【課題】電子注入層が形成された形成途中の有機ＥＬ素子を保管したとしても、最終的に作製される有機ＥＬ素子の素子寿命の低下を抑制することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極、発光層、電子注入層、および陰極がこの順に積層された構成の有機ＥＬ素子の製造方法であって、陽極を形成する工程と、発光層を形成する工程と、電子注入層を形成する工程と、陰極を形成する工程とを含み、前記電子注入層を形成する工程では、イオン性ポリマーを含む塗布液を塗布成膜し、成膜した薄膜を加熱した後に、当該薄膜の形成された形成途中の有機ＥＬ素子を所定の時間保管し、その後、前記薄膜をふたたび加熱する、有機ＥＬ素子の製造方法。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極、発光層、電子注入層、および陰極がこの順に積層された構成の有機ＥＬ素子の製造方法であって、
陽極を形成する工程と、
発光層を形成する工程と、
電子注入層を形成する工程と、
陰極を形成する工程とを含み、
前記電子注入層を形成する工程では、イオン性ポリマーを含む塗布液を塗布成膜し、成膜した薄膜を加熱した後に、当該薄膜の形成された形成途中の有機ＥＬ素子を所定の時間保管し、その後、前記薄膜をふたたび加熱する、有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記電子注入層を形成する工程では、前記形成途中の有機ＥＬ素子の保管の前後におこなう２回の加熱のうち、少なくとも１回の加熱を、窒素の体積比が９０％以下の雰囲気中でおこなう、請求項１記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記電子注入層を形成する工程では、前記形成途中の有機ＥＬ素子の保管の前後におこなう２回の加熱のうち、少なくとも１回の加熱を、窒素の体積比が９０％以下、かつ酸素の体積比が１０％〜３０％の雰囲気中でおこなう、請求項１記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記電子注入層を形成する工程では、前記形成途中の有機ＥＬ素子の保管の前後におこなう２回の加熱を、窒素の体積比が９０％以下、かつ酸素の体積比が１０％〜３０％の雰囲気中でおこなう、請求項１記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項５】
前記電子注入層を形成する工程では、前記形成途中の有機ＥＬ素子の保管を、窒素の体積比が９０％以下の雰囲気中でおこなう、請求項１〜４のいずれかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法。

【図１】

【公開番号】特開２０１２−１９０７８８（Ｐ２０１２−１９０７８８Ａ）
【公開日】平成２４年１０月４日（２０１２．１０．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−３３６９４（Ｐ２０１２−３３６９４）
【出願日】平成２４年２月２０日（２０１２．２．２０）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】