冷下、１−ベンジルイミダゾール（３０．４ｍｇ，０．１９２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．７ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１１０ｍＬ，０．１７６ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン２の赤色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．３０ｍＬ，０．２６０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１７．９ｍｇ，０．０８７１ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート６（２８．４ｍｇ，０．０８７３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）で精製し、生成物７（２４．７ｍｇ，０．０６８０ｍｍｏｌ）を収率７８％で得た。
【００５６】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５１３，１２４８，１０９６，７３０ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．６８（ｂｒｓ，３Ｈ），３．４０−４．１４（ｍ，３Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），４．４５（ｂｒｓ，２Ｈ），５．１２（ｂｒｓ，２Ｈ），５．３０−５．５４（ｂｒｓ，１Ｈ），５．５８−６．００（ｍ，１Ｈ），６．７４−６．９０（ｍ，２Ｈ），６．９２−７．０８（ｍ，２Ｈ），７．０９−７．４２（ｍ，７Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１７．７（−），５５．２（−），７２．７（＋），１１３．６（−），１２６．９（−），１２７．８（−），１２８．４（−），１２８．７（−），１２９．２（−），１３０．５（＋），１３６．３（＋），１５９．０（＋）．鏡像異性体の情報（９４％ｅｅ，９６％Ｃ／Ｔ）は、キラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＡＳ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９７／３，０．３ｍＬ／分，４０°Ｃのオーブン；ｔR／分＝３８．０（Ｒ），４０．４（Ｓ）．
【００５７】
実施例４
（Ｓ，Ｅ）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−４−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−２−ヘキセン（８）の製造
【００５８】
【化９】
【００５９】
氷冷下、Ｎ−メチルイミダゾール（０．０１８ｍＬ，０．２２６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．５ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１３０ｍＬ，０．２０８ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン４の黄色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．５０ｍＬ，０．３００ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（２０．７ｍｇ，０．１０１ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート６（３２．８ｍｇ，０．１０１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製し、生成物５（２４．８ｍｇ，０．０８６６ｍｍｏｌ）を収率８６％で得た。
【００６０】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５１２，１２４８，１０９７，１０３５ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．６８（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，３Ｈ），３．５４（ｓ，３Ｈ），３．６８（ｄｄｄ，Ｊ＝８，７，７Ｈｚ，１Ｈ），３．７３−３．９０（ｍ，２Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），４．４０（ｓ，２Ｈ），５．４６（ｄｑ，Ｊ＝１５，６Ｈｚ，１Ｈ），５．６３（ｄｄ，Ｊ＝１５，８Ｈｚ，１Ｈ），６．７７（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ），６．９７（ｂｒｓ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１８．０（−），３２．６（−），４１．３（−），５５．３（−），７２．７（＋），７３．０（＋），１０９．１（＋），１１３．８（−），１２０．５（−），１２７．２（−），１２７．９（−），１２８．７（−），１２９．３（−），１３０．５（＋），１５９．２（＋）．鏡像異性体の情報（９３％ｅｅ，９５％Ｃ／Ｔ）は、キラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＤ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９０／１０，０．５ｍＬ／分，室温でのオーブン；ｔR／分＝２２．９（Ｒ），２６．９（Ｓ）．
【００６１】
実施例５
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（フラン−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン（１０）
【００６２】
【化１０】
【００６３】
氷冷下、フラン（東京化成工業株式会社）（０．０１５ｍＬ，０．２０６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．６ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１２０ｍＬ，０．１９２ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン９の透明溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．４０ｍＬ，０．２８０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１９．２ｍｇ，０．０９３４ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（３８．４ｍｇ，０．０９３３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、ヘキサンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製し、生成物１０（２８．５ｍｇ，０．０８００ｍｍｏｌ）を収率８６％で得た。
【００６４】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１４７１，１２５５，１１０５，８３７ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ０．０１（ｓ，６Ｈ），０．８８（ｓ，９Ｈ），２．３２−２．４４（ｍ，２Ｈ），２．７０（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），３．４４（ｄｄｄ，Ｊ＝７，７，７Ｈｚ，１Ｈ），３．７５（ｄｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ，１Ｈ），３．８６（ｄｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ，１Ｈ），５．５３−５．６８（ｍ，２Ｈ），６．０３（ｄｄ，Ｊ＝３，１Ｈｚ，１Ｈ），６．３１（ｄｄ，Ｊ＝３，２Ｈｚ，１Ｈ），７．１７−７．２３（ｍ，３Ｈ），７．２６−７．３３（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄｄ，Ｊ＝２，１Ｈｚ，１Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．３９（−），−５．３６（−），１８．４（＋），２５．９（−），３４．６（＋），３５．８（＋），４５．５（−），６５．５（＋），１０５．８（−），１１０．１（−），１２５．８（−），１２８．３（−），１２８．４（−），１２８．５（−），１３２．３（−），１４１．１（−），１４２．０（＋），１５５．７（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ22Ｈ32Ｏ2ＳｉＮａ［（Ｍ＋Ｎａ）+］についての計算値３７９．２０６９，実測値３７９．２０７１．鏡像異性体の情報（９４％ｅｅ，９９％Ｃ／Ｔ）は、対応するアルコールのキラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＢ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９８／２，０．２ｍＬ／分，４０°Ｃでのオーブン；ｔR／分＝９３．５（Ｓ），１１０．０（Ｒ）．
【００６５】
実施例６
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（チオフェン−２−イル）−３−ヘキセン（１２）の製造
【００６６】
【化１１】
【００６７】
氷冷下、チオフェン（東京化成工業株式会社）（０．０１６ｍＬ，０．２００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．６ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１２０ｍＬ，０．１９２ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン１１の透明溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．４０ｍＬ，０．２８０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１８．９ｍｇ，０．０９１９ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（３７．８ｍｇ，０．０９１８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、ヘキサンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製し、生成物１２（２８．５ｍｇ，０．０７６６ｍｍｏｌ）を収率８３％で得た。
【００６８】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１２５５，１１０７，８３７ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ０．０６（ｓ，６Ｈ），０．９３（ｓ，９Ｈ），２．３７−２．４８（ｍ，２Ｈ），２．７５（ｄｄ，Ｊ＝９，７Ｈｚ，２Ｈ），３．７０−３．８６（ｍ，３Ｈ），５．６０−５．７４（ｍ，２Ｈ），６．８５（ｄｔ，Ｊ＝４，１Ｈｚ，１Ｈ），６．９９（ｄｄ，Ｊ＝５，４Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｄｄ，Ｊ＝５，１Ｈｚ，１Ｈ），７．２２−７．２７（ｍ，３Ｈ），７．２９−７．３７（ｍ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．３（−），１８．４（＋），２６．０（−），３４．５（＋），３５．９（＋），４６．８（−），６７．８（＋），１２３．５（−），１２４．１（−），１２５．９（−），１２６．４（−），１２８．４（−），１２８．６（−），１３０．８（−），１３１．９（−），１４２．０（＋），１４５．７（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ22Ｈ32ＯＳＳｉＮａ［（Ｍ＋Ｎａ）+］についての計算値３９５．１８４１，実測値３９５．１８４２．鏡像異性体の情報（９６％ｅｅ，９８％Ｃ／Ｔ）は、対応するアルコールのキラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＢ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９７／３，０．３ｍＬ／分，室温でのオーブン；ｔR／分＝６２．１（Ｒ），６４．９（Ｓ）．
【００６９】
実施例７
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（ピリジン−２−イル）−３−ヘキセン（１５）の製造
【００７０】
【化１２】
【００７１】
−７８℃に冷却した２−ブロモピリジン（和光純薬工業株式会社）（０．０１６ｍＬ，０．２００ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１ｍＬ）にｔ−ブチルリチウムのペンタン溶液（関東化学株式会社）（１．５７Ｍ，０．２４０ｍＬ，０．３７８ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン１４の赤色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，２．４０ｍＬ，０．４８０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１９．５ｍｇ，０．０９４９ｍｍｏｌ）を加えた。生じた橙色溶液を氷冷下３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（３９．０ｍｇ，０．０９４７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和アンモニア水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、生成物１５（２９．８ｍｇ，０．０８１１ｍｍｏｌ）を収率８６％で得た。
【００７２】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５９０，１２５５，１０９７，８３７ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−０．１１（ｓ，３Ｈ），−０．０８（ｓ，３Ｈ），０．７９（ｓ，９Ｈ），２．３５（ｄｔ，Ｊ＝７，８Ｈｚ，２Ｈ），２．６８（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），３．６０（ｄｄｄ，Ｊ＝８，８，７Ｈｚ，１Ｈ），３．８４（ｄｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ，１Ｈ），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝１０，８Ｈｚ，１Ｈ），５．６１（ｄｔ，Ｊ＝１６，７Ｈｚ，１Ｈ），５．７５（ｄｄ，Ｊ＝１６，８Ｈｚ，１Ｈ），７．０６−７．３０（ｍ，７Ｈ），７．５７（ｄｄｄ，Ｊ＝８，８，２Ｈｚ，１Ｈ），８．５５（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．４５（−），−５．４０（−），１８．３（＋），２５．９（−），３４．７（＋），３５．９（＋），５３．９（−），６６．９（＋），１２１．４（−），１２３．７（−），１２５．８（−），１２８．３（−），１２８．５（−），１３０．０（−），１３２．１（−），１３６．１（−），１４２．１（＋），１４９．３（−），１６２．２（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ23Ｈ33ＮＯＳｉＮａ［（Ｍ＋Ｎａ）+］についての計算値３９０．２２２９，実測値３９０．２２３１．鏡像異性体の情報（９８％ｅｅ，＞９９％Ｃ／Ｔ）は、キラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＡＤ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９９／１，０．１ｍＬ／分，室温でのオーブン；ｔR／分＝５２．１（Ｒ），６０．９（Ｓ）．
【００７３】
実施例８
（Ｒ，Ｅ）−１，３−ビベンジル−２−（１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニルヘキサ−３−エン−２−イル）−１Ｈ−イミダゾール−３−イウム・ブロミド（１３）の製造
【００７４】
【化１３】
【００７５】
イミダゾール３（６．４ｍｇ，０．０１４３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（０．５ｍＬ）にベンジルブロミド（東京化成工業株式会社）（０．００４ｍＬ，０．０３４ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で２４時間撹拌した後濃縮した。残渣をエーテルで洗浄し、乾燥させ、生成物１３（４．５ｍｇ，０．００７２８ｍｍｏｌ）を収率５１％で得た。
【００７６】
1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−０．０７（ｓ，３Ｈ），−０．０４（ｓ，３Ｈ），０．８１（ｓ，９Ｈ），２．２６（ｄｔ，Ｊ＝８，７Ｈｚ，２Ｈ），２．５５（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），３．７６（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），４．４０（ｄｔ，Ｊ＝６，７Ｈｚ，１Ｈ），５．３５−５．４７（ｍ，１Ｈ），５．４５−５．６０（ｍ，１Ｈ），５．４８（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），５．５８（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），７．１２−７．２９（ｍ，７Ｈ），７．３４−７．４４（ｍ，６Ｈ），７．７０（ｓ，２Ｈ）．
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明は、複素環近くに不斉炭素のある側鎖を有する複素環式化合物を材料、医薬品、イオン液体などの有用物質の創製に応用することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、側鎖上に不斉炭素を有する新規な複素環式化合物（アンチＳN２’化合物）、及びそれらを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ｎ−アルキル側鎖を有する複素環式化合物（又はヘテロ環式化合物）とは異なり、側鎖上に不斉炭素を有する化合物を材料、医薬品、イオン液体の創製に使用する研究は遅れている。これまで、側鎖上に不斉炭素を有する化合物を効率よく製造する方法は知られていない。
【０００３】
第１級アルコールのスルホナート（水酸基（ＨＯ−）を脱離基（ＲＳＯ3−）に置換した化合物）と複素環式化合物由来のアニオンとの反応は効率的に反応し、ｎ−アルキル側鎖を有する複素環式化合物を与える。しかしながら、第２級アルコールのスルホナートと複素環式化合物由来のアニオンとの反応は、非常に遅いか又はほとんど進行しない。この場合、反応条件をさらに厳しくすると、脱離反応が進行してしまう。一方、アリル化反応を用いて、第２級アリルアルコール誘導体（多くの場合、エステル）に複素環式化合物由来のアニオンを反応させた例はない。
【０００４】
例えば、銅によって促進される第２級アリルアルコール誘導体のアリル置換は、不斉Ｃ−Ｃ結合を構築するための有用な方法である。しかしながら、アリル部分のα位及びγ位は反応性が高いため、位置（α位対γ位）選択及び立体選択を制御することは困難である。さらに、脱離基を得るために試薬の化学量論的な使用及び低コストが望まれる。これまで、良好ないし極めて優れたレベルでのこのような選択性は、例えば、Ｒ2Ｚｎ／ＣｕＣＮ・２ＬｉＣｌと共にＣ6Ｆ5ＣＯ2−、２，６−Ｆ2Ｃ6Ｈ3ＣＯ2−、及びｏ−（Ｐｈ）2Ｐ（＝Ｏ）Ｃ6Ｈ4ＣＯ2−（ｏ−ＤＰＰＢオキシド基）；Ｒ2Ｚｎ／ＣｕＣＮ・２ＬｉＣｌと共に（ＲＯ）2Ｐ（Ｏ）Ｏ−；Ｒ2Ｃｕ（ＣＮ）Ｌｉ２・ＢＦ3又はＲＣｕ（ＣＮ）Ｌｉ・ＢＦ3と共にγ−メシルオキシ−α，β−不飽和エステルのＭｓＯ；ＲＭｇＸ／ＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓと共にｏ−（Ｐｈ）2ＰＣ6Ｈ4ＣＯ2−（ｏ−ＤＰＰＢ基）（非特許文献１）のような脱離基／試薬系を用いて達成されている。これらの脱離基の中で、ｏ−ＤＰＰＢ基は、試薬の化学両論に関する要件を満たし、したがって、デオキシ型およびトコフェロールの立体選択的合成を簡潔に達成している。しかしながら、ｏ−ＤＰＰＢ基は非常に高価であり、他の脱離基は、概して、非常に多量の試薬を必要とするという欠点がある。
【０００５】
従来の反応系は、アルキル試薬（ｓｐ3−Ｃ試薬）用に開発されてきた。また、アリール及びアルケニル試薬（ｓｐ2−Ｃ試薬）に対する系の応用は、ある種のタイプの反応性のある又は立体的に偏った基質を除いては、成功していない。ｓｐ2−Ｃ試薬は、反応性が低い求核種であり、上手くいかない。最近、ラセミ体のアリルｏ−ＤＰＰＢエステルと、ＰｈＭｇＢｒ及びＣＨ2＝Ｃ（Ｍｅ）ＭｇＢｒ由来の試薬との反応において、位置選択性は改善されたものの、改善された条件によって及ぼされる範囲及び不斉転写率は全く特定されていない。
【０００６】
【非特許文献１】Ｄｅｍｅｌ，Ｐ．，ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２００６，１２，６６６９−６６８３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、側鎖上に不斉炭素を有する新規な複素環式化合物（アンチＳN２’化合物）、及びそれらを効率的に製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記事情に鑑み、本発明者らは、まず、グリニャール（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）試薬（本明細書中、単に「ＲＭｇＸ」と表示する場合がある。）及びＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓから調製した銅試薬と、光学活性な第２級アリルピコレートのアンチＳN２’選択的アリル反応を開発した（Ｋｉｙｏｔｓｕｋａ，Ｙ．，ｅｔ ａｌ．，Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００８，１０，１７１９−１７２２を参照されたい）。さらに、本発明者らは、複素環式化合物の直接的なリチオ化又はハロゲン・リチウム交換によって容易に調製できる複素環式化合物のアニオンに着目し、これらのアニオン及びＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓから調製した錯体と、第２級アリルピコレートとのアリル化反応を検討した。ＰｈＬｉ及びＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓから調製した試薬を用いて実験を行った結果、目的物とピコリン酸基が外れたアルコールとの混合物を生じたが、この反応系にＭｇＢｒ2をさらに添加することによって反応が首尾よく進行し、アンチＳN２’化合物を効率的（立体選択的、位置選択的、及び妥当な収率）に与えることができ、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明は、下記に関する。
［１］下記式（Ｉ）：
【化１】
〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基｛ここで、保護基は、ＴＢＳ（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基）、ＰＭＢ（４−メトキシベンジル基）、ＴＭＳ（トリメチルシリル基）、ＴＥＳ（トリエチルシリル基）、及びＴＢＤＰＳ（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基）からなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である｝からなる群から選択され；及び
Ｒ3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択される〕
で表されるアンチＳN２’化合物。
【００１０】
［２］Ｒ1及びＲ2が、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、及びＣ1-6アルキル基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ又はＰＭＢであり、ｍは、１〜３の整数である）からなる群から選択され；及び
Ｒ3が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基及びＣ6-10アリール基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又は５〜６員複素環式基からなる群から選択される、前記［１］に記載の化合物。
【００１１】
［３］前記化合物が、
（Ｒ，Ｅ）−２−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−４−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−２−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−４−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−２−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（フラン−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（チオフェン−２−イル）−３−ヘキセン；
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（ピリジン−２−イル）−３−ヘキセン；又は
（Ｒ，Ｅ）−１，３−ビベンジル−２−（１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニルヘキサ−３−エン−２−イル）−１Ｈ−イミダゾール−３−イウム・ブロミド
である、前記［１］又は［２］に記載の化合物。
【００１２】
［４］下記式（ＩＩ）：
【化２】
〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ、ＰＭＢ、ＴＭＳ、ＴＥＳ、及びＴＢＤＰＳからなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である）からなる群から選択される〕
で表される第２級アリルピコリネートを、
Ｒ3Ｍ （ＩＩＩ）
｛式中、
Ｒ3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択され；及び
Ｍは、Ｌｉ、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、又はＭｇＩである｝
及び一価の金属塩から調製される錯体と反応させて、
下記式（Ｉ）：
【化３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、上記で定義される通りである）
で表されるアンチＳN２’化合物を製造する方法。
【００１３】
［５］Ｒ1及びＲ2が、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、及びＣ1-6アルキル基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ又はＰＭＢであり、ｍは、１〜３の整数である）からなる群から選択される、前記［４］に記載の方法。
【００１４】
［６］Ｒ3が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基及びＣ6-10アリール基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又は５〜６員複素環式基からなる群から選択される、前記［４］又は［５］に記載の方法。
【００１５】
［７］Ｍが、Ｌｉ又はＭｇＢｒである、前記［４］〜［６］のいずれか１つに記載の方法。
【００１６】
［８］ＭがＬｉである場合、反応中にＭｇＢｒ2をさらに添加することを特徴とする、前記［７］に記載の方法。
【００１７】
［９］一価の金属塩の金属が、銅である、前記［４］〜［８］のいずれか１つに記載の方法。
【００１８】
［１０］一価の金属塩が、ＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＣＮ、及びＣｕＯＡｃからなる群から選択される、前記［９］に記載の方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の上記一般式（Ｉ）で表される側鎖上に不斉炭素を有する複素環式化合物（アンチＳＮ２’化合物）は、これまでｎ−アルキル側鎖を有する複素環式化合物を使用してきた材料、医薬品、イオン液体などの有用物質の物性・性質をさらに向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の用語の定義は以下の通りである。
本明細書中で使用するとき、「ハロゲン原子」とは、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、フッ素原子を意味する。好ましくは、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子である。
【００２１】
本明細書中で使用するとき、「Ｃ1-8アルキル基」とは、炭素数１〜８個の直鎖状又は分枝状のアルキル基を意味し、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基が挙げられる。好ましくは、メチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基である。
【００２２】
本明細書中で使用するとき、「Ｃ1-8アルキルオキシ基」とは、炭素数１〜８個の直鎖状又は分枝状のアルキルオキシ基を意味し、例えば、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、２−メチルブチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、１−エチルプロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、１−メチルペンチルオキシ基、３，３−ジメチルブチルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオキシ基、２−エチルブチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基が挙げられる。
【００２３】
本明細書中で使用するとき、「ハロＣ1-8アルキル基」とは、同一であるか又は異なっていてもよい１〜５個のハロゲン原子が前記Ｃ1-8アルキル基に結合した基を意味し、例えば、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、３−ブロモプロピル基、３−クロロプロピル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル基が挙げられる。
【００２４】
本明細書中で使用するとき、「ハロＣ1-8アルキルオキシ基」とは、同一であるか又は異なっていてもよい１〜５個のハロゲン原子が前記Ｃ1-8アルキルオキシ基に結合した基を意味し、例えば、トリフルオロメチルオキシ基、２−フルオロエチルオキシ基、２−クロロエチルオキシ基、２−ブロモエチルオキシ基、３−ブロモプロピルオキシ基、３−クロロプロピルオキシ基、４−フルオロブチルオキシ基、４−クロロブチルオキシ基が挙げられる。
【００２５】
本明細書で使用するとき、「Ｃ1-8アルキレン基」とは、炭素数１〜８個の直鎖状又は分枝状のアルキレン基を意味し、例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、１−メチルエチレン基、２−メチルエチレン基、ｎ−ブチレン基、１−メチルプロピレン基、３−メチルプロピレン基、１，１−ジメチルエチレン基、１，２−ジメチルエチレン基、１−エチルエチレン基、２−エチルエチレン基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチレン基、２−メチルブチレン基、３−メチルブチレン基、１，１−ジメチルプロピレン基、２，２−ジメチルプロピレン基、３，３−ジメチルプロピレン基、１，２−ジメチルプロピレン基、１，３−ジメチルプロピレン基、２，３−ジメチルプロピレン基、１−エチルプロピレン基、２−エチルプロピレン基、１，１−ジメチルブチレン基、２，４−ジメチルブチレン基、２−エチル−２−メチルプロピレン基、３−エチル−２−メチルプロピレン基、１，１−ジエチルエチレン基、２，２−ジエチルエチレン基が挙げられる。
【００２６】
本明細書中で使用するとき、「Ｃ6-10アリール基」とは、炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基を意味する。好ましくは、フェニル基、ナフチル基又はアズレニル基である。
【００２７】
本明細書中で使用するとき、「複素環式基」とは、環を構成する原子として炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び少なくとも１個以上の窒素原子から選ばれる１〜４個の複素原子を含む、場合により適切な置換基で置換されてもよい５〜７員の芳香族複素環、飽和複素環、不飽和複素環又はこれらの複素環とベンゼン環が縮合した縮合複素環を意味する。複素環式基の例には、限定されないが、ピロ−ル−１−イル基、ピリジン−２−イル基、ピペリジン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、１，２−ジヒドロピラジン−１−イル基、１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、フラン−２−イル基、チオフェン−２−イル基、ヘキサヒドロピリミジン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロフタラジン−２−イル基、１，４−ジヒドロシンノリン−１−イル基、２，３−ジヒドロシンノリン−２−イル基、インドール−１−イル基、ジヒドロイソインドール−２−イル基、イソインドール−２−イル基、イミダゾール−１−イル基、１−アルキル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル基、オキソピラゾール−１−イル基、チアゾール−３−イル基、オキサゾール−３−イル基、イソオキサゾール−３−イル基、ピロリジン−１−イル基、ベンゾイミダゾール−１−イル基、ベンゾチアゾール−３−イル基、ベンゾオキサゾール−３−イル基、１，２−ジヒドロキノリン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル基、１，２−ジヒドロイソキノリン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−２−イル基、チアジアゾール−３−イル基、チアジアゾール−５−イル基、モルホリン−４−イル基、１，２，３−トリアゾール−１−イル基、１，２，４−トリアゾール−１−イル基、テトラゾール−１−イル基、テトラゾール−２−イル基が挙げられる。好ましくは、１−アルキル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル基、フラン−２−イル基、チオフェン−２−イル基、ピリジン−２−イル基である。なお、上記「適切な置換基」には、限定されないが、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ、ＰＭＢ、ＴＭＳ、ＴＥＳ、及びＴＢＤＰＳからなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である）が含まれる。
【００２８】
本明細書中で使用するとき、「保護基」とは 、官能基の特性又は化合物の特性を全体として遮蔽又は変質する化合物の部分を意味する。保護／脱保護のための化学保護基および戦略は、当該技術分野において周知である。例えば、「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１）を参照されたい。本発明において使用することができる保護には、限定されないが、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、４−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基、ｔ-ブチルジフェニルシリル基等の三置換シリル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、１−（エトキシ）エチル基が含まれる。好ましくは、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、４−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）である。
【００２９】
本明細書中で使用するとき、「一価の金属塩」とは、金属の酸化状態が＋１である有機金属塩又は無機金属塩をいう。典型的な一価の金属塩には、限定されないが、臭化第一銅（ＣｕＢｒ）、塩化第一銅（ＣｕＣｌ）、ヨウ化第一銅（ＣｕＩ）、シアン化第一銅（ＣｕＣＮ）、酢酸第一銅（ＣｕＯＡｃ）などが含まれる。好ましくは、臭化第一銅、塩化第一銅、ヨウ化第一銅である。本発明の一態様では、一価の金属塩は、上記の金属塩にジメチルスルフィド（Ｍｅ2Ｓ）、Ｒ4ＳＲ5（ここで、Ｒ4及びＲ５は、アルキル基又はアリール基である）などが配位した錯体の形態であってもよい。このような錯体としては、ＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓが好ましい。
その他、ここに定義のない基及び用語については、通常の定義に従う。
【００３０】
本発明の一般式（Ｉ）で表される側鎖上に不斉炭素を有する複素環式化合物（アンチＳN２’化合物）は、一般式（ＩＩ）の第２級アリルピコリネートと、一般式（ＩＩＩ）のＲ3Ｍ及び一価の金属塩から調製される錯体とを反応させることによって、側鎖上に不斉炭素を有する複素環式化合物を製造することができる。
【００３１】
本発明の製造方法を容易に理解するために、下記の反応スキームを用いて説明する。この反応スキームにおいては、一価の金属塩としてＣｕＸ（Ｘはハロゲンである）を典型例として用いた場合の反応機構を示したものであり、本発明の製造方法を限定するものではない。
【００３２】
【化４】
【００３３】
溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル性溶媒）中のＲ3Ｍ（ＩＩＩ）（Ｒ3及びＭは、上記で定義した通りであり、典型的には、Ｒ3は、５〜６員の複素環式基、Ｍは、Ｌｉ又はＭｇＢｒであるが、これらに限定されない）に、一価の金属塩、例えば、臭化銅（ＣｕＢｒ）（又は臭化銅ジメチルスルフィド錯体）を添加して錯体を調製する。この錯体を調製する工程で、溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル性溶媒）中の臭化マグネシウムを添加してもよい。なお、前記錯体の調製では、特に限定されないが、−６０〜０℃で溶液を撹拌しながら反応させることが好ましい。全体の調製時間は、約１０〜６０分である。
【００３４】
次に、上記錯体溶液に、溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル性溶媒）中の第２級アリルピコリネートをゆっくり滴下し、好ましくは氷冷下で反応混合物を１０分〜１２時間撹拌させる。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させ、反応生成物を酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出することができる。さらに、必要に応じて、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等の当業者に周知である一般的な精製手法を用いて反応生成物を精製することができる。
【００３５】
上記製造方法に加えて、必要に応じて官能基変換を行うこともできる。このような変更を行うための一般に用いられる方法は、当業者であれば、例えば、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．を参考にして行うことができる。
【００３６】
また、一般式（Ｉ）で表されるアンチＳN２’化合物は、塩酸塩、硫酸塩等の鉱酸、及びマレイン酸塩等の有機酸塩に代表される任意の塩を形成することができ、これらの塩も本発明に含まれる。また、一般式（Ｉ）で表されるアンチＳN２’化合物は、水和物に代表される任意の溶媒和物を形成することができ、これらの溶媒和物も本発明に含まれる。
【００３７】
さらに、一般式（Ｉ）で表されるアンチＳN２’化合物が、複素環（Ｒ3基）近くの不斉炭素以外に不斉炭素を有する場合において、光学異性体や幾何異性体が存在する場合は、これらすべての異性体は本発明に含まれる。
【００３８】
本発明によれば、上述した通り、アンチＳN２’化合物を選択的に製造することができる。本発明の製造方法を用いて製造されるアンチＳN２’化合物は、キラルＨＰＬＣによって得られる生成物と基質の各々の光学異性体過剰率（％ｅｅ）の比、即ち、下記の式：
【００３９】
【化５】
【００４０】
によって計算される不斉転写率（Ｃｈｉｒａｌｉｔｙ Ｔｒａｎｓｆｅｒ：Ｃ／Ｔ（％））を用いて特徴付けることができる。本発明の製造方法によって製造されるアンチＳN２’化合物は、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上、さらにより好ましくは９５％以上、なおさらに好ましくは９９％の不斉転写率を有する。
【実施例】
【００４１】
次に、実施例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００４２】
アンチＳN２’反応用試薬として、下記のアンチＳN２’化合物を製造するために共通に用いられる臭化銅ジメチルスルフィド錯体及び臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液を下記のように予め製造した。
【００４３】
（１）臭化銅ジメチルスルフィド錯体
臭化銅（Ｉ）（和光純薬工業株式会社）（３．００ｇ，２０．６ｍｍｏｌ）にメチルスルフィド（東京化成工業株式会社）（３０ｍＬ）をゆっくり加えた。反応混合物を１時間加熱還流し、室温に冷却した後ヘキサン（３０ｍＬ）を加えた。生じた結晶を濾取し、ヘキサンで数回洗浄した。結晶を減圧乾燥し、臭化銅ジメチルスルフィド錯体（３．７４ｇ，１８．２ｍｍｏｌ）を白色結晶として得た。
【００４４】
（２）臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液
マグネシウム（削状）（ナカライテスク株式会社）（８０．７ｍｇ，３．３２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン懸濁液（５ｍＬ）にエチレンブロミド（東京化成工業株式会社）（０．３２０ｍＬ，３．７１ｍｍｏｌ）を数回に分けて滴下した。得られた混合物が透明溶液になるまで加熱還流した後、テトラヒドロフラン（１１．３ｍＬ）を加え、０．２０Ｍ臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（１６．６ｍＬ）を得た。
【００４５】
実施例１
（Ｒ，Ｅ）−２−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−３−ヘキセン（３）の製造
【００４６】
【化６】
【００４７】
氷冷下、１−ベンジルイミダゾール（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ）（３１．６ｍｇ，０．２００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．５ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ）（１．６Ｍ，０．１１０ｍＬ，０．１７６ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン２の赤色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．４０ｍＬ，０．２８０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１８．７ｍｇ，０．０９１０ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（３７．４ｍｇ，０．０９０９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、生成物３（３６．１ｍｇ，０．０８０８ｍｍｏｌ）を収率８９％で得た。
【００４８】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１２５６，１１０１，８３７ｃｍ-1；1Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−０．０６（ｓ，３Ｈ），−０．０２（ｓ，３Ｈ），０．８３（ｓ，９Ｈ），２．２７（ｄｔ，Ｊ＝７，８Ｈｚ，２Ｈ），２．６０（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），３．５２（ｄｄｄ，Ｊ＝８，８，８Ｈｚ，１Ｈ），３．８５（ｄｄ，Ｊ＝１０，８Ｈｚ，１Ｈ），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝１０，８Ｈｚ，１Ｈ），５．００（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），５．１２（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），５．３６（ｄｔ，Ｊ＝１６，７Ｈｚ，１Ｈ），５．６２（ｄｄ，Ｊ＝１６，８Ｈｚ，１Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，３Ｈ），７．０９−７．２０（ｍ，３Ｈ），７．２２−７．３４（ｍ，５Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．４（−），１８．３（＋），２５．９（−），３４．３（＋），３５．６（＋），４３．８（−），４９．２（＋），６６．５（＋），１１９．７（−），１２５．８（−），１２６．７（−），１２７．７（−），１２７．８（−），１２８．３（−），１２８．４（−），１２８．５（−），１２８．９（−），１３２．５（−），１３６．９（＋），１４１．９（＋），１４８．３（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ28Ｈ38Ｎ2ＯＳｉＮａ［（Ｍ＋Ｎａ）+］についての計算値４６９．２６５１，実測値４６９．２６４９．鏡像異性体の情報（９４％ｅｅ，＞９９％Ｃ／Ｔ）は、対応するアルコールのキラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＪ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９７／３，０．５ｍＬ／分，４０°Ｃオーブン；ｔR／分＝８５．３（Ｒ），１００．８（Ｓ）．
【００４９】
実施例２
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン（５）の製造
【００５０】
【化７】
【００５１】
氷冷下、Ｎ−メチルイミダゾール（東京化成工業株式会社）（０．０１７ｍＬ，０．２１３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．５ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１３０ｍＬ，０．２０８ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン４の黄色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．５０ｍＬ，０．３００ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（２０．６ｍｇ，０．１００ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（４１．２ｍｇ，０．１００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、生成物５（３０．１ｍｇ，０．０８１２ｍｍｏｌ）を収率８１％で得た。
【００５２】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１４９２，１４７１，１２５５，１１０２ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−０．０５（ｓ，３Ｈ），−０．０１（ｓ，３Ｈ），０．８４（ｓ，９Ｈ），２．３５（ｄｔ，Ｊ＝７，８Ｈｚ，２Ｈ），２．６８（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），３．５３（ｓ，３Ｈ），３．５８（ｄｄｄ，Ｊ＝８，８，７Ｈｚ，１Ｈ），３．８７（ｄｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ，１Ｈ），３．９３（ｄｄ，Ｊ＝１０，８Ｈｚ，１Ｈ），５．５１（ｄｔ，Ｊ＝１５，７Ｈｚ，１Ｈ），５．６８（ｄｄ，Ｊ＝１５，８Ｈｚ，１Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ），７．１２−７．２１（ｍ，３Ｈ），７．２２−７．３１（ｍ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．３６（−），１８．３（＋），２５．９（−），３２．６（−），３４．４（＋），３５．７（＋），４３．５（−），６６．７（＋），１２０．３（−），１２５．９（−），１２７．３（−），１２８．３（−），１２８．４（−），１２８．５（−），１３２．４（−），１４１．９（＋），１４８．２（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ22Ｈ35Ｎ2ＯＳｉ（Ｍ+）についての計算値３７０．２５１９，実測値３７１．２５１６．鏡像異性体の情報は（９５％ｅｅ，９８％Ｃ／Ｔ）、キラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＤ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９８／２，０．５ｍＬ／分，室温のオーブン；ｔR／分＝２８．１（Ｒ），４９．５（Ｓ）．
【００５３】
実施例３
（Ｓ，Ｅ）−４−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−２−ヘキセン（７）の製造
【００５４】
【化８】
【００５５】
氷冷下、１−ベンジルイミダゾール（３０．４ｍｇ，０．１９２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．７ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１１０ｍＬ，０．１７６ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン２の赤色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．３０ｍＬ，０．２６０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１７．９ｍｇ，０．０８７１ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート６（２８．４ｍｇ，０．０８７３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）で精製し、生成物７（２４．７ｍｇ，０．０６８０ｍｍｏｌ）を収率７８％で得た。
【００５６】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５１３，１２４８，１０９６，７３０ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．６８（ｂｒｓ，３Ｈ），３．４０−４．１４（ｍ，３Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），４．４５（ｂｒｓ，２Ｈ），５．１２（ｂｒｓ，２Ｈ），５．３０−５．５４（ｂｒｓ，１Ｈ），５．５８−６．００（ｍ，１Ｈ），６．７４−６．９０（ｍ，２Ｈ），６．９２−７．０８（ｍ，２Ｈ），７．０９−７．４２（ｍ，７Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１７．７（−），５５．２（−），７２．７（＋），１１３．６（−），１２６．９（−），１２７．８（−），１２８．４（−），１２８．７（−），１２９．２（−），１３０．５（＋），１３６．３（＋），１５９．０（＋）．鏡像異性体の情報（９４％ｅｅ，９６％Ｃ／Ｔ）は、キラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＡＳ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９７／３，０．３ｍＬ／分，４０°Ｃのオーブン；ｔR／分＝３８．０（Ｒ），４０．４（Ｓ）．
【００５７】
実施例４
（Ｓ，Ｅ）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−４−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−２−ヘキセン（８）の製造
【００５８】
【化９】
【００５９】
氷冷下、Ｎ−メチルイミダゾール（０．０１８ｍＬ，０．２２６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．５ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１３０ｍＬ，０．２０８ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン４の黄色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．５０ｍＬ，０．３００ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（２０．７ｍｇ，０．１０１ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート６（３２．８ｍｇ，０．１０１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製し、生成物５（２４．８ｍｇ，０．０８６６ｍｍｏｌ）を収率８６％で得た。
【００６０】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５１２，１２４８，１０９７，１０３５ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．６８（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，３Ｈ），３．５４（ｓ，３Ｈ），３．６８（ｄｄｄ，Ｊ＝８，７，７Ｈｚ，１Ｈ），３．７３−３．９０（ｍ，２Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），４．４０（ｓ，２Ｈ），５．４６（ｄｑ，Ｊ＝１５，６Ｈｚ，１Ｈ），５．６３（ｄｄ，Ｊ＝１５，８Ｈｚ，１Ｈ），６．７７（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ），６．９７（ｂｒｓ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１８．０（−），３２．６（−），４１．３（−），５５．３（−），７２．７（＋），７３．０（＋），１０９．１（＋），１１３．８（−），１２０．５（−），１２７．２（−），１２７．９（−），１２８．７（−），１２９．３（−），１３０．５（＋），１５９．２（＋）．鏡像異性体の情報（９３％ｅｅ，９５％Ｃ／Ｔ）は、キラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＤ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９０／１０，０．５ｍＬ／分，室温でのオーブン；ｔR／分＝２２．９（Ｒ），２６．９（Ｓ）．
【００６１】
実施例５
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（フラン−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン（１０）
【００６２】
【化１０】
【００６３】
氷冷下、フラン（東京化成工業株式会社）（０．０１５ｍＬ，０．２０６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．６ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１２０ｍＬ，０．１９２ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン９の透明溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．４０ｍＬ，０．２８０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１９．２ｍｇ，０．０９３４ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（３８．４ｍｇ，０．０９３３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、ヘキサンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製し、生成物１０（２８．５ｍｇ，０．０８００ｍｍｏｌ）を収率８６％で得た。
【００６４】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１４７１，１２５５，１１０５，８３７ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ０．０１（ｓ，６Ｈ），０．８８（ｓ，９Ｈ），２．３２−２．４４（ｍ，２Ｈ），２．７０（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），３．４４（ｄｄｄ，Ｊ＝７，７，７Ｈｚ，１Ｈ），３．７５（ｄｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ，１Ｈ），３．８６（ｄｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ，１Ｈ），５．５３−５．６８（ｍ，２Ｈ），６．０３（ｄｄ，Ｊ＝３，１Ｈｚ，１Ｈ），６．３１（ｄｄ，Ｊ＝３，２Ｈｚ，１Ｈ），７．１７−７．２３（ｍ，３Ｈ），７．２６−７．３３（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄｄ，Ｊ＝２，１Ｈｚ，１Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．３９（−），−５．３６（−），１８．４（＋），２５．９（−），３４．６（＋），３５．８（＋），４５．５（−），６５．５（＋），１０５．８（−），１１０．１（−），１２５．８（−），１２８．３（−），１２８．４（−），１２８．５（−），１３２．３（−），１４１．１（−），１４２．０（＋），１５５．７（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ22Ｈ32Ｏ2ＳｉＮａ［（Ｍ＋Ｎａ）+］についての計算値３７９．２０６９，実測値３７９．２０７１．鏡像異性体の情報（９４％ｅｅ，９９％Ｃ／Ｔ）は、対応するアルコールのキラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＢ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９８／２，０．２ｍＬ／分，４０°Ｃでのオーブン；ｔR／分＝９３．５（Ｓ），１１０．０（Ｒ）．
【００６５】
実施例６
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（チオフェン−２−イル）−３−ヘキセン（１２）の製造
【００６６】
【化１１】
【００６７】
氷冷下、チオフェン（東京化成工業株式会社）（０．０１６ｍＬ，０．２００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．６ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．１２０ｍＬ，０．１９２ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン１１の透明溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，１．４０ｍＬ，０．２８０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１８．９ｍｇ，０．０９１９ｍｍｏｌ）を加えた。生じた黄色溶液を３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（３７．８ｍｇ，０．０９１８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、ヘキサンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製し、生成物１２（２８．５ｍｇ，０．０７６６ｍｍｏｌ）を収率８３％で得た。
【００６８】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１２５５，１１０７，８３７ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ０．０６（ｓ，６Ｈ），０．９３（ｓ，９Ｈ），２．３７−２．４８（ｍ，２Ｈ），２．７５（ｄｄ，Ｊ＝９，７Ｈｚ，２Ｈ），３．７０−３．８６（ｍ，３Ｈ），５．６０−５．７４（ｍ，２Ｈ），６．８５（ｄｔ，Ｊ＝４，１Ｈｚ，１Ｈ），６．９９（ｄｄ，Ｊ＝５，４Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｄｄ，Ｊ＝５，１Ｈｚ，１Ｈ），７．２２−７．２７（ｍ，３Ｈ），７．２９−７．３７（ｍ，２Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．３（−），１８．４（＋），２６．０（−），３４．５（＋），３５．９（＋），４６．８（−），６７．８（＋），１２３．５（−），１２４．１（−），１２５．９（−），１２６．４（−），１２８．４（−），１２８．６（−），１３０．８（−），１３１．９（−），１４２．０（＋），１４５．７（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ22Ｈ32ＯＳＳｉＮａ［（Ｍ＋Ｎａ）+］についての計算値３９５．１８４１，実測値３９５．１８４２．鏡像異性体の情報（９６％ｅｅ，９８％Ｃ／Ｔ）は、対応するアルコールのキラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＢ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９７／３，０．３ｍＬ／分，室温でのオーブン；ｔR／分＝６２．１（Ｒ），６４．９（Ｓ）．
【００６９】
実施例７
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（ピリジン−２−イル）−３−ヘキセン（１５）の製造
【００７０】
【化１２】
【００７１】
−７８℃に冷却した２−ブロモピリジン（和光純薬工業株式会社）（０．０１６ｍＬ，０．２００ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１ｍＬ）にｔ−ブチルリチウムのペンタン溶液（関東化学株式会社）（１．５７Ｍ，０．２４０ｍＬ，０．３７８ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌するとアニオン１４の赤色溶液が得られた。この溶液に、臭化マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液（０．２０Ｍ，２．４０ｍＬ，０．４８０ｍｍｏｌ）及び臭化銅ジメチルスルフィド錯体（１９．５ｍｇ，０．０９４９ｍｍｏｌ）を加えた。生じた橙色溶液を氷冷下３０分撹拌した後、アリルピコリネート１（３９．０ｍｇ，０．０９４７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）をゆっくり滴下した。反応混合物を氷冷下１時間撹拌し、飽和アンモニア水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、生成物１５（２９．８ｍｇ，０．０８１１ｍｍｏｌ）を収率８６％で得た。
【００７２】
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５９０，１２５５，１０９７，８３７ｃｍ-1；1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−０．１１（ｓ，３Ｈ），−０．０８（ｓ，３Ｈ），０．７９（ｓ，９Ｈ），２．３５（ｄｔ，Ｊ＝７，８Ｈｚ，２Ｈ），２．６８（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），３．６０（ｄｄｄ，Ｊ＝８，８，７Ｈｚ，１Ｈ），３．８４（ｄｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ，１Ｈ），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝１０，８Ｈｚ，１Ｈ），５．６１（ｄｔ，Ｊ＝１６，７Ｈｚ，１Ｈ），５．７５（ｄｄ，Ｊ＝１６，８Ｈｚ，１Ｈ），７．０６−７．３０（ｍ，７Ｈ），７．５７（ｄｄｄ，Ｊ＝８，８，２Ｈｚ，１Ｈ），８．５５（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）；13ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−５．４５（−），−５．４０（−），１８．３（＋），２５．９（−），３４．７（＋），３５．９（＋），５３．９（−），６６．９（＋），１２１．４（−），１２３．７（−），１２５．８（−），１２８．３（−），１２８．５（−），１３０．０（−），１３２．１（−），１３６．１（−），１４２．１（＋），１４９．３（−），１６２．２（＋）；ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｃ23Ｈ33ＮＯＳｉＮａ［（Ｍ＋Ｎａ）+］についての計算値３９０．２２２９，実測値３９０．２２３１．鏡像異性体の情報（９８％ｅｅ，＞９９％Ｃ／Ｔ）は、キラルＨＰＬＣ分析によって測定した：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＡＤ−Ｈ；ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９９／１，０．１ｍＬ／分，室温でのオーブン；ｔR／分＝５２．１（Ｒ），６０．９（Ｓ）．
【００７３】
実施例８
（Ｒ，Ｅ）−１，３−ビベンジル−２−（１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニルヘキサ−３−エン−２−イル）−１Ｈ−イミダゾール−３−イウム・ブロミド（１３）の製造
【００７４】
【化１３】
【００７５】
イミダゾール３（６．４ｍｇ，０．０１４３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（０．５ｍＬ）にベンジルブロミド（東京化成工業株式会社）（０．００４ｍＬ，０．０３４ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で２４時間撹拌した後濃縮した。残渣をエーテルで洗浄し、乾燥させ、生成物１３（４．５ｍｇ，０．００７２８ｍｍｏｌ）を収率５１％で得た。
【００７６】
1ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ−０．０７（ｓ，３Ｈ），−０．０４（ｓ，３Ｈ），０．８１（ｓ，９Ｈ），２．２６（ｄｔ，Ｊ＝８，７Ｈｚ，２Ｈ），２．５５（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），３．７６（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），４．４０（ｄｔ，Ｊ＝６，７Ｈｚ，１Ｈ），５．３５−５．４７（ｍ，１Ｈ），５．４５−５．６０（ｍ，１Ｈ），５．４８（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），５．５８（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），７．１２−７．２９（ｍ，７Ｈ），７．３４−７．４４（ｍ，６Ｈ），７．７０（ｓ，２Ｈ）．
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明は、複素環近くに不斉炭素のある側鎖を有する複素環式化合物を材料、医薬品、イオン液体などの有用物質の創製に応用することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）：
【化１】
〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基｛ここで、保護基は、ＴＢＳ（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基）、ＰＭＢ（４−メトキシベンジル基）、ＴＭＳ（トリメチルシリル基）、ＴＥＳ（トリエチルシリル基）、及びＴＢＤＰＳ（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基）からなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である｝からなる群から選択され；及び
Ｒ3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択される〕
で表されるアンチＳN２’化合物。
【請求項２】
Ｒ1及びＲ2が、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、及びＣ1-6アルキル基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ又はＰＭＢであり、ｍは、１〜３の整数である）からなる群から選択され；及び
Ｒ3が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基及びＣ6-10アリール基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又は５〜６員複素環式基からなる群から選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記化合物が、
（Ｒ，Ｅ）−２−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−４−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−２−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−４−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−２−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（フラン−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（チオフェン−２−イル）−３−ヘキセン；
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（ピリジン−２−イル）−３−ヘキセン；又は
（Ｒ，Ｅ）−１，３−ビベンジル−２−（１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニルヘキサ−３−エン−２−イル）−１Ｈ−イミダゾール−３−イウム・ブロミド
である、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項４】
下記式（ＩＩ）：
【化２】
〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ、ＰＭＢ、ＴＭＳ、ＴＥＳ、及びＴＢＤＰＳからなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である）からなる群から選択される〕
で表される第２級アリルピコリネートを、
Ｒ3Ｍ （ＩＩＩ）
｛式中、
Ｒ3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択され；及び
Ｍは、Ｌｉ、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、又はＭｇＩである｝
及び一価の金属塩から調製される錯体と反応させて、
下記式（Ｉ）：
【化３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、上記で定義される通りである）
で表されるアンチＳN２’化合物を製造する方法。
【請求項５】
Ｒ1及びＲ2が、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、及びＣ1-6アルキル基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ又はＰＭＢであり、ｍは、１〜３の整数である）からなる群から選択される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
Ｒ3が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基及びＣ6-10アリール基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又は５〜６員複素環式基からなる群から選択される、請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
Ｍが、Ｌｉ又はＭｇＢｒである、請求項４〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
ＭがＬｉである場合、反応中にＭｇＢｒ2をさらに添加することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
一価の金属塩の金属が、銅である、請求項４〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
一価の金属塩が、ＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＣＮ、及びＣｕＯＡｃからなる群から選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１】
下記式（Ｉ）：
【化１】
〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基｛ここで、保護基は、ＴＢＳ（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基）、ＰＭＢ（４−メトキシベンジル基）、ＴＭＳ（トリメチルシリル基）、ＴＥＳ（トリエチルシリル基）、及びＴＢＤＰＳ（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基）からなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である｝からなる群から選択され；及び
Ｒ3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択される〕
で表されるアンチＳN２’化合物。
【請求項２】
Ｒ1及びＲ2が、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、及びＣ1-6アルキル基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ又はＰＭＢであり、ｍは、１〜３の整数である）からなる群から選択され；及び
Ｒ3が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基及びＣ6-10アリール基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又は５〜６員複素環式基からなる群から選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記化合物が、
（Ｒ，Ｅ）−２−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−４−（１−ベンジル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−２−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−５−［（４−メトキシベンジル）オキシ］−４−（１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）−２−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−２−（フラン−２−イル）−６−フェニル−３−ヘキセン；
（Ｓ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（チオフェン−２−イル）−３−ヘキセン；
（Ｒ，Ｅ）−１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニル−２−（ピリジン−２−イル）−３−ヘキセン；又は
（Ｒ，Ｅ）−１，３−ビベンジル−２−（１−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］−６−フェニルヘキサ−３−エン−２−イル）−１Ｈ−イミダゾール−３−イウム・ブロミド
である、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項４】
下記式（ＩＩ）：
【化２】
〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロＣ1-8アルキル基；Ｃ1-8アルキルオキシ基；ハロＣ1-8アルキルオキシ基；Ｃ1-8アルキレン基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ、ＰＭＢ、ＴＭＳ、ＴＥＳ、及びＴＢＤＰＳからなる群から選択され、ｍは、１〜６の整数である）からなる群から選択される〕
で表される第２級アリルピコリネートを、
Ｒ3Ｍ （ＩＩＩ）
｛式中、
Ｒ3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ3-7アシクロアルキル基、ハロＣ1-6アルキル基、窒素原子に１個以上のＣ1-6アルキル基を有していてもよいカルバモイル基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アシル基、Ｃ6-10アリール基及び５〜１０員複素環式基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、５〜６員複素環式基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）からなる群から選択され；及び
Ｍは、Ｌｉ、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、又はＭｇＩである｝
及び一価の金属塩から調製される錯体と反応させて、
下記式（Ｉ）：
【化３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、上記で定義される通りである）
で表されるアンチＳN２’化合物を製造する方法。
【請求項５】
Ｒ1及びＲ2が、同一であるか又は異なっていてもよく、独立して、Ｃ1-8アルキル基；ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、及びＣ1-6アルキル基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又はフェニル−（ＣＨ2）n−基（ここで、ｎは、１〜６の整数である）；及び保護基−Ｏ−（ＣＨ2）m−基（ここで、保護基は、ＴＢＳ又はＰＭＢであり、ｍは、１〜３の整数である）からなる群から選択される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
Ｒ3が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、Ｃ1-6アルキル基及びＣ6-10アリール基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基又は５〜６員複素環式基からなる群から選択される、請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
Ｍが、Ｌｉ又はＭｇＢｒである、請求項４〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
ＭがＬｉである場合、反応中にＭｇＢｒ2をさらに添加することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
一価の金属塩の金属が、銅である、請求項４〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
一価の金属塩が、ＣｕＢｒ・Ｍｅ2Ｓ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＣＮ、及びＣｕＯＡｃからなる群から選択される、請求項９に記載の方法。
【公開番号】特開２０１０−１３３９４（Ｐ２０１０−１３３９４Ａ）
【公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１７４７１０（Ｐ２００８−１７４７１０）
【出願日】平成２０年７月３日（２００８．７．３）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 日本化学会第８８春季年会２００８年 講演予稿集Ｉ （発行所：社団法人日本化学会 発行日：平成２０年３月１２日）〔刊行物等〕 ｈｔｔｐ：／／ｐｕｂｓ．ａｃｓ．ｏｒｇ／ｃｇｉｂｉｎ／ａｂｓｔｒａｃｔ．ｃｇｉ／ｏｒｌｅｆ７／２００８／１０／ｉ０９／ａｂｓ／ｏｌ８００３００ｘ．ｈｔｍｌ（掲載日：２００８年４月９日）
【出願人】（３０４０２１４１７）国立大学法人東京工業大学 (1,821)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年７月３日（２００８．７．３）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 日本化学会第８８春季年会２００８年 講演予稿集Ｉ （発行所：社団法人日本化学会 発行日：平成２０年３月１２日）〔刊行物等〕 ｈｔｔｐ：／／ｐｕｂｓ．ａｃｓ．ｏｒｇ／ｃｇｉｂｉｎ／ａｂｓｔｒａｃｔ．ｃｇｉ／ｏｒｌｅｆ７／２００８／１０／ｉ０９／ａｂｓ／ｏｌ８００３００ｘ．ｈｔｍｌ（掲載日：２００８年４月９日）
【出願人】（３０４０２１４１７）国立大学法人東京工業大学 (1,821)
【Ｆターム（参考）】
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