反射スクリーン
【課題】外光の存在下にあってもコントラストの高い画像を映し出す反射スクリーンを提供する。
【解決手段】スクリーン基板１０の観察面１００ａの法線に対して垂直方向にずれた方向から観察面１００ａに向けて斜めに投射された投影光Ｌｐを、観察面１００ａ側に反射する反射スクリーン１００であって、スクリーン基板１０の垂直方向および水平方向に複数の凹部１１または凸部が形成され、凹部１１または凸部は、投影光Ｌｐを反射する投影光反射面１２と、外光Ｌｏを吸収する外光吸収面１３と、を備え、外光吸収面１３の表面粗さより投影光反射面１２の表面粗さが滑らかである。
【解決手段】スクリーン基板１０の観察面１００ａの法線に対して垂直方向にずれた方向から観察面１００ａに向けて斜めに投射された投影光Ｌｐを、観察面１００ａ側に反射する反射スクリーン１００であって、スクリーン基板１０の垂直方向および水平方向に複数の凹部１１または凸部が形成され、凹部１１または凸部は、投影光Ｌｐを反射する投影光反射面１２と、外光Ｌｏを吸収する外光吸収面１３と、を備え、外光吸収面１３の表面粗さより投影光反射面１２の表面粗さが滑らかである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光を入射させて用いる反射スクリーンに関する。
【背景技術】
【０００２】
プロジェクターなどから出射される投影光を受け、その投影光を反射させて拡大画像を映し出す反射スクリーンが知られている。その中で、近接型プロジェクター用の反射スクリーンとして、スクリーン基板の観察面に複数の凸部を形成し、凸部の単位形状部において投影光を反射させる反射面と、外光を吸収する光吸収層とを設けた反射スクリーンが知られている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２１５１６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、近接型プロジェクター用の反射スクリーンでは室内の照明などの外光が存在する中において使用されるため、外光の存在下にあっても、さらにコントラストの高い画像を映し出す反射スクリーンが要望されている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる反射スクリーンは、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた方向から前記観察面に向けて斜めに投射された投影光を、観察面側に反射する反射スクリーンであって、前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に複数の凹部または凸部が形成され、前記凹部または凸部は、投影光を反射する投影光反射面と、外光を吸収する外光吸収面と、を備え、前記外光吸収面の表面粗さより前記投影光反射面の表面粗さが滑らかであることを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、反射スクリーンにおける外光吸収面の表面粗さより投影光反射面の表面粗さが滑らかである。換言すれば、投影光反射面の表面粗さより外光吸収面の表面粗さが粗く形成されている。
このようにすれば、投影光反射面の平滑面で投影光を反射し、外光吸収面の粗面で外光を充分に吸収でき、室内の照明などの外光が存在する中においても、コントラストの高い画像を映し出す反射スクリーンを得ることができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかる反射スクリーンにおいて、前記外光吸収面の表面粗さＲａが、８２ｎｍ以上、５０００ｎｍ以下であることが望ましい。
【０００９】
この構成によれば、外光吸収面の表面粗さＲａが、８２ｎｍ以上、５０００ｎｍ以下であることから、外光吸収面の表面が粗いため光を効率よく吸収することができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかる反射スクリーンにおいて、前記投影光反射面の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以上、２７４ｎｍ以下であることが望ましい。
【００１１】
この構成によれば、投影光反射面の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以上、２７４ｎｍ以下であることから、投影光反射面の表面が滑らかであり、効率よく投影光を反射することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例にかかる反射スクリーンにおいて、前記投影光反射面が曲面であることが望ましい。
【００１３】
この構成によれば、投影光反射面が曲面であることからプロジェクターなどの光源からの投影光を反射スクリーンの観察面側に効率よく反射することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態にかかる反射スクリーンと光源との位置関係を示す断面図。
【図２】本実施形態における反射スクリーンの正面図。
【図３】本実施形態におけるスクリーン基板に形成された凹部の形状を示し、図２のＡ部拡大図。
【図４】本実施形態における反射スクリーンの垂直方向の断面を示す概略断面図。
【図５】ブラスト粒子と光の反射率との関係を示すグラフ。
【図６】サンドブラスト加工した表面にＡｌ（アルミニウム）膜を成膜したときのブラスト粒子と光の反射率との関係を示すグラフ。
【図７】ブラスト粒子と加工された表面粗さとの関係を示す表。
【図８】本実施形態における反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【図９】本実施形態における反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【図１０】本実施形態における他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【図１１】本実施形態における他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【図１２】本実施形態における他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の寸法の割合を適宜変更している。また、以下の説明においては直交座標系を設定して各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をＸ軸方向、鉛直面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向をＺ軸方向とする。
（実施形態）
【００１６】
＜反射スクリーンの構成＞
図１は本実施形態にかかる反射スクリーンと光源との位置関係を示す断面図である。また、図２は本実施形態における反射スクリーンの正面図である。
図１、図２に示すように、反射スクリーン１００は、反射スクリーン１００の観察面１００ａの中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置された光源Ｐから、観察面１００ａに向けて斜めに投射された投影光Ｌｐを、反射スクリーン１００の観察面側（Ｚ軸正方向側）に反射するものである。そして、反射スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行に配置されている。
スクリーン基板１０は、例えば、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）などの樹脂を用いて形成され可撓性を有している。また、スクリーン基板１０は、例えば、染色等によって全体が黒色の光吸収材によって着色され、可視光を吸収可能に形成されている。
【００１７】
また、反射スクリーン１００はスクリーン基板１０の観察面１００ａ側に凹部が複数備えられている。
図３はスクリーン基板に形成された凹部の形状を示し、図２のＡ部拡大図である。図４は反射スクリーンの垂直方向の断面を示す断面図であり、図３のＢ−Ｂ断線に沿う概略断面図である。
【００１８】
スクリーン基板１０には凹部１１が格子状にそれぞれが互いに接して配置されている。凹部１１の半球の直径としては例えば２０μｍ〜２００μｍ程度に形成されている。
凹部１１は、図３、図４に示すように、半球状に形成され投影光を反射する投影光反射面１２と、外光を吸収する外光吸収面１３を備えている。
この投影光反射面１２には効率よく投影光を反射させるために、投影光反射面１２の少なくとも一部にアルミニウム（Ａｌ）等の反射性を有する材料によって、反射膜１６が形成されている。反射膜１６はスパッタ法または蒸着法により膜厚が１０ｎｍ〜５μｍとなるように成膜されている。
【００１９】
そして、凹部１１の投影光反射面１２を除き、照明光などの外光が入射する部分に外光吸収面１３が形成されている。
この外光吸収面１３は、スクリーン基板１０の基材を黒色にすること、または凹部１１の内壁面にブラックカーボン粉末などの光吸収性材料を塗布するなどの方法にて、光を吸収できるように構成されている。
【００２０】
また、スクリーン基板１０における外光吸収面１３の表面粗さＲａより投影光反射面１２の表面粗さＲａが滑らかである。換言すれば、投影光反射面１２の表面粗さＲａより外光吸収面１３の表面粗さＲａが粗く形成されている。
例えば、外光吸収面１３の表面粗さＲａは、８２ｎｍ以上、５０００ｎｍ以下に形成され、投影光反射面１２の表面粗さＲａは、１０ｎｍ以上、２７４ｎｍ以下に形成されている。
なお、表面粗さＲａは本願では中心線平均粗さのことをいう。
【００２１】
さらに、図示しないが、スクリーン基板１０の観察面上には、凹部１１を充填するように保護層が形成されても良い。保護層は、例えば、樹脂などの可撓性を有する材料で形成することができる。
そして、保護層の上でスクリーン基板１０の観察面側の最表面には、反射防止膜が形成されても良い。反射防止膜は、保護層と同様な材料で形成され、保護層の表面での投影光または外光などの反射を防止するように保護層との間で屈折率が調整されていることが好ましい。
【００２２】
＜表面粗さと光の反射率の関係＞
次に、凹部の表面粗さと光の反射率の関係について考察する。
ここでは、ガラス基板に粒子径の異なる研磨材を用いてサンドブラスト加工を行い、その表面をスクリーン基板の材料であるポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートに転写して、その表面粗さと光の反射率との関係を調査した。
研磨材の種類としてはＷＡ（白色アルミナ質研磨材）を用いた。ブラスト粒子としての研磨材の水準としては、ＷＡ＃６００、ＷＡ＃８００、ＷＡ＃１０００、ＷＡ＃２０００、ＷＡ＃３０００、ＷＡ＃４０００、の６種類の番手にて調査を行い、また、サンドブラスト加工なしの水準についても調査を行った。
【００２３】
図５はブラスト粒子と光の反射率との関係を示すグラフである。図６はサンドブラスト加工した表面にＡｌ（アルミニウム）膜を成膜したときのブラスト粒子と光の反射率との関係を示すグラフである。図７はブラスト粒子と加工された表面粗さとの関係を示す表である。
【００２４】
図５に示すように、ブラスト粒子としてＷＡ＃６００、ＷＡ＃８００、ＷＡ＃１０００、ＷＡ＃２０００、を用いて加工したものは光の反射率は０．５％以下であり、光の反射が小さいことがわかる。このときの、スクリーン基板の表面粗さＲａは、図７より１１４８ｎｍ〜２７４ｎｍである。
そして、ブラスト粒子がＷＡ＃３０００、ＷＡ＃４０００、と研磨材の粒子が細かくなるに従い反射率は向上する。ＷＡ＃３０００を用いた加工面で反射率は約０．８％、表面粗さＲａは８２ｎｍであり、ＷＡ＃４０００を用いた加工面で反射率は約２．５％、表面粗さＲａは３３ｎｍである。
【００２５】
また、サンドブラスト加工を行わないスクリーン基板の転写表面は、後述する反射スクリーンの製造方法における転写型の表面状態が転写されており、平滑な面が得られている。この面では光の反射率は約４．２％、表面粗さＲａは３６ｎｍである。
このように、研磨材が粗くなるに従い加工面における光の反射率が低下していき、ＷＡ＃２０００の加工面である表面粗さＲａが２７４ｎｍ以下で反射率は平衡状態となる。
【００２６】
光の反射率の低い表面を外光吸収面として利用すれば、光の吸収が充分に行われる。例えば、光の反射率を１．０％以下とすれば、ＷＡ＃３０００より粗い研磨材を用いて表面を加工すればよい。表面粗さＲａとしては８２ｎｍ以上であり、すりガラスの表面粗さである５０００ｎｍ以下が好ましい。
【００２７】
次に、図６に示すように、サンドブラスト加工した転写表面にＡｌ膜を成膜すると光の反射率は格段に向上する。
ブラスト粒子としてＷＡ＃６００、ＷＡ＃８００、ＷＡ＃１０００、ＷＡ＃２０００、を用いて加工したものは光の反射率は１０％以下であり、光の反射が小さいことがわかる。このときの、スクリーン基板の表面粗さＲａは、図７より１１４８ｎｍ〜２７４ｎｍである。
そして、ブラスト粒子がＷＡ＃３０００、ＷＡ＃４０００、と研磨材の粒子が細かくなるに従い反射率は向上する。ＷＡ＃３０００を用いた加工面で反射率は約１４％、表面粗さＲａは８２ｎｍであり、ＷＡ＃４０００を用いた加工面で反射率は約３２％、表面粗さＲａは３３ｎｍである。
【００２８】
また、サンドブラスト加工を行わないスクリーン基板の転写表面では光の反射率は約８６％、表面粗さＲａは３６ｎｍである。
このように、研磨材の粒子が細かくなるに従い加工面における光の反射率が向上していき、ＷＡ＃２０００（表面粗さＲａは２７４ｎｍ）とＷＡ＃３０００（表面粗さＲａは８２ｎｍ）の間に反射率を向上させる臨界点があると考えられる。
【００２９】
光の反射率の高い表面を投影光反射面として利用すれば、光の反射が充分に行われる。例えば、投影光反射面としてＷＡ＃２０００より細かい研磨材を用いて表面を加工すればよい。このときの表面粗さＲａとしては２７４ｎｍ以下であり、ガラスのポリッシュ面の表面粗さである１０ｎｍ以上が好ましい。
さらに好ましくは、ＷＡ＃３０００の加工面である表面粗さＲａが８２ｎｍ以下であり、ガラスのポリッシュ面の表面粗さである１０ｎｍ以上が好ましい。
【００３０】
＜反射スクリーンの作用＞
次に、反射スクリーンの作用について説明する。
図１で説明したように、反射スクリーン１００の観察面１００ａの中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクターなどの光源Ｐから、観察面１００ａに向けて斜めに投影光Ｌｐが投射され、反射スクリーン１００に映像が映しだされる。
【００３１】
このような、観察面１００ａに対して斜めに入射した投影光Ｌｐは、図４に示すように、凹部１１内に形成された投影光反射面１２に入射する。投影光反射面１２の一部には反射膜１６が形成されており、投影光Ｌｐは反射スクリーン１００の観察側に反射光Ｌｒが反射される。なお、投影光Ｌｐは凹部１１の縁に遮られて、投影光反射面１２の全面には投影光Ｌｐは入射しない。
【００３２】
一方、反射スクリーン１００の観察面には、投影光Ｌｐのほかに反射スクリーン１００の上方から外光Ｌｏが入射する。観察面に入射した外光Ｌｏは、凹部１１の外光吸収面１３に入射する。そして、凹部１１の外光吸収面１３に到達した外光Ｌｏは外光吸収面１３に吸収される。なお、外光は凹部１１の縁に遮られて、投影光反射面１２に入射することはない。
【００３３】
本実施形態の反射スクリーン１００は、凹部１１における外光吸収面１３の表面粗さより投影光反射面１２の表面粗さが滑らかに形成されている。換言すれば、投影光反射面１２の表面粗さより外光吸収面１３の表面粗さが粗く形成されている。
このため、投影光反射面１２の平滑面で投影光Ｌｐを反射し、外光吸収面１３の粗面で外光Ｌｏを充分に吸収でき、室内の照明などの外光Ｌｏが存在する中においても、コントラストの高い画像を映し出す反射スクリーン１００を得ることができる。
【００３４】
＜反射スクリーンの製造方法１＞
次に上記のような構成の反射スクリーンの製造方法の一例について説明する。
図８、図９は反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図である。
図８（ａ）に示すように、ソーダガラスなどのガラス基板２０の上にマスク２１を形成する。マスク２１は、酸化クロム（ＣｒＯ）膜を下地として、その上にクロム（Ｃｒ）膜をスパッタ法などにより成膜したものである。なお、マスク２１を成膜する前に、ガラス基板２０の表面をサンドブラスト加工し、ガラス基板２０の表面を粗く形成してマスク２１の密着力を向上させてもよい。
そして、マスク２１に対して凹部を形成する位置に数μｍ程度の開口部２２を形成する。開口部２２はフォトエッチングまたはレーザー加工を用いて形成する。
【００３５】
次に、図８（ｂ）に示すように、マスク２１に開口部２２が形成されたガラス基板２０をエッチング液に所定の時間だけ浸漬して、ガラス基板２０に半球状の半球凹部２３を形成する。エッチング液により開口部２２を介してガラス基板２０が等方にエッチングされ、断面形状がほぼ半球状にエッチングされる。
エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウム系のエッチング液が用いられる。
続いて、ガラス基板２０からマスク２１を剥離する。そして、図８（ｃ）に示すように、ガラス基板２０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、半球凹部２３の一部にＡｌ膜などの保護膜２４を成膜する。
【００３６】
次に、図９（ａ）に示すように、サンドブラスト装置２５を用いて、半球凹部２３内をブラスト加工する。ブラスト粒子として、例えばＷＡ＃１０００の研磨材が用いられる。半球凹部２３内の一部には保護膜２４形成されていることから、保護膜２４が形成されていない部分がブラスト加工されて、表面が粗く加工される。
なお、蒸着やスパッタリングにより形成される保護膜２４がサンドブラスト加工に対して耐えられない場合には、保護膜２４の上にめっきを施して、保護膜２４の厚みを増しても良い。
そして、ガラス基板２０から保護膜２４を剥離して、ガラス基板２０は元転写型として完成する。
【００３７】
次に、図９（ｂ）に示すように、元転写型としてのガラス基板２０を用いて、ニッケル（Ｎｉ）などの金属材料で電鋳型２８を製作する。
続いて、図９（ｃ）に示すように、電鋳型２８の形状をポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートなどのスクリーン基板１０に熱および圧力を加えて転写する。このようにして、スクリーン基板１０に凹部１１が形成され、凹部１１には表面が粗く形成された外光吸収面１３と表面が滑らかに形成された投影光反射面１２とが備えられる。
ここではスクリーン基板１０は光吸収材料を含む黒色のポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートが用いられる。
【００３８】
そして、図９（ｄ）に示すように、凹部１１の投影光反射面１２にアルミニウム（Ａｌ）膜などの反射膜１６を形成する。反射膜１６は、スクリーン基板１０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、凹部１１の投影光反射面１２に成膜することができる。なお、反射材料を凹部１１にスプレーして反射膜を形成してもよい。
【００３９】
このようにして、反射スクリーンが製作されるが、さらに、スクリーン基板１０の凹部１１を充填するように樹脂などの可撓性を有する材料で保護層を形成し、その上に反射防止膜を形成しても良い。
また、上記の反射スクリーンの製造方法では元転写型としてのガラス基板２０を用いて電鋳型を形成したが、このガラス基板２０を用いて樹脂転写によって樹脂型を形成し、この樹脂型から光硬化性樹脂を用いた２Ｐ転写法によりポリエチレンテレフタートシート（ＰＥＴシート）またはポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートに形状を転写しても良い。
【００４０】
＜反射スクリーンの製造方法２＞
本製造方法は、上記製造工程の図８で説明した工程以降が異なる。そのため、図８以降の工程について説明する。
図１０は他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図である。
図８（ｃ）で得られたガラス基板２０には半球凹部２３の一部にＡｌ膜などの保護膜２４が形成されている。なお、この保護膜２４の上に、緻密なめっき層を設けても良い。
このガラス基板２０を用いて、図１０（ａ）に示すように、ニッケル（Ｎｉ）などの金属材料で電鋳型３１を製作する。そして、図１０（ｂ）に示すように、ガラス基板２０から電鋳型３１を剥離する。この電鋳型３１はポーラス（多孔質）状の電鋳にて製作することで、保護膜２４を設けた部分を除き、電鋳型３１の表面は凹凸を有することになる。
【００４１】
続いて、図１０（ｃ）に示すように、電鋳型３１の形状をポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートなどのスクリーン基板１１０に熱および圧力を加えて転写する。このようにして、スクリーン基板１１０に凹部１１１が形成され、凹部１１１には表面が粗く形成された外光吸収面１１３と表面が滑らかに形成された投影光反射面１１２とが備えられる。
ここではスクリーン基板１１０は光吸収材料を含む黒色のポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートが用いられる。
【００４２】
そして、図１０（ｄ）に示すように、凹部１１１の投影光反射面１１２にアルミニウム（Ａｌ）膜などの反射膜１１６を形成する。反射膜１１６は、スクリーン基板１１０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、凹部１１１の投影光反射面１１２に成膜することができる。なお、反射材料を凹部１１１にスプレーして反射膜を形成してもよい。
【００４３】
このようにして、反射スクリーンが製作されるが、さらに、スクリーン基板１１０の凹部１１１を充填するように樹脂などの可撓性を有する材料で保護層を形成し、その上に反射防止膜を形成しても良い。
【００４４】
＜反射スクリーンの製造方法３＞
上記の反射スクリーンの製造方法１および２は、成形型を粗面加工し、その型をスクリーン基板に転写する製造方法であるが、次に反射スクリーンを粗面加工する製造方法について説明する。
図１１、図１２は他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図である。
図１１（ａ）に示すように、ガラス基板２０の上にマスク２１を形成する。そして、マスク２１に対して凹部を形成する位置に数μｍ程度の開口部２２を形成する。開口部２２はフォトエッチングまたはレーザー加工を用いて形成する。
次に、図１１（ｂ）に示すように、マスク２１に開口部２２が形成されたガラス基板２０をエッチング液に所定の時間だけ浸漬して、ガラス基板２０に半球状の半球凹部２３を形成する。エッチング液により開口部２２を介してガラス基板２０が等方にエッチングされ、断面形状がほぼ半球状にエッチングされる。
続いて、ガラス基板２０からマスク２１を剥離する。そして、図１１（ｃ）に示すように、ガラス基板２０を元転写型としてニッケル（Ｎｉ）などの金属材料で電鋳型３２を製作する。
続いて、図１１（ｄ）に示すように、電鋳型３２の形状をポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートなどのスクリーン基板１２０に熱および圧力を加えて転写する。ここではスクリーン基板１２０は光吸収材料を含む黒色のポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートが用いられる。
【００４５】
そして、図１２（ａ）に示すように、スクリーン基板１２０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、凹部１２１の一部にアルミニウム（Ａｌ）膜などの保護膜１２４を成膜する。
次に、図１２（ｂ）に示すように、サンドブラスト装置２５を用いて、凹部１２１内をブラスト加工する。ブラスト粒子として、例えばＷＡ＃１０００の研磨材が用いられる。凹部１２１内の一部には保護膜１２４形成されていることから、保護膜１２４が形成されていない部分がブラスト加工されて、表面が粗く加工される。
【００４６】
そして、保護膜１２４を剥離し、図１２（ｃ）に示すように、凹部１２１の投影光反射面１２２にアルミニウム（Ａｌ）膜などの反射膜１２６を形成する。反射膜１２６は、スクリーン基板１２０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、凹部１２１の投影光反射面１２２に成膜することができる。なお、反射材料を凹部１２１にスプレーして反射膜を形成してもよい。
このようにして、スクリーン基板１２０に凹部１２１が形成され、凹部１２１には表面が粗く形成された外光吸収面１２３と表面が滑らかに形成された投影光反射面１２２とが備えられる。
【００４７】
また、他の製造方法として、図１１（ｄ）で示した、電鋳型３２の形状を転写したスクリーン基板１２０を用いて、凹部１２１の一部にアクリル系などの塗料を塗布し、表面を滑らかにすることができる。この塗料を塗布した面に反射膜を形成して、投影光反射面としても良い。
【００４８】
以上、上記の実施形態では、凹部内に投影光を反射する投影光反射面と、外光を吸収する外光吸収面を設けたが、凸部に投影光を反射する投影光反射面と、外光を吸収する外光吸収面を設ける構成としてもよい。また、上記の実施形態では外光吸収面を曲面で形成したが、曲面以外の平面などであってもよい。
【符号の説明】
【００４９】
１０…スクリーン基板、１１…凹部、１２…投影光反射面、１３…外光吸収面、１６…反射膜、２０…ガラス基板、２１…マスク、２２…開口部、２３…半球凹部、２４…保護膜、２５…サンドブラスト装置、２８…電鋳型、３１，３２…電鋳型、１００…反射スクリーン、１００ａ…観察面、１１０…スクリーン基板、１１１…凹部、１１２…投影光反射面、１１３…外光吸収面、１１６…反射膜、１２０…スクリーン基板、１２１…凹部、１２２…投影光反射面、１２３…外光吸収面、１２４…保護膜、１２６…反射膜、Ｌｏ…外光、Ｌｐ…投影光、Ｌｒ…反射光、Ｐ…光源。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光を入射させて用いる反射スクリーンに関する。
【背景技術】
【０００２】
プロジェクターなどから出射される投影光を受け、その投影光を反射させて拡大画像を映し出す反射スクリーンが知られている。その中で、近接型プロジェクター用の反射スクリーンとして、スクリーン基板の観察面に複数の凸部を形成し、凸部の単位形状部において投影光を反射させる反射面と、外光を吸収する光吸収層とを設けた反射スクリーンが知られている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２１５１６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、近接型プロジェクター用の反射スクリーンでは室内の照明などの外光が存在する中において使用されるため、外光の存在下にあっても、さらにコントラストの高い画像を映し出す反射スクリーンが要望されている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる反射スクリーンは、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた方向から前記観察面に向けて斜めに投射された投影光を、観察面側に反射する反射スクリーンであって、前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に複数の凹部または凸部が形成され、前記凹部または凸部は、投影光を反射する投影光反射面と、外光を吸収する外光吸収面と、を備え、前記外光吸収面の表面粗さより前記投影光反射面の表面粗さが滑らかであることを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、反射スクリーンにおける外光吸収面の表面粗さより投影光反射面の表面粗さが滑らかである。換言すれば、投影光反射面の表面粗さより外光吸収面の表面粗さが粗く形成されている。
このようにすれば、投影光反射面の平滑面で投影光を反射し、外光吸収面の粗面で外光を充分に吸収でき、室内の照明などの外光が存在する中においても、コントラストの高い画像を映し出す反射スクリーンを得ることができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかる反射スクリーンにおいて、前記外光吸収面の表面粗さＲａが、８２ｎｍ以上、５０００ｎｍ以下であることが望ましい。
【０００９】
この構成によれば、外光吸収面の表面粗さＲａが、８２ｎｍ以上、５０００ｎｍ以下であることから、外光吸収面の表面が粗いため光を効率よく吸収することができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかる反射スクリーンにおいて、前記投影光反射面の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以上、２７４ｎｍ以下であることが望ましい。
【００１１】
この構成によれば、投影光反射面の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以上、２７４ｎｍ以下であることから、投影光反射面の表面が滑らかであり、効率よく投影光を反射することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例にかかる反射スクリーンにおいて、前記投影光反射面が曲面であることが望ましい。
【００１３】
この構成によれば、投影光反射面が曲面であることからプロジェクターなどの光源からの投影光を反射スクリーンの観察面側に効率よく反射することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態にかかる反射スクリーンと光源との位置関係を示す断面図。
【図２】本実施形態における反射スクリーンの正面図。
【図３】本実施形態におけるスクリーン基板に形成された凹部の形状を示し、図２のＡ部拡大図。
【図４】本実施形態における反射スクリーンの垂直方向の断面を示す概略断面図。
【図５】ブラスト粒子と光の反射率との関係を示すグラフ。
【図６】サンドブラスト加工した表面にＡｌ（アルミニウム）膜を成膜したときのブラスト粒子と光の反射率との関係を示すグラフ。
【図７】ブラスト粒子と加工された表面粗さとの関係を示す表。
【図８】本実施形態における反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【図９】本実施形態における反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【図１０】本実施形態における他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【図１１】本実施形態における他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【図１２】本実施形態における他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の寸法の割合を適宜変更している。また、以下の説明においては直交座標系を設定して各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をＸ軸方向、鉛直面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向をＺ軸方向とする。
（実施形態）
【００１６】
＜反射スクリーンの構成＞
図１は本実施形態にかかる反射スクリーンと光源との位置関係を示す断面図である。また、図２は本実施形態における反射スクリーンの正面図である。
図１、図２に示すように、反射スクリーン１００は、反射スクリーン１００の観察面１００ａの中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置された光源Ｐから、観察面１００ａに向けて斜めに投射された投影光Ｌｐを、反射スクリーン１００の観察面側（Ｚ軸正方向側）に反射するものである。そして、反射スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行に配置されている。
スクリーン基板１０は、例えば、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）などの樹脂を用いて形成され可撓性を有している。また、スクリーン基板１０は、例えば、染色等によって全体が黒色の光吸収材によって着色され、可視光を吸収可能に形成されている。
【００１７】
また、反射スクリーン１００はスクリーン基板１０の観察面１００ａ側に凹部が複数備えられている。
図３はスクリーン基板に形成された凹部の形状を示し、図２のＡ部拡大図である。図４は反射スクリーンの垂直方向の断面を示す断面図であり、図３のＢ−Ｂ断線に沿う概略断面図である。
【００１８】
スクリーン基板１０には凹部１１が格子状にそれぞれが互いに接して配置されている。凹部１１の半球の直径としては例えば２０μｍ〜２００μｍ程度に形成されている。
凹部１１は、図３、図４に示すように、半球状に形成され投影光を反射する投影光反射面１２と、外光を吸収する外光吸収面１３を備えている。
この投影光反射面１２には効率よく投影光を反射させるために、投影光反射面１２の少なくとも一部にアルミニウム（Ａｌ）等の反射性を有する材料によって、反射膜１６が形成されている。反射膜１６はスパッタ法または蒸着法により膜厚が１０ｎｍ〜５μｍとなるように成膜されている。
【００１９】
そして、凹部１１の投影光反射面１２を除き、照明光などの外光が入射する部分に外光吸収面１３が形成されている。
この外光吸収面１３は、スクリーン基板１０の基材を黒色にすること、または凹部１１の内壁面にブラックカーボン粉末などの光吸収性材料を塗布するなどの方法にて、光を吸収できるように構成されている。
【００２０】
また、スクリーン基板１０における外光吸収面１３の表面粗さＲａより投影光反射面１２の表面粗さＲａが滑らかである。換言すれば、投影光反射面１２の表面粗さＲａより外光吸収面１３の表面粗さＲａが粗く形成されている。
例えば、外光吸収面１３の表面粗さＲａは、８２ｎｍ以上、５０００ｎｍ以下に形成され、投影光反射面１２の表面粗さＲａは、１０ｎｍ以上、２７４ｎｍ以下に形成されている。
なお、表面粗さＲａは本願では中心線平均粗さのことをいう。
【００２１】
さらに、図示しないが、スクリーン基板１０の観察面上には、凹部１１を充填するように保護層が形成されても良い。保護層は、例えば、樹脂などの可撓性を有する材料で形成することができる。
そして、保護層の上でスクリーン基板１０の観察面側の最表面には、反射防止膜が形成されても良い。反射防止膜は、保護層と同様な材料で形成され、保護層の表面での投影光または外光などの反射を防止するように保護層との間で屈折率が調整されていることが好ましい。
【００２２】
＜表面粗さと光の反射率の関係＞
次に、凹部の表面粗さと光の反射率の関係について考察する。
ここでは、ガラス基板に粒子径の異なる研磨材を用いてサンドブラスト加工を行い、その表面をスクリーン基板の材料であるポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートに転写して、その表面粗さと光の反射率との関係を調査した。
研磨材の種類としてはＷＡ（白色アルミナ質研磨材）を用いた。ブラスト粒子としての研磨材の水準としては、ＷＡ＃６００、ＷＡ＃８００、ＷＡ＃１０００、ＷＡ＃２０００、ＷＡ＃３０００、ＷＡ＃４０００、の６種類の番手にて調査を行い、また、サンドブラスト加工なしの水準についても調査を行った。
【００２３】
図５はブラスト粒子と光の反射率との関係を示すグラフである。図６はサンドブラスト加工した表面にＡｌ（アルミニウム）膜を成膜したときのブラスト粒子と光の反射率との関係を示すグラフである。図７はブラスト粒子と加工された表面粗さとの関係を示す表である。
【００２４】
図５に示すように、ブラスト粒子としてＷＡ＃６００、ＷＡ＃８００、ＷＡ＃１０００、ＷＡ＃２０００、を用いて加工したものは光の反射率は０．５％以下であり、光の反射が小さいことがわかる。このときの、スクリーン基板の表面粗さＲａは、図７より１１４８ｎｍ〜２７４ｎｍである。
そして、ブラスト粒子がＷＡ＃３０００、ＷＡ＃４０００、と研磨材の粒子が細かくなるに従い反射率は向上する。ＷＡ＃３０００を用いた加工面で反射率は約０．８％、表面粗さＲａは８２ｎｍであり、ＷＡ＃４０００を用いた加工面で反射率は約２．５％、表面粗さＲａは３３ｎｍである。
【００２５】
また、サンドブラスト加工を行わないスクリーン基板の転写表面は、後述する反射スクリーンの製造方法における転写型の表面状態が転写されており、平滑な面が得られている。この面では光の反射率は約４．２％、表面粗さＲａは３６ｎｍである。
このように、研磨材が粗くなるに従い加工面における光の反射率が低下していき、ＷＡ＃２０００の加工面である表面粗さＲａが２７４ｎｍ以下で反射率は平衡状態となる。
【００２６】
光の反射率の低い表面を外光吸収面として利用すれば、光の吸収が充分に行われる。例えば、光の反射率を１．０％以下とすれば、ＷＡ＃３０００より粗い研磨材を用いて表面を加工すればよい。表面粗さＲａとしては８２ｎｍ以上であり、すりガラスの表面粗さである５０００ｎｍ以下が好ましい。
【００２７】
次に、図６に示すように、サンドブラスト加工した転写表面にＡｌ膜を成膜すると光の反射率は格段に向上する。
ブラスト粒子としてＷＡ＃６００、ＷＡ＃８００、ＷＡ＃１０００、ＷＡ＃２０００、を用いて加工したものは光の反射率は１０％以下であり、光の反射が小さいことがわかる。このときの、スクリーン基板の表面粗さＲａは、図７より１１４８ｎｍ〜２７４ｎｍである。
そして、ブラスト粒子がＷＡ＃３０００、ＷＡ＃４０００、と研磨材の粒子が細かくなるに従い反射率は向上する。ＷＡ＃３０００を用いた加工面で反射率は約１４％、表面粗さＲａは８２ｎｍであり、ＷＡ＃４０００を用いた加工面で反射率は約３２％、表面粗さＲａは３３ｎｍである。
【００２８】
また、サンドブラスト加工を行わないスクリーン基板の転写表面では光の反射率は約８６％、表面粗さＲａは３６ｎｍである。
このように、研磨材の粒子が細かくなるに従い加工面における光の反射率が向上していき、ＷＡ＃２０００（表面粗さＲａは２７４ｎｍ）とＷＡ＃３０００（表面粗さＲａは８２ｎｍ）の間に反射率を向上させる臨界点があると考えられる。
【００２９】
光の反射率の高い表面を投影光反射面として利用すれば、光の反射が充分に行われる。例えば、投影光反射面としてＷＡ＃２０００より細かい研磨材を用いて表面を加工すればよい。このときの表面粗さＲａとしては２７４ｎｍ以下であり、ガラスのポリッシュ面の表面粗さである１０ｎｍ以上が好ましい。
さらに好ましくは、ＷＡ＃３０００の加工面である表面粗さＲａが８２ｎｍ以下であり、ガラスのポリッシュ面の表面粗さである１０ｎｍ以上が好ましい。
【００３０】
＜反射スクリーンの作用＞
次に、反射スクリーンの作用について説明する。
図１で説明したように、反射スクリーン１００の観察面１００ａの中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクターなどの光源Ｐから、観察面１００ａに向けて斜めに投影光Ｌｐが投射され、反射スクリーン１００に映像が映しだされる。
【００３１】
このような、観察面１００ａに対して斜めに入射した投影光Ｌｐは、図４に示すように、凹部１１内に形成された投影光反射面１２に入射する。投影光反射面１２の一部には反射膜１６が形成されており、投影光Ｌｐは反射スクリーン１００の観察側に反射光Ｌｒが反射される。なお、投影光Ｌｐは凹部１１の縁に遮られて、投影光反射面１２の全面には投影光Ｌｐは入射しない。
【００３２】
一方、反射スクリーン１００の観察面には、投影光Ｌｐのほかに反射スクリーン１００の上方から外光Ｌｏが入射する。観察面に入射した外光Ｌｏは、凹部１１の外光吸収面１３に入射する。そして、凹部１１の外光吸収面１３に到達した外光Ｌｏは外光吸収面１３に吸収される。なお、外光は凹部１１の縁に遮られて、投影光反射面１２に入射することはない。
【００３３】
本実施形態の反射スクリーン１００は、凹部１１における外光吸収面１３の表面粗さより投影光反射面１２の表面粗さが滑らかに形成されている。換言すれば、投影光反射面１２の表面粗さより外光吸収面１３の表面粗さが粗く形成されている。
このため、投影光反射面１２の平滑面で投影光Ｌｐを反射し、外光吸収面１３の粗面で外光Ｌｏを充分に吸収でき、室内の照明などの外光Ｌｏが存在する中においても、コントラストの高い画像を映し出す反射スクリーン１００を得ることができる。
【００３４】
＜反射スクリーンの製造方法１＞
次に上記のような構成の反射スクリーンの製造方法の一例について説明する。
図８、図９は反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図である。
図８（ａ）に示すように、ソーダガラスなどのガラス基板２０の上にマスク２１を形成する。マスク２１は、酸化クロム（ＣｒＯ）膜を下地として、その上にクロム（Ｃｒ）膜をスパッタ法などにより成膜したものである。なお、マスク２１を成膜する前に、ガラス基板２０の表面をサンドブラスト加工し、ガラス基板２０の表面を粗く形成してマスク２１の密着力を向上させてもよい。
そして、マスク２１に対して凹部を形成する位置に数μｍ程度の開口部２２を形成する。開口部２２はフォトエッチングまたはレーザー加工を用いて形成する。
【００３５】
次に、図８（ｂ）に示すように、マスク２１に開口部２２が形成されたガラス基板２０をエッチング液に所定の時間だけ浸漬して、ガラス基板２０に半球状の半球凹部２３を形成する。エッチング液により開口部２２を介してガラス基板２０が等方にエッチングされ、断面形状がほぼ半球状にエッチングされる。
エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウム系のエッチング液が用いられる。
続いて、ガラス基板２０からマスク２１を剥離する。そして、図８（ｃ）に示すように、ガラス基板２０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、半球凹部２３の一部にＡｌ膜などの保護膜２４を成膜する。
【００３６】
次に、図９（ａ）に示すように、サンドブラスト装置２５を用いて、半球凹部２３内をブラスト加工する。ブラスト粒子として、例えばＷＡ＃１０００の研磨材が用いられる。半球凹部２３内の一部には保護膜２４形成されていることから、保護膜２４が形成されていない部分がブラスト加工されて、表面が粗く加工される。
なお、蒸着やスパッタリングにより形成される保護膜２４がサンドブラスト加工に対して耐えられない場合には、保護膜２４の上にめっきを施して、保護膜２４の厚みを増しても良い。
そして、ガラス基板２０から保護膜２４を剥離して、ガラス基板２０は元転写型として完成する。
【００３７】
次に、図９（ｂ）に示すように、元転写型としてのガラス基板２０を用いて、ニッケル（Ｎｉ）などの金属材料で電鋳型２８を製作する。
続いて、図９（ｃ）に示すように、電鋳型２８の形状をポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートなどのスクリーン基板１０に熱および圧力を加えて転写する。このようにして、スクリーン基板１０に凹部１１が形成され、凹部１１には表面が粗く形成された外光吸収面１３と表面が滑らかに形成された投影光反射面１２とが備えられる。
ここではスクリーン基板１０は光吸収材料を含む黒色のポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートが用いられる。
【００３８】
そして、図９（ｄ）に示すように、凹部１１の投影光反射面１２にアルミニウム（Ａｌ）膜などの反射膜１６を形成する。反射膜１６は、スクリーン基板１０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、凹部１１の投影光反射面１２に成膜することができる。なお、反射材料を凹部１１にスプレーして反射膜を形成してもよい。
【００３９】
このようにして、反射スクリーンが製作されるが、さらに、スクリーン基板１０の凹部１１を充填するように樹脂などの可撓性を有する材料で保護層を形成し、その上に反射防止膜を形成しても良い。
また、上記の反射スクリーンの製造方法では元転写型としてのガラス基板２０を用いて電鋳型を形成したが、このガラス基板２０を用いて樹脂転写によって樹脂型を形成し、この樹脂型から光硬化性樹脂を用いた２Ｐ転写法によりポリエチレンテレフタートシート（ＰＥＴシート）またはポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートに形状を転写しても良い。
【００４０】
＜反射スクリーンの製造方法２＞
本製造方法は、上記製造工程の図８で説明した工程以降が異なる。そのため、図８以降の工程について説明する。
図１０は他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図である。
図８（ｃ）で得られたガラス基板２０には半球凹部２３の一部にＡｌ膜などの保護膜２４が形成されている。なお、この保護膜２４の上に、緻密なめっき層を設けても良い。
このガラス基板２０を用いて、図１０（ａ）に示すように、ニッケル（Ｎｉ）などの金属材料で電鋳型３１を製作する。そして、図１０（ｂ）に示すように、ガラス基板２０から電鋳型３１を剥離する。この電鋳型３１はポーラス（多孔質）状の電鋳にて製作することで、保護膜２４を設けた部分を除き、電鋳型３１の表面は凹凸を有することになる。
【００４１】
続いて、図１０（ｃ）に示すように、電鋳型３１の形状をポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートなどのスクリーン基板１１０に熱および圧力を加えて転写する。このようにして、スクリーン基板１１０に凹部１１１が形成され、凹部１１１には表面が粗く形成された外光吸収面１１３と表面が滑らかに形成された投影光反射面１１２とが備えられる。
ここではスクリーン基板１１０は光吸収材料を含む黒色のポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートが用いられる。
【００４２】
そして、図１０（ｄ）に示すように、凹部１１１の投影光反射面１１２にアルミニウム（Ａｌ）膜などの反射膜１１６を形成する。反射膜１１６は、スクリーン基板１１０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、凹部１１１の投影光反射面１１２に成膜することができる。なお、反射材料を凹部１１１にスプレーして反射膜を形成してもよい。
【００４３】
このようにして、反射スクリーンが製作されるが、さらに、スクリーン基板１１０の凹部１１１を充填するように樹脂などの可撓性を有する材料で保護層を形成し、その上に反射防止膜を形成しても良い。
【００４４】
＜反射スクリーンの製造方法３＞
上記の反射スクリーンの製造方法１および２は、成形型を粗面加工し、その型をスクリーン基板に転写する製造方法であるが、次に反射スクリーンを粗面加工する製造方法について説明する。
図１１、図１２は他の反射スクリーンの製造方法を示す模式工程図である。
図１１（ａ）に示すように、ガラス基板２０の上にマスク２１を形成する。そして、マスク２１に対して凹部を形成する位置に数μｍ程度の開口部２２を形成する。開口部２２はフォトエッチングまたはレーザー加工を用いて形成する。
次に、図１１（ｂ）に示すように、マスク２１に開口部２２が形成されたガラス基板２０をエッチング液に所定の時間だけ浸漬して、ガラス基板２０に半球状の半球凹部２３を形成する。エッチング液により開口部２２を介してガラス基板２０が等方にエッチングされ、断面形状がほぼ半球状にエッチングされる。
続いて、ガラス基板２０からマスク２１を剥離する。そして、図１１（ｃ）に示すように、ガラス基板２０を元転写型としてニッケル（Ｎｉ）などの金属材料で電鋳型３２を製作する。
続いて、図１１（ｄ）に示すように、電鋳型３２の形状をポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートなどのスクリーン基板１２０に熱および圧力を加えて転写する。ここではスクリーン基板１２０は光吸収材料を含む黒色のポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートが用いられる。
【００４５】
そして、図１２（ａ）に示すように、スクリーン基板１２０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、凹部１２１の一部にアルミニウム（Ａｌ）膜などの保護膜１２４を成膜する。
次に、図１２（ｂ）に示すように、サンドブラスト装置２５を用いて、凹部１２１内をブラスト加工する。ブラスト粒子として、例えばＷＡ＃１０００の研磨材が用いられる。凹部１２１内の一部には保護膜１２４形成されていることから、保護膜１２４が形成されていない部分がブラスト加工されて、表面が粗く加工される。
【００４６】
そして、保護膜１２４を剥離し、図１２（ｃ）に示すように、凹部１２１の投影光反射面１２２にアルミニウム（Ａｌ）膜などの反射膜１２６を形成する。反射膜１２６は、スクリーン基板１２０の斜方から蒸着またはスパッタリングすることで、凹部１２１の投影光反射面１２２に成膜することができる。なお、反射材料を凹部１２１にスプレーして反射膜を形成してもよい。
このようにして、スクリーン基板１２０に凹部１２１が形成され、凹部１２１には表面が粗く形成された外光吸収面１２３と表面が滑らかに形成された投影光反射面１２２とが備えられる。
【００４７】
また、他の製造方法として、図１１（ｄ）で示した、電鋳型３２の形状を転写したスクリーン基板１２０を用いて、凹部１２１の一部にアクリル系などの塗料を塗布し、表面を滑らかにすることができる。この塗料を塗布した面に反射膜を形成して、投影光反射面としても良い。
【００４８】
以上、上記の実施形態では、凹部内に投影光を反射する投影光反射面と、外光を吸収する外光吸収面を設けたが、凸部に投影光を反射する投影光反射面と、外光を吸収する外光吸収面を設ける構成としてもよい。また、上記の実施形態では外光吸収面を曲面で形成したが、曲面以外の平面などであってもよい。
【符号の説明】
【００４９】
１０…スクリーン基板、１１…凹部、１２…投影光反射面、１３…外光吸収面、１６…反射膜、２０…ガラス基板、２１…マスク、２２…開口部、２３…半球凹部、２４…保護膜、２５…サンドブラスト装置、２８…電鋳型、３１，３２…電鋳型、１００…反射スクリーン、１００ａ…観察面、１１０…スクリーン基板、１１１…凹部、１１２…投影光反射面、１１３…外光吸収面、１１６…反射膜、１２０…スクリーン基板、１２１…凹部、１２２…投影光反射面、１２３…外光吸収面、１２４…保護膜、１２６…反射膜、Ｌｏ…外光、Ｌｐ…投影光、Ｌｒ…反射光、Ｐ…光源。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた方向から前記観察面に向けて斜めに投射された投影光を、観察面側に反射する反射スクリーンであって、
前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に複数の凹部または凸部が形成され、
前記凹部または凸部は、投影光を反射する投影光反射面と、外光を吸収する外光吸収面と、を備え、
前記外光吸収面の表面粗さより前記投影光反射面の表面粗さが滑らかであることを特徴とする反射スクリーン。
【請求項２】
請求項１に記載の反射スクリーンにおいて、
前記外光吸収面の表面粗さＲａが、８２ｎｍ以上、５０００ｎｍ以下であることを特徴とする反射スクリーン。
【請求項３】
請求項１に記載の反射スクリーンにおいて、
前記投影光反射面の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以上、２７４ｎｍ以下であることを特徴とする反射スクリーン。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
前記投影光反射面が曲面であることを特徴とする反射スクリーン。
【請求項１】
スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた方向から前記観察面に向けて斜めに投射された投影光を、観察面側に反射する反射スクリーンであって、
前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に複数の凹部または凸部が形成され、
前記凹部または凸部は、投影光を反射する投影光反射面と、外光を吸収する外光吸収面と、を備え、
前記外光吸収面の表面粗さより前記投影光反射面の表面粗さが滑らかであることを特徴とする反射スクリーン。
【請求項２】
請求項１に記載の反射スクリーンにおいて、
前記外光吸収面の表面粗さＲａが、８２ｎｍ以上、５０００ｎｍ以下であることを特徴とする反射スクリーン。
【請求項３】
請求項１に記載の反射スクリーンにおいて、
前記投影光反射面の表面粗さＲａが、１０ｎｍ以上、２７４ｎｍ以下であることを特徴とする反射スクリーン。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
前記投影光反射面が曲面であることを特徴とする反射スクリーン。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１１−６４８５１（Ｐ２０１１−６４８５１Ａ）
【公開日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２１４１５６（Ｐ２００９−２１４１５６）
【出願日】平成２１年９月１６日（２００９．９．１６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月１６日（２００９．９．１６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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