磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体の製造装置
【課題】磁気記録媒体への磁気転写に用いられるパターン形成体の繰り返し使用回数が減少するのを抑制する。
【解決手段】磁気情報を記録する磁気記録媒体１を移載部１７によって磁気転写部１４側に供給し、供給される磁気記録媒体１を、サーボ・パターンが形成されたマスタ情報記録体２００のパターンの形成面と対峙した位置に位置決めし、位置決めされた磁気記録媒体１の振動の大きさを振動検出部２０によって検出し、検出した振動の大きさが±１μｍ以下となった後に、マスタ情報記録体２００に吸着により磁気記録媒体１を接触させて固定し、マスタ情報記録体２００に形成されたサーボ・パターンを、マスタ情報記録体２００に接触させた磁気記録媒体１に、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を用いて磁気的に転写する。
【解決手段】磁気情報を記録する磁気記録媒体１を移載部１７によって磁気転写部１４側に供給し、供給される磁気記録媒体１を、サーボ・パターンが形成されたマスタ情報記録体２００のパターンの形成面と対峙した位置に位置決めし、位置決めされた磁気記録媒体１の振動の大きさを振動検出部２０によって検出し、検出した振動の大きさが±１μｍ以下となった後に、マスタ情報記録体２００に吸着により磁気記録媒体１を接触させて固定し、マスタ情報記録体２００に形成されたサーボ・パターンを、マスタ情報記録体２００に接触させた磁気記録媒体１に、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を用いて磁気的に転写する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハード・ディスク・ドライブ等に代表される磁気記録装置では、回転する磁気記録媒体に対し、磁気ヘッドを用いたデータの書き込みおよび読み取りが行われる。
この種の磁気記録装置では、磁気記録媒体上の目的とする位置に磁気ヘッドを移動させ、且つ、その位置でのデータの書き込みおよび読み取りを行わせるために、磁気ヘッドの位置決めを行っている。このため、磁気記録媒体には、予め、磁気ヘッドによって読み取られるとともに磁気ヘッドの位置決めに使用される位置決めデータが記録されている。
【０００３】
公報記載の従来技術として、磁気記録媒体に対する位置決めデータ等の記録を、所謂磁気転写方式にて行うことが提案されている（特許文献１参照）。磁気転写においては、記録すべきデータに対応したパターンが形成されたパターン形成体に磁気記録媒体を重ね合わせた状態で、パターン形成体と磁気記録媒体とを挟んで一方向に向かう磁力を加えることで、磁気記録媒体に対するパターンの磁気的な転写を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１９６１２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気転写方式を採用した場合において、磁気転写媒体の生産性を向上させ、あるいは、磁気転写媒体の製造にかかるコストを低減するという観点から、パターン形成体を磁気転写に繰り返し使用できる回数を増加させることが望まれている。
本発明は、磁気記録媒体への磁気転写に用いられるパターン形成体の繰り返し使用回数が減少するのを抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁気情報を記録する磁気記録媒体を搬送する工程と、搬送されてくる磁気記録媒体を、パターンが形成されたパターン形成体のパターンの形成面と対峙した位置に位置決めする工程と、位置決めされた磁気記録媒体の振動の大きさが予め定められた基準値以下となった後に、パターン形成体のパターンの形成面に磁気記録媒体を接触させる工程と、パターン形成体に形成されたパターンを、パターン形成体に接触させた磁気記録媒体に磁気的に転写する工程とを含んでいる。
【０００７】
このような製造方法において、接触させる工程では、パターン形成体側に磁気記録媒体を吸着させることを特徴とすることができる。
また、パターン形成体には、パターンとして凹凸が形成されていることを特徴とすることができる。
さらに、接触させる工程において、基準値を磁気記録媒体のデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍとしたことを特徴とすることができる。
【０００８】
また、他の観点から捉えると、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁気情報を記録する磁気記録媒体を搬送する工程と、搬送されてくる磁気記録媒体を、パターンが形成されたパターン形成体のパターンの形成面と対峙した位置に位置決めする工程と、位置決めされた磁気記録媒体の振動の減衰特性に基づいて予め定められた時間が経過した後に、パターン形成体のパターンの形成面に磁気記録媒体を接触させる工程と、パターン形成体に形成されたパターンを、パターン形成体に接触させた磁気記録媒体に磁気的に転写する工程とを含んでいる。
【０００９】
さらに、他の観点から捉えると、本発明の磁気記録媒体の製造装置は、パターンが形成されたパターン形成体と、パターンの形成面を露出させた状態でパターン形成体を保持する保持体と、パターン形成体のパターンの形成面と対峙する位置に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を位置決めする位置決め部と、位置決め部によって位置決めがなされた磁気記録媒体を、パターン形成体のパターンの形成面に接触させた状態で取り付けさせる取り付け部と、取り付け部によって取り付けられた磁気記録媒体とパターン形成体とを挟むように配置される一対の磁石部材と、位置決め部によって位置決めがなされた磁気記録媒体の振動の大きさを検出する検出部と、検出部による検出結果に基づいて、取り付け部によるパターン形成体への磁気記録媒体の取り付け開始時期を制御する制御部とを含んでいる。
【００１０】
このような製造装置において、取り付け部は、パターン形成体に磁気記録媒体を吸着させて取り付けを行うことを特徴とすることができる。
また、パターン形成体には、パターンとして凹凸が形成されていることを特徴とすることができる。
さらに、制御部は、検出部による検出結果において磁気記録媒体の振動の大きさが磁気記録媒体のデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍ以下となった後に、取り付け部によるパターン形成体への磁気記録媒体の取り付けを開始させることを特徴とすることができる。
【００１１】
さらにまた、他の観点から捉えると、本発明の磁気記録媒体の製造装置は、パターンが形成されたパターン形成体と、パターンの形成面を露出させた状態でパターン形成体を保持する保持体と、パターン形成体のパターンの形成面と対峙する位置に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を位置決めする位置決め部と、位置決め部によって位置決めがなされた磁気記録媒体を、パターン形成体のパターンの形成面に接触させた状態で取り付けさせる取り付け部と、取り付け部によってパターン形成体に取り付けられた磁気記録媒体およびパターン形成体を挟んで配置される一対の磁石部材と、位置決め部による磁気記録媒体の位置決めが完了した後の経過時間を計測する計測部と、計測部による計測結果に基づいて、取り付け部によるパターン形成体への磁気記録媒体の取り付け開始時期を制御する制御部とを含んでいる。
【００１２】
このような製造装置において、制御部は、計測部による計測結果が、位置決め部によって位置決めがなされた磁気記録媒体の振動の減衰特性に基づいて予め定められた時間が経過した後に、取り付け部によるパターン形成体への磁気記録媒体の取り付けを開始させることを特徴とすることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、磁気記録媒体への磁気転写に用いられるパターン形成体の繰り返し使用回数が減少するのを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施の形態が適用される磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
【図２】磁気記録媒体の断面構成の一例を示す図である。
【図３】磁気記録媒体の上面図である。
【図４】本実施の形態における磁気記録媒体の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図５】表面検査および磁気転写を行うための表面検査・磁気転写装置の上面図である。
【図６】図５の矢印ＶＩ方向からみた表面検査・磁気転写装置の斜視図である。
【図７】磁気転写部における第１磁石部材、第２磁石部材の構成および両者の相互的な位置関係の一例を示す図である。
【図８】磁気転写部で用いられるマスタ情報記録体の構成の一例を示す図である。
【図９】磁気転写部における固定ホルダおよび可動ホルダの断面構成の一例を示す図である。
【図１０】表面検査・磁気転写装置における制御ブロックの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態が適用される磁気記録媒体１を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
この磁気記録再生装置は、データを磁気情報として磁気的に記録する磁気記録媒体１と、磁気記録媒体１を回転駆動させる回転駆動部２と、磁気記録媒体１にデータを書き込むとともに磁気記録媒体１に記録されたデータを読み取る磁気ヘッド３と、磁気ヘッド３を搭載するキャリッジ４と、キャリッジ４を介して磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３を相対移動させるヘッド駆動部５と、外部から入力された情報を処理して得られた記録信号を磁気ヘッド３に出力し、磁気ヘッド３からの再生信号を処理して得られた情報を外部に出力する信号処理部６とを備えている。
ここで、本実施の形態では、磁気記録媒体１が円盤状の形状を有しており、後述するように、その両面にそれぞれデータを記録するための記録層が形成されている。そして、図１に示す例では、１台の磁気記録再生装置に複数（ここでは３枚）の磁気記録媒体１が取り付けられている。
【００１６】
図２は、図１に示す磁気記録媒体１の断面構成の一例を示す図である。なお、磁気記録媒体１に対するデータの記録方式には面内記録方式と垂直記録方式とが存在するが、本実施の形態では、垂直記録方式において使用される磁気記録媒体１について説明を行う。
この磁気記録媒体１は、基板１００と、基板１００の上に形成された密着層１１０と、密着層１１０の上に形成された軟磁性下地層１２０と、軟磁性下地層１２０の上に形成された配向制御層１３０と、配向制御層１３０の上に形成された非磁性下地層１４０と、非磁性下地層１４０の上に形成された垂直記録層１５０と、垂直記録層１５０の上に形成された保護層１６０と、保護層１６０の上に形成された潤滑層１７０とを備えている。そして、本実施の形態では、基板１００の両面のそれぞれに、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０、保護層１６０、および潤滑層１７０が形成されるようになっている。なお、以下の説明においては、必要に応じて、基板１００の両面に密着層１１０から保護層１６０までを積層したもの、換言すれば、基板１００に潤滑層１７０以外を形成したものを、積層基板１８０と称することがある。
【００１７】
本実施の形態では、基板１００として非磁性体が使用されており、例えばアルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えばガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００１８】
これらのうち、ガラス基板としては、例えば、通常のガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、通常のガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。また、セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００１９】
また、基板１００は、後述するようにＣｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層１２０と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。このため、基板１００と軟磁性下地層１２０との間に密着層１１０を設けることが好ましい。なお、密着層１１０の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金など適宜選択することが可能である。また、密着層１１０の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００２０】
軟磁性下地層１２０は、垂直記録方式を採用した場合において、記録再生時のノイズの低減を図るために設けられる。
本実施の形態において、軟磁性下地層１２０は、密着層１１０の上に形成される第１軟磁性層１２１と、第１軟磁性層１２１の上に形成されるスペーサ層１２２と、スペーサ層１２２の上に形成される第２軟磁性層１２３とを備えている。すなわち、軟磁性下地層１２０は、第１軟磁性層１２１と第２軟磁性層１２３とによってスペーサ層１２２を挟み込んだ構成を有している。
これらのうち、第１軟磁性層１２１および第２軟磁性層１２３は、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いるのが好ましく、またその透磁率や耐食性を高めるためＴａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒからなる群から選ばれる何れか１種を１原子％〜８原子％の範囲で含有させるのが好ましい。
また、スペーサ層１２２としては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中では特にＲｕを用いるのが好ましい。
【００２１】
配向制御層１３０は、非磁性下地層１４０を介してこの上に積層される垂直記録層１５０の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するために設けられる。
配向制御層１３０を構成する材料については、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金が好ましく、またこれらの合金を多層化したものを用いてもよい。例えば、基板１００側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００２２】
非磁性下地層１４０は、この上に積層される垂直記録層１５０の初期積層部における結晶成長の乱れを抑制し、記録再生時のノイズの発生を抑制するために設けられる。ただし、非磁性下地層１４０については、必ずしも設ける必要はない。
本実施の形態において、非磁性下地層１４０は、Ｃｏを主成分とする金属に、さらに酸化物を含んだ材料からなることが好ましい。非磁性下地層１４０におけるＣｒの含有量は、２５原子％〜５０原子％とすることが好ましい。非磁性下地層１４０における酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。非磁性下地層１４０における酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上１８ｍｏｌ％以下であることが好ましい。
【００２３】
本実施の形態における垂直記録層１５０は、非磁性下地層１４０の上に形成される第１磁性層１５１と、第１磁性層１５１の上に形成される第１非磁性層１５２と、第１非磁性層１５２の上に形成される第２磁性層１５３と、第２磁性層１５３の上に形成される第２非磁性層１５４と、第２非磁性層１５４の上に形成される第３磁性層１５５とを備えている。すなわち、垂直記録層１５０では、第１磁性層１５１と第２磁性層１５３とによって第１非磁性層１５２を挟み込み、第２磁性層１５３と第３磁性層１５５とによって第２非磁性層１５４を挟み込んだ構成を有している。
【００２４】
これらのうち、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５は、磁気ヘッド３から供給される磁気エネルギーによって垂直記録層１５０の厚さ方向に磁化の向きを反転させ、その状態を維持することでデータを記憶するために設けられる。
これら第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５は、Ｃｏを主成分とする金属からなる磁性粒子と非磁性の酸化物とを含み、磁性粒子を酸化物で囲んだグラニュラ型構造を有するものを用いることが好ましい。
【００２５】
ここで、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５を構成する酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。また、垂直記録層１５０の中で最下層となる第１磁性層１５１については、２種類以上の酸化物からなる複合酸化物を含んでいることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００２６】
また、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５を構成する磁性粒子に適した材料としては、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などの構成元素を挙げることができる。
【００２７】
また、第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４は、垂直記録層１５０を構成する第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５の個々での磁化反転を容易とし、磁性粒子全体での磁化反転の分散を小さくすることで、ノイズを低減するために設けられる。
本実施の形態において、第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４は、例えばＲｕおよびＣｏを含んでいることが好ましい。
【００２８】
なお、この例では、垂直記録層１５０を構成する磁性層を３層（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５）としていたが、これに限られるものではなく、４層以上の磁性層を備えた構成とすることも可能である。また、この例では、垂直記録層１５０を構成する各磁性層（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５）の間に非磁性層（第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４）を設けていたが、これに限られるものではなく、例えば異なる組成を有する２つの磁性層を、重ねて配置するようにしてもかまわない。
【００２９】
保護層１６０は、垂直記録層１５０の腐食を抑制するとともに、磁気ヘッド３が磁気記録媒体１に接触したときに、磁気記録媒体１の表面の損傷を防いで保護するために設けられる。
保護層１６０としては、従来公知の材料を使用することができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２を含むものを使用することが可能である。保護層１６０の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが、図１に示す磁気記録再生装置において磁気ヘッド３と磁気記録媒体１との距離を小さくできるので、高記録密度の点から好ましい。
【００３０】
潤滑層１７０は、磁気ヘッド３が磁気記録媒体１に接触したときに磁気ヘッド３および磁気記録媒体１の表面の摩耗を抑制するために設けられる。
潤滑層１７０としては、従来公知の材料を使用することができ、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を用いることが好ましい。潤滑層１７０の厚さは、１〜２ｎｍとすることが、図１に示す磁気記録再生装置において磁気ヘッド３と磁気記録媒体１との距離を小さくできるので、高記録密度の点から好ましい。
【００３１】
図３は、図１に示す磁気記録媒体１の上面図である。また、図３には、磁気記録媒体１の表面に設けられる複数のデータ領域を模式的に示している。
本実施の形態における磁気記録媒体１は、上述したように円盤状の形状を有しており、その中央部には磁気記録媒体１の表裏を貫通する円形状の孔が形成されている。以下の説明では、磁気記録媒体１における円形状の孔の縁を内端１ａと称し、磁気記録媒体１における外周の縁を外端１ｂと称する。
【００３２】
図３に示す磁気記録媒体１の表面には、磁気ヘッド３（図１参照）を用いたデータの読み書きを行うための読み書きデータ記憶領域Ａ１と、磁気ヘッド３を用いたデータの読み書きにおいて磁気ヘッド３の位置決めに用いられるデータ（位置決めデータという）を記憶する位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。この例において、位置決めデータ記憶領域Ａ２は、磁気記録媒体１の表面に、放射状に複数設けられている。また、磁気記録媒体１の表面には、同心円状に、複数のトラックＴが設けられる。なお、図示はしていないが、図３に示す磁気記録媒体１の裏面にも、同様にして、読み書きデータ記憶領域Ａ１と位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。ただし、磁気記録媒体１の表裏面のそれぞれに設けられた位置決めデータ記憶領域Ａ２は、表裏で位置を合わせなくてもかまわない。
【００３３】
磁気記録媒体１の位置決めデータ記憶領域Ａ２には、位置決めデータとして、例えば、磁気ヘッド３による読み取り時において検出信号の利得調整に用いられるＡＧＣ（Auto Gain Control）パターン、サーボ信号の検出に用いられる検出パターン、サーボ・トラックのシリンダ情報あるいはセクタ情報の検出に用いられるアドレス・パターン、そして目的とするトラックＴに磁気ヘッド３を移動させた後にそのトラックＴ上に磁気ヘッド３を追従させるのに用いられるバースト・パターン（いずれも図示せず）等を含むサーボ・パターンが記憶されている。なお、サーボ・パターンは、磁気記録媒体１に設けられた垂直記録層１５０の厚み方向の磁化の向きを、位置決めデータに合わせて適宜反転させることで構成されている。
【００３４】
図４は、本実施の形態における磁気記録媒体１の製造方法の一例を示すフローチャートである。本実施の形態では、磁気記録媒体１の製造過程において、上述した位置決めデータ記憶領域Ａ２にサーボ・パターンの書き込みを行っていること、より具体的には、後述するマスタ情報記録体２００（図８参照）を用いて、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写していることに特徴がある。
【００３５】
磁気記録媒体１の製造に先立ち、予め円盤状に形成されるとともに中央部に表裏を貫通する円形状の孔が形成された基板１００を準備し、予備洗浄を行った後、この基板１００に対する研磨を行う（ステップ１０１）。ステップ１０１における基板１００の研磨は、例えばダイヤモンドスラリーを用いたメカニカルポリッシュで行うことが望ましい。
【００３６】
そして、研磨後の基板１００は、その平均表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であるとことが、磁気ヘッド３（図１参照）を低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、研磨後の基板１００の表面の微小うねり（Ｗａ）が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下。）であることが、磁気ヘッド３を低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、研磨後の基板１００の端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下（より好ましくは９．５ｎｍ以下。）のものを用いることが、磁気ヘッド３の飛行安定性にとって好ましい。なお、微少うねり（Ｗａ）は、例えば、表面荒粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００３７】
次に、研磨が施された基板１００に対し、前洗浄を行う（ステップ１０２）。ステップ１０２における基板１００の前洗浄は、研磨が施された基板１００を、純水あるいは超純水に浸漬して超音波振動を加えながら行うことが好ましい。そして、前洗浄がなされた基板１００は、速やかにスピン法等で乾燥させることが好ましい。
【００３８】
続いて、前洗浄が施された基板１００に対し、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０および保護層１６０を順次積層する成膜工程を行う（ステップ１０３）。ここで、生産性を向上させるという観点からすれば、ステップ１０３における各層の形成を、例えばそれぞれが成膜機能を備えた複数のチャンバを直列に接続したインライン式成膜装置で行うことが好ましい。また、生産性を向上させるという観点からすれば、成膜工程で形成される各層をスパッタリング法で形成することが望ましい。ただし、保護層１６０の強度を確保しつつ薄膜化するという観点からすれば、密着層１１０から垂直記録層１５０についてはスパッタリング法で形成する一方、保護層１６０についてはＣＶＤ法で形成することが好ましい。このように、前洗浄が施された基板１００に対し成膜工程を行うことで、積層基板１８０（図２参照）が得られる。
【００３９】
そして、成膜工程によって得られた積層基板１８０に対し、後洗浄を行う（ステップ１０４）。ステップ１０４における積層基板１８０の後洗浄は、水素水を用いて行うことができる。ここで、水素水とは、純水もしくは超純水に、高純度の水素ガスを溶解した水であり、水のクラスターを小さくして洗浄能力を高めたものである。
【００４０】
本実施の形態の後洗浄工程は、後述するワイピング工程（ステップ１０７）、バーニッシュ工程（ステップ１０８）では除去しきれない積層基板１８０表面の汚染物を除去する目的で行われる。これらの汚染物は、後述する潤滑剤塗布工程（ステップ１０５）や上記ワイピング工程およびバーニッシュ工程の後では水素水による洗浄除去が困難となる場合がある。その理由は、推測ではあるが、汚染物が潤滑層１７０に覆われるとその撥水性により除去が困難となること、ワイピング工程およびバーニッシュ工程の後では汚染物が積層基板１８０の表面に塗り込められ、除去しにくくなってしまうことが考えられる。なお、水素水を用いた後洗浄工程によっても、スパッタダスト等の粉状物をある程度は除去することが可能ではあるが、ワイピング工程およびバーニッシュ工程のように積層基板１８０の表面をスクラブし、ワイプし、または削る効果が低いため、積層基板１８０の表面に強固に付着した粉状物を除去することは困難である。よって、この水素水を用いた後洗浄工程は、ワイピング工程やバーニッシュ工程と併用するのが好ましい。
【００４１】
後洗浄工程では、保護層１６０までを形成した積層基板１８０を、水素水を含む洗浄槽へ浸漬して行うのが好ましい。特に磁気記録媒体１の製造においては、後洗浄工程を設けることで、ワイピング工程やバーニッシュ工程では除去できず、後述する磁気転写工程（ステップ１１１）においてマスタ情報記録体に転写、蓄積される汚染物を効果的に除去し、かつ後洗浄工程の実行時に積層基板１８０を腐食させにくくする効果を有する。
【００４２】
ここで、本実施の形態における後洗浄工程について、具体的な例を挙げて説明する。投入する積層基板１８０の枚数にもよるが、例えば１００枚程度の外径２．５インチの積層基板１８０をバッチ式で処理する場合は、容積３０リットル程度の樹脂製またはステンレス合金製の浸漬層に、純水中の溶存水素濃度を０．１ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲内とした水素水を入れ、この水素水の酸化還元電位を−２００ｍＶ〜−８００ｍＶの範囲内とし、ＫＯＨまたはＮＨ４ＯＨの量を０．０５ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲内、必要に応じて弱アルカリ性の界面活性剤を微量添加し、浸漬層に１ｋＷ程度の超音波振動を印加し、この浸漬層に積層基板１８０を１０秒〜１０分の範囲内で浸漬洗浄する。そして後洗浄工程では、好ましくは複数回の洗浄を行うようにし、初期においては上述した条件で洗浄を行い、最後の洗浄では、ＫＯＨ、ＮＨ４ＯＨ、あるいは界面活性剤を添加しない、純水および溶存水素のみを含む水素水を用いて超音波振動を加えながら洗浄を行うとよい。そして、後洗浄が終了した積層基板１８０は、速やかにスピン法等で乾燥させることが好ましい。
【００４３】
次に、後洗浄が施された積層基板１８０に対し、潤滑剤を塗布し（ステップ１０５）、積層基板１８０に潤滑層１７０を形成する。続いて、潤滑層１７０が塗布された積層基板１８０を１００℃程度で数分間加熱するベークを行う（ステップ１０６）。これにより、潤滑層１７０に含まれる水分が揮発し、且つ、積層基板１８０の最表面側に設けられた保護層１６０と保護層１６０に接する潤滑層１７０との密着性が高まる。以上により、磁気記録媒体１が得られる。
【００４４】
次いで、ベークが施された磁気記録媒体１の表面をワイピングする（ステップ１０７）。ワイピング工程は、磁気記録媒体１の表面に付着したスパッタダスト等を拭き取るために行われる。これは、上述したように、ステップ１０４の後洗浄工程は水素水への浸漬によるものであり、これだけでは、磁気記録媒体１の表面に強固に付着した粉状物を除去することが困難であるからである。
【００４５】
ワイピング工程は、例えば布製のワイピングテープ等を用いて行なわれ、このワイピングテープを磁気記録媒体１の表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロールまたはパッドによってワイピングテープ表面を磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、磁気記録媒体１の表面を軽く拭くことによって行われる。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体１の表面に付着していたスパッタダスト等が除去されることになる。その結果、得られた磁気記録媒体１を図１に示す磁気記録再生装置に組み込んだ場合に、磁気記録媒体１に対する磁気ヘッド３の浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００４６】
ここで、ワイピング工程に用いられるワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物等が用いられる。
【００４７】
また、このようなワイピングテープを用いる磁気記録媒体１のワイピング方法は、具体的には、磁気記録媒体１を回転させつつ、この磁気記録媒体１の磁性層側の面に、ワイピングテープの表面（拭き面）を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体１の表面のスパッタダスト等が拭き取られ、表面が清浄化する。ここで、ワイピングテープは、供給リールと巻取りリールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取りリールに巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取りリール側に走行する途中で、ワイピングテープは、拭き面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロールまたはフェルト等により押圧され、その拭き面が磁気記録媒体１の表面に押し当てられる。
【００４８】
そして、ワイピングが施された磁気記録媒体１の表面に対しバーニッシュを行う（ステップ１０８）。
バーニッシュ工程は、磁気記録媒体１の表面に形成または付着した突起物を除去するため、その表面を、研磨テープを用いて研磨する工程である。このような処理を行うことにより、得られた磁気記録媒体１を図１に示す磁気記録再生装置に組み込んだ場合に、磁気記録媒体１に対する磁気ヘッド３の浮上量をより小さくすることができる。また、後述する磁気転写工程において、磁気記録媒体１とマスタ情報記録体２００との間に隙間が生じて転写パターンが不鮮明となり、マスタ情報記録体２００が損傷を受けるのを防ぐことができる。
【００４９】
バーニッシュ工程は、アルミナ砥粒を塗布した研磨テープ等を用いて行なわれ、この研磨テープをゴム製のコンタクトロールによって磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、磁気記録媒体１の表面を軽く研磨することにより行われる。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体１の表面の異常突起等が除去される。
【００５０】
バーニッシュ工程に用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、通常ポリエステル製のベースフィルム上に研磨材層を形成してなるテープを使用する。そして、この研磨材層が磁気記録媒体１の磁性層側の面と接触して摺動することによって、磁気記録媒体１の表面に付着した微小な塵埃が除去されると共に、その表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて、その表面が平滑化される。研磨材としては、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が用いられる。
【００５１】
また、このような研磨テープを用いる磁気記録媒体１のバーニッシュ加工は、具体的には、磁気記録媒体１を回転させつつ、この磁気記録媒体１の磁性層側の面に、研磨テープの砥粒面を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体１の表面の突起が研磨除去され平滑化される。ここで、研磨テープは、供給リールと巻取りリールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取りリールに巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取りリール側に走行する途中で、研磨テープは、砥粒面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロールまたはフェルト等により押圧され、研磨テープの研磨面が磁気記録媒体１の表面に押し当てられる。
【００５２】
次に、バーニッシュが施された磁気記録媒体１に対し、初期磁化を行う（ステップ１０９）。この例では、垂直記録方式で用いられる磁気記録媒体１を対象としているため、初期磁化工程は、磁気記録媒体１の表面に垂直方向に一方向の初期直流磁界を印加することによって行われる。その際に印加する初期直流磁界は永久磁石、電磁石によって発生させることが可能であり、好ましくは、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いて発生させるのが好ましい。また、初期磁化工程は磁気記録媒体１と磁石とを非接触状態で行うことが、磁気記録媒体１の表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００５３】
ここで、本実施の形態の磁気記録媒体１における垂直記録層１５０（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３、第３磁性層１５５）の保磁力Ｈｃは、通常、３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上になっている。よって、初期磁化工程では、垂直記録層１５０の各磁性層を直流磁化することが可能な磁石を用いるとよい。
【００５４】
その後、初期磁化が施された磁気記録媒体１に対し、表面検査を行う（ステップ１１０）。表面検査工程では、初期磁化後の磁気記録媒体１の表面への塵埃の付着や異常突起の有無を検査する。
そして、表面検査が完了した磁気記録媒体１に対し磁気転写を行い（ステップ１１１）、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを記憶させた位置決めデータ記憶領域Ａ２（図３参照）を設ける。
なお、ステップ１１０の表面検査工程およびステップ１１１の磁気転写工程は、一連の動作として実行されるが、この詳細については後述する。
【００５５】
続いて、磁気転写が施された磁気記録媒体１に対しグライド検査を行う（ステップ１１２）。グライド検査工程では、磁気転写済の磁気記録媒体１の表面に突起物が無いかどうか、実際にヘッドを浮上走行させて検査する。磁気ヘッド３を用いて磁気記録媒体１をデータの書き込み（記録）および読み出し（再生）を実行する際に、磁気記録媒体１の表面に浮上量（磁気記録媒体１と磁気ヘッド３の間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッド３が突起にぶつかって磁気ヘッド３が損傷したり、磁気記録媒体１に欠陥が発生したりする原因となる。このため、グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００５６】
次いで、グライド検査に合格した磁気記録媒体１に対し、サーティファイ検査を行う（ステップ１１３）。サーティファイ検査工程では、通常の磁気記録再生装置と同様に、磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３で予め決められた信号を記録した後、記録した信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体１の記録不良を検出し、磁気記録媒体１の電気特性や欠陥の有無など磁気記録媒体１の品質を確かめる。上述した方法で製造した磁気記録媒体１には、既にサーボ・パターンが書き込まれているため、サーボ情報を用いない従来の方式でのサーティファイ検査を実施することが困難となっている。このため、本実施の形態では、磁気記録媒体１に磁気転写されたサーボ・パターン（位置決めデータ）を利用して磁気ヘッド３を特定箇所に位置づけし、データの読み書きを行う形式の検査を行う。
そして、サーティファイ検査に合格した磁気記録媒体１が、製品として出荷されることになる。
【００５７】
では、上述したステップ１１０における表面検査工程およびステップ１１１における磁気転写工程について、より詳細に説明する。
図５は、表面検査および磁気転写を行うための表面検査・磁気転写装置１０の上面図である。また、図６は、図５に示す矢印ＶＩ方向からみた表面検査・磁気転写装置１０の斜視図である。なお、以下では、図５において、図中左側から右側に向かう方向をＸ方向、図中下側から上側に向かう方向をＹ方向、そして図中奥側から手前側に向かう方向をＺ方向として説明を行う。
【００５８】
表面検査・磁気転写装置１０は、Ｙ方向に対してＸ方向が長辺側となる矩形状の基台１１と、ステップ１０９に示す初期磁化が施された磁気記録媒体１を収容する転写前媒体収容部１２と、転写前媒体収容部１２から取り出された磁気記録媒体１に対しステップ１１０に示す表面検査を行う表面検査部１３と、表面検査がなされた磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写する磁気転写部１４と、サーボ・パターンの磁気転写がなされた磁気記録媒体１を収容する転写済媒体収容部１５と、表面検査部１３による表面検査の結果が不合格となった磁気記録媒体１を収容する不具合品収容部１６とを備える。また、表面検査・磁気転写装置１０は、表面検査がなされた磁気記録媒体１を磁気転写部１４へと供給するとともに磁気転写がなされた磁気記録媒体１を磁気転写部１４から回収するために磁気記録媒体１を移載する移載部１７と、転写前媒体収容部１２、表面検査部１３、転写済媒体収容部１５、不具合品収容部１６および移載部１７の間で磁気記録媒体１の授受を行うスカラ（SCARA：Selective Compliance Assembly Robot Arm）・ロボット１８とをさらに備える。そして、表面検査・磁気転写装置１０は、移載部１７に保持された磁気記録媒体１の磁気転写部１４に対する位置決めに用いられる位置検出部１９と、磁気転写部１４に対する位置決めがなされた磁気記録媒体１の振動検出に用いられる振動検出部２０とをさらに備える。
【００５９】
表面検査・磁気転写装置１０において、転写前媒体収容部１２、表面検査部１３、磁気転写部１４、転写済媒体収容部１５、不具合品収容部１６、移載部１７、スカラ・ロボット１８、位置検出部１９および振動検出部２０は、基台１１の上部側に配置されている。これに対し、表面検査部１３、磁気転写部１４、移載部１７、スカラ・ロボット１８、位置検出部１９および振動検出部２０の駆動系は、基台１１よりも下部側に配置されている。また、本実施の形態の表面検査・磁気転写装置１０は、ダウンフロー方式を採用したクリーンルーム内に配置されており、表面検査・磁気転写装置１０には、上方から下方（図５において−Ｚ方向）に空気が流れるようになっている。
【００６０】
なお、以下の説明においては、転写前媒体収容部１２から表面検査部１３を介して、磁気転写部１４あるいは不具合品収容部１６に供給される、磁気転写工程実行前の磁気記録媒体１を『転写前媒体』と称する。また、以下の説明では、磁気転写部１４から転写済媒体収容部１５に供給される、磁気転写工程実行後の磁気記録媒体１を『転写済媒体』と称する。
【００６１】
転写前媒体収容部１２は複数の転写前媒体を立てた状態で収容可能な収容容器１２ａを、転写済媒体収容部１５は複数の転写済媒体を立てた状態で収容可能な収容容器１５ａを、そして、不具合品収容部１６は複数の転写前媒体（不具合品）を立てた状態で収容可能な収容容器１６ａを、それぞれ備えている。ここで、これら収容容器１２ａ、１５ａ、１６ａには、共通の構造を有するものを用いている。そして、転写前媒体収容部１２においては転写前媒体が空になったときに、転写済媒体収容部１５においては転写済媒体がいっぱいになったときに、そして不具合品収容部１６においては転写前媒体（不具合品）がいっぱいになったときに、それぞれ新たなものと交換されるようになっている。
【００６２】
表面検査部１３は、スカラ・ロボット１８によって転写前媒体収容部１２から運ばれてきた転写前媒体の両面について表面検査を行う。表面検査部１３における表面検査の手法としては、例えば図示しないレーザ光源を用いて転写前媒体の両面を走査し、その反射光に基づいて表面における異常（突起等）の有無を検出するものが挙げられる。
【００６３】
移載部１７は、基台１１に搭載されるとともにＸ方向に伸びる直動案内部１７ａと、直動案内部１７ａの上部に搭載されて直動案内部１７ａに沿ってＸ方向および−Ｘ方向に移動する直動部１７ｂとを備える。また、直動部１７ｂは、−Ｘ方向に伸びる腕木部１７ｃと、腕木部１７ｃの自由端側から−Ｙ方向に伸び、磁気転写部１４に供給する転写前媒体を保持するための供給チャック部１７ｄと、供給チャック部１７ｄよりも直動部１７ｂに近い側において腕木部１７ｃから−Ｙ方向に伸び、磁気転写部１４から回収した転写後媒体を保持するための回収チャック部１７ｅとを備える。
【００６４】
スカラ・ロボット１８は、基台１１に搭載された基部１８ａと、基部１８ａの上部に取り付けられ水平方向（Ｘ方向およびＹ方向）への移動が許容されたアーム部１８ｂとを備えている。そして、アーム部１８ｂの自由端には、上下方向（Ｚ方向および−Ｚ方向）に移動するスライド軸（図示せず）が設けられており、このスライド軸には、磁気記録媒体１（転写前媒体および転写済媒体の両者）を保持するためのチャック部（図示せず）が取り付けられている。
【００６５】
位置検出部１９は、例えばレーザ等からなる光源とＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサ等からなる受光部とを備えている。そして、位置検出部１９は、磁気転写部１４の近傍において移載部１７の供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体の位置を検出するようになっている。なお、本実施の形態では、移載部１７と位置検出部１９とによって位置決め部が構成されている。
【００６６】
検出部の一例としての振動検出部２０は、例えばレーザ等からなる光源とＣＣＤイメージセンサ等からなる受光部とを備えている。そして、振動検出部２０は、磁気転写部１４の近傍において移載部１７の供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体の振動を検出するようになっている。
【００６７】
次に、磁気転写部１４について説明する。
磁気転写部１４は、基台１１に固定された状態で搭載され、サーボ・パターンが予め記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する固定ホルダ３０と、固定ホルダ３０に対向して配置されるとともに、基台１１に対しＹ方向および−Ｙ方向に移動できるように配置され、サーボ・パターンが予め磁気的に記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する可動ホルダ４０とを備える。なお、保持体の一例としての固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００および可動ホルダ４０に取り付けられたマスタ情報記録体２００は、互いに対向した状態で配置されている。
【００６８】
また、マスタ情報記録体２００を保持した固定ホルダ３０の背面側には、第１磁石５１を備えた第１磁石部材５０が配置されている。第１磁石部材５０は、固定ホルダ３０に対向配置される第１磁石５１と、第１磁石５１を保持する第１磁石保持部５２と、第１磁石保持部５２の背面側からＹ方向に沿って伸びる第１磁石支持部５３とを備えている。第１磁石支持部５３は、基台１１に対しＹ方向には固定された状態で支持され、且つ、図中矢印方向には回転可能に支持されている。これにより、第１磁石支持部５３の回転に伴って第１磁石保持部５２に保持された第１磁石５１が回転するようになっている。
【００６９】
一方、マスタ情報記録体２００を保持した可動ホルダ４０の背面側には、第２磁石６１を備えた第２磁石部材６０が配置されている。第２磁石部材６０は、可動ホルダ４０に対向配置される第２磁石６１と、第２磁石６１を保持する第２磁石保持部６２と、第２磁石保持部６２の背面側からＹ方向に沿って伸びる第２磁石支持部６３とを備えている。第２磁石支持部６３は、基台１１に対しＹ方向および−Ｙ方向に進退可能に支持され、且つ、図中矢印方向に回転可能に支持されている。これにより、第２磁石支持部６３の進退に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が進退するとともに、第２磁石支持部６３の回転に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が回転するようになっている。
【００７０】
図７は、磁気転写部１４における第１磁石部材５０、第２磁石部材６０の構成および両者の相互的な位置関係の一例を示す図である。
第１磁石部材５０において、第１磁石５１は、第１磁石保持部５２に対し、第１磁石支持部５３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第１磁石５１は、固定ホルダ３０と対向する側が一方の極性の磁極（例えばＮ極）となるように第１磁石保持部５２に保持されている。
一方、第２磁石部材６０において、第２磁石６１は、第２磁石保持部６２に対し、第２磁石支持部６３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第２磁石６１は、可動ホルダ４０と対向する側が他方の極性の磁極（例えばＳ極）となるように第２磁石保持部６２に保持されている。
【００７１】
そして、本実施の形態では、第１磁石５１と第２磁石６１とが、固定ホルダ３０および可動ホルダ４０を挟んで対向するように配置される。また、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石５１と第２磁石６１とを対向させた状態を維持しながら、ともに回転するように構成されている。なお、本実施の形態では、これら第１磁石部材５０と第２磁石部材６０とによって、一対の磁石部材が構成されている。
【００７２】
図８は、磁気転写部１４で用いられるマスタ情報記録体２００の構成の一例を示す図である。ここで、図８（ａ）はマスタ情報記録体２００の上面図を、また、図８（ｂ）は図８（ａ）におけるＶＩＩＩＢ−ＶＩＩＩＢ断面図を、それぞれ示している。
【００７３】
パターン形成体の一例としてのマスタ情報記録体２００は、磁気記録媒体１よりも直径が大きい円盤状の形状を有している。また、マスタ情報記録体２００の一方の面（形成面に対応）には、サーボ・パターンに対応する微細な凹凸が形成されたサーボ・パターン形成領域ＳＰが設けられている。この例において、サーボ・パターン形成領域ＳＰは、マスタ情報記録体２００の一方の面に、中央部と外縁部とを除いて、放射状に複数設けられている。なお、図５等に示す固定ホルダ３０あるいは可動ホルダ４０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際には、サーボ・パターン形成領域ＳＰを設けた面が、互いに露出した状態で対向することになる。
【００７４】
また、固定ホルダ３０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００の中央部には、表裏を貫通する第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが設けられている。これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは、マスタ情報記録体２００においてサーボ・パターン形成領域ＳＰよりも内側（中心側）に設けられている。なお、可動ホルダ４０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００には、これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは不要である。この理由については後述する。
【００７５】
次に、マスタ情報記録体２００の構造について説明すると、マスタ情報記録体２００は、円盤状の基体２０１と、この基体２０１の一方の面に形成されたマスタ磁性層２０２と、マスタ磁性層２０２の上に形成されたマスタ保護層２０３とを備えている。ここで、図８（ｂ）は、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおけるマスタ情報記録体２００の断面構成を示しており、この部位には、サーボ・パターンに対応した凸部２０４および凹部２０５が存在している。なお、マスタ情報記録体２００の一方の面のうち、サーボ・パターン形成領域ＳＰ以外の領域は、マスタ情報記録体２００と磁気記録媒体１との吸着を防ぐため、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおける凹部２０５と同じ高さとなっている。
【００７６】
マスタ情報記録体２００は公知の方法によって製造できるが、例えば次の製造方法を掲げることができる。先ず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。塗布後、このレジストに対し、電子線露光装置を用いて、サーボ・パターンに対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストを露光する。その後、レジストを現像し、未露光部分を除去して、シリコンウェハ上にレジストのパターンを形成する。
【００７７】
次いで、このレジストパターンをマスクとして用い、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させてマスタ情報記録体２００を作製するための原盤を得る。
【００７８】
この原盤上に、Ｎｉからなる導電層をスパッタリング法により１０ｎｍ程度形成する。その後、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数μｍ厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層を洗浄等して、表面に凸部を配設した基体２０１を得る。
【００７９】
次いで、この基体２０１の表面にマスタ磁性層２０２を形成する。このマスタ磁性層２０２については磁気記録媒体１に用いられる磁性層（第１磁性層１５１等）と同じものが使用できる。またマスタ磁性層２０２の上には磁気記録媒体１と同様にマスタ保護層２０３を形成する。このマスタ保護層２０３は、マスタ情報記録体２００の耐摩耗性すなわちマスタ情報記録体２００の転写耐久性を高めるものであり、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等を用いることができる。以上の製造工程によってマスタ情報記録体２００を得ることができる。
なお、このようにして得られたマスタ情報記録体２００は、例えば１０万枚以上の磁気記録媒体の製造（磁気転写）に繰り返し使用される。
【００８０】
図９は、磁気転写部１４における固定ホルダ３０および可動ホルダ４０の断面構成の一例を示す図である。なお、図９では、固定ホルダ３０に磁気記録媒体１を取り付けた状態を例示している。
これらのうち、固定ホルダ３０は、マスタ情報記録体２００の保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、マスタ情報記録体２００の保持面においてマスタ情報記録体２００の取り付け位置中央部に開口が設けられた２つの第１吸引路３１と、マスタ情報記録体２００の保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、マスタ情報記録体２００の保持面においてマスタ情報記録体２００の取り付け位置の外側に開口が設けられた２つの第２吸引路３２とを備える。また、固定ホルダ３０は、マスタ情報記録体２００の保持面において第２吸引路３２の開口よりも外側に周方向に沿って取り付けられたＯリング３３を備えている。なお、固定ホルダ３０のマスタ情報記録体２００の保持面での第１吸引路３１の２つの開口には、固定ホルダ３０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際に、マスタ情報記録体２００側の第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが重ね合わされるようになっている。なお、本実施の形態では、固定ホルダ３０に設けられた２つの第１吸引路３１と吸引駆動部７６（後述する図１０参照）とによって、取り付け部が構成されている。
【００８１】
これに対し、可動ホルダ４０は、固定ホルダ３０と対向する側の面にマスタ情報記録体２００を保持するとともに、その背面側には第２磁石部材６０が設けられた記録体保持部４０ａと、記録体保持部４０ａの周縁を覆うように設けられた筒状体４０ｂとを備えている。また、可動ホルダ４０は、筒状体４０ｂの内周面に周方向に沿って取り付けられ、周方向にわたって記録体保持部４０ａの外周面に接触するＯリング４１とを備えている。ここで、可動ホルダ４０を構成する記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂは、互いに独立して固定ホルダ３０に対し進退可能に取り付けられている。また、筒状体４０ｂの固定ホルダ３０と対向する側の端部は、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に対し一周にわたって対向し且つ接触するようになっている。なお、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａには、固定ホルダ３０のような吸引路は設けられていない。このため、記録体保持部４０ａに取り付けられるマスタ情報記録体２００には、第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂを設けておく必要がない。
【００８２】
図１０は、図５に示す表面検査・磁気転写装置１０における制御ブロックの一例を示す図である。
表面検査・磁気転写装置１０は、装置全体の動作を制御するためのコントローラ７０を備えている。このコントローラ７０には、表面検査部１３による転写前媒体の表面検査結果、位置検出部１９による転写前媒体の位置検知結果、そして振動検出部２０による転写前媒体の振動検知結果が入力されるようになっている。また、コントローラ７０は、表面検査部１３、位置検出部１９、振動検出部２０、スカラ・ロボット１８を駆動するロボット駆動部７１、移載部１７に設けられた直動部１７ｂを駆動する直動駆動部７２、移載部１７に設けられた供給チャック部１７ｄを駆動する供給チャック駆動部７３、移載部１７に設けられた回収チャック部１７ｅを駆動する回収チャック駆動部７４、磁気転写部１４に設けられた可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）を駆動する可動ホルダ駆動部７５、固定ホルダ３０の第１吸引路３１および第２吸引路３２に接続された吸引機構（図示せず）を駆動する吸引駆動部７６、第１磁石部材５０を駆動する第１磁石駆動部７７、そして第２磁石部材６０を駆動する第２磁石駆動部７８に、それぞれ制御信号を出力するようになっている。
【００８３】
では、図５乃至図１０を用いて、表面検査・磁気転写装置１０による表面検査工程および磁気転写工程について説明を行う。なお、以下に説明する動作は、コントローラ７０によって制御される。また、初期状態において、表面検査・磁気転写装置１０を構成する各部は、図５に示した位置に配置されているものとする。さらに、以下の説明では、図５に示した直動部１７ｂ（直動部１７ｂに設けられた腕木部１７ｃ、さらに腕木部１７ｃに設けられた供給チャック部１７ｄおよび回収チャック部１７ｅを含む）の位置を、待機位置と呼ぶ。
【００８４】
動作の開始に伴い、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが、転写前媒体収容部１２に収容される転写前媒体を１枚チャックして取り出し、チャックした転写前媒体を表面検査部１３に向けて移送する。続いて、移送されてきた転写前媒体を表面検査部１３に設けられたチャック機構（図示せず）が保持すると、アーム部１８ｂが転写前媒体のチャックを解除し、表面検査部１３から待避する。
【００８５】
次いで、表面検査部１３は、保持した転写前媒体の両面についてそれぞれ表面検査を行う。表面検査部１３による検査が完了すると、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが表面検査部１３側に移動し、アーム部１８ｂが表面検査部１３に保持された転写前媒体をチャックした後、表面検査部１３がこの転写前媒体のチャックを解除する。
【００８６】
ここで、表面検査の結果について、コントローラ７０が少なくともいずれか一方の面が不合格であると判断した場合は、アーム部１８ｂが、チャックした転写前媒体を不具合品収容部１６に向けて移送し、チャックを解除して不具合品収容部１６に収容させた後、不具合品収容部１６から待避する。
一方、表面検査の結果について、コントローラ７０が両面とも合格であると判断した場合は、アーム部１８ｂが、チャックした転写前媒体を待機位置におかれた直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄと対向する位置に向けて搬送する。そして供給チャック部１７ｄがアーム部１８ｂに保持された転写前媒体をチャックした後、アーム部１８ｂがこの転写前媒体のチャックを解除し、供給チャック部１７ｄと対向する位置から待避する。
【００８７】
続いて、待機位置にある直動部１７ｂが、−Ｘ方向に沿って移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように移動していく。なお、この期間が、「搬送する工程」に対応している。
【００８８】
この間、位置検出部１９は、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達したか否かを検出している。この位置の検出結果に基づき、コントローラ７０は、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達した時点で直動部１７ｂの駆動を停止させる。なお、この期間が、「位置決めする工程」に対応している。そして、以下の説明においては、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が２枚のマスタ情報記録体２００と正対する際の直動部１７ｂの位置を、供給位置と呼ぶ。
【００８９】
なお、マスタ情報記録体２００の中心に対する転写前媒体の中心の位置決めの要求精度は、±７．５μｍ、より好ましくは±５．０μｍの範囲内であれば十分である。なぜなら、転写前媒体に磁気転写されるサーボ・パターンが、仮に転写前媒体の中心に対して偏心していたとしても、磁気転写後のサーボ・パターンを用いて磁気ヘッド３がトラックＴに追従することができるのであれば、磁気記録媒体１に対するデータの読み書きは可能となるからである。
【００９０】
また、振動検出部２０は、位置決めに伴って供給位置に停止した直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄに取り付けられた転写前媒体の振動の大きさを検出している。そして、コントローラ７０は、振動検出部２０によって検出された振動の大きさが磁気記録媒体１のデータ面に対して平行の方向、すなわちＸ軸およびＺ軸を含む面において±１．０μｍ以下となった後に、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで固定ホルダ３０側に転写前媒体をチャックさせ、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００に転写前媒体の一方の面を接触させる。なお、この期間が、「接触させる工程」に対応している。そして、固定ホルダ３０側に転写前媒体をチャックしてから、供給チャック部１７ｄはこの転写前媒体のチャックを解除する。そして、転写前媒体の保持を解除した直動部１７ｂは、Ｘ方向に向かって移動した後、待機位置で停止する。
【００９１】
続いて、磁気転写部１４において、可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が固定ホルダ３０側に近づく方向へと移動を開始する。これに伴い、まず、筒状体４０ｂの周部端面が固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に突き当たった後に停止する。また、記録体保持部４０ａおよび第２磁石部材６０は、筒状体４０ｂが停止した後も固定ホルダ３０側に近づく方向へと移動を続け、固定ホルダ３０に設けられたマスタ情報記録体２００と可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａに設けられたマスタ情報記録体２００とによって転写前媒体を挟み込んだ後に停止する。なお、記録体保持部４０ａの停止位置は予め決められており、その結果、２枚のマスタ情報記録体２００および１枚の転写前媒体には、予め設定された軽い荷重が加えられる。また、このとき、固定ホルダ３０と記録体保持部４０ａと筒状体４０ｂとの間には、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３と筒状体４０ｂに設けられたＯリング４１とを用いて、閉空間が形成される。続いて、第２吸引路３２を介した吸引を開始させることで、閉空間内に存在する２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体との間に存在する隙間が真空引きされ、閉空間内外の差圧によって２枚のマスタ情報記録体２００の各サーボ・パターン形成領域ＳＰの形成面と１枚の転写前媒体の両面とがそれぞれ密着していく。
【００９２】
次に、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石支持部５３および第２磁石支持部６３を軸とし、２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体とを挟んで、第１磁石５１および第２磁石６１を対向させた状態を維持しながら少なくとも１回転する。
第１磁石５１および第２磁石６１が１回転する間、２枚のマスタ情報記録体２００に挟まれた転写前媒体では、第１磁石５１および第２磁石６１により、初期磁化工程とは逆向きの直流磁界が周方向に順次印加される。すると、転写前媒体のうち、固定ホルダ３０側のマスタ情報記録体２００と接する側では、このマスタ情報記録体２００の凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。また、この転写前媒体のうち、可動ホルダ４０側のマスタ情報記録体２００と接する側でも、このマスタ情報記録体２００の凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。このようにして、転写前媒体の両面には、それぞれ、マスタ情報記録体２００に設けられた凹凸の配列からなるサーボ・パターンが、磁化の向きの配列からなるサーボ・パターンとして転写される。その結果、転写前媒体は、位置決めデータ記憶領域Ａ２にサーボ・パターンが記憶された転写済媒体となる。なお、この期間が、「磁気的に転写する工程」に対応している。
【００９３】
このようにして磁気転写が完了すると、まず、第２吸引路３２を介した吸引を停止して閉空間内を大気圧とし、次いで、可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が元の位置への後退を開始する。これにより、固定ホルダ３０に保持された転写済媒体は、外部に露出した状態となる。
【００９４】
ところで、直動部１７ｂは、上述したように、供給チャック部１７ｄに保持した転写前媒体を、供給位置において固定ホルダ３０側に受け渡した後、待機位置に戻って停止している。そして、この表面検査・磁気転写装置１０では、磁気転写部１４で前の転写前媒体に磁気転写を行うのと並行して、次の転写前媒体の準備を行っている。すなわち、前の転写前媒体への磁気転写と並行して、スカラ・ロボット１８を用いた転写前媒体収容部１２からの次の転写前媒体の取り出し、表面検査部１３による次の転写前媒体の検査、そして、待機位置にある直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄによる次の転写前媒体のチャックが行われる。なお、供給チャック部１７ｄによる次の転写前媒体のチャックは、前の転写前媒体への磁気転写が完了するまで（転写前媒体が転写済媒体となるまで）に終了していることが、生産性の観点から好ましい。
【００９５】
そして、磁気転写部１４において前の転写前媒体への磁気転写が完了し、且つ、次の転写前媒体の供給チャック部１７ｄへのチャックが完了した状態で、待機位置にある直動部１７ｂが、−Ｘ方向に沿って移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、何も保持していない回収チャック部１７ｅが、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように移動していく。その後、直動部１７ｂは、回収チャック部１７ｅが、固定ホルダ３０に真空チャックされた転写済媒体と正対する位置に到達して停止する。このとき、コントローラ７０が、位置検出部１９による位置検出結果に基づく直動部１７ｂの停止位置の制御を行うようにしてもよい。なお、以下の説明においては、回収チャック部１７ｅが固定ホルダ３０に保持された転写済媒体と正対する際の直動部１７ｂの位置を、回収位置と呼ぶ。
【００９６】
次に、回収チャック部１７ｅが転写済媒体をチャックし、その後固定ホルダ３０による転写済媒体の真空チャックを解除する。
続いて、回収位置におかれた直動部１７ｂは、回収チャック部１７ｅに転写済媒体を保持し、供給チャック部１７ｄに次の転写前媒体を保持した状態で、Ｘ方向に移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように、再び供給位置に向かって移動していく。
【００９７】
この間、位置検出部１９は、供給チャック部１７ｄに保持された次の転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達したか否かを検出している。この位置の検出結果に基づき、コントローラ７０は、供給チャック部１７ｄに保持された次の転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達した時点すなわち供給位置に到達した時点で直動部１７ｂの駆動を停止させる。なお、この期間が、「位置決めする工程」に対応している。
【００９８】
また、振動検出部２０は、位置決めに伴って供給位置に停止した直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄに取り付けられた次の転写前媒体の振動の大きさを検出している。そして、コントローラ７０は、振動検出部２０によって検出された振動の大きさが磁気記録媒体１のデータ面に対して平行の方向で±１．０μｍ以下となった後に、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで固定ホルダ３０側に次の転写前媒体を真空チャックし、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００に次の転写前媒体の一方の面を接触させる。なお、固定ホルダ３０側に次の転写前媒体を真空チャックしてから、供給チャック部１７ｄはこの次の転写前媒体のチャックを解除する。その後、この次の転写前媒体には、上述した手順を経てサーボ・パターンの磁気転写がなされる。これに対し、転写済媒体を保持する一方で次の転写前媒体の保持を解除した直動部１７ｂは、Ｘ方向に向かって移動した後、待機位置で停止する。
【００９９】
次いで、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが、待機位置で停止した直動部１７ｂの回収チャック部１７ｅに保持された転写済媒体と対向する位置に移動する。続いて、アーム部１８ｂが、回収チャック部１７ｅに保持された転写済媒体をチャックした後、回収チャック部１７ｅが転写済媒体のチャックを解除する。そして、アーム部１８ｂが、チャックした転写済媒体を転写済媒体収容部１５に向けて移送し、チャックを解除して転写済媒体収容部１５に収容させた後、転写済媒体収容部１５から待避し、さらに次の転写前媒体の取り出しを開始する。
【０１００】
以降、上述した手順を繰り返すことにより、転写前媒体の取り出し、転写前媒体に対する表面検査、転写前媒体に対するサーボ・パターンの磁気転写、サーボ・パターンが転写された転写済媒体の回収が順次行われていく。
【０１０１】
上述した磁気転写工程では、大きく振動した状態のままの転写前媒体をマスタ情報記録体２００に接触させた場合、転写前媒体によってマスタ情報記録体２００の接触面が傷つけられてしまい、結果として、マスタ情報記録体２００の寿命（転写に使用しうる回数）が短くなってしまうおそれがある。特に本実施の形態では、マスタ情報記録体２００に凹凸によるサーボ・パターンを形成しているため、転写前媒体との接触時に凹凸が欠けたり変形してしまったりした場合には、以降の磁気転写において転写不良が生じてしまうことになる。これに対し、本実施の形態では、供給されてくる転写前媒体を、磁気転写部１４に設けられたマスタ情報記録体２００に対して位置決めして停止させた後、転写前媒体の振動が減衰した状態で、マスタ情報記録体２００に接触させるようにした。これにより、転写前媒体とマスタ情報記録体２００との接触に起因するマスタ情報記録体２００の機械的な破損および低寿命化を抑制することができる。
【０１０２】
なお、本実施の形態では、位置決めされた転写前媒体の振動の大きさを振動検出部２０によって検出し、その検出結果が予め決められた閾値（この例では±１．０μｍ）以下となった後にマスタ情報記録体２００に転写前媒体を接触させるようにしていたが、これに限られるものではない。
例えば、転写前媒体を位置決め停止させてからこの転写前媒体の振動の大きさが上述した閾値以下となるまでに要する時間（転写前媒体の振動の減衰特性）を実験等によって予め求めておき、コントローラ７０が、タイマ（計測部）による転写前媒体の位置決め停止後の経過時間の計測結果に基づいて、マスタ情報記録体２００への転写前媒体の接触を開始させるようにしてもよい。
【実施例】
【０１０３】
（磁気記録媒体の製造）
洗浄済みのガラス製の基板１００（コニカミノルタ社製、外形２．５インチ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、この基板１００の上に、６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層１１０を成膜した。また、この密着層１１０の上に、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて、１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの第１軟磁性層１２１を成膜し、この上にＲｕからなるスペーサ層１２２を層厚０．７６ｎｍで成膜した後、さらに４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂの第２軟磁性層１２３を層厚３４ｎｍ成膜して、軟磁性下地層１２０を得た。
【０１０４】
次に、上記軟磁性下地層１２０の上に、Ｎｉ−６Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲット、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ５ｎｍ、２０ｎｍの層厚で順に成膜し、これを配向制御層１３０とした。
【０１０５】
次に、配向制御層１３０の上に、多層構造の垂直記録層１５０して、８４（Ｃｏ１２Ｃｒ１６Ｐｔ）−１６ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、９１（Ｃｏ５Ｃｒ２２Ｐｔ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ（膜厚０．５ｎｍ）、９１（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ３Ｒｕ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、９１（Ｃｏ６Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｒｕ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ、９１（Ｃｏ１１．５Ｃｒ１３Ｐｔ１０Ｒｕ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ１５Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｂ（膜厚３ｎｍ）を積層した。
次に、ＣＶＤ法により層厚２．５ｎｍの炭素からなる保護層１６０を成膜し、積層基板１８０を得た。
【０１０６】
以上の方法で製造した積層基板１８０を水素水で洗浄した。洗浄は３段の洗浄工程からなり、各洗浄工程に用いた洗浄槽は何れもＳＵＳ製で容積が２０リットル、その内部に５００Ｗの超音波振動が加えられる。そして各洗浄槽に、超純水を用いて製造した溶存水素濃度１．５ｐｐｍ、酸化還元電位−５５０ｍＶの水素水１５リットルを入れ、さらに１段目の洗浄槽には、ＫＯＨを０．１ｐｐｍ添加した。この３段の洗浄槽に順に積層基板１８０を浸漬し各洗浄槽で３０秒間洗浄した。洗浄後の積層基板１８０は速やかにスピン乾燥させた。
この積層基板１８０の表面に、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑層１７０を厚さ１５オングストロームで形成し、磁気記録媒体１を得た。
【０１０７】
潤滑剤を塗布した磁気記録媒体１に対してワイピング処理を施した。ワイピングテープには、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維を用いた。ワイピング処理において、磁気記録媒体１の回転数は３００ｒｐｍ、ワイピングテープの送り速度は１０ｍｍ／秒、ワイピングテープを磁気記録媒体１に押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。ワイピング処理に際してワイピングテープにパーフルオロポリエーテルを噴霧し、テープ表面に約０．０１μｍの潤滑剤層を形成した。
【０１０８】
ワイピング処理を施した磁気記録媒体１に対してバーニッシュ加工を施した。バーニッシュテープには、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。バーニッシュ加工において、磁気記録媒体１の回転数は３００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度は１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気記録媒体１に押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。
【０１０９】
バーニッシュ加工を施した磁気記録媒体１に対して初期磁化を施した。具体的には、磁気記録媒体１の両データ面に対し磁気記録媒体１を貫通する１０ｋＯｅの磁界を、ＮｄＦｅＢ系焼結磁石を用いて加えた。
【０１１０】
（マスタ情報記録体の準備）
マスタ情報記録体２００には、２７１ｋトラック／インチのサーボ信号等のパターンが形成されており、トラックＴは幅１２０ｎｍ、トラックＴ間の幅６０ｎｍで、パターンの段差は４５ｎｍである。マスタ情報記録体２００には、凸部を構成するＮｉ基体の上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚１０ｎｍのＲｕ膜、マスタ磁性層２０２として層厚２０ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金膜、および、層厚１５ｎｍの８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜、マスタ保護層２０３として層厚２０ｎｍのＣＶＤ炭素膜をこの順で積層した。
【０１１１】
＜実施例１＞
初期磁化を施した磁気記録媒体１に対して上記のマスタ情報記録体２００および図５に記載の表面検査・磁気転写装置１０を用いて磁気転写を行った。磁気転写に際しては、磁気記録媒体１の振動の大きさがデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍ以内となった段階で磁気記録媒体１をマスタ情報記録体２００に吸着させた。そして、磁気記録媒体１の両データ面にマスタ情報記録体２００を９８ｍＮの圧力で密着させ、マスタ情報記録体２００の裏面から転写用の直流磁界を印加した。このときの直流磁界の強度は４ｋＯｅとし、転写時間は１０秒間とした。
【０１１２】
上記方法で製造した磁気記録媒体１のサーボ信号の再生特性を、リードライトアナライザ（型番：ＲＷＡ１６３２；米国ＧＵＺＩＫ社製）、及び、スピンスタンド（型番：Ｓ１７０１ＭＰ）を用いて測定した。この装置では、磁気記録媒体１に記録されたサーボ信号等を読み込み、この信号を用いて磁気ヘッドの位置決めができる。この際、評価用の磁気ヘッドとして、ＴｕＭＲ（Tunneling Magneto-Resistive）を用いた磁気ヘッドを使用してサーボ信号の読み込み時のＳ／Ｎ比を評価し、Ｓ／Ｎ比が１６．０ｄＢ以下となった場合に磁気転写不良と判断した。その結果、実施例１では、１枚のマスタ情報記録体２００を用いて、１２５０００回の磁気転写が可能であった。
【０１１３】
＜実施例２＞
実施例１と同様の方法で磁気転写および転写後の磁気記録媒体１の評価を行ったが、磁気記録媒体１をマスタ情報記録体２００に吸着させる際の磁気記録媒体１の振動の大きさを±０．５μｍ以内となった段階とした。その結果、実施例２では、１枚のマスタ情報記録体２００を用いて、１５３０００回の磁気転写が可能であった。
【０１１４】
＜実施例３＞
実施例１と同様の方法で磁気転写および転写後の磁気記録媒体１の評価を行ったが、磁気記録媒体１をマスタ情報記録体２００に吸着させる際の磁気記録媒体１の振動の大きさを±０．１μｍ以内となった段階とした。その結果、実施例３では、１枚のマスタ情報記録体２００を用いて、２０１０００回の磁気転写が可能であった。
【０１１５】
＜比較例＞
実施例１と同様の方法で磁気転写および転写後の磁気記録媒体１の評価を行ったが、磁気記録媒体１をマスタ情報記録体２００に吸着させる際の磁気記録媒体１の振動の大きさを±１．２μｍ以内となった段階とした。その結果、比較例では、１枚のマスタ情報記録体２００を用いて、９１０００回の磁気転写が可能であった。
【符号の説明】
【０１１６】
１…磁気記録媒体、１０…表面検査・磁気転写装置、１１…基台、１２…転写前媒体収容部、１３…表面検査部、１４…磁気転写部、１５…転写済媒体収容部、１６…不具合品収容部、１７…移載部、１８…スカラ・ロボット、１９…位置検出部、２０…振動検出部、７０…コントローラ、１００…基板、１１０…密着層、１２０…軟磁性下地層、１３０…配向制御層、１４０…非磁性下地層、１５０…垂直記録層、１６０…保護層、１７０…潤滑層、１８０…積層基板、２００…マスタ情報記録体、２０１…基体、２０２…マスタ磁性層、２０３…マスタ保護層、２０４…凸部、２０５…凹部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハード・ディスク・ドライブ等に代表される磁気記録装置では、回転する磁気記録媒体に対し、磁気ヘッドを用いたデータの書き込みおよび読み取りが行われる。
この種の磁気記録装置では、磁気記録媒体上の目的とする位置に磁気ヘッドを移動させ、且つ、その位置でのデータの書き込みおよび読み取りを行わせるために、磁気ヘッドの位置決めを行っている。このため、磁気記録媒体には、予め、磁気ヘッドによって読み取られるとともに磁気ヘッドの位置決めに使用される位置決めデータが記録されている。
【０００３】
公報記載の従来技術として、磁気記録媒体に対する位置決めデータ等の記録を、所謂磁気転写方式にて行うことが提案されている（特許文献１参照）。磁気転写においては、記録すべきデータに対応したパターンが形成されたパターン形成体に磁気記録媒体を重ね合わせた状態で、パターン形成体と磁気記録媒体とを挟んで一方向に向かう磁力を加えることで、磁気記録媒体に対するパターンの磁気的な転写を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１９６１２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気転写方式を採用した場合において、磁気転写媒体の生産性を向上させ、あるいは、磁気転写媒体の製造にかかるコストを低減するという観点から、パターン形成体を磁気転写に繰り返し使用できる回数を増加させることが望まれている。
本発明は、磁気記録媒体への磁気転写に用いられるパターン形成体の繰り返し使用回数が減少するのを抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁気情報を記録する磁気記録媒体を搬送する工程と、搬送されてくる磁気記録媒体を、パターンが形成されたパターン形成体のパターンの形成面と対峙した位置に位置決めする工程と、位置決めされた磁気記録媒体の振動の大きさが予め定められた基準値以下となった後に、パターン形成体のパターンの形成面に磁気記録媒体を接触させる工程と、パターン形成体に形成されたパターンを、パターン形成体に接触させた磁気記録媒体に磁気的に転写する工程とを含んでいる。
【０００７】
このような製造方法において、接触させる工程では、パターン形成体側に磁気記録媒体を吸着させることを特徴とすることができる。
また、パターン形成体には、パターンとして凹凸が形成されていることを特徴とすることができる。
さらに、接触させる工程において、基準値を磁気記録媒体のデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍとしたことを特徴とすることができる。
【０００８】
また、他の観点から捉えると、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁気情報を記録する磁気記録媒体を搬送する工程と、搬送されてくる磁気記録媒体を、パターンが形成されたパターン形成体のパターンの形成面と対峙した位置に位置決めする工程と、位置決めされた磁気記録媒体の振動の減衰特性に基づいて予め定められた時間が経過した後に、パターン形成体のパターンの形成面に磁気記録媒体を接触させる工程と、パターン形成体に形成されたパターンを、パターン形成体に接触させた磁気記録媒体に磁気的に転写する工程とを含んでいる。
【０００９】
さらに、他の観点から捉えると、本発明の磁気記録媒体の製造装置は、パターンが形成されたパターン形成体と、パターンの形成面を露出させた状態でパターン形成体を保持する保持体と、パターン形成体のパターンの形成面と対峙する位置に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を位置決めする位置決め部と、位置決め部によって位置決めがなされた磁気記録媒体を、パターン形成体のパターンの形成面に接触させた状態で取り付けさせる取り付け部と、取り付け部によって取り付けられた磁気記録媒体とパターン形成体とを挟むように配置される一対の磁石部材と、位置決め部によって位置決めがなされた磁気記録媒体の振動の大きさを検出する検出部と、検出部による検出結果に基づいて、取り付け部によるパターン形成体への磁気記録媒体の取り付け開始時期を制御する制御部とを含んでいる。
【００１０】
このような製造装置において、取り付け部は、パターン形成体に磁気記録媒体を吸着させて取り付けを行うことを特徴とすることができる。
また、パターン形成体には、パターンとして凹凸が形成されていることを特徴とすることができる。
さらに、制御部は、検出部による検出結果において磁気記録媒体の振動の大きさが磁気記録媒体のデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍ以下となった後に、取り付け部によるパターン形成体への磁気記録媒体の取り付けを開始させることを特徴とすることができる。
【００１１】
さらにまた、他の観点から捉えると、本発明の磁気記録媒体の製造装置は、パターンが形成されたパターン形成体と、パターンの形成面を露出させた状態でパターン形成体を保持する保持体と、パターン形成体のパターンの形成面と対峙する位置に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を位置決めする位置決め部と、位置決め部によって位置決めがなされた磁気記録媒体を、パターン形成体のパターンの形成面に接触させた状態で取り付けさせる取り付け部と、取り付け部によってパターン形成体に取り付けられた磁気記録媒体およびパターン形成体を挟んで配置される一対の磁石部材と、位置決め部による磁気記録媒体の位置決めが完了した後の経過時間を計測する計測部と、計測部による計測結果に基づいて、取り付け部によるパターン形成体への磁気記録媒体の取り付け開始時期を制御する制御部とを含んでいる。
【００１２】
このような製造装置において、制御部は、計測部による計測結果が、位置決め部によって位置決めがなされた磁気記録媒体の振動の減衰特性に基づいて予め定められた時間が経過した後に、取り付け部によるパターン形成体への磁気記録媒体の取り付けを開始させることを特徴とすることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、磁気記録媒体への磁気転写に用いられるパターン形成体の繰り返し使用回数が減少するのを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施の形態が適用される磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
【図２】磁気記録媒体の断面構成の一例を示す図である。
【図３】磁気記録媒体の上面図である。
【図４】本実施の形態における磁気記録媒体の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図５】表面検査および磁気転写を行うための表面検査・磁気転写装置の上面図である。
【図６】図５の矢印ＶＩ方向からみた表面検査・磁気転写装置の斜視図である。
【図７】磁気転写部における第１磁石部材、第２磁石部材の構成および両者の相互的な位置関係の一例を示す図である。
【図８】磁気転写部で用いられるマスタ情報記録体の構成の一例を示す図である。
【図９】磁気転写部における固定ホルダおよび可動ホルダの断面構成の一例を示す図である。
【図１０】表面検査・磁気転写装置における制御ブロックの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態が適用される磁気記録媒体１を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
この磁気記録再生装置は、データを磁気情報として磁気的に記録する磁気記録媒体１と、磁気記録媒体１を回転駆動させる回転駆動部２と、磁気記録媒体１にデータを書き込むとともに磁気記録媒体１に記録されたデータを読み取る磁気ヘッド３と、磁気ヘッド３を搭載するキャリッジ４と、キャリッジ４を介して磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３を相対移動させるヘッド駆動部５と、外部から入力された情報を処理して得られた記録信号を磁気ヘッド３に出力し、磁気ヘッド３からの再生信号を処理して得られた情報を外部に出力する信号処理部６とを備えている。
ここで、本実施の形態では、磁気記録媒体１が円盤状の形状を有しており、後述するように、その両面にそれぞれデータを記録するための記録層が形成されている。そして、図１に示す例では、１台の磁気記録再生装置に複数（ここでは３枚）の磁気記録媒体１が取り付けられている。
【００１６】
図２は、図１に示す磁気記録媒体１の断面構成の一例を示す図である。なお、磁気記録媒体１に対するデータの記録方式には面内記録方式と垂直記録方式とが存在するが、本実施の形態では、垂直記録方式において使用される磁気記録媒体１について説明を行う。
この磁気記録媒体１は、基板１００と、基板１００の上に形成された密着層１１０と、密着層１１０の上に形成された軟磁性下地層１２０と、軟磁性下地層１２０の上に形成された配向制御層１３０と、配向制御層１３０の上に形成された非磁性下地層１４０と、非磁性下地層１４０の上に形成された垂直記録層１５０と、垂直記録層１５０の上に形成された保護層１６０と、保護層１６０の上に形成された潤滑層１７０とを備えている。そして、本実施の形態では、基板１００の両面のそれぞれに、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０、保護層１６０、および潤滑層１７０が形成されるようになっている。なお、以下の説明においては、必要に応じて、基板１００の両面に密着層１１０から保護層１６０までを積層したもの、換言すれば、基板１００に潤滑層１７０以外を形成したものを、積層基板１８０と称することがある。
【００１７】
本実施の形態では、基板１００として非磁性体が使用されており、例えばアルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えばガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００１８】
これらのうち、ガラス基板としては、例えば、通常のガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、通常のガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。また、セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００１９】
また、基板１００は、後述するようにＣｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層１２０と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。このため、基板１００と軟磁性下地層１２０との間に密着層１１０を設けることが好ましい。なお、密着層１１０の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金など適宜選択することが可能である。また、密着層１１０の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００２０】
軟磁性下地層１２０は、垂直記録方式を採用した場合において、記録再生時のノイズの低減を図るために設けられる。
本実施の形態において、軟磁性下地層１２０は、密着層１１０の上に形成される第１軟磁性層１２１と、第１軟磁性層１２１の上に形成されるスペーサ層１２２と、スペーサ層１２２の上に形成される第２軟磁性層１２３とを備えている。すなわち、軟磁性下地層１２０は、第１軟磁性層１２１と第２軟磁性層１２３とによってスペーサ層１２２を挟み込んだ構成を有している。
これらのうち、第１軟磁性層１２１および第２軟磁性層１２３は、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いるのが好ましく、またその透磁率や耐食性を高めるためＴａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒからなる群から選ばれる何れか１種を１原子％〜８原子％の範囲で含有させるのが好ましい。
また、スペーサ層１２２としては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中では特にＲｕを用いるのが好ましい。
【００２１】
配向制御層１３０は、非磁性下地層１４０を介してこの上に積層される垂直記録層１５０の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するために設けられる。
配向制御層１３０を構成する材料については、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金が好ましく、またこれらの合金を多層化したものを用いてもよい。例えば、基板１００側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００２２】
非磁性下地層１４０は、この上に積層される垂直記録層１５０の初期積層部における結晶成長の乱れを抑制し、記録再生時のノイズの発生を抑制するために設けられる。ただし、非磁性下地層１４０については、必ずしも設ける必要はない。
本実施の形態において、非磁性下地層１４０は、Ｃｏを主成分とする金属に、さらに酸化物を含んだ材料からなることが好ましい。非磁性下地層１４０におけるＣｒの含有量は、２５原子％〜５０原子％とすることが好ましい。非磁性下地層１４０における酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。非磁性下地層１４０における酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上１８ｍｏｌ％以下であることが好ましい。
【００２３】
本実施の形態における垂直記録層１５０は、非磁性下地層１４０の上に形成される第１磁性層１５１と、第１磁性層１５１の上に形成される第１非磁性層１５２と、第１非磁性層１５２の上に形成される第２磁性層１５３と、第２磁性層１５３の上に形成される第２非磁性層１５４と、第２非磁性層１５４の上に形成される第３磁性層１５５とを備えている。すなわち、垂直記録層１５０では、第１磁性層１５１と第２磁性層１５３とによって第１非磁性層１５２を挟み込み、第２磁性層１５３と第３磁性層１５５とによって第２非磁性層１５４を挟み込んだ構成を有している。
【００２４】
これらのうち、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５は、磁気ヘッド３から供給される磁気エネルギーによって垂直記録層１５０の厚さ方向に磁化の向きを反転させ、その状態を維持することでデータを記憶するために設けられる。
これら第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５は、Ｃｏを主成分とする金属からなる磁性粒子と非磁性の酸化物とを含み、磁性粒子を酸化物で囲んだグラニュラ型構造を有するものを用いることが好ましい。
【００２５】
ここで、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５を構成する酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。また、垂直記録層１５０の中で最下層となる第１磁性層１５１については、２種類以上の酸化物からなる複合酸化物を含んでいることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００２６】
また、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５を構成する磁性粒子に適した材料としては、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などの構成元素を挙げることができる。
【００２７】
また、第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４は、垂直記録層１５０を構成する第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５の個々での磁化反転を容易とし、磁性粒子全体での磁化反転の分散を小さくすることで、ノイズを低減するために設けられる。
本実施の形態において、第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４は、例えばＲｕおよびＣｏを含んでいることが好ましい。
【００２８】
なお、この例では、垂直記録層１５０を構成する磁性層を３層（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５）としていたが、これに限られるものではなく、４層以上の磁性層を備えた構成とすることも可能である。また、この例では、垂直記録層１５０を構成する各磁性層（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５）の間に非磁性層（第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４）を設けていたが、これに限られるものではなく、例えば異なる組成を有する２つの磁性層を、重ねて配置するようにしてもかまわない。
【００２９】
保護層１６０は、垂直記録層１５０の腐食を抑制するとともに、磁気ヘッド３が磁気記録媒体１に接触したときに、磁気記録媒体１の表面の損傷を防いで保護するために設けられる。
保護層１６０としては、従来公知の材料を使用することができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２を含むものを使用することが可能である。保護層１６０の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが、図１に示す磁気記録再生装置において磁気ヘッド３と磁気記録媒体１との距離を小さくできるので、高記録密度の点から好ましい。
【００３０】
潤滑層１７０は、磁気ヘッド３が磁気記録媒体１に接触したときに磁気ヘッド３および磁気記録媒体１の表面の摩耗を抑制するために設けられる。
潤滑層１７０としては、従来公知の材料を使用することができ、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を用いることが好ましい。潤滑層１７０の厚さは、１〜２ｎｍとすることが、図１に示す磁気記録再生装置において磁気ヘッド３と磁気記録媒体１との距離を小さくできるので、高記録密度の点から好ましい。
【００３１】
図３は、図１に示す磁気記録媒体１の上面図である。また、図３には、磁気記録媒体１の表面に設けられる複数のデータ領域を模式的に示している。
本実施の形態における磁気記録媒体１は、上述したように円盤状の形状を有しており、その中央部には磁気記録媒体１の表裏を貫通する円形状の孔が形成されている。以下の説明では、磁気記録媒体１における円形状の孔の縁を内端１ａと称し、磁気記録媒体１における外周の縁を外端１ｂと称する。
【００３２】
図３に示す磁気記録媒体１の表面には、磁気ヘッド３（図１参照）を用いたデータの読み書きを行うための読み書きデータ記憶領域Ａ１と、磁気ヘッド３を用いたデータの読み書きにおいて磁気ヘッド３の位置決めに用いられるデータ（位置決めデータという）を記憶する位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。この例において、位置決めデータ記憶領域Ａ２は、磁気記録媒体１の表面に、放射状に複数設けられている。また、磁気記録媒体１の表面には、同心円状に、複数のトラックＴが設けられる。なお、図示はしていないが、図３に示す磁気記録媒体１の裏面にも、同様にして、読み書きデータ記憶領域Ａ１と位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。ただし、磁気記録媒体１の表裏面のそれぞれに設けられた位置決めデータ記憶領域Ａ２は、表裏で位置を合わせなくてもかまわない。
【００３３】
磁気記録媒体１の位置決めデータ記憶領域Ａ２には、位置決めデータとして、例えば、磁気ヘッド３による読み取り時において検出信号の利得調整に用いられるＡＧＣ（Auto Gain Control）パターン、サーボ信号の検出に用いられる検出パターン、サーボ・トラックのシリンダ情報あるいはセクタ情報の検出に用いられるアドレス・パターン、そして目的とするトラックＴに磁気ヘッド３を移動させた後にそのトラックＴ上に磁気ヘッド３を追従させるのに用いられるバースト・パターン（いずれも図示せず）等を含むサーボ・パターンが記憶されている。なお、サーボ・パターンは、磁気記録媒体１に設けられた垂直記録層１５０の厚み方向の磁化の向きを、位置決めデータに合わせて適宜反転させることで構成されている。
【００３４】
図４は、本実施の形態における磁気記録媒体１の製造方法の一例を示すフローチャートである。本実施の形態では、磁気記録媒体１の製造過程において、上述した位置決めデータ記憶領域Ａ２にサーボ・パターンの書き込みを行っていること、より具体的には、後述するマスタ情報記録体２００（図８参照）を用いて、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写していることに特徴がある。
【００３５】
磁気記録媒体１の製造に先立ち、予め円盤状に形成されるとともに中央部に表裏を貫通する円形状の孔が形成された基板１００を準備し、予備洗浄を行った後、この基板１００に対する研磨を行う（ステップ１０１）。ステップ１０１における基板１００の研磨は、例えばダイヤモンドスラリーを用いたメカニカルポリッシュで行うことが望ましい。
【００３６】
そして、研磨後の基板１００は、その平均表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であるとことが、磁気ヘッド３（図１参照）を低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、研磨後の基板１００の表面の微小うねり（Ｗａ）が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下。）であることが、磁気ヘッド３を低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、研磨後の基板１００の端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下（より好ましくは９．５ｎｍ以下。）のものを用いることが、磁気ヘッド３の飛行安定性にとって好ましい。なお、微少うねり（Ｗａ）は、例えば、表面荒粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００３７】
次に、研磨が施された基板１００に対し、前洗浄を行う（ステップ１０２）。ステップ１０２における基板１００の前洗浄は、研磨が施された基板１００を、純水あるいは超純水に浸漬して超音波振動を加えながら行うことが好ましい。そして、前洗浄がなされた基板１００は、速やかにスピン法等で乾燥させることが好ましい。
【００３８】
続いて、前洗浄が施された基板１００に対し、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０および保護層１６０を順次積層する成膜工程を行う（ステップ１０３）。ここで、生産性を向上させるという観点からすれば、ステップ１０３における各層の形成を、例えばそれぞれが成膜機能を備えた複数のチャンバを直列に接続したインライン式成膜装置で行うことが好ましい。また、生産性を向上させるという観点からすれば、成膜工程で形成される各層をスパッタリング法で形成することが望ましい。ただし、保護層１６０の強度を確保しつつ薄膜化するという観点からすれば、密着層１１０から垂直記録層１５０についてはスパッタリング法で形成する一方、保護層１６０についてはＣＶＤ法で形成することが好ましい。このように、前洗浄が施された基板１００に対し成膜工程を行うことで、積層基板１８０（図２参照）が得られる。
【００３９】
そして、成膜工程によって得られた積層基板１８０に対し、後洗浄を行う（ステップ１０４）。ステップ１０４における積層基板１８０の後洗浄は、水素水を用いて行うことができる。ここで、水素水とは、純水もしくは超純水に、高純度の水素ガスを溶解した水であり、水のクラスターを小さくして洗浄能力を高めたものである。
【００４０】
本実施の形態の後洗浄工程は、後述するワイピング工程（ステップ１０７）、バーニッシュ工程（ステップ１０８）では除去しきれない積層基板１８０表面の汚染物を除去する目的で行われる。これらの汚染物は、後述する潤滑剤塗布工程（ステップ１０５）や上記ワイピング工程およびバーニッシュ工程の後では水素水による洗浄除去が困難となる場合がある。その理由は、推測ではあるが、汚染物が潤滑層１７０に覆われるとその撥水性により除去が困難となること、ワイピング工程およびバーニッシュ工程の後では汚染物が積層基板１８０の表面に塗り込められ、除去しにくくなってしまうことが考えられる。なお、水素水を用いた後洗浄工程によっても、スパッタダスト等の粉状物をある程度は除去することが可能ではあるが、ワイピング工程およびバーニッシュ工程のように積層基板１８０の表面をスクラブし、ワイプし、または削る効果が低いため、積層基板１８０の表面に強固に付着した粉状物を除去することは困難である。よって、この水素水を用いた後洗浄工程は、ワイピング工程やバーニッシュ工程と併用するのが好ましい。
【００４１】
後洗浄工程では、保護層１６０までを形成した積層基板１８０を、水素水を含む洗浄槽へ浸漬して行うのが好ましい。特に磁気記録媒体１の製造においては、後洗浄工程を設けることで、ワイピング工程やバーニッシュ工程では除去できず、後述する磁気転写工程（ステップ１１１）においてマスタ情報記録体に転写、蓄積される汚染物を効果的に除去し、かつ後洗浄工程の実行時に積層基板１８０を腐食させにくくする効果を有する。
【００４２】
ここで、本実施の形態における後洗浄工程について、具体的な例を挙げて説明する。投入する積層基板１８０の枚数にもよるが、例えば１００枚程度の外径２．５インチの積層基板１８０をバッチ式で処理する場合は、容積３０リットル程度の樹脂製またはステンレス合金製の浸漬層に、純水中の溶存水素濃度を０．１ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲内とした水素水を入れ、この水素水の酸化還元電位を−２００ｍＶ〜−８００ｍＶの範囲内とし、ＫＯＨまたはＮＨ４ＯＨの量を０．０５ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲内、必要に応じて弱アルカリ性の界面活性剤を微量添加し、浸漬層に１ｋＷ程度の超音波振動を印加し、この浸漬層に積層基板１８０を１０秒〜１０分の範囲内で浸漬洗浄する。そして後洗浄工程では、好ましくは複数回の洗浄を行うようにし、初期においては上述した条件で洗浄を行い、最後の洗浄では、ＫＯＨ、ＮＨ４ＯＨ、あるいは界面活性剤を添加しない、純水および溶存水素のみを含む水素水を用いて超音波振動を加えながら洗浄を行うとよい。そして、後洗浄が終了した積層基板１８０は、速やかにスピン法等で乾燥させることが好ましい。
【００４３】
次に、後洗浄が施された積層基板１８０に対し、潤滑剤を塗布し（ステップ１０５）、積層基板１８０に潤滑層１７０を形成する。続いて、潤滑層１７０が塗布された積層基板１８０を１００℃程度で数分間加熱するベークを行う（ステップ１０６）。これにより、潤滑層１７０に含まれる水分が揮発し、且つ、積層基板１８０の最表面側に設けられた保護層１６０と保護層１６０に接する潤滑層１７０との密着性が高まる。以上により、磁気記録媒体１が得られる。
【００４４】
次いで、ベークが施された磁気記録媒体１の表面をワイピングする（ステップ１０７）。ワイピング工程は、磁気記録媒体１の表面に付着したスパッタダスト等を拭き取るために行われる。これは、上述したように、ステップ１０４の後洗浄工程は水素水への浸漬によるものであり、これだけでは、磁気記録媒体１の表面に強固に付着した粉状物を除去することが困難であるからである。
【００４５】
ワイピング工程は、例えば布製のワイピングテープ等を用いて行なわれ、このワイピングテープを磁気記録媒体１の表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロールまたはパッドによってワイピングテープ表面を磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、磁気記録媒体１の表面を軽く拭くことによって行われる。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体１の表面に付着していたスパッタダスト等が除去されることになる。その結果、得られた磁気記録媒体１を図１に示す磁気記録再生装置に組み込んだ場合に、磁気記録媒体１に対する磁気ヘッド３の浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００４６】
ここで、ワイピング工程に用いられるワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物等が用いられる。
【００４７】
また、このようなワイピングテープを用いる磁気記録媒体１のワイピング方法は、具体的には、磁気記録媒体１を回転させつつ、この磁気記録媒体１の磁性層側の面に、ワイピングテープの表面（拭き面）を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体１の表面のスパッタダスト等が拭き取られ、表面が清浄化する。ここで、ワイピングテープは、供給リールと巻取りリールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取りリールに巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取りリール側に走行する途中で、ワイピングテープは、拭き面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロールまたはフェルト等により押圧され、その拭き面が磁気記録媒体１の表面に押し当てられる。
【００４８】
そして、ワイピングが施された磁気記録媒体１の表面に対しバーニッシュを行う（ステップ１０８）。
バーニッシュ工程は、磁気記録媒体１の表面に形成または付着した突起物を除去するため、その表面を、研磨テープを用いて研磨する工程である。このような処理を行うことにより、得られた磁気記録媒体１を図１に示す磁気記録再生装置に組み込んだ場合に、磁気記録媒体１に対する磁気ヘッド３の浮上量をより小さくすることができる。また、後述する磁気転写工程において、磁気記録媒体１とマスタ情報記録体２００との間に隙間が生じて転写パターンが不鮮明となり、マスタ情報記録体２００が損傷を受けるのを防ぐことができる。
【００４９】
バーニッシュ工程は、アルミナ砥粒を塗布した研磨テープ等を用いて行なわれ、この研磨テープをゴム製のコンタクトロールによって磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、磁気記録媒体１の表面を軽く研磨することにより行われる。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体１の表面の異常突起等が除去される。
【００５０】
バーニッシュ工程に用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、通常ポリエステル製のベースフィルム上に研磨材層を形成してなるテープを使用する。そして、この研磨材層が磁気記録媒体１の磁性層側の面と接触して摺動することによって、磁気記録媒体１の表面に付着した微小な塵埃が除去されると共に、その表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて、その表面が平滑化される。研磨材としては、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が用いられる。
【００５１】
また、このような研磨テープを用いる磁気記録媒体１のバーニッシュ加工は、具体的には、磁気記録媒体１を回転させつつ、この磁気記録媒体１の磁性層側の面に、研磨テープの砥粒面を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体１の表面の突起が研磨除去され平滑化される。ここで、研磨テープは、供給リールと巻取りリールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取りリールに巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取りリール側に走行する途中で、研磨テープは、砥粒面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロールまたはフェルト等により押圧され、研磨テープの研磨面が磁気記録媒体１の表面に押し当てられる。
【００５２】
次に、バーニッシュが施された磁気記録媒体１に対し、初期磁化を行う（ステップ１０９）。この例では、垂直記録方式で用いられる磁気記録媒体１を対象としているため、初期磁化工程は、磁気記録媒体１の表面に垂直方向に一方向の初期直流磁界を印加することによって行われる。その際に印加する初期直流磁界は永久磁石、電磁石によって発生させることが可能であり、好ましくは、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いて発生させるのが好ましい。また、初期磁化工程は磁気記録媒体１と磁石とを非接触状態で行うことが、磁気記録媒体１の表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００５３】
ここで、本実施の形態の磁気記録媒体１における垂直記録層１５０（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３、第３磁性層１５５）の保磁力Ｈｃは、通常、３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上になっている。よって、初期磁化工程では、垂直記録層１５０の各磁性層を直流磁化することが可能な磁石を用いるとよい。
【００５４】
その後、初期磁化が施された磁気記録媒体１に対し、表面検査を行う（ステップ１１０）。表面検査工程では、初期磁化後の磁気記録媒体１の表面への塵埃の付着や異常突起の有無を検査する。
そして、表面検査が完了した磁気記録媒体１に対し磁気転写を行い（ステップ１１１）、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを記憶させた位置決めデータ記憶領域Ａ２（図３参照）を設ける。
なお、ステップ１１０の表面検査工程およびステップ１１１の磁気転写工程は、一連の動作として実行されるが、この詳細については後述する。
【００５５】
続いて、磁気転写が施された磁気記録媒体１に対しグライド検査を行う（ステップ１１２）。グライド検査工程では、磁気転写済の磁気記録媒体１の表面に突起物が無いかどうか、実際にヘッドを浮上走行させて検査する。磁気ヘッド３を用いて磁気記録媒体１をデータの書き込み（記録）および読み出し（再生）を実行する際に、磁気記録媒体１の表面に浮上量（磁気記録媒体１と磁気ヘッド３の間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッド３が突起にぶつかって磁気ヘッド３が損傷したり、磁気記録媒体１に欠陥が発生したりする原因となる。このため、グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００５６】
次いで、グライド検査に合格した磁気記録媒体１に対し、サーティファイ検査を行う（ステップ１１３）。サーティファイ検査工程では、通常の磁気記録再生装置と同様に、磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３で予め決められた信号を記録した後、記録した信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体１の記録不良を検出し、磁気記録媒体１の電気特性や欠陥の有無など磁気記録媒体１の品質を確かめる。上述した方法で製造した磁気記録媒体１には、既にサーボ・パターンが書き込まれているため、サーボ情報を用いない従来の方式でのサーティファイ検査を実施することが困難となっている。このため、本実施の形態では、磁気記録媒体１に磁気転写されたサーボ・パターン（位置決めデータ）を利用して磁気ヘッド３を特定箇所に位置づけし、データの読み書きを行う形式の検査を行う。
そして、サーティファイ検査に合格した磁気記録媒体１が、製品として出荷されることになる。
【００５７】
では、上述したステップ１１０における表面検査工程およびステップ１１１における磁気転写工程について、より詳細に説明する。
図５は、表面検査および磁気転写を行うための表面検査・磁気転写装置１０の上面図である。また、図６は、図５に示す矢印ＶＩ方向からみた表面検査・磁気転写装置１０の斜視図である。なお、以下では、図５において、図中左側から右側に向かう方向をＸ方向、図中下側から上側に向かう方向をＹ方向、そして図中奥側から手前側に向かう方向をＺ方向として説明を行う。
【００５８】
表面検査・磁気転写装置１０は、Ｙ方向に対してＸ方向が長辺側となる矩形状の基台１１と、ステップ１０９に示す初期磁化が施された磁気記録媒体１を収容する転写前媒体収容部１２と、転写前媒体収容部１２から取り出された磁気記録媒体１に対しステップ１１０に示す表面検査を行う表面検査部１３と、表面検査がなされた磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写する磁気転写部１４と、サーボ・パターンの磁気転写がなされた磁気記録媒体１を収容する転写済媒体収容部１５と、表面検査部１３による表面検査の結果が不合格となった磁気記録媒体１を収容する不具合品収容部１６とを備える。また、表面検査・磁気転写装置１０は、表面検査がなされた磁気記録媒体１を磁気転写部１４へと供給するとともに磁気転写がなされた磁気記録媒体１を磁気転写部１４から回収するために磁気記録媒体１を移載する移載部１７と、転写前媒体収容部１２、表面検査部１３、転写済媒体収容部１５、不具合品収容部１６および移載部１７の間で磁気記録媒体１の授受を行うスカラ（SCARA：Selective Compliance Assembly Robot Arm）・ロボット１８とをさらに備える。そして、表面検査・磁気転写装置１０は、移載部１７に保持された磁気記録媒体１の磁気転写部１４に対する位置決めに用いられる位置検出部１９と、磁気転写部１４に対する位置決めがなされた磁気記録媒体１の振動検出に用いられる振動検出部２０とをさらに備える。
【００５９】
表面検査・磁気転写装置１０において、転写前媒体収容部１２、表面検査部１３、磁気転写部１４、転写済媒体収容部１５、不具合品収容部１６、移載部１７、スカラ・ロボット１８、位置検出部１９および振動検出部２０は、基台１１の上部側に配置されている。これに対し、表面検査部１３、磁気転写部１４、移載部１７、スカラ・ロボット１８、位置検出部１９および振動検出部２０の駆動系は、基台１１よりも下部側に配置されている。また、本実施の形態の表面検査・磁気転写装置１０は、ダウンフロー方式を採用したクリーンルーム内に配置されており、表面検査・磁気転写装置１０には、上方から下方（図５において−Ｚ方向）に空気が流れるようになっている。
【００６０】
なお、以下の説明においては、転写前媒体収容部１２から表面検査部１３を介して、磁気転写部１４あるいは不具合品収容部１６に供給される、磁気転写工程実行前の磁気記録媒体１を『転写前媒体』と称する。また、以下の説明では、磁気転写部１４から転写済媒体収容部１５に供給される、磁気転写工程実行後の磁気記録媒体１を『転写済媒体』と称する。
【００６１】
転写前媒体収容部１２は複数の転写前媒体を立てた状態で収容可能な収容容器１２ａを、転写済媒体収容部１５は複数の転写済媒体を立てた状態で収容可能な収容容器１５ａを、そして、不具合品収容部１６は複数の転写前媒体（不具合品）を立てた状態で収容可能な収容容器１６ａを、それぞれ備えている。ここで、これら収容容器１２ａ、１５ａ、１６ａには、共通の構造を有するものを用いている。そして、転写前媒体収容部１２においては転写前媒体が空になったときに、転写済媒体収容部１５においては転写済媒体がいっぱいになったときに、そして不具合品収容部１６においては転写前媒体（不具合品）がいっぱいになったときに、それぞれ新たなものと交換されるようになっている。
【００６２】
表面検査部１３は、スカラ・ロボット１８によって転写前媒体収容部１２から運ばれてきた転写前媒体の両面について表面検査を行う。表面検査部１３における表面検査の手法としては、例えば図示しないレーザ光源を用いて転写前媒体の両面を走査し、その反射光に基づいて表面における異常（突起等）の有無を検出するものが挙げられる。
【００６３】
移載部１７は、基台１１に搭載されるとともにＸ方向に伸びる直動案内部１７ａと、直動案内部１７ａの上部に搭載されて直動案内部１７ａに沿ってＸ方向および−Ｘ方向に移動する直動部１７ｂとを備える。また、直動部１７ｂは、−Ｘ方向に伸びる腕木部１７ｃと、腕木部１７ｃの自由端側から−Ｙ方向に伸び、磁気転写部１４に供給する転写前媒体を保持するための供給チャック部１７ｄと、供給チャック部１７ｄよりも直動部１７ｂに近い側において腕木部１７ｃから−Ｙ方向に伸び、磁気転写部１４から回収した転写後媒体を保持するための回収チャック部１７ｅとを備える。
【００６４】
スカラ・ロボット１８は、基台１１に搭載された基部１８ａと、基部１８ａの上部に取り付けられ水平方向（Ｘ方向およびＹ方向）への移動が許容されたアーム部１８ｂとを備えている。そして、アーム部１８ｂの自由端には、上下方向（Ｚ方向および−Ｚ方向）に移動するスライド軸（図示せず）が設けられており、このスライド軸には、磁気記録媒体１（転写前媒体および転写済媒体の両者）を保持するためのチャック部（図示せず）が取り付けられている。
【００６５】
位置検出部１９は、例えばレーザ等からなる光源とＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサ等からなる受光部とを備えている。そして、位置検出部１９は、磁気転写部１４の近傍において移載部１７の供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体の位置を検出するようになっている。なお、本実施の形態では、移載部１７と位置検出部１９とによって位置決め部が構成されている。
【００６６】
検出部の一例としての振動検出部２０は、例えばレーザ等からなる光源とＣＣＤイメージセンサ等からなる受光部とを備えている。そして、振動検出部２０は、磁気転写部１４の近傍において移載部１７の供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体の振動を検出するようになっている。
【００６７】
次に、磁気転写部１４について説明する。
磁気転写部１４は、基台１１に固定された状態で搭載され、サーボ・パターンが予め記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する固定ホルダ３０と、固定ホルダ３０に対向して配置されるとともに、基台１１に対しＹ方向および−Ｙ方向に移動できるように配置され、サーボ・パターンが予め磁気的に記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する可動ホルダ４０とを備える。なお、保持体の一例としての固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００および可動ホルダ４０に取り付けられたマスタ情報記録体２００は、互いに対向した状態で配置されている。
【００６８】
また、マスタ情報記録体２００を保持した固定ホルダ３０の背面側には、第１磁石５１を備えた第１磁石部材５０が配置されている。第１磁石部材５０は、固定ホルダ３０に対向配置される第１磁石５１と、第１磁石５１を保持する第１磁石保持部５２と、第１磁石保持部５２の背面側からＹ方向に沿って伸びる第１磁石支持部５３とを備えている。第１磁石支持部５３は、基台１１に対しＹ方向には固定された状態で支持され、且つ、図中矢印方向には回転可能に支持されている。これにより、第１磁石支持部５３の回転に伴って第１磁石保持部５２に保持された第１磁石５１が回転するようになっている。
【００６９】
一方、マスタ情報記録体２００を保持した可動ホルダ４０の背面側には、第２磁石６１を備えた第２磁石部材６０が配置されている。第２磁石部材６０は、可動ホルダ４０に対向配置される第２磁石６１と、第２磁石６１を保持する第２磁石保持部６２と、第２磁石保持部６２の背面側からＹ方向に沿って伸びる第２磁石支持部６３とを備えている。第２磁石支持部６３は、基台１１に対しＹ方向および−Ｙ方向に進退可能に支持され、且つ、図中矢印方向に回転可能に支持されている。これにより、第２磁石支持部６３の進退に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が進退するとともに、第２磁石支持部６３の回転に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が回転するようになっている。
【００７０】
図７は、磁気転写部１４における第１磁石部材５０、第２磁石部材６０の構成および両者の相互的な位置関係の一例を示す図である。
第１磁石部材５０において、第１磁石５１は、第１磁石保持部５２に対し、第１磁石支持部５３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第１磁石５１は、固定ホルダ３０と対向する側が一方の極性の磁極（例えばＮ極）となるように第１磁石保持部５２に保持されている。
一方、第２磁石部材６０において、第２磁石６１は、第２磁石保持部６２に対し、第２磁石支持部６３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第２磁石６１は、可動ホルダ４０と対向する側が他方の極性の磁極（例えばＳ極）となるように第２磁石保持部６２に保持されている。
【００７１】
そして、本実施の形態では、第１磁石５１と第２磁石６１とが、固定ホルダ３０および可動ホルダ４０を挟んで対向するように配置される。また、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石５１と第２磁石６１とを対向させた状態を維持しながら、ともに回転するように構成されている。なお、本実施の形態では、これら第１磁石部材５０と第２磁石部材６０とによって、一対の磁石部材が構成されている。
【００７２】
図８は、磁気転写部１４で用いられるマスタ情報記録体２００の構成の一例を示す図である。ここで、図８（ａ）はマスタ情報記録体２００の上面図を、また、図８（ｂ）は図８（ａ）におけるＶＩＩＩＢ−ＶＩＩＩＢ断面図を、それぞれ示している。
【００７３】
パターン形成体の一例としてのマスタ情報記録体２００は、磁気記録媒体１よりも直径が大きい円盤状の形状を有している。また、マスタ情報記録体２００の一方の面（形成面に対応）には、サーボ・パターンに対応する微細な凹凸が形成されたサーボ・パターン形成領域ＳＰが設けられている。この例において、サーボ・パターン形成領域ＳＰは、マスタ情報記録体２００の一方の面に、中央部と外縁部とを除いて、放射状に複数設けられている。なお、図５等に示す固定ホルダ３０あるいは可動ホルダ４０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際には、サーボ・パターン形成領域ＳＰを設けた面が、互いに露出した状態で対向することになる。
【００７４】
また、固定ホルダ３０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００の中央部には、表裏を貫通する第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが設けられている。これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは、マスタ情報記録体２００においてサーボ・パターン形成領域ＳＰよりも内側（中心側）に設けられている。なお、可動ホルダ４０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００には、これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは不要である。この理由については後述する。
【００７５】
次に、マスタ情報記録体２００の構造について説明すると、マスタ情報記録体２００は、円盤状の基体２０１と、この基体２０１の一方の面に形成されたマスタ磁性層２０２と、マスタ磁性層２０２の上に形成されたマスタ保護層２０３とを備えている。ここで、図８（ｂ）は、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおけるマスタ情報記録体２００の断面構成を示しており、この部位には、サーボ・パターンに対応した凸部２０４および凹部２０５が存在している。なお、マスタ情報記録体２００の一方の面のうち、サーボ・パターン形成領域ＳＰ以外の領域は、マスタ情報記録体２００と磁気記録媒体１との吸着を防ぐため、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおける凹部２０５と同じ高さとなっている。
【００７６】
マスタ情報記録体２００は公知の方法によって製造できるが、例えば次の製造方法を掲げることができる。先ず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。塗布後、このレジストに対し、電子線露光装置を用いて、サーボ・パターンに対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストを露光する。その後、レジストを現像し、未露光部分を除去して、シリコンウェハ上にレジストのパターンを形成する。
【００７７】
次いで、このレジストパターンをマスクとして用い、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させてマスタ情報記録体２００を作製するための原盤を得る。
【００７８】
この原盤上に、Ｎｉからなる導電層をスパッタリング法により１０ｎｍ程度形成する。その後、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数μｍ厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層を洗浄等して、表面に凸部を配設した基体２０１を得る。
【００７９】
次いで、この基体２０１の表面にマスタ磁性層２０２を形成する。このマスタ磁性層２０２については磁気記録媒体１に用いられる磁性層（第１磁性層１５１等）と同じものが使用できる。またマスタ磁性層２０２の上には磁気記録媒体１と同様にマスタ保護層２０３を形成する。このマスタ保護層２０３は、マスタ情報記録体２００の耐摩耗性すなわちマスタ情報記録体２００の転写耐久性を高めるものであり、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等を用いることができる。以上の製造工程によってマスタ情報記録体２００を得ることができる。
なお、このようにして得られたマスタ情報記録体２００は、例えば１０万枚以上の磁気記録媒体の製造（磁気転写）に繰り返し使用される。
【００８０】
図９は、磁気転写部１４における固定ホルダ３０および可動ホルダ４０の断面構成の一例を示す図である。なお、図９では、固定ホルダ３０に磁気記録媒体１を取り付けた状態を例示している。
これらのうち、固定ホルダ３０は、マスタ情報記録体２００の保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、マスタ情報記録体２００の保持面においてマスタ情報記録体２００の取り付け位置中央部に開口が設けられた２つの第１吸引路３１と、マスタ情報記録体２００の保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、マスタ情報記録体２００の保持面においてマスタ情報記録体２００の取り付け位置の外側に開口が設けられた２つの第２吸引路３２とを備える。また、固定ホルダ３０は、マスタ情報記録体２００の保持面において第２吸引路３２の開口よりも外側に周方向に沿って取り付けられたＯリング３３を備えている。なお、固定ホルダ３０のマスタ情報記録体２００の保持面での第１吸引路３１の２つの開口には、固定ホルダ３０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際に、マスタ情報記録体２００側の第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが重ね合わされるようになっている。なお、本実施の形態では、固定ホルダ３０に設けられた２つの第１吸引路３１と吸引駆動部７６（後述する図１０参照）とによって、取り付け部が構成されている。
【００８１】
これに対し、可動ホルダ４０は、固定ホルダ３０と対向する側の面にマスタ情報記録体２００を保持するとともに、その背面側には第２磁石部材６０が設けられた記録体保持部４０ａと、記録体保持部４０ａの周縁を覆うように設けられた筒状体４０ｂとを備えている。また、可動ホルダ４０は、筒状体４０ｂの内周面に周方向に沿って取り付けられ、周方向にわたって記録体保持部４０ａの外周面に接触するＯリング４１とを備えている。ここで、可動ホルダ４０を構成する記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂは、互いに独立して固定ホルダ３０に対し進退可能に取り付けられている。また、筒状体４０ｂの固定ホルダ３０と対向する側の端部は、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に対し一周にわたって対向し且つ接触するようになっている。なお、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａには、固定ホルダ３０のような吸引路は設けられていない。このため、記録体保持部４０ａに取り付けられるマスタ情報記録体２００には、第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂを設けておく必要がない。
【００８２】
図１０は、図５に示す表面検査・磁気転写装置１０における制御ブロックの一例を示す図である。
表面検査・磁気転写装置１０は、装置全体の動作を制御するためのコントローラ７０を備えている。このコントローラ７０には、表面検査部１３による転写前媒体の表面検査結果、位置検出部１９による転写前媒体の位置検知結果、そして振動検出部２０による転写前媒体の振動検知結果が入力されるようになっている。また、コントローラ７０は、表面検査部１３、位置検出部１９、振動検出部２０、スカラ・ロボット１８を駆動するロボット駆動部７１、移載部１７に設けられた直動部１７ｂを駆動する直動駆動部７２、移載部１７に設けられた供給チャック部１７ｄを駆動する供給チャック駆動部７３、移載部１７に設けられた回収チャック部１７ｅを駆動する回収チャック駆動部７４、磁気転写部１４に設けられた可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）を駆動する可動ホルダ駆動部７５、固定ホルダ３０の第１吸引路３１および第２吸引路３２に接続された吸引機構（図示せず）を駆動する吸引駆動部７６、第１磁石部材５０を駆動する第１磁石駆動部７７、そして第２磁石部材６０を駆動する第２磁石駆動部７８に、それぞれ制御信号を出力するようになっている。
【００８３】
では、図５乃至図１０を用いて、表面検査・磁気転写装置１０による表面検査工程および磁気転写工程について説明を行う。なお、以下に説明する動作は、コントローラ７０によって制御される。また、初期状態において、表面検査・磁気転写装置１０を構成する各部は、図５に示した位置に配置されているものとする。さらに、以下の説明では、図５に示した直動部１７ｂ（直動部１７ｂに設けられた腕木部１７ｃ、さらに腕木部１７ｃに設けられた供給チャック部１７ｄおよび回収チャック部１７ｅを含む）の位置を、待機位置と呼ぶ。
【００８４】
動作の開始に伴い、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが、転写前媒体収容部１２に収容される転写前媒体を１枚チャックして取り出し、チャックした転写前媒体を表面検査部１３に向けて移送する。続いて、移送されてきた転写前媒体を表面検査部１３に設けられたチャック機構（図示せず）が保持すると、アーム部１８ｂが転写前媒体のチャックを解除し、表面検査部１３から待避する。
【００８５】
次いで、表面検査部１３は、保持した転写前媒体の両面についてそれぞれ表面検査を行う。表面検査部１３による検査が完了すると、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが表面検査部１３側に移動し、アーム部１８ｂが表面検査部１３に保持された転写前媒体をチャックした後、表面検査部１３がこの転写前媒体のチャックを解除する。
【００８６】
ここで、表面検査の結果について、コントローラ７０が少なくともいずれか一方の面が不合格であると判断した場合は、アーム部１８ｂが、チャックした転写前媒体を不具合品収容部１６に向けて移送し、チャックを解除して不具合品収容部１６に収容させた後、不具合品収容部１６から待避する。
一方、表面検査の結果について、コントローラ７０が両面とも合格であると判断した場合は、アーム部１８ｂが、チャックした転写前媒体を待機位置におかれた直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄと対向する位置に向けて搬送する。そして供給チャック部１７ｄがアーム部１８ｂに保持された転写前媒体をチャックした後、アーム部１８ｂがこの転写前媒体のチャックを解除し、供給チャック部１７ｄと対向する位置から待避する。
【００８７】
続いて、待機位置にある直動部１７ｂが、−Ｘ方向に沿って移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように移動していく。なお、この期間が、「搬送する工程」に対応している。
【００８８】
この間、位置検出部１９は、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達したか否かを検出している。この位置の検出結果に基づき、コントローラ７０は、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達した時点で直動部１７ｂの駆動を停止させる。なお、この期間が、「位置決めする工程」に対応している。そして、以下の説明においては、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が２枚のマスタ情報記録体２００と正対する際の直動部１７ｂの位置を、供給位置と呼ぶ。
【００８９】
なお、マスタ情報記録体２００の中心に対する転写前媒体の中心の位置決めの要求精度は、±７．５μｍ、より好ましくは±５．０μｍの範囲内であれば十分である。なぜなら、転写前媒体に磁気転写されるサーボ・パターンが、仮に転写前媒体の中心に対して偏心していたとしても、磁気転写後のサーボ・パターンを用いて磁気ヘッド３がトラックＴに追従することができるのであれば、磁気記録媒体１に対するデータの読み書きは可能となるからである。
【００９０】
また、振動検出部２０は、位置決めに伴って供給位置に停止した直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄに取り付けられた転写前媒体の振動の大きさを検出している。そして、コントローラ７０は、振動検出部２０によって検出された振動の大きさが磁気記録媒体１のデータ面に対して平行の方向、すなわちＸ軸およびＺ軸を含む面において±１．０μｍ以下となった後に、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで固定ホルダ３０側に転写前媒体をチャックさせ、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００に転写前媒体の一方の面を接触させる。なお、この期間が、「接触させる工程」に対応している。そして、固定ホルダ３０側に転写前媒体をチャックしてから、供給チャック部１７ｄはこの転写前媒体のチャックを解除する。そして、転写前媒体の保持を解除した直動部１７ｂは、Ｘ方向に向かって移動した後、待機位置で停止する。
【００９１】
続いて、磁気転写部１４において、可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が固定ホルダ３０側に近づく方向へと移動を開始する。これに伴い、まず、筒状体４０ｂの周部端面が固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に突き当たった後に停止する。また、記録体保持部４０ａおよび第２磁石部材６０は、筒状体４０ｂが停止した後も固定ホルダ３０側に近づく方向へと移動を続け、固定ホルダ３０に設けられたマスタ情報記録体２００と可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａに設けられたマスタ情報記録体２００とによって転写前媒体を挟み込んだ後に停止する。なお、記録体保持部４０ａの停止位置は予め決められており、その結果、２枚のマスタ情報記録体２００および１枚の転写前媒体には、予め設定された軽い荷重が加えられる。また、このとき、固定ホルダ３０と記録体保持部４０ａと筒状体４０ｂとの間には、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３と筒状体４０ｂに設けられたＯリング４１とを用いて、閉空間が形成される。続いて、第２吸引路３２を介した吸引を開始させることで、閉空間内に存在する２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体との間に存在する隙間が真空引きされ、閉空間内外の差圧によって２枚のマスタ情報記録体２００の各サーボ・パターン形成領域ＳＰの形成面と１枚の転写前媒体の両面とがそれぞれ密着していく。
【００９２】
次に、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石支持部５３および第２磁石支持部６３を軸とし、２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体とを挟んで、第１磁石５１および第２磁石６１を対向させた状態を維持しながら少なくとも１回転する。
第１磁石５１および第２磁石６１が１回転する間、２枚のマスタ情報記録体２００に挟まれた転写前媒体では、第１磁石５１および第２磁石６１により、初期磁化工程とは逆向きの直流磁界が周方向に順次印加される。すると、転写前媒体のうち、固定ホルダ３０側のマスタ情報記録体２００と接する側では、このマスタ情報記録体２００の凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。また、この転写前媒体のうち、可動ホルダ４０側のマスタ情報記録体２００と接する側でも、このマスタ情報記録体２００の凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。このようにして、転写前媒体の両面には、それぞれ、マスタ情報記録体２００に設けられた凹凸の配列からなるサーボ・パターンが、磁化の向きの配列からなるサーボ・パターンとして転写される。その結果、転写前媒体は、位置決めデータ記憶領域Ａ２にサーボ・パターンが記憶された転写済媒体となる。なお、この期間が、「磁気的に転写する工程」に対応している。
【００９３】
このようにして磁気転写が完了すると、まず、第２吸引路３２を介した吸引を停止して閉空間内を大気圧とし、次いで、可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が元の位置への後退を開始する。これにより、固定ホルダ３０に保持された転写済媒体は、外部に露出した状態となる。
【００９４】
ところで、直動部１７ｂは、上述したように、供給チャック部１７ｄに保持した転写前媒体を、供給位置において固定ホルダ３０側に受け渡した後、待機位置に戻って停止している。そして、この表面検査・磁気転写装置１０では、磁気転写部１４で前の転写前媒体に磁気転写を行うのと並行して、次の転写前媒体の準備を行っている。すなわち、前の転写前媒体への磁気転写と並行して、スカラ・ロボット１８を用いた転写前媒体収容部１２からの次の転写前媒体の取り出し、表面検査部１３による次の転写前媒体の検査、そして、待機位置にある直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄによる次の転写前媒体のチャックが行われる。なお、供給チャック部１７ｄによる次の転写前媒体のチャックは、前の転写前媒体への磁気転写が完了するまで（転写前媒体が転写済媒体となるまで）に終了していることが、生産性の観点から好ましい。
【００９５】
そして、磁気転写部１４において前の転写前媒体への磁気転写が完了し、且つ、次の転写前媒体の供給チャック部１７ｄへのチャックが完了した状態で、待機位置にある直動部１７ｂが、−Ｘ方向に沿って移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、何も保持していない回収チャック部１７ｅが、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように移動していく。その後、直動部１７ｂは、回収チャック部１７ｅが、固定ホルダ３０に真空チャックされた転写済媒体と正対する位置に到達して停止する。このとき、コントローラ７０が、位置検出部１９による位置検出結果に基づく直動部１７ｂの停止位置の制御を行うようにしてもよい。なお、以下の説明においては、回収チャック部１７ｅが固定ホルダ３０に保持された転写済媒体と正対する際の直動部１７ｂの位置を、回収位置と呼ぶ。
【００９６】
次に、回収チャック部１７ｅが転写済媒体をチャックし、その後固定ホルダ３０による転写済媒体の真空チャックを解除する。
続いて、回収位置におかれた直動部１７ｂは、回収チャック部１７ｅに転写済媒体を保持し、供給チャック部１７ｄに次の転写前媒体を保持した状態で、Ｘ方向に移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように、再び供給位置に向かって移動していく。
【００９７】
この間、位置検出部１９は、供給チャック部１７ｄに保持された次の転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達したか否かを検出している。この位置の検出結果に基づき、コントローラ７０は、供給チャック部１７ｄに保持された次の転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達した時点すなわち供給位置に到達した時点で直動部１７ｂの駆動を停止させる。なお、この期間が、「位置決めする工程」に対応している。
【００９８】
また、振動検出部２０は、位置決めに伴って供給位置に停止した直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄに取り付けられた次の転写前媒体の振動の大きさを検出している。そして、コントローラ７０は、振動検出部２０によって検出された振動の大きさが磁気記録媒体１のデータ面に対して平行の方向で±１．０μｍ以下となった後に、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで固定ホルダ３０側に次の転写前媒体を真空チャックし、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００に次の転写前媒体の一方の面を接触させる。なお、固定ホルダ３０側に次の転写前媒体を真空チャックしてから、供給チャック部１７ｄはこの次の転写前媒体のチャックを解除する。その後、この次の転写前媒体には、上述した手順を経てサーボ・パターンの磁気転写がなされる。これに対し、転写済媒体を保持する一方で次の転写前媒体の保持を解除した直動部１７ｂは、Ｘ方向に向かって移動した後、待機位置で停止する。
【００９９】
次いで、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが、待機位置で停止した直動部１７ｂの回収チャック部１７ｅに保持された転写済媒体と対向する位置に移動する。続いて、アーム部１８ｂが、回収チャック部１７ｅに保持された転写済媒体をチャックした後、回収チャック部１７ｅが転写済媒体のチャックを解除する。そして、アーム部１８ｂが、チャックした転写済媒体を転写済媒体収容部１５に向けて移送し、チャックを解除して転写済媒体収容部１５に収容させた後、転写済媒体収容部１５から待避し、さらに次の転写前媒体の取り出しを開始する。
【０１００】
以降、上述した手順を繰り返すことにより、転写前媒体の取り出し、転写前媒体に対する表面検査、転写前媒体に対するサーボ・パターンの磁気転写、サーボ・パターンが転写された転写済媒体の回収が順次行われていく。
【０１０１】
上述した磁気転写工程では、大きく振動した状態のままの転写前媒体をマスタ情報記録体２００に接触させた場合、転写前媒体によってマスタ情報記録体２００の接触面が傷つけられてしまい、結果として、マスタ情報記録体２００の寿命（転写に使用しうる回数）が短くなってしまうおそれがある。特に本実施の形態では、マスタ情報記録体２００に凹凸によるサーボ・パターンを形成しているため、転写前媒体との接触時に凹凸が欠けたり変形してしまったりした場合には、以降の磁気転写において転写不良が生じてしまうことになる。これに対し、本実施の形態では、供給されてくる転写前媒体を、磁気転写部１４に設けられたマスタ情報記録体２００に対して位置決めして停止させた後、転写前媒体の振動が減衰した状態で、マスタ情報記録体２００に接触させるようにした。これにより、転写前媒体とマスタ情報記録体２００との接触に起因するマスタ情報記録体２００の機械的な破損および低寿命化を抑制することができる。
【０１０２】
なお、本実施の形態では、位置決めされた転写前媒体の振動の大きさを振動検出部２０によって検出し、その検出結果が予め決められた閾値（この例では±１．０μｍ）以下となった後にマスタ情報記録体２００に転写前媒体を接触させるようにしていたが、これに限られるものではない。
例えば、転写前媒体を位置決め停止させてからこの転写前媒体の振動の大きさが上述した閾値以下となるまでに要する時間（転写前媒体の振動の減衰特性）を実験等によって予め求めておき、コントローラ７０が、タイマ（計測部）による転写前媒体の位置決め停止後の経過時間の計測結果に基づいて、マスタ情報記録体２００への転写前媒体の接触を開始させるようにしてもよい。
【実施例】
【０１０３】
（磁気記録媒体の製造）
洗浄済みのガラス製の基板１００（コニカミノルタ社製、外形２．５インチ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、この基板１００の上に、６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層１１０を成膜した。また、この密着層１１０の上に、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて、１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの第１軟磁性層１２１を成膜し、この上にＲｕからなるスペーサ層１２２を層厚０．７６ｎｍで成膜した後、さらに４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂの第２軟磁性層１２３を層厚３４ｎｍ成膜して、軟磁性下地層１２０を得た。
【０１０４】
次に、上記軟磁性下地層１２０の上に、Ｎｉ−６Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲット、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ５ｎｍ、２０ｎｍの層厚で順に成膜し、これを配向制御層１３０とした。
【０１０５】
次に、配向制御層１３０の上に、多層構造の垂直記録層１５０して、８４（Ｃｏ１２Ｃｒ１６Ｐｔ）−１６ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、９１（Ｃｏ５Ｃｒ２２Ｐｔ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ（膜厚０．５ｎｍ）、９１（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ３Ｒｕ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、９１（Ｃｏ６Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｒｕ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ、９１（Ｃｏ１１．５Ｃｒ１３Ｐｔ１０Ｒｕ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ１５Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｂ（膜厚３ｎｍ）を積層した。
次に、ＣＶＤ法により層厚２．５ｎｍの炭素からなる保護層１６０を成膜し、積層基板１８０を得た。
【０１０６】
以上の方法で製造した積層基板１８０を水素水で洗浄した。洗浄は３段の洗浄工程からなり、各洗浄工程に用いた洗浄槽は何れもＳＵＳ製で容積が２０リットル、その内部に５００Ｗの超音波振動が加えられる。そして各洗浄槽に、超純水を用いて製造した溶存水素濃度１．５ｐｐｍ、酸化還元電位−５５０ｍＶの水素水１５リットルを入れ、さらに１段目の洗浄槽には、ＫＯＨを０．１ｐｐｍ添加した。この３段の洗浄槽に順に積層基板１８０を浸漬し各洗浄槽で３０秒間洗浄した。洗浄後の積層基板１８０は速やかにスピン乾燥させた。
この積層基板１８０の表面に、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑層１７０を厚さ１５オングストロームで形成し、磁気記録媒体１を得た。
【０１０７】
潤滑剤を塗布した磁気記録媒体１に対してワイピング処理を施した。ワイピングテープには、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維を用いた。ワイピング処理において、磁気記録媒体１の回転数は３００ｒｐｍ、ワイピングテープの送り速度は１０ｍｍ／秒、ワイピングテープを磁気記録媒体１に押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。ワイピング処理に際してワイピングテープにパーフルオロポリエーテルを噴霧し、テープ表面に約０．０１μｍの潤滑剤層を形成した。
【０１０８】
ワイピング処理を施した磁気記録媒体１に対してバーニッシュ加工を施した。バーニッシュテープには、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。バーニッシュ加工において、磁気記録媒体１の回転数は３００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度は１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気記録媒体１に押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。
【０１０９】
バーニッシュ加工を施した磁気記録媒体１に対して初期磁化を施した。具体的には、磁気記録媒体１の両データ面に対し磁気記録媒体１を貫通する１０ｋＯｅの磁界を、ＮｄＦｅＢ系焼結磁石を用いて加えた。
【０１１０】
（マスタ情報記録体の準備）
マスタ情報記録体２００には、２７１ｋトラック／インチのサーボ信号等のパターンが形成されており、トラックＴは幅１２０ｎｍ、トラックＴ間の幅６０ｎｍで、パターンの段差は４５ｎｍである。マスタ情報記録体２００には、凸部を構成するＮｉ基体の上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚１０ｎｍのＲｕ膜、マスタ磁性層２０２として層厚２０ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金膜、および、層厚１５ｎｍの８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜、マスタ保護層２０３として層厚２０ｎｍのＣＶＤ炭素膜をこの順で積層した。
【０１１１】
＜実施例１＞
初期磁化を施した磁気記録媒体１に対して上記のマスタ情報記録体２００および図５に記載の表面検査・磁気転写装置１０を用いて磁気転写を行った。磁気転写に際しては、磁気記録媒体１の振動の大きさがデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍ以内となった段階で磁気記録媒体１をマスタ情報記録体２００に吸着させた。そして、磁気記録媒体１の両データ面にマスタ情報記録体２００を９８ｍＮの圧力で密着させ、マスタ情報記録体２００の裏面から転写用の直流磁界を印加した。このときの直流磁界の強度は４ｋＯｅとし、転写時間は１０秒間とした。
【０１１２】
上記方法で製造した磁気記録媒体１のサーボ信号の再生特性を、リードライトアナライザ（型番：ＲＷＡ１６３２；米国ＧＵＺＩＫ社製）、及び、スピンスタンド（型番：Ｓ１７０１ＭＰ）を用いて測定した。この装置では、磁気記録媒体１に記録されたサーボ信号等を読み込み、この信号を用いて磁気ヘッドの位置決めができる。この際、評価用の磁気ヘッドとして、ＴｕＭＲ（Tunneling Magneto-Resistive）を用いた磁気ヘッドを使用してサーボ信号の読み込み時のＳ／Ｎ比を評価し、Ｓ／Ｎ比が１６．０ｄＢ以下となった場合に磁気転写不良と判断した。その結果、実施例１では、１枚のマスタ情報記録体２００を用いて、１２５０００回の磁気転写が可能であった。
【０１１３】
＜実施例２＞
実施例１と同様の方法で磁気転写および転写後の磁気記録媒体１の評価を行ったが、磁気記録媒体１をマスタ情報記録体２００に吸着させる際の磁気記録媒体１の振動の大きさを±０．５μｍ以内となった段階とした。その結果、実施例２では、１枚のマスタ情報記録体２００を用いて、１５３０００回の磁気転写が可能であった。
【０１１４】
＜実施例３＞
実施例１と同様の方法で磁気転写および転写後の磁気記録媒体１の評価を行ったが、磁気記録媒体１をマスタ情報記録体２００に吸着させる際の磁気記録媒体１の振動の大きさを±０．１μｍ以内となった段階とした。その結果、実施例３では、１枚のマスタ情報記録体２００を用いて、２０１０００回の磁気転写が可能であった。
【０１１５】
＜比較例＞
実施例１と同様の方法で磁気転写および転写後の磁気記録媒体１の評価を行ったが、磁気記録媒体１をマスタ情報記録体２００に吸着させる際の磁気記録媒体１の振動の大きさを±１．２μｍ以内となった段階とした。その結果、比較例では、１枚のマスタ情報記録体２００を用いて、９１０００回の磁気転写が可能であった。
【符号の説明】
【０１１６】
１…磁気記録媒体、１０…表面検査・磁気転写装置、１１…基台、１２…転写前媒体収容部、１３…表面検査部、１４…磁気転写部、１５…転写済媒体収容部、１６…不具合品収容部、１７…移載部、１８…スカラ・ロボット、１９…位置検出部、２０…振動検出部、７０…コントローラ、１００…基板、１１０…密着層、１２０…軟磁性下地層、１３０…配向制御層、１４０…非磁性下地層、１５０…垂直記録層、１６０…保護層、１７０…潤滑層、１８０…積層基板、２００…マスタ情報記録体、２０１…基体、２０２…マスタ磁性層、２０３…マスタ保護層、２０４…凸部、２０５…凹部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気情報を記録する磁気記録媒体を搬送する工程と、
搬送されてくる前記磁気記録媒体を、パターンが形成されたパターン形成体の当該パターンの形成面と対峙した位置に位置決めする工程と、
位置決めされた前記磁気記録媒体の振動の大きさが予め定められた基準値以下となった後に、前記パターン形成体の前記パターンの形成面に当該磁気記録媒体を接触させる工程と、
前記パターン形成体に形成された前記パターンを、当該パターン形成体に接触させた前記磁気記録媒体に磁気的に転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記接触させる工程では、前記パターン形成体側に前記磁気記録媒体を吸着させることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記パターン形成体には、前記パターンとして凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記接触させる工程において、前記基準値を前記磁気記録媒体のデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍとしたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
磁気情報を記録する磁気記録媒体を搬送する工程と、
搬送されてくる磁気記録媒体を、パターンが形成されたパターン形成体の当該パターンの形成面と対峙した位置に位置決めする工程と、
位置決めされた前記磁気記録媒体の振動の減衰特性に基づいて予め定められた時間が経過した後に、前記パターン形成体の前記パターンの形成面に当該磁気記録媒体を接触させる工程と、
前記パターン形成体に形成された前記パターンを、当該パターン形成体に接触させた前記磁気記録媒体に磁気的に転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
パターンが形成されたパターン形成体と、
前記パターンの形成面を露出させた状態で前記パターン形成体を保持する保持体と、
前記パターン形成体の前記パターンの形成面と対峙する位置に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を位置決めする位置決め部と、
前記位置決め部によって位置決めがなされた前記磁気記録媒体を、前記パターン形成体の前記パターンの形成面に接触させた状態で取り付けさせる取り付け部と、
前記取り付け部によって取り付けられた前記磁気記録媒体と当該パターン形成体とを挟むように配置される一対の磁石部材と、
前記位置決め部によって位置決めがなされた前記磁気記録媒体の振動の大きさを検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記取り付け部による前記パターン形成体への前記磁気記録媒体の取り付け開始時期を制御する制御部と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
【請求項７】
前記取り付け部は、前記パターン形成体に前記磁気記録媒体を吸着させて取り付けを行うことを特徴とする請求項６記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項８】
前記パターン形成体には、前記パターンとして凹凸が形成されていることを特徴とする請求項６または７記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記検出部による検出結果において前記磁気記録媒体の振動の大きさが当該磁気記録媒体のデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍ以下となった後に、前記取り付け部による前記パターン形成体への前記磁気記録媒体の取り付けを開始させることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１０】
パターンが形成されたパターン形成体と、
前記パターンの形成面を露出させた状態で前記パターン形成体を保持する保持体と、
前記パターン形成体の前記パターンの形成面と対峙する位置に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を位置決めする位置決め部と、
前記位置決め部によって位置決めがなされた前記磁気記録媒体を、前記パターン形成体の前記パターンの形成面に接触させた状態で取り付けさせる取り付け部と、
前記取り付け部によって前記パターン形成体に取り付けられた前記磁気記録媒体および当該パターン形成体を挟んで配置される一対の磁石部材と、
前記位置決め部による前記磁気記録媒体の位置決めが完了した後の経過時間を計測する計測部と、
前記計測部による計測結果に基づいて、前記取り付け部による前記パターン形成体への前記磁気記録媒体の取り付け開始時期を制御する制御部と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記計測部による計測結果が、前記位置決め部によって位置決めがなされた前記磁気記録媒体の振動の減衰特性に基づいて予め定められた時間が経過した後に、前記取り付け部による前記パターン形成体への前記磁気記録媒体の取り付けを開始させることを特徴とする請求項１０記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１】
磁気情報を記録する磁気記録媒体を搬送する工程と、
搬送されてくる前記磁気記録媒体を、パターンが形成されたパターン形成体の当該パターンの形成面と対峙した位置に位置決めする工程と、
位置決めされた前記磁気記録媒体の振動の大きさが予め定められた基準値以下となった後に、前記パターン形成体の前記パターンの形成面に当該磁気記録媒体を接触させる工程と、
前記パターン形成体に形成された前記パターンを、当該パターン形成体に接触させた前記磁気記録媒体に磁気的に転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記接触させる工程では、前記パターン形成体側に前記磁気記録媒体を吸着させることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記パターン形成体には、前記パターンとして凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記接触させる工程において、前記基準値を前記磁気記録媒体のデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍとしたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
磁気情報を記録する磁気記録媒体を搬送する工程と、
搬送されてくる磁気記録媒体を、パターンが形成されたパターン形成体の当該パターンの形成面と対峙した位置に位置決めする工程と、
位置決めされた前記磁気記録媒体の振動の減衰特性に基づいて予め定められた時間が経過した後に、前記パターン形成体の前記パターンの形成面に当該磁気記録媒体を接触させる工程と、
前記パターン形成体に形成された前記パターンを、当該パターン形成体に接触させた前記磁気記録媒体に磁気的に転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
パターンが形成されたパターン形成体と、
前記パターンの形成面を露出させた状態で前記パターン形成体を保持する保持体と、
前記パターン形成体の前記パターンの形成面と対峙する位置に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を位置決めする位置決め部と、
前記位置決め部によって位置決めがなされた前記磁気記録媒体を、前記パターン形成体の前記パターンの形成面に接触させた状態で取り付けさせる取り付け部と、
前記取り付け部によって取り付けられた前記磁気記録媒体と当該パターン形成体とを挟むように配置される一対の磁石部材と、
前記位置決め部によって位置決めがなされた前記磁気記録媒体の振動の大きさを検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記取り付け部による前記パターン形成体への前記磁気記録媒体の取り付け開始時期を制御する制御部と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
【請求項７】
前記取り付け部は、前記パターン形成体に前記磁気記録媒体を吸着させて取り付けを行うことを特徴とする請求項６記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項８】
前記パターン形成体には、前記パターンとして凹凸が形成されていることを特徴とする請求項６または７記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記検出部による検出結果において前記磁気記録媒体の振動の大きさが当該磁気記録媒体のデータ面に対して平行の方向に±１．０μｍ以下となった後に、前記取り付け部による前記パターン形成体への前記磁気記録媒体の取り付けを開始させることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１０】
パターンが形成されたパターン形成体と、
前記パターンの形成面を露出させた状態で前記パターン形成体を保持する保持体と、
前記パターン形成体の前記パターンの形成面と対峙する位置に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を位置決めする位置決め部と、
前記位置決め部によって位置決めがなされた前記磁気記録媒体を、前記パターン形成体の前記パターンの形成面に接触させた状態で取り付けさせる取り付け部と、
前記取り付け部によって前記パターン形成体に取り付けられた前記磁気記録媒体および当該パターン形成体を挟んで配置される一対の磁石部材と、
前記位置決め部による前記磁気記録媒体の位置決めが完了した後の経過時間を計測する計測部と、
前記計測部による計測結果に基づいて、前記取り付け部による前記パターン形成体への前記磁気記録媒体の取り付け開始時期を制御する制御部と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記計測部による計測結果が、前記位置決め部によって位置決めがなされた前記磁気記録媒体の振動の減衰特性に基づいて予め定められた時間が経過した後に、前記取り付け部による前記パターン形成体への前記磁気記録媒体の取り付けを開始させることを特徴とする請求項１０記載の磁気記録媒体の製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１１−２２２１０２（Ｐ２０１１−２２２１０２Ａ）
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−９３２９２（Ｐ２０１０−９３２９２）
【出願日】平成２２年４月１４日（２０１０．４．１４）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月１４日（２０１０．４．１４）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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