【課題】常圧程度の雰囲気中において比較的安定な新規な電子注入材料を用いて形成される有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】支持基板、陽極、発光層、電子注入層、および陰極が、この順で積層されて構成される有機ＥＬ素子であって、前記電子注入層は、イオン性ポリマーを含むインキを塗布成膜することによって形成され、前記陰極は、当該陰極となる材料を含むインキを塗布成膜する、または当該陰極となる導電性薄膜を転写することによって形成されている、有機ＥＬ素子。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板、陽極、発光層、電子注入層、および陰極が、この順で積層されて構成される有機ＥＬ素子であって、
前記電子注入層は、イオン性ポリマーを含むインキを塗布成膜することによって形成され、
前記陰極は、当該陰極となる材料を含むインキを塗布成膜する、または当該陰極となる導電性薄膜を転写することによって形成されている、有機ＥＬ素子。
【請求項２】
前記陰極が、導電性フィラーを含んで構成されている請求項１記載の有機ＥＬ素子。
【請求項３】
支持基板上に、陽極、発光層、電子注入層、および陰極をこの順で積層する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
イオン性ポリマーを含むインキを塗布成膜することによって電子注入層を形成する工程と、
電子注入層上に導電性薄膜を転写することによって陰極を形成する、または陰極となる材料を含むインキを電子注入層上に塗布成膜することによって陰極を形成する工程とを含む、有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
電子注入層および陰極をロールツーロール法によって形成する、請求項３記載の有機ＥＬ素子の製造方法。

【図１】

【図２】

【公開番号】特開２０１２−１８６４３７（Ｐ２０１２−１８６４３７Ａ）
【公開日】平成２４年９月２７日（２０１２．９．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１５８６５７（Ｐ２０１１−１５８６５７）
【出願日】平成２３年７月２０日（２０１１．７．２０）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】