説明

生体組織処理装置

【課題】
処理槽蓋の内側に付着する液滴を防止し、短時間で組織診断用の病理組織検体を作製できる超音波を用いた生体組織処理装置を提供する。
【解決手段】
超音波を用いた生体組織処理装置の蓋に、ヒーター6と温度センサー7を設け、電源を入
れると同時にヒーター6に通電し、温度センサー7により温度を監視し、60℃を超えた
らヒーター6の通電を止め、59℃になったらヒーター6に通電することで、処理槽と同
じ約60℃の温度を保つ。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、生体組織切片の作製において、固定液、脱水剤、中間処理剤、パラフィンを生
体組織に浸透させる生体組織処理装置に関するもので、生体組織切片作製時に超音波を照射することによって迅速かつ高感度な病理組織検体の作製を可能にする方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来、病理診断用の生体組織切片作製には、組織のホルマリンによる固定工程からアルコールによる脱水工程、キシレンによる中間処理工程、パラフィンによるパラフィン浸透工程等の工程を経た後、パラフィンの充填を行い、パラフィンブロックを作製する。その後パラフィンブロックの薄切を行い、スライドガラスに貼り付けた後キシレンによる脱パラフィン・脱キシレン・脱アルコール等を行い、各種の染色法で染色してカバーグラスをかけるという手順を踏む。
【0003】
近年、組織のホルマリンによる固定工程からアルコールによる脱水工程、キシレンによる中間処理工程、パラフィンによるパラフィン浸透工程等の工程で超音波を照射し、かつこの時温度を約60℃に保持することで従来よりも短時間で組織診断用の病理組織検体を作製できるようになった。
【0004】
処理槽内の薬液温度が約60℃であるのに対し、通常外気温は20℃程度のため、処理槽蓋の内側には多量の液滴がつき、その液滴が垂れることで薬液が混ざり合い病理標本が汚染される。また、液滴が付くことで処理槽蓋の密閉性が悪くなり、そのため薬液の注排水ができなくなるなどの不都合を生じる。
【0005】
超音波を用いない従来装置では蓋の形状を工夫し、蓋が開いたとき液滴を所定の位置に溜め、蓋を閉めたときに処理槽内に流している。
【特許文献1】実公昭63−44769
【特許文献2】特願2004−163359
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、処理中に液滴が垂れることによる薬液間の混ざり合いは防げず、また、蓋の形状が複雑になるばかりでなく、蓋及び液滴を溜める部分の定期的な清掃が必要となる。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、処理槽の蓋に加熱手段を設け、蓋を加熱することにより、処理槽内と蓋の温度差を無くすことで液滴の付着を防止し上記課題を解決したものである。
【発明の効果】
【0008】
処理槽の蓋に加熱手段を設け、蓋を加熱することで液滴の付着を防止することから、液滴の付着による不具合を根本から防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
処理槽の蓋にシート状のヒーターを貼り付け加熱し、温度センサーにより温度が約60℃になるようヒーターを制御することで、処理槽の蓋の温度を、処理槽内の温度と同じに保つ。
【実施例1】
【0010】
図1は本発明の生体組織処理装置の構成例を示す図であり、この例について詳しく説明す
る。
【0011】
処理槽1の底面には超音波振動子2が、処理槽1の側面にはヒーター3と温度センサー4
が取り付けられている。処理槽1の上部には処理槽蓋5が設けられ、ヒーター6と温度セ
ンサー7が取り付けられている。
【0012】
処理槽1に取り付けたヒーター3は装置の電源を入れると同時に通電され温度が上昇する。
温度センサー4により温度を監視し、温度が60℃を超えたらヒーター3の通電を止め、温度が59℃になったらヒーター3に通電することで、約60℃の温度を保つ。
【0013】
処理槽蓋5に取り付けたヒーター6も装置の電源を入れると同時に通電され温度が上昇す
る。温度センサー7により温度を監視し、温度が60℃を超えたらヒーター6の通電を止め、温度が59℃になったらヒーター6に通電することで、約60℃の温度を保つ。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】本発明の構成の例を示す図である。
【符号の説明】
【0015】
1 処理槽
2 超音波振動子
3 ヒーター
4 温度センサー
5 処理槽蓋
6 ヒーター
7 温度センサー

【特許請求の範囲】
【請求項1】
超音波を使った生体組織切片を作製する処理装置において、処理槽蓋を加熱出来る手段を
設けたことを特徴とする生体組織処理装置。



















【図1】
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【公開番号】特開2006−275653(P2006−275653A)
【公開日】平成18年10月12日(2006.10.12)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−92921(P2005−92921)
【出願日】平成17年3月28日(2005.3.28)
【出願人】(000146445)株式会社常光 (35)
【出願人】(503052911)
【出願人】(504212057)
【Fターム(参考)】