発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器
【課題】膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】発光装置１０は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色に発光する３つの画素３０Ｒ、３０Ｇ、３０Ｂを備える。１列おきに発光層４５を形成する第１の工程と、第１の工程で形成されなかった列に発光層４５を形成する第２の工程に分割して行うため、Ｇの発光層４５Ｇの隔壁４８に乗り上げた端は、Ｒの発光層４５ＲとＢの発光層４５Ｂの隔壁４８に乗り上げた端を覆うようにして、Ｒの発光層４５ＲとＢの発光層４５Ｂの端に乗り上げて形成される。１列おきに発光層４５を形成することにより、発光機能層の膜厚を良好に均一とすることができる。
【解決手段】発光装置１０は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色に発光する３つの画素３０Ｒ、３０Ｇ、３０Ｂを備える。１列おきに発光層４５を形成する第１の工程と、第１の工程で形成されなかった列に発光層４５を形成する第２の工程に分割して行うため、Ｇの発光層４５Ｇの隔壁４８に乗り上げた端は、Ｒの発光層４５ＲとＢの発光層４５Ｂの隔壁４８に乗り上げた端を覆うようにして、Ｒの発光層４５ＲとＢの発光層４５Ｂの端に乗り上げて形成される。１列おきに発光層４５を形成することにより、発光機能層の膜厚を良好に均一とすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（electroluminescence）素子を用いた発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）に続く次世代の表示デバイスとして、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と略記する）等の自発光素子を２次元配列した発光素子型の表示パネルを備えた発光装置の研究開発が行われている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、アノード電極と、カソード電極と、これらの一対の電極間に形成され、例えば発光層、正孔注入層、等を有する有機ＥＬ層（発光機能層）と、を備える。有機ＥＬ素子では、発光層において正孔と電子とが再結合することによって発生するエネルギーによって発光する。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子の発光層、正孔注入層等は、例えば、特許文献１に開示されているように、隔壁によって仕切られた空間に、溶液を塗布し、溶媒を乾燥させることによって形成される。溶液の塗布は、例えばノズルプリンティング方式、インクジェットプリント方式等によって行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１２３０８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、有機ＥＬ素子では、発光機能層の膜厚が不均一であると、発光が不均一となるという問題がある。このため、発光機能層の膜厚を良好に制御し、良好な均一性を有する膜とすることが求められている。
【０００７】
本発明は上述した実情に鑑みてなされたものであって、膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点に係る発光装置は、
複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と、前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
前記発光機能層が、行方向に隣接して配列された前記各発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層を覆うように形成された前記発光素子を少なくとも一つ備えることを特徴とする。
【０００９】
前記発光装置は、前記間隙領域に形成され、前記各発光素子の前記発光層の形成領域を画し、その上面は前記発光機能層の上面より高い隔壁を有し、
前記発光機能層は、前記間隙領域において、前記隔壁の一部に乗り上げて形成されていてもよい。
【００１０】
前記複数の発光素子は、前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層の一部が、行方向に隣接する前記発光素子の前記発光機能層に覆われている第１の発光素子と、前記発光機能層が、行方向に隣接する前記発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層の一部を覆っている第２の発光素子と、を有し、
前記第１の発光素子と前記第２の発光素子とは、行方向に交互に設けられていてもよい。
【００１１】
前記複数の発光素子は、前記発光層として、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、
前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し配置され、
奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第１の発光素子の構成要素であり、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第２の発光素子の構成要素であってもよい。
【００１２】
前記複数の発光素子は、前記発光層として、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、
前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し配置され、
偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第１の発光素子の構成要素であり、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第２の発光素子の構成要素であってもよい。
【００１３】
前記発光機能層は、前記発光層に正孔を注入する正孔注入層、インターレイヤ層の少なくとも何れか１つを含んでもよい。
【００１４】
上記目的を達成するため、本発明の第２の観点に係る発光装置の製造方法は、
所定の発光色で発光する発光層を有する複数の発光素子が、複数の行及び複数の列に沿って配列された発光装置の製造方法であって、
前記複数の発光素子の前記発光層の形成領域に、有機材料を含む溶液を塗布して、前記発光層を含む発光機能層を形成する発光機能層形成工程を備え、
前記発光機能層形成工程は、
１列おきに配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を１列おきに形成する第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とする。
【００１５】
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記第１の工程及び前記第２の工程で形成される前記発光機能層は、前記間隙領域にも形成され、
前記第２の工程で前記間隙領域に形成される前記発光機能層は、行方向に隣接する前記各発光素子との間の前記間隙領域に前記第１の工程で前記間隙領域に形成された前記発光機能層の一部を覆うように形成されてもよい。
【００１６】
前記複数の発光素子は、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し並んで配置され、
前記第１の工程では、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層を形成し、
前記第２の工程では、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層を形成してもよい。
【００１７】
前記複数の発光素子は、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し並んで配置され、
前記第１の工程では、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層を形成し、
前記第２の工程では、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層を形成してもよい。
【００１８】
前記発光機能層は、前記発光層に正孔を注入する正孔注入層、インターレイヤ層の少なくとも何れか１つを含んでもよい。
【００１９】
前記第１の工程では、前記溶液の塗布量を第１の量に設定し、
前記第２の工程では、前記溶液の塗布量を前記第１の量より少ない第２の量に設定してもよい。
【００２０】
上記目的を達成するため、本発明の第３の観点に係る電子機器は、
上記第１の観点に係る発光装置を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、１列おきに発光機能層を形成する第１の工程と、第１の工程で形成されなかった列に発光機能層を形成する第２の工程に分割することにより、膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図３】発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図４】発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図５】図１に示す発光装置の断面構成を示す図である。
【図６】画素の駆動回路の一例の等価回路図である。
【図７】画素の平面図である。
【図８】図７に示すVIII−VIII線断面図である。
【図９Ａ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｂ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｃ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｄ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｅ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｆ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｇ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｈ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｉ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図１０Ａ】ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。
【図１０Ｂ】ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。
【図１１】（ａ）は本実施形態における発光装置の断面構成を示す図であり、（ｂ）は、本実施形態における各発光層の膜厚等高線を示す図である。
【図１２】（ａ）は比較例における発光装置の断面構成を示す図であり、（ｂ）は、比較例における各発光層の膜厚等高線を示す図である。
【図１３Ａ】発光装置の製造方法の変形例を示す図である。
【図１３Ｂ】発光装置の製造方法の変形例を示す図である。
【図１４】発光装置の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の実施形態に係る発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器について図を用いて説明する。本実施形態では、有機ＥＬ素子により発生した光を有機ＥＬ素子が形成された基板を介して外部に出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ（electroluminescence）素子を用いたアクティブ駆動方式の発光装置を例に挙げて説明する。また、本実施形態の発光装置は表示装置としても用いられる。
【００２４】
図１は実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。図２乃至図４は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。図５は、図１に示す発光装置１０の断面構成を示す図である。また、図６は画素３０の駆動回路の一例の等価回路図である。図７は、画素３０Ｇの平面図であり、図８は図７に示すVIII−VIII線断面図である。
【００２５】
発光装置１０がカラー表示を行うものである場合、基板３１上には、図１に示すようにそれぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の何れかの発光色で発光する発光素子を有する３つの画素３０（３０Ｒ、３０Ｇ、３０Ｂ）を一組として、この組が行方向（図１の左右方向）に繰り返し複数個、例えばｍ個配列されるとともに、列方向（図１の上下方向）に同一色の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばｎ個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に３ｍ個配列されており、ＲＧＢの各色を発光する画素はマトリクス状に、３ｍ×ｎ個配列される。
【００２６】
基板３１上には、行方向に配列され、図６に示す複数の画素回路ＤＳに接続されたアノードラインＬａと、行方向に配列された複数の画素回路ＤＳにそれぞれ接続された複数のデータラインＬｄと、行方向に配列された複数の画素回路ＤＳのトランジスタＴｒ１１を選択する走査ラインＬｓと、が形成されている。
【００２７】
このような構成を採る発光装置１０は、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器の表示部（ディスプレイ）として用いられる。具体的には、カメラ２００は、例えば図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、レンズ部２０１と、操作部２０２と、表示部２０３と、ファインダー２０４と、を備える。この表示部２０３として、発光装置１０が用いられる。同様に、パーソナルコンピュータ２１０は図３に示すように、表示部２１１と操作部２１２とを備え、発光装置１０は、表示部２１１として用いられる。更に、携帯電話２２０は表示部２２１と操作部２２２と受話部２２３と送話部２２４とを備え、発光装置１０は表示部２２１として用いられる。
【００２８】
次に、図１に示す発光装置１０の断面構成を図５に示す。図５では、説明の便宜のため、基板３１、画素電極４２、隔壁４８、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光色を有する３色の発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂ（以下、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂを総称して発光層４５とも記す）のみを図示し、その他の構成要素については図示を省略している。３色の発光色の発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂは、それぞれ３色の画素３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂの、各々の発光素子を形成するものである。詳細に後述するように、本実施形態では、第１の工程で発光層４５を１列おきに形成した上で、第２の工程で第１の工程で形成しなかった列に発光層４５を形成する。具体的には、例えば図５の左端から奇数番目の列の発光層４５を形成した上で、偶数番目の列の発光層４５を形成することを特徴とする。このため、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂは、Ｒ、Ｇ、Ｂの順では形成されない。例えば図５に示すように偶数列の画素３０Ｇの発光層４５Ｇは、両隣に存する奇数列の画素３０Ｒの発光層４５Ｒ及び画素３０Ｂの発光層４５Ｂが形成された後で形成される。図５に示すように、隔壁４８の上面は、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂの中央の平坦部の上面より高くなっている。また、図５に示すように、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂの行方向の両端は、一部が隔壁４８に乗り上げるように形成されている。これにより、図５では、画素３０Ｇの発光層４５Ｇの隔壁４８に乗り上げた端は、画素３０Ｒの発光層４５Ｒと画素３０Ｂの発光層４５Ｂの隔壁４８に乗り上げた端を覆うようにして、画素３０Ｒの発光層４５ＲとＢの発光層４５Ｂの端に乗り上げて形成される。
【００２９】
次に、発光装置１０を構成する画素３０について、図６乃至８を用いて説明する。なお、本実施形態では奇数列の画素３０の発光層４５の隔壁４８に乗リ上げた端が、隣接する画素３０の隔壁４８に乗り上げた端を覆うように形成されている以外は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各画素３０の構成は同一であるため、以下、Ｇの画素３０Ｇを例に挙げて説明する。
【００３０】
画素３０は画素回路ＤＳを有して構成されている。画素回路ＤＳは、例えば図６に示すように、選択トランジスタＴｒ１１、駆動トランジスタＴｒ１２、キャパシタＣｓ、有機ＥＬ素子（発光素子）ＯＥＬと、を備える。
【００３１】
図６に示すように、選択トランジスタＴｒ１１は、ゲート端子が走査ラインＬｓに、ドレイン端子がデータラインＬｄに、ソース端子が接点Ｎ１１にそれぞれ接続される。また、駆動トランジスタＴｒ１２は、ゲート端子が接点Ｎ１１に接続されており、ドレイン端子がアノードラインＬａに、ソース端子が接点Ｎ１２にそれぞれ接続されている。キャパシタＣｓは、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート端子及びソース端子に接続されている。なお、キャパシタＣｓは、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート−ソース間に付加的に設けられた補助容量、もしくは駆動トランジスタＴｒ１２のゲート−ソース間の寄生容量と補助容量からなる容量成分である。また、有機ＥＬ素子ＯＥＬは、アノード端子（画素電極４２）が接点Ｎ１２に接続され、カソード端子（対向電極４６）に基準電圧Ｖｓｓが印加されている。
【００３２】
走査ラインＬｓは、画素基板の周縁部に配置された走査ドライバ（図示せず）に接続されており、所定タイミングで行方向に配列された複数の画素３０を選択状態に設定するための選択電圧信号（走査信号）が印加される。また、データラインＬｄは、画素基板の周縁部に配置されたデータドライバ（図示せず）に接続され、上記画素３０の選択状態に同期するタイミングで発光データに応じたデータ電圧（階調信号）が印加される。行方向に配列された複数の駆動トランジスタＴｒ１２が、当該駆動トランジスタＴｒ１２に接続された有機ＥＬ素子ＯＥＬの画素電極４２（例えばアノード端子）に発光データに応じた駆動電流を流す状態に設定するように、アノードラインＬａ（供給電圧ライン）は、所定の高電位電源に直接又は間接的に接続されている。つまり、アノードラインＬａは、有機ＥＬ素子ＯＥＬの対向電極４６に印加される基準電圧Ｖｓｓより十分電位の高い所定の高電位（供給電圧Ｖｄｄ）が印加される。また、対向電極４６は、例えば、所定の低電位電源に直接又は間接的に接続され、基板３１上にアレイ状に配列された全ての画素３０に対して単一の電極層により形成されており、所定の低電圧（基準電圧Ｖｓｓ、例えば接地電位ＧＮＤ）が共通に印加されるように設定されている。
【００３３】
また、アノードラインＬａと走査ラインＬｓとは、各トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のソース電極、ドレイン電極とを形成するソース−ドレイン導電層を用いてこれらソース電極、ドレイン電極とともに形成される。データラインＬｄは、各トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のゲート電極となるゲート導電層を用いてゲート電極とともに形成される。データラインＬｄとドレイン電極Ｔｒ１１ｄとの間の絶縁膜３２には、図７に示すように、コンタクトホール６１が形成され、データラインＬｄとドレイン電極Ｔｒ１１ｄとはコンタクトホール６１を介して導通している。走査ラインＬｓとゲート電極Ｔｒ１１ｇの両端との間の絶縁膜３２には、それぞれコンタクトホール６２、６３が形成され、走査ラインＬｓとゲート電極Ｔｒ１１ｇとはコンタクトホール６２、６３を介して導通している。ソース電極Ｔｒ１１ｓとゲート電極Ｔｒ１２ｇとの間の絶縁膜３２には、コンタクトホール６４が形成され、ソース電極Ｔｒ１１ｓとゲート電極Ｔｒ１２ｇとはコンタクトホール６４を介して導通している。なお、絶縁膜３２は、絶縁性材料、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等から形成され、データラインＬｄ、ゲート電極Ｔｒ１１ｇ及びゲート電極Ｔｒ１２ｇを覆うように基板３１上に形成される。
【００３４】
次に、有機ＥＬ素子ＯＥＬは、図８に示すように、画素電極４２と、発光層４５と、対向電極４６と、を備える。なお、図８では、説明の便宜上、発光に寄与する発光機能層として発光層４５のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、後述する図１４に示すように、発光機能層は、正孔注入層４３と発光層４５とを備えていてもよく、更に、正孔注入層４３とインターレイヤ層４４と発光層４５とを備えていてもよい。
【００３５】
各画素の基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなる選択トランジスタＴｒ１１、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート電極Ｔｒ１１ｇ、Ｔｒ１２ｇが形成されている。各画素に隣接した基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインＬｄが形成されている。
【００３６】
画素電極（アノード電極）４２は、透光性を備える導電材料、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ等から構成される。各画素電極４２は隣接する他の画素３０の画素電極４２と層間絶縁膜４７によって絶縁されている。
【００３７】
層間絶縁膜４７は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成されている。層間絶縁膜４７は、画素電極４２間に形成され、トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２や走査ラインＬｓ、アノードラインＬａを絶縁保護する。層間絶縁膜４７には略方形の開口部４７ａが形成されており、この開口部４７ａによって画素３０の発光領域が画される。更に層間絶縁膜４７上には隔壁４８が形成されている。隔壁４８には列方向（図７の上下方向）に延びる溝状の開口部４８ａが複数の画素３０にわたって形成されている。ここで、層間絶縁膜４７及びその上に形成される隔壁４８は、行方向に隣接して配列される各画素３０の発光領域間の間隙領域を形成している。
【００３８】
隔壁４８は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜４７上に形成される。隔壁４８は、図７に示すように列方向に沿った複数の画素の画素電極４２をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁４８の平面形状は、これに限られず各画素電極４２毎に開口部をもった格子状であってもよい。また、隔壁４８の上面は、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂの中央の平坦部の上面より高くなるように形成される。
【００３９】
なお、隔壁４８の表面、層間絶縁膜４７の表面に撥液処理を施してもよい。ここで撥液とは、水系の溶媒、有機系溶媒のいずれをも弾く性質を示す。
【００４０】
発光層４５は、画素電極（アノード電極）４２上に形成されている。発光層４５は、アノード電極４２とカソード電極４６との間に電圧を印加することにより所定の発光色の光を発生する機能を有する。発光層４５は、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料から構成される。また、これらの発光材料は、適宜水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解（又は分散）した溶液（分散液）をノズルプリンティング方式やインクジェットプリント方式等により塗布し、溶媒を揮発させることによって形成する。
【００４１】
本実施形態では、発光層４５の形成工程を二つに分け、１列おきに一旦発光層４５を間引いて形成した上で、間引かれた列の発光層４５を形成する点に特徴がある。このため、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の発光層４５は、Ｒ、Ｇ、Ｂの順で形成されない。従って、例えば図５に示すように偶数列の画素３０Ｇの発光層４５Ｇは、両隣に存する奇数列の画素３０Ｒの発光層４５Ｒ及び奇数列の画素３０Ｂの発光層４５Ｂを形成した後で形成される。これにより、図５では、画素３０Ｇの発光層４５Ｇの隔壁４８に乗り上げた端は、画素３０Ｒの発光層４５Ｒと画素３０Ｂの発光層４５Ｂの隔壁４８に乗り上げた端の一部を覆うようにして、画素３０Ｒの発光層４５Ｒと画素３０Ｂの発光層４５Ｂの隔壁４８に乗り上げた端の一部に乗り上げて形成される。
【００４２】
ここで、発光機能層として、正孔注入層が設けられる場合、図１４に示すように、正孔注入層４３は、画素電極４２と発光層４５との間に設けられる。正孔注入層４３は発光層４５に正孔を供給する機能を有する。正孔注入層４３は正孔（ホール）注入・輸送が可能な有機高分子系の材料、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とドーパントであるポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）から構成される。
更に、発光機能層としてインターレイヤ層が設けられる場合、図１４に示すように、インターレイヤ層４４は正孔注入層４３と発光層４５との間に設けられる。インターレイヤ層４４は、正孔注入層４３の正孔注入性を抑制して発光層４５内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層４５の発光効率を高める。
【００４３】
また、対向電極（カソード電極）４６は、ボトムエミッション型の場合、発光層４５側に設けられ、導電材料、例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Ａｌ等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。本実施形態では、対向電極４６は複数の画素３０に跨って形成される単一の電極層から構成され、例えば接地電位である基準電圧Ｖｓｓが印加されている。なお、有機ＥＬ素子ＯＥＬをトップエミッション型とする場合、対向電極４６は、発光層４５側に設けられ、１０ｎｍ程度の膜厚の極薄い例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる光透過性低仕事関数層と、１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の膜厚のＩＴＯ等の光反射性導電層を有する透明積層構造とする。
【００４４】
次に、本実施形態に係る発光装置の製造方法を、図９Ａ〜図９Ｉ、図１０Ａ及び図１０Ｂを用いて説明する。図１０Ａ及び図１０Ｂは、ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。ノズルプリンティング装置は、図１０Ａに示すように、概略、有機化合物含有液からなる溶液５２を連続して吐出するノズルを有するノズルヘッド５０を備え、ノズルヘッド５０を基板３１上の塗布領域に沿って移動させることによって、基板３１上の塗布領域に溶液５２を塗布するものである。また、図１０Ａはノズルヘッド５０を１つだけ有する場合の構成を示し、図１０Ｂはノズルヘッド５０を２つ有する場合の構成を示す。なお、図１０Ａ及び図１０Ｂにおける基板３１は、図７の上下方向が図１０Ａ及び図１０Ｂの左右方向となる向きに配置されている。ここで、図１０Ｂにおいてはノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を２つ有する場合について示したが、これに限らず、ノズルヘッド５０を３つ以上の複数個有するものであってもよい。また、選択トランジスタＴｒ１１は駆動トランジスタＴｒ１２と同一工程によって形成されるので、選択トランジスタＴｒ１１の形成の説明を一部省略する。
【００４５】
図９Ａに示すように、まず、ガラス基板等からなる基板３１を用意する。次に、この基板３１上に、スパッタ法、真空蒸着法等により例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＡｌＮｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるゲート導電膜を形成し、これを図９Ａに示すように駆動トランジスタＴｒ１２のゲート電極Ｔｒ１２ｇの形状にパターニングする。この際、図示はしていないが、選択トランジスタＴｒ１１のゲート電極Ｔｒ１１ｇ、及びデータラインＬｄも形成する。続いて、図９Ｂに示すように、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等によりゲート電極Ｔｒ１２ｇ及びデータラインＬｄ上に絶縁膜３２を形成する。
【００４６】
次に、絶縁膜３２上に、ＣＶＤ法等により、アモルファスシリコン等からなる半導体層を形成する。次に、半導体層上に、ＣＶＤ法等により、例えばＳｉＮ等からなる絶縁膜を形成する。続いて、絶縁膜をフォトリソグラフィ等によりパターニングし、ストッパ膜１１５を形成する。更に、半導体層及びストッパ膜１１５上に、ＣＶＤ法等により、ｎ型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜を形成し、この膜と半導体層とをフォトリソグラフィ等によりパターニングすることで、図９Ｂに示すように、半導体層１１４とオーミックコンタクト層１１６，１１７とを形成する。
【００４７】
次に、スパッタ法、真空蒸着法等により絶縁膜３２上に、ＩＴＯ等の透明導電膜、或いは光反射性導電膜及びＩＴＯ等の透明導電膜を被膜後、フォトリソグラフィによってパターニングして画素電極４２を形成する。
【００４８】
続いて、絶縁膜３２に貫通孔であるコンタクトホール６１〜６４を形成してから、例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＡｌＮｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜をスパッタ法、真空蒸着法等により被膜して、フォトリソグラフィによってパターニングして図９Ｂに示すようにドレイン電極Ｔｒ１２ｄ及びソース電極Ｔｒ１２ｓを形成する。これと同時に、アノードラインＬａを形成する。このとき、駆動トランジスタＴｒ１２のソース電極Ｔｒ１２ｓはそれぞれ画素電極４２の一部と重なるように形成される。
【００４９】
続いて、図９Ｃに示すように、駆動トランジスタＴｒ１２等を覆うようにシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜４７をＣＶＤ法等により形成後、フォトリソグラフィにより、開口部４７ａを形成する。次に、感光性ポリイミドを、層間絶縁膜４７を覆うように塗布し、隔壁４８の形状に対応するマスクを介して露光、現像することによってパターニングし、図９Ｃに示すように開口部４８ａを有する隔壁４８を形成する。
【００５０】
続いて、発光機能層として正孔注入層を形成する場合は、正孔注入材料を含む有機化合物含有液を溶液５２としてノズルヘッド５０から連続して吐出する図１０Ａ又は図１０Ｂに示すノズルプリンティング装置、あるいは個々に独立した複数の液滴として間欠的に吐出するインクジェット装置によって、開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に選択的に塗布する。続いて、基板３１を大気雰囲気下で加熱し有機化合物含有液の溶媒を揮発させて、正孔注入層４３を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００５１】
また、発光機能層としてインターレイヤ層を形成する場合は、インターレイヤ層４４となる材料を含有する有機化合物含有液を溶液５２として、ノズルヘッド５０から連続して吐出する図１０Ａ又は図１０Ｂに示すノズルプリンティング装置またはインクジェット装置を用いて、正孔注入層４３上に塗布する。続いて、窒素雰囲気中の加熱乾燥、或いは真空中での加熱乾燥を行い、残留溶媒の除去を行ってインターレイヤ層４４を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００５２】
次に、発光機能層として発光層４５を形成するために、発光ポリマー材料（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を含有する有機化合物含有液を溶液５２としてノズルヘッド５０から連続して吐出する図１０Ａ又は図１０Ｂに示すノズルプリンティング装置によるノズルプリンティング方式を用いて、隔壁４８の間に設けられ、開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に塗布する。塗布は、隔壁４８の形成方向（図７及び図９Ｄ〜図９Ｉにおける上下方向）に沿って塗布する。
【００５３】
ここで、本実施形態における発光層４５の形成方法について詳しく説明する。
本実施形態における発光層４５の形成は、１列おきに発光層４５を形成する第１の工程と、第１の工程で形成されなかった列に発光層４５を形成する第２の工程に分割して行う。各工程について、以下、図９Ｄ〜図９Ｉを用いて説明する。図９Ｄ〜図９Ｉでは、説明の便宜のため、発光層４５を形成するための有機化合物含有液を塗布する列を濃色で示す。更に、発光層４５の形成が終了している列は実線で、発光層４５が形成されていない列は破線で示す。
【００５４】
また、上述したように画素３０は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色毎に列方向に（図１に示す縦方向）に並んでいる。図９Ｄに示すように、Ｒ、Ｇ、Ｂの各列を一組とし、各列を、Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１、Ｒ２、Ｇ２、Ｂ２、Ｒ３、Ｇ３、Ｂ３、．．．、Ｒｍ−１、Ｇｍ−１、Ｂｍ−１、Ｒｍ、Ｇｍ、Ｂｍと色と組の番号とを用いて表記する。ここで、本実施形態ではｍが偶数である場合を例に挙げて説明しているが、ｍは奇数であってもよい。
【００５５】
第１の工程では、まず、奇数番の組のＲ色の列に、発光ポリマー材料（Ｒ）を含有する有機化合物含有液（溶液５２）を、溶液５２を連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｄに示すように、Ｒ１、Ｒ３の順にＲｍ−１まで、５列おきに塗布する。この際、図１０Ａに示すように、溶液５２はノズルヘッド５０のノズルから吐出され、基板３１上に塗布される。ノズルヘッド５０は隔壁４８間に溶液５２を吐出しながら、隔壁４８が形成された方向（図１０Ａでは左右方向）に沿って移動する。なお、各列への塗布を連続して行う場合は、図１０Ａに示すように、ノズルヘッド５０が基板３１外にある間に、基板３１を隔壁４８が形成された方向と直交する方向（図１０Ａでは上下方向）に、所定の距離だけ移動させる。これを繰り返すことで、溶液５２が所定の列に塗布される。なお、ノズルヘッド５０が基板３１外にある間、溶液５２は吐出させたままであってもよいし、吐出を一旦停止させてもよい。ここで、図１０Ａに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を１つだけ有する場合には、Ｒ１、Ｒ３、・・・、Ｒｍ−１の１列毎に、ノズルヘッド５０の移動方向を交互に変えて塗布する。また、図１０Ｂに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を２つ有する場合には、Ｒ１とＲ３、Ｒ５とＲ７、・・・、Ｒｍ−３とＲｍ−１の２列毎に、ノズルヘッド５０の移動方向を交互に変えて塗布する。以下においても同様の動作となる。なお、基板３１を移動させる代わりに、ノズルヘッド５０を隔壁４８が形成された方向と直交する方向に所定の距離だけ移動させてもよい。
【００５６】
次に、奇数組目のＢ色の列に、発光ポリマー材料（Ｂ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｅに示すように、Ｂ１、Ｂ３の順に、Ｂｍ−１まで５列おきに塗布する。
【００５７】
更に、偶数組目のＧ色の列に、発光ポリマー材料（Ｇ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｆに示すように、Ｇ２、Ｇ４の順にＧｍまで５列おきに塗布する。
【００５８】
このように、第１の工程では、奇数組のＲ色の列、奇数組のＢ色の列、偶数組のＧ色の列に有機化合物含有液が塗布される。すなわち、図９Ｄ〜図９Ｆに示すように、発光層の発光色によらず、左端から数えた列の番号でみると、第１の工程の奇数組のＲ色の列を塗布する工程では、第１列、第７列の順に発光層が形成され、奇数組のＢ色の列を塗布する工程では、第３列、第９列の順に発光層が形成され、偶数組のＧ色の列を塗布する工程では、第５列、第１１列の順に発光層が形成されている。この結果、第１の工程を全体としてとらえると、第１列、第３列、第５列、第７列、第９列、…と、１列おきに、奇数列の発光層が形成されている。
【００５９】
次に、第２の工程では、まず、奇数組のＧ色の列に、発光ポリマー材料（Ｇ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｇに示すように、Ｇ１、Ｇ３の順に、５列おきにＧｍ−１まで塗布する。
【００６０】
続いて、偶数組目のＲ色の列に、発光ポリマー材料（Ｒ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｈに示すように、Ｒ２、Ｒ４の順に、Ｒｍまで塗布する。
【００６１】
更に、偶数組目のＢ色の列に、発光ポリマー材料（Ｂ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｉに示すように、Ｂ２、Ｂ４の順に、Ｂｍまで塗布する。
【００６２】
このように、第２の工程では、奇数組のＧ色の列、偶数組のＲ色の列、偶数組のＢ色の列に有機化合物含有液を塗布する。すなわち、図９Ｇ〜図９Ｉに示すように、発光層の発光色によらず、左から数えた列の番号でみると、第２の工程の奇数組のＧ色の列を塗布する工程では、第２列、第８列の順に発光層が形成され、偶数組のＲ色の列を塗布する工程では、第４列、第１０列の順に発光層が形成され、偶数組のＢ色の列を塗布する工程では、第６列、第１２列の順に発光層が形成される。つまり、第２の工程を全体としてとらえると、第２列、第４列、第６列、第８列、第１０列、第１２列、…と、第１の工程で発光層４５が形成されなかった偶数列に発光層４５が形成されている。
【００６３】
なお、第１の工程で最後に塗布する色と、第２の工程の最初に塗布する色とを同じとすると、ノズルプリンティング装置のノズルを変更する必要がなく、効率的で好ましい。
【００６４】
ここで、第1の工程で塗布された有機化合物含有液の一部は隔壁４８上部に乗り上げた形で発光層４５を形成するため、発光層４５の厚みの分だけ、隔壁４８の高さが高くなる。この場合、第２の工程での有機化合物含有液の吐出量を第１の工程での吐出量と同じとすると、隔壁４８の高さが高くなっている分、第２の工程で塗布される有機化合物含有液は、第１の工程で塗布された有機化合物含有液に比べて隔壁４８上部に乗り上げる量が少ない。この結果、第２の工程で塗布される有機化合物含有液は、第１の工程で塗布される有機化合物含有液に比べて隔壁４８間に多く溜まり、第２の工程で形成される発光層の膜厚が、第１の工程で形成される発光層の膜厚より厚くなることがある。このため、第２の工程での有機化合物含有液の吐出量を、第１の工程での吐出量より減らすようにしてもよい。これにより、第１の工程で形成される発光層の膜厚と、第２の工程で形成される発光層の膜厚とを揃えることができる。
【００６５】
続いて、図８に示すように、発光層４５まで形成した基板３１に真空蒸着やスパッタリングで、Ｌｉ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる層と、Ａｌ等の光反射性導電層からなる２層構造の対向電極４６を形成する。
【００６６】
次に、複数の画素３０が形成された発光領域の外側において、基板３１上に紫外線硬化樹脂、又は熱硬化樹脂からなる封止樹脂を塗布し、図示しない封止基板と基板３１と貼り合わせる。次に紫外線もしくは熱によって封止樹脂を硬化させて、基板３１と封止基板とを接合する。
以上から、発光装置１０が製造される。
【００６７】
上述したように、本実施形態では、発光機能層の発光層４５を第１の工程で１列おきに形成した上で、第１の工程で形成しなかった列に第２の工程で発光層４５を形成する。これにより、発光層４５を良好な均一性を備える膜とすることができる。
【００６８】
ここで、本発明の実施形態による効果について説明する。ノズルプリンティング方式は、ノズルヘッドより溶液を連続して吐出して、連続して液柱を形成して塗布する方式であるため、溶液を間欠的に吐出するインクジェットプリント方式より高速で印刷が可能である。一方、ノズルプリンティング方式によってＲＧＢの発光層を形成する際は、混色を避けるため、隔壁内部に溶液が収まるように塗布する必要がある。更に、表示特性を良好にするためには、隔壁内部の発光機能層膜厚制御を良好に行う必要がある。このため、例えば、塗布前に隔壁上の疎水化処理を行い、有機化合物含有液が隔壁上に残らないようにすることが理想的である。しかし、画素密度が向上し、高精細化されたパネルの隔壁上にインクが残らないように塗布するにはノズルからの吐出量を絞り込む必要がある。ノズルからの吐出量を減らすと、吐出安定性が悪くなる。さらに、ノズル径を絞り込むと、配管が詰まりやすくなり、メンテナンス回数が増加し、生産性が落ちるデメリットがある。従って、実際には、溶液の塗布において溶液が隔壁上にも残存することは避けられない。そして、そのような場合であっても、良好な均一性を備える膜厚とすることが求められている。なお、これらはノズルプリント法に限られず、他の印刷法であっても同様に存在する問題である。
【００６９】
ここで、塗布した溶液が隔壁上にも残存するように塗布する構成において、Ｒ色の発光層４５Ｒを全列塗布した後に、Ｇ色の発光層４５Ｇを全列塗布し、次いでＢ色の発光層４５Ｂを全列に塗布することによってＲＧＢの発光層を形成する構成を比較例として、これと比較したときの本実施形態における効果を説明する。
【００７０】
図１１（ａ）は本実施形態における発光装置１０の断面構成を示す図であり、図１１（ｂ）は本実施形態における各発光層４５の膜厚等高線を示す図である。また、図１２（ａ）は比較例における発光装置の断面構成を示す図であり、図１２（ｂ）は比較例における各発光層の膜厚等高線を示す図である。
【００７１】
上記比較例の場合、図１２（ａ）及び（ｂ）に示すように、後から塗布するＧ色の発光層、Ｂ色の発光層の膜厚が均一となりにくい。これは、隔壁上より発光層上の方が発光層形成用の有機化合物含有液がなじみやすいことに起因している。すなわち、Ｒ色の発光層を全列塗布した後にＧ色の発光層を塗布すると、Ｇ色の発光層形成用の有機化合物含有液がＲ色の発光層側へと引っ張られやすくなる。これにより、Ｇ色の発光層中、特に図１２（ａ）に示す左右方向で有機化合物含有液の乾燥速度が異なり、図１２（ｂ）に模式的に示すように、Ｇ色の発光層のＲ色側の膜厚が厚くなり、左右が非対称な膜厚となる。Ｂ色の発光層についても同様であり、先に形成されたＧ色の発光層側の膜厚が厚くなり、左右が非対称な膜厚となる。
【００７２】
これに対し、本実施形態のように１列おきに発光層４５を形成した後、間に残存する列に発光層４５を形成すると、乾燥速度をより均一とすることができる。例えば、Ｒ色の発光層４５Ｒと、Ｂ色の発光層４５Ｂを予め形成した上で、Ｇ色の有機化合物含有液を塗布する。Ｇ色の有機化合物含有液は、Ｒ色の発光層４５ＲとＢ色の発光層４５Ｂとの上に塗布されても、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、図１１（ａ）に示す左右方向で乾燥速度が異なることはない。従って、Ｇ色の発光層４５Ｇは図１１（ｂ）に示すように、左右で膜厚が概ね均一なものとなる。また、予め１列おきに形成するＲ色の発光層４５Ｒ、Ｂ色の発光層４５Ｂについても、隔壁４８上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、Ｒ色の発光層４５Ｒ、Ｂ色の発光層４５Ｂについても、左右が概ね対称な膜厚とすることができる。
【００７３】
なお、上述した実施形態では、第１の工程でＲの奇数組、Ｂの奇数組、Ｇの偶数組の発光層４５を順に形成し、第２の工程でＧの奇数組、Ｒの偶数組、Ｂの偶数組の発光層４５を順に形成する構成を例に挙げて説明したが、これに限られない。例えば、第１の工程でＧの奇数組、Ｒの偶数組、Ｂの偶数組の発光層４５を順に形成し、第２の工程でＲの奇数組、Ｂの奇数組、Ｇの偶数組の発光層４５を順に形成してもよい。要するに、第１の工程全体で１列おきに塗布されていればよい。
【００７４】
また、第１の工程中でＲの奇数組、Ｂの奇数組、Ｇの偶数組の発光層４５を形成する順序についても、任意に変更可能である。同様に、第２の工程でＧの奇数組、Ｒの偶数組、Ｂの偶数組の発光層４５を形成する順序についても任意に変更可能である。
【００７５】
本発明は上述した実施形態に限られず様々な変形及び応用が可能である。例えば、上述した実施形態では、発光装置１０がカラー表示を行うものであって、３色の発光素子を備える構成を例に挙げて説明したが、発光装置１０が単色表示を行うものである場合、１色の発光素子のみを備える。この場合、図１３Ａ及び図１３Ｂに示すように、ｌ列まである発光層のうち、第１の工程では奇数列、第２の工程では偶数列を塗布するようにしてもよい。あるいは、第１の工程で偶数列、第２の工程で奇数列を塗布するようにしてもよい。吐出量に関しても、上述した実施形態と同様であり、発光層の膜厚を均一にするために、第２の工程での吐出量を増やすようにしてもよい。
【００７６】
また、上述した実施形態では、発光機能層は発光層のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、正孔注入層、インターレイヤ層等を更に備えてもよい。また、図１４に示すように、これらの正孔注入層４３、インターレイヤ層４４を形成する際に、本実施形態と同様に１列おきに塗布することもできる。正孔注入層４３、インターレイヤ層４４に本実施形態の製造方法を用いると、図１４に示すように、正孔注入層４３の端は、隣接する正孔注入層４３の端を覆うように形成される。インターレイヤ層４４についても同様に、隣接するインターレイヤ層４４の端を覆うように形成される。
【００７７】
なお、正孔注入層、インターレイヤ層に用いる場合は、複数色の発光層を備える場合であっても、共通した材料から形成することができる。従って、図１３Ａ及びＢに示したように、第１の工程では奇数列、第２の工程では偶数列を塗布してもよいし、第１の工程で偶数列、第２の工程で奇数列を塗布してもよい。
【００７８】
上述した実施形態では、画素回路ＤＳは２つのトランジスタを備える構成を例に挙げているが、３つ以上のトランジスタを備えるものであってもよい。
【００７９】
また、上述した実施形態ではボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を中心に説明したが、これに限られず有機ＥＬ素子ＯＥＬにより発生した光を、対向電極４０を介して外部に出射するトップエミッション型の有機ＥＬ素子に用いることも可能である。
【００８０】
上述した各実施形態では、発光装置を表示装置として利用する構成を例に挙げて説明しているが、プリンタの感光ドラムに光を照射するプリンタヘッド等の露光装置としても利用することができる。
【００８１】
また、上述した実施形態では、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の発光素子を備える構成を例に挙げているが、３色より多くともよいし、２色であってもよい。
【符号の説明】
【００８２】
１０・・・発光装置、３０，３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ・・・画素、３１・・・基板、３２・・・絶縁膜、４２・・・画素電極（アノード電極）、４３・・・正孔注入層、４４・・・インターレイヤ層、４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂ・・・発光層、４６・・・対向電極（カソード電極）、４７・・・層間絶縁膜、４８・・・隔壁、５０・・・ノズルヘッド、５２・・・溶液、１１４・・・半導体層、１１５・・・ストッパ膜、１１６，１１７・・・オーミックコンタクト層、Ｔｒ１１ｄ，Ｔｒ１２ｄ・・・ドレイン電極、Ｔｒ１１ｇ，Ｔｒ１２ｇ・・・ゲート電極、Ｔｒ１１ｓ，Ｔｒ１２ｓ・・・ソース電極、Ｌａ・・・アノードライン、Ｌｓ・・・走査ライン、Ｌｄ・・・データライン、Ｔｒ１１・・・選択トランジスタ、Ｔｒ１２・・・駆動トランジスタ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（electroluminescence）素子を用いた発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）に続く次世代の表示デバイスとして、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と略記する）等の自発光素子を２次元配列した発光素子型の表示パネルを備えた発光装置の研究開発が行われている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、アノード電極と、カソード電極と、これらの一対の電極間に形成され、例えば発光層、正孔注入層、等を有する有機ＥＬ層（発光機能層）と、を備える。有機ＥＬ素子では、発光層において正孔と電子とが再結合することによって発生するエネルギーによって発光する。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子の発光層、正孔注入層等は、例えば、特許文献１に開示されているように、隔壁によって仕切られた空間に、溶液を塗布し、溶媒を乾燥させることによって形成される。溶液の塗布は、例えばノズルプリンティング方式、インクジェットプリント方式等によって行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１２３０８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、有機ＥＬ素子では、発光機能層の膜厚が不均一であると、発光が不均一となるという問題がある。このため、発光機能層の膜厚を良好に制御し、良好な均一性を有する膜とすることが求められている。
【０００７】
本発明は上述した実情に鑑みてなされたものであって、膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点に係る発光装置は、
複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と、前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
前記発光機能層が、行方向に隣接して配列された前記各発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層を覆うように形成された前記発光素子を少なくとも一つ備えることを特徴とする。
【０００９】
前記発光装置は、前記間隙領域に形成され、前記各発光素子の前記発光層の形成領域を画し、その上面は前記発光機能層の上面より高い隔壁を有し、
前記発光機能層は、前記間隙領域において、前記隔壁の一部に乗り上げて形成されていてもよい。
【００１０】
前記複数の発光素子は、前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層の一部が、行方向に隣接する前記発光素子の前記発光機能層に覆われている第１の発光素子と、前記発光機能層が、行方向に隣接する前記発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層の一部を覆っている第２の発光素子と、を有し、
前記第１の発光素子と前記第２の発光素子とは、行方向に交互に設けられていてもよい。
【００１１】
前記複数の発光素子は、前記発光層として、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、
前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し配置され、
奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第１の発光素子の構成要素であり、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第２の発光素子の構成要素であってもよい。
【００１２】
前記複数の発光素子は、前記発光層として、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、
前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し配置され、
偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第１の発光素子の構成要素であり、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第２の発光素子の構成要素であってもよい。
【００１３】
前記発光機能層は、前記発光層に正孔を注入する正孔注入層、インターレイヤ層の少なくとも何れか１つを含んでもよい。
【００１４】
上記目的を達成するため、本発明の第２の観点に係る発光装置の製造方法は、
所定の発光色で発光する発光層を有する複数の発光素子が、複数の行及び複数の列に沿って配列された発光装置の製造方法であって、
前記複数の発光素子の前記発光層の形成領域に、有機材料を含む溶液を塗布して、前記発光層を含む発光機能層を形成する発光機能層形成工程を備え、
前記発光機能層形成工程は、
１列おきに配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を１列おきに形成する第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とする。
【００１５】
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記第１の工程及び前記第２の工程で形成される前記発光機能層は、前記間隙領域にも形成され、
前記第２の工程で前記間隙領域に形成される前記発光機能層は、行方向に隣接する前記各発光素子との間の前記間隙領域に前記第１の工程で前記間隙領域に形成された前記発光機能層の一部を覆うように形成されてもよい。
【００１６】
前記複数の発光素子は、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し並んで配置され、
前記第１の工程では、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層を形成し、
前記第２の工程では、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層を形成してもよい。
【００１７】
前記複数の発光素子は、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し並んで配置され、
前記第１の工程では、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層を形成し、
前記第２の工程では、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層を形成してもよい。
【００１８】
前記発光機能層は、前記発光層に正孔を注入する正孔注入層、インターレイヤ層の少なくとも何れか１つを含んでもよい。
【００１９】
前記第１の工程では、前記溶液の塗布量を第１の量に設定し、
前記第２の工程では、前記溶液の塗布量を前記第１の量より少ない第２の量に設定してもよい。
【００２０】
上記目的を達成するため、本発明の第３の観点に係る電子機器は、
上記第１の観点に係る発光装置を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、１列おきに発光機能層を形成する第１の工程と、第１の工程で形成されなかった列に発光機能層を形成する第２の工程に分割することにより、膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図３】発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図４】発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図５】図１に示す発光装置の断面構成を示す図である。
【図６】画素の駆動回路の一例の等価回路図である。
【図７】画素の平面図である。
【図８】図７に示すVIII−VIII線断面図である。
【図９Ａ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｂ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｃ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｄ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｅ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｆ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｇ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｈ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｉ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図１０Ａ】ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。
【図１０Ｂ】ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。
【図１１】（ａ）は本実施形態における発光装置の断面構成を示す図であり、（ｂ）は、本実施形態における各発光層の膜厚等高線を示す図である。
【図１２】（ａ）は比較例における発光装置の断面構成を示す図であり、（ｂ）は、比較例における各発光層の膜厚等高線を示す図である。
【図１３Ａ】発光装置の製造方法の変形例を示す図である。
【図１３Ｂ】発光装置の製造方法の変形例を示す図である。
【図１４】発光装置の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の実施形態に係る発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器について図を用いて説明する。本実施形態では、有機ＥＬ素子により発生した光を有機ＥＬ素子が形成された基板を介して外部に出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ（electroluminescence）素子を用いたアクティブ駆動方式の発光装置を例に挙げて説明する。また、本実施形態の発光装置は表示装置としても用いられる。
【００２４】
図１は実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。図２乃至図４は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。図５は、図１に示す発光装置１０の断面構成を示す図である。また、図６は画素３０の駆動回路の一例の等価回路図である。図７は、画素３０Ｇの平面図であり、図８は図７に示すVIII−VIII線断面図である。
【００２５】
発光装置１０がカラー表示を行うものである場合、基板３１上には、図１に示すようにそれぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の何れかの発光色で発光する発光素子を有する３つの画素３０（３０Ｒ、３０Ｇ、３０Ｂ）を一組として、この組が行方向（図１の左右方向）に繰り返し複数個、例えばｍ個配列されるとともに、列方向（図１の上下方向）に同一色の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばｎ個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に３ｍ個配列されており、ＲＧＢの各色を発光する画素はマトリクス状に、３ｍ×ｎ個配列される。
【００２６】
基板３１上には、行方向に配列され、図６に示す複数の画素回路ＤＳに接続されたアノードラインＬａと、行方向に配列された複数の画素回路ＤＳにそれぞれ接続された複数のデータラインＬｄと、行方向に配列された複数の画素回路ＤＳのトランジスタＴｒ１１を選択する走査ラインＬｓと、が形成されている。
【００２７】
このような構成を採る発光装置１０は、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器の表示部（ディスプレイ）として用いられる。具体的には、カメラ２００は、例えば図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、レンズ部２０１と、操作部２０２と、表示部２０３と、ファインダー２０４と、を備える。この表示部２０３として、発光装置１０が用いられる。同様に、パーソナルコンピュータ２１０は図３に示すように、表示部２１１と操作部２１２とを備え、発光装置１０は、表示部２１１として用いられる。更に、携帯電話２２０は表示部２２１と操作部２２２と受話部２２３と送話部２２４とを備え、発光装置１０は表示部２２１として用いられる。
【００２８】
次に、図１に示す発光装置１０の断面構成を図５に示す。図５では、説明の便宜のため、基板３１、画素電極４２、隔壁４８、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光色を有する３色の発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂ（以下、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂを総称して発光層４５とも記す）のみを図示し、その他の構成要素については図示を省略している。３色の発光色の発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂは、それぞれ３色の画素３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂの、各々の発光素子を形成するものである。詳細に後述するように、本実施形態では、第１の工程で発光層４５を１列おきに形成した上で、第２の工程で第１の工程で形成しなかった列に発光層４５を形成する。具体的には、例えば図５の左端から奇数番目の列の発光層４５を形成した上で、偶数番目の列の発光層４５を形成することを特徴とする。このため、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂは、Ｒ、Ｇ、Ｂの順では形成されない。例えば図５に示すように偶数列の画素３０Ｇの発光層４５Ｇは、両隣に存する奇数列の画素３０Ｒの発光層４５Ｒ及び画素３０Ｂの発光層４５Ｂが形成された後で形成される。図５に示すように、隔壁４８の上面は、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂの中央の平坦部の上面より高くなっている。また、図５に示すように、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂの行方向の両端は、一部が隔壁４８に乗り上げるように形成されている。これにより、図５では、画素３０Ｇの発光層４５Ｇの隔壁４８に乗り上げた端は、画素３０Ｒの発光層４５Ｒと画素３０Ｂの発光層４５Ｂの隔壁４８に乗り上げた端を覆うようにして、画素３０Ｒの発光層４５ＲとＢの発光層４５Ｂの端に乗り上げて形成される。
【００２９】
次に、発光装置１０を構成する画素３０について、図６乃至８を用いて説明する。なお、本実施形態では奇数列の画素３０の発光層４５の隔壁４８に乗リ上げた端が、隣接する画素３０の隔壁４８に乗り上げた端を覆うように形成されている以外は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各画素３０の構成は同一であるため、以下、Ｇの画素３０Ｇを例に挙げて説明する。
【００３０】
画素３０は画素回路ＤＳを有して構成されている。画素回路ＤＳは、例えば図６に示すように、選択トランジスタＴｒ１１、駆動トランジスタＴｒ１２、キャパシタＣｓ、有機ＥＬ素子（発光素子）ＯＥＬと、を備える。
【００３１】
図６に示すように、選択トランジスタＴｒ１１は、ゲート端子が走査ラインＬｓに、ドレイン端子がデータラインＬｄに、ソース端子が接点Ｎ１１にそれぞれ接続される。また、駆動トランジスタＴｒ１２は、ゲート端子が接点Ｎ１１に接続されており、ドレイン端子がアノードラインＬａに、ソース端子が接点Ｎ１２にそれぞれ接続されている。キャパシタＣｓは、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート端子及びソース端子に接続されている。なお、キャパシタＣｓは、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート−ソース間に付加的に設けられた補助容量、もしくは駆動トランジスタＴｒ１２のゲート−ソース間の寄生容量と補助容量からなる容量成分である。また、有機ＥＬ素子ＯＥＬは、アノード端子（画素電極４２）が接点Ｎ１２に接続され、カソード端子（対向電極４６）に基準電圧Ｖｓｓが印加されている。
【００３２】
走査ラインＬｓは、画素基板の周縁部に配置された走査ドライバ（図示せず）に接続されており、所定タイミングで行方向に配列された複数の画素３０を選択状態に設定するための選択電圧信号（走査信号）が印加される。また、データラインＬｄは、画素基板の周縁部に配置されたデータドライバ（図示せず）に接続され、上記画素３０の選択状態に同期するタイミングで発光データに応じたデータ電圧（階調信号）が印加される。行方向に配列された複数の駆動トランジスタＴｒ１２が、当該駆動トランジスタＴｒ１２に接続された有機ＥＬ素子ＯＥＬの画素電極４２（例えばアノード端子）に発光データに応じた駆動電流を流す状態に設定するように、アノードラインＬａ（供給電圧ライン）は、所定の高電位電源に直接又は間接的に接続されている。つまり、アノードラインＬａは、有機ＥＬ素子ＯＥＬの対向電極４６に印加される基準電圧Ｖｓｓより十分電位の高い所定の高電位（供給電圧Ｖｄｄ）が印加される。また、対向電極４６は、例えば、所定の低電位電源に直接又は間接的に接続され、基板３１上にアレイ状に配列された全ての画素３０に対して単一の電極層により形成されており、所定の低電圧（基準電圧Ｖｓｓ、例えば接地電位ＧＮＤ）が共通に印加されるように設定されている。
【００３３】
また、アノードラインＬａと走査ラインＬｓとは、各トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のソース電極、ドレイン電極とを形成するソース−ドレイン導電層を用いてこれらソース電極、ドレイン電極とともに形成される。データラインＬｄは、各トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のゲート電極となるゲート導電層を用いてゲート電極とともに形成される。データラインＬｄとドレイン電極Ｔｒ１１ｄとの間の絶縁膜３２には、図７に示すように、コンタクトホール６１が形成され、データラインＬｄとドレイン電極Ｔｒ１１ｄとはコンタクトホール６１を介して導通している。走査ラインＬｓとゲート電極Ｔｒ１１ｇの両端との間の絶縁膜３２には、それぞれコンタクトホール６２、６３が形成され、走査ラインＬｓとゲート電極Ｔｒ１１ｇとはコンタクトホール６２、６３を介して導通している。ソース電極Ｔｒ１１ｓとゲート電極Ｔｒ１２ｇとの間の絶縁膜３２には、コンタクトホール６４が形成され、ソース電極Ｔｒ１１ｓとゲート電極Ｔｒ１２ｇとはコンタクトホール６４を介して導通している。なお、絶縁膜３２は、絶縁性材料、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等から形成され、データラインＬｄ、ゲート電極Ｔｒ１１ｇ及びゲート電極Ｔｒ１２ｇを覆うように基板３１上に形成される。
【００３４】
次に、有機ＥＬ素子ＯＥＬは、図８に示すように、画素電極４２と、発光層４５と、対向電極４６と、を備える。なお、図８では、説明の便宜上、発光に寄与する発光機能層として発光層４５のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、後述する図１４に示すように、発光機能層は、正孔注入層４３と発光層４５とを備えていてもよく、更に、正孔注入層４３とインターレイヤ層４４と発光層４５とを備えていてもよい。
【００３５】
各画素の基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなる選択トランジスタＴｒ１１、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート電極Ｔｒ１１ｇ、Ｔｒ１２ｇが形成されている。各画素に隣接した基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインＬｄが形成されている。
【００３６】
画素電極（アノード電極）４２は、透光性を備える導電材料、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ等から構成される。各画素電極４２は隣接する他の画素３０の画素電極４２と層間絶縁膜４７によって絶縁されている。
【００３７】
層間絶縁膜４７は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成されている。層間絶縁膜４７は、画素電極４２間に形成され、トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２や走査ラインＬｓ、アノードラインＬａを絶縁保護する。層間絶縁膜４７には略方形の開口部４７ａが形成されており、この開口部４７ａによって画素３０の発光領域が画される。更に層間絶縁膜４７上には隔壁４８が形成されている。隔壁４８には列方向（図７の上下方向）に延びる溝状の開口部４８ａが複数の画素３０にわたって形成されている。ここで、層間絶縁膜４７及びその上に形成される隔壁４８は、行方向に隣接して配列される各画素３０の発光領域間の間隙領域を形成している。
【００３８】
隔壁４８は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜４７上に形成される。隔壁４８は、図７に示すように列方向に沿った複数の画素の画素電極４２をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁４８の平面形状は、これに限られず各画素電極４２毎に開口部をもった格子状であってもよい。また、隔壁４８の上面は、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂの中央の平坦部の上面より高くなるように形成される。
【００３９】
なお、隔壁４８の表面、層間絶縁膜４７の表面に撥液処理を施してもよい。ここで撥液とは、水系の溶媒、有機系溶媒のいずれをも弾く性質を示す。
【００４０】
発光層４５は、画素電極（アノード電極）４２上に形成されている。発光層４５は、アノード電極４２とカソード電極４６との間に電圧を印加することにより所定の発光色の光を発生する機能を有する。発光層４５は、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料から構成される。また、これらの発光材料は、適宜水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解（又は分散）した溶液（分散液）をノズルプリンティング方式やインクジェットプリント方式等により塗布し、溶媒を揮発させることによって形成する。
【００４１】
本実施形態では、発光層４５の形成工程を二つに分け、１列おきに一旦発光層４５を間引いて形成した上で、間引かれた列の発光層４５を形成する点に特徴がある。このため、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の発光層４５は、Ｒ、Ｇ、Ｂの順で形成されない。従って、例えば図５に示すように偶数列の画素３０Ｇの発光層４５Ｇは、両隣に存する奇数列の画素３０Ｒの発光層４５Ｒ及び奇数列の画素３０Ｂの発光層４５Ｂを形成した後で形成される。これにより、図５では、画素３０Ｇの発光層４５Ｇの隔壁４８に乗り上げた端は、画素３０Ｒの発光層４５Ｒと画素３０Ｂの発光層４５Ｂの隔壁４８に乗り上げた端の一部を覆うようにして、画素３０Ｒの発光層４５Ｒと画素３０Ｂの発光層４５Ｂの隔壁４８に乗り上げた端の一部に乗り上げて形成される。
【００４２】
ここで、発光機能層として、正孔注入層が設けられる場合、図１４に示すように、正孔注入層４３は、画素電極４２と発光層４５との間に設けられる。正孔注入層４３は発光層４５に正孔を供給する機能を有する。正孔注入層４３は正孔（ホール）注入・輸送が可能な有機高分子系の材料、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とドーパントであるポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）から構成される。
更に、発光機能層としてインターレイヤ層が設けられる場合、図１４に示すように、インターレイヤ層４４は正孔注入層４３と発光層４５との間に設けられる。インターレイヤ層４４は、正孔注入層４３の正孔注入性を抑制して発光層４５内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層４５の発光効率を高める。
【００４３】
また、対向電極（カソード電極）４６は、ボトムエミッション型の場合、発光層４５側に設けられ、導電材料、例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Ａｌ等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。本実施形態では、対向電極４６は複数の画素３０に跨って形成される単一の電極層から構成され、例えば接地電位である基準電圧Ｖｓｓが印加されている。なお、有機ＥＬ素子ＯＥＬをトップエミッション型とする場合、対向電極４６は、発光層４５側に設けられ、１０ｎｍ程度の膜厚の極薄い例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる光透過性低仕事関数層と、１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の膜厚のＩＴＯ等の光反射性導電層を有する透明積層構造とする。
【００４４】
次に、本実施形態に係る発光装置の製造方法を、図９Ａ〜図９Ｉ、図１０Ａ及び図１０Ｂを用いて説明する。図１０Ａ及び図１０Ｂは、ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。ノズルプリンティング装置は、図１０Ａに示すように、概略、有機化合物含有液からなる溶液５２を連続して吐出するノズルを有するノズルヘッド５０を備え、ノズルヘッド５０を基板３１上の塗布領域に沿って移動させることによって、基板３１上の塗布領域に溶液５２を塗布するものである。また、図１０Ａはノズルヘッド５０を１つだけ有する場合の構成を示し、図１０Ｂはノズルヘッド５０を２つ有する場合の構成を示す。なお、図１０Ａ及び図１０Ｂにおける基板３１は、図７の上下方向が図１０Ａ及び図１０Ｂの左右方向となる向きに配置されている。ここで、図１０Ｂにおいてはノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を２つ有する場合について示したが、これに限らず、ノズルヘッド５０を３つ以上の複数個有するものであってもよい。また、選択トランジスタＴｒ１１は駆動トランジスタＴｒ１２と同一工程によって形成されるので、選択トランジスタＴｒ１１の形成の説明を一部省略する。
【００４５】
図９Ａに示すように、まず、ガラス基板等からなる基板３１を用意する。次に、この基板３１上に、スパッタ法、真空蒸着法等により例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＡｌＮｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるゲート導電膜を形成し、これを図９Ａに示すように駆動トランジスタＴｒ１２のゲート電極Ｔｒ１２ｇの形状にパターニングする。この際、図示はしていないが、選択トランジスタＴｒ１１のゲート電極Ｔｒ１１ｇ、及びデータラインＬｄも形成する。続いて、図９Ｂに示すように、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等によりゲート電極Ｔｒ１２ｇ及びデータラインＬｄ上に絶縁膜３２を形成する。
【００４６】
次に、絶縁膜３２上に、ＣＶＤ法等により、アモルファスシリコン等からなる半導体層を形成する。次に、半導体層上に、ＣＶＤ法等により、例えばＳｉＮ等からなる絶縁膜を形成する。続いて、絶縁膜をフォトリソグラフィ等によりパターニングし、ストッパ膜１１５を形成する。更に、半導体層及びストッパ膜１１５上に、ＣＶＤ法等により、ｎ型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜を形成し、この膜と半導体層とをフォトリソグラフィ等によりパターニングすることで、図９Ｂに示すように、半導体層１１４とオーミックコンタクト層１１６，１１７とを形成する。
【００４７】
次に、スパッタ法、真空蒸着法等により絶縁膜３２上に、ＩＴＯ等の透明導電膜、或いは光反射性導電膜及びＩＴＯ等の透明導電膜を被膜後、フォトリソグラフィによってパターニングして画素電極４２を形成する。
【００４８】
続いて、絶縁膜３２に貫通孔であるコンタクトホール６１〜６４を形成してから、例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＡｌＮｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜をスパッタ法、真空蒸着法等により被膜して、フォトリソグラフィによってパターニングして図９Ｂに示すようにドレイン電極Ｔｒ１２ｄ及びソース電極Ｔｒ１２ｓを形成する。これと同時に、アノードラインＬａを形成する。このとき、駆動トランジスタＴｒ１２のソース電極Ｔｒ１２ｓはそれぞれ画素電極４２の一部と重なるように形成される。
【００４９】
続いて、図９Ｃに示すように、駆動トランジスタＴｒ１２等を覆うようにシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜４７をＣＶＤ法等により形成後、フォトリソグラフィにより、開口部４７ａを形成する。次に、感光性ポリイミドを、層間絶縁膜４７を覆うように塗布し、隔壁４８の形状に対応するマスクを介して露光、現像することによってパターニングし、図９Ｃに示すように開口部４８ａを有する隔壁４８を形成する。
【００５０】
続いて、発光機能層として正孔注入層を形成する場合は、正孔注入材料を含む有機化合物含有液を溶液５２としてノズルヘッド５０から連続して吐出する図１０Ａ又は図１０Ｂに示すノズルプリンティング装置、あるいは個々に独立した複数の液滴として間欠的に吐出するインクジェット装置によって、開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に選択的に塗布する。続いて、基板３１を大気雰囲気下で加熱し有機化合物含有液の溶媒を揮発させて、正孔注入層４３を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００５１】
また、発光機能層としてインターレイヤ層を形成する場合は、インターレイヤ層４４となる材料を含有する有機化合物含有液を溶液５２として、ノズルヘッド５０から連続して吐出する図１０Ａ又は図１０Ｂに示すノズルプリンティング装置またはインクジェット装置を用いて、正孔注入層４３上に塗布する。続いて、窒素雰囲気中の加熱乾燥、或いは真空中での加熱乾燥を行い、残留溶媒の除去を行ってインターレイヤ層４４を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００５２】
次に、発光機能層として発光層４５を形成するために、発光ポリマー材料（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を含有する有機化合物含有液を溶液５２としてノズルヘッド５０から連続して吐出する図１０Ａ又は図１０Ｂに示すノズルプリンティング装置によるノズルプリンティング方式を用いて、隔壁４８の間に設けられ、開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に塗布する。塗布は、隔壁４８の形成方向（図７及び図９Ｄ〜図９Ｉにおける上下方向）に沿って塗布する。
【００５３】
ここで、本実施形態における発光層４５の形成方法について詳しく説明する。
本実施形態における発光層４５の形成は、１列おきに発光層４５を形成する第１の工程と、第１の工程で形成されなかった列に発光層４５を形成する第２の工程に分割して行う。各工程について、以下、図９Ｄ〜図９Ｉを用いて説明する。図９Ｄ〜図９Ｉでは、説明の便宜のため、発光層４５を形成するための有機化合物含有液を塗布する列を濃色で示す。更に、発光層４５の形成が終了している列は実線で、発光層４５が形成されていない列は破線で示す。
【００５４】
また、上述したように画素３０は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色毎に列方向に（図１に示す縦方向）に並んでいる。図９Ｄに示すように、Ｒ、Ｇ、Ｂの各列を一組とし、各列を、Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１、Ｒ２、Ｇ２、Ｂ２、Ｒ３、Ｇ３、Ｂ３、．．．、Ｒｍ−１、Ｇｍ−１、Ｂｍ−１、Ｒｍ、Ｇｍ、Ｂｍと色と組の番号とを用いて表記する。ここで、本実施形態ではｍが偶数である場合を例に挙げて説明しているが、ｍは奇数であってもよい。
【００５５】
第１の工程では、まず、奇数番の組のＲ色の列に、発光ポリマー材料（Ｒ）を含有する有機化合物含有液（溶液５２）を、溶液５２を連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｄに示すように、Ｒ１、Ｒ３の順にＲｍ−１まで、５列おきに塗布する。この際、図１０Ａに示すように、溶液５２はノズルヘッド５０のノズルから吐出され、基板３１上に塗布される。ノズルヘッド５０は隔壁４８間に溶液５２を吐出しながら、隔壁４８が形成された方向（図１０Ａでは左右方向）に沿って移動する。なお、各列への塗布を連続して行う場合は、図１０Ａに示すように、ノズルヘッド５０が基板３１外にある間に、基板３１を隔壁４８が形成された方向と直交する方向（図１０Ａでは上下方向）に、所定の距離だけ移動させる。これを繰り返すことで、溶液５２が所定の列に塗布される。なお、ノズルヘッド５０が基板３１外にある間、溶液５２は吐出させたままであってもよいし、吐出を一旦停止させてもよい。ここで、図１０Ａに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を１つだけ有する場合には、Ｒ１、Ｒ３、・・・、Ｒｍ−１の１列毎に、ノズルヘッド５０の移動方向を交互に変えて塗布する。また、図１０Ｂに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を２つ有する場合には、Ｒ１とＲ３、Ｒ５とＲ７、・・・、Ｒｍ−３とＲｍ−１の２列毎に、ノズルヘッド５０の移動方向を交互に変えて塗布する。以下においても同様の動作となる。なお、基板３１を移動させる代わりに、ノズルヘッド５０を隔壁４８が形成された方向と直交する方向に所定の距離だけ移動させてもよい。
【００５６】
次に、奇数組目のＢ色の列に、発光ポリマー材料（Ｂ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｅに示すように、Ｂ１、Ｂ３の順に、Ｂｍ−１まで５列おきに塗布する。
【００５７】
更に、偶数組目のＧ色の列に、発光ポリマー材料（Ｇ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｆに示すように、Ｇ２、Ｇ４の順にＧｍまで５列おきに塗布する。
【００５８】
このように、第１の工程では、奇数組のＲ色の列、奇数組のＢ色の列、偶数組のＧ色の列に有機化合物含有液が塗布される。すなわち、図９Ｄ〜図９Ｆに示すように、発光層の発光色によらず、左端から数えた列の番号でみると、第１の工程の奇数組のＲ色の列を塗布する工程では、第１列、第７列の順に発光層が形成され、奇数組のＢ色の列を塗布する工程では、第３列、第９列の順に発光層が形成され、偶数組のＧ色の列を塗布する工程では、第５列、第１１列の順に発光層が形成されている。この結果、第１の工程を全体としてとらえると、第１列、第３列、第５列、第７列、第９列、…と、１列おきに、奇数列の発光層が形成されている。
【００５９】
次に、第２の工程では、まず、奇数組のＧ色の列に、発光ポリマー材料（Ｇ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｇに示すように、Ｇ１、Ｇ３の順に、５列おきにＧｍ−１まで塗布する。
【００６０】
続いて、偶数組目のＲ色の列に、発光ポリマー材料（Ｒ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｈに示すように、Ｒ２、Ｒ４の順に、Ｒｍまで塗布する。
【００６１】
更に、偶数組目のＢ色の列に、発光ポリマー材料（Ｂ）を含有する有機化合物含有液を、連続して吐出するノズルプリンティング装置によって塗布する。具体的には、図９Ｉに示すように、Ｂ２、Ｂ４の順に、Ｂｍまで塗布する。
【００６２】
このように、第２の工程では、奇数組のＧ色の列、偶数組のＲ色の列、偶数組のＢ色の列に有機化合物含有液を塗布する。すなわち、図９Ｇ〜図９Ｉに示すように、発光層の発光色によらず、左から数えた列の番号でみると、第２の工程の奇数組のＧ色の列を塗布する工程では、第２列、第８列の順に発光層が形成され、偶数組のＲ色の列を塗布する工程では、第４列、第１０列の順に発光層が形成され、偶数組のＢ色の列を塗布する工程では、第６列、第１２列の順に発光層が形成される。つまり、第２の工程を全体としてとらえると、第２列、第４列、第６列、第８列、第１０列、第１２列、…と、第１の工程で発光層４５が形成されなかった偶数列に発光層４５が形成されている。
【００６３】
なお、第１の工程で最後に塗布する色と、第２の工程の最初に塗布する色とを同じとすると、ノズルプリンティング装置のノズルを変更する必要がなく、効率的で好ましい。
【００６４】
ここで、第1の工程で塗布された有機化合物含有液の一部は隔壁４８上部に乗り上げた形で発光層４５を形成するため、発光層４５の厚みの分だけ、隔壁４８の高さが高くなる。この場合、第２の工程での有機化合物含有液の吐出量を第１の工程での吐出量と同じとすると、隔壁４８の高さが高くなっている分、第２の工程で塗布される有機化合物含有液は、第１の工程で塗布された有機化合物含有液に比べて隔壁４８上部に乗り上げる量が少ない。この結果、第２の工程で塗布される有機化合物含有液は、第１の工程で塗布される有機化合物含有液に比べて隔壁４８間に多く溜まり、第２の工程で形成される発光層の膜厚が、第１の工程で形成される発光層の膜厚より厚くなることがある。このため、第２の工程での有機化合物含有液の吐出量を、第１の工程での吐出量より減らすようにしてもよい。これにより、第１の工程で形成される発光層の膜厚と、第２の工程で形成される発光層の膜厚とを揃えることができる。
【００６５】
続いて、図８に示すように、発光層４５まで形成した基板３１に真空蒸着やスパッタリングで、Ｌｉ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる層と、Ａｌ等の光反射性導電層からなる２層構造の対向電極４６を形成する。
【００６６】
次に、複数の画素３０が形成された発光領域の外側において、基板３１上に紫外線硬化樹脂、又は熱硬化樹脂からなる封止樹脂を塗布し、図示しない封止基板と基板３１と貼り合わせる。次に紫外線もしくは熱によって封止樹脂を硬化させて、基板３１と封止基板とを接合する。
以上から、発光装置１０が製造される。
【００６７】
上述したように、本実施形態では、発光機能層の発光層４５を第１の工程で１列おきに形成した上で、第１の工程で形成しなかった列に第２の工程で発光層４５を形成する。これにより、発光層４５を良好な均一性を備える膜とすることができる。
【００６８】
ここで、本発明の実施形態による効果について説明する。ノズルプリンティング方式は、ノズルヘッドより溶液を連続して吐出して、連続して液柱を形成して塗布する方式であるため、溶液を間欠的に吐出するインクジェットプリント方式より高速で印刷が可能である。一方、ノズルプリンティング方式によってＲＧＢの発光層を形成する際は、混色を避けるため、隔壁内部に溶液が収まるように塗布する必要がある。更に、表示特性を良好にするためには、隔壁内部の発光機能層膜厚制御を良好に行う必要がある。このため、例えば、塗布前に隔壁上の疎水化処理を行い、有機化合物含有液が隔壁上に残らないようにすることが理想的である。しかし、画素密度が向上し、高精細化されたパネルの隔壁上にインクが残らないように塗布するにはノズルからの吐出量を絞り込む必要がある。ノズルからの吐出量を減らすと、吐出安定性が悪くなる。さらに、ノズル径を絞り込むと、配管が詰まりやすくなり、メンテナンス回数が増加し、生産性が落ちるデメリットがある。従って、実際には、溶液の塗布において溶液が隔壁上にも残存することは避けられない。そして、そのような場合であっても、良好な均一性を備える膜厚とすることが求められている。なお、これらはノズルプリント法に限られず、他の印刷法であっても同様に存在する問題である。
【００６９】
ここで、塗布した溶液が隔壁上にも残存するように塗布する構成において、Ｒ色の発光層４５Ｒを全列塗布した後に、Ｇ色の発光層４５Ｇを全列塗布し、次いでＢ色の発光層４５Ｂを全列に塗布することによってＲＧＢの発光層を形成する構成を比較例として、これと比較したときの本実施形態における効果を説明する。
【００７０】
図１１（ａ）は本実施形態における発光装置１０の断面構成を示す図であり、図１１（ｂ）は本実施形態における各発光層４５の膜厚等高線を示す図である。また、図１２（ａ）は比較例における発光装置の断面構成を示す図であり、図１２（ｂ）は比較例における各発光層の膜厚等高線を示す図である。
【００７１】
上記比較例の場合、図１２（ａ）及び（ｂ）に示すように、後から塗布するＧ色の発光層、Ｂ色の発光層の膜厚が均一となりにくい。これは、隔壁上より発光層上の方が発光層形成用の有機化合物含有液がなじみやすいことに起因している。すなわち、Ｒ色の発光層を全列塗布した後にＧ色の発光層を塗布すると、Ｇ色の発光層形成用の有機化合物含有液がＲ色の発光層側へと引っ張られやすくなる。これにより、Ｇ色の発光層中、特に図１２（ａ）に示す左右方向で有機化合物含有液の乾燥速度が異なり、図１２（ｂ）に模式的に示すように、Ｇ色の発光層のＲ色側の膜厚が厚くなり、左右が非対称な膜厚となる。Ｂ色の発光層についても同様であり、先に形成されたＧ色の発光層側の膜厚が厚くなり、左右が非対称な膜厚となる。
【００７２】
これに対し、本実施形態のように１列おきに発光層４５を形成した後、間に残存する列に発光層４５を形成すると、乾燥速度をより均一とすることができる。例えば、Ｒ色の発光層４５Ｒと、Ｂ色の発光層４５Ｂを予め形成した上で、Ｇ色の有機化合物含有液を塗布する。Ｇ色の有機化合物含有液は、Ｒ色の発光層４５ＲとＢ色の発光層４５Ｂとの上に塗布されても、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、図１１（ａ）に示す左右方向で乾燥速度が異なることはない。従って、Ｇ色の発光層４５Ｇは図１１（ｂ）に示すように、左右で膜厚が概ね均一なものとなる。また、予め１列おきに形成するＲ色の発光層４５Ｒ、Ｂ色の発光層４５Ｂについても、隔壁４８上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、Ｒ色の発光層４５Ｒ、Ｂ色の発光層４５Ｂについても、左右が概ね対称な膜厚とすることができる。
【００７３】
なお、上述した実施形態では、第１の工程でＲの奇数組、Ｂの奇数組、Ｇの偶数組の発光層４５を順に形成し、第２の工程でＧの奇数組、Ｒの偶数組、Ｂの偶数組の発光層４５を順に形成する構成を例に挙げて説明したが、これに限られない。例えば、第１の工程でＧの奇数組、Ｒの偶数組、Ｂの偶数組の発光層４５を順に形成し、第２の工程でＲの奇数組、Ｂの奇数組、Ｇの偶数組の発光層４５を順に形成してもよい。要するに、第１の工程全体で１列おきに塗布されていればよい。
【００７４】
また、第１の工程中でＲの奇数組、Ｂの奇数組、Ｇの偶数組の発光層４５を形成する順序についても、任意に変更可能である。同様に、第２の工程でＧの奇数組、Ｒの偶数組、Ｂの偶数組の発光層４５を形成する順序についても任意に変更可能である。
【００７５】
本発明は上述した実施形態に限られず様々な変形及び応用が可能である。例えば、上述した実施形態では、発光装置１０がカラー表示を行うものであって、３色の発光素子を備える構成を例に挙げて説明したが、発光装置１０が単色表示を行うものである場合、１色の発光素子のみを備える。この場合、図１３Ａ及び図１３Ｂに示すように、ｌ列まである発光層のうち、第１の工程では奇数列、第２の工程では偶数列を塗布するようにしてもよい。あるいは、第１の工程で偶数列、第２の工程で奇数列を塗布するようにしてもよい。吐出量に関しても、上述した実施形態と同様であり、発光層の膜厚を均一にするために、第２の工程での吐出量を増やすようにしてもよい。
【００７６】
また、上述した実施形態では、発光機能層は発光層のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、正孔注入層、インターレイヤ層等を更に備えてもよい。また、図１４に示すように、これらの正孔注入層４３、インターレイヤ層４４を形成する際に、本実施形態と同様に１列おきに塗布することもできる。正孔注入層４３、インターレイヤ層４４に本実施形態の製造方法を用いると、図１４に示すように、正孔注入層４３の端は、隣接する正孔注入層４３の端を覆うように形成される。インターレイヤ層４４についても同様に、隣接するインターレイヤ層４４の端を覆うように形成される。
【００７７】
なお、正孔注入層、インターレイヤ層に用いる場合は、複数色の発光層を備える場合であっても、共通した材料から形成することができる。従って、図１３Ａ及びＢに示したように、第１の工程では奇数列、第２の工程では偶数列を塗布してもよいし、第１の工程で偶数列、第２の工程で奇数列を塗布してもよい。
【００７８】
上述した実施形態では、画素回路ＤＳは２つのトランジスタを備える構成を例に挙げているが、３つ以上のトランジスタを備えるものであってもよい。
【００７９】
また、上述した実施形態ではボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を中心に説明したが、これに限られず有機ＥＬ素子ＯＥＬにより発生した光を、対向電極４０を介して外部に出射するトップエミッション型の有機ＥＬ素子に用いることも可能である。
【００８０】
上述した各実施形態では、発光装置を表示装置として利用する構成を例に挙げて説明しているが、プリンタの感光ドラムに光を照射するプリンタヘッド等の露光装置としても利用することができる。
【００８１】
また、上述した実施形態では、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の発光素子を備える構成を例に挙げているが、３色より多くともよいし、２色であってもよい。
【符号の説明】
【００８２】
１０・・・発光装置、３０，３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ・・・画素、３１・・・基板、３２・・・絶縁膜、４２・・・画素電極（アノード電極）、４３・・・正孔注入層、４４・・・インターレイヤ層、４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂ・・・発光層、４６・・・対向電極（カソード電極）、４７・・・層間絶縁膜、４８・・・隔壁、５０・・・ノズルヘッド、５２・・・溶液、１１４・・・半導体層、１１５・・・ストッパ膜、１１６，１１７・・・オーミックコンタクト層、Ｔｒ１１ｄ，Ｔｒ１２ｄ・・・ドレイン電極、Ｔｒ１１ｇ，Ｔｒ１２ｇ・・・ゲート電極、Ｔｒ１１ｓ，Ｔｒ１２ｓ・・・ソース電極、Ｌａ・・・アノードライン、Ｌｓ・・・走査ライン、Ｌｄ・・・データライン、Ｔｒ１１・・・選択トランジスタ、Ｔｒ１２・・・駆動トランジスタ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と、前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
前記発光機能層が、行方向に隣接して配列された前記各発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層を覆うように形成された前記発光素子を少なくとも一つ備えることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記発光装置は、前記間隙領域に形成され、前記各発光素子の前記発光層の形成領域を画し、その上面は前記発光機能層の上面より高い隔壁を有し、
前記発光機能層は、前記間隙領域において、前記隔壁の一部に乗り上げて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記複数の発光素子は、前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層の一部が、行方向に隣接する前記発光素子の前記発光機能層に覆われている第１の発光素子と、前記発光機能層が、行方向に隣接する前記発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層の一部を覆っている第２の発光素子と、を有し、
前記第１の発光素子と前記第２の発光素子とは、行方向に交互に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記複数の発光素子は、前記発光層として、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、
前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し配置され、
奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第１の発光素子の構成要素であり、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第２の発光素子の構成要素である、ことを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記複数の発光素子は、前記発光層として、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、
前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し配置され、
偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第１の発光素子の構成要素であり、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第２の発光素子の構成要素である、ことを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
【請求項６】
前記発光機能層は、前記発光層に正孔を注入する正孔注入層、インターレイヤ層の少なくとも何れか１つを含むことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の発光装置。
【請求項７】
所定の発光色で発光する発光層を有する複数の発光素子が、複数の行及び複数の列に沿って配列された発光装置の製造方法であって、
前記複数の発光素子の前記発光層の形成領域に、有機材料を含む溶液を塗布して、前記発光層を含む発光機能層を形成する発光機能層形成工程を備え、
前記発光機能層形成工程は、
１列おきに配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を１列おきに形成する第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記第１の工程及び前記第２の工程で形成される前記発光機能層は、前記間隙領域にも形成され、
前記第２の工程で前記間隙領域に形成される前記発光機能層は、行方向に隣接する前記各発光素子との間の前記間隙領域に前記第１の工程で前記間隙領域に形成された前記発光機能層の一部を覆うように形成されることを特徴とする請求項７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記複数の発光素子は、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し並んで配置され、
前記第１の工程では、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層を形成し、
前記第２の工程では、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層を形成する、ことを特徴とする請求項７又は８に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記複数の発光素子は、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し並んで配置され、
前記第１の工程では、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層を形成し、
前記第２の工程では、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層を形成する、ことを特徴とする請求項７又は８に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１１】
前記発光機能層は、前記発光層に正孔を注入する正孔注入層、インターレイヤ層の少なくとも何れかを含むことを特徴とする７乃至１０の何れか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１の工程では、前記溶液の塗布量を第１の量に設定し、
前記第２の工程では、前記溶液の塗布量を前記第１の量より少ない第２の量に設定することを特徴とする請求項７乃至１１の何れか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項１】
複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と、前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
前記発光機能層が、行方向に隣接して配列された前記各発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層を覆うように形成された前記発光素子を少なくとも一つ備えることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記発光装置は、前記間隙領域に形成され、前記各発光素子の前記発光層の形成領域を画し、その上面は前記発光機能層の上面より高い隔壁を有し、
前記発光機能層は、前記間隙領域において、前記隔壁の一部に乗り上げて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記複数の発光素子は、前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層の一部が、行方向に隣接する前記発光素子の前記発光機能層に覆われている第１の発光素子と、前記発光機能層が、行方向に隣接する前記発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層の一部を覆っている第２の発光素子と、を有し、
前記第１の発光素子と前記第２の発光素子とは、行方向に交互に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記複数の発光素子は、前記発光層として、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、
前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し配置され、
奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第１の発光素子の構成要素であり、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第２の発光素子の構成要素である、ことを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記複数の発光素子は、前記発光層として、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、
前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し配置され、
偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第１の発光素子の構成要素であり、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層はそれぞれ前記第２の発光素子の構成要素である、ことを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
【請求項６】
前記発光機能層は、前記発光層に正孔を注入する正孔注入層、インターレイヤ層の少なくとも何れか１つを含むことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の発光装置。
【請求項７】
所定の発光色で発光する発光層を有する複数の発光素子が、複数の行及び複数の列に沿って配列された発光装置の製造方法であって、
前記複数の発光素子の前記発光層の形成領域に、有機材料を含む溶液を塗布して、前記発光層を含む発光機能層を形成する発光機能層形成工程を備え、
前記発光機能層形成工程は、
１列おきに配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を１列おきに形成する第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記第１の工程及び前記第２の工程で形成される前記発光機能層は、前記間隙領域にも形成され、
前記第２の工程で前記間隙領域に形成される前記発光機能層は、行方向に隣接する前記各発光素子との間の前記間隙領域に前記第１の工程で前記間隙領域に形成された前記発光機能層の一部を覆うように形成されることを特徴とする請求項７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記複数の発光素子は、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し並んで配置され、
前記第１の工程では、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層を形成し、
前記第２の工程では、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層を形成する、ことを特徴とする請求項７又は８に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記複数の発光素子は、第１の発光色を有する第１の発光層、前記第１の発光色と異なる第２の発光色を有する第２の発光層、前記第１及び第２の発光色と異なる第３の発光色を有する第３の発光層、の何れかを有し、前記第１の発光層と前記第２の発光層と前記第３の発光層とは、前記第１の発光層、前記第２の発光層、前記第３の発光層の順に一組とされ、複数の組が行方向に繰り返し並んで配置され、
前記第１の工程では、偶数組の前記第１の発光層、偶数組の前記第３の発光層及び奇数組の前記第２の発光層を形成し、
前記第２の工程では、奇数組の前記第１の発光層、奇数組の前記第３の発光層及び偶数組の前記第２の発光層を形成する、ことを特徴とする請求項７又は８に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１１】
前記発光機能層は、前記発光層に正孔を注入する正孔注入層、インターレイヤ層の少なくとも何れかを含むことを特徴とする７乃至１０の何れか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１の工程では、前記溶液の塗布量を第１の量に設定し、
前記第２の工程では、前記溶液の塗布量を前記第１の量より少ない第２の量に設定することを特徴とする請求項７乃至１１の何れか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図９Ｅ】
【図９Ｆ】
【図９Ｇ】
【図９Ｈ】
【図９Ｉ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１】
【図１２】
【図１３Ａ】
【図１３Ｂ】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図９Ｅ】
【図９Ｆ】
【図９Ｇ】
【図９Ｈ】
【図９Ｉ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１】
【図１２】
【図１３Ａ】
【図１３Ｂ】
【図１４】
【公開番号】特開２０１１−２９５４２（Ｐ２０１１−２９５４２Ａ）
【公開日】平成２３年２月１０日（２０１１．２．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１７６３３７（Ｐ２００９−１７６３３７）
【出願日】平成２１年７月２９日（２００９．７．２９）
【出願人】（０００００１４４３）カシオ計算機株式会社 (8,748)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月１０日（２０１１．２．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年７月２９日（２００９．７．２９）
【出願人】（０００００１４４３）カシオ計算機株式会社 (8,748)
【Ｆターム（参考）】
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