磁気ディスク用基板および磁気ディスクの製造方法
【課題】 検査されるガラス基板へのパーティクル付着を防止し、検査機歩留まりを向上し得る磁気ディスク用基板の製造方法を提供する。得られる磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作製すると、歩留まり、さらには信頼性を向上し得る。
【解決手段】 ガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄し、ついで得られたガラス基板を自動検査に供するに際し、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入する。
【解決手段】 ガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄し、ついで得られたガラス基板を自動検査に供するに際し、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用基板および磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置はコンピュータの外部記憶装置としてコストパフォーマンスの優位性から著しい成長を遂げ、さらなる成長が期待されている。磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクの基板としては従来よりアルミニウム系基板が用いられているが、耐衝撃性に優れ、平滑性が得られ易い等の点から、化学強化ガラス、結晶化ガラス等のガラス基板が多く用いられるようになりつつある。すなわち、アルミニウム系基板は磁気特性に優れた磁気ディスクを得やすいが、研磨加工等の機械的処理の過程において塑性変形を伴うため、平滑性に難がある。これに対して、ガラス基板は表面の硬度が高く、上記のような塑性変形を伴わないため、平滑性が得られ易い。
【０００３】
従来、これらのガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄するガラス基板製造工程においては、複数のガラス基板をカセット（収納箱）に装填する場合には非導電性カセットに装填されており、このガラス基板製造工程の最終洗浄で得られたガラス基板をその表面状態もしくは内部欠陥検査のために自動検査に供するに際しても、該ガラス基板を非導電性カセットに装填して自動検査機に導入されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者は、意外にも最終洗浄で得られたガラス基板を自動検査に供するに際して、該ガラス基板を非導電性カセットに装填して自動検査機に導入すると、検査機歩留まり低下の原因となりうることを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明は、この課題を解決して、検査されるガラス基板へのパーティクル付着を防止し、検査機歩留まりを向上し得る磁気ディスク用基板の製造方法、ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するために以下の発明を提供する。
（１）ガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄し、ついで得られたガラス基板を自動検査に供するに際し、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法；
（２）自動検査検査機のローダーにおいて、該ガラス基板が装填された導電性カセットから、該ガラス基板のみが取り出されて検査される（１）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（３）検査がガラス基板の表面状態もしくは内部欠陥の検査である（１）もしくは（２）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（４）合格と判定されたガラス基板が、自動検査機のアンローダーにおいて待機する出荷用導電性カセットに装填される（１）〜（３）のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（５）導電性カセットが導電性プラスチック材料からなる（１）〜（４）のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（６）導電性プラスチック材料がプラスチックに導電性材料を配合されてなる（５）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（７）導電性材料が導電性カーボンブラックである（６）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；ならびに
（８）（１）〜（７）のいずれか記載の磁気ディスク用基板に磁性記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法、
である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、検査されるガラス基板へのパーティクル付着を防止し、検査機歩留まりを向上し得る磁気ディスク用基板の製造方法、ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の磁気ディスク用基板の製造方法においては、ガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄し、ついで得られたガラス基板を自動検査に供するに際し、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入する。
【０００８】
本発明におけるガラス基板としては、通常磁気ディスク基板として用いられるアモルファス、化学強化もしくは結晶化ガラスを用いることができ、たとえばソーダライム、アルミノシリケート、リチウムシリケート、リチウムアルミノシリケート、アルミノホウケイ酸、等のガラスが挙げられる。化学強化ガラスとしては、高温で溶融塩と接触させ、ガラス中のアルカリイオンと溶融塩中の別種アルカリイオンをイオン交換させ、その圧縮応力により強化されたものが好適である。また、結晶化ガラスとしては、たとえばガラスを制御された条件下で再加熱して、多数の微小な結晶を析出成長させて得られるものが挙げられる。結晶化ガラスとしては、たとえばＡl2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、等が挙げられる。このようなガラス基板の厚みは、通常０．１〜２ｍｍ程度から選択される。
【０００９】
本発明におけるガラス基板表面のラッピングおよびポリッシングは、常法によることができ、たとえば、研磨用キャリアを用いて、遊離砥粒を水等に分散させた研磨スラリーを介してガラス基板表面と定盤を擦り合わせる研磨が挙げられる。砥粒としては酸化セリウム、酸化ジルコニウム、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム等が挙げられるが、研磨速度等の点から酸化セリウムが好適である。研磨スラリーではなく、固定砥粒を用いた砥石等を用いることもできる。
【００１０】
本発明においては、ガラス基板の外端面と接触しうる内側面を樹脂コーティングした研磨用キャリアを用いて研磨するのが好適である。樹脂コーティングにおける樹脂としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ＡＢＳもしくはポリスチレン樹脂、等の熱可塑性またはエポキシ、フェノール、不飽和ポリエステルもしくはポリイミド樹脂、等の熱硬化性樹脂が挙げられるが、エポキシ樹脂が最も好適である。そして、これらの樹脂は繊維強化されていないのが好適である。樹脂コーティングの厚さは１０μｍ〜１ｍｍ程度から選択される。
【００１１】
このようにガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨した後、水、界面活性剤、イソプロピルアルコール等を用いて、常法により洗浄される。そして、得られたガラス基板は自動検査に供される。本発明においては、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入することが必要であり、たとえば洗浄機のアンローダーで導電性カセットに装填して、そのまま自動検査機に導入されるのが好適である。カセットの形状、大きさ等は特に制限されない。ついで、自動検査検査機のローダーにおいて、該ガラス基板が装填された導電性カセットから、該ガラス基板のみが取り出されて検査される。検査は通常、ガラス基板の表面状態（付着物、キズもしくはピット）もしくは内部欠陥の検査であるが、必ずしも全数検査である必要はない。
【００１２】
合格と判定されたガラス基板は、自動検査検査機のアンローダーにおいて待機する出荷用導電性カセットに装填される。
【００１３】
これらの導電性カセットは好適には導電性プラスチック材料からなり、この導電性プラスチック材料はポリカーボネート等のプラスチックに導電性材料を配合されてなるのが好ましい。このような導電性材料としては好適には導電性カーボンブラックである。
【００１４】
得られた磁気ディスク用基板は、磁気ディスクの作製に供される。たとえば、まず基板上に、必要に応じて、ヘッド走行方向にテクスチャー溝を形成するためにテクスチャリング処理を行う。ついで、この基板上にスパッタリング法により、Ｃｒ合金からなる下地膜を形成する。そして、この下地膜の上にCo系合金からなる磁性記録層が、たとえば１０〜１００ｎｍ程度の膜厚で形成される。この磁性記録層の上に、さらに耐食性、耐摺動性等を向上させるためにカーボン等の保護膜を形成するのが好ましい。カーボンとしては、たとえばスパッタリング法により水素化カーボン、ＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボン、等を１〜５０ｎｍ程度の膜厚で形成する。そして、このカーボン保護膜の表面には、潤滑層として、たとえばパーフルオロポリエーテルまたはその末端をエステル化もしくはアミド化した修飾したものを溶媒で希釈してスプレー、ディップ、スピンコート等により、膜厚０．５〜５ｎｍ程度に塗布することにより、耐久性、信頼性等をさらに向上しうる。
【００１５】
このようにして、本発明方法で得られる磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作製すると、歩留まり、さらには信頼性を向上し得る。
【実施例】
【００１６】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限りこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１
２．５インチのリチウムシリケート系結晶化ガラス基板を用いて、ラッピングおよびポリッシングを行った。ポリッシングは酸化セリウム研磨スラリー（酸化セリウム濃度１０質量％）を供給し、定盤回転数３０ｒｐｍ、加工圧力６５ｇ/ｃｍ2（約６，３７４Ｐａ）、時間３５分間で行った。ついで、スクラブ洗浄し、水、ついでイソプロピルアルコールにより洗浄した後、得られたガラス基板２５枚を導電性カセット（ポリカーボネートに導電性カーボンブラック配合した組成物より形成されている）に装填して、そのまま自動検査機に導入した。自動検査検査機のローダーにおいて、導電性カセットから、該ガラス基板のみが取り出されて、ガラス基板表面の付着物、キズもしくはピットの有無について検査された。そして、合格品についてさらに同様の検査を繰り返した。その結果は次のとおりであった。
【００１７】
１回目： 検査数２５ 合格品２５（検査歩留まり１００％）
２回目： 検査数２５ 合格品２５（検査歩留まり１００％）
３回目： 検査数２５ 合格品２４（検査歩留まり９６％）
４回目： 検査数２４ 合格品２４（検査歩留まり１００％）
５回目： 検査数２４ 合格品２４（検査歩留まり１００％）
検査歩留まり平均９９％
比較例１
導電性カセットを非導電性カセット（ポリカーボネートから形成される）とした以外は実施例１と同様にして繰り返し検査を行った。その結果は次のとおりであった。
【００１８】
１回目： 検査数２５ 合格品２０（検査歩留まり８０％）
２回目： 検査数２０ 合格品１９（検査歩留まり９５％）
３回目： 検査数１９ 合格品１８（検査歩留まり９５％）
４回目： 検査数１８ 合格品１６（検査歩留まり８９％）
５回目： 検査数１６ 合格品１５（検査歩留まり９４％）
検査歩留まり平均９０％
このような検査歩留まりの低下は、非導電性カセットがガラス基板にパーティクルを付着させていることに起因することがわかった。
【００１９】
合格品であるガラス基板を、スパッタにより、基板温度２００℃で、下地層としてＣｒ６０ｎｍ、磁性記録層としてＣｏ13Ｃｒ6Ｐｔ3Ｔａ合金２０ｎｍ、保護層としてダイアモンドライクカーボン１０ｎｍを逐次成膜し、さらにパーフルオロポリエーテル系潤滑層３ｎｍをディップで塗布して、磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクは良好な特性を有していた。
【産業上の利用可能性】
【００２０】
本発明は、検査されるガラス基板へのパーティクル付着を防止し、検査機歩留まりを向上し得る磁気ディスク用基板の製造方法、ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供しうる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用基板および磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置はコンピュータの外部記憶装置としてコストパフォーマンスの優位性から著しい成長を遂げ、さらなる成長が期待されている。磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクの基板としては従来よりアルミニウム系基板が用いられているが、耐衝撃性に優れ、平滑性が得られ易い等の点から、化学強化ガラス、結晶化ガラス等のガラス基板が多く用いられるようになりつつある。すなわち、アルミニウム系基板は磁気特性に優れた磁気ディスクを得やすいが、研磨加工等の機械的処理の過程において塑性変形を伴うため、平滑性に難がある。これに対して、ガラス基板は表面の硬度が高く、上記のような塑性変形を伴わないため、平滑性が得られ易い。
【０００３】
従来、これらのガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄するガラス基板製造工程においては、複数のガラス基板をカセット（収納箱）に装填する場合には非導電性カセットに装填されており、このガラス基板製造工程の最終洗浄で得られたガラス基板をその表面状態もしくは内部欠陥検査のために自動検査に供するに際しても、該ガラス基板を非導電性カセットに装填して自動検査機に導入されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者は、意外にも最終洗浄で得られたガラス基板を自動検査に供するに際して、該ガラス基板を非導電性カセットに装填して自動検査機に導入すると、検査機歩留まり低下の原因となりうることを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明は、この課題を解決して、検査されるガラス基板へのパーティクル付着を防止し、検査機歩留まりを向上し得る磁気ディスク用基板の製造方法、ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するために以下の発明を提供する。
（１）ガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄し、ついで得られたガラス基板を自動検査に供するに際し、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法；
（２）自動検査検査機のローダーにおいて、該ガラス基板が装填された導電性カセットから、該ガラス基板のみが取り出されて検査される（１）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（３）検査がガラス基板の表面状態もしくは内部欠陥の検査である（１）もしくは（２）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（４）合格と判定されたガラス基板が、自動検査機のアンローダーにおいて待機する出荷用導電性カセットに装填される（１）〜（３）のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（５）導電性カセットが導電性プラスチック材料からなる（１）〜（４）のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（６）導電性プラスチック材料がプラスチックに導電性材料を配合されてなる（５）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；
（７）導電性材料が導電性カーボンブラックである（６）記載の磁気ディスク用基板の製造方法；ならびに
（８）（１）〜（７）のいずれか記載の磁気ディスク用基板に磁性記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法、
である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、検査されるガラス基板へのパーティクル付着を防止し、検査機歩留まりを向上し得る磁気ディスク用基板の製造方法、ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の磁気ディスク用基板の製造方法においては、ガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄し、ついで得られたガラス基板を自動検査に供するに際し、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入する。
【０００８】
本発明におけるガラス基板としては、通常磁気ディスク基板として用いられるアモルファス、化学強化もしくは結晶化ガラスを用いることができ、たとえばソーダライム、アルミノシリケート、リチウムシリケート、リチウムアルミノシリケート、アルミノホウケイ酸、等のガラスが挙げられる。化学強化ガラスとしては、高温で溶融塩と接触させ、ガラス中のアルカリイオンと溶融塩中の別種アルカリイオンをイオン交換させ、その圧縮応力により強化されたものが好適である。また、結晶化ガラスとしては、たとえばガラスを制御された条件下で再加熱して、多数の微小な結晶を析出成長させて得られるものが挙げられる。結晶化ガラスとしては、たとえばＡl2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、等が挙げられる。このようなガラス基板の厚みは、通常０．１〜２ｍｍ程度から選択される。
【０００９】
本発明におけるガラス基板表面のラッピングおよびポリッシングは、常法によることができ、たとえば、研磨用キャリアを用いて、遊離砥粒を水等に分散させた研磨スラリーを介してガラス基板表面と定盤を擦り合わせる研磨が挙げられる。砥粒としては酸化セリウム、酸化ジルコニウム、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム等が挙げられるが、研磨速度等の点から酸化セリウムが好適である。研磨スラリーではなく、固定砥粒を用いた砥石等を用いることもできる。
【００１０】
本発明においては、ガラス基板の外端面と接触しうる内側面を樹脂コーティングした研磨用キャリアを用いて研磨するのが好適である。樹脂コーティングにおける樹脂としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ＡＢＳもしくはポリスチレン樹脂、等の熱可塑性またはエポキシ、フェノール、不飽和ポリエステルもしくはポリイミド樹脂、等の熱硬化性樹脂が挙げられるが、エポキシ樹脂が最も好適である。そして、これらの樹脂は繊維強化されていないのが好適である。樹脂コーティングの厚さは１０μｍ〜１ｍｍ程度から選択される。
【００１１】
このようにガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨した後、水、界面活性剤、イソプロピルアルコール等を用いて、常法により洗浄される。そして、得られたガラス基板は自動検査に供される。本発明においては、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入することが必要であり、たとえば洗浄機のアンローダーで導電性カセットに装填して、そのまま自動検査機に導入されるのが好適である。カセットの形状、大きさ等は特に制限されない。ついで、自動検査検査機のローダーにおいて、該ガラス基板が装填された導電性カセットから、該ガラス基板のみが取り出されて検査される。検査は通常、ガラス基板の表面状態（付着物、キズもしくはピット）もしくは内部欠陥の検査であるが、必ずしも全数検査である必要はない。
【００１２】
合格と判定されたガラス基板は、自動検査検査機のアンローダーにおいて待機する出荷用導電性カセットに装填される。
【００１３】
これらの導電性カセットは好適には導電性プラスチック材料からなり、この導電性プラスチック材料はポリカーボネート等のプラスチックに導電性材料を配合されてなるのが好ましい。このような導電性材料としては好適には導電性カーボンブラックである。
【００１４】
得られた磁気ディスク用基板は、磁気ディスクの作製に供される。たとえば、まず基板上に、必要に応じて、ヘッド走行方向にテクスチャー溝を形成するためにテクスチャリング処理を行う。ついで、この基板上にスパッタリング法により、Ｃｒ合金からなる下地膜を形成する。そして、この下地膜の上にCo系合金からなる磁性記録層が、たとえば１０〜１００ｎｍ程度の膜厚で形成される。この磁性記録層の上に、さらに耐食性、耐摺動性等を向上させるためにカーボン等の保護膜を形成するのが好ましい。カーボンとしては、たとえばスパッタリング法により水素化カーボン、ＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボン、等を１〜５０ｎｍ程度の膜厚で形成する。そして、このカーボン保護膜の表面には、潤滑層として、たとえばパーフルオロポリエーテルまたはその末端をエステル化もしくはアミド化した修飾したものを溶媒で希釈してスプレー、ディップ、スピンコート等により、膜厚０．５〜５ｎｍ程度に塗布することにより、耐久性、信頼性等をさらに向上しうる。
【００１５】
このようにして、本発明方法で得られる磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作製すると、歩留まり、さらには信頼性を向上し得る。
【実施例】
【００１６】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限りこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１
２．５インチのリチウムシリケート系結晶化ガラス基板を用いて、ラッピングおよびポリッシングを行った。ポリッシングは酸化セリウム研磨スラリー（酸化セリウム濃度１０質量％）を供給し、定盤回転数３０ｒｐｍ、加工圧力６５ｇ/ｃｍ2（約６，３７４Ｐａ）、時間３５分間で行った。ついで、スクラブ洗浄し、水、ついでイソプロピルアルコールにより洗浄した後、得られたガラス基板２５枚を導電性カセット（ポリカーボネートに導電性カーボンブラック配合した組成物より形成されている）に装填して、そのまま自動検査機に導入した。自動検査検査機のローダーにおいて、導電性カセットから、該ガラス基板のみが取り出されて、ガラス基板表面の付着物、キズもしくはピットの有無について検査された。そして、合格品についてさらに同様の検査を繰り返した。その結果は次のとおりであった。
【００１７】
１回目： 検査数２５ 合格品２５（検査歩留まり１００％）
２回目： 検査数２５ 合格品２５（検査歩留まり１００％）
３回目： 検査数２５ 合格品２４（検査歩留まり９６％）
４回目： 検査数２４ 合格品２４（検査歩留まり１００％）
５回目： 検査数２４ 合格品２４（検査歩留まり１００％）
検査歩留まり平均９９％
比較例１
導電性カセットを非導電性カセット（ポリカーボネートから形成される）とした以外は実施例１と同様にして繰り返し検査を行った。その結果は次のとおりであった。
【００１８】
１回目： 検査数２５ 合格品２０（検査歩留まり８０％）
２回目： 検査数２０ 合格品１９（検査歩留まり９５％）
３回目： 検査数１９ 合格品１８（検査歩留まり９５％）
４回目： 検査数１８ 合格品１６（検査歩留まり８９％）
５回目： 検査数１６ 合格品１５（検査歩留まり９４％）
検査歩留まり平均９０％
このような検査歩留まりの低下は、非導電性カセットがガラス基板にパーティクルを付着させていることに起因することがわかった。
【００１９】
合格品であるガラス基板を、スパッタにより、基板温度２００℃で、下地層としてＣｒ６０ｎｍ、磁性記録層としてＣｏ13Ｃｒ6Ｐｔ3Ｔａ合金２０ｎｍ、保護層としてダイアモンドライクカーボン１０ｎｍを逐次成膜し、さらにパーフルオロポリエーテル系潤滑層３ｎｍをディップで塗布して、磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクは良好な特性を有していた。
【産業上の利用可能性】
【００２０】
本発明は、検査されるガラス基板へのパーティクル付着を防止し、検査機歩留まりを向上し得る磁気ディスク用基板の製造方法、ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供しうる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄し、ついで得られたガラス基板を自動検査に供するに際し、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項２】
自動検査検査機のローダーにおいて、該ガラス基板が装填された導電性カセットから、該ガラス基板のみが取り出されて検査される請求項１記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項３】
検査がガラス基板の表面状態もしくは内部欠陥の検査である請求項１もしくは２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項４】
合格と判定されたガラス基板が、自動検査検査機のアンローダーにおいて待機する出荷用導電性カセットに装填される請求項１〜３のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項５】
導電性カセットが導電性プラスチック材料からなる請求項１〜４のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項６】
導電性プラスチック材料がプラスチックに導電性材料を配合されてなる請求項５記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項７】
導電性材料が導電性カーボンブラックである請求項６記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか記載の磁気ディスク用基板に磁性記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項１】
ガラス基板の表面をラッピングおよびポリッシング研磨し、洗浄し、ついで得られたガラス基板を自動検査に供するに際し、該ガラス基板を導電性カセットに装填して自動検査機に導入することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項２】
自動検査検査機のローダーにおいて、該ガラス基板が装填された導電性カセットから、該ガラス基板のみが取り出されて検査される請求項１記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項３】
検査がガラス基板の表面状態もしくは内部欠陥の検査である請求項１もしくは２記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項４】
合格と判定されたガラス基板が、自動検査検査機のアンローダーにおいて待機する出荷用導電性カセットに装填される請求項１〜３のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項５】
導電性カセットが導電性プラスチック材料からなる請求項１〜４のいずれか記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項６】
導電性プラスチック材料がプラスチックに導電性材料を配合されてなる請求項５記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項７】
導電性材料が導電性カーボンブラックである請求項６記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか記載の磁気ディスク用基板に磁性記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【公開番号】特開２００６−９２７２３（Ｐ２００６−９２７２３Ａ）
【公開日】平成１８年４月６日（２００６．４．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２４３９６３（Ｐ２００５−２４３９６３）
【出願日】平成１７年８月２５日（２００５．８．２５）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年４月６日（２００６．４．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年８月２５日（２００５．８．２５）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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