説明

光ファイバセンサの計測精度の評価方法および評価装置

【課題】実際の計測環境における光ファイバセンサの計測精度を適切に評価することができる光ファイバセンサの計測精度の評価方法および評価装置を提供する。
【解決手段】実際の計測環境に敷設していない静置状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める一方、光ファイバセンサのひずみを取得してその標準偏差を求め、この標準偏差と周波数ばらつきとの間の比例係数を求める第1のステップと、実際の計測環境に敷設している状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める第2のステップとを有し、第2のステップで求めた周波数ばらつきに対して第1のステップで求めた比例係数を乗じて得られる値に基づいて計測精度を評価する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光ファイバセンサの計測精度の評価方法および評価装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来、光ファイバ全長のひずみ分布、温度分布などを取得可能な、ブリルアン散乱光を利用した光ファイバセンサおよび計測機器が実用化されている(例えば、非特許文献1および2参照)。
【0003】
ここで、ブリルアン散乱光の強度は、入射する光の強度に対して非常に微弱であるため、光を複数回入射して得た反射光スペクトルを増幅、加算処理し、さらに一定の周波数ごとに検知周波数を掃引して強度を取得した離散的なスペクトルを曲線(ローレンツ関数)近似して全体のスペクトルとし、その光強度が最大となる周波数νを、ひずみ(あるいは温度)計測値εとして換算している。この場合に用いる換算式はひずみεの関数ν(ε)による次式(1)である。
【0004】
【数1】

【0005】
この光ファイバセンサによるひずみ分布、温度分布の計測精度は、これまで通信用光ファイバの静置状態(室内試験)で測定した計測値のばらつきを用いて評価していた。例えば、図10に示すように、連続する100個のひずみデータにおける計測値の平均値と標準偏差2δ(以下、この標準偏差2δをδε0と表示する。)とを求め、求めたδε0をひずみの計測誤差としていた。なお、通信用光ファイバのδε0としては、製造メーカの公表値で40μεとしているものがある。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0006】
【非特許文献1】岩城英朗、稲田裕、若原敏裕、光ファイバ分布ひずみセンサ(B-OTDR)を用いた長大斜張橋施工時モニタリング、土木学会第62回年次学術講演会、pp.805-806、2007.09
【非特許文献2】岩城英朗、稲田裕、若原敏裕、光ファイバ分布センサを用いた長大斜張橋モニタリング、土木学会第63回年次学術講演会、pp.61-62、2008.09
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
ところで、上記の光ファイバセンサを計測対象物に敷設して計測する場合には、ひずみ分布、温度分布にばらつきが生じると考えられるが、この実際の計測環境下での計測精度を把握することは計測管理上重要である。また、一般に光ファイバセンサによる計測は、ひずみゲージなどによるひずみ計測や、熱電対などによる温度計測に対して計測精度が劣ると考えられているが、実際の計測環境下での計測精度に対する優劣は明らかではない。
【0008】
また、従来の光ファイバセンサの計測精度は、前述の図10に示すように、静置状態(室内試験)の光ファイバから取得されるひずみが変化しないデータの標準偏差により評価していた。この方法を実際の計測環境(現場の設置環境)下での光ファイバの計測精度の評価にそのまま適用すると、図11に示すように、この環境下の光ファイバから取得されるひずみが変化する連続100個のひずみデータから得られた結果Bのひずみ計測精度は、図10の静置状態の場合の結果Aに対して大きく悪化して評価されてしまう(例えば10倍以上数値が低下)。これは、そもそもひずみ値は一定ではなく、ひずみ値が変化している実際の計測環境下では平均値からのばらつきを常に内包しているからである。したがって、このような場合には「標準偏差=ひずみ計測精度」として評価するのは適切とはいい難い。
【0009】
このため、実際の計測環境における光ファイバセンサの計測精度を適切に評価することができる技術の開発が望まれていた。
【0010】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、実際の計測環境における光ファイバセンサの計測精度を適切に評価することができる光ファイバセンサの計測精度の評価方法および評価装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
上記した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の請求項1に係る光ファイバセンサのひずみ計測精度の評価方法は、実際の計測環境に敷設された光ファイバセンサの計測精度を評価する方法であって、実際の計測環境に敷設していない静置状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める一方、前記光ファイバセンサのひずみを取得してその標準偏差を求め、この標準偏差と前記周波数ばらつきとの間の比例係数を求める第1のステップと、実際の計測環境に敷設している状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める第2のステップとを有し、第2のステップで求めた周波数ばらつきに対して第1のステップで求めた比例係数を乗じて得られる値に基づいて計測精度を評価することを特徴とする。
【0012】
また、本発明の請求項2に係る光ファイバセンサの計測精度の評価方法は、上述した請求項1において、前記最大光強度のばらつきは、最大値および最小値の差であることを特徴とする。
【0013】
また、本発明の請求項3に係る光ファイバセンサの計測精度の評価装置は、実際の計測環境に敷設された光ファイバセンサの計測精度を評価する装置であって、実際の計測環境に敷設していない静置状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める一方、前記光ファイバセンサのひずみを取得してその標準偏差を求め、この標準偏差と前記周波数ばらつきとの間の比例係数を求める第1の演算手段と、実際の計測環境に敷設している状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める第2の演算手段とを有し、第2の演算手段で求めた周波数ばらつきに対して第1の演算手段で求めた比例係数を乗じて得られる値に基づいて計測精度を評価することを特徴とする。
【0014】
また、本発明の請求項4に係る光ファイバセンサの計測精度の評価装置は、上述した請求項3において、前記最大光強度のばらつきは、最大値および最小値の差であることを特徴とする。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、実際の計測環境に敷設された光ファイバセンサの計測精度を評価する方法であって、実際の計測環境に敷設していない静置状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める一方、前記光ファイバセンサのひずみを取得してその標準偏差を求め、この標準偏差と前記周波数ばらつきとの間の比例係数を求める第1のステップと、実際の計測環境に敷設している状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める第2のステップとを有し、第2のステップで求めた周波数ばらつきに対して第1のステップで求めた比例係数を乗じて得られる値に基づいて計測精度を評価するので、実際の計測環境における光ファイバセンサの計測精度を適切に評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】図1は、本発明に係る光ファイバセンサの計測精度の評価方法の実施例を示す図である。
【図2】図2は、本発明に係る光ファイバセンサの計測精度の評価方法の第1のステップのフローチャート図である。
【図3】図3は、本発明に係る光ファイバセンサの計測精度の評価方法の第2のステップのフローチャート図である。
【図4】図4は、ブリルアン散乱光スペクトルと誤差を示す図である。
【図5】図5は、離散化ブリルアン散乱光スペクトルと近似曲線を示す図である。
【図6】図6は、光ファイバセンサによるひずみ計測結果の一例を示す図であり、(a)〜(c)は光強度の位置分布図、(d)〜(f)はスペクトル幅の位置分布図である。
【図7】図7は、離散化ブリルアン散乱光スペクトルの一例を示す図である。
【図8】図8は、離散化ブリルアン散乱光スペクトルの近似曲線の一例を示す図である。
【図9】図9は、近似曲線からひずみ計測精度を求める場合の図である。
【図10】図10は、従来の静置状態の光ファイバセンサの計測精度の評価方法を示すフローチャート図である。
【図11】図11は、従来の実際の計測環境に敷設している状態の光ファイバセンサの計測精度の評価方法を示すフローチャート図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下に、本発明に係る光ファイバセンサの計測精度の評価方法および評価装置の実施例について、図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。
【0018】
図1に示すように、本発明に係る光ファイバセンサの計測精度の評価方法は、実際の計測環境に敷設された光ファイバセンサの計測精度を評価する方法であって、実際の計測環境に敷設していない静置状態の光ファイバセンサから周波数ばらつき、ひずみの標準偏差および両者間の比例係数を求める第1のステップと、実際の計測環境に敷設している状態の光ファイバセンサから周波数ばらつきを求める第2のステップとを有する。そして、第2のステップで求めた周波数ばらつきに対して第1のステップで求めた比例係数を乗じて得られる値に基づいて計測精度を評価するものである。
【0019】
第1のステップは、具体的には、図2の中央右側に示すように、室内試験(実際の計測環境に敷設していない静置状態)において光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルから連続100個の反射光強度(最大光強度)のデータの平均値およびばらつきと、連続100個の反射光スペクトル(スペクトル幅)のデータの平均値とを求めるものである。そして、これらの値と反射光スペクトルの誤差を求める式(後述の式(3))を用いて、反射光強度(最大光強度)となる周波数に対する反射光スペクトルの周波数ばらつき(図中、結果3で示す「反射光スペクトルの誤差」。基準値として用いる。)を求めるものである。
【0020】
また、この第1のステップは、図2の左側に示すように、連続100個のひずみのデータからその標準偏差(図中、結果1で示す「ひずみ誤差」。基準値として用いる。)を求めるものである。
【0021】
第2のステップは、具体的には、図3の中央右側に示すように、現場(実際の計測環境に敷設している状態)において光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルから連続100個の反射光強度(最大光強度)のデータの平均値およびばらつきと、連続100個の反射光スペクトル(スペクトル幅)のデータの平均値とを求めるものである。そして、これらの値と反射光スペクトルの誤差を求める式(後述の式(3))を用いて、反射光強度(最大光強度)となる周波数に対する反射光スペクトルの周波数ばらつき(図中、結果4で示す「反射光スペクトルの誤差」。現場設置の値として用いる。)を求めるものである。
【0022】
なお、この第2のステップは、図3の左側に示すように、連続100個のひずみのデータからその標準偏差(図中、結果2)を求めることも可能であるが、この結果2は本発明には使用しない。また、この第2のステップの後の処理においては、図3の右下の破線のフローチャートに示すように、結果4の周波数ばらつきに対して第1のステップの室内試験で求めた比例係数を乗じ、こうして得られた値を、現場設置のひずみの誤差(図中、結果5)として評価することとなる。
【0023】
ここで、第1のステップにより得られた結果3(図2)に比べ、第2のステップにより得られた結果4(図3)は、従来の結果A(図10)に対する結果B(図11)のように大きく変化しないことを本発明者は確認している。また、光強度とスペクトル幅は、設置環境の変化には殆ど影響しないと考えられる。そこで、結果3と結果4の比をひずみ計測精度の変化の度合いと考える。この場合、現場設置(実際の計測環境下)のひずみ計測精度は、(現場設置のひずみ計測精度)=(結果1)×((結果4)/(結果3))の算定式により評価することが可能である。
この式は、第1のステップで求めた比例係数をCと表記すれば、C=(結果1)/(結果4)であるので、(現場設置のひずみ計測精度)=比例係数C×(結果4)と変形することができる。
【0024】
なお、第1および第2のステップにおいて、最大光強度のばらつきは、最大値および最小値の差を用いることができる。
【0025】
また、本発明に係る光ファイバセンサの計測精度の評価装置は、第1のステップの処理内容をコンピュータにより演算処理する第1の演算手段と、第2のステップの処理内容をコンピュータにより演算処理する第2の演算手段とを備えるように構成することができる。そして、第2の演算手段で求めた周波数ばらつきに対して第1の演算手段で求めた比例係数を乗じて得られる値に基づいて計測精度を評価するように構成することができる。
【0026】
次に、第1のステップおよび第2のステップで取得するブリルアン散乱光スペクトルについて説明する。
まず、ブリルアン散乱光の光強度V(ν)について説明する。このV(ν)は、次式(2)で表すことができる。
【0027】
【数2】

【0028】
ここで、Vはブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度、Δνはブリルアン散乱光のスペクトル幅(半値全幅)、νはブリルアン散乱光スペクトルのピーク周波数、νは周波数である。
【0029】
この式(2)のスペクトルに対して、図4に示すように、実効値Vのノイズが重畳しているとすると、このノイズによるνのばらつきδνは、次式(3)のように表すことができる。
【0030】
【数3】

【0031】
ブリルアン散乱光の強度は、入射光と比較して非常に微弱であるため、実際の計測では、パルス光を複数回入射し、かつ受光周波数νを段階的に変化させ、その各々の周波数で増幅・加算して後方散乱光を取得し、これらを合わせて離散化ブリルアン散乱光スペクトルを求める。
【0032】
ここで、離散化ブリルアン散乱光スペクトルからνを求める際に量子化誤差を生じる可能性があるため、図5に示すように、離散化ブリルアン散乱光スペクトルに対する近似曲線を求め、そのピーク(最大光強度)を示す周波数をνとする。
【0033】
参考として、光ファイバセンサによるひずみ計測結果の一例を図6に示す。図6(a)〜(c)は光強度の位置分布図、(d)〜(f)はスペクトル幅の位置分布図である。(a)、(d)は通信用光ファイバについて、(b)、(e)は光ファイバセンサ(室内)について、(c)、(f)は光ファイバセンサ(現場)について示してある。
【0034】
、Δν、Vは、図7〜図9を用いて求めることができる。ここで、図7は、ある点で計測した離散化ブリルアン散乱光スペクトルの一例を示している。図8は、図7のスペクトルに対して曲線近似した一例を示している。図9は、図8の近似曲線からV、Δν、Vを求めた一例を示している。
【0035】
次に、本発明に係る光ファイバセンサの計測精度の評価方法の具体的手順を説明する。
【0036】
(第1のステップ)
まず、通信用光ファイバの静置状態(室内試験)において、通信用光ファイバの全長から取得したブリルアン散乱光スペクトルから、最大光強度を得る。これをVS0とする。
【0037】
同様に、ブリルアン散乱光スペクトルから、スペクトル幅(最大光強度の半値全幅)を得る。これをΔνB0とする。
【0038】
これらの連続する100データに対して、VS0の平均値をVS0aveとし、VS0の最大値と最小値の差を2VN0とする。また、ΔνB0の平均値をΔνB0aveとする。
【0039】
ここで、ブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度となる周波数νに対するばらつきを得る上記の式(3)を、これらの値に対して適用する。求めた値をδνB0とする(図2の結果3)。
【0040】
また、光ファイバから取得した連続する100個のひずみデータにおける計測値の標準偏差δε0を求め、求めたδε0をひずみの誤差(室内基準値)とする(図2の結果1)。
このひずみの誤差と上記の周波数ばらつきδνB0とが比例関係にあると考えれば、この関係は比例係数Cを用いて、δε0=C・δνB0と表記することができる。この比例係数Cは敷設の有無に依らず一定と仮定することができる。そこで、上記で求めたδε0とδνB0とに基づいてこの比例係数Cを算定する。
【0041】
(第2のステップ)
一方、光ファイバセンサを敷設した条件下においても同様に、光ファイバセンサの全長から取得したブリルアン散乱光スペクトルから、最大光強度を得る。これをVS1とする。
【0042】
同様に、ブリルアン散乱光スペクトルから、スペクトル幅(最大光強度の半値全幅)を得る。これをΔνB1とする。
【0043】
これらの連続する100データに対して、VS1の平均値をVS1aveとし、VS1の最大値と最小値の差を2VN1とする。また、ΔνB1の平均値をΔνB1aveとする。
【0044】
第1のステップと同様に、ばらつきを得る上記の式(3)をこれらの値に対して適用する。求めた値をδνB1とする(図3の結果4)。
【0045】
そして、第2のステップで求めた周波数ばらつきδνB1および第1のステップで求めた比例係数Cを用いて、光ファイバセンサを敷設した条件でのひずみ計測精度δε1を、δε1=C・δνB1の算定式により求める(図3の結果5)。このようにすることで、光ファイバセンサを敷設した条件下でのひずみ計測精度を適切に評価することができる。
【0046】
温度計測における計測精度の評価についても、上記のひずみ計測精度の評価と同様に行うことができる。
【0047】
このように、本発明は、光ファイバセンサを敷設した条件下でのひずみ、温度の計測精度を適切に評価することができる。また、ひずみゲージ等の計測精度との定量比較も可能である。なお、本発明を適用して光ファイバセンサを敷設した環境下のひずみ計測精度の評価を行ったところ、敷設環境下での計測精度δε1は、光ファイバ製造メーカ公表諸元値のひずみ計測精度δε0の1.25倍程度の値であった。
【0048】
以上説明したように、本発明によれば、実際の計測環境に敷設された光ファイバセンサの計測精度を評価する方法であって、実際の計測環境に敷設していない静置状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める一方、前記光ファイバセンサのひずみを取得してその標準偏差を求め、この標準偏差と前記周波数ばらつきとの間の比例係数を求める第1のステップと、実際の計測環境に敷設している状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める第2のステップとを有し、第2のステップで求めた周波数ばらつきに対して第1のステップで求めた比例係数を乗じて得られる値に基づいて計測精度を評価するので、実際の計測環境における光ファイバセンサの計測精度を適切に評価することができる。
【産業上の利用可能性】
【0049】
以上のように、本発明に係る光ファイバセンサの計測精度の評価方法および評価装置は、ブリルアン散乱光を利用した光ファイバセンサの計測精度の評価に有用であり、特に、実際の計測環境における光ファイバセンサの計測精度を評価するのに適している。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
実際の計測環境に敷設された光ファイバセンサの計測精度を評価する方法であって、
実際の計測環境に敷設していない静置状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める一方、前記光ファイバセンサのひずみを取得してその標準偏差を求め、この標準偏差と前記周波数ばらつきとの間の比例係数を求める第1のステップと、
実際の計測環境に敷設している状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める第2のステップとを有し、
第2のステップで求めた周波数ばらつきに対して第1のステップで求めた比例係数を乗じて得られる値に基づいて計測精度を評価することを特徴とする光ファイバセンサの計測精度の評価方法。
【請求項2】
前記最大光強度のばらつきは、最大値および最小値の差であることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバセンサの計測精度の評価方法。
【請求項3】
実際の計測環境に敷設された光ファイバセンサの計測精度を評価する装置であって、
実際の計測環境に敷設していない静置状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める一方、前記光ファイバセンサのひずみを取得してその標準偏差を求め、この標準偏差と前記周波数ばらつきとの間の比例係数を求める第1の演算手段と、
実際の計測環境に敷設している状態の光ファイバセンサからブリルアン散乱光スペクトルを取得し、このブリルアン散乱光スペクトルの最大光強度の平均値およびばらつきとスペクトル幅の平均値とから前記最大光強度となる周波数に対する周波数ばらつきを求める第2の演算手段とを有し、
第2の演算手段で求めた周波数ばらつきに対して第1の演算手段で求めた比例係数を乗じて得られる値に基づいて計測精度を評価することを特徴とする光ファイバセンサの計測精度の評価装置。
【請求項4】
前記最大光強度のばらつきは、最大値および最小値の差であることを特徴とする請求項3に記載の光ファイバセンサの計測精度の評価装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【公開番号】特開2011−149881(P2011−149881A)
【公開日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−12584(P2010−12584)
【出願日】平成22年1月22日(2010.1.22)
【新規性喪失の例外の表示】特許法第30条第1項適用申請有り 第64回年次学術講演会講演概要集 平成21年8月3日
【出願人】(000002299)清水建設株式会社 (2,433)
【Fターム(参考)】