欠点評価システム、及び欠点の評価方法
【課題】精度の高い評価を行うことが可能な欠点評価システム、及び欠点の評価方法を提供する。
【解決手段】欠陥評価システムは、液晶装置と、液晶装置の画像を投射する投射型表示装置と、投射された投射画像３０１における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点５０１を表示することが可能な擬似欠点ウインド５００と、を備える。
【解決手段】欠陥評価システムは、液晶装置と、液晶装置の画像を投射する投射型表示装置と、投射された投射画像３０１における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点５０１を表示することが可能な擬似欠点ウインド５００と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置における欠点評価システム、及び欠点の評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置は、例えば、液晶プロジェクターのライトバルブとして用いられるＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置がある。この液晶装置は、例えば、配向膜が設けられた一対の基板間に、シール材を介して液晶が注入封止された構造となっている。
【０００３】
このような液晶装置に発生する欠点を評価する方法として、例えば、特許文献１に記載のように、液晶装置のディスプレイをカメラによりで撮像し、撮像した画像とテンプレートとを比較して、欠点の大きさが不良か否かを判定している技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−１８３３２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、ディスプレイをカメラで撮像するので、例えば、欠点の階調などを評価する場合、カメラの解像度や光感度によって実際の欠点と異なってしまう恐れがある。よって、正確な欠点評価を行うことが難しいという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例に係る欠点評価システムは、電気光学装置の画像を投射する投射部と、投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する擬似欠点表示部と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、画像及び擬似欠点を投射部によって投射し、投射画像において擬似欠点を任意の位置（欠点の近く）に移動して欠点と擬似欠点とを比較するので、例えば、カメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点の評価を行うことができる。また、擬似欠点を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、投射部を介して投射画像を見ながら評価を行うので、例えば、プロジェクターの光源の温度が電気光学装置に加わった状態（実使用条件）で発生する欠点の評価を行うことができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、中央領域と周辺領域とによって擬似欠点の表示を変えるので、例えば、中央領域と周辺領域で欠点の限度が異なるような場合など、要求に合った評価を行うことができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、前記投射画像の階調が変化したとき所定の階調になるように調整されることが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、擬似欠点表示部が所定の階調になるように調整されるので、投射画像の階調を変化させた場合であっても、基準となる擬似欠点表示部の階調が変わることなく安定した評価を行うことができる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を別々に表示することが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、例えば、ＲＧＢそれぞれの単色に応じた擬似欠点を表示させるので、Ｒの擬似欠点、Ｇの擬似欠点、Ｂの擬似欠点など、色ごとに応じた欠点の評価を行うことができる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２点の擬似欠点を表示することが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、ある領域に欠点が集まった場合の間隔の限度（近接限度）を評価することができる。
【００１７】
［適用例６］本適用例に係る欠点の評価方法は、電気光学装置の画像を投射する投射工程と、投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する表示工程と、前記投射画像の欠点と前記擬似欠点とを比較して前記欠点が良品であるか否かを評価する評価工程と、を有することを特徴とする。
【００１８】
この方法によれば、画像及び擬似欠点を投射し、投射画像において擬似欠点を任意の位置（欠点の近く）に移動して欠点と擬似欠点とを比較するので、例えば、カメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点の評価を行うことができる。また、擬似欠点を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、投射画像を見ながら評価を行うので、例えば、プロジェクターの光源の温度が電気光学装置に加わった状態（実使用条件）で発生する欠点の評価を行うことができる。
【００１９】
［適用例７］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることが好ましい。
【００２０】
この方法によれば、中央領域と周辺領域とによって擬似欠点の表示を変えるので、例えば、中央領域と周辺領域で欠点の限度が異なるような場合など、要求に合った評価を行うことができる。
【００２１】
［適用例８］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、前記投射画像の階調が変化したとき、前記擬似欠点の階調を所定の階調に調整することが好ましい。
【００２２】
この方法によれば、擬似欠点が所定の階調になるように調整するので、投射画像の階調を変化させた場合であっても、基準となる擬似欠点の階調が変わることなく安定した評価を行うことができる。
【００２３】
［適用例９］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を表示することが好ましい。
【００２４】
この方法によれば、例えば、ＲＧＢそれぞれの単色に応じた擬似欠点を表示させるので、Ｒの擬似欠点、Ｇの擬似欠点、Ｂの擬似欠点など、色ごとに応じた欠点の評価を行うことができる。
【００２５】
［適用例１０］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２つの擬似欠点を表示することが好ましい。
【００２６】
この方法によれば、ある領域に欠点が集まった場合の間隔の限度（近接限度）を評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】（ａ）は液晶装置の構造を示す模式平面図、（ｂ）は（ａ）に示す液晶装置のＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図。
【図２】液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図３】液晶装置の欠点評価システムの構成を示す模式図。
【図４】液晶装置の欠点の評価方法を示すフローチャート。
【図５】評価方法の一部を示す模式平面図。
【図６】評価方法の一部を示す模式平面図。
【図７】評価方法の一部を示す模式平面図。
【図８】変形例の投射画像を示す模式平面図。
【図９】変形例の投射画像を示す模式平面図。
【図１０】変形例の投射画像を示す模式平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。
【００２９】
なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、又は基板の上に他の構成物を介して配置される場合、又は基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。
【００３０】
本実施形態では、薄膜トランジスター（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリクス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば、後述する投射部としての投射型表示装置（液晶プロジェクター）の光変調素子（液晶ライトバルブ）として好適に用いることができるものである。
【００３１】
＜液晶装置の構成＞
図１（ａ）は、電気光学装置としての液晶装置の構造を示す模式平面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す液晶装置のＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図である。図２は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、液晶装置の構造を、図１及び図２を参照しながら説明する。
【００３２】
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、液晶装置１００は、対向配置された素子基板１０及び対向基板２０と、これら一対の基板によって挟持された液晶層５０とを有する。素子基板１０及び対向基板２０は、例えば、透明な石英などのガラス基板が用いられている。
【００３３】
素子基板１０は、対向基板２０よりも一回り大きく形成されている。両基板１０，２０は、額縁状に配置されたシール材４０を介して接合されている。そして、その隙間に、負の誘電異方性を有する液晶が封入されて液晶層５０が構成されている。シール材４０は、例えば、熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材４０には、一対の基板の間隔を一定に保持するためのスペーサー（図示省略）が混入されている。
【００３４】
額縁状に配置されたシール材４０の内側には、同じく額縁状に額縁遮光膜２１が設けられている。額縁遮光膜２１は、例えば、遮光性の金属あるいは金属酸化物などからなり、対向基板２０側に設けられている。そして、額縁遮光膜２１の内側が画素領域Ｅとなっている。画素領域Ｅには、マトリクス状に画素Ｐが複数配置されている。なお、図１では図示省略したが、画素領域Ｅにおいても複数の画素Ｐを平面的に区分する遮光部が設けられている。
【００３５】
素子基板１０の１辺部には、１辺部に沿ったシール材４０との間にデータ線駆動回路１０１が設けられている。また、該１辺部に対向する他の１辺部に沿ったシール材４０の内側に検査回路１０３が設けられている。更に、該１辺部と直交し互いに対向する他の２辺部に沿ったシール材４０の内側には、走査線駆動回路１０２が設けられている。
【００３６】
１辺部と対向する他の１辺部のシール材４０の内側には、２つの走査線駆動回路１０２を繋ぐ複数の配線１０５が設けられている。これらデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０２に繋がる配線１０５は、該１辺部に沿って配列した複数の外部接続端子１０４に接続されている。以降、１辺部に沿った方向をＸ方向とし、１辺部と直交し互いに対向する他の２辺部に沿った方向をＹ方向として説明する。
【００３７】
図１（ｂ）に示すように、素子基板１０の液晶層５０側の表面には、画素Ｐごとに設けられた光透過性を有する画素電極１５及びスイッチング素子としてのＴＦＴ３０と、信号配線と、これらを覆う第１配向膜１８とが形成されている。また、素子基板１０の表面には、ＴＦＴ３０における半導体層に光が入射して光リーク電流が流れ、不適切なスイッチング動作となることを防ぐ遮光構造が採用されている。
【００３８】
対向基板２０の液晶層５０側の表面には、額縁遮光膜２１と、これを覆うように成膜された層間膜２２と、層間膜２２を覆うように設けられた光透過性を有する共通電極２３と、共通電極２３を覆う第２配向膜２４とが設けられている。
【００３９】
額縁遮光膜２１は、図１（ａ）に示すように、平面的にデータ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０２、検査回路１０３と重なる位置において額縁状に設けられている。これにより、対向基板２０側から入射する光を遮蔽して、これらの駆動回路を含む周辺回路の光による誤動作を防止する役目を果たしている。また、不必要な迷光が画素領域Ｅに入射しないように遮蔽して、画素領域Ｅの表示における高いコントラストを確保している。
【００４０】
層間膜２２は、例えば、酸化シリコンなどの無機材料からなり、光透過性を有して額縁遮光膜２１を覆うように設けられている。このような層間膜２２の形成方法としては、例えば、プラズマＣＶＤ法などを用いて成膜する方法が挙げられる。
【００４１】
共通電極２３は、例えば、ＩＴＯなどの透明導電膜からなり、層間膜２２を覆うと共に、図１（ａ）に示すように、対向基板２０の四隅に設けられた上下導通部１０６により素子基板１０側の配線１０５に電気的に接続されている。
【００４２】
画素電極１５を覆う第１配向膜１８及び共通電極２３を覆う第２配向膜２４は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ2）などからなる無機配向膜によって構成されている。本実施形態では、負の誘電異方性を有する液晶分子が配向膜面に対してプレチルトを与えられて垂直配向するように、所定の方向に配向処理が施されたものである。
【００４３】
また、本実施形態では、画素領域Ｅは実効的な表示がなされる表示領域と、表示領域を囲む周辺領域とを含むものである。周辺領域に配置された画素Ｐはダミー画素として扱われている。
【００４４】
図２に示すように、液晶装置１００は、少なくとも画素領域Ｅにおいて互いに絶縁されて直交する複数の走査線３ａ及び複数のデータ線６ａと、データ線６ａに対して一定の間隔をおいて平行するように配置された容量線３ｂとを有する。なお、走査線３ａが延在する方向がＸ方向であり、データ線６ａが延在する方向がＹ方向である。
【００４５】
走査線３ａとデータ線６ａならびに容量線３ｂと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極１５と、ＴＦＴ３０と、保持容量１６とが設けられ、これらが画素Ｐの画素回路を構成している。
【００４６】
ＴＦＴ３０のゲートは走査線３ａに電気的に接続され、ＴＦＴ３０のソースはデータ線６ａに電気的に接続されている。画素電極１５は、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。
【００４７】
データ線６ａは、データ線駆動回路１０１（図１参照）に接続されており、データ線駆動回路１０１から供給される画像信号Ｄ１，Ｄ２，…，Ｄｎを画素Ｐに供給する。走査線３ａは、走査線駆動回路１０２（図１参照）に接続されており、走査線駆動回路１０２から供給される走査信号ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣｍを各画素Ｐに供給する。
【００４８】
データ線駆動回路１０１からデータ線６ａに供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣接する複数のデータ線６ａ同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路１０２は、走査線３ａに対して、走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍを所定のタイミングで、互いに重複しないパルス信号として順次供給する。
【００４９】
液晶装置１００は、スイッチング素子であるＴＦＴ３０が走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線６ａから供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎが所定のタイミングで画素電極１５に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極１５を介して液晶層５０に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、画素電極１５と液晶層５０を介して対向配置された共通電極２３との間で一定期間保持される。
【００５０】
保持された画像信号Ｄ１〜Ｄｎがリークするのを防止するため、画素電極１５と共通電極２３との間に形成される液晶容量と並列に保持容量１６が接続されている。保持容量１６は、ＴＦＴ３０のドレインと容量線３ｂとの間に設けられている。
【００５１】
なお、図１（ａ）に示した検査回路１０３には、データ線６ａが接続されており、液晶装置１００の製造過程において、上記画像信号を検出することで液晶装置１００の動作欠陥などを確認できる構成となっているが、図２の等価回路では省略している。また、検査回路１０３は、上記画像信号をサンプリングしてデータ線６ａに供給するサンプリング回路、データ線６ａに所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して供給するプリチャージ回路を含むものとしてもよい。
【００５２】
このような液晶装置１００は、例えば透過型であって、画素Ｐが非駆動時に明表示となるノーマリーホワイトモードや、非駆動時に暗表示となるノーマリーブラックモードの光学設計が採用される。光の入射側と射出側とにそれぞれ偏光素子が上記光学設計に応じて配置されて用いられる。
【００５３】
＜欠点評価システムの構成＞
図３は、上記した液晶装置の欠点評価システムの構成を示す模式図である。以下、欠点評価システムの構成について、図３を参照しながら説明する。
【００５４】
図３に示すように、本実施形態の欠点評価システム２００は、液晶装置１００を備えた投射型表示装置１０００と、チェッカー２１０と、投射画像３０１を表示するスクリーン１３００とを備えている。まず、液晶装置１００が備えられる投射型表示装置１０００の構成について説明する。
【００５５】
投射型表示装置１０００は、システム光軸Ｌに沿って配置された偏光照明装置１１００と、光分離素子としての２つのダイクロイックミラー１１０４，１１０５と、３つの反射ミラー１１０６，１１０７，１１０８と、５つのリレーレンズ１２０１，１２０２，１２０３，１２０４，１２０５と、３つの光変調手段としての透過型の液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０と、光合成素子としてのクロスダイクロイックプリズム１２０６と、投射レンズ１２０７とを備えている。
【００５６】
偏光照明装置１１００は、超高圧水銀灯やハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット１１０１と、インテグレーターレンズ１１０２と、偏光変換素子１１０３とから概略構成されている。
【００５７】
ダイクロイックミラー１１０４は、偏光照明装置１１００から射出された偏光光束のうち、赤色光（Ｒ）を反射させ、緑色光（Ｇ）と青色光（Ｂ）とを透過させる。もう１つのダイクロイックミラー１１０５は、ダイクロイックミラー１１０４を透過した緑色光（Ｇ）を反射させ、青色光（Ｂ）を透過させる。
【００５８】
ダイクロイックミラー１１０４で反射した赤色光（Ｒ）は、反射ミラー１１０６で反射した後にリレーレンズ１２０５を経由して液晶ライトバルブ１２１０に入射する。ダイクロイックミラー１１０５で反射した緑色光（Ｇ）は、リレーレンズ１２０４を経由して液晶ライトバルブ１２２０に入射する。ダイクロイックミラー１１０５を透過した青色光（Ｂ）は、３つのリレーレンズ１２０１，１２０２，１２０３と２つの反射ミラー１１０７，１１０８とからなる導光系を経由して液晶ライトバルブ１２３０に入射する。
【００５９】
液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０は、クロスダイクロイックプリズム１２０６の色光ごとの入射面に対してそれぞれ対向配置されている。液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０に入射した色光は、映像情報（映像信号）に基づいて変調されクロスダイクロイックプリズム１２０６に向けて射出される。このプリズムは、４つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって３つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が合成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ１２０７によってスクリーン１３００上に投射され、画像が拡大されて表示される。
【００６０】
液晶ライトバルブ１２１０は、上述した液晶装置１００が適用されたものである。液晶装置１００は、色光の入射側と射出側とにおいてクロスニコルに配置された一対の偏光素子の間に隙間を置いて配置されている。他の液晶ライトバルブ１２２０，１２３０も同様である。
【００６１】
チェッカー２１０は、液晶装置１００に電源を供給する。また、チェッカー２１０は、投射された投射画像における任意の位置に、擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド５００を表示させる制御部を備える。
【００６２】
上記したような投射型表示装置１０００を備えた欠点評価システム２００の評価方法としては、例えば、評価したい液晶装置１００（液晶パネル）（例えば、Ｇ用の液晶装置１００）を液晶ライトバルブ１２２０に配置する。この液晶装置１００は、チェッカー２１０に電気的に接続されており、電源が供給される。次に、偏光照明装置１１００から射出された偏光光束のうち、緑色光（Ｇ）を透過させる。つまり、本実施形態では、各色ごと単色で液晶装置１００の評価を行う。
【００６３】
その後、液晶装置１００を通過した緑色の光は、クロスダイクロイックプリズム１２０６を通って、投射レンズ１２０７からスクリーン１３００に投射される。そして、スクリーン１３００に投射された投射画像における欠点の合否の評価を行う。
【００６４】
なお、Ｒ用の液晶装置１００（Ｒ）、Ｂ用の液晶装置１００（Ｂ）も同様に、評価したい液晶装置１００にチェッカー２１０を電気的に接続し、それぞれスクリーン１３００に画像を投射して欠点を評価する。次に、欠点の評価方法について、具体的に説明する。
【００６５】
＜欠点の評価方法＞
図４は、液晶装置の欠点を評価する欠点の評価方法を示すフローチャートである。図５〜図７は、評価方法の一部を示す模式平面図である。以下、欠点の評価方法を、図４〜図７を参照しながら説明する。まず、図３に示す投射型表示装置のライトバルブに、評価したい液晶装置を配置する。
【００６６】
次に、図４に示すように、ステップＳ１１（投射工程）では、評価する液晶装置１００とチェッカー２１０とを電気的に接続し、液晶装置１００を介した画像を投射画像３０１としてスクリーン１３００に投射する（図５参照）。
【００６７】
次に、ステップＳ１２では、欠点４００を確認する。具体的には、投射された投射画像３０１を目視で確認し、欠点４００があるか否かを確認する。欠点４００としては、例えば、大きさや階調などである。なお、ＴＦＴ３０が動作していない点欠陥や、所定の輝度が得られない点欠陥なども含む。また、階調には、輝点やシミなどが含まれる。
【００６８】
次に、ステップＳ１３（表示工程）では、投射画像３０１に擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド５００を表示させる。具体的には、図５に示すように、例えば、パソコンのファンクションキーを用いて、登録してある限度見本（擬似的な欠点）となる擬似欠点５０１を投射画像３０１の第１ポジション４１０に表示させる。なお、擬似欠点ウインド５００の機能は、例えば、上記したチェッカー２１０に備えられている。
【００６９】
次に、ステップＳ１４では、擬似欠点ウインド５００を、投射画像３０１の欠点４００に近づける。具体的には、図５に示すように、第１ポジション４１０に表示された擬似欠点ウインド５００を、欠点４００の近くである第２ポジション４２０に移動させる。擬似欠点ウインド５００を移動させる方法としては、例えば、パソコンの方向キーやマウスなどを用いて欠点４００の近くに移動させることができる。
【００７０】
次に、ステップＳ１５（評価工程）では、判断基準となる擬似欠点５０１と欠点４００とを比較して、欠点４００が良品であるか否かを評価する。擬似欠点５０１は、例えば、中間調で表示される。また、擬似欠点ウインド５００の領域全体を中間調にするようにしてもよい。また、中間調であることに限定されず、例えば、製品に応じて変更するようにしてもよい。
【００７１】
比較（評価）する項目としては、例えば、欠点４００の大きさ、欠点４００の階調などである。なお、欠点４００の大きさを比較する方法として、図５に示すように、欠点４００の近くに擬似欠点ウインド５００を近づけて比較する方法や、図６に示すように、欠点４００に擬似欠点ウインド５００を重ねて比較するようにしてもよい。
【００７２】
また、階調を比較する場合においても、欠点４００に擬似欠点ウインド５００を近づけて比較するようにしてもよいし、欠点４００の一部と擬似欠点５０１の一部とを重ねて表示することにより比較するようにしてもよい。
【００７３】
また、欠点４００の大きさや階調などを、別々の擬似欠点ウインドに表示させるようにしてもよいし、１つの擬似欠点ウインドの中に含めて表示させるようにしてもよい。
【００７４】
このように、実際に使用する状態（投射型表示装置１０００（プロジェクター）によってスクリーン１３００に画像を投射して見る状態）で欠点４００を評価するので、例えば、ＣＣＤカメラを用いて液晶装置１００の欠点４００を撮像し、撮像した画像と擬似欠点の画像とを比較する方法と比較して、ＣＣＤカメラの解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点４００の評価を行うことができる。
【００７５】
次に、図７を参照しながら、擬似欠点ウインド５００の表示を、投射された投射画像３０１の中央領域４５０と、中央領域４５０より外側の周辺領域４６０とによって切り替える機能について説明する。
【００７６】
図７（ａ）に示すように、欠点４００が周辺領域４６０にある場合を説明する。この場合、上記したように、ファンクションキーを押して、登録された限度見本となる擬似欠点ウインド５００を表示させる。
【００７７】
次に、擬似欠点ウインド５００を第１ポジション４１０から周辺領域４６０の第２ポジション４２０に移動させる。ここで、擬似欠点ウインド５００を欠点４００に近づけて比較したり、欠点４００に重ねたりして比較する。
【００７８】
この後、図７（ｂ）に示すように、中央領域４５０にある欠点４０１の評価を行う。まず、擬似欠点ウインド５００を周辺領域４６０から中央領域４５０に移動する。このとき、周辺領域用の擬似欠点ウインド５００から中央領域用の擬似欠点ウインド５００ａに表示を切り替える。
【００７９】
具体的には、例えば、中央領域４５０にある欠点４０１が周辺領域４６０にある欠点４００と比較して、欠点が目立つことによる限度が厳しい場合、擬似欠点ウインド５００を中央領域４５０に移動した際、擬似欠点５０２の大きさが小さくなる。また、擬似欠点５０２の階調が変わるようにしてもよい。なお、中央領域４５０と周辺領域４６０とは、ＸとＹとの座標で区分けされるようになっている。
【００８０】
このように、周辺領域４６０と中央領域４５０とにおいて、それぞれ別々に擬似欠点ウインド５００，５００ａを登録しておくことにより、欠点４００，４０１のある領域に擬似欠点ウインド５００が差し掛かると、その領域にあった限度規格の擬似欠点５０１，５０２に変更される。よって、煩わしい操作を必要とすることなく、欠点４００，４０１の評価を行うことができる。
【００８１】
以上詳述したように、本実施形態の欠点評価システム２００、及び欠点４００，４０１の評価方法によれば、以下に示す効果が得られる。
【００８２】
（１）本実施形態の欠点評価システム２００及び欠点４００，４０１の評価方法によれば、投射型表示装置１０００によって画像をスクリーン１３００に投射し、スクリーン１３００上で擬似欠点ウインド５００を任意の位置（欠点４００，４０１の近く）に移動表示して欠点４００，４０１と擬似欠点５０１とを比較するので、例えば、従来のようにカメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点４００，４０１の評価を行うことができる。また、擬似欠点５０１を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、スクリーン１３００に投射した投射画像３０１を見ながら評価を行うので、例えば、投射型表示装置１０００（プロジェクター）の光源（ランプユニット１１０１）の温度が液晶装置１００に加わった状態（実使用条件）で発生する欠点４００，４０１の評価を行うことができる。
【００８３】
（２）本実施形態の欠点評価システム２００及び欠点４００，４０１の評価方法によれば、中央領域４５０と周辺領域４６０とによって擬似欠点５０１の表示を変えるので、例えば、中央領域４５０と周辺領域４６０で欠点４００，４０１の限度が異なるような場合など、要望に合った評価を行うことができる。
【００８４】
なお、本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、本発明の技術範囲に含まれるものである。また、以下のような形態で実施することもできる。
【００８５】
（変形例１）
上記したように、評価する欠点４００，４０１の具体例として、欠点４００，４０１の大きさや階調などを評価することに加えて、図８に示すような、欠点４０１が集まっている（近接する）場合の評価を行うようにしてもよい。図８は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図８に示す投射画像３１１は、第１欠点４０１ａと第２欠点４０１ｂとの間の距離Ｗ１の評価を行っている。
【００８６】
例えば、投射画像３１１の第１欠点４０１ａと第２欠点４０１ｂとの間の距離Ｗ１と、擬似欠点ウインド５１０の第１擬似欠点５０１ａと第２擬似欠点５０１ｂとの間の距離Ｗ２とを比較して、欠点４０１ａ，４０１ｂの距離Ｗ１の間隔が広ければ良品と判断し、距離Ｗ１の間隔が狭ければ、欠点４０１ａ，４０１ｂが目立つため不良品と判断する。これによれば、欠点４０１ａ，４０１ｂが複数集まっている場合の評価を行うことができる。
【００８７】
（変形例２）
上記したように、評価する欠点４００，４０１の具体例として、欠点４００，４０１の大きさや階調などを評価することに加えて、図９に示すような、各色ごと単色で評価を行うように擬似欠点を各色ごと登録しておくようにしてもよい。図９は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図９に示す投射画像３１２は、Ｒ用の擬似欠点ウインド５２０、Ｇ用の擬似欠点ウインド５３０、Ｂ用の擬似欠点ウインド５４０を表示している。このように、各色ごと別々に擬似欠点ウインド５２０，５３０，５４０を登録しておくことにより、色ごとの規格に対して欠点の評価を行うことができる。
【００８８】
（変形例３）
上記したように、擬似欠点ウインド５００を欠点４００，４０１に近づけたり重ね合わせたりして評価することに限定されず、例えば、図１０に示すようにして評価するようにしてもよい。図１０は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図１０に示す投射画像３１３は、擬似欠点ウインド５００を回転させて、向きが変わった擬似欠点５０１と欠点４００とを比較している。これによれば、特に、欠点４００が対称性のない形状だった場合、欠点４００と擬似欠点５０１の形状が揃うように、擬似欠点ウインド５００を回転させることにより、欠点４００の評価をより精度高く行うことができる。
【００８９】
（変形例４）
上記したように、擬似欠点５０１の階調は、投射画像３０１の階調が変化した場合でも、所定の階調である中間調になるように補正するようにしてもよい。なお、補正する補正動作機能は、例えば、上記したチェッカー２１０に備えられている。これによれば、基準となる擬似欠点５０１の階調が変わることがないので、ラスター画面にして擬似欠点５０１の階調が振られた場合でも、安定した評価を行うことができる。また、擬似欠点５０１が中間調であることに限定されず、投射画像３０１によって階調を変えるようにしてもよい。
【００９０】
（変形例５）
上記したように、電気光学装置は、液晶装置１００に限定されず、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマ装置、シリコン基板を用いた半導体装置などに適用するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００９１】
３ａ…走査線、３ｂ…容量線、６ａ…データ線、１０…素子基板、１５…画素電極、１６…保持容量、１８…第１配向膜、２０…対向基板、２１…額縁遮光膜、２２…層間膜、２３…共通電極、２４…第２配向膜、３０…ＴＦＴ、４０…シール材、５０…液晶層、１００…電気光学装置としての液晶装置、１０１…データ線駆動回路、１０２…走査線駆動回路、１０３…検査回路、１０４…外部接続端子、１０５…配線、１０６…上下導通部、２００…欠点評価システム、２１０…チェッカー、３０１，３１１，３１２，３１３…投射画像、４００，４０１…欠点、４０１ａ…第１欠点、４０１ｂ…第２欠点、４１０…第１ポジション、４２０…第２ポジション、４５０…中央領域、４６０…周辺領域、５００，５００ａ，５１０，５２０，５３０，５４０…擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド、５０１，５０２…擬似欠点、５０１ａ…第１擬似欠点、５０１ｂ…第２擬似欠点、１０００…投射部としての投射型表示装置、１１００…偏光照明装置、１１０１…ランプユニット、１１０２…インテグレーターレンズ、１１０３…偏光変換素子、１１０４，１１０５…ダイクロイックミラー、１１０６，１１０７，１１０８…反射ミラー、１２０１，１２０２，１２０３，１２０４，１２０５…リレーレンズ、１２０６…クロスダイクロイックプリズム、１２０７…投射レンズ、１２１０，１２２０，１２３０…液晶ライトバルブ、１３００…スクリーン。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置における欠点評価システム、及び欠点の評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置は、例えば、液晶プロジェクターのライトバルブとして用いられるＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置がある。この液晶装置は、例えば、配向膜が設けられた一対の基板間に、シール材を介して液晶が注入封止された構造となっている。
【０００３】
このような液晶装置に発生する欠点を評価する方法として、例えば、特許文献１に記載のように、液晶装置のディスプレイをカメラによりで撮像し、撮像した画像とテンプレートとを比較して、欠点の大きさが不良か否かを判定している技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−１８３３２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、ディスプレイをカメラで撮像するので、例えば、欠点の階調などを評価する場合、カメラの解像度や光感度によって実際の欠点と異なってしまう恐れがある。よって、正確な欠点評価を行うことが難しいという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例に係る欠点評価システムは、電気光学装置の画像を投射する投射部と、投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する擬似欠点表示部と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、画像及び擬似欠点を投射部によって投射し、投射画像において擬似欠点を任意の位置（欠点の近く）に移動して欠点と擬似欠点とを比較するので、例えば、カメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点の評価を行うことができる。また、擬似欠点を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、投射部を介して投射画像を見ながら評価を行うので、例えば、プロジェクターの光源の温度が電気光学装置に加わった状態（実使用条件）で発生する欠点の評価を行うことができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、中央領域と周辺領域とによって擬似欠点の表示を変えるので、例えば、中央領域と周辺領域で欠点の限度が異なるような場合など、要求に合った評価を行うことができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、前記投射画像の階調が変化したとき所定の階調になるように調整されることが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、擬似欠点表示部が所定の階調になるように調整されるので、投射画像の階調を変化させた場合であっても、基準となる擬似欠点表示部の階調が変わることなく安定した評価を行うことができる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を別々に表示することが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、例えば、ＲＧＢそれぞれの単色に応じた擬似欠点を表示させるので、Ｒの擬似欠点、Ｇの擬似欠点、Ｂの擬似欠点など、色ごとに応じた欠点の評価を行うことができる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２点の擬似欠点を表示することが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、ある領域に欠点が集まった場合の間隔の限度（近接限度）を評価することができる。
【００１７】
［適用例６］本適用例に係る欠点の評価方法は、電気光学装置の画像を投射する投射工程と、投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する表示工程と、前記投射画像の欠点と前記擬似欠点とを比較して前記欠点が良品であるか否かを評価する評価工程と、を有することを特徴とする。
【００１８】
この方法によれば、画像及び擬似欠点を投射し、投射画像において擬似欠点を任意の位置（欠点の近く）に移動して欠点と擬似欠点とを比較するので、例えば、カメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点の評価を行うことができる。また、擬似欠点を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、投射画像を見ながら評価を行うので、例えば、プロジェクターの光源の温度が電気光学装置に加わった状態（実使用条件）で発生する欠点の評価を行うことができる。
【００１９】
［適用例７］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることが好ましい。
【００２０】
この方法によれば、中央領域と周辺領域とによって擬似欠点の表示を変えるので、例えば、中央領域と周辺領域で欠点の限度が異なるような場合など、要求に合った評価を行うことができる。
【００２１】
［適用例８］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、前記投射画像の階調が変化したとき、前記擬似欠点の階調を所定の階調に調整することが好ましい。
【００２２】
この方法によれば、擬似欠点が所定の階調になるように調整するので、投射画像の階調を変化させた場合であっても、基準となる擬似欠点の階調が変わることなく安定した評価を行うことができる。
【００２３】
［適用例９］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を表示することが好ましい。
【００２４】
この方法によれば、例えば、ＲＧＢそれぞれの単色に応じた擬似欠点を表示させるので、Ｒの擬似欠点、Ｇの擬似欠点、Ｂの擬似欠点など、色ごとに応じた欠点の評価を行うことができる。
【００２５】
［適用例１０］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２つの擬似欠点を表示することが好ましい。
【００２６】
この方法によれば、ある領域に欠点が集まった場合の間隔の限度（近接限度）を評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】（ａ）は液晶装置の構造を示す模式平面図、（ｂ）は（ａ）に示す液晶装置のＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図。
【図２】液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図３】液晶装置の欠点評価システムの構成を示す模式図。
【図４】液晶装置の欠点の評価方法を示すフローチャート。
【図５】評価方法の一部を示す模式平面図。
【図６】評価方法の一部を示す模式平面図。
【図７】評価方法の一部を示す模式平面図。
【図８】変形例の投射画像を示す模式平面図。
【図９】変形例の投射画像を示す模式平面図。
【図１０】変形例の投射画像を示す模式平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。
【００２９】
なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、又は基板の上に他の構成物を介して配置される場合、又は基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。
【００３０】
本実施形態では、薄膜トランジスター（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリクス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば、後述する投射部としての投射型表示装置（液晶プロジェクター）の光変調素子（液晶ライトバルブ）として好適に用いることができるものである。
【００３１】
＜液晶装置の構成＞
図１（ａ）は、電気光学装置としての液晶装置の構造を示す模式平面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す液晶装置のＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図である。図２は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、液晶装置の構造を、図１及び図２を参照しながら説明する。
【００３２】
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、液晶装置１００は、対向配置された素子基板１０及び対向基板２０と、これら一対の基板によって挟持された液晶層５０とを有する。素子基板１０及び対向基板２０は、例えば、透明な石英などのガラス基板が用いられている。
【００３３】
素子基板１０は、対向基板２０よりも一回り大きく形成されている。両基板１０，２０は、額縁状に配置されたシール材４０を介して接合されている。そして、その隙間に、負の誘電異方性を有する液晶が封入されて液晶層５０が構成されている。シール材４０は、例えば、熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材４０には、一対の基板の間隔を一定に保持するためのスペーサー（図示省略）が混入されている。
【００３４】
額縁状に配置されたシール材４０の内側には、同じく額縁状に額縁遮光膜２１が設けられている。額縁遮光膜２１は、例えば、遮光性の金属あるいは金属酸化物などからなり、対向基板２０側に設けられている。そして、額縁遮光膜２１の内側が画素領域Ｅとなっている。画素領域Ｅには、マトリクス状に画素Ｐが複数配置されている。なお、図１では図示省略したが、画素領域Ｅにおいても複数の画素Ｐを平面的に区分する遮光部が設けられている。
【００３５】
素子基板１０の１辺部には、１辺部に沿ったシール材４０との間にデータ線駆動回路１０１が設けられている。また、該１辺部に対向する他の１辺部に沿ったシール材４０の内側に検査回路１０３が設けられている。更に、該１辺部と直交し互いに対向する他の２辺部に沿ったシール材４０の内側には、走査線駆動回路１０２が設けられている。
【００３６】
１辺部と対向する他の１辺部のシール材４０の内側には、２つの走査線駆動回路１０２を繋ぐ複数の配線１０５が設けられている。これらデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０２に繋がる配線１０５は、該１辺部に沿って配列した複数の外部接続端子１０４に接続されている。以降、１辺部に沿った方向をＸ方向とし、１辺部と直交し互いに対向する他の２辺部に沿った方向をＹ方向として説明する。
【００３７】
図１（ｂ）に示すように、素子基板１０の液晶層５０側の表面には、画素Ｐごとに設けられた光透過性を有する画素電極１５及びスイッチング素子としてのＴＦＴ３０と、信号配線と、これらを覆う第１配向膜１８とが形成されている。また、素子基板１０の表面には、ＴＦＴ３０における半導体層に光が入射して光リーク電流が流れ、不適切なスイッチング動作となることを防ぐ遮光構造が採用されている。
【００３８】
対向基板２０の液晶層５０側の表面には、額縁遮光膜２１と、これを覆うように成膜された層間膜２２と、層間膜２２を覆うように設けられた光透過性を有する共通電極２３と、共通電極２３を覆う第２配向膜２４とが設けられている。
【００３９】
額縁遮光膜２１は、図１（ａ）に示すように、平面的にデータ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０２、検査回路１０３と重なる位置において額縁状に設けられている。これにより、対向基板２０側から入射する光を遮蔽して、これらの駆動回路を含む周辺回路の光による誤動作を防止する役目を果たしている。また、不必要な迷光が画素領域Ｅに入射しないように遮蔽して、画素領域Ｅの表示における高いコントラストを確保している。
【００４０】
層間膜２２は、例えば、酸化シリコンなどの無機材料からなり、光透過性を有して額縁遮光膜２１を覆うように設けられている。このような層間膜２２の形成方法としては、例えば、プラズマＣＶＤ法などを用いて成膜する方法が挙げられる。
【００４１】
共通電極２３は、例えば、ＩＴＯなどの透明導電膜からなり、層間膜２２を覆うと共に、図１（ａ）に示すように、対向基板２０の四隅に設けられた上下導通部１０６により素子基板１０側の配線１０５に電気的に接続されている。
【００４２】
画素電極１５を覆う第１配向膜１８及び共通電極２３を覆う第２配向膜２４は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ2）などからなる無機配向膜によって構成されている。本実施形態では、負の誘電異方性を有する液晶分子が配向膜面に対してプレチルトを与えられて垂直配向するように、所定の方向に配向処理が施されたものである。
【００４３】
また、本実施形態では、画素領域Ｅは実効的な表示がなされる表示領域と、表示領域を囲む周辺領域とを含むものである。周辺領域に配置された画素Ｐはダミー画素として扱われている。
【００４４】
図２に示すように、液晶装置１００は、少なくとも画素領域Ｅにおいて互いに絶縁されて直交する複数の走査線３ａ及び複数のデータ線６ａと、データ線６ａに対して一定の間隔をおいて平行するように配置された容量線３ｂとを有する。なお、走査線３ａが延在する方向がＸ方向であり、データ線６ａが延在する方向がＹ方向である。
【００４５】
走査線３ａとデータ線６ａならびに容量線３ｂと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極１５と、ＴＦＴ３０と、保持容量１６とが設けられ、これらが画素Ｐの画素回路を構成している。
【００４６】
ＴＦＴ３０のゲートは走査線３ａに電気的に接続され、ＴＦＴ３０のソースはデータ線６ａに電気的に接続されている。画素電極１５は、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。
【００４７】
データ線６ａは、データ線駆動回路１０１（図１参照）に接続されており、データ線駆動回路１０１から供給される画像信号Ｄ１，Ｄ２，…，Ｄｎを画素Ｐに供給する。走査線３ａは、走査線駆動回路１０２（図１参照）に接続されており、走査線駆動回路１０２から供給される走査信号ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣｍを各画素Ｐに供給する。
【００４８】
データ線駆動回路１０１からデータ線６ａに供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣接する複数のデータ線６ａ同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路１０２は、走査線３ａに対して、走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍを所定のタイミングで、互いに重複しないパルス信号として順次供給する。
【００４９】
液晶装置１００は、スイッチング素子であるＴＦＴ３０が走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線６ａから供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎが所定のタイミングで画素電極１５に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極１５を介して液晶層５０に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、画素電極１５と液晶層５０を介して対向配置された共通電極２３との間で一定期間保持される。
【００５０】
保持された画像信号Ｄ１〜Ｄｎがリークするのを防止するため、画素電極１５と共通電極２３との間に形成される液晶容量と並列に保持容量１６が接続されている。保持容量１６は、ＴＦＴ３０のドレインと容量線３ｂとの間に設けられている。
【００５１】
なお、図１（ａ）に示した検査回路１０３には、データ線６ａが接続されており、液晶装置１００の製造過程において、上記画像信号を検出することで液晶装置１００の動作欠陥などを確認できる構成となっているが、図２の等価回路では省略している。また、検査回路１０３は、上記画像信号をサンプリングしてデータ線６ａに供給するサンプリング回路、データ線６ａに所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して供給するプリチャージ回路を含むものとしてもよい。
【００５２】
このような液晶装置１００は、例えば透過型であって、画素Ｐが非駆動時に明表示となるノーマリーホワイトモードや、非駆動時に暗表示となるノーマリーブラックモードの光学設計が採用される。光の入射側と射出側とにそれぞれ偏光素子が上記光学設計に応じて配置されて用いられる。
【００５３】
＜欠点評価システムの構成＞
図３は、上記した液晶装置の欠点評価システムの構成を示す模式図である。以下、欠点評価システムの構成について、図３を参照しながら説明する。
【００５４】
図３に示すように、本実施形態の欠点評価システム２００は、液晶装置１００を備えた投射型表示装置１０００と、チェッカー２１０と、投射画像３０１を表示するスクリーン１３００とを備えている。まず、液晶装置１００が備えられる投射型表示装置１０００の構成について説明する。
【００５５】
投射型表示装置１０００は、システム光軸Ｌに沿って配置された偏光照明装置１１００と、光分離素子としての２つのダイクロイックミラー１１０４，１１０５と、３つの反射ミラー１１０６，１１０７，１１０８と、５つのリレーレンズ１２０１，１２０２，１２０３，１２０４，１２０５と、３つの光変調手段としての透過型の液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０と、光合成素子としてのクロスダイクロイックプリズム１２０６と、投射レンズ１２０７とを備えている。
【００５６】
偏光照明装置１１００は、超高圧水銀灯やハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット１１０１と、インテグレーターレンズ１１０２と、偏光変換素子１１０３とから概略構成されている。
【００５７】
ダイクロイックミラー１１０４は、偏光照明装置１１００から射出された偏光光束のうち、赤色光（Ｒ）を反射させ、緑色光（Ｇ）と青色光（Ｂ）とを透過させる。もう１つのダイクロイックミラー１１０５は、ダイクロイックミラー１１０４を透過した緑色光（Ｇ）を反射させ、青色光（Ｂ）を透過させる。
【００５８】
ダイクロイックミラー１１０４で反射した赤色光（Ｒ）は、反射ミラー１１０６で反射した後にリレーレンズ１２０５を経由して液晶ライトバルブ１２１０に入射する。ダイクロイックミラー１１０５で反射した緑色光（Ｇ）は、リレーレンズ１２０４を経由して液晶ライトバルブ１２２０に入射する。ダイクロイックミラー１１０５を透過した青色光（Ｂ）は、３つのリレーレンズ１２０１，１２０２，１２０３と２つの反射ミラー１１０７，１１０８とからなる導光系を経由して液晶ライトバルブ１２３０に入射する。
【００５９】
液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０は、クロスダイクロイックプリズム１２０６の色光ごとの入射面に対してそれぞれ対向配置されている。液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０に入射した色光は、映像情報（映像信号）に基づいて変調されクロスダイクロイックプリズム１２０６に向けて射出される。このプリズムは、４つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって３つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が合成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ１２０７によってスクリーン１３００上に投射され、画像が拡大されて表示される。
【００６０】
液晶ライトバルブ１２１０は、上述した液晶装置１００が適用されたものである。液晶装置１００は、色光の入射側と射出側とにおいてクロスニコルに配置された一対の偏光素子の間に隙間を置いて配置されている。他の液晶ライトバルブ１２２０，１２３０も同様である。
【００６１】
チェッカー２１０は、液晶装置１００に電源を供給する。また、チェッカー２１０は、投射された投射画像における任意の位置に、擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド５００を表示させる制御部を備える。
【００６２】
上記したような投射型表示装置１０００を備えた欠点評価システム２００の評価方法としては、例えば、評価したい液晶装置１００（液晶パネル）（例えば、Ｇ用の液晶装置１００）を液晶ライトバルブ１２２０に配置する。この液晶装置１００は、チェッカー２１０に電気的に接続されており、電源が供給される。次に、偏光照明装置１１００から射出された偏光光束のうち、緑色光（Ｇ）を透過させる。つまり、本実施形態では、各色ごと単色で液晶装置１００の評価を行う。
【００６３】
その後、液晶装置１００を通過した緑色の光は、クロスダイクロイックプリズム１２０６を通って、投射レンズ１２０７からスクリーン１３００に投射される。そして、スクリーン１３００に投射された投射画像における欠点の合否の評価を行う。
【００６４】
なお、Ｒ用の液晶装置１００（Ｒ）、Ｂ用の液晶装置１００（Ｂ）も同様に、評価したい液晶装置１００にチェッカー２１０を電気的に接続し、それぞれスクリーン１３００に画像を投射して欠点を評価する。次に、欠点の評価方法について、具体的に説明する。
【００６５】
＜欠点の評価方法＞
図４は、液晶装置の欠点を評価する欠点の評価方法を示すフローチャートである。図５〜図７は、評価方法の一部を示す模式平面図である。以下、欠点の評価方法を、図４〜図７を参照しながら説明する。まず、図３に示す投射型表示装置のライトバルブに、評価したい液晶装置を配置する。
【００６６】
次に、図４に示すように、ステップＳ１１（投射工程）では、評価する液晶装置１００とチェッカー２１０とを電気的に接続し、液晶装置１００を介した画像を投射画像３０１としてスクリーン１３００に投射する（図５参照）。
【００６７】
次に、ステップＳ１２では、欠点４００を確認する。具体的には、投射された投射画像３０１を目視で確認し、欠点４００があるか否かを確認する。欠点４００としては、例えば、大きさや階調などである。なお、ＴＦＴ３０が動作していない点欠陥や、所定の輝度が得られない点欠陥なども含む。また、階調には、輝点やシミなどが含まれる。
【００６８】
次に、ステップＳ１３（表示工程）では、投射画像３０１に擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド５００を表示させる。具体的には、図５に示すように、例えば、パソコンのファンクションキーを用いて、登録してある限度見本（擬似的な欠点）となる擬似欠点５０１を投射画像３０１の第１ポジション４１０に表示させる。なお、擬似欠点ウインド５００の機能は、例えば、上記したチェッカー２１０に備えられている。
【００６９】
次に、ステップＳ１４では、擬似欠点ウインド５００を、投射画像３０１の欠点４００に近づける。具体的には、図５に示すように、第１ポジション４１０に表示された擬似欠点ウインド５００を、欠点４００の近くである第２ポジション４２０に移動させる。擬似欠点ウインド５００を移動させる方法としては、例えば、パソコンの方向キーやマウスなどを用いて欠点４００の近くに移動させることができる。
【００７０】
次に、ステップＳ１５（評価工程）では、判断基準となる擬似欠点５０１と欠点４００とを比較して、欠点４００が良品であるか否かを評価する。擬似欠点５０１は、例えば、中間調で表示される。また、擬似欠点ウインド５００の領域全体を中間調にするようにしてもよい。また、中間調であることに限定されず、例えば、製品に応じて変更するようにしてもよい。
【００７１】
比較（評価）する項目としては、例えば、欠点４００の大きさ、欠点４００の階調などである。なお、欠点４００の大きさを比較する方法として、図５に示すように、欠点４００の近くに擬似欠点ウインド５００を近づけて比較する方法や、図６に示すように、欠点４００に擬似欠点ウインド５００を重ねて比較するようにしてもよい。
【００７２】
また、階調を比較する場合においても、欠点４００に擬似欠点ウインド５００を近づけて比較するようにしてもよいし、欠点４００の一部と擬似欠点５０１の一部とを重ねて表示することにより比較するようにしてもよい。
【００７３】
また、欠点４００の大きさや階調などを、別々の擬似欠点ウインドに表示させるようにしてもよいし、１つの擬似欠点ウインドの中に含めて表示させるようにしてもよい。
【００７４】
このように、実際に使用する状態（投射型表示装置１０００（プロジェクター）によってスクリーン１３００に画像を投射して見る状態）で欠点４００を評価するので、例えば、ＣＣＤカメラを用いて液晶装置１００の欠点４００を撮像し、撮像した画像と擬似欠点の画像とを比較する方法と比較して、ＣＣＤカメラの解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点４００の評価を行うことができる。
【００７５】
次に、図７を参照しながら、擬似欠点ウインド５００の表示を、投射された投射画像３０１の中央領域４５０と、中央領域４５０より外側の周辺領域４６０とによって切り替える機能について説明する。
【００７６】
図７（ａ）に示すように、欠点４００が周辺領域４６０にある場合を説明する。この場合、上記したように、ファンクションキーを押して、登録された限度見本となる擬似欠点ウインド５００を表示させる。
【００７７】
次に、擬似欠点ウインド５００を第１ポジション４１０から周辺領域４６０の第２ポジション４２０に移動させる。ここで、擬似欠点ウインド５００を欠点４００に近づけて比較したり、欠点４００に重ねたりして比較する。
【００７８】
この後、図７（ｂ）に示すように、中央領域４５０にある欠点４０１の評価を行う。まず、擬似欠点ウインド５００を周辺領域４６０から中央領域４５０に移動する。このとき、周辺領域用の擬似欠点ウインド５００から中央領域用の擬似欠点ウインド５００ａに表示を切り替える。
【００７９】
具体的には、例えば、中央領域４５０にある欠点４０１が周辺領域４６０にある欠点４００と比較して、欠点が目立つことによる限度が厳しい場合、擬似欠点ウインド５００を中央領域４５０に移動した際、擬似欠点５０２の大きさが小さくなる。また、擬似欠点５０２の階調が変わるようにしてもよい。なお、中央領域４５０と周辺領域４６０とは、ＸとＹとの座標で区分けされるようになっている。
【００８０】
このように、周辺領域４６０と中央領域４５０とにおいて、それぞれ別々に擬似欠点ウインド５００，５００ａを登録しておくことにより、欠点４００，４０１のある領域に擬似欠点ウインド５００が差し掛かると、その領域にあった限度規格の擬似欠点５０１，５０２に変更される。よって、煩わしい操作を必要とすることなく、欠点４００，４０１の評価を行うことができる。
【００８１】
以上詳述したように、本実施形態の欠点評価システム２００、及び欠点４００，４０１の評価方法によれば、以下に示す効果が得られる。
【００８２】
（１）本実施形態の欠点評価システム２００及び欠点４００，４０１の評価方法によれば、投射型表示装置１０００によって画像をスクリーン１３００に投射し、スクリーン１３００上で擬似欠点ウインド５００を任意の位置（欠点４００，４０１の近く）に移動表示して欠点４００，４０１と擬似欠点５０１とを比較するので、例えば、従来のようにカメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点４００，４０１の評価を行うことができる。また、擬似欠点５０１を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、スクリーン１３００に投射した投射画像３０１を見ながら評価を行うので、例えば、投射型表示装置１０００（プロジェクター）の光源（ランプユニット１１０１）の温度が液晶装置１００に加わった状態（実使用条件）で発生する欠点４００，４０１の評価を行うことができる。
【００８３】
（２）本実施形態の欠点評価システム２００及び欠点４００，４０１の評価方法によれば、中央領域４５０と周辺領域４６０とによって擬似欠点５０１の表示を変えるので、例えば、中央領域４５０と周辺領域４６０で欠点４００，４０１の限度が異なるような場合など、要望に合った評価を行うことができる。
【００８４】
なお、本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、本発明の技術範囲に含まれるものである。また、以下のような形態で実施することもできる。
【００８５】
（変形例１）
上記したように、評価する欠点４００，４０１の具体例として、欠点４００，４０１の大きさや階調などを評価することに加えて、図８に示すような、欠点４０１が集まっている（近接する）場合の評価を行うようにしてもよい。図８は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図８に示す投射画像３１１は、第１欠点４０１ａと第２欠点４０１ｂとの間の距離Ｗ１の評価を行っている。
【００８６】
例えば、投射画像３１１の第１欠点４０１ａと第２欠点４０１ｂとの間の距離Ｗ１と、擬似欠点ウインド５１０の第１擬似欠点５０１ａと第２擬似欠点５０１ｂとの間の距離Ｗ２とを比較して、欠点４０１ａ，４０１ｂの距離Ｗ１の間隔が広ければ良品と判断し、距離Ｗ１の間隔が狭ければ、欠点４０１ａ，４０１ｂが目立つため不良品と判断する。これによれば、欠点４０１ａ，４０１ｂが複数集まっている場合の評価を行うことができる。
【００８７】
（変形例２）
上記したように、評価する欠点４００，４０１の具体例として、欠点４００，４０１の大きさや階調などを評価することに加えて、図９に示すような、各色ごと単色で評価を行うように擬似欠点を各色ごと登録しておくようにしてもよい。図９は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図９に示す投射画像３１２は、Ｒ用の擬似欠点ウインド５２０、Ｇ用の擬似欠点ウインド５３０、Ｂ用の擬似欠点ウインド５４０を表示している。このように、各色ごと別々に擬似欠点ウインド５２０，５３０，５４０を登録しておくことにより、色ごとの規格に対して欠点の評価を行うことができる。
【００８８】
（変形例３）
上記したように、擬似欠点ウインド５００を欠点４００，４０１に近づけたり重ね合わせたりして評価することに限定されず、例えば、図１０に示すようにして評価するようにしてもよい。図１０は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図１０に示す投射画像３１３は、擬似欠点ウインド５００を回転させて、向きが変わった擬似欠点５０１と欠点４００とを比較している。これによれば、特に、欠点４００が対称性のない形状だった場合、欠点４００と擬似欠点５０１の形状が揃うように、擬似欠点ウインド５００を回転させることにより、欠点４００の評価をより精度高く行うことができる。
【００８９】
（変形例４）
上記したように、擬似欠点５０１の階調は、投射画像３０１の階調が変化した場合でも、所定の階調である中間調になるように補正するようにしてもよい。なお、補正する補正動作機能は、例えば、上記したチェッカー２１０に備えられている。これによれば、基準となる擬似欠点５０１の階調が変わることがないので、ラスター画面にして擬似欠点５０１の階調が振られた場合でも、安定した評価を行うことができる。また、擬似欠点５０１が中間調であることに限定されず、投射画像３０１によって階調を変えるようにしてもよい。
【００９０】
（変形例５）
上記したように、電気光学装置は、液晶装置１００に限定されず、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマ装置、シリコン基板を用いた半導体装置などに適用するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００９１】
３ａ…走査線、３ｂ…容量線、６ａ…データ線、１０…素子基板、１５…画素電極、１６…保持容量、１８…第１配向膜、２０…対向基板、２１…額縁遮光膜、２２…層間膜、２３…共通電極、２４…第２配向膜、３０…ＴＦＴ、４０…シール材、５０…液晶層、１００…電気光学装置としての液晶装置、１０１…データ線駆動回路、１０２…走査線駆動回路、１０３…検査回路、１０４…外部接続端子、１０５…配線、１０６…上下導通部、２００…欠点評価システム、２１０…チェッカー、３０１，３１１，３１２，３１３…投射画像、４００，４０１…欠点、４０１ａ…第１欠点、４０１ｂ…第２欠点、４１０…第１ポジション、４２０…第２ポジション、４５０…中央領域、４６０…周辺領域、５００，５００ａ，５１０，５２０，５３０，５４０…擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド、５０１，５０２…擬似欠点、５０１ａ…第１擬似欠点、５０１ｂ…第２擬似欠点、１０００…投射部としての投射型表示装置、１１００…偏光照明装置、１１０１…ランプユニット、１１０２…インテグレーターレンズ、１１０３…偏光変換素子、１１０４，１１０５…ダイクロイックミラー、１１０６，１１０７，１１０８…反射ミラー、１２０１，１２０２，１２０３，１２０４，１２０５…リレーレンズ、１２０６…クロスダイクロイックプリズム、１２０７…投射レンズ、１２１０，１２２０，１２３０…液晶ライトバルブ、１３００…スクリーン。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置の画像を投射する投射部と、
投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する擬似欠点表示部と、
を備えることを特徴とする欠点評価システム。
【請求項２】
請求項１に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることを特徴とする欠点評価システム。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、前記投射画像の階調が変化したとき所定の階調になるように調整されることを特徴とする欠点評価システム。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を別々に表示することを特徴とする欠点評価システム。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２点の擬似欠点を表示することを特徴とする欠点評価システム。
【請求項６】
電気光学装置の画像を投射する投射工程と、
投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する表示工程と、
前記投射画像の欠点と前記擬似欠点とを比較して前記欠点が良品であるか否かを評価する評価工程と、
を有することを特徴とする欠点の評価方法。
【請求項７】
請求項６に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることを特徴とする欠点の評価方法。
【請求項８】
請求項６又は請求項７に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、前記投射画像の階調が変化したとき、前記擬似欠点の階調を所定の階調に調整することを特徴とする欠点の評価方法。
【請求項９】
請求項６乃至請求項８のいずれか一項に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を表示することを特徴とする欠点の評価方法。
【請求項１０】
請求項６乃至請求項９のいずれか一項に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２つの擬似欠点を表示することを特徴とする欠点の評価方法。
【請求項１】
電気光学装置の画像を投射する投射部と、
投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する擬似欠点表示部と、
を備えることを特徴とする欠点評価システム。
【請求項２】
請求項１に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることを特徴とする欠点評価システム。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、前記投射画像の階調が変化したとき所定の階調になるように調整されることを特徴とする欠点評価システム。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を別々に表示することを特徴とする欠点評価システム。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２点の擬似欠点を表示することを特徴とする欠点評価システム。
【請求項６】
電気光学装置の画像を投射する投射工程と、
投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する表示工程と、
前記投射画像の欠点と前記擬似欠点とを比較して前記欠点が良品であるか否かを評価する評価工程と、
を有することを特徴とする欠点の評価方法。
【請求項７】
請求項６に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることを特徴とする欠点の評価方法。
【請求項８】
請求項６又は請求項７に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、前記投射画像の階調が変化したとき、前記擬似欠点の階調を所定の階調に調整することを特徴とする欠点の評価方法。
【請求項９】
請求項６乃至請求項８のいずれか一項に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を表示することを特徴とする欠点の評価方法。
【請求項１０】
請求項６乃至請求項９のいずれか一項に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２つの擬似欠点を表示することを特徴とする欠点の評価方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１３−３６８２７（Ｐ２０１３−３６８２７Ａ）
【公開日】平成２５年２月２１日（２０１３．２．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１７２６３９（Ｐ２０１１−１７２６３９）
【出願日】平成２３年８月８日（２０１１．８．８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月２１日（２０１３．２．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月８日（２０１１．８．８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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