Fターム[5D112FB00]の内容
磁気記録媒体の製造 (17,949) | 乾式薄膜製造手段 (812)
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Fターム[5D112FB00]に分類される特許
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処理装置及びインライン式成膜装置
【課題】ベーキング処理により反応容器内の真空度を短時間で高めることが可能な処理装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Wが配置される反応容器2と、反応容器2内にガスを導入するガス導入管と、反応容器2内を減圧排気する真空ポンプ15,16と、反応容器2の内面に沿って配置されたシールド板31と、シールド板31を加熱するベーキングヒータとを備え、ベーキングヒータによりシールド板31を加熱しながら、真空ポンプ15,16により前記反応容器2内を減圧排気する。
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磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体
【課題】独立し、配列された複数の凸部の頂面上に磁性層を形成することにより、記録密度を向上させることができる磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板上に、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造を形成する凸構造形成工程と、凸部の頂面に、熱処理によって強磁性体になる複数の磁性微粒子を付着させる付着工程と、凸部の頂面に付着させた磁性微粒子を熱処理する熱処理工程と、を有する。
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スタンパおよびスタンパの製造方法
【目的】正常な凹凸パターンの中間製造部材をできる限り多く製作することができる耐久性の高いスタンパを提供する。
【構成】表面が凹凸状に形成された押圧部12を有するスタンパXであって、押圧部12全体は、Tiの金属層からなり、押圧部12の表面硬さは、ビッカース硬度300Hv以上であることを特徴としている。
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