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Fターム[5D112BA04]の内容

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Fターム[5D112BA04]に分類される特許

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【課題】チッピングやクラックの発生を防止しつつ,経済的且つ衛生的に硬質脆性材料基板の側部を研磨できる研磨方法を提供する。
【解決手段】弾性母材21に砥粒22を分散又は付着させた弾性研磨材20を基板10’の側部に向かって圧縮空気と共に噴射する。噴射は,加工点Pで幅方向線Wと交叉し,接触線Tに対し2〜60°の範囲から選択された所定の傾斜角θを成す噴射方向Dで,加工点Pを中心とした所定の加工領域Fに対して前記弾性研磨材の噴射を行うと共に,前記加工領域Fを前記被加工物10の周方向に一定の速度で移動させ,移動した位置における各加工点P’において前記噴射方向Dを維持するよう,前記噴射ノズル30と前記被加工物とを相対的に移動させる。基板10’を重ねて処理する場合,基板10’の幅方向に対しても一定速度で加工領域Fを移動させる。 (もっと読む)


【課題】磁気記録のトリレンマを解消するための手段を見出すこと。
【解決手段】Fe含有量100原子%に対するAl含有量が1.5〜15原子%であり、2価元素と5価元素の合計含有量が1.0〜10原子%であり、5価元素含有量に対する2価元素含有量の割合が原子基準で2.0超かつ4.0未満であり、かつ、活性化体積が1300〜1800nm3の範囲である六方晶バリウムフェライト磁性粒子。 (もっと読む)


【課題】研磨後の被研磨物の表面粗さ及びパーティクルを低減できる研磨液組成物の製造方法。
【解決手段】一次粒子の平均粒子径が1〜100nmのコロイダルシリカを含有する被処理シリカ分散液を、ろ過助剤を含むフィルターでろ過処理する工程を有する研磨液組成物の製造方法であって、前記ろ過助剤は水銀圧入法による平均細孔径が0.1〜3.5μmである、研磨液組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】固定砥粒の性能を十分に引き出して効率的にガラス基板の製造を可能とするガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面を研削するラッピング工程と、ラッピング工程後、ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程と、を備えたガラス基板の製造方法であって、ラッピング工程は、遊離砥粒又は固定砥粒を用いてガラス基板の主表面を研削する1次ラッピング工程と、1次ラッピング工程における遊離砥粒又は固定砥粒の粒径よりも小さい粒径の固定砥粒を用いてガラス基板の主表面を研削する2次ラッピング工程と、1次ラッピング工程後、2次ラッピング工程前に、ガラス基板の主表面を超音波洗浄、スクラブ洗浄及び酸洗浄の少なくとも1つにより洗浄する洗浄工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】プレス時の割れを抑制すること。
【解決手段】このガラスブランク1は、円板状の薄肉部10と、薄肉部10の周縁部に沿って設けられた厚肉部12と、を有し、情報記録媒体用基板に加工する際に、厚肉部12が除去される。また、ガラスブランクの製造方法は、このガラスブランク1を製造する方法であり、情報記録媒体用基板の製造方法は、ガラスブランク1またはガラスブランクの製造方法により作製されたガラスブランク1を用いて作製する。また、情報記録媒体お製造方法は、情報記録媒体用基板の製造方法により作製された基板を用いる。 (もっと読む)


【課題】基材よりはみ出した被転写材を基材側から取り去る転写型を提供する。
【解決手段】表面に穴を中心に同心円状の複数の凹凸構造110を備えた円環領域103と円環領域103を囲む外部領域104及び円領域105とを有し、円環領域103と、円環領域103と同一の大きさであって中心に穴を有する円盤状の基材001との間に配置された被転写材を挟み押圧することで、被転写材に凹凸構造110を転写する転写型100であって、円環領域103、外部領域104、及び円領域105のそれぞれは、被転写材を円環領域103から離型させた時点で外部領域104及び円領域105に被転写材が接着している離型性を有する。 (もっと読む)


【課題】1平方インチ当たり40ギガビット以上のような高記録密度での使用に供される磁気ディスクとして構成しても、サーマルアスぺリテイ障害を起こすことがなく、耐衝撃性にも優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。携帯電話、デジタルカメラ、携帯型「MP3プレイヤ」、PDA等の携帯情報機器や、「カーナビゲーションシステム」など車載用機器にも搭載できるように、例えば、外径30mm以下の小型磁気ディスクとして構成しても、安定した動作を実現できる磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラスディスクの端面部を鏡面加工する鏡面加工工程を有し、この鏡面加工工程においては、端面部に対して研磨手段を摺接させて端面部の表面を鏡面研磨した後に、この鏡面状態を保持しつつ、端面部を化学処理し、表層部に存在するクラックを除去する。 (もっと読む)


【課題】溶融ガラスをプレス成形してガラス基板ブランクスを製造する方法において、ガラス基板ブランクスを金型から離型するときにガラス基板ブランクスの厚みが薄くなっても割れが発生せず、また、平面性の高いガラス基板ブランクス、該ガラス基板ブランクスの製造方法、該製造方法で製造したガラス基板ブランクスを用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体を提供する。
【解決手段】ガラス基板ブランクスの少なくとも一方の表面が、粗面部からなるパターンを有すること。 (もっと読む)


【課題】充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用Si基板を提供すること。
【解決手段】本発明では、多結晶Siウェハの平坦化の工程でのエッチングは行なわれず、機械研削のみで平坦化がなされる(S104、S106)。これは、エッチング速度に結晶面依存性があるため、多結晶Siウェハをエッチングすると、ウェハ表面に露出している各結晶粒の結晶方位面の違いによって段差が生じることが避けられず、精密な表面平坦化の障害となるためである。そして、最終研磨段階に先立って予めSiウェハ表面を酸化膜で被覆して酸化膜付きSiウェハとし(S107)、この酸化膜表面を平坦化することで表面に段差のない平坦な基板(酸化膜付きSi基板)を得ている(S108)。 (もっと読む)


【課題】発塵防止性に優れた基板の洗浄装置の提供を目的とする。
【手段】本発明はドーナツ円盤状の基板を洗浄する装置であり、噴出装置とチャック装置を具備し、チャック装置が基板孔部の内側に挿通される支持ロッドを複数本備えたスピンドルチャックと、該スピンドルチャックを回転駆動する水力回転機構とを具備してなり、前記スピンドルチャックが、支持ロッドを移動自在に支持する駆動機構を複数備えた支持ベースと、回転軸とを具備し、前記水力回転機構が、回転軸を取り囲むととともに駆動流体の流通路を内部に備えたシャーシ部材と、該シャーシ部材内の流通路に望んで設けられた水車部材と、駆動流体の供給路および排出路を備えてなる。 (もっと読む)


【課題】低ノイズで良好な信号生成特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板を提供すること。
【解決手段】Si基板11に表面処理を施して表面を化学的に活性化するとともに、適度な凹凸(Ra:1nm〜1μm)を形成して下地メッキ層16を形成する。この下地メッキ層16は、Ni、Cu、Agの群の中から選択される1種以上の金属元素からなる金属または合金とされ、厚みは1nm以上500nm以下とされる。この下地メッキ層16の上に、電解メッキもしくは無電解メッキにより軟磁性裏打ち層12が形成される。この軟磁性裏打ち層12は、主成分として、Coを40〜60原子%、Niを20〜40原子%、Feを10〜40原子%含有する組成の50〜1000nmの膜である。このような膜構成により、反強磁性膜の成膜や磁場中熱処理といった工程によることなくスパイクノイズを抑制可能な軟磁性裏打ち膜がメッキ法により成膜可能となる。 (もっと読む)


【課題】複数枚の非導電性の基板に対してバイアススパッタによる成膜を行う枚葉式の成膜装置において、生産性を維持したままで、良好にDCバイアスを印加することができるようにする。
【解決手段】非導電性の基板1を保持する基台6と、バイアス印加用端子13を基板1上に成膜された導電性膜に接触させることによってこの導電性膜にバイアス電圧を印加するバイアス印加手段とを備える。バイアス印加用端子13は、形状記憶合金等、温度に応じて形状が変化する部材によって形成されており、温度変化による変形によって、基台6上に保持された基板1に接離する。 (もっと読む)


【課題】材質の脆いシリコン基板の割れや欠けを無くすだけでなく、磁気ディスクの製造工程中における発塵を防止する。
【解決手段】シリコン基板を用いてなる磁気ディスク用基板であって、基準面Tから点Aまでの距離を示すスキージャンプ値Hが、H≦0μmであり、基準面Tから点Aまでの距離を示すロールオフ値Hが、−0.2μm≦H≦0.0μmであり、点Aと点Aとを結ぶ直線に対して主表面の輪郭線が描く最大変位を示すダブオフ値Hが、0μm≦H≦0.012μmであり、主表面とチャンファー面との間が曲面とされ、この曲面の曲率半径Rが、0.013mm≦R≦0.080mmである。 (もっと読む)


【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】Si基板11上に、NiまたはNiPの下地メッキ層16を設け、この上に軟磁性裏打ち層12を電解メッキにより成膜する。この軟磁性裏打ち層12は、CoとNiとFeからなる群から選択される少なくとも2種の元素と、BとCとPとSからなる群から選択される少なくとも1種の元素とを含有する組成とされる。また、軟磁性裏打ち層12は外部磁場印加させた状態で成膜されるため、面内径方向が磁化容易方向となり、面内径方向の磁化飽和磁場強度(Hd)と面内周方向の磁化飽和磁場強度(Hc)との差(δH=Hd−Hc)が5エルステッド(Oe)以上の異方性を有する。そして、この軟磁性裏打ち層12上に垂直磁気記録用の磁気記録層13を形成し、さらに、保護層14および潤滑層15を順次積層する。 (もっと読む)


【課題】 規則化した合金材料が、細孔中に充填されている構造体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 以下の3つの工程を有する。
多孔質層の孔内に合金を構成する第1の材料を充填する第1の工程。該多孔質層上に第2の材料を含み構成される膜を成膜する第2の工程。該膜を有する該多孔質層を熱処理する第3の工程。 (もっと読む)


【課題】1インチ以下の小径の磁気ディスクを使用した磁気記録技術において、ヘッドと磁気ディスクが吸着することなくヘッド浮上量をできるだけ低減する。
【解決手段】内周面の平均表面粗さをRa1、及びそのデータ領域の外周面の平均表面粗さをRa2とするとき、0<Ra1−Ra2≦0.2nmで表される関係を有するディスク状基板を使用する。 (もっと読む)


【課題】異常放電によるターゲットからのパーティクルの飛散を防止し、高品質な垂直磁気記録媒体を高歩留まりで製造する方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録層6の成膜に当っては、DCパルスを使用し、スパッタリングとスパッタリングの間の反転期間(Reversal Time)にターゲットに反対極性の電圧が印加される。スパッタリング時は、ターゲットに負の電圧が印加され、ターゲット表面が負の電位になり、Ar+が衝突することでスパッタリングが始まり、スパッタされたCoCrPtとSiOは中間層5の表面に堆積する。ターゲットの絶縁物(SiO)の表面はAr+により帯電し、ターゲットの電圧に比べて大きな値となる。しかしながら、非スパッタリング時にはターゲットに正の電圧を印加することで、絶縁物表面に帯電した電荷を中和するので、アーキングの発生を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】 パーティクルの無い良好な小径の磁気記録媒体を生産性よく製造する。
【解決手段】 非磁性基板上に、少なくとも、下地層、磁性層、カーボン系保護層が順次設けられた磁気記録媒体の製造方法において、カーボン系保護層の形成工程以降に、少なくとも、水溶性樹脂を含むレーザ保護膜を形成する工程と、レーザビームにより磁気記録媒体を加工する工程を順次含む製造方法とする。水溶性樹脂として、アクリル系重合体、ビニル系重合体、セルロース系誘導体、アルキレングリコール系重合体、尿素系重合体、メラミン系重合体、エポキシ系重合体、アミド系重合体の中から選ばれる何れか1種類以上を用いる。 (もっと読む)


識別情報を有する対象物(50)を識別する方法であって、上記識別情報が対象物の同一性を検証するために使用される方法において、タグ(500,501,502)の少なくとも一部の磁場(57)の少なくとも一つの特性を決定することにより、第1の特定の磁気信号を得るステップと、上記第1の特定の磁気信号に関連する信号情報を記憶するステップと、を含み、タグ(500,501,502)が複数の細孔を有する実質的に非磁性の母材を備え、上記細孔の少なくとも一部が磁性材料を含み、上記記憶された信号情報が対象物の識別情報を形成する、方法。

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