光情報記録媒体
【課題】光情報記録媒体の反りの変化を抑制することにより、光情報記録媒体の記録再生が、低温下でも安定に行われるようにする。
【解決手段】光情報記録媒体は、基板と、基板上に形成される３層以上の情報信号層と、３層以上の情報信号層の間に介在される２層以上の中間層と、基板から最も離れた位置にある情報信号層上に形成される光透過層とを備える。−５℃における光透過層の貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下であり、−５℃における２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、２５℃における２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下である。
【解決手段】光情報記録媒体は、基板と、基板上に形成される３層以上の情報信号層と、３層以上の情報信号層の間に介在される２層以上の中間層と、基板から最も離れた位置にある情報信号層上に形成される光透過層とを備える。−５℃における光透過層の貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下であり、−５℃における２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、２５℃における２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光情報記録媒体に関する。詳しくは、３層以上の情報信号層を備える光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光情報記録媒体の高密度化が進み、例えば従来のＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）に比較して著しい大容量化を実現した高密度光ディスクなどが知られている。
【０００３】
高密度光ディスクでは、情報信号を記録および／または再生するための情報信号層がディスク基板の一主面に形成される。情報信号層の上には、例えば、スピンコート法により、光透過層・保護層が形成される。情報信号の記録再生時には、光透過層を介して情報信号層にレーザ光が照射され、該レーザ光により、情報信号の記録または再生が行われる。
【０００４】
上述した高密度光ディスクは、レーザ光が入射される情報読出面側にのみ光透過層が形成される。そのため、高密度光ディスクは、ディスクの厚み方向に非対称の構造を有し、ＤＶＤなどと比較して反り易い。
【０００５】
高密度光ディスクの反りの問題に対応するため、例えば、下記の特許文献１では、２５℃における弾性率および−２０℃における弾性率を所定の範囲内とし、かつガラス転移点温度が−２０℃〜０℃である光透過層を備える光情報記録媒体が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２７１９７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本技術の目的は、反りが抑制された光情報記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本技術は、基板と、基板上に形成される３層以上の情報信号層と、３層以上の情報信号層の間に介在される２層以上の中間層と、基板から最も離れた位置にある情報信号層上に形成される光透過層とを備え、−５℃における光透過層の貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下であり、−５℃における２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、２５℃における２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下である光情報記録媒体である。
【０００９】
本技術は、３層以上の情報信号層を備える光情報記録媒体に対し、−５℃における光透過層の貯蔵弾性率と、−５℃および２５℃における中間層の貯蔵弾性率とをコントロールすることにより、光情報記録媒体の反りの変化が抑制される。光情報記録媒体を使用する環境が極めて低温（−５℃）でも反りの変化が小さいことから、このような低温下でも安定に光情報記録媒体の記録再生が行われる。
【発明の効果】
【００１０】
本技術によれば、低温下での光情報記録媒体の反りを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１Ａは、本技術の一実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した各情報信号層の一構成例を示す模式図である。
【図２】図２は、サンプルＲａ〜Ｒｃの環境温度に対する貯蔵弾性率を示したグラフである。
【図３】図３Ａは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の評価用光ディスクの層構成を説明するための模式的断面図である。図３Ｂは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクの層構成を説明するための模式的断面図である。
【図４】図４Ａは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３について、−５℃の環境下の反り角と２５℃の環境下の反り角との差△β＝βL−βHを示すグラフである。図４Ｂは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３について、−５℃の環境下の反り角と２５℃の環境下の反り角との差△β＝βL−βHを示すグラフである。
【図５】図５Ａは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ａに示すサンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。図５Ｂは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ａに示すサンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。
【図６】図６Ａは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ｂに示すサンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。図６Ｂは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ｂに示すサンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本技術の実施形態について図面を参照しながら以下に説明する。
［光情報記録媒体の構成］
図１Ａは、本技術の一実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この光情報記録媒体１０は、例えば、追記型の光情報記録媒体であり、図１Ａに示すように、情報信号層Ｌ０、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、中間層Ｓ２、情報信号層Ｌ２、中間層Ｓ３、情報信号層Ｌ３、保護層（カバー層）である光透過層２がこの順序で基板１の一主面に積層された構成を有する。必要に応じて、光透過層２側の表面にハードコート層３をさらに備えるようにしてもよい。必要に応じて、基板１側の表面にバリア層４をさらに備えるようにしてもよい。
【００１３】
この一実施形態に係る光情報記録媒体１０では、光透過層２側の表面Ｃからレーザ光を各情報信号層Ｌ０〜Ｌ３に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザ光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層２の側から各情報信号層Ｌ０〜Ｌ３に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような光情報記録媒体１０としては、例えばＢＤ−Ｒ（Blu-ray Disc Recordable Format）が挙げられる。以下では、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３に情報信号を記録するためのレーザ光が照射される表面Ｃを光照射面Ｃと称する。また、以下では、情報信号層を、基板１の側からレーザ光が入射される情報読出面側に向かって、順に、情報信号層Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２、・・・と称することとする。中間層を、光ディスク基板１の側からレーザ光が入射される情報読出面側に向かって、順に、中間層Ｓ１、Ｓ２、・・・と称することとする。
【００１４】
以下、光情報記録媒体１０を構成する基板１、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３、中間層Ｓ１〜Ｓ３、光透過層２、ハードコート層３、およびバリア層４について順次説明する。
【００１５】
（基板）
基板１は、例えば、中央に開口（以下センターホールと称する）が形成された円環形状を有する。この基板１の一主面は、例えば、凹凸面となっており、この凹凸面上に情報信号層Ｌ０が成膜される。以下では、凹凸面のうち凹部をイングルーブＧin、凸部をオングルーブＧonと称する。
【００１６】
このイングルーブＧinおよびオングルーブＧonの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブＧinおよび／またはオングルーブＧonが、例えば、アドレス情報を付加するためにウォブル（蛇行）されている。
【００１７】
基板１の直径は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下から選ばれ、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下から選ばれ、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
【００１８】
基板１の径（直径）は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
【００１９】
基板１の材料としては、例えば、プラスチック材料またはガラスを用いることができ、コストの観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができる。
【００２０】
（情報信号層）
図１Ｂは、図１Ａに示した各情報信号層の一構成例を示す模式図である。図１Ｂに示すように、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３は、例えば、無機記録層１１と、無機記録層１１の一主面に隣接して設けられた第１保護層１２と、無機記録層１１の他主面に隣接して設けられた第２保護層１３とを備える。このような構成とすることで、無機記録層１１の耐久性を向上することができる。
【００２１】
光照射面Ｃから最も奥側となる情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１〜Ｌ３のうちの少なくとも１層の無機記録層１１が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物の３元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。これにより、光情報記録媒体の情報信号層として求められる特性を満たしつつ、優れた透過特性を実現できるからである。なお、情報信号層を５層以上とした場合についても、同様である。
【００２２】
光照射面Ｃから最も奥側となる情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１〜Ｌ３のうちの少なくとも１層の無機記録層１１が、上述の３元系酸化物にさらにＺｎ酸化物を加えた４元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。Ｚｎ酸化物を加えることにより、光情報記録媒体の情報信号層として求められる特性を満たしつつ、優れた透過特性を維持しながら、Ｚｎ酸化物以外の総量を低くすることが出来る。つまり、Ｚｎ酸化物を加えることで高価なＰｄ酸化物の割合を小さくでき、コスト低減を実現できる。なお、情報信号層を５層以上とした場合についても、同様である。
【００２３】
第１保護層１２および第２保護層１３としては、誘電体層または透明導電層を用いることが好ましく、第１保護層および第２誘電体層１３のうちの一方として誘電体層を用い、他方として透明導電層を用いることも可能である。誘電体層または透明導電層が酸素バリア層として機能することで、無機記録層１１の耐久性を向上することができる。また、無機記録層１１の酸素の逃避を抑制することで、記録膜の膜質の変化（主に反射率の低下として検出）を抑制することができ、無機記録層１１として必要な膜質を確保することができる。さらに、誘電体層または透明導電層を設けることで、記録特性を向上させることができる。これは、誘電体層または透明導電層に入射したレーザ光の熱拡散が最適に制御されて、記録部分における泡が大きくなりすぎたり、Ｐｄ酸化物の分解が進みすぎて泡がつぶれるといったことが抑制され、記録時の泡の形状を最適化することができるためと考えられる。
【００２４】
第１保護層１２および第２保護層１３の材料としては、例えば、酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、フッ化物またはその混合物が挙げられる。第１保護層１２および第２保護層１３の材料としては、互いに同一または異なる材料を用いることができる。酸化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｃｒ、ＢｉおよびＭｇからなる群から選ばれる１種以上の元素の酸化物が挙げられる。窒化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、ＴａおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物、好ましくはＳｉ、ＧｅおよびＴｉからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物が挙げられる。硫化物としては、例えば、Ｚｎ硫化物が挙げられる。炭化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、ＴａおよびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物、好ましくはＳｉ、Ｔｉ，およびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物が挙げられる。フッ化物としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、ＣａおよびＬａからなる群より選ばれる１種以上の元素のフッ化物が挙げられる。これらの混合物としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｉｎ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＩＺ）、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＣＺ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2（ＩＴＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＣｅＯ2（ＩＣＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3（ＩＧＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3−ＺｎＯ（ＩＧＺＯ）、Ｓｎ2Ｏ3−Ｔａ2Ｏ5（ＴＴＯ）、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2などが挙げられる。
【００２５】
（中間層）
中間層Ｓ１〜Ｓ３は、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３をそれぞれ隔てる層である。中間層Ｓ１〜Ｓ３の光透過層２側となる面は、基板１と同様に、イングルーブＧinおよびオングルーブＧonからなる凹凸面となっている。
【００２６】
中間層Ｓ１〜Ｓ３のそれぞれの貯蔵弾性率は、好ましくは、−５℃の温度環境下において２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃の温度環境下において１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下である。中間層のそれぞれの貯蔵弾性率を上記の範囲内とすることで、環境温度が室温から−５℃にゆっくり変化した場合でも、反りの変化を０．２[ｄｅｇ]程度以下に抑えることができる。中間層のそれぞれの貯蔵弾性率は、より好ましくは、−５℃の温度環境下において２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃の温度環境下において２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下である。中間層のそれぞれの貯蔵弾性率を上記の範囲内とすることで、環境温度が室温から−５℃にゆっくり変化した場合でも、反りの変化を０．１[ｄｅｇ]程度以下に抑えることができる。
【００２７】
３層以上の情報信号層を形成する観点から、中間層の厚さの総和が、４０μｍ以上４９．５μｍ以下であることが好ましい。情報信号層を３層以上とするとともに、中間層の厚さの総和を所定の範囲内とすることにより、例えば、０．８５程度の高ＮＡ（numerical aperture）化された対物レンズを用いて、高密度記録を実現することができる。
【００２８】
中間層Ｓ１〜Ｓ３の材料としては、例えば、透明性を有する樹脂材料を用いることができる。このような樹脂材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂組成物を挙げることができ、例えば、紫外線硬化樹脂組成物を硬化させることにより、中間層Ｓ１〜Ｓ３を形成することができる。紫外線硬化樹脂組成物としては、例えば、アクリル系樹脂などのプラスチック材料を用いることができる。
【００２９】
「紫外線硬化樹脂組成物」
紫外線硬化樹脂組成物は、少なくとも、オリゴマー成分および光重合開始剤成分を含む。また、２官能以上モノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００３０】
例えば、紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応前の液状状態での２５℃における粘度が３００ｍＰａ・ｓ〜３０００ｍＰａ・ｓで、かつ単体硬化物のガラス転移温度が−５０℃〜１５℃以下であるオリゴマー成分と、光重合開始剤成分とを含む。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃以下である２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００３１】
また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、好ましくは、−５℃における貯蔵弾性率が２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃における貯蔵弾性率が１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、より好ましくは、−５℃における貯蔵弾性率が２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃における貯蔵弾性率が２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、ガラス転移点温度が−２０℃以上２０℃以下となるものである。
【００３２】
「オリゴマー成分」
オリゴマー成分としては、例えば、（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることができる。ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタアクリレートの何れかを意味するものである。（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜１５℃であるウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどを用いることができる。ウレタン（メタ）アクリレートの市販品の一例としてはＵＶ−６１００Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＥＢ２３０、ＥＢ８４０５（ダイセル・サイテック（株）製）、ＣＮ９００４（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。エポキシ（メタ）アクリレート市販品の一例としてはＥＢ３５００（ダイセル・サイテック（株）製）が挙げられる。（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば分子（繰り返し単位）中に２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する。ここで、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基の何れかを意味する。（メタ）アクリレートオリゴマーの数平均分子量は、５００〜１００００であることが好ましい。（メタ）アクリレートオリゴマーは、１種類で用いてもよく、また、２種類以上併用してもよい。
【００３３】
「光重合開始剤成分」
光重合開始剤成分としては、０．０１％アセトニトリル溶液の紫外−可視吸収スペクトルの長波長側吸収端がλ＝４０５ｎｍ未満になる光重合開始剤を好適に用いることができる。この光重合開始剤としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどが挙げられる。１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの市販品の一例としてはイルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル−２−モルフォリノプロパン−１−オンの市販品の一例としてはイルガキュア９０７（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００３４】
「２官能以上モノマー成分」
２官能以上モノマー成分としては、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。
【００３５】
２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、エトキシ化ヘキサンジオールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。上記２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは２種類以上併用することもできる。
【００３６】
カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレートの市販品の一例としてはＨＸ−６２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＣＤ５６１、ＳＲ９０３５（いずれもサートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＳＲ４９２（サートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの市販品の一例としてはＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。
【００３７】
「単官能モノマー成分」
単官能モノマー成分としては、単官能（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この単官能（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜５０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては２−フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートモノマーは１種類で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００３８】
２−フェノキシエチルアクリレートの市販品の一例としては、ライトアクリレートＰＯ−Ａ（共栄化学（株）製）が挙げられる。テトラヒドロフルフリルアクリレートの市販品の一例としては、ＳＲ２８５（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００３９】
オリゴマー成分の配合量は、例えば、紫外線硬化樹脂組成物の全量を１００質量部とすると、例えば１０重量部〜８０重量部とされる。光重合開始剤成分の配合量は、例えば０．５質量部〜１０質量部とされる。２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分を配合する場合は、以下の配合量とされる。２官能以上のモノマー成分の配合量は、２０質量部〜６０質量部とされる。単官能モノマー成分の配合量は、５質量部〜３０質量部とされる。
【００４０】
（光透過層）
光透過層２は、例えば、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を硬化してなる樹脂層である。または、円環形状を有する光透過性シートと、この光透過性シートを基板１に対して貼り合わせるための接着層とから光透過層２を構成するようにしてもよい。光透過性シートは、記録および再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））などを用いることができる。接着層の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂、感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）などを用いることができる。この光透過層２の−５℃における貯蔵弾性率は、１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定され、より好ましくは、２０ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定される。これにより、−５℃程度の低温における光情報記録媒体１０の反りを低減することができる。
【００４１】
光透過層２の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば、情報信号層を３層または４層とする場合、およそ５０μｍ〜６０μｍの範囲内に選ばれる。このような薄い光透過層２と、例えば、０．８５程度の高ＮＡ化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
【００４２】
光透過層２の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂組成物を挙げることができ、例えば、紫外線硬化樹脂組成物を硬化させることにより、光透過層２を形成することができる。紫外線硬化樹脂組成物としては、例えば、アクリル系樹脂などのプラスチック材料を用いることができる。
【００４３】
「紫外線硬化樹脂組成物」
紫外線硬化樹脂組成物は、少なくとも、オリゴマー成分および光重合開始剤成分を含む。また、２官能以上モノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００４４】
例えば、紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応前の液状状態での２５℃における粘度が３００ｍＰａ・ｓ〜３０００ｍＰａ・ｓで、かつ単体硬化物のガラス転移温度が−５０℃〜１５℃以下であるオリゴマー成分と、光重合開始剤成分とを含む。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃以下である２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００４５】
また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、−５℃における貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、より好ましくは、２０ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、ガラス転移点温度が−２０℃以上２０℃以下となるものである。
【００４６】
「オリゴマー成分」
オリゴマー成分としては、例えば、（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることができる。ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタアクリレートの何れかを意味するものである。（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜１５℃であるウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどを用いることができる。ウレタン（メタ）アクリレートの市販品の一例としてはＵＶ−６１００Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＥＢ２３０、ＥＢ８４０５（ダイセル・サイテック（株）製）、ＣＮ９００４（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。エポキシ（メタ）アクリレート市販品の一例としてはＥＢ３５００（ダイセル・サイテック（株）製）が挙げられる。（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば分子（繰り返し単位）中に２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する。ここで、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基の何れかを意味する。（メタ）アクリレートオリゴマーの数平均分子量は、５００〜１００００であることが好ましい。（メタ）アクリレートオリゴマーは、１種類で用いてもよく、また、２種類以上併用してもよい。
【００４７】
「光重合開始剤成分」
光重合開始剤成分としては、０．０１％アセトニトリル溶液の紫外−可視吸収スペクトルの長波長側吸収端がλ＝４０５ｎｍ未満になる光重合開始剤を好適に用いることができる。この光重合開始剤としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどが挙げられる。１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの市販品の一例としてはイルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル−２−モルフォリノプロパン−１−オンの市販品の一例としてはイルガキュア９０７（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００４８】
「２官能以上モノマー成分」
２官能以上モノマー成分としては、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。
【００４９】
２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、エトキシ化ヘキサンジオールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。上記２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは２種類以上併用することもできる。
【００５０】
カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレートの市販品の一例としてはＨＸ−６２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＣＤ５６１、ＳＲ９０３５（いずれもサートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＳＲ４９２（サートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの市販品の一例としてはＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。
【００５１】
「単官能モノマー成分」
単官能モノマー成分としては、単官能（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この単官能（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜５０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては２−フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートモノマーは１種類で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００５２】
２−フェノキシエチルアクリレートの市販品の一例としては、ライトアクリレートＰＯ−Ａ（共栄化学（株）製）が挙げられる。テトラヒドロフルフリルアクリレートの市販品の一例としては、ＳＲ２８５（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００５３】
オリゴマー成分の配合量は、例えば、紫外線硬化樹脂組成物の全量を１００質量部とすると、例えば１０重量部〜８０重量部とされる。光重合開始剤成分の配合量は、例えば０．５質量部〜１０質量部とされる。２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分を配合する場合は、以下の配合量とされる。２官能以上のモノマー成分の配合量は、２０質量部〜６０質量部とされる。単官能モノマー成分の配合量は、５質量部〜３０質量部とされる。
【００５４】
（ハードコート層）
ハードコート層３は、光照射面Ｃに耐擦傷性などを付与するためのものである。ハードコート層３の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、有機無機ハイブリッド系樹脂などを用いることができる。
【００５５】
（バリア層）
バリア層４は、成膜工程において基板１の裏面からの脱ガス（水分放出）を抑制するものである。また、バリア層４は、基板１の裏面における水分の吸収を抑制する防湿層としても機能する。バリア層４を構成する材料としては、基板１の裏面からの脱ガス（水分放出）を抑制することができるものであればよく特に限定されるものではないが、例示するならば、ガス透過性が低い誘電体を用いることができる。このような誘電体としては、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2などを用いることができる。バリア層４の厚さは、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下に設定することが好ましい。５ｎｍ未満であると、基板裏面からの脱ガスを抑制するバリア機能が低下する傾向がる。一方、４０ｎｍを超えると、脱ガスを抑制するバリア機能がそれ以下の膜厚の場合と殆ど変わらず、また、生産性の低下を招く傾向があるからである。バリア層４の水分透過率は、５×１０-5ｇ／ｃｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましい。
【００５６】
［光情報記録媒体の製造方法］
次に、本技術の一実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例について説明する。なお、以下では、情報信号層を、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３の４層とした場合を例にとり、製造方法の一例の説明を行う。
【００５７】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面が形成された基板１を成形する。基板１の成形の方法としては、例えば、射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００５８】
（情報信号層の形成工程）
次に、例えばスパッタリング法により、基板１上に、第１保護層１２、無機記録層１１、第２保護層１３を順次積層することにより、情報信号層Ｌ０を形成する。
以下に、第１保護層１２、無機記録層１１、および第２保護層１３の形成工程について具体的に説明する。
【００５９】
（第１保護層の成膜工程）
まず、基板１を、誘電体材料または透明導電材料を主成分として含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、基板１上に第１保護層１２を成膜する。スパッタリング法として、例えば高周波（ＲＦ）スパッタリング法、直流（ＤＣ）スパッタリング法を用いることができるが、特に直流スパッタリング法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して成膜レートが高いため、生産性を向上することができるからである。
【００６０】
（無機記録層の成膜工程）
次に、基板１を、無機記録層成膜用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。ここで、無機記録層成膜用のターゲットは、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物の３元系酸化物、またはＷ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物およびＺｎ酸化物の４元系酸化物を主成分として含んでいる。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、第１保護層１１上に無機記録層１２を成膜する。
【００６１】
（第２保護層の成膜工程）
次に、基板１を、誘電体材料または透明導電材料を主成分として含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、無機記録層１２上に第２保護層１３を成膜する。スパッタリング法として、例えば高周波（ＲＦ）スパッタリング法、直流（ＤＣ）スパッタリング法を用いることができるが、特に直流スパッタリング法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して成膜レートが高いため、生産性を向上することができるからである。
以上により、基板１上に情報信号層Ｌ０が形成される。
【００６２】
（中間層の形成工程）
次に、中間層の材料として上記した成分の配合量を適宜調整し、中間層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を調製する。このとき、中間層Ｓ１〜Ｓ３のそれぞれの貯蔵弾性率が、−５℃の温度環境下において２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃の温度環境下において１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下となるように調製を行う。より好ましくは、−５℃の温度環境下において２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃の温度環境下において２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下となるように調製を行う。次に、例えばスピンコート法により、調製された紫外線硬化樹脂を情報信号層Ｌ０上に均一に塗布する。その後、情報信号層Ｌ０上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離する。これらにより、スタンパの凹凸パターンが紫外線硬化樹脂に転写され、例えばイングルーブＧinおよびオングルーブＧonが設けられた中間層Ｓ１が情報信号層Ｌ０上に形成される。
【００６３】
（情報信号層および中間層の形成工程）
次に、上述の情報信号層Ｌ０および中間層Ｓ１を形成工程と同様にして、中間層Ｓ１上に、情報信号層Ｌ１、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ２、中間層Ｓ３、情報信号層Ｌ３をこの順序で中間層Ｓ１上に積層する。この際、成膜条件やターゲット組成などを適宜調整することにより、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３を構成する第１保護層１２、無機記録層１１、および第２保護層１３の膜厚や組成などを適宜調整するようにしてもよい。また、スピンコート法の条件を適宜調整することにより、中間層Ｓ２〜Ｓ３の厚さを適宜調整するようにしてもよい。
【００６４】
（光透過層の形成工程）
次に、光透過層の材料として上記した成分の配合量を適宜調整し、光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を調製する。このとき、光透過層２の−５℃における貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下となるように調製を行う。次に、例えばスピンコート法により、調製された紫外線硬化樹脂（ＵＶレジン）などの感光性樹脂を情報信号層Ｌ３上にスピンコートした後、紫外線などの光を感光性樹脂に照射し、硬化する。これにより、情報信号層Ｌ３上に光透過層２が形成される。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
【実施例】
【００６５】
以下、図２〜図６を参照しながら、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。情報信号層Ｌ０〜Ｌ３は、情報信号を記録可能および／または再生可能に構成される。その構成は、例えば、所望とする光情報記録媒体が再生専用型、追記型および書換可能型のうちいずれであるかに応じて適宜選択される。以下では、追記型の光情報記録媒体を例にとって具体的に説明を行う。なお、以下では、タングステン酸化物、パラジウム酸化物、銅酸化物、および亜鉛酸化物の４元系酸化物を「ＷＺＣＰＯ」と称する。
【００６６】
まず、サンプルＲａ〜Ｒｃの紫外線硬化樹脂組成物を調製し、サンプルＲａ〜Ｒｃの紫外線硬化樹脂組成物を中間層の材料として用いたサンプルＱ−１〜Ｑ−３およびサンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクを作製した。
【００６７】
＜サンプルＲａ＞
以下の成分の配合量を適宜調整し、サンプルＲａの紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
オリゴマー成分
ウレタン（メタ）アクリレート（日本合成化学（株）製 商品名：ＵＶ６１００Ｂ）
光重合開始剤成分
（チバ・ジャパン（株）製 商品名：イルガキュア１８４）
２官能以上モノマー成分
プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（サートーマー・ジャパン（株）製 商品名：ＳＲ９０３５）
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製 商品名：ＤＰＣＡ−１２０）
【００６８】
＜サンプルＲｃ＞
サンプルＲａにおける、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合することにより、サンプルＲｃの紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【００６９】
＜サンプルＲｂ＞
サンプルＲａおよびサンプルＲｃの紫外線硬化樹脂組成物を構成する各成分が、重量比で１：１となるようにしてサンプルＲｂの紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【００７０】
図２は、サンプルＲａ〜Ｒｃの環境温度に対する貯蔵弾性率を示したグラフである。図２において、サンプルＲａ、ＲｂおよびＲｃの各温度下における貯蔵弾性率を、それぞれ点Ｐａ、ＰｂおよびＰｃにより示す。
【００７１】
図２に示す貯蔵弾性率は、以下のように測定した。まず、紫外線硬化樹脂組成物を、ＰＥＴフィルムに挟み込み、硬化後膜厚が１００μｍになるよう塗布した後、メタルハライドランプ（ウシオ電機株式会社製 ＵＶＬ−４０００Ｍ３−Ｎ１、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて５００ｍＪ／ｃｍ2で硬化させた。この硬化膜の−２０℃〜１００℃の温度環境下の貯蔵弾性率を、粘弾性スペクトロメータ（セイコーインスツルメンツ社製ＤＭＳ６１００）で測定した。粘弾性スペクトロメータは、試料に対して1Ｈｚの周期的な歪み（張力）を与え、この歪みに対応して試料から発生する応力の時間的な遅れにより粘弾性を測定する。
【００７２】
サンプルＲａ〜Ｒｃの紫外線樹脂組成物を中間層の材料として用い、サンプルＱ−１〜Ｑ−３およびサンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクを作製した。
【００７３】
＜サンプルＱ−１＞
まず、射出成形法により、ポリカーボネート樹脂の原料ペレットから、直径１２０ｍｍ（φ１２０）、厚さ１．１ｍｍの透明な基板１（ポリカーボネートディスク）を成形した。
【００７４】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で基板１の一主面上に情報信号層Ｌ０を形成した。
（基板／）透明導電層／無機記録層／透明導電層
材料：（ポリカーボネート／）ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＩＴＯ
層厚：（１．１ｍｍ／）８ｎｍ／３２ｎｍ／８ｎｍ
【００７５】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ０が形成された基板上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ１５．５μｍの中間層Ｓ１を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ１の厚さとしては、１４．５ｕｍ以上１６．５ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００７６】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ１の一主面上に情報信号層Ｌ１を形成した。
透明導電層／無機記録層／透明導電層
材料：ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＩＴＯ
層厚：７ｎｍ／４０ｎｍ／８ｎｍ
【００７７】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ１の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ１９．５μｍの中間層Ｓ２を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ２の厚さとしては、１８．５ｕｍ以上２０．５ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００７８】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ２の一主面上に情報信号層Ｌ２を形成した。
透明導電層／無機記録層／誘電体層
材料：ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＳＩＺ
層厚：１０ｎｍ／３５ｎｍ／２４ｎｍ
【００７９】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ２の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ１１．５μｍの中間層Ｓ３を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ３の厚さとしては、１０．５ｕｍ以上１２．５ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００８０】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ３の一主面上に情報信号層Ｌ３を形成した。
誘電体層／無機記録層／誘電体層
材料：ＳＩＺ／ＷＺＣＰＯ／ＳＩＺ
層厚：１０ｎｍ／３５ｎｍ／３１ｎｍ
【００８１】
次に、以下の成分の配合量を適宜調整し、光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
オリゴマー成分
ウレタン（メタ）アクリレート（日本合成化学（株）製 商品名：ＵＶ６１００Ｂ）
光重合開始剤成分
（チバ・ジャパン（株）製 商品名：イルガキュア１８４）
２官能以上モノマー成分
プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（サートーマー・ジャパン（株）製 商品名：ＳＲ９０３５）
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製 商品名：ＤＰＣＡ−１２０）
【００８２】
なお、サンプルＲａ〜Ｒｃの紫外線樹脂組成物のときと同様にして、粘弾性スペクトロメータにより、−５℃における光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物の貯蔵弾性率を測定したところ、１２００ＭＰａであった。
【００８３】
次に、スピンコート法により、上記の光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を情報信号層Ｌ３の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を硬化させ、厚さ５３．５μｍの光透過層２を形成することにより、サンプルＱ−１の評価用光ディスクを得た。
【００８４】
＜サンプルＱ−２＞
中間層Ｓ１、Ｓ２およびＳ３の材料として、サンプルＲｂの紫外線硬化樹脂組成物を用いたこと以外はサンプルＱ−１と同様にして、サンプルＱ−２の評価用光ディスクを得た。
【００８５】
＜サンプルＱ−３＞
中間層Ｓ１、Ｓ２およびＳ３の材料として、サンプルＲｃの紫外線硬化樹脂組成物を用いたこと以外はサンプルＱ−１と同様にして、サンプルＱ−３の評価用光ディスクを得た。
【００８６】
＜サンプルＴ−１＞
まず、射出成形法により、ポリカーボネート樹脂の原料ペレットから、直径１２０ｍｍ（φ１２０）、厚さ１．１ｍｍの透明な基板１（ポリカーボネートディスク）を成形した。
【００８７】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で基板１の一主面上に情報信号層Ｌ０を形成した。
（基板／）透明導電層／無機記録層／透明導電層
材料：（ポリカーボネート／）ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＩＴＯ
層厚：（１．１ｍｍ／）８ｎｍ/３２ｎｍ/８ｎｍ
【００８８】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ０が形成された基板上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ２５μｍの中間層Ｓ１を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ１の厚さとしては、２４ｕｍ以上２６ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００８９】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ１の一主面上に情報信号層Ｌ１を形成した。
透明導電層／無機記録層／透明導電層
材料：ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＩＴＯ
層厚：７ｎｍ/４０ｎｍ/８ｎｍ
【００９０】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ１の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ１８μｍの中間層Ｓ２を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ２の厚さとしては、１７ｕｍ以上１９ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００９１】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ２の一主面上に情報信号層Ｌ２を形成した。
透明導電層／無機記録層／誘電体層
材料：ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＳＩＺ
層厚：１０ｎｍ/３５ｎｍ/２４ｎｍ
【００９２】
次に、サンプルＱ−１の場合と同様にして、スピンコート法により、上記の光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を情報信号層Ｌ２の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を硬化させ、厚さ５７μｍの光透過層２を形成することにより、サンプルＴ−１の評価用光ディスクを得た。
【００９３】
＜サンプルＴ−２＞
中間層Ｓ１およびＳ２の材料として、サンプルＲｂの紫外線硬化樹脂組成物を用いたこと以外はサンプルＴ−１と同様にして、サンプルＴ−２の評価用光ディスクを得た。
【００９４】
＜サンプルＴ−３＞
中間層Ｓ１およびＳ２の材料として、サンプルＲｃの紫外線硬化樹脂組成物を用いたこと以外はサンプルＴ−１と同様にして、サンプルＴ−３の評価用光ディスクを得た。
【００９５】
図３Ａに、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の評価用光ディスクの層構成を模式的に示す。図３Ｂに、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクの層構成を模式的に示す。
【００９６】
サンプルＱ−１〜Ｑ−３およびサンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクを用い、中間層Ｓ１〜Ｓ３の材料として用いる紫外線樹脂組成物の貯蔵弾性率と、環境温度の変化に対する評価用光ディスクの反り角（β角）の変化量との間の関係を以下の手順で調べた。
【００９７】
まず、２５℃の環境下における各サンプルの反り角βHを測定した。次に、各サンプルを−５℃の環境下に２４時間以上放置した後、各サンプルの反り角βLを測定した。ここで、反り角βHまたはβLは、ディスクの中心から径方向に沿って５８ｍｍの点における反り角Ｒ−ｓｋｅｗ[ｄｅｇ]であり、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ製 Ａｒｇｕｓ ｂｌｕを用いて測定した。
【００９８】
次に、各サンプルについて、−５℃の環境下の反り角と２５℃の環境下の反り角との差△β＝βL−βHをそれぞれ求めた。サンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βを図４Ａに、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βを図４Ｂにそれぞれ示す。
【００９９】
次に、各サンプルについて、図２に示す測定結果から、ある温度環境下における中間層の貯蔵弾性率を読み取り、ある温度環境下における中間層の貯蔵弾性率と、Δβとの間の関係をそれぞれ求めた。
【０１００】
図５Ａは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ａに示すサンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。なお、図５Ａに示すグラフは、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を横軸、Δβを縦軸としたグラフである。例えば、サンプルＱ−１については、図２から読み取った−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率が２８４０［ＭＰａ］であり、−５℃の温度環境下の反り角と２５℃の温度環境下の反り角との差△βが−０．３２［ｄｅｇ］である。したがって、サンプルＱ−１については、点（２９８０，−０．３２）をプロットすることになる。サンプルＱ−２およびサンプルＱ−３についても同様の手順にしたがう。
【０１０１】
次に、サンプルＱ−１〜Ｑ−３についてプロットされた貯蔵弾性率および△βの組から、近似直線を最小二乗法により求めた。該近似直線を図５Ａに直線Ａ１として示す。
【０１０２】
次に、△β＝（定数）［ｄｅｇ］の直線と直線Ａ１との交点から、ある△βに対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。例えば、△β＝０．２［ｄｅｇ］を表す直線（図５Ａに破線Ｂ１として示す。）と直線Ａ１との交点を求め、そのときの横軸の値を読み取ると、２８５３［ＭＰａ］という値が得られる。同様にして、△β＝−０．３、−０．２、−０．１、０、０．１および０．３［ｄｅｇ］に対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。
【０１０３】
次に、−５℃の温度環境下の場合と同様にして、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、Δβとの間の関係を求めた。
【０１０４】
図５Ｂは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ａに示すサンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。なお、図５Ｂに示すグラフは、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を横軸、Δβを縦軸としたグラフである。
【０１０５】
−５℃の温度環境下の場合と同様にして、サンプルＱ−１〜Ｑ−３についてプロットされた貯蔵弾性率および△βの組から、近似直線を最小二乗法により求めた。該近似直線を図５Ａに直線Ａ２として示す。さらに、△β＝−０．３、−０．２、−０．１、０、０．１、０．２および０．３［ｄｅｇ］に対応する、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。
【０１０６】
下記の表１に、各△βに対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率および２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を示す。
【０１０７】
【表１】
【０１０８】
さらに、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の場合と同様の手順により、サンプルＴ−１〜Ｔ−３について、ある温度環境下における中間層の貯蔵弾性率と、Δβとの間の関係をそれぞれ求めた。
【０１０９】
図６Ａは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ｂに示すサンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。なお、図６Ａに示すグラフは、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を横軸、Δβを縦軸としたグラフである。例えば、サンプルＴ−１については、図２から読み取った−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率は、サンプルＱ−１と同じく２９８０［ＭＰａ］である。一方、−５℃の温度環境下の反り角と２５℃の温度環境下の反り角との差△βは、−０．３［ｄｅｇ］である。したがって、サンプルＴ−１については、点（２９８０，−０．３）をプロットすることになる。サンプルＴ−２およびサンプルＴ−３についても同様の手順にしたがう。
【０１１０】
次に、サンプルＴ−１〜Ｔ−３についてプロットされた貯蔵弾性率および△βの組から、近似直線を最小二乗法により求めた。該近似直線を図６Ａに直線Ａ３として示す。
【０１１１】
次に、△β＝（定数）［ｄｅｇ］の直線と直線Ａ３との交点から、△β＝−０．３、−０．２、−０．１、０、０．１、０．２および０．３［ｄｅｇ］に対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。
【０１１２】
次に、−５℃の温度環境下の場合と同様にして、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、Δβとの間の関係を求めた。
【０１１３】
図６Ｂは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ｂに示すサンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。なお、図６Ｂに示すグラフは、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を横軸、Δβを縦軸としたグラフである。
【０１１４】
−５℃の温度環境下の場合と同様にして、サンプルＴ−１〜Ｔ−３についてプロットされた貯蔵弾性率および△βの組から、近似直線を最小二乗法により求めた。該近似直線を図６Ｂに直線Ａ４として示す。さらに、△β＝−０．３、−０．２、−０．１、０、０．１、０．２および０．３［ｄｅｇ］に対応する、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。
【０１１５】
下記の表２に、各△βに対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率および２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を示す。
【表２】
【０１１６】
表１および表２より以下のことがわかった。中間層の材料の−５℃における貯蔵弾性率を２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下とし、２５℃における貯蔵弾性率を１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下とすることにより、Δβの絶対値を、０．２[ｄｅｇ]程度以下に抑制できることが確認できた。さらに、中間層の材料の−５℃における貯蔵弾性率を２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下とし、２５℃における貯蔵弾性率を２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下とすることにより、Δβの絶対値を、０．１[ｄｅｇ]程度以下に抑制できることが確認できた。すなわち、中間層の材料の−５℃における貯蔵弾性率および２５℃における貯蔵弾性率が上述した範囲内では、低温における光ディスクの反りを低減できることが確認できた。
【０１１７】
なお、｜Δβ｜＝０．２[ｄｅｇ]を判定基準とした理由は、ＢＤ（Blu-ray Disc）の信号特性、信頼性等を考慮すると、Ｒ−ｓｋｅｗが−０．３５〜＋０．３５［ｄｅｇ］であることが求められることに基づくものである。すなわち、−０．３５〜＋０．３５［ｄｅｇ］の０．７［ｄｅｇ］の範囲内に、ｓｋｅｗ経時変化、Ｓｕｄｄｅｎ ｃｈａｎｇｅ（急な温度環境変化によるｓｋｅｗ変化）、環境変化におけるｓｋｅｗマージン、製造でのｓｋｅｗマージンを含める必要がある。これらのｓｋｅｗ経時変化、Ｓｕｄｄｅｎ ｃｈａｎｇｅ、環境変化におけるｓｋｅｗマージン、製造でのｓｋｅｗマージンの配分を考慮すると、環境変化におけるｓｋｅｗマージン（すなわち、−５℃の温度環境下でのｓｋｅｗ変化）は、最低でも０．２［ｄｅｇ］以下にする必要がある。
【０１１８】
なお、図２に示すように、一般的に、紫外線硬化樹脂組成物は、室温よりも低温の温度環境下において、貯蔵弾性率が大きくなる。そのため、室温（２５℃）でのディスクの反りが大きくても、｜Δβ｜が小さければ、ディスクの良好な再生を行うことが可能である。言い換えると、｜Δβ｜がより小さければ、室温におけるＲ−ｓｋｅｗの許容値をより大きくとることができる。すなわち、Ｒ−ｓｋｅｗの製造可能範囲が増えることになり、製造される光情報記録媒体の歩留が向上することになる。上記観点から、光情報記録媒体の製造をより容易とする点で、｜Δβ｜＝０．１[ｄｅｇ]以下とすることがより好ましい。
【０１１９】
なお、情報信号層を５層以上とした場合についても、上記と同様の議論をそのまま類推適用できると考えられる。上述したように、情報信号層が４層である場合（サンプルＱ−１〜Ｑ−３）の中間層Ｓ１〜Ｓ３の厚さの総和と、３層である場合（サンプルＴ−１〜Ｔ−３）の中間層Ｓ１およびＳ２の厚さの総和との差は、３．５μｍ程度しかない。したがって、中間層の厚さの総和が略等しければ｜Δβ｜も同様の範囲内となることが予想されるからである。
【０１２０】
[評価]
光透過層２の材料の−５℃における貯蔵弾性率を１５００ＭＰａ以下とし、中間層の材料の−５℃における貯蔵弾性率を２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下とし、２５℃における貯蔵弾性率を１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下とすることにより、｜Δβ｜を、０．２[ｄｅｇ]程度以下に抑制できることが確認できた。
【０１２１】
光情報記録媒体は、５℃以下の環境下での使用も想定し、反りをコントロールしなければならないが、低温になればなるほど、光情報記録媒体に使用されているプラスチック材料の貯蔵弾性率が大きくなり、室温に比べ、反りが大きく変化してしまう。基板１として用いられるポリカーボネート基板は、低温になると、貯蔵弾性率が大きくなることに加え、温度膨張により収縮し、ディスクの反りをプラスに変化させよう働く。一方で、中間層Ｓ１〜Ｓ３などに用いられる紫外線硬化樹脂組成物の硬化物は、低温になると、同じく貯蔵弾性率が大きくなるために、硬化収縮が大きく効いてくるようになり、反りをマイナスに変化させようと働く。このために、基板と中間層のレジン硬化物の収縮のバランスを取らないと、プラス側もしくは、マイナス側に反りが変化してしまう。
【０１２２】
中間層Ｓ１〜Ｓ３の硬化収縮は大きくは変えられないことから、本技術では、貯蔵弾性率にて、このバランスを取り、中間層Ｓ１〜Ｓ３の貯蔵弾性率をある一定の範囲内とし、低温時の中間層Ｓ１〜Ｓ３の収縮と基板１の収縮のバランスを取り、反りの変化を抑える。本技術によれば、室温でＲ−ｓｋｅｗが−０．３５〜＋０．３５［ｄｅｇ］の範囲内となるように製造された光情報記録媒体を−５℃の環境下においても、プラス側、またはマイナス側に大きく反りが変化することを抑制できる。
【０１２３】
本技術は、上述した実施の形態に限定されるものでは無く、本技術の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。
【符号の説明】
【０１２４】
１ 基板
２ 光透過層
３ ハードコート層
４ バリア層
Ｌ０〜Ｌ３ 情報信号層
Ｓ１〜Ｓ３ 中間層
１０ 光情報記録媒体
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光情報記録媒体に関する。詳しくは、３層以上の情報信号層を備える光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光情報記録媒体の高密度化が進み、例えば従来のＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）に比較して著しい大容量化を実現した高密度光ディスクなどが知られている。
【０００３】
高密度光ディスクでは、情報信号を記録および／または再生するための情報信号層がディスク基板の一主面に形成される。情報信号層の上には、例えば、スピンコート法により、光透過層・保護層が形成される。情報信号の記録再生時には、光透過層を介して情報信号層にレーザ光が照射され、該レーザ光により、情報信号の記録または再生が行われる。
【０００４】
上述した高密度光ディスクは、レーザ光が入射される情報読出面側にのみ光透過層が形成される。そのため、高密度光ディスクは、ディスクの厚み方向に非対称の構造を有し、ＤＶＤなどと比較して反り易い。
【０００５】
高密度光ディスクの反りの問題に対応するため、例えば、下記の特許文献１では、２５℃における弾性率および−２０℃における弾性率を所定の範囲内とし、かつガラス転移点温度が−２０℃〜０℃である光透過層を備える光情報記録媒体が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２７１９７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本技術の目的は、反りが抑制された光情報記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本技術は、基板と、基板上に形成される３層以上の情報信号層と、３層以上の情報信号層の間に介在される２層以上の中間層と、基板から最も離れた位置にある情報信号層上に形成される光透過層とを備え、−５℃における光透過層の貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下であり、−５℃における２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、２５℃における２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下である光情報記録媒体である。
【０００９】
本技術は、３層以上の情報信号層を備える光情報記録媒体に対し、−５℃における光透過層の貯蔵弾性率と、−５℃および２５℃における中間層の貯蔵弾性率とをコントロールすることにより、光情報記録媒体の反りの変化が抑制される。光情報記録媒体を使用する環境が極めて低温（−５℃）でも反りの変化が小さいことから、このような低温下でも安定に光情報記録媒体の記録再生が行われる。
【発明の効果】
【００１０】
本技術によれば、低温下での光情報記録媒体の反りを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１Ａは、本技術の一実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した各情報信号層の一構成例を示す模式図である。
【図２】図２は、サンプルＲａ〜Ｒｃの環境温度に対する貯蔵弾性率を示したグラフである。
【図３】図３Ａは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の評価用光ディスクの層構成を説明するための模式的断面図である。図３Ｂは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクの層構成を説明するための模式的断面図である。
【図４】図４Ａは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３について、−５℃の環境下の反り角と２５℃の環境下の反り角との差△β＝βL−βHを示すグラフである。図４Ｂは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３について、−５℃の環境下の反り角と２５℃の環境下の反り角との差△β＝βL−βHを示すグラフである。
【図５】図５Ａは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ａに示すサンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。図５Ｂは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ａに示すサンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。
【図６】図６Ａは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ｂに示すサンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。図６Ｂは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ｂに示すサンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本技術の実施形態について図面を参照しながら以下に説明する。
［光情報記録媒体の構成］
図１Ａは、本技術の一実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この光情報記録媒体１０は、例えば、追記型の光情報記録媒体であり、図１Ａに示すように、情報信号層Ｌ０、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、中間層Ｓ２、情報信号層Ｌ２、中間層Ｓ３、情報信号層Ｌ３、保護層（カバー層）である光透過層２がこの順序で基板１の一主面に積層された構成を有する。必要に応じて、光透過層２側の表面にハードコート層３をさらに備えるようにしてもよい。必要に応じて、基板１側の表面にバリア層４をさらに備えるようにしてもよい。
【００１３】
この一実施形態に係る光情報記録媒体１０では、光透過層２側の表面Ｃからレーザ光を各情報信号層Ｌ０〜Ｌ３に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザ光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層２の側から各情報信号層Ｌ０〜Ｌ３に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような光情報記録媒体１０としては、例えばＢＤ−Ｒ（Blu-ray Disc Recordable Format）が挙げられる。以下では、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３に情報信号を記録するためのレーザ光が照射される表面Ｃを光照射面Ｃと称する。また、以下では、情報信号層を、基板１の側からレーザ光が入射される情報読出面側に向かって、順に、情報信号層Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２、・・・と称することとする。中間層を、光ディスク基板１の側からレーザ光が入射される情報読出面側に向かって、順に、中間層Ｓ１、Ｓ２、・・・と称することとする。
【００１４】
以下、光情報記録媒体１０を構成する基板１、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３、中間層Ｓ１〜Ｓ３、光透過層２、ハードコート層３、およびバリア層４について順次説明する。
【００１５】
（基板）
基板１は、例えば、中央に開口（以下センターホールと称する）が形成された円環形状を有する。この基板１の一主面は、例えば、凹凸面となっており、この凹凸面上に情報信号層Ｌ０が成膜される。以下では、凹凸面のうち凹部をイングルーブＧin、凸部をオングルーブＧonと称する。
【００１６】
このイングルーブＧinおよびオングルーブＧonの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブＧinおよび／またはオングルーブＧonが、例えば、アドレス情報を付加するためにウォブル（蛇行）されている。
【００１７】
基板１の直径は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下から選ばれ、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下から選ばれ、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
【００１８】
基板１の径（直径）は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
【００１９】
基板１の材料としては、例えば、プラスチック材料またはガラスを用いることができ、コストの観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができる。
【００２０】
（情報信号層）
図１Ｂは、図１Ａに示した各情報信号層の一構成例を示す模式図である。図１Ｂに示すように、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３は、例えば、無機記録層１１と、無機記録層１１の一主面に隣接して設けられた第１保護層１２と、無機記録層１１の他主面に隣接して設けられた第２保護層１３とを備える。このような構成とすることで、無機記録層１１の耐久性を向上することができる。
【００２１】
光照射面Ｃから最も奥側となる情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１〜Ｌ３のうちの少なくとも１層の無機記録層１１が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物の３元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。これにより、光情報記録媒体の情報信号層として求められる特性を満たしつつ、優れた透過特性を実現できるからである。なお、情報信号層を５層以上とした場合についても、同様である。
【００２２】
光照射面Ｃから最も奥側となる情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１〜Ｌ３のうちの少なくとも１層の無機記録層１１が、上述の３元系酸化物にさらにＺｎ酸化物を加えた４元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。Ｚｎ酸化物を加えることにより、光情報記録媒体の情報信号層として求められる特性を満たしつつ、優れた透過特性を維持しながら、Ｚｎ酸化物以外の総量を低くすることが出来る。つまり、Ｚｎ酸化物を加えることで高価なＰｄ酸化物の割合を小さくでき、コスト低減を実現できる。なお、情報信号層を５層以上とした場合についても、同様である。
【００２３】
第１保護層１２および第２保護層１３としては、誘電体層または透明導電層を用いることが好ましく、第１保護層および第２誘電体層１３のうちの一方として誘電体層を用い、他方として透明導電層を用いることも可能である。誘電体層または透明導電層が酸素バリア層として機能することで、無機記録層１１の耐久性を向上することができる。また、無機記録層１１の酸素の逃避を抑制することで、記録膜の膜質の変化（主に反射率の低下として検出）を抑制することができ、無機記録層１１として必要な膜質を確保することができる。さらに、誘電体層または透明導電層を設けることで、記録特性を向上させることができる。これは、誘電体層または透明導電層に入射したレーザ光の熱拡散が最適に制御されて、記録部分における泡が大きくなりすぎたり、Ｐｄ酸化物の分解が進みすぎて泡がつぶれるといったことが抑制され、記録時の泡の形状を最適化することができるためと考えられる。
【００２４】
第１保護層１２および第２保護層１３の材料としては、例えば、酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、フッ化物またはその混合物が挙げられる。第１保護層１２および第２保護層１３の材料としては、互いに同一または異なる材料を用いることができる。酸化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｃｒ、ＢｉおよびＭｇからなる群から選ばれる１種以上の元素の酸化物が挙げられる。窒化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、ＴａおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物、好ましくはＳｉ、ＧｅおよびＴｉからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物が挙げられる。硫化物としては、例えば、Ｚｎ硫化物が挙げられる。炭化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、ＴａおよびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物、好ましくはＳｉ、Ｔｉ，およびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物が挙げられる。フッ化物としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、ＣａおよびＬａからなる群より選ばれる１種以上の元素のフッ化物が挙げられる。これらの混合物としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｉｎ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＩＺ）、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＣＺ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2（ＩＴＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＣｅＯ2（ＩＣＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3（ＩＧＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3−ＺｎＯ（ＩＧＺＯ）、Ｓｎ2Ｏ3−Ｔａ2Ｏ5（ＴＴＯ）、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2などが挙げられる。
【００２５】
（中間層）
中間層Ｓ１〜Ｓ３は、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３をそれぞれ隔てる層である。中間層Ｓ１〜Ｓ３の光透過層２側となる面は、基板１と同様に、イングルーブＧinおよびオングルーブＧonからなる凹凸面となっている。
【００２６】
中間層Ｓ１〜Ｓ３のそれぞれの貯蔵弾性率は、好ましくは、−５℃の温度環境下において２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃の温度環境下において１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下である。中間層のそれぞれの貯蔵弾性率を上記の範囲内とすることで、環境温度が室温から−５℃にゆっくり変化した場合でも、反りの変化を０．２[ｄｅｇ]程度以下に抑えることができる。中間層のそれぞれの貯蔵弾性率は、より好ましくは、−５℃の温度環境下において２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃の温度環境下において２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下である。中間層のそれぞれの貯蔵弾性率を上記の範囲内とすることで、環境温度が室温から−５℃にゆっくり変化した場合でも、反りの変化を０．１[ｄｅｇ]程度以下に抑えることができる。
【００２７】
３層以上の情報信号層を形成する観点から、中間層の厚さの総和が、４０μｍ以上４９．５μｍ以下であることが好ましい。情報信号層を３層以上とするとともに、中間層の厚さの総和を所定の範囲内とすることにより、例えば、０．８５程度の高ＮＡ（numerical aperture）化された対物レンズを用いて、高密度記録を実現することができる。
【００２８】
中間層Ｓ１〜Ｓ３の材料としては、例えば、透明性を有する樹脂材料を用いることができる。このような樹脂材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂組成物を挙げることができ、例えば、紫外線硬化樹脂組成物を硬化させることにより、中間層Ｓ１〜Ｓ３を形成することができる。紫外線硬化樹脂組成物としては、例えば、アクリル系樹脂などのプラスチック材料を用いることができる。
【００２９】
「紫外線硬化樹脂組成物」
紫外線硬化樹脂組成物は、少なくとも、オリゴマー成分および光重合開始剤成分を含む。また、２官能以上モノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００３０】
例えば、紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応前の液状状態での２５℃における粘度が３００ｍＰａ・ｓ〜３０００ｍＰａ・ｓで、かつ単体硬化物のガラス転移温度が−５０℃〜１５℃以下であるオリゴマー成分と、光重合開始剤成分とを含む。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃以下である２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００３１】
また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、好ましくは、−５℃における貯蔵弾性率が２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃における貯蔵弾性率が１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、より好ましくは、−５℃における貯蔵弾性率が２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃における貯蔵弾性率が２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、ガラス転移点温度が−２０℃以上２０℃以下となるものである。
【００３２】
「オリゴマー成分」
オリゴマー成分としては、例えば、（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることができる。ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタアクリレートの何れかを意味するものである。（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜１５℃であるウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどを用いることができる。ウレタン（メタ）アクリレートの市販品の一例としてはＵＶ−６１００Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＥＢ２３０、ＥＢ８４０５（ダイセル・サイテック（株）製）、ＣＮ９００４（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。エポキシ（メタ）アクリレート市販品の一例としてはＥＢ３５００（ダイセル・サイテック（株）製）が挙げられる。（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば分子（繰り返し単位）中に２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する。ここで、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基の何れかを意味する。（メタ）アクリレートオリゴマーの数平均分子量は、５００〜１００００であることが好ましい。（メタ）アクリレートオリゴマーは、１種類で用いてもよく、また、２種類以上併用してもよい。
【００３３】
「光重合開始剤成分」
光重合開始剤成分としては、０．０１％アセトニトリル溶液の紫外−可視吸収スペクトルの長波長側吸収端がλ＝４０５ｎｍ未満になる光重合開始剤を好適に用いることができる。この光重合開始剤としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどが挙げられる。１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの市販品の一例としてはイルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル−２−モルフォリノプロパン−１−オンの市販品の一例としてはイルガキュア９０７（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００３４】
「２官能以上モノマー成分」
２官能以上モノマー成分としては、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。
【００３５】
２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、エトキシ化ヘキサンジオールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。上記２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは２種類以上併用することもできる。
【００３６】
カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレートの市販品の一例としてはＨＸ−６２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＣＤ５６１、ＳＲ９０３５（いずれもサートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＳＲ４９２（サートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの市販品の一例としてはＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。
【００３７】
「単官能モノマー成分」
単官能モノマー成分としては、単官能（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この単官能（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜５０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては２−フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートモノマーは１種類で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００３８】
２−フェノキシエチルアクリレートの市販品の一例としては、ライトアクリレートＰＯ−Ａ（共栄化学（株）製）が挙げられる。テトラヒドロフルフリルアクリレートの市販品の一例としては、ＳＲ２８５（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００３９】
オリゴマー成分の配合量は、例えば、紫外線硬化樹脂組成物の全量を１００質量部とすると、例えば１０重量部〜８０重量部とされる。光重合開始剤成分の配合量は、例えば０．５質量部〜１０質量部とされる。２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分を配合する場合は、以下の配合量とされる。２官能以上のモノマー成分の配合量は、２０質量部〜６０質量部とされる。単官能モノマー成分の配合量は、５質量部〜３０質量部とされる。
【００４０】
（光透過層）
光透過層２は、例えば、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を硬化してなる樹脂層である。または、円環形状を有する光透過性シートと、この光透過性シートを基板１に対して貼り合わせるための接着層とから光透過層２を構成するようにしてもよい。光透過性シートは、記録および再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））などを用いることができる。接着層の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂、感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）などを用いることができる。この光透過層２の−５℃における貯蔵弾性率は、１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定され、より好ましくは、２０ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定される。これにより、−５℃程度の低温における光情報記録媒体１０の反りを低減することができる。
【００４１】
光透過層２の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば、情報信号層を３層または４層とする場合、およそ５０μｍ〜６０μｍの範囲内に選ばれる。このような薄い光透過層２と、例えば、０．８５程度の高ＮＡ化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
【００４２】
光透過層２の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂組成物を挙げることができ、例えば、紫外線硬化樹脂組成物を硬化させることにより、光透過層２を形成することができる。紫外線硬化樹脂組成物としては、例えば、アクリル系樹脂などのプラスチック材料を用いることができる。
【００４３】
「紫外線硬化樹脂組成物」
紫外線硬化樹脂組成物は、少なくとも、オリゴマー成分および光重合開始剤成分を含む。また、２官能以上モノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００４４】
例えば、紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応前の液状状態での２５℃における粘度が３００ｍＰａ・ｓ〜３０００ｍＰａ・ｓで、かつ単体硬化物のガラス転移温度が−５０℃〜１５℃以下であるオリゴマー成分と、光重合開始剤成分とを含む。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃以下である２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分の少なくとも何れかを含んでいてもよい。
【００４５】
また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、−５℃における貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、より好ましくは、２０ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下の範囲内に設定されたものである。また、この紫外線硬化樹脂組成物は、硬化反応後において、ガラス転移点温度が−２０℃以上２０℃以下となるものである。
【００４６】
「オリゴマー成分」
オリゴマー成分としては、例えば、（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることができる。ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタアクリレートの何れかを意味するものである。（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜１５℃であるウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどを用いることができる。ウレタン（メタ）アクリレートの市販品の一例としてはＵＶ−６１００Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＥＢ２３０、ＥＢ８４０５（ダイセル・サイテック（株）製）、ＣＮ９００４（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。エポキシ（メタ）アクリレート市販品の一例としてはＥＢ３５００（ダイセル・サイテック（株）製）が挙げられる。（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば分子（繰り返し単位）中に２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する。ここで、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基の何れかを意味する。（メタ）アクリレートオリゴマーの数平均分子量は、５００〜１００００であることが好ましい。（メタ）アクリレートオリゴマーは、１種類で用いてもよく、また、２種類以上併用してもよい。
【００４７】
「光重合開始剤成分」
光重合開始剤成分としては、０．０１％アセトニトリル溶液の紫外−可視吸収スペクトルの長波長側吸収端がλ＝４０５ｎｍ未満になる光重合開始剤を好適に用いることができる。この光重合開始剤としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどが挙げられる。１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの市販品の一例としてはイルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの市販品の一例としてはダロキュア１１７３（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。２−メチル−１[４−メチルチオ]フェニル−２−モルフォリノプロパン−１−オンの市販品の一例としてはイルガキュア９０７（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００４８】
「２官能以上モノマー成分」
２官能以上モノマー成分としては、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−４０℃〜９０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。
【００４９】
２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、エトキシ化ヘキサンジオールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。上記２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは２種類以上併用することもできる。
【００５０】
カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレートの市販品の一例としてはＨＸ−６２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＣＤ５６１、ＳＲ９０３５（いずれもサートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートの市販品の一例としてはＳＲ４９２（サートーマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの市販品の一例としてはＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）が挙げられる。
【００５１】
「単官能モノマー成分」
単官能モノマー成分としては、単官能（メタ）アクリレートモノマーを用いることができる。この単官能（メタ）アクリレートモノマーは、単体硬化物のガラス転移点温度が−５０℃〜５０℃であり、主鎖構造もしくは、および側鎖構造に脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残基を有するものである。単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては２−フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートモノマーは１種類で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００５２】
２−フェノキシエチルアクリレートの市販品の一例としては、ライトアクリレートＰＯ−Ａ（共栄化学（株）製）が挙げられる。テトラヒドロフルフリルアクリレートの市販品の一例としては、ＳＲ２８５（サートマー・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００５３】
オリゴマー成分の配合量は、例えば、紫外線硬化樹脂組成物の全量を１００質量部とすると、例えば１０重量部〜８０重量部とされる。光重合開始剤成分の配合量は、例えば０．５質量部〜１０質量部とされる。２官能以上のモノマー成分および単官能モノマー成分を配合する場合は、以下の配合量とされる。２官能以上のモノマー成分の配合量は、２０質量部〜６０質量部とされる。単官能モノマー成分の配合量は、５質量部〜３０質量部とされる。
【００５４】
（ハードコート層）
ハードコート層３は、光照射面Ｃに耐擦傷性などを付与するためのものである。ハードコート層３の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、有機無機ハイブリッド系樹脂などを用いることができる。
【００５５】
（バリア層）
バリア層４は、成膜工程において基板１の裏面からの脱ガス（水分放出）を抑制するものである。また、バリア層４は、基板１の裏面における水分の吸収を抑制する防湿層としても機能する。バリア層４を構成する材料としては、基板１の裏面からの脱ガス（水分放出）を抑制することができるものであればよく特に限定されるものではないが、例示するならば、ガス透過性が低い誘電体を用いることができる。このような誘電体としては、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2などを用いることができる。バリア層４の厚さは、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下に設定することが好ましい。５ｎｍ未満であると、基板裏面からの脱ガスを抑制するバリア機能が低下する傾向がる。一方、４０ｎｍを超えると、脱ガスを抑制するバリア機能がそれ以下の膜厚の場合と殆ど変わらず、また、生産性の低下を招く傾向があるからである。バリア層４の水分透過率は、５×１０-5ｇ／ｃｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましい。
【００５６】
［光情報記録媒体の製造方法］
次に、本技術の一実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例について説明する。なお、以下では、情報信号層を、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３の４層とした場合を例にとり、製造方法の一例の説明を行う。
【００５７】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面が形成された基板１を成形する。基板１の成形の方法としては、例えば、射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００５８】
（情報信号層の形成工程）
次に、例えばスパッタリング法により、基板１上に、第１保護層１２、無機記録層１１、第２保護層１３を順次積層することにより、情報信号層Ｌ０を形成する。
以下に、第１保護層１２、無機記録層１１、および第２保護層１３の形成工程について具体的に説明する。
【００５９】
（第１保護層の成膜工程）
まず、基板１を、誘電体材料または透明導電材料を主成分として含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、基板１上に第１保護層１２を成膜する。スパッタリング法として、例えば高周波（ＲＦ）スパッタリング法、直流（ＤＣ）スパッタリング法を用いることができるが、特に直流スパッタリング法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して成膜レートが高いため、生産性を向上することができるからである。
【００６０】
（無機記録層の成膜工程）
次に、基板１を、無機記録層成膜用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。ここで、無機記録層成膜用のターゲットは、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物の３元系酸化物、またはＷ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物およびＺｎ酸化物の４元系酸化物を主成分として含んでいる。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、第１保護層１１上に無機記録層１２を成膜する。
【００６１】
（第２保護層の成膜工程）
次に、基板１を、誘電体材料または透明導電材料を主成分として含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、無機記録層１２上に第２保護層１３を成膜する。スパッタリング法として、例えば高周波（ＲＦ）スパッタリング法、直流（ＤＣ）スパッタリング法を用いることができるが、特に直流スパッタリング法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して成膜レートが高いため、生産性を向上することができるからである。
以上により、基板１上に情報信号層Ｌ０が形成される。
【００６２】
（中間層の形成工程）
次に、中間層の材料として上記した成分の配合量を適宜調整し、中間層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を調製する。このとき、中間層Ｓ１〜Ｓ３のそれぞれの貯蔵弾性率が、−５℃の温度環境下において２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃の温度環境下において１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下となるように調製を行う。より好ましくは、−５℃の温度環境下において２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下であり、かつ、２５℃の温度環境下において２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下となるように調製を行う。次に、例えばスピンコート法により、調製された紫外線硬化樹脂を情報信号層Ｌ０上に均一に塗布する。その後、情報信号層Ｌ０上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離する。これらにより、スタンパの凹凸パターンが紫外線硬化樹脂に転写され、例えばイングルーブＧinおよびオングルーブＧonが設けられた中間層Ｓ１が情報信号層Ｌ０上に形成される。
【００６３】
（情報信号層および中間層の形成工程）
次に、上述の情報信号層Ｌ０および中間層Ｓ１を形成工程と同様にして、中間層Ｓ１上に、情報信号層Ｌ１、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ２、中間層Ｓ３、情報信号層Ｌ３をこの順序で中間層Ｓ１上に積層する。この際、成膜条件やターゲット組成などを適宜調整することにより、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３を構成する第１保護層１２、無機記録層１１、および第２保護層１３の膜厚や組成などを適宜調整するようにしてもよい。また、スピンコート法の条件を適宜調整することにより、中間層Ｓ２〜Ｓ３の厚さを適宜調整するようにしてもよい。
【００６４】
（光透過層の形成工程）
次に、光透過層の材料として上記した成分の配合量を適宜調整し、光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を調製する。このとき、光透過層２の−５℃における貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下となるように調製を行う。次に、例えばスピンコート法により、調製された紫外線硬化樹脂（ＵＶレジン）などの感光性樹脂を情報信号層Ｌ３上にスピンコートした後、紫外線などの光を感光性樹脂に照射し、硬化する。これにより、情報信号層Ｌ３上に光透過層２が形成される。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
【実施例】
【００６５】
以下、図２〜図６を参照しながら、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。情報信号層Ｌ０〜Ｌ３は、情報信号を記録可能および／または再生可能に構成される。その構成は、例えば、所望とする光情報記録媒体が再生専用型、追記型および書換可能型のうちいずれであるかに応じて適宜選択される。以下では、追記型の光情報記録媒体を例にとって具体的に説明を行う。なお、以下では、タングステン酸化物、パラジウム酸化物、銅酸化物、および亜鉛酸化物の４元系酸化物を「ＷＺＣＰＯ」と称する。
【００６６】
まず、サンプルＲａ〜Ｒｃの紫外線硬化樹脂組成物を調製し、サンプルＲａ〜Ｒｃの紫外線硬化樹脂組成物を中間層の材料として用いたサンプルＱ−１〜Ｑ−３およびサンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクを作製した。
【００６７】
＜サンプルＲａ＞
以下の成分の配合量を適宜調整し、サンプルＲａの紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
オリゴマー成分
ウレタン（メタ）アクリレート（日本合成化学（株）製 商品名：ＵＶ６１００Ｂ）
光重合開始剤成分
（チバ・ジャパン（株）製 商品名：イルガキュア１８４）
２官能以上モノマー成分
プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（サートーマー・ジャパン（株）製 商品名：ＳＲ９０３５）
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製 商品名：ＤＰＣＡ−１２０）
【００６８】
＜サンプルＲｃ＞
サンプルＲａにおける、オリゴマー成分、光重合開始剤成分、２官能以上モノマー成分に用いる材料種、各成分の配合量を適宜変え、また、必要に応じて、上述の単官能モノマー成分を配合することにより、サンプルＲｃの紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【００６９】
＜サンプルＲｂ＞
サンプルＲａおよびサンプルＲｃの紫外線硬化樹脂組成物を構成する各成分が、重量比で１：１となるようにしてサンプルＲｂの紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
【００７０】
図２は、サンプルＲａ〜Ｒｃの環境温度に対する貯蔵弾性率を示したグラフである。図２において、サンプルＲａ、ＲｂおよびＲｃの各温度下における貯蔵弾性率を、それぞれ点Ｐａ、ＰｂおよびＰｃにより示す。
【００７１】
図２に示す貯蔵弾性率は、以下のように測定した。まず、紫外線硬化樹脂組成物を、ＰＥＴフィルムに挟み込み、硬化後膜厚が１００μｍになるよう塗布した後、メタルハライドランプ（ウシオ電機株式会社製 ＵＶＬ−４０００Ｍ３−Ｎ１、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて５００ｍＪ／ｃｍ2で硬化させた。この硬化膜の−２０℃〜１００℃の温度環境下の貯蔵弾性率を、粘弾性スペクトロメータ（セイコーインスツルメンツ社製ＤＭＳ６１００）で測定した。粘弾性スペクトロメータは、試料に対して1Ｈｚの周期的な歪み（張力）を与え、この歪みに対応して試料から発生する応力の時間的な遅れにより粘弾性を測定する。
【００７２】
サンプルＲａ〜Ｒｃの紫外線樹脂組成物を中間層の材料として用い、サンプルＱ−１〜Ｑ−３およびサンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクを作製した。
【００７３】
＜サンプルＱ−１＞
まず、射出成形法により、ポリカーボネート樹脂の原料ペレットから、直径１２０ｍｍ（φ１２０）、厚さ１．１ｍｍの透明な基板１（ポリカーボネートディスク）を成形した。
【００７４】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で基板１の一主面上に情報信号層Ｌ０を形成した。
（基板／）透明導電層／無機記録層／透明導電層
材料：（ポリカーボネート／）ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＩＴＯ
層厚：（１．１ｍｍ／）８ｎｍ／３２ｎｍ／８ｎｍ
【００７５】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ０が形成された基板上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ１５．５μｍの中間層Ｓ１を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ１の厚さとしては、１４．５ｕｍ以上１６．５ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００７６】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ１の一主面上に情報信号層Ｌ１を形成した。
透明導電層／無機記録層／透明導電層
材料：ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＩＴＯ
層厚：７ｎｍ／４０ｎｍ／８ｎｍ
【００７７】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ１の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ１９．５μｍの中間層Ｓ２を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ２の厚さとしては、１８．５ｕｍ以上２０．５ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００７８】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ２の一主面上に情報信号層Ｌ２を形成した。
透明導電層／無機記録層／誘電体層
材料：ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＳＩＺ
層厚：１０ｎｍ／３５ｎｍ／２４ｎｍ
【００７９】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ２の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ１１．５μｍの中間層Ｓ３を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ３の厚さとしては、１０．５ｕｍ以上１２．５ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００８０】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ３の一主面上に情報信号層Ｌ３を形成した。
誘電体層／無機記録層／誘電体層
材料：ＳＩＺ／ＷＺＣＰＯ／ＳＩＺ
層厚：１０ｎｍ／３５ｎｍ／３１ｎｍ
【００８１】
次に、以下の成分の配合量を適宜調整し、光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を調製した。
オリゴマー成分
ウレタン（メタ）アクリレート（日本合成化学（株）製 商品名：ＵＶ６１００Ｂ）
光重合開始剤成分
（チバ・ジャパン（株）製 商品名：イルガキュア１８４）
２官能以上モノマー成分
プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（サートーマー・ジャパン（株）製 商品名：ＳＲ９０３５）
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製 商品名：ＤＰＣＡ−１２０）
【００８２】
なお、サンプルＲａ〜Ｒｃの紫外線樹脂組成物のときと同様にして、粘弾性スペクトロメータにより、−５℃における光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物の貯蔵弾性率を測定したところ、１２００ＭＰａであった。
【００８３】
次に、スピンコート法により、上記の光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を情報信号層Ｌ３の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を硬化させ、厚さ５３．５μｍの光透過層２を形成することにより、サンプルＱ−１の評価用光ディスクを得た。
【００８４】
＜サンプルＱ−２＞
中間層Ｓ１、Ｓ２およびＳ３の材料として、サンプルＲｂの紫外線硬化樹脂組成物を用いたこと以外はサンプルＱ−１と同様にして、サンプルＱ−２の評価用光ディスクを得た。
【００８５】
＜サンプルＱ−３＞
中間層Ｓ１、Ｓ２およびＳ３の材料として、サンプルＲｃの紫外線硬化樹脂組成物を用いたこと以外はサンプルＱ−１と同様にして、サンプルＱ−３の評価用光ディスクを得た。
【００８６】
＜サンプルＴ−１＞
まず、射出成形法により、ポリカーボネート樹脂の原料ペレットから、直径１２０ｍｍ（φ１２０）、厚さ１．１ｍｍの透明な基板１（ポリカーボネートディスク）を成形した。
【００８７】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で基板１の一主面上に情報信号層Ｌ０を形成した。
（基板／）透明導電層／無機記録層／透明導電層
材料：（ポリカーボネート／）ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＩＴＯ
層厚：（１．１ｍｍ／）８ｎｍ/３２ｎｍ/８ｎｍ
【００８８】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ０が形成された基板上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ２５μｍの中間層Ｓ１を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ１の厚さとしては、２４ｕｍ以上２６ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００８９】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ１の一主面上に情報信号層Ｌ１を形成した。
透明導電層／無機記録層／透明導電層
材料：ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＩＴＯ
層厚：７ｎｍ/４０ｎｍ/８ｎｍ
【００９０】
次に、スピンコート法により、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を情報信号層Ｌ１の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、サンプルＲａの紫外線樹脂組成物を硬化させ、厚さ１８μｍの中間層Ｓ２を形成した。なお、記録再生等の信号量安定化の観点から、中間層Ｓ２の厚さとしては、１７ｕｍ以上１９ｕｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００９１】
次に、スパッタリング法により、以下の層構成で中間層Ｓ２の一主面上に情報信号層Ｌ２を形成した。
透明導電層／無機記録層／誘電体層
材料：ＩＴＯ／ＷＺＣＰＯ／ＳＩＺ
層厚：１０ｎｍ/３５ｎｍ/２４ｎｍ
【００９２】
次に、サンプルＱ−１の場合と同様にして、スピンコート法により、上記の光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を情報信号層Ｌ２の一主面上に塗布した。その後、紫外線を照射することによって、光透過層形成用の紫外線硬化樹脂組成物を硬化させ、厚さ５７μｍの光透過層２を形成することにより、サンプルＴ−１の評価用光ディスクを得た。
【００９３】
＜サンプルＴ−２＞
中間層Ｓ１およびＳ２の材料として、サンプルＲｂの紫外線硬化樹脂組成物を用いたこと以外はサンプルＴ−１と同様にして、サンプルＴ−２の評価用光ディスクを得た。
【００９４】
＜サンプルＴ−３＞
中間層Ｓ１およびＳ２の材料として、サンプルＲｃの紫外線硬化樹脂組成物を用いたこと以外はサンプルＴ−１と同様にして、サンプルＴ−３の評価用光ディスクを得た。
【００９５】
図３Ａに、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の評価用光ディスクの層構成を模式的に示す。図３Ｂに、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクの層構成を模式的に示す。
【００９６】
サンプルＱ−１〜Ｑ−３およびサンプルＴ−１〜Ｔ−３の評価用光ディスクを用い、中間層Ｓ１〜Ｓ３の材料として用いる紫外線樹脂組成物の貯蔵弾性率と、環境温度の変化に対する評価用光ディスクの反り角（β角）の変化量との間の関係を以下の手順で調べた。
【００９７】
まず、２５℃の環境下における各サンプルの反り角βHを測定した。次に、各サンプルを−５℃の環境下に２４時間以上放置した後、各サンプルの反り角βLを測定した。ここで、反り角βHまたはβLは、ディスクの中心から径方向に沿って５８ｍｍの点における反り角Ｒ−ｓｋｅｗ[ｄｅｇ]であり、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ製 Ａｒｇｕｓ ｂｌｕを用いて測定した。
【００９８】
次に、各サンプルについて、−５℃の環境下の反り角と２５℃の環境下の反り角との差△β＝βL−βHをそれぞれ求めた。サンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βを図４Ａに、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βを図４Ｂにそれぞれ示す。
【００９９】
次に、各サンプルについて、図２に示す測定結果から、ある温度環境下における中間層の貯蔵弾性率を読み取り、ある温度環境下における中間層の貯蔵弾性率と、Δβとの間の関係をそれぞれ求めた。
【０１００】
図５Ａは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ａに示すサンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。なお、図５Ａに示すグラフは、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を横軸、Δβを縦軸としたグラフである。例えば、サンプルＱ−１については、図２から読み取った−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率が２８４０［ＭＰａ］であり、−５℃の温度環境下の反り角と２５℃の温度環境下の反り角との差△βが−０．３２［ｄｅｇ］である。したがって、サンプルＱ−１については、点（２９８０，−０．３２）をプロットすることになる。サンプルＱ−２およびサンプルＱ−３についても同様の手順にしたがう。
【０１０１】
次に、サンプルＱ−１〜Ｑ−３についてプロットされた貯蔵弾性率および△βの組から、近似直線を最小二乗法により求めた。該近似直線を図５Ａに直線Ａ１として示す。
【０１０２】
次に、△β＝（定数）［ｄｅｇ］の直線と直線Ａ１との交点から、ある△βに対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。例えば、△β＝０．２［ｄｅｇ］を表す直線（図５Ａに破線Ｂ１として示す。）と直線Ａ１との交点を求め、そのときの横軸の値を読み取ると、２８５３［ＭＰａ］という値が得られる。同様にして、△β＝−０．３、−０．２、−０．１、０、０．１および０．３［ｄｅｇ］に対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。
【０１０３】
次に、−５℃の温度環境下の場合と同様にして、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、Δβとの間の関係を求めた。
【０１０４】
図５Ｂは、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ａに示すサンプルＱ−１〜Ｑ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。なお、図５Ｂに示すグラフは、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を横軸、Δβを縦軸としたグラフである。
【０１０５】
−５℃の温度環境下の場合と同様にして、サンプルＱ−１〜Ｑ−３についてプロットされた貯蔵弾性率および△βの組から、近似直線を最小二乗法により求めた。該近似直線を図５Ａに直線Ａ２として示す。さらに、△β＝−０．３、−０．２、−０．１、０、０．１、０．２および０．３［ｄｅｇ］に対応する、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。
【０１０６】
下記の表１に、各△βに対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率および２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を示す。
【０１０７】
【表１】
【０１０８】
さらに、サンプルＱ−１〜Ｑ−３の場合と同様の手順により、サンプルＴ−１〜Ｔ−３について、ある温度環境下における中間層の貯蔵弾性率と、Δβとの間の関係をそれぞれ求めた。
【０１０９】
図６Ａは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ｂに示すサンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。なお、図６Ａに示すグラフは、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を横軸、Δβを縦軸としたグラフである。例えば、サンプルＴ−１については、図２から読み取った−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率は、サンプルＱ−１と同じく２９８０［ＭＰａ］である。一方、−５℃の温度環境下の反り角と２５℃の温度環境下の反り角との差△βは、−０．３［ｄｅｇ］である。したがって、サンプルＴ−１については、点（２９８０，−０．３）をプロットすることになる。サンプルＴ−２およびサンプルＴ−３についても同様の手順にしたがう。
【０１１０】
次に、サンプルＴ−１〜Ｔ−３についてプロットされた貯蔵弾性率および△βの組から、近似直線を最小二乗法により求めた。該近似直線を図６Ａに直線Ａ３として示す。
【０１１１】
次に、△β＝（定数）［ｄｅｇ］の直線と直線Ａ３との交点から、△β＝−０．３、−０．２、−０．１、０、０．１、０．２および０．３［ｄｅｇ］に対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。
【０１１２】
次に、−５℃の温度環境下の場合と同様にして、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、Δβとの間の関係を求めた。
【０１１３】
図６Ｂは、サンプルＴ−１〜Ｔ−３の２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率と、図４Ｂに示すサンプルＴ−１〜Ｔ−３の△βとの間の関係を示すグラフである。なお、図６Ｂに示すグラフは、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を横軸、Δβを縦軸としたグラフである。
【０１１４】
−５℃の温度環境下の場合と同様にして、サンプルＴ−１〜Ｔ−３についてプロットされた貯蔵弾性率および△βの組から、近似直線を最小二乗法により求めた。該近似直線を図６Ｂに直線Ａ４として示す。さらに、△β＝−０．３、−０．２、−０．１、０、０．１、０．２および０．３［ｄｅｇ］に対応する、２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を求めた。
【０１１５】
下記の表２に、各△βに対応する、−５℃の温度環境下における貯蔵弾性率および２５℃の温度環境下における貯蔵弾性率を示す。
【表２】
【０１１６】
表１および表２より以下のことがわかった。中間層の材料の−５℃における貯蔵弾性率を２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下とし、２５℃における貯蔵弾性率を１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下とすることにより、Δβの絶対値を、０．２[ｄｅｇ]程度以下に抑制できることが確認できた。さらに、中間層の材料の−５℃における貯蔵弾性率を２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下とし、２５℃における貯蔵弾性率を２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下とすることにより、Δβの絶対値を、０．１[ｄｅｇ]程度以下に抑制できることが確認できた。すなわち、中間層の材料の−５℃における貯蔵弾性率および２５℃における貯蔵弾性率が上述した範囲内では、低温における光ディスクの反りを低減できることが確認できた。
【０１１７】
なお、｜Δβ｜＝０．２[ｄｅｇ]を判定基準とした理由は、ＢＤ（Blu-ray Disc）の信号特性、信頼性等を考慮すると、Ｒ−ｓｋｅｗが−０．３５〜＋０．３５［ｄｅｇ］であることが求められることに基づくものである。すなわち、−０．３５〜＋０．３５［ｄｅｇ］の０．７［ｄｅｇ］の範囲内に、ｓｋｅｗ経時変化、Ｓｕｄｄｅｎ ｃｈａｎｇｅ（急な温度環境変化によるｓｋｅｗ変化）、環境変化におけるｓｋｅｗマージン、製造でのｓｋｅｗマージンを含める必要がある。これらのｓｋｅｗ経時変化、Ｓｕｄｄｅｎ ｃｈａｎｇｅ、環境変化におけるｓｋｅｗマージン、製造でのｓｋｅｗマージンの配分を考慮すると、環境変化におけるｓｋｅｗマージン（すなわち、−５℃の温度環境下でのｓｋｅｗ変化）は、最低でも０．２［ｄｅｇ］以下にする必要がある。
【０１１８】
なお、図２に示すように、一般的に、紫外線硬化樹脂組成物は、室温よりも低温の温度環境下において、貯蔵弾性率が大きくなる。そのため、室温（２５℃）でのディスクの反りが大きくても、｜Δβ｜が小さければ、ディスクの良好な再生を行うことが可能である。言い換えると、｜Δβ｜がより小さければ、室温におけるＲ−ｓｋｅｗの許容値をより大きくとることができる。すなわち、Ｒ−ｓｋｅｗの製造可能範囲が増えることになり、製造される光情報記録媒体の歩留が向上することになる。上記観点から、光情報記録媒体の製造をより容易とする点で、｜Δβ｜＝０．１[ｄｅｇ]以下とすることがより好ましい。
【０１１９】
なお、情報信号層を５層以上とした場合についても、上記と同様の議論をそのまま類推適用できると考えられる。上述したように、情報信号層が４層である場合（サンプルＱ−１〜Ｑ−３）の中間層Ｓ１〜Ｓ３の厚さの総和と、３層である場合（サンプルＴ−１〜Ｔ−３）の中間層Ｓ１およびＳ２の厚さの総和との差は、３．５μｍ程度しかない。したがって、中間層の厚さの総和が略等しければ｜Δβ｜も同様の範囲内となることが予想されるからである。
【０１２０】
[評価]
光透過層２の材料の−５℃における貯蔵弾性率を１５００ＭＰａ以下とし、中間層の材料の−５℃における貯蔵弾性率を２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下とし、２５℃における貯蔵弾性率を１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下とすることにより、｜Δβ｜を、０．２[ｄｅｇ]程度以下に抑制できることが確認できた。
【０１２１】
光情報記録媒体は、５℃以下の環境下での使用も想定し、反りをコントロールしなければならないが、低温になればなるほど、光情報記録媒体に使用されているプラスチック材料の貯蔵弾性率が大きくなり、室温に比べ、反りが大きく変化してしまう。基板１として用いられるポリカーボネート基板は、低温になると、貯蔵弾性率が大きくなることに加え、温度膨張により収縮し、ディスクの反りをプラスに変化させよう働く。一方で、中間層Ｓ１〜Ｓ３などに用いられる紫外線硬化樹脂組成物の硬化物は、低温になると、同じく貯蔵弾性率が大きくなるために、硬化収縮が大きく効いてくるようになり、反りをマイナスに変化させようと働く。このために、基板と中間層のレジン硬化物の収縮のバランスを取らないと、プラス側もしくは、マイナス側に反りが変化してしまう。
【０１２２】
中間層Ｓ１〜Ｓ３の硬化収縮は大きくは変えられないことから、本技術では、貯蔵弾性率にて、このバランスを取り、中間層Ｓ１〜Ｓ３の貯蔵弾性率をある一定の範囲内とし、低温時の中間層Ｓ１〜Ｓ３の収縮と基板１の収縮のバランスを取り、反りの変化を抑える。本技術によれば、室温でＲ−ｓｋｅｗが−０．３５〜＋０．３５［ｄｅｇ］の範囲内となるように製造された光情報記録媒体を−５℃の環境下においても、プラス側、またはマイナス側に大きく反りが変化することを抑制できる。
【０１２３】
本技術は、上述した実施の形態に限定されるものでは無く、本技術の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。
【符号の説明】
【０１２４】
１ 基板
２ 光透過層
３ ハードコート層
４ バリア層
Ｌ０〜Ｌ３ 情報信号層
Ｓ１〜Ｓ３ 中間層
１０ 光情報記録媒体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
上記基板上に形成される３層以上の情報信号層と、
上記３層以上の情報信号層の間に介在される２層以上の中間層と、
上記基板から最も離れた位置にある情報信号層上に形成される光透過層と
を備え、
−５℃における上記光透過層の貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下であり、
−５℃における上記２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、
２５℃における上記２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下である光情報記録媒体。
【請求項２】
−５℃における上記２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下であり、
２５℃における上記２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下である請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
上記光透過層が、紫外線硬化樹脂組成物を主成分とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
上記２層以上の中間層の厚さの総和が、４０μｍ以上４９．５μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
上記基板が、ポリカーボネート系樹脂を主成分とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項１】
基板と、
上記基板上に形成される３層以上の情報信号層と、
上記３層以上の情報信号層の間に介在される２層以上の中間層と、
上記基板から最も離れた位置にある情報信号層上に形成される光透過層と
を備え、
−５℃における上記光透過層の貯蔵弾性率が、１５００ＭＰａ以下であり、
−５℃における上記２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２８６０ＭＰａ以上２９５０ＭＰａ以下であり、
２５℃における上記２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、１８５０ＭＰａ以上２４４０ＭＰａ以下である光情報記録媒体。
【請求項２】
−５℃における上記２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２８８０ＭＰａ以上２９２０ＭＰａ以下であり、
２５℃における上記２層以上の中間層のそれぞれの貯蔵弾性率が、２０００ＭＰａ以上２２８０ＭＰａ以下である請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
上記光透過層が、紫外線硬化樹脂組成物を主成分とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
上記２層以上の中間層の厚さの総和が、４０μｍ以上４９．５μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
上記基板が、ポリカーボネート系樹脂を主成分とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１２−１６４３７５（Ｐ２０１２−１６４３７５Ａ）
【公開日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２２１８４（Ｐ２０１１−２２１８４）
【出願日】平成２３年２月３日（２０１１．２．３）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月３日（２０１１．２．３）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]