液晶パネルの製造方法、液晶パネルの製造装置
【課題】修正操作性に優れた方法を採用した場合においても、タクトタイムを増大させることなく、効率的な処理を実現することが可能な修正工程を備えた液晶パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の液晶パネルの製造方法は、第１の欠陥基板３０Ａが修正処理室５０内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出し、経過時間Ｔ１が予め定められた基準時間Ｔ０よりも短い場合に、第１の欠陥基板３０Ａを修正処理室５０から搬出せずに修正処理室５０内に待機させ、基準時間Ｔ０が経過した後に、第１の欠陥基板３０Ａの搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板３０Ｂの搬入とを同時に行う修正工程を含むことを特徴とする。
【解決手段】本発明の液晶パネルの製造方法は、第１の欠陥基板３０Ａが修正処理室５０内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出し、経過時間Ｔ１が予め定められた基準時間Ｔ０よりも短い場合に、第１の欠陥基板３０Ａを修正処理室５０から搬出せずに修正処理室５０内に待機させ、基準時間Ｔ０が経過した後に、第１の欠陥基板３０Ａの搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板３０Ｂの搬入とを同時に行う修正工程を含むことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルの製造方法、液晶パネルの製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶等の表示素子部品の修正装置として、例えば特許文献１に開示されたものが公知である。具体的には、特許文献１に開示された部品修正装置は、移動および停止を繰り返しながらカラーフィルタを搬送するステージと、ステージによって搬送されるカラーフィルタに対して欠陥部への液滴の塗布を行う液滴塗布機構ユニットとを備えている。この液滴塗布ユニットは、ステージによるカラーフィルタの搬送停止中にカラーフィルタに対して液滴の塗布を行うものとしている。
【特許文献１】特開２００７−１０１７５８公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このようなステージによるカラーフィルタの搬送停止中に修正を行う場合、搬送途上において修正を行うため、修正対象であるカラーフィルタの移動・操作やその修正内容が限定される場合がある。そこで、搬送部と修正部とを別個に構成し、搬送部によりカラーフィルタ等の修正対象物を修正部に順次搬入・搬出を繰り返すようにした技術も知られている。
【０００４】
ところが、この場合、修正対象物の欠陥個数の相違や群欠陥（所定領域に形成された欠陥の集合）の有無によって、個々の修正対象物の修正に係る時間（タクトタイム）が増減し得る。例えば、欠陥個数が少なく、修理部での処理時間が大幅に短くなると、搬出部が次の修正対象物を用意できずに、搬入と搬出を別動作で行う場合があり、エクスチェンジ動作に失敗する確率が高くなる。この失敗によって、タクトタイムが大幅に増加するという問題が生じる場合がある。
【０００５】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであって、修正操作性に優れた方法を採用した場合においても、タクトタイムを増大させることなく、効率的な処理を実現することが可能な修正工程を備えた液晶パネルの製造方法、及び修正装置を備えた液晶パネルの製造装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の液晶パネルの製造方法は、面内に複数の要素を配置した液晶用基板からなる液晶パネルの製造方法であって、前記要素の欠陥を検出する欠陥検出工程と、欠陥が検出された欠陥基板を修正する修正工程と、を含み、前記修正工程において、前記欠陥基板を修正する修正処理室に対して、前記欠陥基板の搬入と搬出を行うことで、前記欠陥基板を順次修正するものとし、第１の欠陥基板が前記修正処理室内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出し、前記経過時間Ｔ１が予め定められた基準時間Ｔ０よりも短い場合に、前記第１の欠陥基板を前記修正処理室から搬出せずに前記修正処理室内に待機させ、前記基準時間Ｔ０が経過した後に、前記第１の欠陥基板の搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板の搬入とを同時に行うことを特徴とする。
【０００７】
このような製造方法によると、修正処理室における処理時間が短い欠陥基板に関して、修正処理が終わっても修正処理室から搬出せずに、欠陥基板を修正処理室に待機させてから搬出するものとしているため、後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）が修正処理可能な状態になるまで、つまり後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）が搬入可能な状態になるまで、先行の欠陥基板（第１の欠陥基板）を待機させ、先行の第１の欠陥基板の搬出と、後行の第２の欠陥基板の搬入とを同時に行うことができるようになる。そして、このような搬送動作を継続可能となるため、エクスチェンジ動作の失敗確率が低くなり、修正に係る時間（タクトタイム）を増大させるような不具合が生じ難いものとなる。
【０００８】
上記製造方法において、前記液晶用基板が、前記複数の要素として複数の着色部を備えたカラーフィルタ基板であるものとすることができる。
このようなカラーフィルタ基板は、各着色部において欠陥が生じやすく、基板毎に欠陥個数の大小や群欠陥の有無が相違するため、本発明に係る製造方法を採用することが特に好ましい。
【０００９】
前記欠陥検出工程が、前記欠陥として、前記カラーフィルタ基板の着色部における混色、或いは色抜けの少なくともいずれかを検出するものとすることができる。
カラーフィルタ基板の着色部は、混色や色抜け（着色がなされていないこと）が生じやすいため、本発明に係る製造方法を採用することが特に好ましい。
【００１０】
前記修正処理室は、欠陥を備えた前記要素に対してインクジェット法により当該要素を再構築するものであるものとすることができる。
このようなインクジェット法により、欠陥を備えた要素の再構築を非常に簡便に行うことができるようになる。
【００１１】
一方、上記課題を解決するために、本発明の液晶パネルの製造装置は、面内に複数の要素を配置した液晶用基板からなる液晶パネルを製造する製造装置であって、前記要素の欠陥を検出する欠陥検出装置と、欠陥が検出された欠陥基板を修正する修正装置と、を含み、前記修正装置は、前記欠陥基板を修正する修正処理室と、前記修正処理室に対して、欠陥基板の搬入と搬出を行う基板搬送装置と、予め定められた基準時間Ｔ０を記憶する記憶装置と、第１の欠陥基板が前記修正処理室内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出する経過時間算出装置と、前記経過時間Ｔ１が前記基準時間Ｔ０よりも短い場合に、前記第１の欠陥基板を前記修正装置から搬出せずに前記修正処理室内に待機させ、前記基準時間Ｔ０が経過した後に、前記第１の欠陥基板の搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板の搬入とを同時に行う制御を実行する制御装置と、を有することを特徴とする。
【００１２】
このような製造装置によると、修正処理室における処理時間が短い欠陥基板に関して、修正処理が終わっても修正処理室から搬出せずに、欠陥基板を修正処理室に待機させてから搬出する制御を行うものとしているため、後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）が修正処理可能な状態になるまで、つまり後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）が搬入可能な状態になるまで、先行の欠陥基板（第１の欠陥基板）を待機させ、先行の欠陥基板（第１の欠陥基板）の搬出と、後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）の搬入とを同時に行うことができるようになる。そして、このような搬送動作を継続可能となるため、エクスチェンジ動作の失敗確率が低くなり、修正に係る時間（タクトタイム）を増大させるような不具合が生じ難いものとなる。
【００１３】
前記液晶用基板が、前記複数の要素として複数の着色部を備えたカラーフィルタ基板であるものとすることができる。
このようなカラーフィルタ基板は、各着色部において欠陥が生じやすく、基板毎に欠陥個数の大小や群欠陥の有無が相違するため、本発明に係る製造装置を採用することが特に好ましい。
【００１４】
前記欠陥検出装置が、前記欠陥として、前記カラーフィルタ基板の着色部における混色、或いは色抜けの少なくともいずれかを検出するものとすることができる。
カラーフィルタ基板の着色部は、混色や色抜け（着色がなされていないこと）が生じやすいため、本発明に係る製造方法を採用することが特に好ましい。
【００１５】
前記修正装置は、前記修正処理室において、欠陥を備えた前記要素に対してインクジェット法により当該要素を再構築するインクジェット装置を有するものとすることができる。
このようなインクジェット装置により、欠陥を備えた要素の再構築を非常に簡便に行うことができるようになる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明により、修正操作性に優れた方法を採用した場合においても、タクトタイムを増大させることなく、効率的な処理を実現することが可能な修正工程を備えた液晶パネルの製造方法、及び液晶パネルの製造装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明に係る実施形態について説明する。
図１は本発明に係る製造方法ないし製造装置により製造された液晶パネルを備える液晶表示装置（液晶装置）について、その概略構成を分解して示す斜視図、図２は同液晶表示装置の概略構成を示す断面図、図３は同液晶表示装置の要部構成（液晶パネルの一部分）について示す断面図である。
【００１８】
図１及び図２に示した液晶表示装置１０は、矩形をなす液晶パネル１１と、外部光源であるバックライト装置１２とを備え、これらがベゼル１３などにより一体的に保持されるようになっている。
バックライト装置１２は、所謂直下型のバックライト装置であって、液晶パネル１１のパネル面（表示面）の背面直下に、当該パネル面に沿って光源（ここでは冷陰極管１７）が並列配置された構成を具備している。バックライト装置１２は、上面側が開口した矩形の略箱型をなす金属製のシャーシ１４と、シャーシ１４の開口部を覆うようにして取り付けられる複数の光学部材１５（図示下側から順に拡散板、拡散シート、レンズシート、光学シート）と、これら光学部材１５をシャーシ１４に保持するためのフレーム１６と、シャーシ１４内に収容されるランプである冷陰極管１７と、冷陰極管１７の両端部を保持するためのゴム製（例えばシリコンゴム製）のホルダ１８と、冷陰極管１７群及びホルダ１８群を一括して覆うランプホルダ１９と、冷陰極管１７における両端部を除いた途中の部分を保持するためのランプクリップ２０とを備える。
【００１９】
液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板３０，４０が所定のギャップを隔てた状態で貼り合わせられるとともに、両基板３０，４０間に液晶が封入された構成とされ、当該液晶により液晶層５０が形成されている。
基板４０は素子基板（アクティブマトリクス基板）であって、ガラス基板４１と、ガラス基板４１の液晶層５０側に形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）６０と、当該薄膜トランジスタ６０に対して電気的に接続された画素電極４４と、これら薄膜トランジスタ６０及び画素電極４４の液晶層５０側に形成された配向膜４５と、を備えている。また、ガラス基板４１の液晶層５０側とは反対側には偏光板４２が配されている。
【００２０】
画素電極４４は例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電膜からなり、素子基板４０の液晶層５０側にマトリクス状のパターンで形成されている。詳しくは、薄膜トランジスタ６０のドレイン電極（図示略）と接続され、当該薄膜トランジスタ６０のスイッチング作動により選択的に電圧が印加されるものとなっている。また、配向膜４５は例えばポリイミドのラビング配向膜から構成されており、偏光板４２は例えば透明フィルムにヨウ素や染料を染み込ませたものを、一方向に延伸してなるものを採用している。
【００２１】
一方、基板３０はカラーフィルタ基板（対向基板）であって、ガラス基板３１と、ガラス基板３１の液晶層５０側に形成され、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各色光を選択的に透過可能な着色部Ｒ，Ｇ，Ｂを備えたカラーフィルタ３３と、カラーフィルタ３３の液晶層５０側に形成された共通電極３４と、共通電極３４の液晶層５０側に形成された配向膜３５と、を備えている。また、ガラス基板３１の液晶層５０側とは反対側には偏光板３２が配されている。
【００２２】
カラーフィルタ３３は、着色部Ｒ，Ｇ，Ｂの境界に配されたブラックマトリクスＢＭを備え、当該ブラックマトリクスＢＭは素子基板４０の非画素部（つまり薄膜トランジスタ６０が形成された領域）を覆うように、当該非画素部に重畳して配されている。また、共通電極３４は例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電膜からなり、対向基板３０の液晶層５０側に全面ベタ状に形成されている。また、配向膜３５は例えばポリイミドのラビング配向膜から構成されており、偏光板３２は例えば透明フィルムにヨウ素や染料を染み込ませたものを、一方向に延伸してなるものを採用している。
【００２３】
このような液晶表示装置１０の液晶パネル１１は、下記のような修正工程を経て製造されるものとなっている。なお、当該液晶パネル１１の素子基板４０及びカラーフィルタ基板３０を作成する工程は、公知の方法が採用されており、この公知の方法により作成された基板に対して所定の欠陥検査工程を行った後、欠陥が検出された場合に修正工程を行うものとしている。
【００２４】
修正工程では、図４に示すようなインクジェット装置１００を含む修正装置２００（図５）により、欠陥の修正を行うものとしている。
図４は修正装置２００が備えるインクジェット装置１００の概略構成を示し、図５は液晶装置の製造装置３００の一部である修正装置２００のブロック図を示している。また、図６は、修正装置２００の主制御装置１１０が実行する制御内容を示すフロー図、図７〜図９は、基板搬送処理を模式的に示す説明図である。
なお、以下では、カラーフィルタ基板３０の着色部Ｒ，Ｇ，Ｂにおける混色或いは色抜け（着色がなされていない場合）等の欠陥を修正する場合について説明するものとする。
【００２５】
図５に示した修正装置２００は、欠陥検出装置１９０により検出された欠陥の位置等を表す欠陥データに基づいて、インクジェット装置１００により欠陥基板３０の欠陥を修正するものである。なお、インクジェット装置１００による欠陥修正に先立って、レーザ照射等により欠陥部分の着色部を除去する除去工程を行うものとしている。
【００２６】
図４に示すように、インクジェット装置１００は、定盤１２０と、定盤１２０の上面にＹ軸方向に往復移動可能に設けられたステージ１０２と、定盤１２０上に固定して架設された走査基台１０８と、走査基台１０８に対してＸ軸方向に往復移動可能に設けられた修正処理部（インクジェットヘッド）１０３と、この修正処理部１０３に一体に取り付けられた観察カメラ１０４とを備えている。
【００２７】
ステージ１０２のＸＹ平面に沿った上面には、基板搬送装置（搬入装置兼搬出装置；図５参照）１７０によって、平板状の基板（欠陥基板）３０が載置されている。このステージ１０２は、図示しないスクリューシャフト等を介して主走査軸としてのＹ軸駆動モータ１０６と連結されている。ステージ１０２は、Ｙ軸駆動モータ１０６による駆動に伴って、Ｙ軸方向に延びる図示しない一対のガイドレールに案内されて、Ｙ軸方向に往復移動する。ステージ１０２自体は、定盤１２０上で基板３０の直交２軸の位置と姿勢を制御するための図示しないＸＹθ軸を備える。
【００２８】
走査基台１０８は、定盤１２０の上面のうちステージ１０２のＹ軸方向の移動経路の両側に相当する位置に立設された一対のコラム部１０８ａ，１０８ｂと、そのコラム部１０８ａ，１０８ｂの頂部に架けわたされたビーム部１０８ｃとを有する。ビーム部１０８ｃには、スライダ１０９がＸ軸方向に往復移動可能に取り付けられている。このスライダ１０９は、コラム部１０８ａの頂部に設けられた副走査軸としてのＸ軸駆動モータ１０７による駆動に伴って、Ｘ軸方向に往復移動する。
【００２９】
メイン処理部としての修正処理部１０３は、Ｘ軸方向に往復移動可能なスライダ１０９を介して走査基台１０８に取り付けられている。この例では、修正処理部１０３は、着色部（要素）Ｒ，Ｇ，Ｂの修正処理を行うために、基板３０上に着色材料を塗布する装置である。修正処理部１０３は、Ｙ軸駆動モータ１０６とＸ軸駆動モータ１０７によってＹ軸方向とＸ軸方向に移動されるとともに、塗布タイミングに合わせて図示しないノズルから着色材料を吐出するように、後述する主制御装置１１０（図５参照）によって制御される。この制御に応じて、修正処理部１０３のノズルから基板３０上の処理目標へ向けて着色材料が吐出される（修正処理）。
【００３０】
観察カメラ１０４は、修正処理部１０３による基板３０上の修正箇所をレビュー（点検）するために設けられている。そのため、観察カメラ１０４のための照明（レンズを含む）１０５は下方へ向けられている。観察カメラ１０４によって撮影された画像は、次に述べるモニタ１１５（図５参照）に表示される。
【００３１】
図５に示すように、この修正装置２００は、主制御装置１１０と、この主制御装置１１０によって参照される記憶装置１１１と、画像処理部１１２と、ステージ制御部１１３と、基板位置決め制御部１１４と、モニタ１１５と、基板搬入後の経過時間をカウントするタイマ１１６とを備えている。主制御装置１１０は、ＣＰＵ（中央処理ユニット）からなり、この修正装置２００全体の制御を行う。記憶装置１１１は、この例ではハードディスクドライブからなり、本実施形態では、例えば先行する第１の基板が搬入された後、後行する次の第２の基板について搬入準備が整うまでの時間（基準時間）Ｔ０が必要な情報の一つとして記憶されている。
【００３２】
画像処理部１１２は、観察カメラ１０４が撮影した画像を処理するとともに、良好な画像が得られるように照明１０５を制御する。ステージ制御部１１３は、主走査軸としてのＹ軸駆動モータ１０６と副走査軸としてのＸ軸駆動モータ１０７とを制御する。基板位置決め制御部１１４は、図示しないＸＹθ軸を介して、定盤１２０上で基板３０の直交２軸の位置と姿勢を制御する。なお、主制御装置１１０は、サブ処理実行可否判定部および制御部として働くとともに、モニタ１１５と協働して処理結果表示部として働く。
【００３３】
図７〜図９は、基板搬送装置１７０の構成とその搬送態様を示している。この基板搬送装置１７０は、インクジェット装置１００を搭載した修正処理室５０に対して、基板３０を搬入・搬出するものであり、基板３０を把持して修正処理室５０に搬入するためのアーム１７ｃと、同じく基板３０を把持して修正処理室５０から搬出するためのアーム１７ｂと、これらアーム１７ｂ，１７ｃを操作する搬送主体１７ａと、を備えている。なお、修正処理室５０はシャッター５１を具備し、基板３０の搬入・搬出のタイミングに併せて開閉可能な構成となっている。
【００３４】
図６は、この修正装置２００の主制御装置１１０による処理フローを示している。
図６中のステップＳ１で、前工程（欠陥検出工程）から送られてきた第１の基板３０Ａ（３０）を修正処理室５０（つまり修正処理を行う工程；図７参照）に搬入する（基板搬入処理）。この基板搬入処理では、主制御装置１１０は、基板搬送装置（搬入装置兼搬出装置）１７０を駆動して、基板３０Ａをインクジェット装置１００のステージ１０２上に搬入して載置させる。ステージ１０２に載置された基板３０Ａは、主制御装置１１０により制御された基板位置決め制御部１１４によって、ステージ１０２に位置決め固定される。
【００３５】
次にステップＳ２では、アライメント処理を行う。このアライメント処理では、基板３０Ａの上面に形成されたアライメントマークを撮像するために、主制御装置１１０は、ステージ制御部１１３を介して、主走査軸１０６と副走査軸１０７を制御する。これにより、観察カメラ１０４がアライメントマークを撮像可能な位置に移動することとなる。画像処理部１１２は、撮像したマーク位置を計測して、ＸＹθ軸の補正量を算出する。主制御装置１１０は、その算出値に応じて基板位置決め制御部１１４へ移動指令を行って、ステージ１０２の姿勢を制御する。
【００３６】
次にステップＳ３で、主制御装置１１０からの指令に基づいて、修正処理部１０３がステージ１０２上の基板３０Ａに対して修正処理を行う。この実施形態では、主制御装置１１０は、上流工程（つまり欠陥検出装置１９０で欠陥検出する工程）で得られた基板３０Ａ上の欠陥データについて、これを記憶しておいた欠陥データサーバ（図示略）から読み出し、その欠陥データに応じて修正処理部１０３及びステージ制御部１１３へ処理指令を送る。
【００３７】
具体的には、主制御装置１１０は、修正処理部１０３をその欠陥の直上の位置へ移動させるため、欠陥データに基づいて主走査軸１０６と副走査軸１０７の絶対位置指令値あるいは相対移動指令値を算出して、ステージ制御部１１３へ送る。欠陥の直上の位置に移動した修正処理部１０３によって、その欠陥に対して修正処理が行われる。このようにして、修正処理部１０３をＹ軸方向とＸ軸方向に移動させながら、基板３０Ａが有する全ての欠陥に対して修正処理が行われる。
【００３８】
次にステップＳ４では、主制御装置１１０はタイマ１１６から基板３０Ａの搬入後の経過時間Ｔ１を算出する。そしてステップＳ５で、読み取った経過時間Ｔ１と記憶装置１１に予め記憶したＴ０とを比較判定する。
【００３９】
ステップＳ５において、Ｔ１がＴ０よりも小さいと判定された場合、ステップＳ６に進み、Ｔ０が経過するまで基板３０Ａの搬出を待機する制御を行う（図７参照）。つまり、基板搬送装置１７０に対して、操作指令を行わない或いは操作待機指令を行い、次の欠陥基板（つまり第２の基板３０Ｂ）が修正処理室５０に搬送可能な状態となるまで、第１の基板３０Ａを修正処理室５０に待機させる。
【００４０】
一方、ステップＳ５において、Ｔ１がＴ０以上と判定された場合、或いはステップＳ５においてＴ１がＴ０よりも小さいと判定された場合であって、ステップＳ６においてＴ０が経過するまで基板３０Ａの搬出の待機を行った場合は、ステップＳ７に進み、基板３０Ａを修正処理室５０から搬出する（図８，図９参照）。このとき、次の欠陥基板（第２の基板３０Ｂ）が同時に修正処理室５０に搬入され、すなわち基板の搬出と搬入が同時に行われる。
【００４１】
この基板搬入搬出処理では、主制御装置１１０は、基板搬送装置（搬入装置兼搬出装置）１７０を駆動して、基板３０Ａを修正処理室５０から搬出するとともに、次の欠陥基板（第２の基板３０Ｂ）をステージ１０２上に搬入して載置させる。ステージ１０２に載置された第２の基板３０Ｂは、上記同様、主制御装置１１０により制御された基板位置決め制御部１１４によって、ステージ１０２に位置決め固定され、修正処理部１０３により必要な修正が施される。
【００４２】
以上のような搬送・搬出を繰り返し行いつつ、修正処理室５０にて欠陥の修正を順次行うことで、修正工程が実行されている。そして、欠陥が検出されたカラーフィルタ基板３０については、この修正工程を経た後、素子基板４０と貼り合わされ、液晶を介在させた状態で液晶パネル１１として供されることとなる。
【００４３】
以上のような本実施形態によると、液晶パネル１１を作成するに係り、上記修正工程を経るようにしており、その修正工程においては、修正処理室５０における処理時間が短い第１の基板３０Ａに関して、必要な修正処理が終わっても修正処理室５０から搬出を行わず、第１の基板３０Ａを修正処理室に待機させてから搬出するものとしているため、修正に係る時間が増大する不具合が生じ難いものとなっている。
【００４４】
具体的には、後行の第２の基板３０Ｂが修正処理可能な状態になるまで（つまり後行の第２の基板３０Ｂが修正処理室５０に搬入可能な状態になるまで）、先行の第１の基板３０Ａを待機させている。したがって、先行の第１の基板３０Ａの搬出と、後行の第２の基板３０Ｂの搬入とを同時に行うことができ、このような搬送（搬入・搬出）動作を継続して行うものとしているため、基板のエクスチェンジ動作の失敗確率が低くなり、修正に係る時間（タクトタイム）を増大させるような不具合が生じ難いものとなっている。
【００４５】
以上、本発明に係る実施の形態を説明したが、本発明はこのような実施の形態に限定されるものではなく、以下のような形態も本発明に含まれる。
【００４６】
（１）本実施形態では、カラーフィルタ基板の修正工程を示したが、面内に複数の要素を配置した液晶用基板、例えば要素として面内に複数のＴＦＴや画素を備える素子基板についても、ＴＦＴや画素の欠陥を修正する際に修正装置２００を用いて当該修正工程を採用することが可能である。
【００４７】
（２）本実施形態では、修正処理を行う主体としてインクジェット装置を示したが、例えばニードル方式やディスペンサー方式により着色材料（要素）を塗布する方法を採用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本実施形態の液晶表示装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】図１の液晶表示装置の概略構成を示す断面図。
【図３】図１の液晶表示装置の要部構成（液晶パネルの一部分）について示す断面図。
【図４】インクジェット装置の概略構成を示す概念図。
【図５】修正装置の構成を示すブロック図。
【図６】修正装置の主制御装置による処理フローを示す図。
【図７】基板搬送処理を模式的に示す説明図。
【図８】基板搬送処理を模式的に示す説明図。
【図９】基板搬送処理を模式的に示す説明図。
【符号の説明】
【００４９】
１０…液晶表示装置（液晶装置）、１１…液晶パネル、３０…基板（液晶用基板、カラーフィルタ基板）、３０Ａ…欠陥基板（第１の基板）、３０Ｂ…欠陥基板（第２の基板）、５０…修正処理室、１００…インクジェット装置、１０２…ステージ、１０３…修正処理部、１０４…観察カメラ、１１０…主制御装置（制御装置）、１１１…記憶装置、１１２…画像処理部、１１３…ステージ制御部、１１４…基板位置決め制御部、１１５…モニタ、１１６…タイマ（経過時間算出装置）、１７０…基板搬送装置、１９０…欠陥検出装置、２００…修正装置、３００…製造装置、Ｒ，Ｇ，Ｂ…着色部（要素）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルの製造方法、液晶パネルの製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶等の表示素子部品の修正装置として、例えば特許文献１に開示されたものが公知である。具体的には、特許文献１に開示された部品修正装置は、移動および停止を繰り返しながらカラーフィルタを搬送するステージと、ステージによって搬送されるカラーフィルタに対して欠陥部への液滴の塗布を行う液滴塗布機構ユニットとを備えている。この液滴塗布ユニットは、ステージによるカラーフィルタの搬送停止中にカラーフィルタに対して液滴の塗布を行うものとしている。
【特許文献１】特開２００７−１０１７５８公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このようなステージによるカラーフィルタの搬送停止中に修正を行う場合、搬送途上において修正を行うため、修正対象であるカラーフィルタの移動・操作やその修正内容が限定される場合がある。そこで、搬送部と修正部とを別個に構成し、搬送部によりカラーフィルタ等の修正対象物を修正部に順次搬入・搬出を繰り返すようにした技術も知られている。
【０００４】
ところが、この場合、修正対象物の欠陥個数の相違や群欠陥（所定領域に形成された欠陥の集合）の有無によって、個々の修正対象物の修正に係る時間（タクトタイム）が増減し得る。例えば、欠陥個数が少なく、修理部での処理時間が大幅に短くなると、搬出部が次の修正対象物を用意できずに、搬入と搬出を別動作で行う場合があり、エクスチェンジ動作に失敗する確率が高くなる。この失敗によって、タクトタイムが大幅に増加するという問題が生じる場合がある。
【０００５】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであって、修正操作性に優れた方法を採用した場合においても、タクトタイムを増大させることなく、効率的な処理を実現することが可能な修正工程を備えた液晶パネルの製造方法、及び修正装置を備えた液晶パネルの製造装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の液晶パネルの製造方法は、面内に複数の要素を配置した液晶用基板からなる液晶パネルの製造方法であって、前記要素の欠陥を検出する欠陥検出工程と、欠陥が検出された欠陥基板を修正する修正工程と、を含み、前記修正工程において、前記欠陥基板を修正する修正処理室に対して、前記欠陥基板の搬入と搬出を行うことで、前記欠陥基板を順次修正するものとし、第１の欠陥基板が前記修正処理室内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出し、前記経過時間Ｔ１が予め定められた基準時間Ｔ０よりも短い場合に、前記第１の欠陥基板を前記修正処理室から搬出せずに前記修正処理室内に待機させ、前記基準時間Ｔ０が経過した後に、前記第１の欠陥基板の搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板の搬入とを同時に行うことを特徴とする。
【０００７】
このような製造方法によると、修正処理室における処理時間が短い欠陥基板に関して、修正処理が終わっても修正処理室から搬出せずに、欠陥基板を修正処理室に待機させてから搬出するものとしているため、後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）が修正処理可能な状態になるまで、つまり後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）が搬入可能な状態になるまで、先行の欠陥基板（第１の欠陥基板）を待機させ、先行の第１の欠陥基板の搬出と、後行の第２の欠陥基板の搬入とを同時に行うことができるようになる。そして、このような搬送動作を継続可能となるため、エクスチェンジ動作の失敗確率が低くなり、修正に係る時間（タクトタイム）を増大させるような不具合が生じ難いものとなる。
【０００８】
上記製造方法において、前記液晶用基板が、前記複数の要素として複数の着色部を備えたカラーフィルタ基板であるものとすることができる。
このようなカラーフィルタ基板は、各着色部において欠陥が生じやすく、基板毎に欠陥個数の大小や群欠陥の有無が相違するため、本発明に係る製造方法を採用することが特に好ましい。
【０００９】
前記欠陥検出工程が、前記欠陥として、前記カラーフィルタ基板の着色部における混色、或いは色抜けの少なくともいずれかを検出するものとすることができる。
カラーフィルタ基板の着色部は、混色や色抜け（着色がなされていないこと）が生じやすいため、本発明に係る製造方法を採用することが特に好ましい。
【００１０】
前記修正処理室は、欠陥を備えた前記要素に対してインクジェット法により当該要素を再構築するものであるものとすることができる。
このようなインクジェット法により、欠陥を備えた要素の再構築を非常に簡便に行うことができるようになる。
【００１１】
一方、上記課題を解決するために、本発明の液晶パネルの製造装置は、面内に複数の要素を配置した液晶用基板からなる液晶パネルを製造する製造装置であって、前記要素の欠陥を検出する欠陥検出装置と、欠陥が検出された欠陥基板を修正する修正装置と、を含み、前記修正装置は、前記欠陥基板を修正する修正処理室と、前記修正処理室に対して、欠陥基板の搬入と搬出を行う基板搬送装置と、予め定められた基準時間Ｔ０を記憶する記憶装置と、第１の欠陥基板が前記修正処理室内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出する経過時間算出装置と、前記経過時間Ｔ１が前記基準時間Ｔ０よりも短い場合に、前記第１の欠陥基板を前記修正装置から搬出せずに前記修正処理室内に待機させ、前記基準時間Ｔ０が経過した後に、前記第１の欠陥基板の搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板の搬入とを同時に行う制御を実行する制御装置と、を有することを特徴とする。
【００１２】
このような製造装置によると、修正処理室における処理時間が短い欠陥基板に関して、修正処理が終わっても修正処理室から搬出せずに、欠陥基板を修正処理室に待機させてから搬出する制御を行うものとしているため、後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）が修正処理可能な状態になるまで、つまり後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）が搬入可能な状態になるまで、先行の欠陥基板（第１の欠陥基板）を待機させ、先行の欠陥基板（第１の欠陥基板）の搬出と、後行の欠陥基板（第２の欠陥基板）の搬入とを同時に行うことができるようになる。そして、このような搬送動作を継続可能となるため、エクスチェンジ動作の失敗確率が低くなり、修正に係る時間（タクトタイム）を増大させるような不具合が生じ難いものとなる。
【００１３】
前記液晶用基板が、前記複数の要素として複数の着色部を備えたカラーフィルタ基板であるものとすることができる。
このようなカラーフィルタ基板は、各着色部において欠陥が生じやすく、基板毎に欠陥個数の大小や群欠陥の有無が相違するため、本発明に係る製造装置を採用することが特に好ましい。
【００１４】
前記欠陥検出装置が、前記欠陥として、前記カラーフィルタ基板の着色部における混色、或いは色抜けの少なくともいずれかを検出するものとすることができる。
カラーフィルタ基板の着色部は、混色や色抜け（着色がなされていないこと）が生じやすいため、本発明に係る製造方法を採用することが特に好ましい。
【００１５】
前記修正装置は、前記修正処理室において、欠陥を備えた前記要素に対してインクジェット法により当該要素を再構築するインクジェット装置を有するものとすることができる。
このようなインクジェット装置により、欠陥を備えた要素の再構築を非常に簡便に行うことができるようになる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明により、修正操作性に優れた方法を採用した場合においても、タクトタイムを増大させることなく、効率的な処理を実現することが可能な修正工程を備えた液晶パネルの製造方法、及び液晶パネルの製造装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明に係る実施形態について説明する。
図１は本発明に係る製造方法ないし製造装置により製造された液晶パネルを備える液晶表示装置（液晶装置）について、その概略構成を分解して示す斜視図、図２は同液晶表示装置の概略構成を示す断面図、図３は同液晶表示装置の要部構成（液晶パネルの一部分）について示す断面図である。
【００１８】
図１及び図２に示した液晶表示装置１０は、矩形をなす液晶パネル１１と、外部光源であるバックライト装置１２とを備え、これらがベゼル１３などにより一体的に保持されるようになっている。
バックライト装置１２は、所謂直下型のバックライト装置であって、液晶パネル１１のパネル面（表示面）の背面直下に、当該パネル面に沿って光源（ここでは冷陰極管１７）が並列配置された構成を具備している。バックライト装置１２は、上面側が開口した矩形の略箱型をなす金属製のシャーシ１４と、シャーシ１４の開口部を覆うようにして取り付けられる複数の光学部材１５（図示下側から順に拡散板、拡散シート、レンズシート、光学シート）と、これら光学部材１５をシャーシ１４に保持するためのフレーム１６と、シャーシ１４内に収容されるランプである冷陰極管１７と、冷陰極管１７の両端部を保持するためのゴム製（例えばシリコンゴム製）のホルダ１８と、冷陰極管１７群及びホルダ１８群を一括して覆うランプホルダ１９と、冷陰極管１７における両端部を除いた途中の部分を保持するためのランプクリップ２０とを備える。
【００１９】
液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板３０，４０が所定のギャップを隔てた状態で貼り合わせられるとともに、両基板３０，４０間に液晶が封入された構成とされ、当該液晶により液晶層５０が形成されている。
基板４０は素子基板（アクティブマトリクス基板）であって、ガラス基板４１と、ガラス基板４１の液晶層５０側に形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）６０と、当該薄膜トランジスタ６０に対して電気的に接続された画素電極４４と、これら薄膜トランジスタ６０及び画素電極４４の液晶層５０側に形成された配向膜４５と、を備えている。また、ガラス基板４１の液晶層５０側とは反対側には偏光板４２が配されている。
【００２０】
画素電極４４は例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電膜からなり、素子基板４０の液晶層５０側にマトリクス状のパターンで形成されている。詳しくは、薄膜トランジスタ６０のドレイン電極（図示略）と接続され、当該薄膜トランジスタ６０のスイッチング作動により選択的に電圧が印加されるものとなっている。また、配向膜４５は例えばポリイミドのラビング配向膜から構成されており、偏光板４２は例えば透明フィルムにヨウ素や染料を染み込ませたものを、一方向に延伸してなるものを採用している。
【００２１】
一方、基板３０はカラーフィルタ基板（対向基板）であって、ガラス基板３１と、ガラス基板３１の液晶層５０側に形成され、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各色光を選択的に透過可能な着色部Ｒ，Ｇ，Ｂを備えたカラーフィルタ３３と、カラーフィルタ３３の液晶層５０側に形成された共通電極３４と、共通電極３４の液晶層５０側に形成された配向膜３５と、を備えている。また、ガラス基板３１の液晶層５０側とは反対側には偏光板３２が配されている。
【００２２】
カラーフィルタ３３は、着色部Ｒ，Ｇ，Ｂの境界に配されたブラックマトリクスＢＭを備え、当該ブラックマトリクスＢＭは素子基板４０の非画素部（つまり薄膜トランジスタ６０が形成された領域）を覆うように、当該非画素部に重畳して配されている。また、共通電極３４は例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電膜からなり、対向基板３０の液晶層５０側に全面ベタ状に形成されている。また、配向膜３５は例えばポリイミドのラビング配向膜から構成されており、偏光板３２は例えば透明フィルムにヨウ素や染料を染み込ませたものを、一方向に延伸してなるものを採用している。
【００２３】
このような液晶表示装置１０の液晶パネル１１は、下記のような修正工程を経て製造されるものとなっている。なお、当該液晶パネル１１の素子基板４０及びカラーフィルタ基板３０を作成する工程は、公知の方法が採用されており、この公知の方法により作成された基板に対して所定の欠陥検査工程を行った後、欠陥が検出された場合に修正工程を行うものとしている。
【００２４】
修正工程では、図４に示すようなインクジェット装置１００を含む修正装置２００（図５）により、欠陥の修正を行うものとしている。
図４は修正装置２００が備えるインクジェット装置１００の概略構成を示し、図５は液晶装置の製造装置３００の一部である修正装置２００のブロック図を示している。また、図６は、修正装置２００の主制御装置１１０が実行する制御内容を示すフロー図、図７〜図９は、基板搬送処理を模式的に示す説明図である。
なお、以下では、カラーフィルタ基板３０の着色部Ｒ，Ｇ，Ｂにおける混色或いは色抜け（着色がなされていない場合）等の欠陥を修正する場合について説明するものとする。
【００２５】
図５に示した修正装置２００は、欠陥検出装置１９０により検出された欠陥の位置等を表す欠陥データに基づいて、インクジェット装置１００により欠陥基板３０の欠陥を修正するものである。なお、インクジェット装置１００による欠陥修正に先立って、レーザ照射等により欠陥部分の着色部を除去する除去工程を行うものとしている。
【００２６】
図４に示すように、インクジェット装置１００は、定盤１２０と、定盤１２０の上面にＹ軸方向に往復移動可能に設けられたステージ１０２と、定盤１２０上に固定して架設された走査基台１０８と、走査基台１０８に対してＸ軸方向に往復移動可能に設けられた修正処理部（インクジェットヘッド）１０３と、この修正処理部１０３に一体に取り付けられた観察カメラ１０４とを備えている。
【００２７】
ステージ１０２のＸＹ平面に沿った上面には、基板搬送装置（搬入装置兼搬出装置；図５参照）１７０によって、平板状の基板（欠陥基板）３０が載置されている。このステージ１０２は、図示しないスクリューシャフト等を介して主走査軸としてのＹ軸駆動モータ１０６と連結されている。ステージ１０２は、Ｙ軸駆動モータ１０６による駆動に伴って、Ｙ軸方向に延びる図示しない一対のガイドレールに案内されて、Ｙ軸方向に往復移動する。ステージ１０２自体は、定盤１２０上で基板３０の直交２軸の位置と姿勢を制御するための図示しないＸＹθ軸を備える。
【００２８】
走査基台１０８は、定盤１２０の上面のうちステージ１０２のＹ軸方向の移動経路の両側に相当する位置に立設された一対のコラム部１０８ａ，１０８ｂと、そのコラム部１０８ａ，１０８ｂの頂部に架けわたされたビーム部１０８ｃとを有する。ビーム部１０８ｃには、スライダ１０９がＸ軸方向に往復移動可能に取り付けられている。このスライダ１０９は、コラム部１０８ａの頂部に設けられた副走査軸としてのＸ軸駆動モータ１０７による駆動に伴って、Ｘ軸方向に往復移動する。
【００２９】
メイン処理部としての修正処理部１０３は、Ｘ軸方向に往復移動可能なスライダ１０９を介して走査基台１０８に取り付けられている。この例では、修正処理部１０３は、着色部（要素）Ｒ，Ｇ，Ｂの修正処理を行うために、基板３０上に着色材料を塗布する装置である。修正処理部１０３は、Ｙ軸駆動モータ１０６とＸ軸駆動モータ１０７によってＹ軸方向とＸ軸方向に移動されるとともに、塗布タイミングに合わせて図示しないノズルから着色材料を吐出するように、後述する主制御装置１１０（図５参照）によって制御される。この制御に応じて、修正処理部１０３のノズルから基板３０上の処理目標へ向けて着色材料が吐出される（修正処理）。
【００３０】
観察カメラ１０４は、修正処理部１０３による基板３０上の修正箇所をレビュー（点検）するために設けられている。そのため、観察カメラ１０４のための照明（レンズを含む）１０５は下方へ向けられている。観察カメラ１０４によって撮影された画像は、次に述べるモニタ１１５（図５参照）に表示される。
【００３１】
図５に示すように、この修正装置２００は、主制御装置１１０と、この主制御装置１１０によって参照される記憶装置１１１と、画像処理部１１２と、ステージ制御部１１３と、基板位置決め制御部１１４と、モニタ１１５と、基板搬入後の経過時間をカウントするタイマ１１６とを備えている。主制御装置１１０は、ＣＰＵ（中央処理ユニット）からなり、この修正装置２００全体の制御を行う。記憶装置１１１は、この例ではハードディスクドライブからなり、本実施形態では、例えば先行する第１の基板が搬入された後、後行する次の第２の基板について搬入準備が整うまでの時間（基準時間）Ｔ０が必要な情報の一つとして記憶されている。
【００３２】
画像処理部１１２は、観察カメラ１０４が撮影した画像を処理するとともに、良好な画像が得られるように照明１０５を制御する。ステージ制御部１１３は、主走査軸としてのＹ軸駆動モータ１０６と副走査軸としてのＸ軸駆動モータ１０７とを制御する。基板位置決め制御部１１４は、図示しないＸＹθ軸を介して、定盤１２０上で基板３０の直交２軸の位置と姿勢を制御する。なお、主制御装置１１０は、サブ処理実行可否判定部および制御部として働くとともに、モニタ１１５と協働して処理結果表示部として働く。
【００３３】
図７〜図９は、基板搬送装置１７０の構成とその搬送態様を示している。この基板搬送装置１７０は、インクジェット装置１００を搭載した修正処理室５０に対して、基板３０を搬入・搬出するものであり、基板３０を把持して修正処理室５０に搬入するためのアーム１７ｃと、同じく基板３０を把持して修正処理室５０から搬出するためのアーム１７ｂと、これらアーム１７ｂ，１７ｃを操作する搬送主体１７ａと、を備えている。なお、修正処理室５０はシャッター５１を具備し、基板３０の搬入・搬出のタイミングに併せて開閉可能な構成となっている。
【００３４】
図６は、この修正装置２００の主制御装置１１０による処理フローを示している。
図６中のステップＳ１で、前工程（欠陥検出工程）から送られてきた第１の基板３０Ａ（３０）を修正処理室５０（つまり修正処理を行う工程；図７参照）に搬入する（基板搬入処理）。この基板搬入処理では、主制御装置１１０は、基板搬送装置（搬入装置兼搬出装置）１７０を駆動して、基板３０Ａをインクジェット装置１００のステージ１０２上に搬入して載置させる。ステージ１０２に載置された基板３０Ａは、主制御装置１１０により制御された基板位置決め制御部１１４によって、ステージ１０２に位置決め固定される。
【００３５】
次にステップＳ２では、アライメント処理を行う。このアライメント処理では、基板３０Ａの上面に形成されたアライメントマークを撮像するために、主制御装置１１０は、ステージ制御部１１３を介して、主走査軸１０６と副走査軸１０７を制御する。これにより、観察カメラ１０４がアライメントマークを撮像可能な位置に移動することとなる。画像処理部１１２は、撮像したマーク位置を計測して、ＸＹθ軸の補正量を算出する。主制御装置１１０は、その算出値に応じて基板位置決め制御部１１４へ移動指令を行って、ステージ１０２の姿勢を制御する。
【００３６】
次にステップＳ３で、主制御装置１１０からの指令に基づいて、修正処理部１０３がステージ１０２上の基板３０Ａに対して修正処理を行う。この実施形態では、主制御装置１１０は、上流工程（つまり欠陥検出装置１９０で欠陥検出する工程）で得られた基板３０Ａ上の欠陥データについて、これを記憶しておいた欠陥データサーバ（図示略）から読み出し、その欠陥データに応じて修正処理部１０３及びステージ制御部１１３へ処理指令を送る。
【００３７】
具体的には、主制御装置１１０は、修正処理部１０３をその欠陥の直上の位置へ移動させるため、欠陥データに基づいて主走査軸１０６と副走査軸１０７の絶対位置指令値あるいは相対移動指令値を算出して、ステージ制御部１１３へ送る。欠陥の直上の位置に移動した修正処理部１０３によって、その欠陥に対して修正処理が行われる。このようにして、修正処理部１０３をＹ軸方向とＸ軸方向に移動させながら、基板３０Ａが有する全ての欠陥に対して修正処理が行われる。
【００３８】
次にステップＳ４では、主制御装置１１０はタイマ１１６から基板３０Ａの搬入後の経過時間Ｔ１を算出する。そしてステップＳ５で、読み取った経過時間Ｔ１と記憶装置１１に予め記憶したＴ０とを比較判定する。
【００３９】
ステップＳ５において、Ｔ１がＴ０よりも小さいと判定された場合、ステップＳ６に進み、Ｔ０が経過するまで基板３０Ａの搬出を待機する制御を行う（図７参照）。つまり、基板搬送装置１７０に対して、操作指令を行わない或いは操作待機指令を行い、次の欠陥基板（つまり第２の基板３０Ｂ）が修正処理室５０に搬送可能な状態となるまで、第１の基板３０Ａを修正処理室５０に待機させる。
【００４０】
一方、ステップＳ５において、Ｔ１がＴ０以上と判定された場合、或いはステップＳ５においてＴ１がＴ０よりも小さいと判定された場合であって、ステップＳ６においてＴ０が経過するまで基板３０Ａの搬出の待機を行った場合は、ステップＳ７に進み、基板３０Ａを修正処理室５０から搬出する（図８，図９参照）。このとき、次の欠陥基板（第２の基板３０Ｂ）が同時に修正処理室５０に搬入され、すなわち基板の搬出と搬入が同時に行われる。
【００４１】
この基板搬入搬出処理では、主制御装置１１０は、基板搬送装置（搬入装置兼搬出装置）１７０を駆動して、基板３０Ａを修正処理室５０から搬出するとともに、次の欠陥基板（第２の基板３０Ｂ）をステージ１０２上に搬入して載置させる。ステージ１０２に載置された第２の基板３０Ｂは、上記同様、主制御装置１１０により制御された基板位置決め制御部１１４によって、ステージ１０２に位置決め固定され、修正処理部１０３により必要な修正が施される。
【００４２】
以上のような搬送・搬出を繰り返し行いつつ、修正処理室５０にて欠陥の修正を順次行うことで、修正工程が実行されている。そして、欠陥が検出されたカラーフィルタ基板３０については、この修正工程を経た後、素子基板４０と貼り合わされ、液晶を介在させた状態で液晶パネル１１として供されることとなる。
【００４３】
以上のような本実施形態によると、液晶パネル１１を作成するに係り、上記修正工程を経るようにしており、その修正工程においては、修正処理室５０における処理時間が短い第１の基板３０Ａに関して、必要な修正処理が終わっても修正処理室５０から搬出を行わず、第１の基板３０Ａを修正処理室に待機させてから搬出するものとしているため、修正に係る時間が増大する不具合が生じ難いものとなっている。
【００４４】
具体的には、後行の第２の基板３０Ｂが修正処理可能な状態になるまで（つまり後行の第２の基板３０Ｂが修正処理室５０に搬入可能な状態になるまで）、先行の第１の基板３０Ａを待機させている。したがって、先行の第１の基板３０Ａの搬出と、後行の第２の基板３０Ｂの搬入とを同時に行うことができ、このような搬送（搬入・搬出）動作を継続して行うものとしているため、基板のエクスチェンジ動作の失敗確率が低くなり、修正に係る時間（タクトタイム）を増大させるような不具合が生じ難いものとなっている。
【００４５】
以上、本発明に係る実施の形態を説明したが、本発明はこのような実施の形態に限定されるものではなく、以下のような形態も本発明に含まれる。
【００４６】
（１）本実施形態では、カラーフィルタ基板の修正工程を示したが、面内に複数の要素を配置した液晶用基板、例えば要素として面内に複数のＴＦＴや画素を備える素子基板についても、ＴＦＴや画素の欠陥を修正する際に修正装置２００を用いて当該修正工程を採用することが可能である。
【００４７】
（２）本実施形態では、修正処理を行う主体としてインクジェット装置を示したが、例えばニードル方式やディスペンサー方式により着色材料（要素）を塗布する方法を採用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本実施形態の液晶表示装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】図１の液晶表示装置の概略構成を示す断面図。
【図３】図１の液晶表示装置の要部構成（液晶パネルの一部分）について示す断面図。
【図４】インクジェット装置の概略構成を示す概念図。
【図５】修正装置の構成を示すブロック図。
【図６】修正装置の主制御装置による処理フローを示す図。
【図７】基板搬送処理を模式的に示す説明図。
【図８】基板搬送処理を模式的に示す説明図。
【図９】基板搬送処理を模式的に示す説明図。
【符号の説明】
【００４９】
１０…液晶表示装置（液晶装置）、１１…液晶パネル、３０…基板（液晶用基板、カラーフィルタ基板）、３０Ａ…欠陥基板（第１の基板）、３０Ｂ…欠陥基板（第２の基板）、５０…修正処理室、１００…インクジェット装置、１０２…ステージ、１０３…修正処理部、１０４…観察カメラ、１１０…主制御装置（制御装置）、１１１…記憶装置、１１２…画像処理部、１１３…ステージ制御部、１１４…基板位置決め制御部、１１５…モニタ、１１６…タイマ（経過時間算出装置）、１７０…基板搬送装置、１９０…欠陥検出装置、２００…修正装置、３００…製造装置、Ｒ，Ｇ，Ｂ…着色部（要素）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面内に複数の要素を配置した液晶用基板からなる液晶パネルの製造方法であって、
前記要素の欠陥を検出する欠陥検出工程と、
欠陥が検出された欠陥基板を修正する修正工程と、を含み、
前記修正工程において、
前記欠陥基板を修正する修正処理室に対して、前記欠陥基板の搬入と搬出を行うことで、前記欠陥基板を順次修正するものとし、
第１の欠陥基板が前記修正処理室内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出し、前記経過時間Ｔ１が予め定められた基準時間Ｔ０よりも短い場合に、前記第１の欠陥基板を前記修正処理室から搬出せずに前記修正処理室内に待機させ、前記基準時間Ｔ０が経過した後に、前記第１の欠陥基板の搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板の搬入とを同時に行うことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項２】
前記液晶用基板が、前記複数の要素として複数の着色部を備えたカラーフィルタ基板であることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項３】
前記欠陥検出工程が、前記欠陥として、前記カラーフィルタ基板の着色部における混色、或いは色抜けの少なくともいずれかを検出することを特徴とする請求項２に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項４】
前記修正処理室は、欠陥を備えた前記要素に対してインクジェット法により当該要素を再構築するものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項５】
面内に複数の要素を配置した液晶用基板からなる液晶パネルを製造する製造装置であって、
前記要素の欠陥を検出する欠陥検出装置と、
欠陥が検出された欠陥基板を修正する修正装置と、を含み、
前記修正装置は、
前記欠陥基板を修正する修正処理室と、
前記修正処理室に対して、欠陥基板の搬入と搬出を行う基板搬送装置と、
予め定められた基準時間Ｔ０を記憶する記憶装置と、
第１の欠陥基板が前記修正処理室内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出する経過時間算出装置と、
前記経過時間Ｔ１が前記基準時間Ｔ０よりも短い場合に、前記第１の欠陥基板を前記修正装置から搬出せずに前記修正処理室内に待機させ、前記基準時間Ｔ０が経過した後に、前記第１の欠陥基板の搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板の搬入とを同時に行う制御を実行する制御装置と、を有することを特徴とする液晶パネルの製造装置。
【請求項６】
前記液晶用基板が、前記複数の要素として複数の着色部を備えたカラーフィルタ基板であることを特徴とする請求項５に記載の液晶パネルの製造装置。
【請求項７】
前記欠陥検出装置が、前記欠陥として、前記カラーフィルタ基板の着色部における混色、或いは色抜けの少なくともいずれかを検出することを特徴とする請求項６に記載の液晶パネルの製造装置。
【請求項８】
前記修正装置は、前記修正処理室において、欠陥を備えた前記要素に対してインクジェット法により当該要素を再構築するインクジェット装置を有することを特徴とする請求項５から請求項７のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造装置。
【請求項１】
面内に複数の要素を配置した液晶用基板からなる液晶パネルの製造方法であって、
前記要素の欠陥を検出する欠陥検出工程と、
欠陥が検出された欠陥基板を修正する修正工程と、を含み、
前記修正工程において、
前記欠陥基板を修正する修正処理室に対して、前記欠陥基板の搬入と搬出を行うことで、前記欠陥基板を順次修正するものとし、
第１の欠陥基板が前記修正処理室内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出し、前記経過時間Ｔ１が予め定められた基準時間Ｔ０よりも短い場合に、前記第１の欠陥基板を前記修正処理室から搬出せずに前記修正処理室内に待機させ、前記基準時間Ｔ０が経過した後に、前記第１の欠陥基板の搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板の搬入とを同時に行うことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項２】
前記液晶用基板が、前記複数の要素として複数の着色部を備えたカラーフィルタ基板であることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項３】
前記欠陥検出工程が、前記欠陥として、前記カラーフィルタ基板の着色部における混色、或いは色抜けの少なくともいずれかを検出することを特徴とする請求項２に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項４】
前記修正処理室は、欠陥を備えた前記要素に対してインクジェット法により当該要素を再構築するものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項５】
面内に複数の要素を配置した液晶用基板からなる液晶パネルを製造する製造装置であって、
前記要素の欠陥を検出する欠陥検出装置と、
欠陥が検出された欠陥基板を修正する修正装置と、を含み、
前記修正装置は、
前記欠陥基板を修正する修正処理室と、
前記修正処理室に対して、欠陥基板の搬入と搬出を行う基板搬送装置と、
予め定められた基準時間Ｔ０を記憶する記憶装置と、
第１の欠陥基板が前記修正処理室内に搬入されてからの経過時間Ｔ１を算出する経過時間算出装置と、
前記経過時間Ｔ１が前記基準時間Ｔ０よりも短い場合に、前記第１の欠陥基板を前記修正装置から搬出せずに前記修正処理室内に待機させ、前記基準時間Ｔ０が経過した後に、前記第１の欠陥基板の搬出と、次の修理対象である第２の欠陥基板の搬入とを同時に行う制御を実行する制御装置と、を有することを特徴とする液晶パネルの製造装置。
【請求項６】
前記液晶用基板が、前記複数の要素として複数の着色部を備えたカラーフィルタ基板であることを特徴とする請求項５に記載の液晶パネルの製造装置。
【請求項７】
前記欠陥検出装置が、前記欠陥として、前記カラーフィルタ基板の着色部における混色、或いは色抜けの少なくともいずれかを検出することを特徴とする請求項６に記載の液晶パネルの製造装置。
【請求項８】
前記修正装置は、前記修正処理室において、欠陥を備えた前記要素に対してインクジェット法により当該要素を再構築するインクジェット装置を有することを特徴とする請求項５から請求項７のいずれか１項に記載の液晶パネルの製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１０−１８１５５７（Ｐ２０１０−１８１５５７Ａ）
【公開日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２３８４４（Ｐ２００９−２３８４４）
【出願日】平成２１年２月４日（２００９．２．４）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月４日（２００９．２．４）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
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