発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器
【課題】膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】発光装置１０は、一組の画素３０Ｇ１、３０Ｒ、３０Ｇ２、３０Ｂを備える。発光装置１０では、一つの色の画素を２つに分割し、偶数個からなる画素組とした上で、一列おきに発光層４５を形成する。このため、赤色の発光層４５Ｒと青色の発光層４５Ｂの、緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２の隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。発光層の形成を２つの工程に分けることにより、後に形成される発光層の乾燥速度を比較的均一とすることができるため、発光層４５を良好な均一性を備える膜とすることができる。
【解決手段】発光装置１０は、一組の画素３０Ｇ１、３０Ｒ、３０Ｇ２、３０Ｂを備える。発光装置１０では、一つの色の画素を２つに分割し、偶数個からなる画素組とした上で、一列おきに発光層４５を形成する。このため、赤色の発光層４５Ｒと青色の発光層４５Ｂの、緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２の隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。発光層の形成を２つの工程に分けることにより、後に形成される発光層の乾燥速度を比較的均一とすることができるため、発光層４５を良好な均一性を備える膜とすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（electroluminescence）素子を用いた発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）に続く次世代の表示デバイスとして、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と略記する）等の自発光素子を２次元配列した発光素子型の表示パネルを備えた発光装置の研究開発が行われている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、アノード電極と、カソード電極と、これらの一対の電極間に形成され、例えば発光層、正孔注入層、等を有する有機ＥＬ層（発光機能層）と、を備える。有機ＥＬ素子では、発光層において正孔と電子とが再結合することによって発生するエネルギーによって発光する。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子の発光層、正孔注入層等は、例えば、特許文献１に開示されているように、隔壁によって仕切られた空間に、溶液を塗布し、溶媒を乾燥させることによって形成される。溶液の塗布は、例えばノズルプリンティング方式、インクジェットプリント方式等によって行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１２３０８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、有機ＥＬ素子では、有機ＥＬ層の膜厚が不均一であると、発光が不均一となるという問題がある。このため、発光機能層の膜厚を良好に制御し、良好な均一性を有する膜とすることが求められている。
【０００７】
本発明は上述した実情に鑑みてなされたものであって、膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点に係る発光装置は、
複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、
前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に一定の順序で配列された偶数個の前記発光素子を有する複数の組が、行方向に一定の順序で繰り返し配列されており、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
前記発光機能層が、行方向に隣接して配列された前記各発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層を覆うように形成された前記発光素子を少なくとも一つ備えることを特徴とする。
【０００９】
前記偶数個の発光素子を有する組は、
第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、
前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、
前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、を有し、
前記第１の発光素子、前記第２の発光素子、前記第３の発光素子のうち、いずれか１つの特定の発光素子を２個含んでいてもよい。
【００１０】
前記特定の発光素子は、当該特定の発光素子の発光色と異なる発光色の１つの前記発光素子を挟んで、行方向に配列されていてもよい。
【００１１】
前記偶数個の発光素子を有する組は、
第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、
前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、
前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、
前記第１乃至前記第３の発光色と異なる第４の発光色の第４の発光層を有する第４の発光素子と、を備えてもよい。
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明の第２の観点に係る発光装置の製造方法は、
複数の行及び複数の列に沿って所定の発光色で発光する複数の発光素子が配列された発光装置の製造方法であって、
行方向に一定の順序で配列された偶数個の前記発光素子を有する複数の組を、行方向に一定の順序で繰り返し配列して形成する発光素子形成工程を備え、
前記発光素子形成工程は、
１列おきに配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を１列おきに形成する第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とする。
【００１３】
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記第１の工程及び前記第２の工程で形成される前記発光機能層は、前記間隙領域にも形成され、
前記第２の工程で前記間隙領域に形成される前記発光機能層は、行方向に隣接する前記各発光素子との間の前記間隙領域に前記第１の工程で形成された前記発光機能層を覆うように形成されてもよい。
【００１４】
前記発光素子形成工程は、第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、を有する前記組を形成する際、前記第１の発光素子、前記第２の発光素子、前記第３の発光素子のうち、いずれか１つの特定の発光素子を２個形成してもよい。
【００１５】
前記発光素子形成工程は、前記特定の発光素子を、当該特定の発光素子の発光色と異なる発光色の１つの前記発光素子を挟んで、行方向に配列して形成してもよい。
【００１６】
前記発光素子形成工程は、前記一組の発光素子として、第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、前記第１乃至前記第３の発光色と異なる第４の発光色の第４の発光層を有する第４の発光素子と、を形成してもよい。
【００１７】
上記目的を達成するため、本発明の第３の観点に係る電子機器は、
上記第１の観点に係る発光装置を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、偶数個からなる画素組とした上で、一列おきに発光機能層を形成することにより膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】第１実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図３】発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図４】発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図５】図１に示す発光装置の断面構成を示す図である。
【図６】画素の駆動回路の一例の等価回路図である。
【図７】画素の平面図である。
【図８】図７に示すVIII−VIII線断面図である。
【図９Ａ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｂ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｃ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｄ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｅ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図１０Ａ】ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。
【図１０Ｂ】ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。
【図１１】第１実施形態の各発光層の膜厚を示す図である。
【図１２】比較例の各発光層の膜厚を示す図である。
【図１３】第２実施形態に係る発光装置の構成例を示す図である。
【図１４】図１３に示す発光装置の断面構成を示す図である。
【図１５】発光装置の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の実施形態に係る発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器について図を用いて説明する。本実施形態では、有機ＥＬ（electroluminescence）素子により発生した光を有機ＥＬ素子が形成された基板を介して外部に出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を用いたアクティブ駆動方式の発光装置を例に挙げて説明する。また、本実施形態の発光装置は表示装置としても用いられる。
【００２１】
（第１実施形態）
図１は第１実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。図２乃至図４は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。図５は、図１に示す発光装置１０の断面構成を示す図である。また、図６は画素３０の駆動回路の一例の等価回路図である。図７は、画素３０Ｇの平面図であり、図８は図７に示すVIII−VIII線断面図である。
【００２２】
発光装置１０では、基板３１上に、図１に示すようにそれぞれ赤色（Ｒ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、の３色の何れかの発光色で発光する発光素子を有する４つの画素３０（３０Ｇ１、３０Ｒ、３０Ｂ、３０Ｇ２）を一組として、この組が行方向（図１の左右方向）に繰り返し複数個、例えばｍ個配列されている。列方向（図１の上下方向）には、同一の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばｎ個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に４ｍ個配列されており、ＲＧＢの各色を発光する画素はマトリクス状に、４ｍ×ｎ個配列される。また、本実施形態では、画素３０Ｇ１と画素３０Ｇ２との２つの画素は同じ緑色の発光色の光を発光する。このため、本実施形態では、赤色の画素３０Ｒ、青色の画素３０Ｂ、緑色の画素３０Ｇ１及び画素３０Ｇ２とで、所望の色を表現する。
【００２３】
なお、発光装置１０では、偶数個の発光素子を一組として、画像を構成する要素として固定して用いる構成に限らず、１つの画素を複数の論理画素間で共有する構成を採ることも可能である。例えば、１つの画素は、６種類の論理画素を構成するのに用いられる。具体的には、１つの画素は、６種類の論理画素の中心の１つの論理画素として用いられ、当該画素の周辺にある画素は上記中心となる論理画素を囲む５種類の論理画素の一部として用いられ、このような処理を各画素に対して行う。この結果、１つの画像を形成するために１つの画素が複数回用いられることになる。このように１つの発光素子を複数回用いることにより、一組の画素を、画像を構成する要素として固定して発光させる構成以上に、解像度を高めることができる。
【００２４】
基板３１上には、行方向に配列され、図６に示す複数の画素回路ＤＳに接続されたアノードラインＬａと、行方向に配列された複数の画素回路ＤＳにそれぞれ接続された複数のデータラインＬｄと、行方向に配列された複数の画素回路ＤＳのトランジスタＴｒ１１を選択する走査ラインＬｓと、が形成されている。
【００２５】
このような構成を採る発光装置１０は、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器の表示部（ディスプレイ）として用いられる。具体的には、カメラ２００は、例えば図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、レンズ部２０１と、操作部２０２と、表示部２０３と、ファインダー２０４と、を備える。この表示部２０３として、発光装置１０が用いられる。同様に、パーソナルコンピュータ２１０は図３に示すように、表示部２１１と操作部２１２とを備え、発光装置１０は、表示部２１１として用いられる。更に、携帯電話２２０は表示部２２１と操作部２２２と受話部２２３と送話部２２４とを備え、発光装置１０は表示部２２１として用いられる。
【００２６】
次に、図１に示す発光装置１０の断面構成を図５に示す。図５では、説明の便宜のため、基板３１、画素電極４２、隔壁４８、それぞれ緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）の発光色を有する３色の発光層４５Ｇ１，４５Ｒ，４５Ｂ，４５Ｇ２（以下、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂを総称して発光層４５とも記す）のみを図示し、その他の構成要素については図示を省略している。各発光層４５Ｇ１，４５Ｒ，４５Ｂ，４５Ｇ２は、それぞれ画素３０Ｇ１，３０Ｒ，３０Ｂ，３０Ｇ２の各々の発光素子を形成するものである。詳細に後述するように、本実施形態では、緑色の画素を、画素３０Ｇ１と、画素３０Ｇ２との、２つに分割する。画素３０Ｇ１，Ｇ２の発光領域は、いずれも、赤色の画素３０Ｒ及び青色の画素３０Ｂの発光領域より狭い面積である。また、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を形成した上で、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成する。このため、赤色の発光層４５Ｒの、緑色の発光層４５Ｇ１に接する部分と、４５Ｇ２とに接する部分とは、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２との隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。青色の発光層４５Ｂについても同様であり、青色の発光層４５Ｂの緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２との隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。
【００２７】
次に、発光装置１０を構成する画素３０について、図６乃至８を用いて説明する。なお、本実施形態では、画素３０Ｇ１、画素３０Ｇ２と、緑の画素を２つに分割するため、画素３０Ｇ１，Ｇ２の発光領域は、いずれも、赤の画素３０Ｒ及び青の画素３０Ｂの発光領域より狭い面積である点を除けば、画素３０Ｒ，３０Ｂ，３０Ｇ１，３０Ｇ２の構成はいずれも同じであるため、以下、赤の画素３０Ｒを例に挙げて説明する。
【００２８】
画素３０は画素回路ＤＳを有して構成されている。画素回路ＤＳは、図６に示すように、選択トランジスタＴｒ１１、駆動トランジスタＴｒ１２、キャパシタＣｓ、有機ＥＬ素子（発光素子）ＯＥＬ、を備える。
【００２９】
図６に示すように選択トランジスタＴｒ１１は、ゲート端子が走査ラインＬｓに、ドレイン端子がデータラインＬｄに、ソース端子が接点Ｎ１１にそれぞれ接続されている。また、駆動トランジスタＴｒ１２は、ゲート端子が接点Ｎ１１に接続されており、ドレイン端子がアノードラインＬａに、ソース端子が接点Ｎ１２にそれぞれ接続されている。キャパシタＣｓは、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート端子及びソース端子に接続されている。なお、キャパシタＣｓは、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート−ソース間に付加的に設けられた補助容量、もしくは駆動トランジスタＴｒ１２のゲート−ソース間の寄生容量と補助容量からなる容量成分である。また、有機ＥＬ素子ＯＥＬは、アノード端子（画素電極４２）が接点Ｎ１２に接続され、カソード端子（対向電極４６）には基準電圧Ｖｓｓが印加されている。
【００３０】
走査ラインＬｓは、画素基板の周縁部に配置された走査ドライバ（図示せず）に接続されている。走査ラインＬｓには、所定のタイミングで行方向に配列された複数の画素３０を選択状態に設定するための選択電圧信号（走査信号）が印加される。また、データラインＬｄは、画素基板の周縁部に配置されたデータドライバ（図示せず）に接続されている。データラインＬｄには、上記画素３０の選択状態に同期するタイミングで発光データに応じたデータ電圧（階調信号）が印加される。行方向に配列された複数の駆動トランジスタＴｒ１２が、当該駆動トランジスタＴｒ１２に接続された有機ＥＬ素子ＯＥＬの、例えばアノード端子（画素電極４２）に発光データに応じた駆動電流を流す状態に設定するように、アノードラインＬａ（供給電圧ライン）は、所定の高電位電源に直接又は間接的に接続されている。つまり、アノードラインＬａは、有機ＥＬ素子ＯＥＬの対向電極４６に印加される基準電圧Ｖｓｓより十分電位の高い所定の高電位（供給電圧Ｖｄｄ）が印加される。また、対向電極４６は、例えば、所定の低電位電源に直接又は間接的に接続され、基板３１上にアレイ状に配列された全ての画素３０に対して単一の電極層により形成されており、所定の低電圧（基準電圧Ｖｓｓ、例えば接地電位ＧＮＤ）が共通に印加されるように設定されている。
【００３１】
また、アノードラインＬａと走査ラインＬｓは、各トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のソース電極、ドレイン電極を形成するソース−ドレイン導電層を用いてこれらソース電極、ドレイン電極とともに形成される。データラインＬｄは、各トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のゲート電極となるゲート導電層を用いてゲート電極とともに形成される。データラインＬｄとドレイン電極Ｔｒ１１ｄとの間の絶縁膜３２には、図７に示すように、コンタクトホール６１が形成され、データラインＬｄとドレイン電極Ｔｒ１１ｄとはコンタクトホール６１を介して導通している。走査ラインＬｓとゲート電極Ｔｒ１１ｇの両端との間の絶縁膜３２には、それぞれコンタクトホール６２，６３が形成されている。走査ラインＬｓとゲート電極Ｔｒ１１ｇとはコンタクトホール６２，６３を介して導通している。ソース電極Ｔｒ１１ｓとゲート電極Ｔｒ１２ｇとの間の絶縁膜３２には、コンタクトホール６４が形成されている。ソース電極Ｔｒ１１ｓとゲート電極Ｔｒ１２ｇとはコンタクトホール６４を介して導通している。なお、絶縁膜３２は、絶縁性材料、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等から形成され、データラインＬｄ、ゲート電極Ｔｒ１１ｇ及びゲート電極Ｔｒ１２ｇを覆うように基板３１上に形成される。
【００３２】
次に、有機ＥＬ素子ＯＥＬは、図８に示すように、画素電極４２と、発光層４５と、対向電極４６と、を備える。なお、図８では、説明の便宜上、発光に寄与する発光機能層として発光層４５のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、後述する図１５に示すように、発光機能層は、正孔注入層４３と発光層４５とを備えていてもよく、更に、正孔注入層４３とインターレイヤ層４４と発光層４５とを備えていてもよい。
【００３３】
各画素の基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなる選択トランジスタＴｒ１１、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート電極Ｔｒ１１ｇ，Ｔｒ１２ｇが形成されている。各画素に隣接した基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインＬｄが形成されている。
【００３４】
画素電極（アノード電極）４２は、透光性を備える導電材料、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ等から構成される。各画素電極４２は隣接する他の画素３０の画素電極４２と層間絶縁膜４７によって絶縁されている。
【００３５】
層間絶縁膜４７は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成され、画素電極４２間に形成され、トランジスタＴｒ１１，Ｔｒ１２や走査ラインＬｓ、アノードラインＬａを絶縁保護する。層間絶縁膜４７には略方形の開口部４７ａが形成されており、この開口部４７ａによって画素３０の発光領域が画される。更に層間絶縁膜４７上には隔壁４８が形成されている。隔壁４８には列方向（図７の上下方向）に延びる溝状の開口部４８ａが複数の画素３０にわたって形成されている。ここで、層間絶縁膜４７及びその上に形成される隔壁４８は、行方向に隣接して配列される各画素３０の発光領域間の間隙領域を形成している。
【００３６】
隔壁４８は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜４７上に形成される。隔壁４８は、図７に示すように列方向に沿った複数の画素の画素電極４２をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁４８の平面形状は、これに限られず各画素電極４２毎に開口部をもった格子状であってもよい。また、図５に示すように、隔壁４８の上面は、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂの中央部の平坦部の上面より高くなるように形成される。
【００３７】
なお、隔壁４８の表面、層間絶縁膜４７の表面に撥液処理を施してもよい。ここで撥液とは、水系の溶媒、有機系溶媒のいずれをも弾く性質を示す。
【００３８】
発光層４５は、画素電極（アノード電極）４２上に形成されている。発光層４５は、アノード電極４２とカソード電極４６との間に電圧を印加することにより所定の発光色の光を発生する機能を有する。発光層４５は、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料から構成される。また、これらの発光材料は、適宜水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解（又は分散）した溶液（分散液）をノズルプリンティング方式やインクジェットプリント方式等により塗布し、溶媒を揮発させることによって形成する。
【００３９】
本実施形態では、赤色の画素３０Ｒに隣接する緑色の画素の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を形成した上で、赤色の発光層４５Ｒを形成する。このため、赤色の発光層４５Ｒの、緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２との隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。なお、青色の発光層４５Ｂについても、赤色の発光層４５Ｒと同様であり、緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２との隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。
【００４０】
ここで、発光機能層として、正孔注入層が設けられる場合、図１５に示すように、正孔注入層４３は、画素電極４２と発光層４５との間に設けられる。正孔注入層４３は発光層４５に正孔を供給する機能を有する。正孔注入層４３は正孔（ホール）注入・輸送が可能な有機高分子系の材料、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とドーパントであるポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）から構成される。
更に、発光機能層としてインターレイヤ層が設けられる場合、図１５に示すように、インターレイヤ層４４は正孔注入層４３と発光層４５との間に設けられる。インターレイヤ層４４は、正孔注入層４３の正孔注入性を抑制して発光層４５内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層４５の発光効率を高める。
【００４１】
また、対向電極（カソード電極）４６は、ボトムエミッション型の場合、発光層４５側に設けられ、導電材料、例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Ａｌ等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。本実施形態では、対向電極４６は複数の画素３０に跨って形成される単一の電極層から構成され、例えば接地電位である基準電圧Ｖｓｓが印加されている。なお、有機ＥＬ素子ＯＥＬをトップエミッション型とする場合、対向電極４６は、発光層４５側に設けられ、１０ｎｍ程度の膜厚の極薄い例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる光透過性低仕事関数層と、１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の膜厚のＩＴＯ等の光反射性導電層を有する透明積層構造とする。
【００４２】
次に、本実施形態に係る発光装置の製造方法を、図９Ａ〜図９Ｅ、図１０Ａ及び図１０Ｂを用いて説明する。また、図１０Ａ及び図１０Ｂは、ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。ノズルプリンティング装置は、図１０Ａ及び図１０Ｂに示すように、概略、有機化合物含有液からなる溶液５２を連続して吐出するノズルを有するノズルヘッド５０を備え、ノズルヘッド５０を基板３１上の塗布領域に沿って移動させることによって、基板３１上の塗布領域に溶液５２を塗布するものである。また、図１０Ａはノズルヘッド５０を１つだけ有する場合の構成を示し、図１０Ｂはノズルヘッド５０を２つ有する場合の構成を示す。なお、図１０Ａ及び図１０Ｂにおける基板３１は、図７の上下方向が図１０の左右方向となる向きに配置されている。ここで、図１０Ｂにおいてはノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を２つ有する場合について示したが、これに限らず、ノズルヘッド５０を３つ以上の複数個有するものであってもよい。また、選択トランジスタＴｒ１１は駆動トランジスタＴｒ１２と同一工程によって形成されるので、選択トランジスタＴｒ１１の形成の説明を一部省略する。
【００４３】
図９Ａに示すように、まず、ガラス基板等からなる基板３１を用意する。次に、この基板３１上に、スパッタ法、真空蒸着法等により例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるゲート導電膜を形成し、これを図９Ａに示すように駆動トランジスタＴｒ１２のゲート電極Ｔｒ１２ｇの形状にパターニングする。この際、図示はしていないが、選択トランジスタＴｒ１１のゲート電極Ｔｒ１１ｇ、及びデータラインＬｄも形成する。続いて、図９Ｂに示すように、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等によりゲート電極Ｔｒ１２ｇ及びデータラインＬｄ上に絶縁膜３２を形成する。
【００４４】
次に、絶縁膜３２上に、ＣＶＤ法等により、アモルファスシリコン等からなる半導体層を形成する。次に、半導体層上に、ＣＶＤ法等により、例えばＳｉＮ等からなる絶縁膜を形成する。続いて、絶縁膜をフォトリソグラフィ等によりパターニングし、ストッパ膜１１５を形成する。更に、半導体層及びストッパ膜１１５上に、ＣＶＤ法等により、ｎ型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜を形成し、この膜と半導体層とをフォトリソグラフィ等によりパターニングすることで、図９Ｂに示すように、半導体層１１４とオーミックコンタクト層１１６，１１７とを形成する。
【００４５】
次に、スパッタ法、真空蒸着法等により絶縁膜３２上に、ＩＴＯ等の透明導電膜、或いは光反射性導電膜及びＩＴＯ等の透明導電膜を被膜後、この膜をフォトリソグラフィによってパターニングして画素電極４２を形成する。
【００４６】
続いて、絶縁膜３２に貫通孔であるコンタクトホール６１〜６４を形成してから、例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜をスパッタ法、真空蒸着法等により被膜する。この膜をフォトリソグラフィによってパターニングして図９Ｂに示すようにドレイン電極Ｔｒ１２ｄ及びソース電極Ｔｒ１２ｓを形成する。これと同時に、アノードラインＬａを形成する。このとき、駆動トランジスタＴｒ１２のソース電極Ｔｒ１２ｓはそれぞれ画素電極４２の一部と重なるように形成される。
【００４７】
続いて、図９Ｃに示すように、駆動トランジスタＴｒ１２等を覆うようにシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜４７をＣＶＤ法等により形成後、フォトリソグラフィにより、開口部４７ａを形成する。次に、感光性ポリイミドを、層間絶縁膜４７を覆うように塗布し、隔壁４８の形状に対応するマスクを介して露光、現像することによってパターニングし、図９Ｃに示すように開口部４８ａを有する隔壁４８を形成する。
【００４８】
次に、図１０Ａに示すように、ノズルヘッド５０のノズルから溶液５２を連続して流すノズルプリンティング装置を用いて、溶液５２として発光ポリマー材料（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を含有する有機化合物含有液を、隔壁４８の間に設けられ、開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に塗布する。塗布は、隔壁４８の形成方向（図７に示す上下方向）に沿って塗布する。なお、ノズルプリンティング装置を用いた塗布においては、図１０Ａに示すように、有機化合物含有液はノズルヘッド５０のノズルから吐出され、基板３１上に塗布される。ノズルヘッド５０は隔壁４８間に有機化合物含有液を吐出しながら、隔壁４８が形成された方向（図１０Ａでは左右方向）に沿って移動する。なお、複数各列への塗布を連続して行う場合は、図１０Ａに示すように、ノズルヘッド５０が基板３１外にある間に、基板３１を隔壁４８が形成された方向と直交する方向（図１０Ａでは上下方向）に、所定の距離だけ移動させる。これを繰り返すことで、溶液５２が所定の列に塗布される。または、基板３１を移動させる代わりに、ノズルヘッド５０を隔壁４８が形成された方向と直交する方向に所定の距離だけ移動させてもよい。なお、ノズルヘッド５０が基板３１外にある間、溶液５２は吐出させたままであってもよいし、吐出を一旦停止させてもよい。ここで、図１０Ａに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を１つだけ有する場合には、１列毎にノズルヘッド５０の移動方向を交互に変えて塗布する。また、図１０Ｂに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を２つ有する場合には、２列毎にノズルヘッド５０の移動方向を交互に変えて塗布する。
【００４９】
本実施形態では、図９Ｄに示すように、まずノズルプリンティング装置を用い、緑色の発光層４５Ｇ１、４５Ｇ２を形成する。次に、図９Ｅに示すように、赤色の発光層４５Ｒ及び青色の発光層４５Ｂを、ノズルプリンティング装置を用いて形成する。
【００５０】
このように、１列おきに発光層を形成すると、赤色の発光層４５Ｒを形成する際には、赤色の発光層４５Ｒに隣接する隔壁４８上には、予め緑色の発光層４５Ｇ１、４５Ｇ２が隔壁４８上に形成されている。従って、赤色の発光層４５Ｒは、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、乾燥速度が異なることが抑制される。従って、赤色の発光層４５Ｒは左右で膜厚が均一なものとなる。青色の発光層４５Ｂについても同様である。また、予め１列おきに形成される緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２については、隔壁４８上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２についても、左右が対称な膜厚とすることができる。
【００５１】
なお、発光機能層として正孔注入層４３を形成する場合は、発光層４５を形成する前に、正孔注入材料を含む有機化合物含有液を溶液５２として、溶液５２を連続して吐出する図１０Ａに示すノズルプリンティング装置あるいは個々に独立した複数の液滴として間欠的に吐出するインクジェット装置によって、開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に選択的に塗布する。続いて、基板３１を大気雰囲気下で加熱し有機化合物含有液の溶媒を揮発させて、正孔注入層４３を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００５２】
また、発光機能層として更にインターレイヤ層４４を形成する場合は、インターレイヤ層４４となる材料を含有する有機化合物含有液を溶液５２として、溶液５２をノズルから連続して吐出する図１０Ａに示すノズルプリンティング装置またはインクジェット装置を用いて正孔注入層４３上に塗布する。窒素雰囲気中の加熱乾燥、或いは真空中での加熱乾燥を行い、残留溶媒の除去を行ってインターレイヤ層４４を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００５３】
続いて、発光層４５まで形成した基板３１に、真空蒸着やスパッタリングで、Ｌｉ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる層と、Ａｌ等の光反射性導電層からなる２層構造の対向電極４６を形成する。
【００５４】
次に、複数の画素３０が形成された発光領域の外側において、基板３１上に紫外線硬化樹脂、又は熱硬化樹脂からなる封止樹脂を塗布し、図示しない封止基板と基板３１と貼り合わせる。次に紫外線もしくは熱によって封止樹脂を硬化させて、基板３１と封止基板とを接合する。
以上から、発光装置１０が製造される。
【００５５】
このように、本実施形態の発光装置の製造方法では、一つの発光色の画素を２つに分割し、偶数個からなる画素の組とした上で、一列おきに発光層を形成する。これにより、後に形成される発光層の乾燥速度を比較的均一とすることができるため、各色の発光層４５を良好な均一性を備える膜とすることができる。
【００５６】
ここで、赤色の発光層４５Ｒを全列塗布した上で、緑色の発光層４５Ｇを全列塗布し、青色の発光層４５Ｂを全列に塗布することによって各色の発光層を形成する構成を比較例として、これと比較したときの本実施形態における効果を説明する。
【００５７】
図１１は、本実施形態における発光装置の断面構造及び各発光層の膜厚分布を示す図であり、図１２は、比較例における発光装置の断面構造及び各発光層の膜厚分布を示す図である。
【００５８】
上記比較例の場合、図１２に示すように、後から塗布する発光層４５Ｇ、発光層４５Ｂの膜厚が均一となりにくい。これは、隔壁上より発光層上の方が発光層形成用の有機化合物含有液がなじみやすいことに起因している。すなわち、赤色の発光層を全列塗布した後に緑色の発光層を塗布すると、緑色の発光層形成用の有機化合物含有液が赤色の発光層側へと引っ張られやすくなる。これにより、Ｇ色の発光層中、特に図１２に示す左右方向で有機化合物含有液の乾燥速度が異なり、図１２に模式的に示すように、赤色側の膜厚が厚くなり、左右が非対称な膜厚となる。青色の発光層についても同様であり、先に形成された緑色の発光層側の膜厚が厚くなり、左右の膜厚が非対称となる。
【００５９】
これに対し、本実施形態のように緑の画素を二つに分け、４つの画素を１組とし、更に緑の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を先に形成した上で、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成すると、乾燥速度をより均一とすることができる。例えば、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を予め形成した上で、赤色の発光層４５Ｒの有機化合物含有液を塗布する。赤色の有機化合物含有液は、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２との上に塗布されても、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、図１１に示す左右方向で乾燥速度が異なることはない。従って、赤色の発光層４５Ｒは図１１に示すように、左右で膜厚が均一なものとなる。青色の発光層４５Ｂについても同様である。また、予め１列おきに形成される緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２については、隔壁上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２についても、左右の膜厚を対称にすることができる。
【００６０】
なお、上述した実施形態では、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を形成した上で、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成する構成を例に挙げて説明しているが、これに限られない。要するに１列おきに発光層を塗布すればよいため、例えば、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成した後で、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を形成するようにしてもよい。
【００６１】
また、上述した実施形態では、緑色の画素を２つに分割する構成を例に挙げて説明しているが、これに限られない。例えば、赤色の画素、青色の画素のいずれかを２つに分割するようにしてもよい。
【００６２】
（第２実施形態）
第２実施形態に係る発光装置２０について、図を用いて説明する。本実施形態の発光装置が、上述した第１実施形態に係る発光装置１０と異なるのは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に加えて白色（Ｗ）の画素３０Ｗを更に備える点にある。第１実施形態と共通する部分については、詳細な説明を省略する。
【００６３】
図１３は第２実施形態に係る発光装置２０の構成例を示す平面図である。図１４は、図１３に示す発光装置２０の断面構成を示す図である。
【００６４】
発光装置２０では、基板３１上に、図１３に示すようにそれぞれ赤色（Ｒ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、白色（Ｗ）の４色に発光する４つの画素３０Ｒ、３０Ｂ、３０Ｇ、３０Ｗを一組として、この組が行方向（図１３の左右方向）に繰り返し複数個、例えばｘ個配列されている。列方向（図１３の上下方向）には、同一の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばｙ個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に４ｘ個配列されており、ＲＧＢＷの各色を発光する画素はマトリクス状に、４ｘ×ｙ個配列される。
【００６５】
次に、図１３に示す発光装置２０の断面構成を図１４に示す。図１４では、説明の便宜のため、基板３１、画素電極４２、隔壁４８、それぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、白色（Ｗ）の発光色を有する４色の発光層４５（４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂ，４５Ｗ）のみを図示し、その他の構成要素については図示を省略している。本実施形態では、４色の画素３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ，３０Ｗを備え、各発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂ，４５Ｗは、それぞれ画素３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ，３０Ｗの各々の発光素子を形成するものである。また、特に本実施の形態では、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成した上で、緑色の発光層４５Ｇ、白色の発光層４５Ｗを形成する。このため、緑色の発光層４５Ｇの、赤色の発光層４５Ｒと青色の発光層４５Ｂとに接する部分は、それぞれ赤色の発光層４５Ｒと青色の発光層４５Ｂとの隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。白色の発光層４５Ｗについても同様であり、青色の発光層４５Ｂと赤色の発光層４５Ｒとに接する部分は、それぞれ青色の発光層４５Ｂと赤色の発光層４５Ｒとの隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。
【００６６】
本実施形態でも、１列おきに発光層を形成するため、緑色の発光層４５Ｇを形成する際には、緑色の発光層４５Ｇに隣接する隔壁４８上には、予め赤色の発光層４５Ｒと、青色の発光層４５Ｂが隔壁４８上に形成されている。緑色の発光層４５Ｇは、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、乾燥速度が異なることが抑制される。従って、緑色の発光層４５Ｇは左右で膜厚が均一なものとなる。白色の発光層４５Ｗについても同様である。また、予め１列おきに形成される赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂについては、隔壁４８上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂについても、左右が対称な膜厚とすることができる。
【００６７】
なお、本実施形態では、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを先に形成する構成を例に挙げて説明しているが、緑色の発光層４５Ｇ、白色の発光層４５Ｗを先に形成し、後から赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成してもよい。なお、１列おきに発光層を形成すれば、本実施形態の効果を得られるため、発光層の色の順番や、発光層の塗布の順番は適宜変更可能である。
【００６８】
また、発光素子の個数を偶数個とすればよく、例えば、第１実施形態と第２実施形態とを組み合わせ、１色を２分割にした上で、複数色を備える構成、例えば第２実施形態のように偶数個の色、具体的に４色としてもよい。
【００６９】
本発明は上述した実施形態に限られず様々な変形及び応用が可能である。
また、上述した実施形態では、発光機能層が発光層のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、図１５に示すように、正孔注入層４３、インターレイヤ層４４等を更に備えてもよい。正孔注入層４３、インターレイヤ層４４は、複数色の発光層を備える場合であっても、共通した材料から形成することができる。従って、これらの正孔注入層４３、インターレイヤ層４４を形成する際は、１列おきにこれらの材料を含有する有機化合物含有液を塗布すると、これらの膜厚を比較的均一とすることができ好ましい。１列おきに塗布した場合、図１５に示すように、正孔注入層４３の端は、隣接する正孔注入層４３の端を覆うように形成される。インターレイヤ層４４についても同様に、隣接するインターレイヤ層４４の端を覆うように形成される。
【００７０】
なお、正孔注入層４３を形成する場合、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とドーパントであるポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を水系溶媒に分散させた分散液であるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水溶液を用いる。
【００７１】
上述した実施形態では、画素回路ＤＳは２つのトランジスタを備える構成を例に挙げているが、３つ以上のトランジスタを備えるものであってもよい。
【００７２】
また、上述した実施形態ではボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を中心に説明したが、これに限られず有機ＥＬ素子ＯＥＬにより発生した光を、対向電極４６を介して外部に出射するトップエミッション型の有機ＥＬ素子に用いることも可能である。この場合、画素電極４２は透光性を有しない材料から形成してもよく、対向電極４６は、１０ｎｍ程度の膜厚の極薄い例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる光透過性低仕事関数層と、１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の膜厚のＩＴＯ等の光反射性導電層を有する透明積層構造とする。
【００７３】
上述した各実施形態では、発光装置を表示装置として利用する構成を例に挙げて説明しているが、プリンタの感光ドラムに光を照射するプリンタヘッド等の露光装置としても利用することができる。
【符号の説明】
【００７４】
１０，２０・・・発光装置、３０，３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｇ１，３０Ｇ２，３０Ｂ，３０Ｗ・・・画素、３１・・・基板、３２・・・絶縁膜、４２・・・画素電極（アノード電極）、４３・・・正孔注入層、４４・・・インターレイヤ層、４５，４５Ｒ，４５Ｇ１，４５Ｇ２，４５Ｂ，４５Ｗ・・・発光層、４６・・・対向電極（カソード電極）、４７・・・層間絶縁膜、４８・・・隔壁、５０・・・ノズルヘッド、５２・・・溶液、１１４・・・半導体層、１１５・・・ストッパ膜、１１６，１１７・・・オーミックコンタクト層、Ｔｒ１１ｄ，Ｔｒ１２ｄ・・・ドレイン電極、Ｔｒ１１ｇ，Ｔｒ１２ｇ・・・ゲート電極、Ｔｒ１１ｓ，Ｔｒ１２ｓ・・・ソース電極、Ｌａ・・・アノードライン、Ｌｓ・・・走査ライン、Ｌｄ・・・データライン、Ｔｒ１１・・・選択トランジスタ、Ｔｒ１２・・・駆動トランジスタ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（electroluminescence）素子を用いた発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）に続く次世代の表示デバイスとして、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と略記する）等の自発光素子を２次元配列した発光素子型の表示パネルを備えた発光装置の研究開発が行われている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、アノード電極と、カソード電極と、これらの一対の電極間に形成され、例えば発光層、正孔注入層、等を有する有機ＥＬ層（発光機能層）と、を備える。有機ＥＬ素子では、発光層において正孔と電子とが再結合することによって発生するエネルギーによって発光する。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子の発光層、正孔注入層等は、例えば、特許文献１に開示されているように、隔壁によって仕切られた空間に、溶液を塗布し、溶媒を乾燥させることによって形成される。溶液の塗布は、例えばノズルプリンティング方式、インクジェットプリント方式等によって行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１２３０８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、有機ＥＬ素子では、有機ＥＬ層の膜厚が不均一であると、発光が不均一となるという問題がある。このため、発光機能層の膜厚を良好に制御し、良好な均一性を有する膜とすることが求められている。
【０００７】
本発明は上述した実情に鑑みてなされたものであって、膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点に係る発光装置は、
複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、
前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に一定の順序で配列された偶数個の前記発光素子を有する複数の組が、行方向に一定の順序で繰り返し配列されており、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
前記発光機能層が、行方向に隣接して配列された前記各発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層を覆うように形成された前記発光素子を少なくとも一つ備えることを特徴とする。
【０００９】
前記偶数個の発光素子を有する組は、
第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、
前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、
前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、を有し、
前記第１の発光素子、前記第２の発光素子、前記第３の発光素子のうち、いずれか１つの特定の発光素子を２個含んでいてもよい。
【００１０】
前記特定の発光素子は、当該特定の発光素子の発光色と異なる発光色の１つの前記発光素子を挟んで、行方向に配列されていてもよい。
【００１１】
前記偶数個の発光素子を有する組は、
第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、
前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、
前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、
前記第１乃至前記第３の発光色と異なる第４の発光色の第４の発光層を有する第４の発光素子と、を備えてもよい。
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明の第２の観点に係る発光装置の製造方法は、
複数の行及び複数の列に沿って所定の発光色で発光する複数の発光素子が配列された発光装置の製造方法であって、
行方向に一定の順序で配列された偶数個の前記発光素子を有する複数の組を、行方向に一定の順序で繰り返し配列して形成する発光素子形成工程を備え、
前記発光素子形成工程は、
１列おきに配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を１列おきに形成する第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とする。
【００１３】
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記第１の工程及び前記第２の工程で形成される前記発光機能層は、前記間隙領域にも形成され、
前記第２の工程で前記間隙領域に形成される前記発光機能層は、行方向に隣接する前記各発光素子との間の前記間隙領域に前記第１の工程で形成された前記発光機能層を覆うように形成されてもよい。
【００１４】
前記発光素子形成工程は、第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、を有する前記組を形成する際、前記第１の発光素子、前記第２の発光素子、前記第３の発光素子のうち、いずれか１つの特定の発光素子を２個形成してもよい。
【００１５】
前記発光素子形成工程は、前記特定の発光素子を、当該特定の発光素子の発光色と異なる発光色の１つの前記発光素子を挟んで、行方向に配列して形成してもよい。
【００１６】
前記発光素子形成工程は、前記一組の発光素子として、第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、前記第１乃至前記第３の発光色と異なる第４の発光色の第４の発光層を有する第４の発光素子と、を形成してもよい。
【００１７】
上記目的を達成するため、本発明の第３の観点に係る電子機器は、
上記第１の観点に係る発光装置を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、偶数個からなる画素組とした上で、一列おきに発光機能層を形成することにより膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】第１実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図３】発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図４】発光装置が用いられる電子機器を示す図である。
【図５】図１に示す発光装置の断面構成を示す図である。
【図６】画素の駆動回路の一例の等価回路図である。
【図７】画素の平面図である。
【図８】図７に示すVIII−VIII線断面図である。
【図９Ａ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｂ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｃ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｄ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図９Ｅ】発光装置の製造方法を示す図である。
【図１０Ａ】ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。
【図１０Ｂ】ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。
【図１１】第１実施形態の各発光層の膜厚を示す図である。
【図１２】比較例の各発光層の膜厚を示す図である。
【図１３】第２実施形態に係る発光装置の構成例を示す図である。
【図１４】図１３に示す発光装置の断面構成を示す図である。
【図１５】発光装置の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の実施形態に係る発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器について図を用いて説明する。本実施形態では、有機ＥＬ（electroluminescence）素子により発生した光を有機ＥＬ素子が形成された基板を介して外部に出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を用いたアクティブ駆動方式の発光装置を例に挙げて説明する。また、本実施形態の発光装置は表示装置としても用いられる。
【００２１】
（第１実施形態）
図１は第１実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。図２乃至図４は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。図５は、図１に示す発光装置１０の断面構成を示す図である。また、図６は画素３０の駆動回路の一例の等価回路図である。図７は、画素３０Ｇの平面図であり、図８は図７に示すVIII−VIII線断面図である。
【００２２】
発光装置１０では、基板３１上に、図１に示すようにそれぞれ赤色（Ｒ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、の３色の何れかの発光色で発光する発光素子を有する４つの画素３０（３０Ｇ１、３０Ｒ、３０Ｂ、３０Ｇ２）を一組として、この組が行方向（図１の左右方向）に繰り返し複数個、例えばｍ個配列されている。列方向（図１の上下方向）には、同一の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばｎ個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に４ｍ個配列されており、ＲＧＢの各色を発光する画素はマトリクス状に、４ｍ×ｎ個配列される。また、本実施形態では、画素３０Ｇ１と画素３０Ｇ２との２つの画素は同じ緑色の発光色の光を発光する。このため、本実施形態では、赤色の画素３０Ｒ、青色の画素３０Ｂ、緑色の画素３０Ｇ１及び画素３０Ｇ２とで、所望の色を表現する。
【００２３】
なお、発光装置１０では、偶数個の発光素子を一組として、画像を構成する要素として固定して用いる構成に限らず、１つの画素を複数の論理画素間で共有する構成を採ることも可能である。例えば、１つの画素は、６種類の論理画素を構成するのに用いられる。具体的には、１つの画素は、６種類の論理画素の中心の１つの論理画素として用いられ、当該画素の周辺にある画素は上記中心となる論理画素を囲む５種類の論理画素の一部として用いられ、このような処理を各画素に対して行う。この結果、１つの画像を形成するために１つの画素が複数回用いられることになる。このように１つの発光素子を複数回用いることにより、一組の画素を、画像を構成する要素として固定して発光させる構成以上に、解像度を高めることができる。
【００２４】
基板３１上には、行方向に配列され、図６に示す複数の画素回路ＤＳに接続されたアノードラインＬａと、行方向に配列された複数の画素回路ＤＳにそれぞれ接続された複数のデータラインＬｄと、行方向に配列された複数の画素回路ＤＳのトランジスタＴｒ１１を選択する走査ラインＬｓと、が形成されている。
【００２５】
このような構成を採る発光装置１０は、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器の表示部（ディスプレイ）として用いられる。具体的には、カメラ２００は、例えば図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、レンズ部２０１と、操作部２０２と、表示部２０３と、ファインダー２０４と、を備える。この表示部２０３として、発光装置１０が用いられる。同様に、パーソナルコンピュータ２１０は図３に示すように、表示部２１１と操作部２１２とを備え、発光装置１０は、表示部２１１として用いられる。更に、携帯電話２２０は表示部２２１と操作部２２２と受話部２２３と送話部２２４とを備え、発光装置１０は表示部２２１として用いられる。
【００２６】
次に、図１に示す発光装置１０の断面構成を図５に示す。図５では、説明の便宜のため、基板３１、画素電極４２、隔壁４８、それぞれ緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）の発光色を有する３色の発光層４５Ｇ１，４５Ｒ，４５Ｂ，４５Ｇ２（以下、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂを総称して発光層４５とも記す）のみを図示し、その他の構成要素については図示を省略している。各発光層４５Ｇ１，４５Ｒ，４５Ｂ，４５Ｇ２は、それぞれ画素３０Ｇ１，３０Ｒ，３０Ｂ，３０Ｇ２の各々の発光素子を形成するものである。詳細に後述するように、本実施形態では、緑色の画素を、画素３０Ｇ１と、画素３０Ｇ２との、２つに分割する。画素３０Ｇ１，Ｇ２の発光領域は、いずれも、赤色の画素３０Ｒ及び青色の画素３０Ｂの発光領域より狭い面積である。また、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を形成した上で、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成する。このため、赤色の発光層４５Ｒの、緑色の発光層４５Ｇ１に接する部分と、４５Ｇ２とに接する部分とは、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２との隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。青色の発光層４５Ｂについても同様であり、青色の発光層４５Ｂの緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２との隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。
【００２７】
次に、発光装置１０を構成する画素３０について、図６乃至８を用いて説明する。なお、本実施形態では、画素３０Ｇ１、画素３０Ｇ２と、緑の画素を２つに分割するため、画素３０Ｇ１，Ｇ２の発光領域は、いずれも、赤の画素３０Ｒ及び青の画素３０Ｂの発光領域より狭い面積である点を除けば、画素３０Ｒ，３０Ｂ，３０Ｇ１，３０Ｇ２の構成はいずれも同じであるため、以下、赤の画素３０Ｒを例に挙げて説明する。
【００２８】
画素３０は画素回路ＤＳを有して構成されている。画素回路ＤＳは、図６に示すように、選択トランジスタＴｒ１１、駆動トランジスタＴｒ１２、キャパシタＣｓ、有機ＥＬ素子（発光素子）ＯＥＬ、を備える。
【００２９】
図６に示すように選択トランジスタＴｒ１１は、ゲート端子が走査ラインＬｓに、ドレイン端子がデータラインＬｄに、ソース端子が接点Ｎ１１にそれぞれ接続されている。また、駆動トランジスタＴｒ１２は、ゲート端子が接点Ｎ１１に接続されており、ドレイン端子がアノードラインＬａに、ソース端子が接点Ｎ１２にそれぞれ接続されている。キャパシタＣｓは、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート端子及びソース端子に接続されている。なお、キャパシタＣｓは、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート−ソース間に付加的に設けられた補助容量、もしくは駆動トランジスタＴｒ１２のゲート−ソース間の寄生容量と補助容量からなる容量成分である。また、有機ＥＬ素子ＯＥＬは、アノード端子（画素電極４２）が接点Ｎ１２に接続され、カソード端子（対向電極４６）には基準電圧Ｖｓｓが印加されている。
【００３０】
走査ラインＬｓは、画素基板の周縁部に配置された走査ドライバ（図示せず）に接続されている。走査ラインＬｓには、所定のタイミングで行方向に配列された複数の画素３０を選択状態に設定するための選択電圧信号（走査信号）が印加される。また、データラインＬｄは、画素基板の周縁部に配置されたデータドライバ（図示せず）に接続されている。データラインＬｄには、上記画素３０の選択状態に同期するタイミングで発光データに応じたデータ電圧（階調信号）が印加される。行方向に配列された複数の駆動トランジスタＴｒ１２が、当該駆動トランジスタＴｒ１２に接続された有機ＥＬ素子ＯＥＬの、例えばアノード端子（画素電極４２）に発光データに応じた駆動電流を流す状態に設定するように、アノードラインＬａ（供給電圧ライン）は、所定の高電位電源に直接又は間接的に接続されている。つまり、アノードラインＬａは、有機ＥＬ素子ＯＥＬの対向電極４６に印加される基準電圧Ｖｓｓより十分電位の高い所定の高電位（供給電圧Ｖｄｄ）が印加される。また、対向電極４６は、例えば、所定の低電位電源に直接又は間接的に接続され、基板３１上にアレイ状に配列された全ての画素３０に対して単一の電極層により形成されており、所定の低電圧（基準電圧Ｖｓｓ、例えば接地電位ＧＮＤ）が共通に印加されるように設定されている。
【００３１】
また、アノードラインＬａと走査ラインＬｓは、各トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のソース電極、ドレイン電極を形成するソース−ドレイン導電層を用いてこれらソース電極、ドレイン電極とともに形成される。データラインＬｄは、各トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のゲート電極となるゲート導電層を用いてゲート電極とともに形成される。データラインＬｄとドレイン電極Ｔｒ１１ｄとの間の絶縁膜３２には、図７に示すように、コンタクトホール６１が形成され、データラインＬｄとドレイン電極Ｔｒ１１ｄとはコンタクトホール６１を介して導通している。走査ラインＬｓとゲート電極Ｔｒ１１ｇの両端との間の絶縁膜３２には、それぞれコンタクトホール６２，６３が形成されている。走査ラインＬｓとゲート電極Ｔｒ１１ｇとはコンタクトホール６２，６３を介して導通している。ソース電極Ｔｒ１１ｓとゲート電極Ｔｒ１２ｇとの間の絶縁膜３２には、コンタクトホール６４が形成されている。ソース電極Ｔｒ１１ｓとゲート電極Ｔｒ１２ｇとはコンタクトホール６４を介して導通している。なお、絶縁膜３２は、絶縁性材料、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等から形成され、データラインＬｄ、ゲート電極Ｔｒ１１ｇ及びゲート電極Ｔｒ１２ｇを覆うように基板３１上に形成される。
【００３２】
次に、有機ＥＬ素子ＯＥＬは、図８に示すように、画素電極４２と、発光層４５と、対向電極４６と、を備える。なお、図８では、説明の便宜上、発光に寄与する発光機能層として発光層４５のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、後述する図１５に示すように、発光機能層は、正孔注入層４３と発光層４５とを備えていてもよく、更に、正孔注入層４３とインターレイヤ層４４と発光層４５とを備えていてもよい。
【００３３】
各画素の基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなる選択トランジスタＴｒ１１、駆動トランジスタＴｒ１２のゲート電極Ｔｒ１１ｇ，Ｔｒ１２ｇが形成されている。各画素に隣接した基板３１上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインＬｄが形成されている。
【００３４】
画素電極（アノード電極）４２は、透光性を備える導電材料、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ等から構成される。各画素電極４２は隣接する他の画素３０の画素電極４２と層間絶縁膜４７によって絶縁されている。
【００３５】
層間絶縁膜４７は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成され、画素電極４２間に形成され、トランジスタＴｒ１１，Ｔｒ１２や走査ラインＬｓ、アノードラインＬａを絶縁保護する。層間絶縁膜４７には略方形の開口部４７ａが形成されており、この開口部４７ａによって画素３０の発光領域が画される。更に層間絶縁膜４７上には隔壁４８が形成されている。隔壁４８には列方向（図７の上下方向）に延びる溝状の開口部４８ａが複数の画素３０にわたって形成されている。ここで、層間絶縁膜４７及びその上に形成される隔壁４８は、行方向に隣接して配列される各画素３０の発光領域間の間隙領域を形成している。
【００３６】
隔壁４８は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜４７上に形成される。隔壁４８は、図７に示すように列方向に沿った複数の画素の画素電極４２をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁４８の平面形状は、これに限られず各画素電極４２毎に開口部をもった格子状であってもよい。また、図５に示すように、隔壁４８の上面は、発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂの中央部の平坦部の上面より高くなるように形成される。
【００３７】
なお、隔壁４８の表面、層間絶縁膜４７の表面に撥液処理を施してもよい。ここで撥液とは、水系の溶媒、有機系溶媒のいずれをも弾く性質を示す。
【００３８】
発光層４５は、画素電極（アノード電極）４２上に形成されている。発光層４５は、アノード電極４２とカソード電極４６との間に電圧を印加することにより所定の発光色の光を発生する機能を有する。発光層４５は、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料から構成される。また、これらの発光材料は、適宜水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解（又は分散）した溶液（分散液）をノズルプリンティング方式やインクジェットプリント方式等により塗布し、溶媒を揮発させることによって形成する。
【００３９】
本実施形態では、赤色の画素３０Ｒに隣接する緑色の画素の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を形成した上で、赤色の発光層４５Ｒを形成する。このため、赤色の発光層４５Ｒの、緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２との隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。なお、青色の発光層４５Ｂについても、赤色の発光層４５Ｒと同様であり、緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層４５Ｇ１と４５Ｇ２との隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。
【００４０】
ここで、発光機能層として、正孔注入層が設けられる場合、図１５に示すように、正孔注入層４３は、画素電極４２と発光層４５との間に設けられる。正孔注入層４３は発光層４５に正孔を供給する機能を有する。正孔注入層４３は正孔（ホール）注入・輸送が可能な有機高分子系の材料、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とドーパントであるポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）から構成される。
更に、発光機能層としてインターレイヤ層が設けられる場合、図１５に示すように、インターレイヤ層４４は正孔注入層４３と発光層４５との間に設けられる。インターレイヤ層４４は、正孔注入層４３の正孔注入性を抑制して発光層４５内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層４５の発光効率を高める。
【００４１】
また、対向電極（カソード電極）４６は、ボトムエミッション型の場合、発光層４５側に設けられ、導電材料、例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Ａｌ等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。本実施形態では、対向電極４６は複数の画素３０に跨って形成される単一の電極層から構成され、例えば接地電位である基準電圧Ｖｓｓが印加されている。なお、有機ＥＬ素子ＯＥＬをトップエミッション型とする場合、対向電極４６は、発光層４５側に設けられ、１０ｎｍ程度の膜厚の極薄い例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる光透過性低仕事関数層と、１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の膜厚のＩＴＯ等の光反射性導電層を有する透明積層構造とする。
【００４２】
次に、本実施形態に係る発光装置の製造方法を、図９Ａ〜図９Ｅ、図１０Ａ及び図１０Ｂを用いて説明する。また、図１０Ａ及び図１０Ｂは、ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。ノズルプリンティング装置は、図１０Ａ及び図１０Ｂに示すように、概略、有機化合物含有液からなる溶液５２を連続して吐出するノズルを有するノズルヘッド５０を備え、ノズルヘッド５０を基板３１上の塗布領域に沿って移動させることによって、基板３１上の塗布領域に溶液５２を塗布するものである。また、図１０Ａはノズルヘッド５０を１つだけ有する場合の構成を示し、図１０Ｂはノズルヘッド５０を２つ有する場合の構成を示す。なお、図１０Ａ及び図１０Ｂにおける基板３１は、図７の上下方向が図１０の左右方向となる向きに配置されている。ここで、図１０Ｂにおいてはノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を２つ有する場合について示したが、これに限らず、ノズルヘッド５０を３つ以上の複数個有するものであってもよい。また、選択トランジスタＴｒ１１は駆動トランジスタＴｒ１２と同一工程によって形成されるので、選択トランジスタＴｒ１１の形成の説明を一部省略する。
【００４３】
図９Ａに示すように、まず、ガラス基板等からなる基板３１を用意する。次に、この基板３１上に、スパッタ法、真空蒸着法等により例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるゲート導電膜を形成し、これを図９Ａに示すように駆動トランジスタＴｒ１２のゲート電極Ｔｒ１２ｇの形状にパターニングする。この際、図示はしていないが、選択トランジスタＴｒ１１のゲート電極Ｔｒ１１ｇ、及びデータラインＬｄも形成する。続いて、図９Ｂに示すように、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等によりゲート電極Ｔｒ１２ｇ及びデータラインＬｄ上に絶縁膜３２を形成する。
【００４４】
次に、絶縁膜３２上に、ＣＶＤ法等により、アモルファスシリコン等からなる半導体層を形成する。次に、半導体層上に、ＣＶＤ法等により、例えばＳｉＮ等からなる絶縁膜を形成する。続いて、絶縁膜をフォトリソグラフィ等によりパターニングし、ストッパ膜１１５を形成する。更に、半導体層及びストッパ膜１１５上に、ＣＶＤ法等により、ｎ型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜を形成し、この膜と半導体層とをフォトリソグラフィ等によりパターニングすることで、図９Ｂに示すように、半導体層１１４とオーミックコンタクト層１１６，１１７とを形成する。
【００４５】
次に、スパッタ法、真空蒸着法等により絶縁膜３２上に、ＩＴＯ等の透明導電膜、或いは光反射性導電膜及びＩＴＯ等の透明導電膜を被膜後、この膜をフォトリソグラフィによってパターニングして画素電極４２を形成する。
【００４６】
続いて、絶縁膜３２に貫通孔であるコンタクトホール６１〜６４を形成してから、例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜又はＡｌＮｄＴｉ合金膜、ＭｏＮｂ合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜をスパッタ法、真空蒸着法等により被膜する。この膜をフォトリソグラフィによってパターニングして図９Ｂに示すようにドレイン電極Ｔｒ１２ｄ及びソース電極Ｔｒ１２ｓを形成する。これと同時に、アノードラインＬａを形成する。このとき、駆動トランジスタＴｒ１２のソース電極Ｔｒ１２ｓはそれぞれ画素電極４２の一部と重なるように形成される。
【００４７】
続いて、図９Ｃに示すように、駆動トランジスタＴｒ１２等を覆うようにシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜４７をＣＶＤ法等により形成後、フォトリソグラフィにより、開口部４７ａを形成する。次に、感光性ポリイミドを、層間絶縁膜４７を覆うように塗布し、隔壁４８の形状に対応するマスクを介して露光、現像することによってパターニングし、図９Ｃに示すように開口部４８ａを有する隔壁４８を形成する。
【００４８】
次に、図１０Ａに示すように、ノズルヘッド５０のノズルから溶液５２を連続して流すノズルプリンティング装置を用いて、溶液５２として発光ポリマー材料（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を含有する有機化合物含有液を、隔壁４８の間に設けられ、開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に塗布する。塗布は、隔壁４８の形成方向（図７に示す上下方向）に沿って塗布する。なお、ノズルプリンティング装置を用いた塗布においては、図１０Ａに示すように、有機化合物含有液はノズルヘッド５０のノズルから吐出され、基板３１上に塗布される。ノズルヘッド５０は隔壁４８間に有機化合物含有液を吐出しながら、隔壁４８が形成された方向（図１０Ａでは左右方向）に沿って移動する。なお、複数各列への塗布を連続して行う場合は、図１０Ａに示すように、ノズルヘッド５０が基板３１外にある間に、基板３１を隔壁４８が形成された方向と直交する方向（図１０Ａでは上下方向）に、所定の距離だけ移動させる。これを繰り返すことで、溶液５２が所定の列に塗布される。または、基板３１を移動させる代わりに、ノズルヘッド５０を隔壁４８が形成された方向と直交する方向に所定の距離だけ移動させてもよい。なお、ノズルヘッド５０が基板３１外にある間、溶液５２は吐出させたままであってもよいし、吐出を一旦停止させてもよい。ここで、図１０Ａに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を１つだけ有する場合には、１列毎にノズルヘッド５０の移動方向を交互に変えて塗布する。また、図１０Ｂに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド５０を２つ有する場合には、２列毎にノズルヘッド５０の移動方向を交互に変えて塗布する。
【００４９】
本実施形態では、図９Ｄに示すように、まずノズルプリンティング装置を用い、緑色の発光層４５Ｇ１、４５Ｇ２を形成する。次に、図９Ｅに示すように、赤色の発光層４５Ｒ及び青色の発光層４５Ｂを、ノズルプリンティング装置を用いて形成する。
【００５０】
このように、１列おきに発光層を形成すると、赤色の発光層４５Ｒを形成する際には、赤色の発光層４５Ｒに隣接する隔壁４８上には、予め緑色の発光層４５Ｇ１、４５Ｇ２が隔壁４８上に形成されている。従って、赤色の発光層４５Ｒは、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、乾燥速度が異なることが抑制される。従って、赤色の発光層４５Ｒは左右で膜厚が均一なものとなる。青色の発光層４５Ｂについても同様である。また、予め１列おきに形成される緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２については、隔壁４８上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２についても、左右が対称な膜厚とすることができる。
【００５１】
なお、発光機能層として正孔注入層４３を形成する場合は、発光層４５を形成する前に、正孔注入材料を含む有機化合物含有液を溶液５２として、溶液５２を連続して吐出する図１０Ａに示すノズルプリンティング装置あるいは個々に独立した複数の液滴として間欠的に吐出するインクジェット装置によって、開口部４７ａで囲まれた画素電極４２上に選択的に塗布する。続いて、基板３１を大気雰囲気下で加熱し有機化合物含有液の溶媒を揮発させて、正孔注入層４３を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００５２】
また、発光機能層として更にインターレイヤ層４４を形成する場合は、インターレイヤ層４４となる材料を含有する有機化合物含有液を溶液５２として、溶液５２をノズルから連続して吐出する図１０Ａに示すノズルプリンティング装置またはインクジェット装置を用いて正孔注入層４３上に塗布する。窒素雰囲気中の加熱乾燥、或いは真空中での加熱乾燥を行い、残留溶媒の除去を行ってインターレイヤ層４４を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。
【００５３】
続いて、発光層４５まで形成した基板３１に、真空蒸着やスパッタリングで、Ｌｉ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる層と、Ａｌ等の光反射性導電層からなる２層構造の対向電極４６を形成する。
【００５４】
次に、複数の画素３０が形成された発光領域の外側において、基板３１上に紫外線硬化樹脂、又は熱硬化樹脂からなる封止樹脂を塗布し、図示しない封止基板と基板３１と貼り合わせる。次に紫外線もしくは熱によって封止樹脂を硬化させて、基板３１と封止基板とを接合する。
以上から、発光装置１０が製造される。
【００５５】
このように、本実施形態の発光装置の製造方法では、一つの発光色の画素を２つに分割し、偶数個からなる画素の組とした上で、一列おきに発光層を形成する。これにより、後に形成される発光層の乾燥速度を比較的均一とすることができるため、各色の発光層４５を良好な均一性を備える膜とすることができる。
【００５６】
ここで、赤色の発光層４５Ｒを全列塗布した上で、緑色の発光層４５Ｇを全列塗布し、青色の発光層４５Ｂを全列に塗布することによって各色の発光層を形成する構成を比較例として、これと比較したときの本実施形態における効果を説明する。
【００５７】
図１１は、本実施形態における発光装置の断面構造及び各発光層の膜厚分布を示す図であり、図１２は、比較例における発光装置の断面構造及び各発光層の膜厚分布を示す図である。
【００５８】
上記比較例の場合、図１２に示すように、後から塗布する発光層４５Ｇ、発光層４５Ｂの膜厚が均一となりにくい。これは、隔壁上より発光層上の方が発光層形成用の有機化合物含有液がなじみやすいことに起因している。すなわち、赤色の発光層を全列塗布した後に緑色の発光層を塗布すると、緑色の発光層形成用の有機化合物含有液が赤色の発光層側へと引っ張られやすくなる。これにより、Ｇ色の発光層中、特に図１２に示す左右方向で有機化合物含有液の乾燥速度が異なり、図１２に模式的に示すように、赤色側の膜厚が厚くなり、左右が非対称な膜厚となる。青色の発光層についても同様であり、先に形成された緑色の発光層側の膜厚が厚くなり、左右の膜厚が非対称となる。
【００５９】
これに対し、本実施形態のように緑の画素を二つに分け、４つの画素を１組とし、更に緑の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を先に形成した上で、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成すると、乾燥速度をより均一とすることができる。例えば、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を予め形成した上で、赤色の発光層４５Ｒの有機化合物含有液を塗布する。赤色の有機化合物含有液は、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２との上に塗布されても、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、図１１に示す左右方向で乾燥速度が異なることはない。従って、赤色の発光層４５Ｒは図１１に示すように、左右で膜厚が均一なものとなる。青色の発光層４５Ｂについても同様である。また、予め１列おきに形成される緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２については、隔壁上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２についても、左右の膜厚を対称にすることができる。
【００６０】
なお、上述した実施形態では、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を形成した上で、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成する構成を例に挙げて説明しているが、これに限られない。要するに１列おきに発光層を塗布すればよいため、例えば、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成した後で、緑色の発光層４５Ｇ１，４５Ｇ２を形成するようにしてもよい。
【００６１】
また、上述した実施形態では、緑色の画素を２つに分割する構成を例に挙げて説明しているが、これに限られない。例えば、赤色の画素、青色の画素のいずれかを２つに分割するようにしてもよい。
【００６２】
（第２実施形態）
第２実施形態に係る発光装置２０について、図を用いて説明する。本実施形態の発光装置が、上述した第１実施形態に係る発光装置１０と異なるのは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に加えて白色（Ｗ）の画素３０Ｗを更に備える点にある。第１実施形態と共通する部分については、詳細な説明を省略する。
【００６３】
図１３は第２実施形態に係る発光装置２０の構成例を示す平面図である。図１４は、図１３に示す発光装置２０の断面構成を示す図である。
【００６４】
発光装置２０では、基板３１上に、図１３に示すようにそれぞれ赤色（Ｒ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、白色（Ｗ）の４色に発光する４つの画素３０Ｒ、３０Ｂ、３０Ｇ、３０Ｗを一組として、この組が行方向（図１３の左右方向）に繰り返し複数個、例えばｘ個配列されている。列方向（図１３の上下方向）には、同一の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばｙ個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に４ｘ個配列されており、ＲＧＢＷの各色を発光する画素はマトリクス状に、４ｘ×ｙ個配列される。
【００６５】
次に、図１３に示す発光装置２０の断面構成を図１４に示す。図１４では、説明の便宜のため、基板３１、画素電極４２、隔壁４８、それぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、白色（Ｗ）の発光色を有する４色の発光層４５（４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂ，４５Ｗ）のみを図示し、その他の構成要素については図示を省略している。本実施形態では、４色の画素３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ，３０Ｗを備え、各発光層４５Ｒ，４５Ｇ，４５Ｂ，４５Ｗは、それぞれ画素３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ，３０Ｗの各々の発光素子を形成するものである。また、特に本実施の形態では、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成した上で、緑色の発光層４５Ｇ、白色の発光層４５Ｗを形成する。このため、緑色の発光層４５Ｇの、赤色の発光層４５Ｒと青色の発光層４５Ｂとに接する部分は、それぞれ赤色の発光層４５Ｒと青色の発光層４５Ｂとの隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。白色の発光層４５Ｗについても同様であり、青色の発光層４５Ｂと赤色の発光層４５Ｒとに接する部分は、それぞれ青色の発光層４５Ｂと赤色の発光層４５Ｒとの隔壁４８に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。
【００６６】
本実施形態でも、１列おきに発光層を形成するため、緑色の発光層４５Ｇを形成する際には、緑色の発光層４５Ｇに隣接する隔壁４８上には、予め赤色の発光層４５Ｒと、青色の発光層４５Ｂが隔壁４８上に形成されている。緑色の発光層４５Ｇは、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、乾燥速度が異なることが抑制される。従って、緑色の発光層４５Ｇは左右で膜厚が均一なものとなる。白色の発光層４５Ｗについても同様である。また、予め１列おきに形成される赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂについては、隔壁４８上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂについても、左右が対称な膜厚とすることができる。
【００６７】
なお、本実施形態では、赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを先に形成する構成を例に挙げて説明しているが、緑色の発光層４５Ｇ、白色の発光層４５Ｗを先に形成し、後から赤色の発光層４５Ｒ、青色の発光層４５Ｂを形成してもよい。なお、１列おきに発光層を形成すれば、本実施形態の効果を得られるため、発光層の色の順番や、発光層の塗布の順番は適宜変更可能である。
【００６８】
また、発光素子の個数を偶数個とすればよく、例えば、第１実施形態と第２実施形態とを組み合わせ、１色を２分割にした上で、複数色を備える構成、例えば第２実施形態のように偶数個の色、具体的に４色としてもよい。
【００６９】
本発明は上述した実施形態に限られず様々な変形及び応用が可能である。
また、上述した実施形態では、発光機能層が発光層のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、図１５に示すように、正孔注入層４３、インターレイヤ層４４等を更に備えてもよい。正孔注入層４３、インターレイヤ層４４は、複数色の発光層を備える場合であっても、共通した材料から形成することができる。従って、これらの正孔注入層４３、インターレイヤ層４４を形成する際は、１列おきにこれらの材料を含有する有機化合物含有液を塗布すると、これらの膜厚を比較的均一とすることができ好ましい。１列おきに塗布した場合、図１５に示すように、正孔注入層４３の端は、隣接する正孔注入層４３の端を覆うように形成される。インターレイヤ層４４についても同様に、隣接するインターレイヤ層４４の端を覆うように形成される。
【００７０】
なお、正孔注入層４３を形成する場合、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とドーパントであるポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を水系溶媒に分散させた分散液であるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水溶液を用いる。
【００７１】
上述した実施形態では、画素回路ＤＳは２つのトランジスタを備える構成を例に挙げているが、３つ以上のトランジスタを備えるものであってもよい。
【００７２】
また、上述した実施形態ではボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を中心に説明したが、これに限られず有機ＥＬ素子ＯＥＬにより発生した光を、対向電極４６を介して外部に出射するトップエミッション型の有機ＥＬ素子に用いることも可能である。この場合、画素電極４２は透光性を有しない材料から形成してもよく、対向電極４６は、１０ｎｍ程度の膜厚の極薄い例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等の仕事関数の低い材料からなる光透過性低仕事関数層と、１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の膜厚のＩＴＯ等の光反射性導電層を有する透明積層構造とする。
【００７３】
上述した各実施形態では、発光装置を表示装置として利用する構成を例に挙げて説明しているが、プリンタの感光ドラムに光を照射するプリンタヘッド等の露光装置としても利用することができる。
【符号の説明】
【００７４】
１０，２０・・・発光装置、３０，３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｇ１，３０Ｇ２，３０Ｂ，３０Ｗ・・・画素、３１・・・基板、３２・・・絶縁膜、４２・・・画素電極（アノード電極）、４３・・・正孔注入層、４４・・・インターレイヤ層、４５，４５Ｒ，４５Ｇ１，４５Ｇ２，４５Ｂ，４５Ｗ・・・発光層、４６・・・対向電極（カソード電極）、４７・・・層間絶縁膜、４８・・・隔壁、５０・・・ノズルヘッド、５２・・・溶液、１１４・・・半導体層、１１５・・・ストッパ膜、１１６，１１７・・・オーミックコンタクト層、Ｔｒ１１ｄ，Ｔｒ１２ｄ・・・ドレイン電極、Ｔｒ１１ｇ，Ｔｒ１２ｇ・・・ゲート電極、Ｔｒ１１ｓ，Ｔｒ１２ｓ・・・ソース電極、Ｌａ・・・アノードライン、Ｌｓ・・・走査ライン、Ｌｄ・・・データライン、Ｔｒ１１・・・選択トランジスタ、Ｔｒ１２・・・駆動トランジスタ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、
前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に一定の順序で配列された偶数個の前記発光素子を有する複数の組が、行方向に一定の順序で繰り返し配列されており、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
前記発光機能層が、行方向に隣接して配列された前記各発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層を覆うように形成された前記発光素子を少なくとも一つ備えることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記偶数個の発光素子を有する組は、
第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、
前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、
前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、を有し、
前記第１の発光素子、前記第２の発光素子、前記第３の発光素子のうち、いずれか１つの特定の発光素子を２個含むことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記特定の発光素子は、当該特定の発光素子の発光色と異なる発光色の１つの前記発光素子を挟んで、行方向に配列されていることを特徴とする請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記偶数個の発光素子を有する組は、
第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、
前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、
前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、
前記第１乃至前記第３の発光色と異なる第４の発光色の第４の発光層を有する第４の発光素子と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項５】
複数の行及び複数の列に沿って所定の発光色で発光する複数の発光素子が配列された発光装置の製造方法であって、
行方向に一定の順序で配列された偶数個の前記発光素子を有する複数の組を、行方向に一定の順序で繰り返し配列して形成する発光素子形成工程を備え、
前記発光素子形成工程は、
１列おきに配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を１列おきに形成する第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項６】
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記第１の工程及び前記第２の工程で形成される前記発光機能層は、前記間隙領域にも形成され、
前記第２の工程で前記間隙領域に形成される前記発光機能層は、行方向に隣接する前記各発光素子との間の前記間隙領域に前記第１の工程で形成された前記発光機能層を覆うように形成されることを特徴とする請求項５に記載の発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記発光素子形成工程は、第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、を有する前記組を形成する際、前記第１の発光素子、前記第２の発光素子、前記第３の発光素子のうち、いずれか１つの特定の発光素子を２個形成する、ことを特徴とする請求項５又は６に記載の発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記発光素子形成工程は、前記特定の発光素子を、当該特定の発光素子の発光色と異なる発光色の１つの前記発光素子を挟んで、行方向に配列して形成することを特徴とする請求項７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記発光素子形成工程は、前記一組の発光素子として、第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、前記第１乃至前記第３の発光色と異なる第４の発光色の第４の発光層を有する第４の発光素子と、を形成することを特徴とする請求項５又は６に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項１】
複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、
前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に一定の順序で配列された偶数個の前記発光素子を有する複数の組が、行方向に一定の順序で繰り返し配列されており、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
前記発光機能層が、行方向に隣接して配列された前記各発光素子の前記間隙領域の一部に形成された前記発光機能層を覆うように形成された前記発光素子を少なくとも一つ備えることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記偶数個の発光素子を有する組は、
第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、
前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、
前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、を有し、
前記第１の発光素子、前記第２の発光素子、前記第３の発光素子のうち、いずれか１つの特定の発光素子を２個含むことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記特定の発光素子は、当該特定の発光素子の発光色と異なる発光色の１つの前記発光素子を挟んで、行方向に配列されていることを特徴とする請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記偶数個の発光素子を有する組は、
第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、
前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、
前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、
前記第１乃至前記第３の発光色と異なる第４の発光色の第４の発光層を有する第４の発光素子と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項５】
複数の行及び複数の列に沿って所定の発光色で発光する複数の発光素子が配列された発光装置の製造方法であって、
行方向に一定の順序で配列された偶数個の前記発光素子を有する複数の組を、行方向に一定の順序で繰り返し配列して形成する発光素子形成工程を備え、
前記発光素子形成工程は、
１列おきに配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を１列おきに形成する第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項６】
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記第１の工程及び前記第２の工程で形成される前記発光機能層は、前記間隙領域にも形成され、
前記第２の工程で前記間隙領域に形成される前記発光機能層は、行方向に隣接する前記各発光素子との間の前記間隙領域に前記第１の工程で形成された前記発光機能層を覆うように形成されることを特徴とする請求項５に記載の発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記発光素子形成工程は、第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、を有する前記組を形成する際、前記第１の発光素子、前記第２の発光素子、前記第３の発光素子のうち、いずれか１つの特定の発光素子を２個形成する、ことを特徴とする請求項５又は６に記載の発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記発光素子形成工程は、前記特定の発光素子を、当該特定の発光素子の発光色と異なる発光色の１つの前記発光素子を挟んで、行方向に配列して形成することを特徴とする請求項７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記発光素子形成工程は、前記一組の発光素子として、第１の発光色の第１の発光層を有する第１の発光素子と、前記第１の発光色と異なる第２の発光色の第２の発光層を有する第２の発光素子と、前記第１及び前記第２の発光色と異なる第３の発光色の第３の発光層を有する第３の発光素子と、前記第１乃至前記第３の発光色と異なる第４の発光色の第４の発光層を有する第４の発光素子と、を形成することを特徴とする請求項５又は６に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図９Ｅ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図９Ｅ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１１−３５０１０（Ｐ２０１１−３５０１０Ａ）
【公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１７７０４２（Ｐ２００９−１７７０４２）
【出願日】平成２１年７月２９日（２００９．７．２９）
【出願人】（０００００１４４３）カシオ計算機株式会社 (8,748)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年７月２９日（２００９．７．２９）
【出願人】（０００００１４４３）カシオ計算機株式会社 (8,748)
【Ｆターム（参考）】
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