排気ガスの処理方法
【課題】 本発明の目的は、塩化メチレンを主溶剤とする排気ガスを電子線を照射することにより安価にしかも手軽に有害物質を生成することなく分解する方法を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも一種類のハロゲンを含有するガスに電子線を照射することを特徴とする排気ガスの処理方法。
【解決手段】 少なくとも一種類のハロゲンを含有するガスに電子線を照射することを特徴とする排気ガスの処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、塩化メチレンを含む排気ガスに電子線ビームを照射して、塩化メチレンを分解する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】排気ガス中の硫黄酸化物及び／又は窒素酸化物を除去するための電子ビーム多段照射排気ガス処理方法及び装置が特公平７−１２４１３号公報に開示されている。
【０００３】塩化メチレンは、写真用支持体の一つであるトリアセチルセルロースの溶剤として長年使用されてきた、塩化メチレンは、活性炭素を用いた吸脱着による溶剤装置により回収されているが、大きな装置が必要でありランニングコストも高く更に排出濃度を更に下げることは極めて困難であった。塩化メチレンのような塩素を含んだ溶剤は、燃焼処理するとダイオキシン等の有害物質の生成や燃焼炉を腐食させる等の問題があり実用性に乏しいのが現状である。
【０００４】
【発明が解決しようとしている課題】本発明の目的は吸脱着処理をした比較的低濃度（１０００ｐｐｍ以下）の塩化メチレンを主溶剤とする排気ガスを安価にしかも手軽に有害物質を生成することなく分解する方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、塩化メチレンを含む排気ガスに電子線照射することにより、ほぼ１００％分解することを見出した。
【０００６】即ち、本発明は、濃度０．００１〜１０００ｐｐｍの塩化メチレンンを含有する排ガスに、線量合計０．０１〜１００ｋＧｙの電子線を少なくとも１回、温度１０〜８０℃において、これにアルカリ及び／または水を添加し、または添加せずに、照射することにより、塩化メチレンを分解処理する塩化メチレン含有排気ガスの処理方法である。
【０００７】また、本発明は、濃度０．００１〜１０００ｐｐｍの塩化メチレンに加えて、濃度０〜１００ｐｐｍのケトン及び／またはアルコールを含有する排ガスに、線量合計０．０１〜１００ｋＧｙの電子線を１回以上温度１０〜８０℃において照射することにより、塩化メチレン等を分解処理する塩化メチレン含有排気ガスの処理方法である。
【０００８】更に、また、濃度０．００１〜１０００ｐｐｍの塩化メチレン、濃度０〜１００ｐｐｍのケトン及び／またはアルコールを含有する排ガスに線量合計０．０１〜１００ｋＧｙの電子線を少なくとも１回温度１０〜８０℃において、これにアルカリ及び／または水の添加して照射することにより塩化メチレン等を分解処理する塩化メチレン含有排気ガスの処理方法である。
【０００９】
【発明の実施の態様】本発明は以下の記載に限定されるものではないが以下に詳述する。
【００１０】本発明にいう電子線とは、電子加速器により発生させる電子の流れであり、実用的には５０ｋｅＶから２ＭｅＶ程度のエネルギーを有するものが適している。
【００１１】本発明における排気ガスの組成としては、少なくとも一種のハロゲンを有するものであれば特に制限はないが、特に塩化メチレンが好ましい。排気ガスの濃度は、特に制限がないが、好ましくは１０００ｐｐｍ以下であり、更に好ましくは０．０１〜５００ｐｐｍであり、最も好ましいのは１〜５０ｐｐｍである。
【００１２】本発明における排気ガスには、ケトン及びまたはアルコールが０〜１００ｐｐｍ含まれても効果には支障がない。ケトンとしては、特に制限はないがアセトン・メチルエチルケトン・メチルイソブチルケトン・シクロヘキサノン等が挙げられる。アルコールとしては、特に制限はないがメタノール・エタノール・ｎ−プロパノール・ｉｓｏ−プロパノール・ｎ−ブタノール・ｉｓｏ−ブタノール・ｔ−ブタノール等が挙げられる。
【００１３】電子線の照射線量の合計は、０．０１〜１００ｋＧｙが好ましく、０．０１ｋＧｙよりも少ないと効果が不十分であり、１００ｋＧｙより大きいと装置も大がかりとなりコストも高く経済的にメリットが小さくなる。より、好ましくは１〜５０ｋＧｙであり、更に好ましくは５〜３５ｋＧｙである。
【００１４】電子線は一度に照射するよりも２回以上に分けて照射することが好ましく、３〜５回に分けて照射するのが最も好ましい。２回以上照射するときの間隔は、０．０５秒〜６００秒間隔が好ましく、更に０．１秒〜３００秒間隔が好ましく、５秒〜３００秒間隔が最も好ましい。
【００１５】電子線を照射する系にアルカリ及び／または水を添加することが好ましく、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸アンモニウム、リン酸ナトリウム及びこれらの水溶液がより好ましく、アンモニア水と水酸化ナトリウム水溶液が最も好ましい。
【００１６】排気ガスの処理温度は、１０〜８０℃が好ましく、更に１５〜６０℃が好ましく、２０〜５０℃が最も好ましい。排気ガスの処理は、バッチ式でも連続でも問題ないが、大量の排気ガスを処理するのには連続式が好ましい。
【００１７】本発明を図１に基づいて説明する。塩化メチレン等を含有する工程排出ガスが活性炭等を充填した吸着処理装置６に導入され、排出ガスの吸着処理が行われる。吸着処理後に残存する塩化メチレン等を含有する吸着処理後のガスが、除湿機５を経て第１段目の電子線照射室２に導入され、その電子線照射領域３において電子線発生装置１からの電子線によって照射され、残存する塩化メチレン等が分解される。
【００１８】分解処理後のガスが、水、アルカリ溶液接触装置４において水、アルカリ溶液と向流接触して洗浄された後、第２段目の電子線照射室及び水、アルカリ溶液接触装置に導入されて分解及び洗浄処理が更に行われ、次に第３段目の電子線照射室及び水、アルカリ溶液接触装置に導入されて分解及び洗浄処理が最終的に行われた後に、大気中に放出される。以下に実施例をあげて本発明を説明するが、本発明はこれに限定するものではない。
【００１９】
【実施例１】２５℃において１８２ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は６２％であった。
【００２０】
【実施例２】２５℃において１８２ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、水４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は９０％であった。
【００２１】
【実施例３】２５℃において１８２ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、アンモニアガス４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は９８％であった。
【００２２】
【実施例４】２５℃において１８２ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、１モルの水酸化ナトリウム水溶液４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は１００％であった。
【００２３】
【実施例５】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は５４％であった。
【００２４】
【実施例６】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、８ｋＧｙの電子線を１０秒間隔で２度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は７２％であった。
【００２５】
【実施例７】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、４ｋＧｙの電子線を１０秒間隔で４度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は７６％であった。
【００２６】
【実施例８】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレン４８ｐｐｍ、メタノール３ｐｐｍ、アセトン２ｐｐｍ、ｎ−ブタノール２ｐｐｍの濃度の混合ガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、１モルの水酸化ナトリウム水溶液４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は１００％であった。
【００２７】
【実施例９】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレン４８ｐｐｍ、エタノール３ｐｐｍの濃度の混合ガスをパイレックスガラス容器（内容量６００ｍｌ）に採取し、１モルの水酸化ナトリウム水溶液４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は１００％であった。
【００２８】
【実施例１０】吸着処理後のガス流量が６２０Ｎｍ3／分（ＮＴＰ）、塩化メチレンの濃度が１０ｐｐｍ、メタノールの濃度が２０ｐｐｍのガスを３０〜４０℃に冷却したのち、電子線照射室で電子線を照射し、水１２００リットルを入れた鐘泡タイプの気液接触装置（装置容積１２０ｍ3）に通気させ、更に電子照射、水との接触、電子線照射、水との接触というプロセスを直列で実施した。電子線照射量はいずれも１０ｋＧｙであった。各工程出口のガス濃度は次の表のようになった。最終出口では、塩化メチレンの分解率は９８％であった。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【実施例１１】吸着処理後のガス流量が６２０Ｎｍ3／分（ＮＴＰ）、塩化メチレンの濃度が１０ｐｐｍ、メタノールの濃度が２０ｐｐｍのガスを３０〜４０℃に冷却したのち、電子線照射室で電子線を照射し、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液１２００リットルを入れた鐘泡タイプの気液接触装置（装置容積１２０ｍ3）に通気させ、更に電子線照射、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液との接触、電子線照射、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液との接触というプロセスを直列で実施した。電子線照射量はいずれも１０ｋＧｙであった。各工程出口のガス濃度は次の表のようになった。最終出口では、塩化メチレンの分解率は１００％であった。
【００３１】
【表２】
【００３２】
【実施例１２】吸着処理後のガス流量が６２０Ｎｍ3／分（ＮＴＰ）、塩化メチレンの濃度が１０ｐｐｍ、メタノールの濃度が２０ｐｐｍ、アセトンの濃度が１０ｐｐｍ、ｎ−ブタノールの濃度８ｐｐｍのガスを３０〜４０℃に冷却したのち、電子線照射室で電子線を照射し、水１２００リットルを入れた鐘泡タイプの気液接触装置（装置容積１２０ｍ3）に通気させ、更に電子照射、水との接触、電子線照射、水との接触というプロセスを直列で実施した。電子線照射量はいずれも１０ｋＧｙであった。各工程出口のガス濃度は次の表のようになった。最終出口では、塩化メチレンの分解率は９７％であった。
【００３３】
【表３】
【００３４】
【発明の効果】本発明により、ハロゲンを少なくとも一種含有する排気ガスを簡便に安価に分解できるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の連続排気ガス処理装置のフローを示す図である。
【符号の説明】
１： 電子線発生装置
２： 電子線照射室
３： 電子線照射領域
４： 水、アルカリ溶液接触装置
５： 除湿機
６： 吸着処理装置
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、塩化メチレンを含む排気ガスに電子線ビームを照射して、塩化メチレンを分解する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】排気ガス中の硫黄酸化物及び／又は窒素酸化物を除去するための電子ビーム多段照射排気ガス処理方法及び装置が特公平７−１２４１３号公報に開示されている。
【０００３】塩化メチレンは、写真用支持体の一つであるトリアセチルセルロースの溶剤として長年使用されてきた、塩化メチレンは、活性炭素を用いた吸脱着による溶剤装置により回収されているが、大きな装置が必要でありランニングコストも高く更に排出濃度を更に下げることは極めて困難であった。塩化メチレンのような塩素を含んだ溶剤は、燃焼処理するとダイオキシン等の有害物質の生成や燃焼炉を腐食させる等の問題があり実用性に乏しいのが現状である。
【０００４】
【発明が解決しようとしている課題】本発明の目的は吸脱着処理をした比較的低濃度（１０００ｐｐｍ以下）の塩化メチレンを主溶剤とする排気ガスを安価にしかも手軽に有害物質を生成することなく分解する方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、塩化メチレンを含む排気ガスに電子線照射することにより、ほぼ１００％分解することを見出した。
【０００６】即ち、本発明は、濃度０．００１〜１０００ｐｐｍの塩化メチレンンを含有する排ガスに、線量合計０．０１〜１００ｋＧｙの電子線を少なくとも１回、温度１０〜８０℃において、これにアルカリ及び／または水を添加し、または添加せずに、照射することにより、塩化メチレンを分解処理する塩化メチレン含有排気ガスの処理方法である。
【０００７】また、本発明は、濃度０．００１〜１０００ｐｐｍの塩化メチレンに加えて、濃度０〜１００ｐｐｍのケトン及び／またはアルコールを含有する排ガスに、線量合計０．０１〜１００ｋＧｙの電子線を１回以上温度１０〜８０℃において照射することにより、塩化メチレン等を分解処理する塩化メチレン含有排気ガスの処理方法である。
【０００８】更に、また、濃度０．００１〜１０００ｐｐｍの塩化メチレン、濃度０〜１００ｐｐｍのケトン及び／またはアルコールを含有する排ガスに線量合計０．０１〜１００ｋＧｙの電子線を少なくとも１回温度１０〜８０℃において、これにアルカリ及び／または水の添加して照射することにより塩化メチレン等を分解処理する塩化メチレン含有排気ガスの処理方法である。
【０００９】
【発明の実施の態様】本発明は以下の記載に限定されるものではないが以下に詳述する。
【００１０】本発明にいう電子線とは、電子加速器により発生させる電子の流れであり、実用的には５０ｋｅＶから２ＭｅＶ程度のエネルギーを有するものが適している。
【００１１】本発明における排気ガスの組成としては、少なくとも一種のハロゲンを有するものであれば特に制限はないが、特に塩化メチレンが好ましい。排気ガスの濃度は、特に制限がないが、好ましくは１０００ｐｐｍ以下であり、更に好ましくは０．０１〜５００ｐｐｍであり、最も好ましいのは１〜５０ｐｐｍである。
【００１２】本発明における排気ガスには、ケトン及びまたはアルコールが０〜１００ｐｐｍ含まれても効果には支障がない。ケトンとしては、特に制限はないがアセトン・メチルエチルケトン・メチルイソブチルケトン・シクロヘキサノン等が挙げられる。アルコールとしては、特に制限はないがメタノール・エタノール・ｎ−プロパノール・ｉｓｏ−プロパノール・ｎ−ブタノール・ｉｓｏ−ブタノール・ｔ−ブタノール等が挙げられる。
【００１３】電子線の照射線量の合計は、０．０１〜１００ｋＧｙが好ましく、０．０１ｋＧｙよりも少ないと効果が不十分であり、１００ｋＧｙより大きいと装置も大がかりとなりコストも高く経済的にメリットが小さくなる。より、好ましくは１〜５０ｋＧｙであり、更に好ましくは５〜３５ｋＧｙである。
【００１４】電子線は一度に照射するよりも２回以上に分けて照射することが好ましく、３〜５回に分けて照射するのが最も好ましい。２回以上照射するときの間隔は、０．０５秒〜６００秒間隔が好ましく、更に０．１秒〜３００秒間隔が好ましく、５秒〜３００秒間隔が最も好ましい。
【００１５】電子線を照射する系にアルカリ及び／または水を添加することが好ましく、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸アンモニウム、リン酸ナトリウム及びこれらの水溶液がより好ましく、アンモニア水と水酸化ナトリウム水溶液が最も好ましい。
【００１６】排気ガスの処理温度は、１０〜８０℃が好ましく、更に１５〜６０℃が好ましく、２０〜５０℃が最も好ましい。排気ガスの処理は、バッチ式でも連続でも問題ないが、大量の排気ガスを処理するのには連続式が好ましい。
【００１７】本発明を図１に基づいて説明する。塩化メチレン等を含有する工程排出ガスが活性炭等を充填した吸着処理装置６に導入され、排出ガスの吸着処理が行われる。吸着処理後に残存する塩化メチレン等を含有する吸着処理後のガスが、除湿機５を経て第１段目の電子線照射室２に導入され、その電子線照射領域３において電子線発生装置１からの電子線によって照射され、残存する塩化メチレン等が分解される。
【００１８】分解処理後のガスが、水、アルカリ溶液接触装置４において水、アルカリ溶液と向流接触して洗浄された後、第２段目の電子線照射室及び水、アルカリ溶液接触装置に導入されて分解及び洗浄処理が更に行われ、次に第３段目の電子線照射室及び水、アルカリ溶液接触装置に導入されて分解及び洗浄処理が最終的に行われた後に、大気中に放出される。以下に実施例をあげて本発明を説明するが、本発明はこれに限定するものではない。
【００１９】
【実施例１】２５℃において１８２ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は６２％であった。
【００２０】
【実施例２】２５℃において１８２ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、水４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は９０％であった。
【００２１】
【実施例３】２５℃において１８２ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、アンモニアガス４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は９８％であった。
【００２２】
【実施例４】２５℃において１８２ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、１モルの水酸化ナトリウム水溶液４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は１００％であった。
【００２３】
【実施例５】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は５４％であった。
【００２４】
【実施例６】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、８ｋＧｙの電子線を１０秒間隔で２度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は７２％であった。
【００２５】
【実施例７】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレンのガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、４ｋＧｙの電子線を１０秒間隔で４度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は７６％であった。
【００２６】
【実施例８】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレン４８ｐｐｍ、メタノール３ｐｐｍ、アセトン２ｐｐｍ、ｎ−ブタノール２ｐｐｍの濃度の混合ガスをパイレックスガラス容器（内容量５００ｍｌ）に採取し、１モルの水酸化ナトリウム水溶液４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は１００％であった。
【００２７】
【実施例９】２５℃において４８ｐｐｍの濃度の塩化メチレン４８ｐｐｍ、エタノール３ｐｐｍの濃度の混合ガスをパイレックスガラス容器（内容量６００ｍｌ）に採取し、１モルの水酸化ナトリウム水溶液４ｍｌを添加した後１６ｋＧｙの電子線を１度照射した。照射後のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、分解率は１００％であった。
【００２８】
【実施例１０】吸着処理後のガス流量が６２０Ｎｍ3／分（ＮＴＰ）、塩化メチレンの濃度が１０ｐｐｍ、メタノールの濃度が２０ｐｐｍのガスを３０〜４０℃に冷却したのち、電子線照射室で電子線を照射し、水１２００リットルを入れた鐘泡タイプの気液接触装置（装置容積１２０ｍ3）に通気させ、更に電子照射、水との接触、電子線照射、水との接触というプロセスを直列で実施した。電子線照射量はいずれも１０ｋＧｙであった。各工程出口のガス濃度は次の表のようになった。最終出口では、塩化メチレンの分解率は９８％であった。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【実施例１１】吸着処理後のガス流量が６２０Ｎｍ3／分（ＮＴＰ）、塩化メチレンの濃度が１０ｐｐｍ、メタノールの濃度が２０ｐｐｍのガスを３０〜４０℃に冷却したのち、電子線照射室で電子線を照射し、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液１２００リットルを入れた鐘泡タイプの気液接触装置（装置容積１２０ｍ3）に通気させ、更に電子線照射、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液との接触、電子線照射、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液との接触というプロセスを直列で実施した。電子線照射量はいずれも１０ｋＧｙであった。各工程出口のガス濃度は次の表のようになった。最終出口では、塩化メチレンの分解率は１００％であった。
【００３１】
【表２】
【００３２】
【実施例１２】吸着処理後のガス流量が６２０Ｎｍ3／分（ＮＴＰ）、塩化メチレンの濃度が１０ｐｐｍ、メタノールの濃度が２０ｐｐｍ、アセトンの濃度が１０ｐｐｍ、ｎ−ブタノールの濃度８ｐｐｍのガスを３０〜４０℃に冷却したのち、電子線照射室で電子線を照射し、水１２００リットルを入れた鐘泡タイプの気液接触装置（装置容積１２０ｍ3）に通気させ、更に電子照射、水との接触、電子線照射、水との接触というプロセスを直列で実施した。電子線照射量はいずれも１０ｋＧｙであった。各工程出口のガス濃度は次の表のようになった。最終出口では、塩化メチレンの分解率は９７％であった。
【００３３】
【表３】
【００３４】
【発明の効果】本発明により、ハロゲンを少なくとも一種含有する排気ガスを簡便に安価に分解できるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の連続排気ガス処理装置のフローを示す図である。
【符号の説明】
１： 電子線発生装置
２： 電子線照射室
３： 電子線照射領域
４： 水、アルカリ溶液接触装置
５： 除湿機
６： 吸着処理装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】 少なくとも一種類のハロゲンを含有するガスに電子線を照射して分解処理することを特徴とする排気ガスの処理方法。
【請求項２】 該ハロゲンが塩化メチレンであることを特徴とする請求項１に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項３】 塩化メチレンの濃度が１０００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項４】 塩化メチレンの濃度が０．００１〜５００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項５】 該排気ガスに含まれる溶剤が塩化メチレンの他に少なくともケトン及び／またはアルコールが含まれることを特徴とする請求項１乃至４にいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項６】 該排気ガスに含まれるケトン及び／またはアルコールの濃度が０〜１００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項７】 該排気ガスに含有されるケトンの少なくとも一種類がアセトンであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項８】 該排気ガスに含有されるアルコールがメタノール、エタノールまたはブタノールの少なくとも１つであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項９】 電子線の照射を２回以上繰り返すことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１０】 電子線の照射にあたりアルカリ及び／または水を添加することを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１１】 電子線の照射量の線量合計が０．０１〜１００ｋＧｙであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１２】 該処理ガスの温度が１０〜８０℃であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１】 少なくとも一種類のハロゲンを含有するガスに電子線を照射して分解処理することを特徴とする排気ガスの処理方法。
【請求項２】 該ハロゲンが塩化メチレンであることを特徴とする請求項１に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項３】 塩化メチレンの濃度が１０００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項４】 塩化メチレンの濃度が０．００１〜５００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項５】 該排気ガスに含まれる溶剤が塩化メチレンの他に少なくともケトン及び／またはアルコールが含まれることを特徴とする請求項１乃至４にいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項６】 該排気ガスに含まれるケトン及び／またはアルコールの濃度が０〜１００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項７】 該排気ガスに含有されるケトンの少なくとも一種類がアセトンであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項８】 該排気ガスに含有されるアルコールがメタノール、エタノールまたはブタノールの少なくとも１つであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項９】 電子線の照射を２回以上繰り返すことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１０】 電子線の照射にあたりアルカリ及び／または水を添加することを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１１】 電子線の照射量の線量合計が０．０１〜１００ｋＧｙであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１２】 該処理ガスの温度が１０〜８０℃であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【図１】
【公開番号】特開２００１−１７０４４７（Ｐ２００１−１７０４４７Ａ）
【公開日】平成１３年６月２６日（２００１．６．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願平１１−３５４６６１
【出願日】平成１１年１２月１４日（１９９９．１２．１４）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 平成１１年６月２０日 社団法人日本アイソトープ協会発行の「第３６回理工学における同位元素研究発表会要旨集」に発表
【出願人】（０００００４０９７）日本原子力研究所 (55)
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１３年６月２６日（２００１．６．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１１年１２月１４日（１９９９．１２．１４）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 平成１１年６月２０日 社団法人日本アイソトープ協会発行の「第３６回理工学における同位元素研究発表会要旨集」に発表
【出願人】（０００００４０９７）日本原子力研究所 (55)
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
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