導電性材料の現像処理方法及び導電性材料の現像処理装置
【課題】銀塩含有層にキズが発生することを抑制すると共に、現像ムラを抑制することができる導電性材料の現像処理方法及び導電性材料の現像処理装置を提供する。
【解決手段】現像処理槽１６内に３本の液中ターンバー３０が配置されており、液中ターンバー３０の周面に軸方向に形成されたスリットから現像液１６Ａが噴出されることにより、感光ウエブ１２が液中ターンバー３０から浮揚し、非接触で方向転換される。現像処理槽１６内の現像液１６Ａ中で感光ウエブ１２は、４ｍ／分以上の搬送速度で搬送されている。また、３本の液中ターンバー３０の上流側と下流側には、感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａを吹き付けるノズル５０Ａを備えた複数の吹き付け装置５０が配設されている。ノズル５０Ａから現像液が吹き付けられることにより、感光ウエブ１２の表面近傍が撹乱され、現像液が感光ウエブ１２の表面近傍に滞留することが防止される。
【解決手段】現像処理槽１６内に３本の液中ターンバー３０が配置されており、液中ターンバー３０の周面に軸方向に形成されたスリットから現像液１６Ａが噴出されることにより、感光ウエブ１２が液中ターンバー３０から浮揚し、非接触で方向転換される。現像処理槽１６内の現像液１６Ａ中で感光ウエブ１２は、４ｍ／分以上の搬送速度で搬送されている。また、３本の液中ターンバー３０の上流側と下流側には、感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａを吹き付けるノズル５０Ａを備えた複数の吹き付け装置５０が配設されている。ノズル５０Ａから現像液が吹き付けられることにより、感光ウエブ１２の表面近傍が撹乱され、現像液が感光ウエブ１２の表面近傍に滞留することが防止される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を含有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理方法及び導電性材料の現像処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
銀塩感光材料を露光して現像処理した後、表面抵抗低減処理を施した透光性導電膜として、近年ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の電磁波シールド膜が知られている。
【０００３】
特許文献１には、細線等のパターンを銀塩感光材料に露光し、現像、めっき処理して導電性膜を得る方法が開示されている。この方法のなかで現像処理については、現像工程、定着工程、水洗・安定化処理工程の順で実施されることが記載されている。また、得られた現像済み材料を活性化処理、無電解銅めっき、連続電解めっきで処理し、最終的に所望の導電性を持つ透明導電性膜が得られることが記載されている。
【０００４】
特許文献２には、感光材料に乳剤層が実質的に最上層に配置され、乳剤層に酸化防止剤を含有する技術が開示されている。このなかで物理現像やめっき処理が速やかに行われるために乳剤層上に保護層を設けないことが有利であることが記載されている。また、保護層を設けない弊害として、外圧による影響を受けやすく、カブリが起きやすいことが示唆されており、この感光材料により外圧による影響を低減している。
【０００５】
特許文献３、特許文献４には、銀塩感材を露光・現像処理して導電性パターンを得る工程において、銀塩感材の乳剤面には接触しないで、バック面のみローラに接触させて搬送する現像処理装置が開示されている。
【０００６】
特許文献５には、Ｘ線フィルム等の写真感光材料を搬送ローラに挟持（ニップ）搬送して処理する自動現像機が開示されている。
【０００７】
特許文献６には、写真感光材料の自動現像機において、写真感光材料を複数の挟持(ニップ）ローラにより搬送する構成が開示されている。
【特許文献１】特開２００６−３５２０７３号公報
【特許文献２】特開２００６−２２８４６９号公報
【特許文献３】特開２００７−２０７６４６号公報
【特許文献４】特開２００６−１９０５３５号公報
【特許文献５】特開平５−６１１７６号公報
【特許文献６】特開２００７−１２７９８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上記のような技術では、以下のような問題点がある。
【０００９】
感光材料を特許文献１（特開２００６−３５２０７３号公報）で述べられたような現像方法で現像するのに、特許文献５（特開平５−６１１７６号公報）、特許文献６（特開２００７−１２７９８４号公報）に記載されているようないわゆるローラ搬送の機器を用いた場合、微細なゴミや感光材料の両側のエッジの裁断くずなどが液中搬送ローラに付着し、キズを発生させることがある。特に、特許文献２（特開２００６−２２８４６９号公報）に記載された保護層のない感光材料では著しく傷がつきやすく、乳剤面側を液中搬送ローラに接触させながら搬送させることは困難である。
【００１０】
また、特許文献４（特開２００６−１９０５３５号公報）、特許文献３（特開２００７−２０７６４６号公報）では、銀塩感材の乳剤面には接触しないでバック面のみローラに接触させるが、この文献で開示されている搬送方法では、一般的なハロゲン化銀感光材料で多く用いられている、連続する２個以上の処理槽（例えば、現像、定着、水洗）にフィルム上の被処理物を浸漬させて非接触で処理することには不向きである。
【００１１】
さらには、特許文献４（特開２００６−１９０５３５号公報）、特許文献３（特開２００７−２０７６４６号公報）で示された方法では、搬送速度が早くなると（例えば４ｍ／分以上）、挟持ローラがないため銀塩感材のいわゆる液境膜を適宜破壊し、現像反応を均一に進める手段がないため、銀塩感材への同伴液による流れムラが生じる。また、本発明者らの実験によれば、非接触搬送でも液境膜を破壊する手段が必要であることがわかってきた。
【００１２】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、感光材料の銀塩含有層にキズが発生することを抑制すると共に、現像ムラの発生を抑制することができる導電性材料の現像処理方法及び導電性材料の現像処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理方法であって、前記導電性材料前駆体を現像処理液中で４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で、前記銀塩含有層に搬送ガイド部材が接触しないように搬送し、前記現像処理液中の少なくとも１箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱することを特徴としている。
【００１４】
請求項１に記載の発明によれば、導電性材料前駆体を現像処理液中で４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で、銀塩含有層に搬送ガイド部材が接触しないように搬送することで、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。さらに、現像処理液中の少なくとも１箇所以上で銀塩含有層近傍の現像処理液を撹乱することにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。これにより、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００１５】
一方、導電性材料前駆体の搬送速度が４ｍ/分より小さいと、導電性材料前駆体を搬送ガイド部材に接触させずに安定して搬送することが困難となる。また、導電性材料前駆体の搬送速度が５０ｍ/分より大きいと、銀塩含有層の液境膜をほぼ均一に破壊することができず、現像ムラの発生を効果的に抑制することが困難となる。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の導電性材料の現像処理方法において、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴としている。
【００１７】
実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理する場合、現像処理液中で銀塩含有層が軟膜であるため、銀塩含有層にキズがつきやすいが、請求項２に記載の発明では、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理しても、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。ここで「実質的に表面に保護層を有しない」とは、表面の保護層の厚みが０．５μｍ以下若しくは表面に保護層を全く有しない場合をいう。
【００１８】
請求項３に記載の発明は、支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理装置であって、現像処理液で満たされた現像処理槽と、前記導電性材料前駆体を４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で搬送する搬送手段と、前記現像処理槽内に設けられ、前記銀塩含有層に接触しないように前記導電性材料前駆体を搬送させる搬送ガイド部材と、前記現像処理槽内に設けられ、少なくとも１箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱する撹乱手段と、を有することを特徴としている。
【００１９】
請求項３に記載の発明によれば、搬送手段によって、導電性材料前駆体を現像処理液中で４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で搬送し、現像処理槽内に設けられた搬送ガイド部材により、銀塩含有層に接触しないように導電性材料前駆体を搬送させる。これにより、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。さらに、現像処理槽内に設けられた撹乱手段によって、現像処理液中の少なくとも１箇所以上で銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱されることにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。これにより、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００２０】
一方、導電性材料前駆体の搬送速度が４ｍ/分より小さいと、導電性材料前駆体を搬送ガイド部材に接触させずに安定して搬送することが困難となる。また、導電性材料前駆体の搬送速度が５０ｍ/分より大きいと、銀塩含有層の液境膜をほぼ均一に破壊することができず、現像ムラの発生を効果的に抑制することが困難となる。
【００２１】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記銀塩含有層に現像処理液を吹き付けるノズルを備えた吹き付け装置であることを特徴としている。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、吹き付け装置のノズルから銀塩含有層に現像処理液を吹き付けることにより、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。これにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。
【００２３】
請求項５に記載の発明は、請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記導電性材料前駆体の搬送時に前記銀塩含有層と所定の間隔で対向し、弾性変形可能なブレードであることを特徴としている。
【００２４】
請求項５に記載の発明によれば、導電性材料前駆体の搬送時に銀塩含有層と所定の間隔で対向し、弾性変形可能なブレードが設けられているので、導電性材料前駆体が所定の速度で搬送されたときに現像処理液によりブレードが弾性変形し、銀塩含有層とブレードとの間に所定の間隔が形成される。このブレードによって、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。このため、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。
【００２５】
請求項６に記載の発明は、請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて固定支持された板状体であることを特徴としている。
【００２６】
請求項６に記載の発明によれば、銀塩含有層と所定の間隔をおいて固定支持された板状体が設けられており、板状体によって、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。このため、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。
【００２７】
請求項７に記載の発明は、請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて配置されたローラであることを特徴としている。
【００２８】
請求項７に記載の発明によれば、銀塩含有層と所定の間隔をおいて配置されたローラが設けられており、ローラによって、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。これにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。
【００２９】
請求項８に記載の発明は、請求項３から請求項７までのいずれか１項に記載の導電性材料の現像処理装置において、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴としている。
【００３０】
実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理する場合、現像処理液中で銀塩含有層が軟膜であるため、銀塩含有層にキズがつきやすいが、請求項８に記載の発明では、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理しても、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。ここで「実質的に表面に保護層を有しない」とは、表面の保護層の厚みが０．５μｍ以下若しくは表面に保護層を全く有しない場合をいう。
【００３１】
請求項９に記載の発明は、請求項３から請求項８までのいずれか１項に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記搬送ガイド部材が、前記導電性材料前駆体を現像処理液中で方向転換させる液中ターンバーであることを特徴としている。
【００３２】
請求項９に記載の発明によれば、搬送ガイド部材が、導電性材料前駆体を現像処理液中で方向転換させる液中ターンバーであるので、導電性材料前駆体を現像処理液中で効率よく搬送して現像処理することができる。
【発明の効果】
【００３３】
以上説明したように、本発明によれば、導電性材料前駆体を現像処理するときに、銀塩含有層にキズが発生することを抑制すると共に、現像ムラの発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、実質的に同一の機能を有する部材には全図面を通して同じ符号を付与し、重複する説明は省略する場合がある。
【００３５】
図１には、本発明に係る導電性材料の処理方法が適用される導電性材料の処理装置が示されている。この処理装置は、支持フィルム上に銀塩含有層としてハロゲン化銀乳剤層を有する導電性材料前駆体を露光した後に配置され、露光が施された導電性材料前駆体の現像・定着・洗浄等を行う装置である。
【００３６】
図１に示されるように、処理装置１０では、帯状の支持フィルム上にハロゲン化銀乳剤層を有する感光ウエブ１２が複数の支持ローラ１４にガイドされた状態で一定方向に搬送される。この感光ウエブ１２は、図示しない露光装置により所望の細線状のパターン露光が施されたものである。
【００３７】
処理装置１０には、感光ウエブ１２の搬送方向に沿って上流側から下流側の順に、現像液１６Ａが貯留された現像処理槽１６と、停止液１８Ａが貯留された現像停止処理槽１８と、定着液２０Ａが貯留された定着槽２０と、純水（洗浄液）２２Ａが貯留された第１水洗槽２２と、純水（洗浄液）２４Ａが貯留された第２水洗槽２４と、感光ウエブ１２を乾燥させる乾燥装置２６と、が配設されている。乾燥装置２６には、千鳥状に配置された３本の支持ローラ１４に感光ウエブ１２が巻き掛けられており、３本の支持ローラ１４より搬送方向上流側と搬送方向下流側で感光ウエブ１２の表面に温風を吹き付ける温風発生装置２８が配設されている。
【００３８】
処理装置１０では、感光ウエブ１２は現像処理槽１６の上部に配置された支持ローラ１４を経て現像処理槽１６に搬送される。現像処理槽１６内には、３本の液中ターンバー３０が千鳥状に配置されている。液中ターンバー３０は、感光ウエブ１２と対向する面が円弧状に形成され、感光ウエブ１２と対向しない面が平面状に形成されている。すなわち、下方側に配置された２本の液中ターンバー３０は、円弧状の面が下方側を向いており、２本の液中ターンバー３０の間で上方側に配置された１本の液中ターンバー３０は、円弧状の面が上方側を向いている。感光ウエブ１２は、下方側に配置された２本の液中ターンバー３０と、これらの間で上方側に配置された１本の液中ターンバー３０に掛け渡された状態で支持されている。３本の液中ターンバー３０により、現像処理槽１６内で感光ウエブ１２を効率よく搬送し、現像処理を行うことができる。
【００３９】
液中ターンバー３０には、周面に軸方向に複数のスリット（図示省略）が形成されており、複数のスリットから所定量の現像液１６Ａが噴射されることにより、感光ウエブ１２が液中ターンバー３０から浮揚し、非接触となる。これにより、３本の液中ターンバー３０に対し、感光ウエブ１２はハロゲン化銀乳剤層が非接触となるように支持され、方向転換される。感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層はウエット状態で軟膜のため、スリットから噴射される現像液１６Ａの量が強すぎて軟膜を破壊しないように所定の噴射量に調整することが望ましい。
【００４０】
現像処理槽１６内には、３本の液中ターンバー３０の搬送方向上流側と搬送方向下流側のそれぞれの部位に、感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａを吹き付ける撹乱手段としての複数の吹き付け装置５０が設けられている。吹き付け装置５０は、円筒状の部材からなり、感光ウエブ１２と所定の間隔で対向するように配置されている。吹き付け装置５０の周面の感光ウエブ１２と対向する位置には、感光ウエブ１２に現像液１６Ａを吹き付ける複数のノズル５０Ａが形成されている。複数のノズル５０Ａから感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａを吹き付けることで、感光ウエブ１２の両面近傍の現像液１６Ａが撹乱され、現像液１６Ａが感光ウエブ１２の両面近傍に滞留することが抑制される。特に感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍を撹乱することで、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊され、現像反応が促進される。これにより、現像液現像ムラの発生を抑制することができる。
【００４１】
本実施形態では、吹き付け装置５０は、感光ウエブ１２の搬送方向における１本目の液中ターンバー３０より上流側に３箇所、１本目と２本目の液中ターンバー３０の間に２箇所、２本目と３本目の液中ターンバー３０の間に２箇所、３本目の液中ターンバー３０より下流側に３箇所設けられている。また、吹き付け装置５０は、周面に軸方向に沿って４本のノズル５０Ａを備えている。吹き付け装置５０による現像液１６Ａの吹き付け量は５〜１０ｌ／ｍｉｎ×４本に設定されており、ノズル５０Ａのサイズは、スリット幅が０．５ｍｍ、長さが１８０ｍｍに設定されている。また、ノズル５０Ａと感光ウエブ１２との間隔は、３〜５ｍｍに設定されている。
【００４２】
感光ウエブ１２の搬送方向下流側の現像処理槽１６の出口には、感光ウエブ１２と対向するようにエアーナイフ３４が配設されている。エアーナイフ３４は感光ウエブ１２にエアーを吹き付けるものであり、現像処理槽１６内を搬送された感光ウエブ１２は、現像処理槽１６の出口でエアーナイフ３４から吹き付けられるエアーにより現像液１６Ａが掻き落とされ、現像処理槽１６及び現像停止処理槽１８の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て次の現像停止処理槽１８に導入される。搬送ガイド部材３６は、感光ウエブ１２と対向する面が円弧状に形成されており、円弧状面に軸方向に沿って複数のスリット（図示省略）が設けられている。搬送ガイド部材３６は、スリットから所定量のエアーを噴出することで、感光ウエブ１２を搬送ガイド部材３６とほぼ非接触で方向転換させることができる。
【００４３】
現像停止処理槽１８内には、下方側に液中ターンバー３８が配置されており、液中ターンバー３８で感光ウエブ１２はハロゲン化銀乳剤層が非接触となるように支持され、方向転換される。液中ターンバー３８には、周面に軸方向に複数のスリット（図示省略）が形成されており、複数のスリットから所定量の停止液１８Ａが噴射されることにより、感光ウエブ１２が液中ターンバー３８から浮揚し、非接触となる。現像停止処理槽１８内を搬送された感光ウエブ１２は、現像停止処理槽１８の出口で、感光ウエブ１２の両面に対向して配置されたエアーナイフ３４で停止液１８Ａが掻き落とされ、現像停止処理槽１８及び定着槽２０の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て次の定着槽２０に導入される。
【００４４】
以下、上記の現像処理槽１６と同様に、感光ウエブ１２は、定着槽２０内に配置された３本の液中ターンバー４０でハロゲン化銀乳剤層が非接触の状態で方向転換され、定着槽２０の出口で、感光ウエブ１２の両面に対向して配置されたエアーナイフ３４で定着液２０Ａが掻き落とされ、定着槽２０及び第１水洗槽２２の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て次の第１水洗槽２２に導入される。液中ターンバー４０は、周面に軸方向に形成された複数のスリットから所定量の定着液２０Ａが噴射されるものであり、これにより感光ウエブ１２が液中ターンバー４０から浮揚し、非接触となる。
【００４５】
その後、感光ウエブ１２は、第１水洗槽２２内の液中ターンバー４２でハロゲン化銀乳剤層が非接触の状態で方向転換され、第１水洗槽２２の出口で感光ウエブ１２の両面に対向して配置されたエアーナイフ３４で洗浄液が掻き落とされ、第１水洗槽２２及び第２水洗槽２４の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て第２水洗槽２４に導入される。さらに、感光ウエブ１２は、第２水洗槽２４内の液中ターンバー４４でハロゲン化銀乳剤層が非接触の状態で方向転換される。液中ターンバー４２、４４は、周面に軸方向に形成された複数のスリットから所定量の純水２２Ａ、２４Ａが噴射されるものであり、これにより感光ウエブ１２が液中ターンバー４２、４４から浮揚し、非接触となる。
【００４６】
第２水洗槽２４の出口には、感光ウエブ１２の両面に対向するように２対のエアーナイフ３４が配置されており、第２水洗槽２４から出た感光ウエブ１２はエアーナイフ３４から吹き出されるエアーにより洗浄液が掻き落とされ、第２水洗槽２４の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て乾燥装置２６に搬送される。
【００４７】
乾燥装置２６では、温風発生装置２８から発生する温風により感光ウエブ１２の両面が乾燥され、感光ウエブ１２は乾燥装置２６の上部に配置された支持ローラ１４を経て搬送される。また、処理装置１０には、現像処理槽１６の上流側に感光ウエブ１２を送り出す送り出しローラ（図示省略）が配置され、温風発生装置２８の下流側に感光ウエブ１２を巻き取る巻き取りローラ（図示省略）が配置されており、送り出しローラ（図示省略）と巻き取りローラ（図示省略）の回転により、感光ウエブ１２が一定の搬送速度で搬送される。図示していないが処理装置１０は感光ウエブ１２を一定のテンションで搬送できるようにトルク調整機構を持っている。感光ウエブ１２の搬送速度は、４ｍ/分〜５０ｍ/分が好ましく、８ｍ/分〜３０ｍ/分がより好ましく、１０ｍ/分〜２０ｍ/分がさらに好ましくい。
【００４８】
また、感光ウエブ１２の搬送速度が４ｍ/分より小さいと、感光ウエブ１２を現像処理槽１６内の液中ターンバー３０に接触させずに安定して搬送することが困難となる。また、感光ウエブ１２の搬送速度が５０ｍ/分より大きいと、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜をほぼ均一に破壊することができず、現像ムラの発生を効果的に抑制することが困難となる。
【００４９】
このような処理装置１０では、複数の支持ローラ１４、３２、３４と液中ターンバー３０、３８、４０、４２、４４等によって、感光ウエブ１２が現像処理槽１６、現像停止処理槽１８、定着槽２０、第１水洗槽２２、第２水洗槽２４内を搬送されることで、現像、現像停止、定着、洗浄の各処理が行われる。これによって、細線メッシュ状の現像銀画像（導電膜）が形成された感光ウエブ１２が得られる。
【００５０】
処理装置１０には、現像処理槽１６と定着槽２０との間に、停止液１８Ａが貯留された現像停止処理槽１８が配置されている。停止液１８Ａは、ｐＨ１以上ｐＨ５以下が好ましく、ｐＨ２以上ｐＨ３以下がより好ましい。停止液のｐＨが、ｐＨ１以上ｐＨ５以下の範囲を外れると、現像液中の銀が導電性材料の銀線エッジ部に局部的に析出することを効果的に抑制することができなくなる。停止液１８Ａとして、例えば、酢酸、コハク酸、マレイン酸、クエン酸等が用いられる。本実施形態では、５％酢酸が用いられている。
【００５１】
ここで、現像・定着・洗浄の各処理は、銀塩写真フィルム、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる現像処理技術を適用することができる。現像液、定着液、洗浄液もこれらに準じて適宜適用することができる。例えば、現像液としては、特に限定しないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、例えば、富士フイルム社製のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社製のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２などの現像液、又はそのキットに含まれる現像液、また、Ｄ−８５などのリス現像液を用いることができる。なお、定着処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる。
【００５２】
本実施形態では、感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層の表面に保護層が設けられていない。また、感光ウエブ１２を搬送するときの張力は、３Ｎ／ｍ以上、１５０Ｎ／ｍ以下とすることが好ましい。張力を３Ｎ／ｍ未満にすると、支持ローラ１４、３４等が回転しなくなり、フィルムに傷がつく場合がある。また１５０Ｎ／ｍを超えると、感光ウエブ１２に皺が発生して液中ターンバー表面にフィルムが接触して現像銀画像に傷をつける場合がある。
【００５３】
次に、本実施形態の導電性材料の処理方法が適用される処理装置１０の作用について説明する。
【００５４】
処理装置１０では、複数の支持ローラ１４、３２、３４と液中ターンバー３０、３８、４０、４２、４４等によって、感光ウエブ１２が現像処理槽１６、現像停止処理槽１８、定着槽２０、第１水洗槽２２、第２水洗槽２４内を搬送される。これにより、感光ウエブ１２に現像、現像停止、定着、洗浄の各処理が行われる。そして、感光ウエブ１２を乾燥装置２６により乾燥させることで、細線メッシュ状の現像銀画像（導電膜）が形成された感光ウエブ１２（導電性材料）が得られる。処理装置１０により処理されて得られた感光ウエブ１２は、透光性電磁波シールド膜に好適に使用できる。すなわち、処理装置１０により感光ウエブ１２を処理して発現された細線メッシュ状の銀パターンに、Ｃｕ、Ａｇなどのめっき処理によって金属を所定量付与することで、透光性電磁波シールド膜が形成される。
【００５５】
この処理装置１０では、現像処理槽１６内で感光ウエブ１２が３本の液中ターンバー３０によって非接触で搬送されるので、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層にキズが発生することを抑制することができる。また、感光ウエブ１２の裏面と液中ターンバー３０とが非接触であるので、感光ウエブ１２の裏面にキズが発生することを抑制することができる。
【００５６】
また、現像処理槽１６内の３本の液中ターンバー３０の上流側と下流側のそれぞれの部位に、感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａを吹き付ける複数の吹き付け装置５０が設けられており、吹き付け装置５０の複数のノズル５０Ａから感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａが吹き付けられる。これにより、感光ウエブ１２の両面近傍の現像液１６Ａが撹乱され、感光ウエブ１２の両面近傍に同じ現像液１６Ａが滞留することが抑制される。特に感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍が撹乱されることにより、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍に同じ現像液１６Ａが滞留することが抑制される。このため、感光ウエブ１２の現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ１２を現像液１６Ａ中で４ｍ/分以上、特に８ｍ/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００５７】
また、感光ウエブ１２は、ハロゲン化銀乳剤層の表面に保護層が設けられていない。ハロゲン化銀乳剤層の表面に実質的に保護層を設けない場合には、感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層はウエット状態で軟膜のため、ハロゲン化銀乳剤層にキズが付きやすい。しかし、処理装置１０では、表面に保護層を全く設けない感光ウエブ１２、又は保護層の厚みが極めて薄い（例えば、保護層の厚みが０．５μｍ以下の）感光ウエブでも、ハロゲン化銀乳剤層のキズの発生を抑制することができる。
【００５８】
もともと一般的な写真感光材料であれば、現像処理後にめっき等をすることがないので１対の搬送ローラによる搬送に耐えうるような十分な保護層を乳剤面上に設けることができるので、本発明の処理装置１０を用いる必要はなかった。現像後にめっきをかけるためには現像後に銀線が表面に出ている必要があるので、ハロゲン化銀乳剤層に保護層が設けられなくなり、本発明の処理装置１０のように感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層に非接触で現像処理を行うことが必要になった。
【００５９】
また、処理装置１０では、現像処理槽１６と定着槽２０との間に、停止液１８Ａが貯留された現像停止処理槽１８が配置されており、現像処理槽１６を出た感光ウエブ１２は、現像停止処理槽１８内に搬送され、現像停止処理が行われる。
【００６０】
現像処理槽１６と定着槽２０との間に現像停止処理槽１８を設けない場合、現像後の定着初期又は現像後の定着槽入口でのスクイズ部において、現像の局部暴走（溶解物理現象の１種）により銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ、樹状の銀析出（黒ジミ）、スジムラが発生しやすい。これらの銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ等の欠陥は現像後透過光で見ていてもよく判らないが、透明導電性膜前駆体（めっき前の現像済み品）をめっきすると、上記の銀線エッジ部の欠陥がめっきで増幅され透過でも見えるようになる。ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の電磁波シールドフィルムとするには、透過で目視可能なムラは故障となる。特に、保護層がない感光ウエブにおいては、現像の局部暴走が顕著に発現し、搬送速度が上がるとスクイズしきれず同伴する現像液が増えるので、ムラもひどくなる傾向がある。
【００６１】
本実施形態の処理装置１０では、現像処理槽１６を出た感光ウエブ１２は、現像停止処理槽１８内に搬送され、現像停止処理が行われることにより、現像の局部暴走、すなわち現像液中に微少量溶け込んでいるハロゲン化銀が定着液と接触し、現像液中の銀が感光ウエブ１２の銀線上に局部的に析出する現象を抑制できる。このため、感光ウエブ１２の銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ等の欠陥の発生を抑制することができ、滑らかな銀線エッジ部を得ることができる。
【００６２】
次に、本発明の処理装置の他の実施形態について説明する。
【００６３】
図２には、本発明の第２実施形態の処理装置で用いられる現像処理槽６０が示されている。なお、第１実施形態と同一の部材には同じ符号を付与し、重複する説明は省略する。図２に示されるように、現像処理槽６０内には、下方側の２本の液中ターンバー６２と、上方側の２本の支持ローラ６４とが略千鳥状に配置されている。液中ターンバー６２と近接対向する位置には、感光ウエブ１２の搬送方向における上流側と下流側に、感光ウエブ１２の裏面側で感光ウエブ１２をガイドするガイドローラ６５が配設されている。また、感光ウエブ１２の搬送方向における２本の液中ターンバー６２の上流側と下流側には、感光ウエブ１２の表面に現像液１６Ａを吹き付ける複数の吹き付け装置５０が配設されている。また、感光ウエブ１２を挟んで複数の吹き付け装置５０とそれぞれ対向する位置には、感光ウエブ１２の裏面側で感光ウエブ１２をガイドする複数のガイドローラ６６が配設されている。
【００６４】
図３に示されるように、吹き付け装置５０は、円筒状部材の周面に軸方向に沿って４本のノズル５０Ａが設けられており、ノズル５０Ａから現像液１６Ａが感光ウエブ１２の表面に吹き付けられる。ノズル５０Ａから感光ウエブ１２の表面に吹き付けられた現像液１６Ａは、図３中の矢印に示すように感光ウエブ１２の表面の上下方向に流れる。図２に示されるように、現像処理槽６０には、現像処理槽６０内の現像液１６Ａが導入されるチューブ６８が設けられており、チューブ６８はポンプ７０を介して液中ターンバー６２に接続されている。液中ターンバー６２は、円筒状部材からなり、周面に軸方向に沿って複数のスリットを備えている。ポンプ７０によってチューブ６８を通って液中ターンバー６２に導入された現像液１６Ａは、図２中の矢印に示すように複数のスリットから現像処理槽６０内に噴射される。これにより、液中ターンバー６２に対して感光ウエブ１２が浮揚し、感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層が非接触となるように支持された状態で方向転換される。また、現像処理槽６０の出口には、現像処理槽６０の上部に支持ローラ１４が配置されており、支持ローラ１４と感光ウエブ１２を挟んで対向する位置には押圧ローラ７２が配設されている。
【００６５】
このような現像処理槽１６では、感光ウエブ１２の表面が２本の液中ターンバー３０によって非接触で搬送されるので、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層にキズが発生することを抑制することができる。また、現像処理槽１６内の２本の液中ターンバー３０の上流側と下流側に、感光ウエブ１２の表面に現像液１６Ａを吹き付ける複数の吹き付け装置５０が設けられており、感光ウエブ１２の裏面がガイドローラ６６でガイドされた状態で、吹き付け装置５０の複数のノズル５０Ａから感光ウエブ１２の表面に現像液１６Ａが吹き付けられる。これにより、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍が撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面近傍に同じ現像液１６Ａが滞留することが抑制される。このため、現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ１２を現像液１６Ａ中で４ｍ/分以上、特に８ｍ/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００６６】
図４には、本発明の第３実施形態の処理装置で用いられる撹乱手段としてのブレードが示されている。なお、第１実施形態及び第２実施形態と同一の部材には同じ符号を付与し、重複する説明は省略する。図４に示されるように、感光ウエブ１２の表面と対向する位置には、支持体８２に支持されたブレード８０が配設されている。ブレード８０は、弾性変形可能な薄板状の部材で形成されている。図４（Ａ）に示されるように、感光ウエブ１２が静止しているときは、ブレード８０の先端部８０Ａは感光ウエブ１２の表面に接触している。図４（Ｂ）に示されるように、感光ウエブ１２が矢印方向に搬送されると、現像液の流れによりブレード８０が弾性変形して先端部８０Ａが感光ウエブ１２の表面から離れる。これにより、ブレード８０の先端部８０Ａが感光ウエブ１２の表面に所定の間隔で対向した状態となる。
【００６７】
本実施形態では、ブレード８０として、厚さが０．５ｍｍ、長さが２０ｍｍのウレタンブレードを用いる。また、ブレード８０の硬度（ＪＩＳＡ硬度）は５０〜９０度である。また本実施形態では、感光ウエブ１２を搬送したときに、ブレード８０の先端部８０Ａと感光ウエブ１２との間隔が０．１〜０．５ｍｍとなるように調整している。
【００６８】
このようなブレード８０では、図４（Ｂ）に示されるように、感光ウエブ１２が矢印方向に搬送されると、現像液の流れによりブレード８０の先端部８０Ａが感光ウエブ１２の表面に所定の間隔で対向した状態となる。このブレード８０の先端部８０Ａにより、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍の現像液が撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面近傍に同じ現像液が滞留することが抑制される。このため、現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ１２を現像液１６Ａ中で４ｍ/分以上、特に８ｍ/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００６９】
また、ブレード８０に代えて、感光ウエブ１２の表面に所定の間隔をおいて対向するように、剛性を有する板状の邪魔板（板状体）を固定支持してもよい。このとき、邪魔板と感光ウエブ１２との間隔は、０．１〜０．５ｍｍに設定することが好ましい。剛性を有する邪魔板を設けた場合でも、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍の現像液が邪魔板によって撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面近傍に同じ現像液が滞留することが抑制される。このため、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００７０】
図５には、本発明の第４実施形態の処理装置で用いられる撹乱手段としてのローラが示されている。なお、第１〜第３実施形態と同一の部材には同じ符号を付与し、重複する説明は省略する。図５に示されるように、感光ウエブ１２の表面と対向する位置にはローラ９０が配設されている。ローラ９０は、軸方向に沿って感光ウエブ１２の表面と所定の間隔で対向する円柱状のローラ部９０Ａと、ローラ部９０Ａの両端部にローラ部９０Ａより半径が大きい円形状のフランジ部９０Ｂと、を備えている。フランジ部９０Ｂは、感光ウエブ１２の幅方向両側でガイドローラ６６の周面の両端部と接触するように配置されており、このフランジ部９０Ｂによりローラ部９０Ａと感光ウエブ１２の表面とが所定の間隔で対向した状態となる。ローラ部９０Ａと感光ウエブ１２との間隔は、０．１〜０．５ｍｍに設定されている。
【００７１】
このようなローラ９０では、ローラ部９０Ａが感光ウエブ１２の表面に所定の間隔で対向しているので、ローラ部９０Ａにより、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍の現像液が撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面近傍に同じ現像剤が滞留することが抑制される。このため、現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ１２を現像液中で４ｍ/分以上、特に８ｍ/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００７２】
次に、処理装置１０を用いて、感光ウエブ１２の現像ムラとハロゲン化銀乳剤層のキズの状態を調べる実験を行った。
【００７３】
吹き付け装置５０は、ノズル５０Ａからの現像液の吹き付け量を５〜１０ｌ／ｍｉｎ×４本に設定し、ノズル５０Ａのサイズは、幅が０．５ｍｍ、長さが１８０ｍｍに設定した。また、ノズル５０Ａと感光ウエブ１２との間隔を３〜５ｍｍに設定した。ブレード８０は、厚さが０．５ｍｍ、長さが２０ｍｍのウレタンブレードを用い、ブレード８０の硬度（ＪＩＳＡ硬度）は５０〜９０度に設定した。また、邪魔板とローラ９０は、感光ウエブ１２との間隔を０.１〜０．５ｍｍに設定した。この条件にて、感光ウエブ１２の現像処理を行い感光ウエブ１２の現像ムラとハロゲン化銀乳剤層のキズの発生状態を調べた。また、感光ウエブ１２は、ハロゲン化銀乳剤層の表面に保護層を設けないものを用いた。この実験の結果を表１に示す。表1では、極めて良好な場合を◎、良好な場合を○、キズ又は現像ムラが少量認められた場合を△として評価した。
【００７４】
【表１】
表１に示されるように、吹き付け装置５０では、感光ウエブ１２の現像ムラ、キズともに極めて良好であることが確認された。また、ブレード８０では、感光ウエブ１２の現像ムラ、キズともにほぼ良好であることが確認された。さらに、邪魔板、ローラ９０では、感光ウエブ１２の現像ムラは良好であるが、キズが少量発生することがわかった。従って、本発明の撹乱手段によれば、感光ウエブ１２の現像ムラを抑制できると共に、ハロゲン化銀乳剤層のキズの発生を低減できることがわかった。
【００７５】
次に、感光ウエブ１２について説明する。感光ウエブ１２は、例えば、光透過性支持体上に銀塩が含有した銀塩含有層（本実施形態では、ハロゲン化銀乳剤層）を設けた、感光材料からなる長尺幅広フレキシブル基材である。また、本実施形態では、銀塩含有層上には実質的に保護層が設けられていないが、銀塩含有層上には保護層が設けられていてもよく、この保護層とは例えばゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために銀塩含有層上に形成される。保護層の厚みは０．０２〜２０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍであり、さらに好ましくは０．３〜３μｍである。
【００７６】
これらの銀塩含有層や保護層の組成などは、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に適用されるハロゲン化銀乳剤層（銀塩含有層）や保護層を適宜適用することができる。
【００７７】
特に、感光ウエブ１２（感光材料）としては、銀塩写真フィルム（銀塩感光材料）が好ましく、白黒銀塩写真フィルム（白黒銀塩感光材料）が最もよい。また、銀塩含有層に適用する銀塩としては、特にハロゲン化銀が最も好適である。
【００７８】
一方、光透過性支持体としては、単層のプラスチックフィルムや、これを２層以上組み合わせた多層フィルムを適用することができる。プラスチックフィルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂；その他、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
【００７９】
これらの中でも、透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、支持体としてのプラスチックフィルムは、銀塩写真フィルム（銀塩感光材料）に通常適用されるポリエチレンテレフタレートフィルムやセルロールトリアセテートフィルム、また、その他、ポリイミドフィルムであることが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが最も好ましい。
【００８０】
また、ディスプレイ用の電磁波遮蔽材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合における光透過性支持体の全可視光透過率は７０〜１００％が好ましく、さらに好ましくは８５〜１００％であり、特に好ましくは９０〜１００％である。
【００８１】
感光ウエブ１２の幅は、例えば、５０ｃｍ以上とし、厚みは５０〜２００μｍとすることがよい。
【００８２】
なお、本実施形態では、光透過性電磁波遮蔽材料を製造する装置及び製造方法について説明したが、これに限られず、例えば、その他工業品などの微細な導電性金属部からなる細線状パターンを有する光透過性導電性材料の製造装置及び製造方法としても適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の第１実施形態における導電性材料の処理方法が適用された導電性材料の処理装置を示す概略構成図である。
【図２】本発明の第２実施形態における導電性材料の処理装置に用いられる現像処理槽を示す構成図である。
【図３】図２に示される吹き付け装置を示す断面図である。
【図４】本発明の第３実施形態における導電性材料の処理装置に用いられるブレードを示す構成図である。
【図５】本発明の第３実施形態における導電性材料の処理装置に用いられるローラを示す構成図である。
【符号の説明】
【００８４】
１０ 処理装置
１２ 感光ウエブ（導電性材料前駆体）
１６ 現像処理槽
１６Ａ 現像液
３０ 液中ターンバー（搬送ガイド部材）
３４ エアーナイフ
３６ 搬送ガイド部材
５０ 吹き付け装置（撹乱手段）
５０Ａ ノズル
６０ ガイドローラ
６０ 現像処理槽
６２ 液中ターンバー（搬送ガイド部材）
８０ ブレード（撹乱手段）
８０Ａ 先端部
９０ ローラ（撹乱手段）
９０Ａ ローラ部（撹乱手段）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を含有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理方法及び導電性材料の現像処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
銀塩感光材料を露光して現像処理した後、表面抵抗低減処理を施した透光性導電膜として、近年ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の電磁波シールド膜が知られている。
【０００３】
特許文献１には、細線等のパターンを銀塩感光材料に露光し、現像、めっき処理して導電性膜を得る方法が開示されている。この方法のなかで現像処理については、現像工程、定着工程、水洗・安定化処理工程の順で実施されることが記載されている。また、得られた現像済み材料を活性化処理、無電解銅めっき、連続電解めっきで処理し、最終的に所望の導電性を持つ透明導電性膜が得られることが記載されている。
【０００４】
特許文献２には、感光材料に乳剤層が実質的に最上層に配置され、乳剤層に酸化防止剤を含有する技術が開示されている。このなかで物理現像やめっき処理が速やかに行われるために乳剤層上に保護層を設けないことが有利であることが記載されている。また、保護層を設けない弊害として、外圧による影響を受けやすく、カブリが起きやすいことが示唆されており、この感光材料により外圧による影響を低減している。
【０００５】
特許文献３、特許文献４には、銀塩感材を露光・現像処理して導電性パターンを得る工程において、銀塩感材の乳剤面には接触しないで、バック面のみローラに接触させて搬送する現像処理装置が開示されている。
【０００６】
特許文献５には、Ｘ線フィルム等の写真感光材料を搬送ローラに挟持（ニップ）搬送して処理する自動現像機が開示されている。
【０００７】
特許文献６には、写真感光材料の自動現像機において、写真感光材料を複数の挟持(ニップ）ローラにより搬送する構成が開示されている。
【特許文献１】特開２００６−３５２０７３号公報
【特許文献２】特開２００６−２２８４６９号公報
【特許文献３】特開２００７−２０７６４６号公報
【特許文献４】特開２００６−１９０５３５号公報
【特許文献５】特開平５−６１１７６号公報
【特許文献６】特開２００７−１２７９８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上記のような技術では、以下のような問題点がある。
【０００９】
感光材料を特許文献１（特開２００６−３５２０７３号公報）で述べられたような現像方法で現像するのに、特許文献５（特開平５−６１１７６号公報）、特許文献６（特開２００７−１２７９８４号公報）に記載されているようないわゆるローラ搬送の機器を用いた場合、微細なゴミや感光材料の両側のエッジの裁断くずなどが液中搬送ローラに付着し、キズを発生させることがある。特に、特許文献２（特開２００６−２２８４６９号公報）に記載された保護層のない感光材料では著しく傷がつきやすく、乳剤面側を液中搬送ローラに接触させながら搬送させることは困難である。
【００１０】
また、特許文献４（特開２００６−１９０５３５号公報）、特許文献３（特開２００７−２０７６４６号公報）では、銀塩感材の乳剤面には接触しないでバック面のみローラに接触させるが、この文献で開示されている搬送方法では、一般的なハロゲン化銀感光材料で多く用いられている、連続する２個以上の処理槽（例えば、現像、定着、水洗）にフィルム上の被処理物を浸漬させて非接触で処理することには不向きである。
【００１１】
さらには、特許文献４（特開２００６−１９０５３５号公報）、特許文献３（特開２００７−２０７６４６号公報）で示された方法では、搬送速度が早くなると（例えば４ｍ／分以上）、挟持ローラがないため銀塩感材のいわゆる液境膜を適宜破壊し、現像反応を均一に進める手段がないため、銀塩感材への同伴液による流れムラが生じる。また、本発明者らの実験によれば、非接触搬送でも液境膜を破壊する手段が必要であることがわかってきた。
【００１２】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、感光材料の銀塩含有層にキズが発生することを抑制すると共に、現像ムラの発生を抑制することができる導電性材料の現像処理方法及び導電性材料の現像処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理方法であって、前記導電性材料前駆体を現像処理液中で４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で、前記銀塩含有層に搬送ガイド部材が接触しないように搬送し、前記現像処理液中の少なくとも１箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱することを特徴としている。
【００１４】
請求項１に記載の発明によれば、導電性材料前駆体を現像処理液中で４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で、銀塩含有層に搬送ガイド部材が接触しないように搬送することで、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。さらに、現像処理液中の少なくとも１箇所以上で銀塩含有層近傍の現像処理液を撹乱することにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。これにより、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００１５】
一方、導電性材料前駆体の搬送速度が４ｍ/分より小さいと、導電性材料前駆体を搬送ガイド部材に接触させずに安定して搬送することが困難となる。また、導電性材料前駆体の搬送速度が５０ｍ/分より大きいと、銀塩含有層の液境膜をほぼ均一に破壊することができず、現像ムラの発生を効果的に抑制することが困難となる。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の導電性材料の現像処理方法において、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴としている。
【００１７】
実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理する場合、現像処理液中で銀塩含有層が軟膜であるため、銀塩含有層にキズがつきやすいが、請求項２に記載の発明では、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理しても、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。ここで「実質的に表面に保護層を有しない」とは、表面の保護層の厚みが０．５μｍ以下若しくは表面に保護層を全く有しない場合をいう。
【００１８】
請求項３に記載の発明は、支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理装置であって、現像処理液で満たされた現像処理槽と、前記導電性材料前駆体を４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で搬送する搬送手段と、前記現像処理槽内に設けられ、前記銀塩含有層に接触しないように前記導電性材料前駆体を搬送させる搬送ガイド部材と、前記現像処理槽内に設けられ、少なくとも１箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱する撹乱手段と、を有することを特徴としている。
【００１９】
請求項３に記載の発明によれば、搬送手段によって、導電性材料前駆体を現像処理液中で４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で搬送し、現像処理槽内に設けられた搬送ガイド部材により、銀塩含有層に接触しないように導電性材料前駆体を搬送させる。これにより、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。さらに、現像処理槽内に設けられた撹乱手段によって、現像処理液中の少なくとも１箇所以上で銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱されることにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。これにより、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００２０】
一方、導電性材料前駆体の搬送速度が４ｍ/分より小さいと、導電性材料前駆体を搬送ガイド部材に接触させずに安定して搬送することが困難となる。また、導電性材料前駆体の搬送速度が５０ｍ/分より大きいと、銀塩含有層の液境膜をほぼ均一に破壊することができず、現像ムラの発生を効果的に抑制することが困難となる。
【００２１】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記銀塩含有層に現像処理液を吹き付けるノズルを備えた吹き付け装置であることを特徴としている。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、吹き付け装置のノズルから銀塩含有層に現像処理液を吹き付けることにより、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。これにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。
【００２３】
請求項５に記載の発明は、請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記導電性材料前駆体の搬送時に前記銀塩含有層と所定の間隔で対向し、弾性変形可能なブレードであることを特徴としている。
【００２４】
請求項５に記載の発明によれば、導電性材料前駆体の搬送時に銀塩含有層と所定の間隔で対向し、弾性変形可能なブレードが設けられているので、導電性材料前駆体が所定の速度で搬送されたときに現像処理液によりブレードが弾性変形し、銀塩含有層とブレードとの間に所定の間隔が形成される。このブレードによって、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。このため、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。
【００２５】
請求項６に記載の発明は、請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて固定支持された板状体であることを特徴としている。
【００２６】
請求項６に記載の発明によれば、銀塩含有層と所定の間隔をおいて固定支持された板状体が設けられており、板状体によって、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。このため、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。
【００２７】
請求項７に記載の発明は、請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて配置されたローラであることを特徴としている。
【００２８】
請求項７に記載の発明によれば、銀塩含有層と所定の間隔をおいて配置されたローラが設けられており、ローラによって、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。これにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。
【００２９】
請求項８に記載の発明は、請求項３から請求項７までのいずれか１項に記載の導電性材料の現像処理装置において、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴としている。
【００３０】
実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理する場合、現像処理液中で銀塩含有層が軟膜であるため、銀塩含有層にキズがつきやすいが、請求項８に記載の発明では、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理しても、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。ここで「実質的に表面に保護層を有しない」とは、表面の保護層の厚みが０．５μｍ以下若しくは表面に保護層を全く有しない場合をいう。
【００３１】
請求項９に記載の発明は、請求項３から請求項８までのいずれか１項に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記搬送ガイド部材が、前記導電性材料前駆体を現像処理液中で方向転換させる液中ターンバーであることを特徴としている。
【００３２】
請求項９に記載の発明によれば、搬送ガイド部材が、導電性材料前駆体を現像処理液中で方向転換させる液中ターンバーであるので、導電性材料前駆体を現像処理液中で効率よく搬送して現像処理することができる。
【発明の効果】
【００３３】
以上説明したように、本発明によれば、導電性材料前駆体を現像処理するときに、銀塩含有層にキズが発生することを抑制すると共に、現像ムラの発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、実質的に同一の機能を有する部材には全図面を通して同じ符号を付与し、重複する説明は省略する場合がある。
【００３５】
図１には、本発明に係る導電性材料の処理方法が適用される導電性材料の処理装置が示されている。この処理装置は、支持フィルム上に銀塩含有層としてハロゲン化銀乳剤層を有する導電性材料前駆体を露光した後に配置され、露光が施された導電性材料前駆体の現像・定着・洗浄等を行う装置である。
【００３６】
図１に示されるように、処理装置１０では、帯状の支持フィルム上にハロゲン化銀乳剤層を有する感光ウエブ１２が複数の支持ローラ１４にガイドされた状態で一定方向に搬送される。この感光ウエブ１２は、図示しない露光装置により所望の細線状のパターン露光が施されたものである。
【００３７】
処理装置１０には、感光ウエブ１２の搬送方向に沿って上流側から下流側の順に、現像液１６Ａが貯留された現像処理槽１６と、停止液１８Ａが貯留された現像停止処理槽１８と、定着液２０Ａが貯留された定着槽２０と、純水（洗浄液）２２Ａが貯留された第１水洗槽２２と、純水（洗浄液）２４Ａが貯留された第２水洗槽２４と、感光ウエブ１２を乾燥させる乾燥装置２６と、が配設されている。乾燥装置２６には、千鳥状に配置された３本の支持ローラ１４に感光ウエブ１２が巻き掛けられており、３本の支持ローラ１４より搬送方向上流側と搬送方向下流側で感光ウエブ１２の表面に温風を吹き付ける温風発生装置２８が配設されている。
【００３８】
処理装置１０では、感光ウエブ１２は現像処理槽１６の上部に配置された支持ローラ１４を経て現像処理槽１６に搬送される。現像処理槽１６内には、３本の液中ターンバー３０が千鳥状に配置されている。液中ターンバー３０は、感光ウエブ１２と対向する面が円弧状に形成され、感光ウエブ１２と対向しない面が平面状に形成されている。すなわち、下方側に配置された２本の液中ターンバー３０は、円弧状の面が下方側を向いており、２本の液中ターンバー３０の間で上方側に配置された１本の液中ターンバー３０は、円弧状の面が上方側を向いている。感光ウエブ１２は、下方側に配置された２本の液中ターンバー３０と、これらの間で上方側に配置された１本の液中ターンバー３０に掛け渡された状態で支持されている。３本の液中ターンバー３０により、現像処理槽１６内で感光ウエブ１２を効率よく搬送し、現像処理を行うことができる。
【００３９】
液中ターンバー３０には、周面に軸方向に複数のスリット（図示省略）が形成されており、複数のスリットから所定量の現像液１６Ａが噴射されることにより、感光ウエブ１２が液中ターンバー３０から浮揚し、非接触となる。これにより、３本の液中ターンバー３０に対し、感光ウエブ１２はハロゲン化銀乳剤層が非接触となるように支持され、方向転換される。感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層はウエット状態で軟膜のため、スリットから噴射される現像液１６Ａの量が強すぎて軟膜を破壊しないように所定の噴射量に調整することが望ましい。
【００４０】
現像処理槽１６内には、３本の液中ターンバー３０の搬送方向上流側と搬送方向下流側のそれぞれの部位に、感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａを吹き付ける撹乱手段としての複数の吹き付け装置５０が設けられている。吹き付け装置５０は、円筒状の部材からなり、感光ウエブ１２と所定の間隔で対向するように配置されている。吹き付け装置５０の周面の感光ウエブ１２と対向する位置には、感光ウエブ１２に現像液１６Ａを吹き付ける複数のノズル５０Ａが形成されている。複数のノズル５０Ａから感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａを吹き付けることで、感光ウエブ１２の両面近傍の現像液１６Ａが撹乱され、現像液１６Ａが感光ウエブ１２の両面近傍に滞留することが抑制される。特に感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍を撹乱することで、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊され、現像反応が促進される。これにより、現像液現像ムラの発生を抑制することができる。
【００４１】
本実施形態では、吹き付け装置５０は、感光ウエブ１２の搬送方向における１本目の液中ターンバー３０より上流側に３箇所、１本目と２本目の液中ターンバー３０の間に２箇所、２本目と３本目の液中ターンバー３０の間に２箇所、３本目の液中ターンバー３０より下流側に３箇所設けられている。また、吹き付け装置５０は、周面に軸方向に沿って４本のノズル５０Ａを備えている。吹き付け装置５０による現像液１６Ａの吹き付け量は５〜１０ｌ／ｍｉｎ×４本に設定されており、ノズル５０Ａのサイズは、スリット幅が０．５ｍｍ、長さが１８０ｍｍに設定されている。また、ノズル５０Ａと感光ウエブ１２との間隔は、３〜５ｍｍに設定されている。
【００４２】
感光ウエブ１２の搬送方向下流側の現像処理槽１６の出口には、感光ウエブ１２と対向するようにエアーナイフ３４が配設されている。エアーナイフ３４は感光ウエブ１２にエアーを吹き付けるものであり、現像処理槽１６内を搬送された感光ウエブ１２は、現像処理槽１６の出口でエアーナイフ３４から吹き付けられるエアーにより現像液１６Ａが掻き落とされ、現像処理槽１６及び現像停止処理槽１８の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て次の現像停止処理槽１８に導入される。搬送ガイド部材３６は、感光ウエブ１２と対向する面が円弧状に形成されており、円弧状面に軸方向に沿って複数のスリット（図示省略）が設けられている。搬送ガイド部材３６は、スリットから所定量のエアーを噴出することで、感光ウエブ１２を搬送ガイド部材３６とほぼ非接触で方向転換させることができる。
【００４３】
現像停止処理槽１８内には、下方側に液中ターンバー３８が配置されており、液中ターンバー３８で感光ウエブ１２はハロゲン化銀乳剤層が非接触となるように支持され、方向転換される。液中ターンバー３８には、周面に軸方向に複数のスリット（図示省略）が形成されており、複数のスリットから所定量の停止液１８Ａが噴射されることにより、感光ウエブ１２が液中ターンバー３８から浮揚し、非接触となる。現像停止処理槽１８内を搬送された感光ウエブ１２は、現像停止処理槽１８の出口で、感光ウエブ１２の両面に対向して配置されたエアーナイフ３４で停止液１８Ａが掻き落とされ、現像停止処理槽１８及び定着槽２０の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て次の定着槽２０に導入される。
【００４４】
以下、上記の現像処理槽１６と同様に、感光ウエブ１２は、定着槽２０内に配置された３本の液中ターンバー４０でハロゲン化銀乳剤層が非接触の状態で方向転換され、定着槽２０の出口で、感光ウエブ１２の両面に対向して配置されたエアーナイフ３４で定着液２０Ａが掻き落とされ、定着槽２０及び第１水洗槽２２の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て次の第１水洗槽２２に導入される。液中ターンバー４０は、周面に軸方向に形成された複数のスリットから所定量の定着液２０Ａが噴射されるものであり、これにより感光ウエブ１２が液中ターンバー４０から浮揚し、非接触となる。
【００４５】
その後、感光ウエブ１２は、第１水洗槽２２内の液中ターンバー４２でハロゲン化銀乳剤層が非接触の状態で方向転換され、第１水洗槽２２の出口で感光ウエブ１２の両面に対向して配置されたエアーナイフ３４で洗浄液が掻き落とされ、第１水洗槽２２及び第２水洗槽２４の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て第２水洗槽２４に導入される。さらに、感光ウエブ１２は、第２水洗槽２４内の液中ターンバー４４でハロゲン化銀乳剤層が非接触の状態で方向転換される。液中ターンバー４２、４４は、周面に軸方向に形成された複数のスリットから所定量の純水２２Ａ、２４Ａが噴射されるものであり、これにより感光ウエブ１２が液中ターンバー４２、４４から浮揚し、非接触となる。
【００４６】
第２水洗槽２４の出口には、感光ウエブ１２の両面に対向するように２対のエアーナイフ３４が配置されており、第２水洗槽２４から出た感光ウエブ１２はエアーナイフ３４から吹き出されるエアーにより洗浄液が掻き落とされ、第２水洗槽２４の上部に配置された搬送ガイド部材３６を経て乾燥装置２６に搬送される。
【００４７】
乾燥装置２６では、温風発生装置２８から発生する温風により感光ウエブ１２の両面が乾燥され、感光ウエブ１２は乾燥装置２６の上部に配置された支持ローラ１４を経て搬送される。また、処理装置１０には、現像処理槽１６の上流側に感光ウエブ１２を送り出す送り出しローラ（図示省略）が配置され、温風発生装置２８の下流側に感光ウエブ１２を巻き取る巻き取りローラ（図示省略）が配置されており、送り出しローラ（図示省略）と巻き取りローラ（図示省略）の回転により、感光ウエブ１２が一定の搬送速度で搬送される。図示していないが処理装置１０は感光ウエブ１２を一定のテンションで搬送できるようにトルク調整機構を持っている。感光ウエブ１２の搬送速度は、４ｍ/分〜５０ｍ/分が好ましく、８ｍ/分〜３０ｍ/分がより好ましく、１０ｍ/分〜２０ｍ/分がさらに好ましくい。
【００４８】
また、感光ウエブ１２の搬送速度が４ｍ/分より小さいと、感光ウエブ１２を現像処理槽１６内の液中ターンバー３０に接触させずに安定して搬送することが困難となる。また、感光ウエブ１２の搬送速度が５０ｍ/分より大きいと、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜をほぼ均一に破壊することができず、現像ムラの発生を効果的に抑制することが困難となる。
【００４９】
このような処理装置１０では、複数の支持ローラ１４、３２、３４と液中ターンバー３０、３８、４０、４２、４４等によって、感光ウエブ１２が現像処理槽１６、現像停止処理槽１８、定着槽２０、第１水洗槽２２、第２水洗槽２４内を搬送されることで、現像、現像停止、定着、洗浄の各処理が行われる。これによって、細線メッシュ状の現像銀画像（導電膜）が形成された感光ウエブ１２が得られる。
【００５０】
処理装置１０には、現像処理槽１６と定着槽２０との間に、停止液１８Ａが貯留された現像停止処理槽１８が配置されている。停止液１８Ａは、ｐＨ１以上ｐＨ５以下が好ましく、ｐＨ２以上ｐＨ３以下がより好ましい。停止液のｐＨが、ｐＨ１以上ｐＨ５以下の範囲を外れると、現像液中の銀が導電性材料の銀線エッジ部に局部的に析出することを効果的に抑制することができなくなる。停止液１８Ａとして、例えば、酢酸、コハク酸、マレイン酸、クエン酸等が用いられる。本実施形態では、５％酢酸が用いられている。
【００５１】
ここで、現像・定着・洗浄の各処理は、銀塩写真フィルム、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる現像処理技術を適用することができる。現像液、定着液、洗浄液もこれらに準じて適宜適用することができる。例えば、現像液としては、特に限定しないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、例えば、富士フイルム社製のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社製のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２などの現像液、又はそのキットに含まれる現像液、また、Ｄ−８５などのリス現像液を用いることができる。なお、定着処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる。
【００５２】
本実施形態では、感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層の表面に保護層が設けられていない。また、感光ウエブ１２を搬送するときの張力は、３Ｎ／ｍ以上、１５０Ｎ／ｍ以下とすることが好ましい。張力を３Ｎ／ｍ未満にすると、支持ローラ１４、３４等が回転しなくなり、フィルムに傷がつく場合がある。また１５０Ｎ／ｍを超えると、感光ウエブ１２に皺が発生して液中ターンバー表面にフィルムが接触して現像銀画像に傷をつける場合がある。
【００５３】
次に、本実施形態の導電性材料の処理方法が適用される処理装置１０の作用について説明する。
【００５４】
処理装置１０では、複数の支持ローラ１４、３２、３４と液中ターンバー３０、３８、４０、４２、４４等によって、感光ウエブ１２が現像処理槽１６、現像停止処理槽１８、定着槽２０、第１水洗槽２２、第２水洗槽２４内を搬送される。これにより、感光ウエブ１２に現像、現像停止、定着、洗浄の各処理が行われる。そして、感光ウエブ１２を乾燥装置２６により乾燥させることで、細線メッシュ状の現像銀画像（導電膜）が形成された感光ウエブ１２（導電性材料）が得られる。処理装置１０により処理されて得られた感光ウエブ１２は、透光性電磁波シールド膜に好適に使用できる。すなわち、処理装置１０により感光ウエブ１２を処理して発現された細線メッシュ状の銀パターンに、Ｃｕ、Ａｇなどのめっき処理によって金属を所定量付与することで、透光性電磁波シールド膜が形成される。
【００５５】
この処理装置１０では、現像処理槽１６内で感光ウエブ１２が３本の液中ターンバー３０によって非接触で搬送されるので、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層にキズが発生することを抑制することができる。また、感光ウエブ１２の裏面と液中ターンバー３０とが非接触であるので、感光ウエブ１２の裏面にキズが発生することを抑制することができる。
【００５６】
また、現像処理槽１６内の３本の液中ターンバー３０の上流側と下流側のそれぞれの部位に、感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａを吹き付ける複数の吹き付け装置５０が設けられており、吹き付け装置５０の複数のノズル５０Ａから感光ウエブ１２の両面に現像液１６Ａが吹き付けられる。これにより、感光ウエブ１２の両面近傍の現像液１６Ａが撹乱され、感光ウエブ１２の両面近傍に同じ現像液１６Ａが滞留することが抑制される。特に感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍が撹乱されることにより、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍に同じ現像液１６Ａが滞留することが抑制される。このため、感光ウエブ１２の現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ１２を現像液１６Ａ中で４ｍ/分以上、特に８ｍ/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００５７】
また、感光ウエブ１２は、ハロゲン化銀乳剤層の表面に保護層が設けられていない。ハロゲン化銀乳剤層の表面に実質的に保護層を設けない場合には、感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層はウエット状態で軟膜のため、ハロゲン化銀乳剤層にキズが付きやすい。しかし、処理装置１０では、表面に保護層を全く設けない感光ウエブ１２、又は保護層の厚みが極めて薄い（例えば、保護層の厚みが０．５μｍ以下の）感光ウエブでも、ハロゲン化銀乳剤層のキズの発生を抑制することができる。
【００５８】
もともと一般的な写真感光材料であれば、現像処理後にめっき等をすることがないので１対の搬送ローラによる搬送に耐えうるような十分な保護層を乳剤面上に設けることができるので、本発明の処理装置１０を用いる必要はなかった。現像後にめっきをかけるためには現像後に銀線が表面に出ている必要があるので、ハロゲン化銀乳剤層に保護層が設けられなくなり、本発明の処理装置１０のように感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層に非接触で現像処理を行うことが必要になった。
【００５９】
また、処理装置１０では、現像処理槽１６と定着槽２０との間に、停止液１８Ａが貯留された現像停止処理槽１８が配置されており、現像処理槽１６を出た感光ウエブ１２は、現像停止処理槽１８内に搬送され、現像停止処理が行われる。
【００６０】
現像処理槽１６と定着槽２０との間に現像停止処理槽１８を設けない場合、現像後の定着初期又は現像後の定着槽入口でのスクイズ部において、現像の局部暴走（溶解物理現象の１種）により銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ、樹状の銀析出（黒ジミ）、スジムラが発生しやすい。これらの銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ等の欠陥は現像後透過光で見ていてもよく判らないが、透明導電性膜前駆体（めっき前の現像済み品）をめっきすると、上記の銀線エッジ部の欠陥がめっきで増幅され透過でも見えるようになる。ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の電磁波シールドフィルムとするには、透過で目視可能なムラは故障となる。特に、保護層がない感光ウエブにおいては、現像の局部暴走が顕著に発現し、搬送速度が上がるとスクイズしきれず同伴する現像液が増えるので、ムラもひどくなる傾向がある。
【００６１】
本実施形態の処理装置１０では、現像処理槽１６を出た感光ウエブ１２は、現像停止処理槽１８内に搬送され、現像停止処理が行われることにより、現像の局部暴走、すなわち現像液中に微少量溶け込んでいるハロゲン化銀が定着液と接触し、現像液中の銀が感光ウエブ１２の銀線上に局部的に析出する現象を抑制できる。このため、感光ウエブ１２の銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ等の欠陥の発生を抑制することができ、滑らかな銀線エッジ部を得ることができる。
【００６２】
次に、本発明の処理装置の他の実施形態について説明する。
【００６３】
図２には、本発明の第２実施形態の処理装置で用いられる現像処理槽６０が示されている。なお、第１実施形態と同一の部材には同じ符号を付与し、重複する説明は省略する。図２に示されるように、現像処理槽６０内には、下方側の２本の液中ターンバー６２と、上方側の２本の支持ローラ６４とが略千鳥状に配置されている。液中ターンバー６２と近接対向する位置には、感光ウエブ１２の搬送方向における上流側と下流側に、感光ウエブ１２の裏面側で感光ウエブ１２をガイドするガイドローラ６５が配設されている。また、感光ウエブ１２の搬送方向における２本の液中ターンバー６２の上流側と下流側には、感光ウエブ１２の表面に現像液１６Ａを吹き付ける複数の吹き付け装置５０が配設されている。また、感光ウエブ１２を挟んで複数の吹き付け装置５０とそれぞれ対向する位置には、感光ウエブ１２の裏面側で感光ウエブ１２をガイドする複数のガイドローラ６６が配設されている。
【００６４】
図３に示されるように、吹き付け装置５０は、円筒状部材の周面に軸方向に沿って４本のノズル５０Ａが設けられており、ノズル５０Ａから現像液１６Ａが感光ウエブ１２の表面に吹き付けられる。ノズル５０Ａから感光ウエブ１２の表面に吹き付けられた現像液１６Ａは、図３中の矢印に示すように感光ウエブ１２の表面の上下方向に流れる。図２に示されるように、現像処理槽６０には、現像処理槽６０内の現像液１６Ａが導入されるチューブ６８が設けられており、チューブ６８はポンプ７０を介して液中ターンバー６２に接続されている。液中ターンバー６２は、円筒状部材からなり、周面に軸方向に沿って複数のスリットを備えている。ポンプ７０によってチューブ６８を通って液中ターンバー６２に導入された現像液１６Ａは、図２中の矢印に示すように複数のスリットから現像処理槽６０内に噴射される。これにより、液中ターンバー６２に対して感光ウエブ１２が浮揚し、感光ウエブ１２のハロゲン化銀乳剤層が非接触となるように支持された状態で方向転換される。また、現像処理槽６０の出口には、現像処理槽６０の上部に支持ローラ１４が配置されており、支持ローラ１４と感光ウエブ１２を挟んで対向する位置には押圧ローラ７２が配設されている。
【００６５】
このような現像処理槽１６では、感光ウエブ１２の表面が２本の液中ターンバー３０によって非接触で搬送されるので、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層にキズが発生することを抑制することができる。また、現像処理槽１６内の２本の液中ターンバー３０の上流側と下流側に、感光ウエブ１２の表面に現像液１６Ａを吹き付ける複数の吹き付け装置５０が設けられており、感光ウエブ１２の裏面がガイドローラ６６でガイドされた状態で、吹き付け装置５０の複数のノズル５０Ａから感光ウエブ１２の表面に現像液１６Ａが吹き付けられる。これにより、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍が撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面近傍に同じ現像液１６Ａが滞留することが抑制される。このため、現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ１２を現像液１６Ａ中で４ｍ/分以上、特に８ｍ/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００６６】
図４には、本発明の第３実施形態の処理装置で用いられる撹乱手段としてのブレードが示されている。なお、第１実施形態及び第２実施形態と同一の部材には同じ符号を付与し、重複する説明は省略する。図４に示されるように、感光ウエブ１２の表面と対向する位置には、支持体８２に支持されたブレード８０が配設されている。ブレード８０は、弾性変形可能な薄板状の部材で形成されている。図４（Ａ）に示されるように、感光ウエブ１２が静止しているときは、ブレード８０の先端部８０Ａは感光ウエブ１２の表面に接触している。図４（Ｂ）に示されるように、感光ウエブ１２が矢印方向に搬送されると、現像液の流れによりブレード８０が弾性変形して先端部８０Ａが感光ウエブ１２の表面から離れる。これにより、ブレード８０の先端部８０Ａが感光ウエブ１２の表面に所定の間隔で対向した状態となる。
【００６７】
本実施形態では、ブレード８０として、厚さが０．５ｍｍ、長さが２０ｍｍのウレタンブレードを用いる。また、ブレード８０の硬度（ＪＩＳＡ硬度）は５０〜９０度である。また本実施形態では、感光ウエブ１２を搬送したときに、ブレード８０の先端部８０Ａと感光ウエブ１２との間隔が０．１〜０．５ｍｍとなるように調整している。
【００６８】
このようなブレード８０では、図４（Ｂ）に示されるように、感光ウエブ１２が矢印方向に搬送されると、現像液の流れによりブレード８０の先端部８０Ａが感光ウエブ１２の表面に所定の間隔で対向した状態となる。このブレード８０の先端部８０Ａにより、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍の現像液が撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面近傍に同じ現像液が滞留することが抑制される。このため、現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ１２を現像液１６Ａ中で４ｍ/分以上、特に８ｍ/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００６９】
また、ブレード８０に代えて、感光ウエブ１２の表面に所定の間隔をおいて対向するように、剛性を有する板状の邪魔板（板状体）を固定支持してもよい。このとき、邪魔板と感光ウエブ１２との間隔は、０．１〜０．５ｍｍに設定することが好ましい。剛性を有する邪魔板を設けた場合でも、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍の現像液が邪魔板によって撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面近傍に同じ現像液が滞留することが抑制される。このため、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００７０】
図５には、本発明の第４実施形態の処理装置で用いられる撹乱手段としてのローラが示されている。なお、第１〜第３実施形態と同一の部材には同じ符号を付与し、重複する説明は省略する。図５に示されるように、感光ウエブ１２の表面と対向する位置にはローラ９０が配設されている。ローラ９０は、軸方向に沿って感光ウエブ１２の表面と所定の間隔で対向する円柱状のローラ部９０Ａと、ローラ部９０Ａの両端部にローラ部９０Ａより半径が大きい円形状のフランジ部９０Ｂと、を備えている。フランジ部９０Ｂは、感光ウエブ１２の幅方向両側でガイドローラ６６の周面の両端部と接触するように配置されており、このフランジ部９０Ｂによりローラ部９０Ａと感光ウエブ１２の表面とが所定の間隔で対向した状態となる。ローラ部９０Ａと感光ウエブ１２との間隔は、０．１〜０．５ｍｍに設定されている。
【００７１】
このようなローラ９０では、ローラ部９０Ａが感光ウエブ１２の表面に所定の間隔で対向しているので、ローラ部９０Ａにより、感光ウエブ１２の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍の現像液が撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ１２の表面近傍に同じ現像剤が滞留することが抑制される。このため、現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ１２を現像液中で４ｍ/分以上、特に８ｍ/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。
【００７２】
次に、処理装置１０を用いて、感光ウエブ１２の現像ムラとハロゲン化銀乳剤層のキズの状態を調べる実験を行った。
【００７３】
吹き付け装置５０は、ノズル５０Ａからの現像液の吹き付け量を５〜１０ｌ／ｍｉｎ×４本に設定し、ノズル５０Ａのサイズは、幅が０．５ｍｍ、長さが１８０ｍｍに設定した。また、ノズル５０Ａと感光ウエブ１２との間隔を３〜５ｍｍに設定した。ブレード８０は、厚さが０．５ｍｍ、長さが２０ｍｍのウレタンブレードを用い、ブレード８０の硬度（ＪＩＳＡ硬度）は５０〜９０度に設定した。また、邪魔板とローラ９０は、感光ウエブ１２との間隔を０.１〜０．５ｍｍに設定した。この条件にて、感光ウエブ１２の現像処理を行い感光ウエブ１２の現像ムラとハロゲン化銀乳剤層のキズの発生状態を調べた。また、感光ウエブ１２は、ハロゲン化銀乳剤層の表面に保護層を設けないものを用いた。この実験の結果を表１に示す。表1では、極めて良好な場合を◎、良好な場合を○、キズ又は現像ムラが少量認められた場合を△として評価した。
【００７４】
【表１】
表１に示されるように、吹き付け装置５０では、感光ウエブ１２の現像ムラ、キズともに極めて良好であることが確認された。また、ブレード８０では、感光ウエブ１２の現像ムラ、キズともにほぼ良好であることが確認された。さらに、邪魔板、ローラ９０では、感光ウエブ１２の現像ムラは良好であるが、キズが少量発生することがわかった。従って、本発明の撹乱手段によれば、感光ウエブ１２の現像ムラを抑制できると共に、ハロゲン化銀乳剤層のキズの発生を低減できることがわかった。
【００７５】
次に、感光ウエブ１２について説明する。感光ウエブ１２は、例えば、光透過性支持体上に銀塩が含有した銀塩含有層（本実施形態では、ハロゲン化銀乳剤層）を設けた、感光材料からなる長尺幅広フレキシブル基材である。また、本実施形態では、銀塩含有層上には実質的に保護層が設けられていないが、銀塩含有層上には保護層が設けられていてもよく、この保護層とは例えばゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために銀塩含有層上に形成される。保護層の厚みは０．０２〜２０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍであり、さらに好ましくは０．３〜３μｍである。
【００７６】
これらの銀塩含有層や保護層の組成などは、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に適用されるハロゲン化銀乳剤層（銀塩含有層）や保護層を適宜適用することができる。
【００７７】
特に、感光ウエブ１２（感光材料）としては、銀塩写真フィルム（銀塩感光材料）が好ましく、白黒銀塩写真フィルム（白黒銀塩感光材料）が最もよい。また、銀塩含有層に適用する銀塩としては、特にハロゲン化銀が最も好適である。
【００７８】
一方、光透過性支持体としては、単層のプラスチックフィルムや、これを２層以上組み合わせた多層フィルムを適用することができる。プラスチックフィルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂；その他、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
【００７９】
これらの中でも、透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、支持体としてのプラスチックフィルムは、銀塩写真フィルム（銀塩感光材料）に通常適用されるポリエチレンテレフタレートフィルムやセルロールトリアセテートフィルム、また、その他、ポリイミドフィルムであることが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが最も好ましい。
【００８０】
また、ディスプレイ用の電磁波遮蔽材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合における光透過性支持体の全可視光透過率は７０〜１００％が好ましく、さらに好ましくは８５〜１００％であり、特に好ましくは９０〜１００％である。
【００８１】
感光ウエブ１２の幅は、例えば、５０ｃｍ以上とし、厚みは５０〜２００μｍとすることがよい。
【００８２】
なお、本実施形態では、光透過性電磁波遮蔽材料を製造する装置及び製造方法について説明したが、これに限られず、例えば、その他工業品などの微細な導電性金属部からなる細線状パターンを有する光透過性導電性材料の製造装置及び製造方法としても適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の第１実施形態における導電性材料の処理方法が適用された導電性材料の処理装置を示す概略構成図である。
【図２】本発明の第２実施形態における導電性材料の処理装置に用いられる現像処理槽を示す構成図である。
【図３】図２に示される吹き付け装置を示す断面図である。
【図４】本発明の第３実施形態における導電性材料の処理装置に用いられるブレードを示す構成図である。
【図５】本発明の第３実施形態における導電性材料の処理装置に用いられるローラを示す構成図である。
【符号の説明】
【００８４】
１０ 処理装置
１２ 感光ウエブ（導電性材料前駆体）
１６ 現像処理槽
１６Ａ 現像液
３０ 液中ターンバー（搬送ガイド部材）
３４ エアーナイフ
３６ 搬送ガイド部材
５０ 吹き付け装置（撹乱手段）
５０Ａ ノズル
６０ ガイドローラ
６０ 現像処理槽
６２ 液中ターンバー（搬送ガイド部材）
８０ ブレード（撹乱手段）
８０Ａ 先端部
９０ ローラ（撹乱手段）
９０Ａ ローラ部（撹乱手段）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理方法であって、
前記導電性材料前駆体を現像処理液中で４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で、前記銀塩含有層に搬送ガイド部材が接触しないように搬送し、
前記現像処理液中の少なくとも１箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱することを特徴とする導電性材料の現像処理方法。
【請求項２】
実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴とする請求項１に記載の導電性材料の現像処理方法。
【請求項３】
支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理装置であって、
現像処理液で満たされた現像処理槽と、
前記導電性材料前駆体を４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で搬送する搬送手段と、
前記現像処理槽内に設けられ、前記銀塩含有層に接触しないように前記導電性材料前駆体を搬送させる搬送ガイド部材と、
前記現像処理槽内に設けられ、少なくとも１箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱する撹乱手段と、
を有することを特徴とする導電性材料の現像処理装置。
【請求項４】
前記撹乱手段は、前記銀塩含有層に現像処理液を吹き付けるノズルを備えた吹き付け装置であることを特徴とする請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項５】
前記撹乱手段は、前記導電性材料前駆体の搬送時に前記銀塩含有層と所定の間隔で対向し、弾性変形可能なブレードであることを特徴とする請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項６】
前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて固定支持された板状体であることを特徴とする請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項７】
前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて配置されたローラであることを特徴とする請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項８】
実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴とする請求項３から請求項７までのいずれか１項に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項９】
前記搬送ガイド部材が、前記導電性材料前駆体を現像処理液中で方向転換させる液中ターンバーであることを特徴とする請求項３から請求項８までのいずれか１項に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項１】
支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理方法であって、
前記導電性材料前駆体を現像処理液中で４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で、前記銀塩含有層に搬送ガイド部材が接触しないように搬送し、
前記現像処理液中の少なくとも１箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱することを特徴とする導電性材料の現像処理方法。
【請求項２】
実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴とする請求項１に記載の導電性材料の現像処理方法。
【請求項３】
支持体上に少なくとも１層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理装置であって、
現像処理液で満たされた現像処理槽と、
前記導電性材料前駆体を４ｍ/分〜５０ｍ/分の搬送速度で搬送する搬送手段と、
前記現像処理槽内に設けられ、前記銀塩含有層に接触しないように前記導電性材料前駆体を搬送させる搬送ガイド部材と、
前記現像処理槽内に設けられ、少なくとも１箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱する撹乱手段と、
を有することを特徴とする導電性材料の現像処理装置。
【請求項４】
前記撹乱手段は、前記銀塩含有層に現像処理液を吹き付けるノズルを備えた吹き付け装置であることを特徴とする請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項５】
前記撹乱手段は、前記導電性材料前駆体の搬送時に前記銀塩含有層と所定の間隔で対向し、弾性変形可能なブレードであることを特徴とする請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項６】
前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて固定支持された板状体であることを特徴とする請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項７】
前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて配置されたローラであることを特徴とする請求項３に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項８】
実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴とする請求項３から請求項７までのいずれか１項に記載の導電性材料の現像処理装置。
【請求項９】
前記搬送ガイド部材が、前記導電性材料前駆体を現像処理液中で方向転換させる液中ターンバーであることを特徴とする請求項３から請求項８までのいずれか１項に記載の導電性材料の現像処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００９−８０４１６（Ｐ２００９−８０４１６Ａ）
【公開日】平成２１年４月１６日（２００９．４．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２５１１２８（Ｐ２００７−２５１１２８）
【出願日】平成１９年９月２７日（２００７．９．２７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年４月１６日（２００９．４．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年９月２７日（２００７．９．２７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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