【課題】離型剤を用いることなく、離型力を大幅に低減させて、被成形物からモールドを容易に離型させる。
【解決手段】モールド３０に形成されたナノメートルオーダーの所望のパターンを被成形材料に転写することで被成形物を成形するナノインプリント装置１において、モールド３０と被成形物との間に気体を吹き付け、モールド３０と被成形物との間に入り込んだ気体によって、モールド３０と被成形物との間の圧力を上昇させる。具体的には、モールド３０と被成形物との間の圧力上昇が、少なくともモールド３０と被成形物とを含む空間の圧力に近付くよう、気体を吹き付け、モールドと被成形物との間に入り込ませる気体の量を制御することで実現する。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、研磨後の基板表面のスクラッチやうねりを低減できる研磨液組成物、並びにこれを用いた基板の製造及び研磨方法の提供。
【解決手段】研磨材、水溶性重合体、及び水を含有する研磨液組成物であって、前記水溶性重合体が、スルホン酸基を有し、主鎖及び側鎖のそれぞれに芳香族環を有する研磨液組成物。前記研磨液組成物を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び／又は前記被研磨基板を動かして研磨する工程を含む、基板の製造方法及び研磨方法。 （もっと読む）

【課題】ＤＴメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にＤＴメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の濡れ性が、他の領域の濡れ性と異なっている。 （もっと読む）

【課題】アルミナ粒子とシリカ粒子とを含む磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、研磨速度の向上とロールオフの低減が可能な磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】アルミナ粒子、シリカ粒子、オキシアルキレン基を有する化合物、及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記シリカ粒子が透過型電子顕微鏡観察による測定で得られた前記シリカ粒子の粒径（ｎｍ）に対して小粒径側からの累積体積頻度（％）をプロットして得られた前記シリカ粒子の粒径対累積体積頻度グラフにおいて粒径１０ｎｍにおける累積体積頻度が０〜４０％でありかつ粒径４０ｎｍにおける累積体積頻度が５５〜１００％である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】ｅビームリソグラフィの際に非伝導性基板を用いるテンプレートのに電子を消散することができるインプリントリソグラフィの方法および装置を提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ方法は材料を伝導性基板のパターン化面上に生成するステップと、透明基板および伝導性基板を互いに押し付け、押し付けにより材料はパターン化面に整合するステップとを含む。エネルギは材料に与えられて、材料からパターン化された材料を形成する。透明基板および伝導性基板は分離され、パターン化された材料は透明基板に貼り付く。 （もっと読む）

【課題】装置全体を大きくすることなく、基板への入射イオンビームの均一性を図ったイオンビーム発生装置を提供する。
【解決手段】放電槽２でプラズマを発生させ、引き出し電極７より環状のイオンビームを引き出し、偏向電極３０によって、該イオンビームを環状の中心方向に屈曲させて基板Ｗに対して、傾斜した方向から入射させる。 （もっと読む）

【課題】イオン注入型によるディスクリートトラック媒体の分離域形成加工において、入射するイオンが被処理磁気ディスク基板の端面のような鋭角部に集中、アーキングと呼ばれる異常放電が発生し、磁性膜の破壊が発生してしまう。
【解決手段】被処理磁気ディスク基板（被処理基板）２０と同電位になるグリッド３０を被処理基板が保持された電極板４４の上面に設けた電極構造に対して、高電圧パルス３２を印加することで、グリッド表面のみに高電圧のシース４１を形成し、グリッドに囲まれた被処理基板表面にはシースを形成しないことで、アーキングを抑制する。さらに、グリッドを通過して照射されるイオンに晒される電極板上に配置された被処理基板の面積に対して、被処理基板に覆われた部分を除く電極板の面積が等倍以上とすることで二次電子を積極的に利用して、無損傷なイオン注入処理を行う。 （もっと読む）

【解決課題】 加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかも熱伝導率が単結晶や多結晶のバルク基板と変わらない磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供する。
【解決手段】 粗研磨（Ｓ６）後のシリコン多結晶基板表面にＡｌ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｎｉ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｖ，ＷおよびＺｒからなる群より選択される１種または２種以上の金属を含む基底層を形成し（Ｓ７）、該基底層上に、シリコンを含む層を少なくとも１層含む上位層を形成したのち（Ｓ８−１，Ｓ８−２，Ｓ８−３）、シリサイド化もしくはシリコン合金化（Ｓ９）し、該膜を研磨等の精密研磨（Ｓ１０）して基板の平坦性を高めることとした。これにより、多結晶粒の結晶方位の違いや結晶粒界の存在には影響を受けずに平坦で平滑な表面を得ることができ、かつバルクＳｉ基板とほぼ同等な耐熱性と熱伝導率を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】片面加工品の磁気ディスク用基板においても従来の触針式測定機や光学式／干渉系測定機を使用した品質の測定を行うことができる磁気ディスク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、片面加工された磁気ディスク用基板１０を検査する検査工程において、磁気ディスク用基板１０の非加工面を天側に、加工面を地側になるように磁気ディスク用基板１０を固定し、磁気ディスク用基板１０の加工面である主表面の品質を、該主表面を基準として、触針式測定機１００を使用して磁気ディスク用基板１０の主表面に下方に配置し、触針を上向きに設置すると共に接触圧を上向きにかけて測定を行う。 （もっと読む）

【課題】円盤状基板のセットに際して生じる傷などの低減を図る。
【解決手段】キャリア３０に対してキャリアアダプタ５０を装着することにより、キャリア３０の表面がキャリアアダプタ５０により覆われる。その後、キャリアアダプタ５０の孔部５４を介して（通じて）キャリア３０の孔部３４にワークをセットする。そしてワークのセットが完了後、リング部５９ｂを引っ張り上げることでキャリアアダプタ５０を取り外す。その後は、上定盤をワークに接触するまで移動させ、ラッピングマシンを稼働させる。 （もっと読む）

【課題】リンス時に発生しうる基板表面のスクラッチやナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用リンス剤組成物の提供。
【解決手段】下記（ａ）の共重合体及び下記（ｂ）の両性界面活性剤の少なくとも一方と、酸化剤とを含有し、ｐＨが１〜６である磁気ディスク基板用リンス剤組成物。
（ａ）カルボン酸基を有する構成単位及びスチレン誘導体に由来する構成単位の少なくとも一方と、スルホン酸基を有する構成単位とを有する共重合体。
（ｂ）下記式（１）で表される両性界面活性剤。


［上記式（１）において、Ｒは炭素数８〜１６のアルキル基である。］ （もっと読む）

【課題】所望の時期に、スクラブ洗浄に用いられるパッド等のスクラブ部材から、付着物を除去する。
【解決手段】本発明は、被洗浄物Ｄのスクラブ洗浄用のスクラブ部材１４を浄化するように構成されたスクラブ部材浄化装置１０であって、スクラブ部材浄化用の付着物除去部材３９を備え、該付着物除去部材３９は、被洗浄物Ｄのスクラブ洗浄の際、スクラブ部材１４の表面部分が被洗浄物Ｄから離れて再び該被洗浄物Ｄに接するまでに通る軌跡上に、付着物除去部材３９の表面部分が位置するように、配置される。 （もっと読む）

【課題】限外濾過膜を用いて、無機ナノ粒子溶液をクロスフロー濾過することにより、無機ナノ粒子を高精度で分級する方法およびその限外濾過膜モジュール、クロスフロー濾過装置を提供すること。
【解決手段】分画粒子径が、標的無機ナノ粒子と不純物無機ナノ粒子の粒子径の平均値の０．５倍以上２倍以下である限外濾過膜を用いて、粒子径比が１．５以上１０以下であり、その粒子径が１ｎｍ以上５００ｎｍ以下である標的無機ナノ粒子と不純物無機ナノ粒子無機ナノ粒子を含有する溶液をクロスフロー濾過することにより、標的無機ナノ粒子と不純物無機ナノ粒子を分離する方法および限外濾過膜モジュール、装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】研磨後の被研磨物の損傷や回収効率の問題となる、研磨後の被研磨物の上部の研磨機構の張り付きを防止する。
【解決手段】被研磨物を回転又は摺動させて研磨する機構を有する上下一対の研磨機構間に被研磨物を挿入して研磨する両面研磨方法であって、上部の研磨機構が下部の研磨機構より被処理物に対する吸着力が弱いことを特徴とする両面研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】昇温時の低い実効的熱伝導率および降温時の高い実効的熱伝導率という矛盾する熱特性、および高い円環抗折強度および高い衝撃落下強度という静的および動的な機械的強度の要求を満たす情報記録媒体用基板の製造方法の提供。
【解決手段】シリコン単結晶支持体の全面上に窒化シリコン膜を堆積し、基板内周部の窒化シリコン膜を除去し、基板内周部において露出したシリコン単結晶支持体の表面を熱酸化して５０ｎｍ以上の膜厚を有する第１ＳｉＯ_２膜を形成し、窒化シリコン膜を除去し、主平面、基板外周端面および基板外周チャンファー部において露出したシリコン単結晶支持体の表面を熱酸化して、１０ｎｍ以下の膜厚を有する第２ＳｉＯ_２膜を形成することを特徴とする情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板表面粗さの低減を達成しながらも、従来の研磨布よりもさらにスクラッチ欠点を抑えることのできる研磨布を提供する。
【解決手段】平均繊維径０．３〜３．０μｍの極細繊維の束が絡合してなる不織布を有してなり、研磨布の厚み方向と直交する断面において、前記極細繊維束の断面が５０〜１０００個／ｍｍ^２存在することを特徴とする研磨布。 （もっと読む）

【課題】昇温時の低い実効的熱伝導率および降温時の高い実効的熱伝導率という矛盾する熱特性、および高い円環抗折強度および高い衝撃落下強度という静的および動的な機械的強度の要求を満たす情報記録媒体用基板の製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）中心孔を有する円板形状を有し、主平面と、該中心孔に隣接する基板内周部と、該基板内周部に対して主平面の反対側に位置する基板外周部とを有するシリコン単結晶支持体を準備する工程と、（ｂ）基板内周部に酸化性ガスを供給し、主平面、基板外周部に不活性または還元性ガスを供給した状態においてシリコン単結晶支持体を加熱して、基板内周部に選択的にＳｉＯ_２膜を形成する工程とを含むことを特徴とする情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安定した表面加工を行う生産装置と、それをスパッタ工程の直前にインラインで構成する製造方法の構築により、安定した製品品質の垂直磁気記録媒体が生産できる製造方法、及び装置を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体の基板加工工程において、複数枚の基板を同時に加工する加工装置３を後工程の生産能力に同期させインライン化する。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部から汚染物質を良好に除去することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）製のスポンジブラシ１６を備えている。スポンジブラシ１６の外表面を含む範囲には、多数の砥粒が保持されている。基板処理装置１は、スピンチャック３により回転されるウエハＷの周縁部にスポンジブラシ１６を当接させることにより当該周縁部を洗浄することができる。スポンジブラシ１６は、ウエハＷの周縁部に強固に付着した汚染物資を砥粒によって剥離させることにより、ウエハＷの周縁部から当該汚染物質を良好に除去することができる。 （もっと読む）

【解決課題】 加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかも熱伝導率が単結晶や多結晶のバルク基板と変わらない磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供する。
【解決手段】 粗研磨（Ｓ６）後の多結晶シリコン基板表面に金属膜を成膜し（Ｓ７）、シリサイド化もしくはシリコン合金化した後（Ｓ８）、該膜をＣＭＰ研磨等の精密研磨（Ｓ９）して基板の平坦性を高めることとした。これにより、多結晶粒の結晶方位の違いや結晶粒界の存在には影響を受けずに平坦で平滑な表面を得ることができ、かつバルクＳｉ基板とほぼ同等な耐熱性と熱伝導率を得ることができる。 （もっと読む）