反射防止フィルムの製造方法、偏光板及びディスプレイ
【課題】塗液の水分混入が発生しやすい開放系の塗工方式において反射防止フィルムを製造する際、溶剤に親水性溶剤を用いても、ハジキ欠陥、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを製造することができる方法を提供すること。
【解決手段】低屈折率層形成用塗液にモレキュラーシーブを脱水剤として使用する。開放系の塗工による塗液の水分吸収をモレキュラーシーブが抑制する。このため、ハジキ欠陥、色ムラの発生を防止して、高品質の反射防止フィルムを製造することができる。
【解決手段】低屈折率層形成用塗液にモレキュラーシーブを脱水剤として使用する。開放系の塗工による塗液の水分吸収をモレキュラーシーブが抑制する。このため、ハジキ欠陥、色ムラの発生を防止して、高品質の反射防止フィルムを製造することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に適用される、反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。したがって、高品質の画面表示を実現するためには、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することが必須である。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明薄膜からなる多層膜を形成することで得られる。これらの多層膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法などのドライコーティング法により形成することが可能だが、蒸着による形成方法は生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止膜の形成方法として、低屈折率の塗料を塗布するウェットコーティング法が注目されており、このウェットコーティング法によれば大面積化、連続生産、低コスト化が可能である。
【０００４】
ウェットコーティング法による生産方式において、ナノレベルでの均一な膜を塗布形成するためにはマイクログラビア方式が有効であるが、マイクログラビア方式は開放系であり、塗液が空気中の水分を吸収し、ハジキ欠陥、色ムラといった不具合が発生する。
【０００５】
この塗液の水分吸収を抑える為に、使用溶剤にケトン系のような疎水性溶剤を使用することが有効であるが、疎水性溶剤は粘性が低く、塗工時における色ムラが発生しやすい傾向である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−１９１５４４号公報
【特許文献２】特開２００７−１０２２０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、塗液の水分混入が発生しやすい開放系の塗工方式において、溶剤に親水性溶剤を用いても、ハジキ欠陥、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを製造することができる方法を提供することを目的とする。
【０００８】
この方法で製造された反射防止フィルムはハジキ欠陥や色ムラがなく、しかも、十分な反射防止性能、防汚性、耐擦傷性を有するものである。このため、偏光フィルムに積層して偏光板を得ることができる。また、ディスプレイ用部材に適用することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
すなわち、請求項１に記載の発明は、透明基材の少なくとも片面に低屈折率層を積層した反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液にモレキュラーシーブを脱水剤として使用することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法である。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、前記低屈折率層が、電離放射線硬化型樹脂組成物を主成分とし、シリコーン系撥水剤、シリコーン系レべリング剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、前記モレキュラーシーブとしてモレキュラーシーブ３Ａを用いることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、前記低屈折率層形成用塗液とモレキュラーシーブの重量比が低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブとして３．３〜１０．０であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液の主溶剤がアルコール系であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％含まれていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１２０〜２００℃の溶剤が溶剤比で１５〜４０％含まれていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、前記低屈折率層が、粒径０．５〜２００ｎｍの低屈折率微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１７】
請求項９に記載の発明は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０≦ａ＊≦５かつ−３≦ｂ＊≦３であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１８】
請求項１０に記載の発明は、平均視感反射率（Ｙ）がＹ≦１．３％であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１９】
請求項１１に記載の発明は、前記低屈折率層がマイクログラビア方式により塗工されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００２０】
請求項１２に記載の発明は、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法により製造された反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板である。
【００２１】
請求項１３に記載の発明は、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法により製造された反射防止フィルムを有することを特徴とするディスプレイである。
【発明の効果】
【００２２】
請求項１に記載の発明によれば、低屈折率層形成用塗液にモレキュラーシーブを脱水剤として使用するため、開放系の塗工による塗液の水分吸収を抑制することが可能となる。
【００２３】
請求項２に記載の発明によれば、電離放射線硬化型樹脂及びシリコーン系撥水剤を用いるため、膜の摩擦強度が増加し、耐擦傷性向上することが可能となり、シリコーン系レベ
リング剤を用いることにより色ムラ低減することが可能となる。
【００２４】
請求項３に記載の発明によれば、モレキュラーシーブ３Ａを用いるから、塗液内の脱水を効率的に実施することが可能となる。
【００２５】
請求項４に記載の発明においては、前記低屈折率層形成用塗液とモレキュラーシーブの重量比が低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブとして３．３〜１０．０であるため、モレキュラーシーブが塗液内のシリコーン系撥水剤およびシリコーン系レベリング剤を吸着することなく、水分のみ吸着することが可能となる。
【００２６】
請求項５に記載の発明においては、低屈折率層形成用塗液の溶剤がアルコール系であるため、色ムラの少ない均一な膜を作製することが可能となる。
【００２７】
請求項６に記載の発明においては、低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％含まれている。このため、色ムラの少ない均一な膜を作製することが可能となる。
【００２８】
請求項７に記載の発明においては、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１２０〜２００℃の溶剤が溶剤比で１５〜４０％含まれている。このため、色ムラの少ない均一な膜を作製することが可能となる。
【００２９】
請求項８に記載の発明においては、前記低屈折率層が、粒径０．５〜２００ｎｍの低屈折率微粒子を含有する。このため、屈折率を下げることと透過性を損なわないことを両立することが可能となる。
【００３０】
請求項９に記載の発明においては、反射防止フィルムのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０≦ａ＊≦５かつ−３≦ｂ＊≦３である。したがって、反射色としての赤色、青色の出現を抑え、反射色が無色に極めて近く色ムラの少ない反射防止フィルムを得ることができる。
【００３１】
請求項１０に記載の発明においては、反射防止フィルムの平均視感反射率（Ｙ）がＹ≦１．３％である。平均視感反射率（Ｙ）は、反射防止機能の出現による反射率の低下を示すものであり、平均視感反射率（Ｙ）の値が小さいほど視認性が良くなる。従来の反射防止フィルムでは、Ｙが１．３％以下であると反射色が出現してしまうが、本発明の反射防止フィルムは、Ｙが１．３％以下においても反射色相が０≦ａ＊ ≦５かつ−３≦ｂ＊ ≦３であり、反射防止機能と反射光の色味の低減とを同時に満たすことができる。
【００３２】
請求項１１に記載の発明によれば、前記低屈折率層がマイクログラビア方式により塗工される。このため、ナノレベルにおいて均一な膜厚を作製することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明の製造方法は、透明基材の少なくとも片面に低屈折率層を積層して反射防止フィルムを製造する方法である。低屈折率層の積層は、塗液の塗布により行う必要がある。
【００３４】
この塗液は、放射線硬化型樹脂、低屈折率微粒子、シリコーン系撥水剤、シリコーン系レべリング剤及び溶剤を主成分とするものが使用できる。このほか、前記放射線硬化型樹脂を硬化するため、開始剤や増感剤を含有することが望ましい。
【００３５】
また、この塗液を塗布するにあたっては、脱水剤としてモレキュラーシーブを添加する必要がある。モレキュラーシーブとしては、孔径の点から、モレキュラーシーブ３Ａが好
ましく使用できる。また、その添加量は、添加前の塗液の重量をモレキュラーシーブの重量で割った値が３．３〜１０．０となる量である。低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブの重量比が１０．０を超えるとモレキュラーシーブに塗液のシリコーン系撥水剤およびシリコーン系レベリング剤が吸着し耐擦傷性が弱くなる。また、低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブの重量比が３．３未満になると塗液の吸水による不具合が生じ、ハジキ欠陥および色ムラが顕著に発生する。
【００３６】
次に、透明基材としては、公知の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材の中から、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらに耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、選択すればよい。その材質としては、例えば、ポリオレフィン系有機高分子、ポリエステル系有機高分子、セルロース系有機高分子、ポリアミド系有機高分子、アクリル系有機高分子、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等が例示できる。ポリオレフィン系有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等が例示できる。また、ポリエステル系有機高分子としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が例示できる。セルロース系有機高分子としては、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等が例示できる。ポリアミド系有機高分子としては、６−ナイロン等が例示できる。アクリル系有機高分子としては、ポリメチルメタクリレート等が例示できる。また、これらの混合物から構成されるフィルムまたはシートでもよいし、複数の層を積層して構成されるものであってもよい。中でも、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。なお、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより、機能を付加させたものも使用できる。
【００３７】
次に、前記放射線硬化型樹脂としては、アクリレート系の官能基を有するものが使用できる。例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーが使用できる。好ましくはアクリル樹脂である。これら放射線硬化型樹脂を透明基材に塗布した後、例えば、電子線等の放射線を照射することにより硬化することができる。
【００３８】
また、この放射線硬化型樹脂に光重合開始剤を添加することにより、紫外線照射で硬化する紫外線硬化樹脂を製造することができる。また、光重合開始剤に加えて光増感剤を添加することもできる。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類が使用できる。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００３９】
次に、前記低屈折率微粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦもしくはＡｌＦ（以上、いずれも屈折率は１．４）、Ｎａ3ＡｌＦ6（氷晶石、屈折率は１．３３）などを使用することができ、好ましくは、シリカゾル微粒子を使用する。シリカゾル微粒子の表面をアルミニウムアルコキシドなどアルミニウム有機物で修飾することが好ましい。また、内部が空洞の中空シリカ微粒子を使用することもできる。
【００４０】
前記低屈折率微粒子としては、平均粒径が０．５〜２００ｎｍの範囲内であるのが好ましい。この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、透明性が低下する。また、平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、微粒子が凝集しやすくなってしまう。
【００４１】
低屈折率微粒子の添加量は、低屈折率層中、１０〜８０質量％が好ましい。また、低屈折率層の屈折率は、１．３０〜１．４０が好ましい。
【００４２】
次に、前記シリコーン系レべリング剤としては、ポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン等が挙げられる。シリコーン系撥水剤としては、フッ素を含有せず、（メタ）アクリル基を持たない有機ケイ素化合物を用いることができる。具体的には、アルキルアルコキシシラン化合物、シランシロキサン化合物、ポリエステル基を含有するシラン化合物、ポリエーテル基を有するシラン化合物、シロキサン化合物を用いることができる。
【００４３】
前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系主溶剤中に、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％の範囲にあることが好ましい。８５％を越える、もしくは、６０％未満になると色ムラが顕著に発生する。
【００４４】
次に、溶剤としては、親水性の非水溶剤が好ましく使用できる。すなわち、アルコール系溶剤である。このアルコール系溶剤中に、沸点１２０〜２００℃の溶剤が溶剤比で１５〜４０％の範囲にあることが好ましい。４０％を越える、もしくは、１５％未満になると色ムラが顕著に発生する。また、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％含まれていることが望ましい。
【００４５】
本発明の反射防止積層体は、偏光板に適用することができる。例えば、ディスプレイ用として通常用いられる偏光板における偏光膜の保護膜として、本発明の反射防止積層体を使用することができる。さらに本発明は、本発明の反射防止積層体を備える画像表示装置を提供する。このような画像表示装置としては、特に限定されず、ＣＲＴディスプレイ、液晶（ＬＣＤ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ、プロジェクションディスプレイ等、いずれの方式のものであってもよい。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明を実施例および比較例に基づいて詳細に説明するが、本発明の技術範囲はこれらの実施例および比較例に限定されるものではない。
【００４７】
以下の低屈折率層形成用塗液（Ｌ−１〜Ｌ−４）を調整した。
【００４８】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−１）］
アクリル系樹脂とシリコーン系撥水剤とシリコーン系レベリング剤[ＢＹＫ−３３０（ビックケミー株式会社製）]を、モル比１：０．７５：０．１８の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液と平均粒径６０ｎｍの中空シリカとを６３重量部と３７重量部の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液を、イソプロピルアルコールとダイアセトンアルコールを９０重量部と１０重量部の割合になるように混合した希釈溶剤を用いて、固形分換算で３．５％になるように調整した。この溶液と純水を９７重量部と３重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。
【００４９】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−１）］
アクリル系樹脂とシリコーン系撥水剤とシリコーン系レベリング剤[ＢＹＫ−３３０（ビックケミー株式会社製）]を、モル比１：０．７５：０．１８の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液と平均粒径６０ｎｍの中空シリカとを６３重量部と３７重量部の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液を、イソプロピルアルコールとダイアセトンアルコールを８０重量部と２０重量部の割合になるように混合した希釈溶剤を用いて、固形分換算で３．５％になるように調整し、低屈折率層形成用塗液を作製した。この溶液と純水を９７重量部と３重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。
【００５０】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−２）］
低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−１）とモレキュラーシーブ３Ａを９５重量部と５重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。塗液／モレキュラーシーブの重量比は１９．０である。
【００５１】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−３）］
低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−１）とモレキュラーシーブ３Ａを９０重量部と１０重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。塗液／モレキュラーシーブの重量比は９．０である。
【００５２】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−４）］
低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−１）とモレキュラーシーブ３Ａを５０重量部と５０重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。塗液／モレキュラーシーブの重量比は１．０である。
【００５３】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−３）］
アクリル系樹脂とシリコーン系撥水剤とシリコーン系レベリング剤[ＢＹＫ−３３０（ビックケミー株式会社製）]を、モル比１：０．７５：０．１８の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液と平均粒径６０ｎｍの中空シリカとを６３重量部と３７重量部の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液を、イソプロピルアルコールとダイアセトンアルコールを５０重量部と５０重量部の割合になるように混合した希釈溶剤を用いて、固形分換算で３．５％になるように調整した。この溶液と純水を９７重量部と３重量部になるように調整し、２４ｈ放置して、低屈折率用塗液を作製した。
【００５４】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−４）］
アクリル系樹脂とシリコーン系撥水剤とシリコーン系レベリング剤[ＢＹＫ−３３０（ビックケミー株式会社製）]を、モル比１：０．７５：０．１８の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液と平均粒径６０ｎｍの中空シリカとを６３重量部と３７重量部の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液を、メチルイソブチルケトンとシクロヘキサノンを８０重量部と２０重量部の割合になるように混合した希釈溶剤を用いて、固形分換算で３．５％になるように調整した。この溶液と純水を９７重量部と３重量部になるように調整し、２４ｈ放置して、低屈折率用塗液を作製した。
【００５５】
（実施例）、（比較例１〜６）
表面にＵＶ硬化樹脂ハードコート（ＨＣ）層（５μｍ）を設けた８０μｍ厚のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムに低屈折率層形成用塗液（Ｌ−１〜Ｌ−４）をマイクログラビア法を用いて塗布し、乾燥、紫外線照射をおこない膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成した。（実施例）、（比較例１〜６）における低屈折率層形成用塗液（Ｌ−１〜Ｌ−４）は表１に示す。
【００５６】
【表１】
上記の（実施例）、（比較例１〜６）について、各種物性評価方法を以下に示す。
【００５７】
１．光学特性
分光光度計により入射角５度で５５０ｎｍにおける反射率を測定した。
【００５８】
２．耐擦傷試験
スチールウール♯００００を用い、５００ｇ／ｃｍ２ の荷重で１０回往復擦傷試験を実施し、目視による傷の外観を検査した。評価は、傷なし（◎）、程度が小さい傷あり（○）、相当傷つく（△）、著しく傷つく（×）の４段階とした。
【００５９】
３．目視評価（色ムラ）
積層の施されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処理を行った反射防止フィルムを目視で観察し、色ムラの発生を評価した。評価は、明るい環境下でも色ムラが見えにくい（◎）、明るい環境下にて色ムラが見える（○）、暗い環境下でも色ムラが見える（△）、暗い環境下にて色ムラがはっきりと見える（×）の４段階とした。
【００６０】
４．目視評価（ハジキ欠陥）
積層の施されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処理を行った反射防止フィルムを目視で観察し、ハジキ欠陥の発生を評価した。評価は、明るい環境下にてハジキ欠陥がない（○）、明るい環境下にてハジキ欠陥がある（×）とした。
【００６１】
５．油性ペンの拭き取り性
反射防止フィルムの表面に付着した油性ペンのインキをセルロース製不織布〔旭化成工業（株）製：ベンコットＭ−３〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定で行った。評価は、油性ペンのインキを完全に拭き取ることが出来る（○）、油性ペンのインキの拭き取り跡が残る（△）、油性ペンのインキを拭き取ることが出来ない（×）の３段階とした。
【００６２】
６．指紋の拭き取り性
反射防止フィルムの表面に付着した指紋をセルロース製不織布〔旭化成工業（株）製：ベンコットＭ−３〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定で行った。評価は、指紋を完全に拭き取ることが出来る（○）、指紋の拭き取り跡が残る（△）、指紋を拭き取ることが出来ない（×）の３段階とした。
【００６３】
【表２】
以上の結果から、次のことが分かる。
【００６４】
（１）アルコール系溶剤を使用してモレキュラーシーブを使用しなかった比較例１〜２、比較例５、疎水性溶剤を使用してモレキュラーシーブを使用しなかった比較例３のいずれの場合も、ハジキ欠陥が生じたのに対し、モレキュラーシーブを使用した実施例ではハジキ欠陥がなかった。この結果から、ハジキ欠陥を防止するためには、モレキュラーシーブを使用する必要があることが分かる。
【００６５】
（２）モレキュラーシーブを使用した場合でも、その量が少ない比較例４（塗液／モレキュラーシーブの重量比は１９．０）ではハジキ欠陥が発生している。これに対し、その量が多い実施例（塗液／モレキュラーシーブの重量比は９．０）及び比較例６（塗液／モレキュラーシーブの重量比は１．０）ではハジキ欠陥がなかった。この結果から、ハジキ欠陥を防止するためには、モレキュラーシーブを一定量より多くすることが望ましいことが分かる。
【００６６】
（３）モレキュラーシーブの量が多い比較例６（塗液／モレキュラーシーブの重量比は１．０）では、ハジキ欠陥はなかったが、油性ペンや指紋の拭き取り性に劣っており、耐擦傷性にも劣っている。これに対し、実施例（塗液／モレキュラーシーブの重量比は９．０）では、ハジキ欠陥がないことはもちろん、油性ペンや指紋の拭き取り性や耐擦傷性にも優れている。この結果から、油性ペンや指紋の拭き取り性、あるいは耐擦傷性を考慮すると、モレキュラーシーブは一定量より少ないことが望ましいことが分かる。
【００６７】
以上のように、本発明の反射防止フィルムは、十分な反射防止性能、防汚性、耐擦傷性を有しながら色ムラおよびハジキ欠陥の発生を抑えることができる。したがって、該反射防止フィルムは、各種偏光板及びそれを備えた、ＣＲＴディスプレイ、液晶（ＬＣＤ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ、プロジェクションディスプレイ等の画像表示装置に有用である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に適用される、反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。したがって、高品質の画面表示を実現するためには、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することが必須である。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明薄膜からなる多層膜を形成することで得られる。これらの多層膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法などのドライコーティング法により形成することが可能だが、蒸着による形成方法は生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止膜の形成方法として、低屈折率の塗料を塗布するウェットコーティング法が注目されており、このウェットコーティング法によれば大面積化、連続生産、低コスト化が可能である。
【０００４】
ウェットコーティング法による生産方式において、ナノレベルでの均一な膜を塗布形成するためにはマイクログラビア方式が有効であるが、マイクログラビア方式は開放系であり、塗液が空気中の水分を吸収し、ハジキ欠陥、色ムラといった不具合が発生する。
【０００５】
この塗液の水分吸収を抑える為に、使用溶剤にケトン系のような疎水性溶剤を使用することが有効であるが、疎水性溶剤は粘性が低く、塗工時における色ムラが発生しやすい傾向である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−１９１５４４号公報
【特許文献２】特開２００７−１０２２０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、塗液の水分混入が発生しやすい開放系の塗工方式において、溶剤に親水性溶剤を用いても、ハジキ欠陥、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを製造することができる方法を提供することを目的とする。
【０００８】
この方法で製造された反射防止フィルムはハジキ欠陥や色ムラがなく、しかも、十分な反射防止性能、防汚性、耐擦傷性を有するものである。このため、偏光フィルムに積層して偏光板を得ることができる。また、ディスプレイ用部材に適用することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
すなわち、請求項１に記載の発明は、透明基材の少なくとも片面に低屈折率層を積層した反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液にモレキュラーシーブを脱水剤として使用することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法である。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、前記低屈折率層が、電離放射線硬化型樹脂組成物を主成分とし、シリコーン系撥水剤、シリコーン系レべリング剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、前記モレキュラーシーブとしてモレキュラーシーブ３Ａを用いることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、前記低屈折率層形成用塗液とモレキュラーシーブの重量比が低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブとして３．３〜１０．０であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液の主溶剤がアルコール系であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％含まれていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１２０〜２００℃の溶剤が溶剤比で１５〜４０％含まれていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、前記低屈折率層が、粒径０．５〜２００ｎｍの低屈折率微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１７】
請求項９に記載の発明は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０≦ａ＊≦５かつ−３≦ｂ＊≦３であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１８】
請求項１０に記載の発明は、平均視感反射率（Ｙ）がＹ≦１．３％であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１９】
請求項１１に記載の発明は、前記低屈折率層がマイクログラビア方式により塗工されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００２０】
請求項１２に記載の発明は、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法により製造された反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板である。
【００２１】
請求項１３に記載の発明は、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法により製造された反射防止フィルムを有することを特徴とするディスプレイである。
【発明の効果】
【００２２】
請求項１に記載の発明によれば、低屈折率層形成用塗液にモレキュラーシーブを脱水剤として使用するため、開放系の塗工による塗液の水分吸収を抑制することが可能となる。
【００２３】
請求項２に記載の発明によれば、電離放射線硬化型樹脂及びシリコーン系撥水剤を用いるため、膜の摩擦強度が増加し、耐擦傷性向上することが可能となり、シリコーン系レベ
リング剤を用いることにより色ムラ低減することが可能となる。
【００２４】
請求項３に記載の発明によれば、モレキュラーシーブ３Ａを用いるから、塗液内の脱水を効率的に実施することが可能となる。
【００２５】
請求項４に記載の発明においては、前記低屈折率層形成用塗液とモレキュラーシーブの重量比が低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブとして３．３〜１０．０であるため、モレキュラーシーブが塗液内のシリコーン系撥水剤およびシリコーン系レベリング剤を吸着することなく、水分のみ吸着することが可能となる。
【００２６】
請求項５に記載の発明においては、低屈折率層形成用塗液の溶剤がアルコール系であるため、色ムラの少ない均一な膜を作製することが可能となる。
【００２７】
請求項６に記載の発明においては、低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％含まれている。このため、色ムラの少ない均一な膜を作製することが可能となる。
【００２８】
請求項７に記載の発明においては、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１２０〜２００℃の溶剤が溶剤比で１５〜４０％含まれている。このため、色ムラの少ない均一な膜を作製することが可能となる。
【００２９】
請求項８に記載の発明においては、前記低屈折率層が、粒径０．５〜２００ｎｍの低屈折率微粒子を含有する。このため、屈折率を下げることと透過性を損なわないことを両立することが可能となる。
【００３０】
請求項９に記載の発明においては、反射防止フィルムのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０≦ａ＊≦５かつ−３≦ｂ＊≦３である。したがって、反射色としての赤色、青色の出現を抑え、反射色が無色に極めて近く色ムラの少ない反射防止フィルムを得ることができる。
【００３１】
請求項１０に記載の発明においては、反射防止フィルムの平均視感反射率（Ｙ）がＹ≦１．３％である。平均視感反射率（Ｙ）は、反射防止機能の出現による反射率の低下を示すものであり、平均視感反射率（Ｙ）の値が小さいほど視認性が良くなる。従来の反射防止フィルムでは、Ｙが１．３％以下であると反射色が出現してしまうが、本発明の反射防止フィルムは、Ｙが１．３％以下においても反射色相が０≦ａ＊ ≦５かつ−３≦ｂ＊ ≦３であり、反射防止機能と反射光の色味の低減とを同時に満たすことができる。
【００３２】
請求項１１に記載の発明によれば、前記低屈折率層がマイクログラビア方式により塗工される。このため、ナノレベルにおいて均一な膜厚を作製することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明の製造方法は、透明基材の少なくとも片面に低屈折率層を積層して反射防止フィルムを製造する方法である。低屈折率層の積層は、塗液の塗布により行う必要がある。
【００３４】
この塗液は、放射線硬化型樹脂、低屈折率微粒子、シリコーン系撥水剤、シリコーン系レべリング剤及び溶剤を主成分とするものが使用できる。このほか、前記放射線硬化型樹脂を硬化するため、開始剤や増感剤を含有することが望ましい。
【００３５】
また、この塗液を塗布するにあたっては、脱水剤としてモレキュラーシーブを添加する必要がある。モレキュラーシーブとしては、孔径の点から、モレキュラーシーブ３Ａが好
ましく使用できる。また、その添加量は、添加前の塗液の重量をモレキュラーシーブの重量で割った値が３．３〜１０．０となる量である。低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブの重量比が１０．０を超えるとモレキュラーシーブに塗液のシリコーン系撥水剤およびシリコーン系レベリング剤が吸着し耐擦傷性が弱くなる。また、低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブの重量比が３．３未満になると塗液の吸水による不具合が生じ、ハジキ欠陥および色ムラが顕著に発生する。
【００３６】
次に、透明基材としては、公知の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材の中から、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらに耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、選択すればよい。その材質としては、例えば、ポリオレフィン系有機高分子、ポリエステル系有機高分子、セルロース系有機高分子、ポリアミド系有機高分子、アクリル系有機高分子、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等が例示できる。ポリオレフィン系有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等が例示できる。また、ポリエステル系有機高分子としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が例示できる。セルロース系有機高分子としては、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等が例示できる。ポリアミド系有機高分子としては、６−ナイロン等が例示できる。アクリル系有機高分子としては、ポリメチルメタクリレート等が例示できる。また、これらの混合物から構成されるフィルムまたはシートでもよいし、複数の層を積層して構成されるものであってもよい。中でも、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。なお、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより、機能を付加させたものも使用できる。
【００３７】
次に、前記放射線硬化型樹脂としては、アクリレート系の官能基を有するものが使用できる。例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーが使用できる。好ましくはアクリル樹脂である。これら放射線硬化型樹脂を透明基材に塗布した後、例えば、電子線等の放射線を照射することにより硬化することができる。
【００３８】
また、この放射線硬化型樹脂に光重合開始剤を添加することにより、紫外線照射で硬化する紫外線硬化樹脂を製造することができる。また、光重合開始剤に加えて光増感剤を添加することもできる。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類が使用できる。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００３９】
次に、前記低屈折率微粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦもしくはＡｌＦ（以上、いずれも屈折率は１．４）、Ｎａ3ＡｌＦ6（氷晶石、屈折率は１．３３）などを使用することができ、好ましくは、シリカゾル微粒子を使用する。シリカゾル微粒子の表面をアルミニウムアルコキシドなどアルミニウム有機物で修飾することが好ましい。また、内部が空洞の中空シリカ微粒子を使用することもできる。
【００４０】
前記低屈折率微粒子としては、平均粒径が０．５〜２００ｎｍの範囲内であるのが好ましい。この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、透明性が低下する。また、平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、微粒子が凝集しやすくなってしまう。
【００４１】
低屈折率微粒子の添加量は、低屈折率層中、１０〜８０質量％が好ましい。また、低屈折率層の屈折率は、１．３０〜１．４０が好ましい。
【００４２】
次に、前記シリコーン系レべリング剤としては、ポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン等が挙げられる。シリコーン系撥水剤としては、フッ素を含有せず、（メタ）アクリル基を持たない有機ケイ素化合物を用いることができる。具体的には、アルキルアルコキシシラン化合物、シランシロキサン化合物、ポリエステル基を含有するシラン化合物、ポリエーテル基を有するシラン化合物、シロキサン化合物を用いることができる。
【００４３】
前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系主溶剤中に、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％の範囲にあることが好ましい。８５％を越える、もしくは、６０％未満になると色ムラが顕著に発生する。
【００４４】
次に、溶剤としては、親水性の非水溶剤が好ましく使用できる。すなわち、アルコール系溶剤である。このアルコール系溶剤中に、沸点１２０〜２００℃の溶剤が溶剤比で１５〜４０％の範囲にあることが好ましい。４０％を越える、もしくは、１５％未満になると色ムラが顕著に発生する。また、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％含まれていることが望ましい。
【００４５】
本発明の反射防止積層体は、偏光板に適用することができる。例えば、ディスプレイ用として通常用いられる偏光板における偏光膜の保護膜として、本発明の反射防止積層体を使用することができる。さらに本発明は、本発明の反射防止積層体を備える画像表示装置を提供する。このような画像表示装置としては、特に限定されず、ＣＲＴディスプレイ、液晶（ＬＣＤ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ、プロジェクションディスプレイ等、いずれの方式のものであってもよい。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明を実施例および比較例に基づいて詳細に説明するが、本発明の技術範囲はこれらの実施例および比較例に限定されるものではない。
【００４７】
以下の低屈折率層形成用塗液（Ｌ−１〜Ｌ−４）を調整した。
【００４８】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−１）］
アクリル系樹脂とシリコーン系撥水剤とシリコーン系レベリング剤[ＢＹＫ−３３０（ビックケミー株式会社製）]を、モル比１：０．７５：０．１８の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液と平均粒径６０ｎｍの中空シリカとを６３重量部と３７重量部の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液を、イソプロピルアルコールとダイアセトンアルコールを９０重量部と１０重量部の割合になるように混合した希釈溶剤を用いて、固形分換算で３．５％になるように調整した。この溶液と純水を９７重量部と３重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。
【００４９】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−１）］
アクリル系樹脂とシリコーン系撥水剤とシリコーン系レベリング剤[ＢＹＫ−３３０（ビックケミー株式会社製）]を、モル比１：０．７５：０．１８の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液と平均粒径６０ｎｍの中空シリカとを６３重量部と３７重量部の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液を、イソプロピルアルコールとダイアセトンアルコールを８０重量部と２０重量部の割合になるように混合した希釈溶剤を用いて、固形分換算で３．５％になるように調整し、低屈折率層形成用塗液を作製した。この溶液と純水を９７重量部と３重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。
【００５０】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−２）］
低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−１）とモレキュラーシーブ３Ａを９５重量部と５重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。塗液／モレキュラーシーブの重量比は１９．０である。
【００５１】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−３）］
低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−１）とモレキュラーシーブ３Ａを９０重量部と１０重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。塗液／モレキュラーシーブの重量比は９．０である。
【００５２】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−４）］
低屈折率層形成用塗液（Ｌ−２−１）とモレキュラーシーブ３Ａを５０重量部と５０重量部になるように調整し、２４ｈ放置して低屈折率用塗液を作製した。塗液／モレキュラーシーブの重量比は１．０である。
【００５３】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−３）］
アクリル系樹脂とシリコーン系撥水剤とシリコーン系レベリング剤[ＢＹＫ−３３０（ビックケミー株式会社製）]を、モル比１：０．７５：０．１８の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液と平均粒径６０ｎｍの中空シリカとを６３重量部と３７重量部の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液を、イソプロピルアルコールとダイアセトンアルコールを５０重量部と５０重量部の割合になるように混合した希釈溶剤を用いて、固形分換算で３．５％になるように調整した。この溶液と純水を９７重量部と３重量部になるように調整し、２４ｈ放置して、低屈折率用塗液を作製した。
【００５４】
［低屈折率層形成用塗液（Ｌ−４）］
アクリル系樹脂とシリコーン系撥水剤とシリコーン系レベリング剤[ＢＹＫ−３３０（ビックケミー株式会社製）]を、モル比１：０．７５：０．１８の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液と平均粒径６０ｎｍの中空シリカとを６３重量部と３７重量部の割合になるように組み合わせて混合した。この溶液を、メチルイソブチルケトンとシクロヘキサノンを８０重量部と２０重量部の割合になるように混合した希釈溶剤を用いて、固形分換算で３．５％になるように調整した。この溶液と純水を９７重量部と３重量部になるように調整し、２４ｈ放置して、低屈折率用塗液を作製した。
【００５５】
（実施例）、（比較例１〜６）
表面にＵＶ硬化樹脂ハードコート（ＨＣ）層（５μｍ）を設けた８０μｍ厚のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムに低屈折率層形成用塗液（Ｌ−１〜Ｌ−４）をマイクログラビア法を用いて塗布し、乾燥、紫外線照射をおこない膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成した。（実施例）、（比較例１〜６）における低屈折率層形成用塗液（Ｌ−１〜Ｌ−４）は表１に示す。
【００５６】
【表１】
上記の（実施例）、（比較例１〜６）について、各種物性評価方法を以下に示す。
【００５７】
１．光学特性
分光光度計により入射角５度で５５０ｎｍにおける反射率を測定した。
【００５８】
２．耐擦傷試験
スチールウール♯００００を用い、５００ｇ／ｃｍ２ の荷重で１０回往復擦傷試験を実施し、目視による傷の外観を検査した。評価は、傷なし（◎）、程度が小さい傷あり（○）、相当傷つく（△）、著しく傷つく（×）の４段階とした。
【００５９】
３．目視評価（色ムラ）
積層の施されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処理を行った反射防止フィルムを目視で観察し、色ムラの発生を評価した。評価は、明るい環境下でも色ムラが見えにくい（◎）、明るい環境下にて色ムラが見える（○）、暗い環境下でも色ムラが見える（△）、暗い環境下にて色ムラがはっきりと見える（×）の４段階とした。
【００６０】
４．目視評価（ハジキ欠陥）
積層の施されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処理を行った反射防止フィルムを目視で観察し、ハジキ欠陥の発生を評価した。評価は、明るい環境下にてハジキ欠陥がない（○）、明るい環境下にてハジキ欠陥がある（×）とした。
【００６１】
５．油性ペンの拭き取り性
反射防止フィルムの表面に付着した油性ペンのインキをセルロース製不織布〔旭化成工業（株）製：ベンコットＭ−３〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定で行った。評価は、油性ペンのインキを完全に拭き取ることが出来る（○）、油性ペンのインキの拭き取り跡が残る（△）、油性ペンのインキを拭き取ることが出来ない（×）の３段階とした。
【００６２】
６．指紋の拭き取り性
反射防止フィルムの表面に付着した指紋をセルロース製不織布〔旭化成工業（株）製：ベンコットＭ−３〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定で行った。評価は、指紋を完全に拭き取ることが出来る（○）、指紋の拭き取り跡が残る（△）、指紋を拭き取ることが出来ない（×）の３段階とした。
【００６３】
【表２】
以上の結果から、次のことが分かる。
【００６４】
（１）アルコール系溶剤を使用してモレキュラーシーブを使用しなかった比較例１〜２、比較例５、疎水性溶剤を使用してモレキュラーシーブを使用しなかった比較例３のいずれの場合も、ハジキ欠陥が生じたのに対し、モレキュラーシーブを使用した実施例ではハジキ欠陥がなかった。この結果から、ハジキ欠陥を防止するためには、モレキュラーシーブを使用する必要があることが分かる。
【００６５】
（２）モレキュラーシーブを使用した場合でも、その量が少ない比較例４（塗液／モレキュラーシーブの重量比は１９．０）ではハジキ欠陥が発生している。これに対し、その量が多い実施例（塗液／モレキュラーシーブの重量比は９．０）及び比較例６（塗液／モレキュラーシーブの重量比は１．０）ではハジキ欠陥がなかった。この結果から、ハジキ欠陥を防止するためには、モレキュラーシーブを一定量より多くすることが望ましいことが分かる。
【００６６】
（３）モレキュラーシーブの量が多い比較例６（塗液／モレキュラーシーブの重量比は１．０）では、ハジキ欠陥はなかったが、油性ペンや指紋の拭き取り性に劣っており、耐擦傷性にも劣っている。これに対し、実施例（塗液／モレキュラーシーブの重量比は９．０）では、ハジキ欠陥がないことはもちろん、油性ペンや指紋の拭き取り性や耐擦傷性にも優れている。この結果から、油性ペンや指紋の拭き取り性、あるいは耐擦傷性を考慮すると、モレキュラーシーブは一定量より少ないことが望ましいことが分かる。
【００６７】
以上のように、本発明の反射防止フィルムは、十分な反射防止性能、防汚性、耐擦傷性を有しながら色ムラおよびハジキ欠陥の発生を抑えることができる。したがって、該反射防止フィルムは、各種偏光板及びそれを備えた、ＣＲＴディスプレイ、液晶（ＬＣＤ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ、プロジェクションディスプレイ等の画像表示装置に有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも片面に低屈折率層を積層した反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液にモレキュラーシーブを脱水剤として使用することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記低屈折率層が、電離放射線硬化型樹脂組成物を主成分とし、シリコーン系撥水剤、シリコーン系レべリング剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記モレキュラーシーブとしてモレキュラーシーブ３Ａを用いることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記低屈折率層形成用塗液とモレキュラーシーブの重量比が低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブとして３．３〜１０．０であることを特徴とする請求項１〜3のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液の主溶剤がアルコール系であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％含まれていることを特徴とする請求項１〜5のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１２０〜２００℃の溶剤が溶剤比で１５〜４０％含まれていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記低屈折率層が、粒径０．５〜２００ｎｍの低屈折率微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０≦ａ＊≦５かつ−３≦ｂ＊≦３であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
平均視感反射率（Ｙ）がＹ≦１．３％であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記低屈折率層がマイクログラビア方式により塗工されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の方法により製造された反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれかに記載の方法により製造された反射防止フィルムを有することを特徴とするディスプレイ。
【請求項１】
透明基材の少なくとも片面に低屈折率層を積層した反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液にモレキュラーシーブを脱水剤として使用することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記低屈折率層が、電離放射線硬化型樹脂組成物を主成分とし、シリコーン系撥水剤、シリコーン系レべリング剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記モレキュラーシーブとしてモレキュラーシーブ３Ａを用いることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記低屈折率層形成用塗液とモレキュラーシーブの重量比が低屈折率層形成用塗液／モレキュラーシーブとして３．３〜１０．０であることを特徴とする請求項１〜3のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液の主溶剤がアルコール系であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１０〜１２０℃の溶剤が溶剤比で６０〜８５％含まれていることを特徴とする請求項１〜5のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記低屈折率層作製時における低屈折率層形成用塗液のアルコール系溶剤中に、沸点１２０〜２００℃の溶剤が溶剤比で１５〜４０％含まれていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記低屈折率層が、粒径０．５〜２００ｎｍの低屈折率微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０≦ａ＊≦５かつ−３≦ｂ＊≦３であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
平均視感反射率（Ｙ）がＹ≦１．３％であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記低屈折率層がマイクログラビア方式により塗工されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の方法により製造された反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれかに記載の方法により製造された反射防止フィルムを有することを特徴とするディスプレイ。
【公開番号】特開２０１０−２８６５８１（Ｐ２０１０−２８６５８１Ａ）
【公開日】平成２２年１２月２４日（２０１０．１２．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１３８９６１（Ｐ２００９−１３８９６１）
【出願日】平成２１年６月１０日（２００９．６．１０）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１２月２４日（２０１０．１２．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年６月１０日（２００９．６．１０）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]