説明

地下構造体の施工方法

【課題】 掘削底面に仮底盤や耐圧底盤を施工する際に、掘削底面や仮底盤がドライ状態とされ得て、施工作業を容易に行うことが可能な地下構造体の施工方法を提供する。
【解決手段】 地下構造体の施工に際して、地盤10の掘削に先行して、または掘削と並行して、地中に土留壁20を施工し、地盤10の掘削後に、掘削底面11に集水桝31とこの集水桝31に水を導く透水管32を敷設し、その後に集水桝31を除いて掘削底面11に透水管32を埋めるべく仮底盤40を施工し、その後に集水桝31の貯水部31aを除く上面と仮底盤40の上面に耐圧底盤50を施工する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、地下構造体の施工方法、例えば、小規模な地下室の構築に際して実施される地下構造体の施工方法に関する。
【背景技術】
【0002】
この種の地下構造体の施工方法は、例えば、下記特許文献1に示されている。この特許文献1に記載されている地下構造体の施工方法では、地盤の掘削に先行して、または掘削と並行して、地中に土留壁(特許文献1では「山止め」と記載されている)を施工し、地盤の掘削後に、掘削底面に底盤(特許文献1では「底版コンクリート」と記載されている)を施工するようになっている。
【特許文献1】特開平10−159111号公報
【0003】
上記した特許文献1に記載されている地下構造体の施工方法においては、地盤の掘削後から掘削底面に底盤を施工するまでの間に、地下水に対する防水対策がなされていない。このため、地盤の掘削後から掘削底面に底盤を施工するまでの間に、地下水が掘削底面に染み出して、掘削底面がウエット状態となる場合があり、掘削底面への底盤の施工を阻害するおそれがある。
【発明の開示】
【0004】
本発明は、上記した課題に対処すべくなされた地下構造体の施工方法であり、地盤の掘削に先行して、または掘削と並行して、地中に土留壁を施工し、地盤の掘削後に、掘削底面に集水桝とこの集水桝に水を導く透水管を敷設し、その後に前記集水桝を除いて掘削底面に前記透水管を埋めるべく仮底盤(例えば、砕石層とコンクリート層からなるもの)を施工し、その後に前記集水桝の貯水部を除く上面と前記仮底盤の上面に耐圧底盤(例えば、耐圧防水の鉄筋コンクリートからなるもの)を施工することに特徴がある。
【0005】
本発明による地下構造体の施工方法を実施した場合には、地盤の掘削後に、掘削底面に集水桝とこの集水桝に水を導く透水管が敷設されるため、地盤の掘削後において地下水が掘削底面に染み出しても、その水は透水管を通して集水桝に導かれる。したがって、掘削底面に仮底盤や耐圧底盤を施工する際には、掘削底面や仮底盤がドライ状態とされていて施工作業を容易に行うことが可能であり、その際の作業性を向上させることが可能である。
【0006】
また、本発明の実施に際して、前記土留壁がソイルセメント壁であることも可能である。この場合には、土留壁がH形鋼を使用した複数の支柱間に木板その他のパネルを建て込んで施工したものである場合に比して、土留壁の施工を容易に行うことが可能であり、土留壁の施工に要する施工時間、施工コストの低減を図ることが可能である。
【0007】
また、本発明の実施に際して、前記集水桝と前記耐圧底盤には地下水を遮断する止水処理が施されていることも可能である。この場合には、地下構造体の構築後の使用に際しても、集水桝、耐圧底盤などを通して地下構造体内への水の浸入を防ぐことが可能であり、快適な空間を提供することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
以下に、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。図1および図2は、本発明による地下構造体の施工方法において、掘削底面11に集水桝31と4本の透水管32を敷設した状態を示しており、この敷設状態に至るまでには、地盤10の掘削に先行して、地中に土留壁20が施工されている。
【0009】
また、上記したように集水桝31と透水管32が敷設された後には、図3に示したように、集水桝31を除いて掘削底面11に各透水管32を埋めるべく仮底盤40が施工され、その後に集水桝31の貯水部31aを除く上面と仮底盤40の上面に耐圧底盤50が施工されている。なお、耐圧底盤50の施工に際して、集水桝31の上面と耐圧底盤50の下面間には止水板(図示省略)が挟まれていて、集水桝31の上面と耐圧底盤50の下面間を通して地下構造体内に水が侵入しないようになっている。
【0010】
土留壁20は、公知の掘削混練機を用いて掘削土とセメントミルクを混練することで地表面GLから地中に構築されてH形鋼22によって補強されたソイルセメント壁21である。なお、ソイルセメント壁21は、地盤10が公知の掘削機により掘削される際に、一部(内壁部)が削り取られてH形鋼22の一部が露呈するようになっている。
【0011】
集水桝31は、図4および図5にて詳細に示したように、貯水部31aを有するとともに、この貯水部31aに連通する4個の連通孔31bを有していて、周壁31cの外周面と底壁31dの底面には防水膜31eが被覆されて止水処理が施されている。この集水桝31は、各連通孔31bの下端が掘削底面11より僅かに下方となるようにして、掘削底面11に敷設されている。各透水管32は、集水桝31に水を導くためのものであり、一端部にて集水桝31の連通孔31bに接続されており、集水桝31に向けて順次下降傾斜する状態(内部に入った水が集水桝31に流れる状態)で、下部が掘削底面11に接するように配置されている。
【0012】
仮底盤40は、図3に示したように、各透水管32が埋まるように砕石を敷き詰めてなる砕石層41と、この砕石層41上の施したコンクリート層(ステコンともよばれるもの)42からなり、コンクリート層42の上面と集水桝31の上面が略面一となるように各層の厚さが設定されている。耐圧底盤50は、耐圧防水の鉄筋コンクリートであり、地下水を遮断する止水処理が施されている。
【0013】
上記した地下構造体の施工方法においては、地盤10の掘削後に、掘削底面11に集水桝31とこの集水桝31に水を導く透水管32が敷設されるため、地盤10の掘削後において地下水が掘削底面11に染み出しても、その水は透水管32を通して集水桝31に導かれる。したがって、掘削底面11に仮底盤40や耐圧底盤50を施工する際には、掘削底面11や仮底盤40がドライ状態とされていて施工作業を容易に行うことが可能であり、その際の作業性を向上させることが可能である。なお、集水桝31に導かれた水は、例えば、排水ポンプにより適宜に排水することが可能である。
【0014】
また、上記した地下構造体の施工方法においては、土留壁20がH形鋼22によって補強されたソイルセメント壁22である。このため、土留壁がH形鋼を使用した複数の支柱間に木板その他のパネルを建て込んで施工したものである場合に比して、土留壁20の施工を容易に行うことが可能であり、土留壁20の施工に要する施工時間、施工コストの低減を図ることが可能である。
【0015】
また、上記した地下構造体の施工方法においては、集水桝31と耐圧底盤50に地下水を遮断する止水処理が施されている。このため、地下構造体の構築後の使用に際しても、集水桝31、耐圧底盤50などを通して地下構造体内への水の浸入を防ぐことが可能であり、快適な空間を提供することが可能である。なお、地下構造体の構築後の使用に際して、集水桝31の各連通孔31bに止水栓(図示省略)を埋め込んで、貯水部31aに水が導入されないようにすることも可能である。
【0016】
上記した実施形態においては、土留壁20として、H形鋼22によって補強されたソイルセメント壁22を用いた例について説明したが、この土留壁としては、種々な構造のものが採用可能であり、上記実施形態に限定されるものではない。また、上記した実施形態においては、正方形の集水桝31を用いて実施したが、集水桝31の形状は適宜変更可能であり、例えば、長方形や丸形であってもよく、上記実施形態に限定されるものではない。また、上記した実施形態においては、4本の透水管32を用いて実施したが、透水管の数や形状などは適宜変更可能であり、上記実施形態に限定されるものではない。また、上記した実施形態においては、土留壁20に地下水を遮断する止水処理を施さずに実施したが、例えば、土留壁20の構築時または耐圧底盤50の構築後に、土留壁20に地下水を遮断する止水処理を施して実施することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】本発明による地下構造体の施工方法において、掘削底面に集水桝と透水管を敷設した状態を示す縦断正面図である。
【図2】図1に示した状態の平面図である。
【図3】本発明による地下構造体の施工方法によって地下構造体を構築し終えた状態の部分縦断正面図である。
【図4】図1〜図3に示した集水桝の拡大平面図である。
【図5】図4の5−5線に沿った断面図である。
【符号の説明】
【0018】
10…地盤、11…掘削底面、20…土留壁、21…ソイルセメント壁、22…H形鋼、31…集水桝、31a…貯水部、31b……連通孔、31c…周壁、31d…底壁、31e…防水膜、32…透水管、40…仮底盤、41…砕石層、42…コンクリート層、50…耐圧底盤

【特許請求の範囲】
【請求項1】
地盤の掘削に先行して、または掘削と並行して、地中に土留壁を施工し、地盤の掘削後に、掘削底面に集水桝とこの集水桝に水を導く透水管を敷設し、その後に前記集水桝を除いて掘削底面に前記透水管を埋めるべく仮底盤を施工し、その後に前記集水桝の貯水部を除く上面と前記仮底盤の上面に耐圧底盤を施工することを特徴とする地下構造体の施工方法。
【請求項2】
請求項1に記載の地下構造体の施工方法において、前記土留壁はソイルセメント壁であることを特徴とする地下構造体の施工方法。
【請求項3】
請求項1または2に記載の地下構造体の施工方法において、前記集水桝と前記耐圧底盤には地下水を遮断する止水処理が施されていることを特徴とする地下構造体の施工方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2006−328894(P2006−328894A)
【公開日】平成18年12月7日(2006.12.7)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−157335(P2005−157335)
【出願日】平成17年5月30日(2005.5.30)
【出願人】(592019316)中村土木株式会社 (4)
【Fターム(参考)】