入射光調節装置

【課題】極小型のコイルを実現し、全構成部材を小型可能な入射光調節装置を提供する。
【解決手段】基板に形成された第１の開口１０３と、回転軸を中心に回動する絞り羽根２０１（入射光調節手段）を有し、絞り羽根２０１が、第１の開口１０３に重なる第１の静止位置と、第１の開口１０３から退避した第２の静止位置に相互に回動する事で、第１の開口１０３を通過する入射光を調節し、絞り羽根２０１の回転軸位置に、絞り羽根２０１に直接的に接合され、絞り羽根２０１の回動平面方向に着磁された永久磁石３０１と、芯材４０１、４０３に巻線され、各々の端部が永久磁石３０１に対向して配置された一対のコイル４０２、４０４を具備し、コイル４０２、４０４への通電状態により発生する磁力と永久磁石３０１により発生する磁場の相互作用により絞り羽根２０１を第１と第２の静止位置に相互に回動させる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入射光調節装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、撮像機能を有した携帯機器やマイクロビデオスコープ等の小型撮像機器の高画質化に伴い、レンズや絞り、光学フィルター等の光学要素も、従来の固定焦点レンズ、固定開口絞り、固定特性フィルターから、フォーカスレンズ、可変絞り、可変特性フィルターを適用する要求が高まっており、小型撮像機器に適用する光学要素を小型化する方法として多くの提案がなされている。
【０００３】
この様な可変絞りの例として、特許文献１は、基板を多層基板構造として大きな透磁率を有する物質の膜をコアとするコイルをプリント基板上に作成し、このように構成されたコイル体に、少なくとも二極以上に着磁した円筒形のローターをはめこみ、このローターに通過光量を調節する羽根部材をシャフトを介して固定している。
【０００４】
また、上記特許文献に限らず、従来の技術では、二極以上に着磁した円筒形の永久磁石と磁性体からなるコアに巻線したコイルにより、永久磁石に対して回転力を与えている。
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−２０３６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示された発明では、大きな透磁率を有する物質の膜をコアとしている為、永久磁石とコア間に磁気的吸引力が常に生じている。この状態でコイルへの通電により永久磁石に回転力を与える為には、永久磁石により生じるコア内の磁力を反転させ、コイル端部に反極性の磁極を生成する必要がある。
【０００７】
通常、コア長が十分に長く、コイルの巻数が十分に確保出来る場合はこの様な構成とする事でコイルへの通電により発生する磁力を効率的に利用する事が出来る。しかしながら、コイルを含め入射光調節装置を非常に小型化する必要が有る場合、コア長やコイルへの通電による磁力を十分に得ることは難しい。
【０００８】
本願は上記のこれらの点に鑑みてなされたものであって、極小型のコイルを用いる事や簡略な構成とする事で、全構成部材を小型可能な入射光調節装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の入射光調節装置は、基板に形成された第１の開口と、回転軸を中心に回動する入射光調節手段を有し、入射光調節手段が、第１の開口に重なる第１の静止位置と、第１の開口から退避した第２の静止位置に相互に回動する事で、第１の開口を通過する入射光を調節する入射光調節装置において、入射光調節手段の回転軸位置に、入射光調節手段に直接的に接合され、入射光調節手段の回動平面方向に着磁された永久磁石と、芯材に巻線され、各々の端部が永久磁石に対向して配置された一対のコイルを具備し、コイルへの通電状態により発生する磁力と永久磁石により発生する磁場の相互作用により入射光調節手段を第１の静止位置と第２の静止位置に相互に回動させる事を特徴とする。
【００１０】
本発明の入射光調節装置においては、入射光調節手段が第１の静止位置から第２の静止位置に回動し配置される間に、永久磁石の着磁方向と、一対のコイルが対向する方向とが傾きを持つことが好ましい。
【００１１】
本発明の入射光調節装置においては、入射光調節手段の回動角をαとし、第１の開口中心と、入射光調節手段の回転軸を結ぶ軸を第１の軸とし、入射光調節手段の回転軸を通り、第１の軸に直交する軸を第２の軸とした場合、永久磁石の着磁方向が、入射光調節手段が第１の静止位置に配置されている状態において、第１の軸に対して入射光調節手段が第２の静止位置から前期第１の静止位置へ向かう方向に略（１／２）α回転した方向であると共に、一対のコイルの各々の端部が、第２の軸方向より、永久磁石に対向している事が望ましい。
【００１２】
本発明の入射光調節装置においては、永久磁石が円柱形状に成型されており、円柱状の永久磁石を入射光調節手段に直接接合する事で、円柱状の永久磁石を入射光調節手段の回転の軸となる部材として用いる事が好ましい。
【００１３】
本発明の入射光調節装置においては、芯材が、一部を欠いたリング形状に成型されており、芯材の両端部に巻線された１対のコイルと、芯材の少なくとも１箇所に形成された位置決め部と、基板に形成された位置決め受け部を具備し、位置決め部と位置決め受け部を嵌合するとよい。
【００１４】
本発明の入射光調節装置においては、入射光調節手段が第１の開口よりも小さい第２の開口を有する絞り羽根であることが望ましい。
【００１５】
本発明の入射光調節装置においては、永久磁石の回動平面と直交し、永久磁石を内包する面内に閉じた状態で配置された磁性部材とを更に具備し、その磁性部材は、基板、入射光調節手段、永久磁石及びコイルを内包する枠部材であること、又は、更に枠部材に勘装されたシールド部材であることが望ましい。
【００１６】
本発明の入射光調節装置においては、入射光調節手段が、透過する光量もしくは波長範囲を制限する光学フィルターであることが好ましい。また、入射光調節手段が、光学レンズであることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明にかかる入射光調節装置は、極小型のコイルを用いる事で、全構成部材を小型可能な入射光調節装置を提供することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本発明にかかる入射光調節装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
（第１の実施の形態）
図１乃至図４を用いて第１の実施の形態について説明する。尚、本実施の形態では、入射光調節手段を絞り羽根とした入射光調節装置を具体例として説明する。入射光調節装置は、例えば可変絞り装置に適用できる。
【００１９】
まず、図１を用いて本実施の形態の入射光調節装置の構成を説明する。図１は、入射光調節装置の分解斜視図を示している。図１に示す様に入射光調節装置は、第１の基板１０２、第２の基板１０１、絞り羽根２０１、永久磁石３０１、コイル４０２、及びコイル４０４を備える。第１の基板１０２には、第１の開口１０４、回転軸受け穴１０６、及び、規制ピン１０７が形成されている。第２の基板１０１には、第１の開口１０４以上の開口径を備える開口１０３、及び回転軸受け穴１０５が形成されている。絞り羽根（入射光調節手段）２０１には、第１の開口１０４よりも小さな開口径を備えた第２の開口２０２が形成されている。絞り羽根２０１には、その回転中心位置に中心軸３０１ｃが一致するように、円柱状の永久磁石３０１が接合されている。第２の基板１０１には、非磁性体の芯材４０１、４０３に巻線された一対のコイル４０２、４０４が設置されている。なお、開口１０３は、第１の開口１０４と同一の開口径を備えていても良い。以下各構成要素の詳細を示す。
【００２０】
第１の基板１０２に形成された平面視円形の第１の開口１０４の中心位置が光軸Ｃとなる。この光軸Ｃ上には、第２の基板１０１の平面視円形の開口１０３の中心も位置する。第１の基板１０２に形成された規制ピン１０７は、絞り羽根２０１が突き当てられた状態において、絞り羽根２０１に形成された平面視円形の第２の開口２０２の中心位置が光軸Ｃ上に配置される位置に形成されている。
【００２１】
絞り羽根２０１に接合された円柱状の永久磁石３０１は、下端部３０１ａが第１の基板１０２に形成された回転軸受け穴１０６に、上端部３０１ｂが第２の基板１０１に形成された回転軸受け穴１０５に、それぞれ嵌合される。これにより、絞り羽根２０１は、円柱状の永久磁石３０１の中心軸３０１ｃを回転中心として回動可能となっている。また、円柱状の永久磁石３０１の上端部３０１ｂは、第２の基板１０１において対向設置された一対のコイル４０２、４０４の端部４０２ａ、４０４ａ間に配置されるとともに、これらの端部４０２ａ、４０４ａとそれぞれ対向する様に、第２の基板１０１より突出している。
【００２２】
一対のコイル４０２、４０４は、例えば樹脂材や非磁性金属等の非磁性材料よりなる芯材に巻線され、円柱状の永久磁石３０１を挟む形で端部４０２ａ、４０４ａが互いに対向配置されている。コイル４０２、４０４に通電する事で発生する磁極は、円柱状の永久磁石３０１にそれぞれ対向する端部４０２ａ、４０４ａにおいて、互いに常に逆極性となる様に巻線されている。
【００２３】
更に、図２を用いて、柱状体の永久磁石３０１の着磁方向と一対のコイル４０２、４０４の配置の望ましい形態を示す。ここで、図２は、絞り羽根２０１の動作状態を示す平面図であって、第２の基板１０１を省略した図である。図２に示す様に、入射光調節装置の開口が絞り込まれた状態（図中絞り羽根２０１を実線で図示：この状態を第１の静止状態とする）と入射光調節装置の開口が開放された状態（図中絞り羽根２０１を破線で図示：この状態を第２の静止状態とする）において、第１の基板１０２に形成された第１の開口１０４の中心と円柱状の永久磁石３０１の中心軸３０１ｃを結ぶ軸を第１の軸Ａとし、円柱状の永久磁石３０１の中心軸３０１ｃを通り、第１の軸Ａに直交する軸を第２の軸Ｂとし、絞り羽根２０１の回動角をαとすると、円柱状の永久磁石３０１の着磁方向Ｍ（Ｓ極からＮ極へ向かう方向）が、第１の静止状態において、第１の軸Ａに対して図中反時計回りに略（１／２）α回転した方向となっている。且つ、一対のコイル４０２、４０４は、その端部４０２ａ、４０４ａが、柱状体の永久磁石３０１に対して第２の軸Ｂ方向においてそれぞれ対向する様に配置されている。
【００２４】
次に図３及び図４を用いて本実施の形態の入射光調節装置の動作を説明する。図３は、入射光調節装置の開口が絞り込まれた状態を示す平面図であり、第２の基板１０１を省略している。
【００２５】
図３に示す様に、円柱状の永久磁石３０１の着磁方向Ｍが、第１の開口１０４に近い側をＳ極、第１の開口１０４から遠い側をＮ極とするように設定された場合、コイル４０２の円柱状の永久磁石３０１に対向する端部４０２ａをＳ極、コイル４０４の円柱状の永久磁石３０１に対向する端部４０４ａをＮ極とする事で、円柱状の永久磁石３０１には図中反時計回りの回転力が生じ、絞り羽根２０１は規制ピン１０７に突き当てられた状態となる様に回動する。このとき、第１の開口１０４と第２の開口２０２は中心が光軸Ｃに一致し、これにより入射光調節装置の開口径は、絞り羽根２０１に形成された第２の開口２０２となる。
【００２６】
図４は、入射光調節装置の開口が開放となる状態を示す平面図であり、第２の基板１０１を省略している。コイル４０２の円柱状の永久磁石３０１に対向する端部４０２ａをＮ極、コイル４０４の円柱状の永久磁石３０１に対向する端部４０４ａをＳ極とする事で、円柱状の永久磁石３０１には図中時計回りの回転力が生じ、絞り羽根２０１は、第１の開口１０４から退避した位置へ回動し、絞り羽根２０１は、第２の基板１０１の下面において外周面に沿うように形成された側壁１０１ａに突き当てられる事で停止する。このとき、入射光調節装置の開口径は、第１の基板１０２に形成された第１の開口１０４となる。
【００２７】
以上述べたように、絞り羽根２０１が第１の静止位置から第２の静止位置に回動して配置される間、永久磁石３０１の着磁方向と、一対のコイル４０２、４０４が対向する方向（第２の軸Ｂ）は常に傾きを持っているため、絞り羽根２０１の回動が可能となる。
【００２８】
本実施の形態に示す様に、一対のコイル４０２、４０４の芯材が非磁性材料により形成されている為、コイル４０２、４０４への通電を行っていないときには円柱状の永久磁石３０１との間に磁気的吸引力が発生しない。このため、コイルへ通電する事により生成される磁力が小さくても円柱状の永久磁石３０１に回転力を与える事が出来る。したがって、コイルを小型化しても絞り羽根２０１を回動させることが可能であるから、入射光調節装置の小型化を実現することができる。
【００２９】
本発明者の実験結果に基づく実例を挙げると、φ１ｍｍのサマリウムコバルト系の永久磁石に対し、磁性材料からなるコアに１００巻した一対のコイルに１００ｍＡの駆動電流を流しても永久磁石を回動する事が出来なかったのに対し、同一の永久磁石に非磁性材料からなる芯材に８０巻した一対のコイルに２０ｍＡの駆動電流を流す事で永久磁石を回動する事に成功した。
【００３０】
また、本実施の形態に示す様に、永久磁石３０１を円柱形状に成型し、絞り羽根２０１に直接接合する事で、円柱状の永久磁石３０１を絞り羽根２０１の回転の軸となる部材とする事で、軸部材を極力細くする事が可能となり、入射光調節装置をより小型化する事が出来る。
【００３１】
また、本実施の形態における変形例について、図５及び図６を用いて説明する。図５に示すように、入射光調節装置を磁性体からなる鏡筒５０１に内包され保持されていても良く、入射光調節装置以外の光学系である例えば、光学レンズや光学フィルター等を保持する鏡筒と共用しても良い。
【００３２】
絞り羽根２０１に設けられた円柱状の永久磁石３０１から生じる磁場と永久磁石３０１を挟む形で対向配置された一対のコイル４０２及び４０４から生じる磁場の相互作用により、絞り羽根を２０１に回転力を発生させる。また、円柱状の永久磁石301の着磁方向や一対のコイル４０２及び４０３の配置、各コイルに流す電流により生じる磁場は、絞り羽根２０１の回転動作が最適となる様に設定される。
【００３３】
上述の構成により、例えば、地磁気や磁場を発生する周辺装置からの磁場が生じた場合、絞り羽根２０１が所望の回転動作を示さなくなる恐れがあるが、本変形例に示すよう、入射光調節装置を磁性体からなる鏡筒５０１で保持する事で、外部磁場による影響が鏡筒５０１内部に及ぼさない為、入射光調節装置を安定して駆動する事ができる。
【００３４】
また、本実施の形態における他の変形例として、図６に示すように入射光調節装置が鏡筒５０１に内包し保持されている。更に鏡筒５０１が入射光調節装置を保持する部位の外周にて、磁性を有するシールド部材６０１を備える構成でも良い。本変形例においては、鏡筒５０２が磁性を有する必要がなくなり、先の変形例に比べ設計自由度が増すという利点を得る。
【００３５】
第１の実施の形態及び変形例において、第２の静止位置における位置決めを第２の基板１０１に形成された側壁１０１ａに突き当てる事で実現しているが、側壁１０１ａに代えて、第２の基板１０１の下面に規制ピン１０７と同様の規制ピンを設けても良い。
【００３６】
また、第１の基板１０２、第２の基板１０１、絞り羽根２０１等も非磁性材料よりなる事が望ましい。
【００３７】
さらに、絞り羽根２０１を光学レンズに置き換えることによって、光学レンズ脱着装置として用いることも可能である。
【００３８】
また、絞り羽根２０１を光学フィルターに置き換えることによって、透過光量もしくは透過波長域を変える光学フィルター脱着装置として用いることも可能である。
【００３９】
（第２の実施の形態）
次に、図７及び図８を用いて第２の実施の形態について説明する。尚、第２の実施の形態も第１の実施の形態と同様に、入射光調節手段を絞り羽根とした入射光調節装置を具体例として説明する。第１の基板１０２及び絞り羽根２０１の構成は第１の実施の形態と同一であるため、それらの説明及び図示は省略する。第１の実施の形態と同一の構成要素には、同一の付番し説明を省略する。
【００４０】
以下、第２の実施の形態の入射光調節装置の構成を説明する。図７は第２の実施の形態の入射光調節装置の構成を示す斜視図である。図７に示す様に、第２の実施の形態の入射光調節装置は、一部を欠いたリング形状の非磁性体からなる芯材４０５の両端に一対のコイル４０２、４０４が形成されており、芯材４０５の中央部に位置決め部となる直方の中空を有する直方体状の位置決め部４０６が形成されている点と、第２の基板１０１の下面に直方体状の突起部である位置決め受け部１０８が形成されている点と、で第１の実施の形態と異なる。一対のコイル４０２、４０４の端部４０２ａ、４０４ａが互いに対向している点は第１の実施の形態と同様である。
【００４１】
図７に示す様に位置決め受け部１０８と位置決め部４０６は、互いを嵌合したときに、一対のコイル４０２、４０４の端部４０２ａ、４０４ａが円柱状の永久磁石３０１にそれぞれ対向するような位置に形成されている。そこで、位置決め受け部１０８と位置決め部４０６を嵌合し接着する事で、一対のコイル４０２、４０４の円柱状の永久磁石３０１に対する位置決めを容易に行う事が出来る。尚、図７に示す構成は第１の実施の形態の変形例についても同様の構成をとる事が可能である。
【００４２】
また、図８に示す様に位置決め受け部１０８を第２の基板１０１の下部に形成し、芯材４０５及び一対のコイル４０２、４０４を第２の基板１０１の下部に配置しても良い。この場合も、位置決め受け部１０８と位置決め部４０６を互いに嵌合接着して、芯材４０５を固定する。この様な構成とする事で、一対のコイル４０２、４０４の円柱状の永久磁石３０１に対する位置決めを容易に行えると共に入射光調節装置の外周面に配置される構成部材を無くす事が可能となる。尚、図８に示す構成は第１の実施の形態についても同様の構成をとる事が可能である。
【００４３】
また、第２の実施の形態にあっても第１の実施の形態と同様に、絞り羽根を光学レンズに置き換えることによって、光学レンズ脱着装置として用いることも可能であることは言うまでもない。
【００４４】
また、第２の実施の形態にあっても第１実施の形態と同様に、絞り羽根を光学フィルターに置き換えることによって、透過光量もしくは透過波長域を変える光学フィルター脱着装置として用いることも可能であることは言うまでもない。
【００４５】
（第３の実施の形態）
次に、図１を用いて第３の実施の形態について説明する。尚、第３の実施の形態も、第１及び第２の実施の形態と同様に、入射光調整手段を絞り羽根とした入射光調節装置を具体例として説明する。
【００４６】
第３の実施の形態において、一対のコイル４０２、４０４は磁性材料よりなる芯材に巻き線されている。第１の実施の形態では、コイルの芯材として、非磁性材料を用いているが、これは、永久磁石３０１にネオジウム系やサマリウムコバルト系といった高残留磁束密度の磁石を用いた場合に適している。一方、永久磁石３０１にフェライト系といった残留磁束密度の比較的低い磁石を用いた場合には、第３の実施の形態に示した様に、コイルの芯材として磁性材料を用いた方が適している。
【００４７】
コイルの芯材として、磁性材料を用いた方が適しているか、非磁性材料を用いた方が適しているかは、永久磁石３０１の残留磁束と、コイル４０２、４０４により発生する磁束とにより次の条件により決定される。
（１）コイルの芯材に非磁性材料を用いた際、磁石の残留磁束とコイルの発生磁束が同等か若しくは磁石の残留磁束に比べてコイルの発生磁束の方が高い場合は、コイルの芯材として磁性材料と非磁性材料の両方を用いることが出来る。
（２）コイルの芯材に磁性材料を用いた際、磁石の残留磁束がコイルの発生磁束より高い場合は、コイルの芯材として非磁性材料を用いる。
（３）コイルの芯材に磁性材料を用いた際、磁石の残留磁束がコイルの発生磁束と同等もしくは低い場合は、コイルの芯材として磁性材料を用いる。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
以上のように、本発明にかかる入射光調節装置は、携帯機器、マイクロビデオスコープ
その他の小型撮像機器に用いる入射光調節装置に適している。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】第１の実施の形態に係る入射光調節装置の構成を示す分解斜視図である。
【図２】第１の実施の形態に係る入射光調節装置の動作状態を示す平面図である。
【図３】第１の実施の形態に係る入射光調節装置の開口が絞り込まれた状態を示す平面図である。
【図４】第１の実施の形態に係る入射光調節装置の開口が開放となった状態を示す平面図である。
【図５】第１の実施の形態の変形例に係る入射光調節装置の構成を示す斜視図である。
【図６】第１の実施の形態の変形例に係る入射光調節装置の構成を示す斜視図である。
【図７】第２の実施の形態に係る入射光調節装置の構成を示す分解斜視図である。
【図８】第２の実施の形態の変形例に係る入射光調節装置の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５０】
１０２第１の基板
１０４第１の開口
３０１永久磁石
２０１絞り羽根（入射光調節手段）
３０１ｃ中心軸（回転軸）
４０１芯材
４０２コイル
４０３芯材
４０４コイル
Ｍ着磁方向
５０１枠
６０１シールド部材

【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に形成された第１の開口と、回転軸を中心に回動する入射光調節手段を有し、前記入射光調節手段が、前記第１の開口に重なる第１の静止位置と、前記第１の開口から退避した第２の静止位置に相互に回動する事で、前記第１の開口を通過する入射光を調節する入射光調節装置において、
前記入射光調節手段の回転軸位置に、前記入射光調節手段に直接的に接合され、前記入射光調節手段の回動平面方向に着磁された永久磁石と、芯材に巻線され、各々の端部が前記永久磁石に対向して配置された一対のコイルを具備し、前記コイルへの通電状態により発生する磁場と前記永久磁石により発生する磁場の相互作用により前記入射光調節手段を第１の静止位置と第２の静止位置に相互に回動させる事を特徴とする入射光調節装置。
【請求項２】
前記入射光調節手段が前記第１の静止位置から前記第２の静止位置に回動し配置される間に、前記永久磁石の着磁方向と、前記一対のコイルが対向する方向とが傾きを持つことを特徴とする請求項１に記載の入射光調節装置。
【請求項３】
前記入射光調節手段の回動角をαとし、前記第１の開口中心と、前記入射光調節手段の回転軸を結ぶ軸を第１の軸とし、前記入射光調節手段の回転軸を通り、前記第１の軸に直交する軸を第２の軸とした場合、前記永久磁石の着磁方向が、前記入射光調節手段が第１の静止位置に配置されている状態において、前記第１の軸に対して前記入射光調節手段が前記第２の静止位置から前期第１の静止位置へ向かう方向に略（１／２）α回転した方向であると共に、前記一対のコイルの各々の端部が、前記第２の軸方向より、前記永久磁石に対向している事を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の入射光調節装置。
【請求項４】
前記永久磁石が円柱形状に成型されており、前記円柱状の永久磁石を前記入射光調節手段に直接接合する事で、前記円柱状の永久磁石を前記入射光調節手段の回転の軸となる部材として用いる事を特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の入射光調節装置。
【請求項５】
前記芯材が、一部を欠いたリング形状に成型されており、前記芯材の両端部に巻線された１対のコイルと、前記芯材の少なくとも１箇所に形成された位置決め部と、前記基板に形成された位置決め受け部を具備し、前記位置決め部と前記位置決め受け部を嵌合する事を特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の入射光調節装置。
【請求項６】
前記永久磁石の回動平面と直交し、前記永久磁石を内包する面内に閉じた状態で配置された磁性部材とを更に具備することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の入射光調節装置。
【請求項７】
前記磁性部材は、前記基板、前記入射光調節手段、前記永久磁石及び前記コイルを内包する枠部材であることを特徴とする請求項６に記載の入射光調節装置。
【請求項８】
前記磁性部材は、前記基板、前記入射光調節手段、前記永久磁石及び前記コイルを内包する枠部材に勘装されたシールド部材であることを特徴とする請求項６に記載の入射光調節装置。
【請求項９】
前記入射光調節手段が前記第１の開口よりも小さい第２の開口を有する絞り羽根であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の入射光調節装置。
【請求項１０】
前記入射光調節手段が、透過する光量もしくは波長範囲を制限する光学フィルターであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の入射光調節装置。
【請求項１１】
前記入射光調節手段が、光学レンズであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の入射光調節装置。

【図１】