磁気記録媒体用基板
【課題】洗浄工程における磁気記録媒体用基板の浮き上がりを防止し、良好に洗浄することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】この実施形態に係る磁気記録媒体用基板は円板状の形状を有し、樹脂を母材としている。この基板の比重は、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きい。例えば、基板に無機材料のフィラー材を含有させて、比重を１．２以上にしたり、基板表面に金属層を形成することで、比重を１．２以上にしたりする。これにより、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈むため、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。その結果、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られる。
【解決手段】この実施形態に係る磁気記録媒体用基板は円板状の形状を有し、樹脂を母材としている。この基板の比重は、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きい。例えば、基板に無機材料のフィラー材を含有させて、比重を１．２以上にしたり、基板表面に金属層を形成することで、比重を１．２以上にしたりする。これにより、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈むため、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。その結果、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気ディスク記録装置の基板に用いられる磁気記録媒体用基板に関し、特に、樹脂製の基板を用いた磁気記録媒体用基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータなどに用いられる磁気ディスク記録装置には、従来からアルミニウム基板又はガラス基板が用いられている。そして、この基板上に金属磁気薄膜が形成され、金属磁気薄膜を磁気ヘッドで磁化することにより情報が記録される（例えば特許文献１から特許文献６など）。
【０００３】
例えばアルミニウム基板を用いる場合、アルミニウム板をプレス成形して円板状にした後、表面に対して高精度の研削・研磨加工及び洗浄工程を施すことにより、表面を平滑化し、続いて、めっき処理を施すことによりニッケル−リン（Ｎｉ−Ｐ）合金を基板の表面に形成する。その後、研磨加工、テクスチャー加工を施し、さらにスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００４】
また、ガラス基板を用いる場合、ガラス素材を溶融し、溶融したガラスをプレス成形し、円板状のガラス基板を作製する。そして、ガラス基板の表面に対して高精度の研削・研磨加工及び洗浄工程を施すことにより、表面を平滑化した後、アルカリの溶融塩によるイオン交換によって表面を化学強化処理し、精密洗浄工程を経た後、テクスチャー加工を施し、さらにスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００５】
ところで、磁気記録媒体用基板としてプラスチック基板などの樹脂製基板を採用する試みがなされている。この場合、樹脂製基板上に磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−５４９６５号公報
【特許文献２】特開２００３−５５００１号公報
【特許文献３】特開２０００−１６３７４０号公報
【特許文献４】特開２００４−１６４７７３号公報
【特許文献５】特開２０００−２１０１９号公報
【特許文献６】特開２００１−２９４６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、樹脂製基板を用いて磁気記録媒体を製造する場合、樹脂製基板の洗浄工程において問題があった。
【０００８】
洗浄工程においては、洗浄液（アルカリ溶液（ＮａＯＨ、ＫＯＨ）、酸溶液（塩酸、硝酸、硫酸、シュウ酸、クエン酸、酢酸）、アルカリ性洗剤液、酸性洗剤液、中性洗浄液、アルコール、エーテル、超純水、ＲＯ水など）に樹脂製基板を浸漬して樹脂製基板を洗浄している。ところが、樹脂製基板が洗浄剤から浮き上がってしまい、良好に樹脂製基板を洗浄できない問題があった。例えば、純水を用いて樹脂製基板を洗浄−濯ぎをする場合、樹脂製基板が純水から浮き上がってしまい、良好に基板を洗浄できなかった。また、樹脂製基板を揺動したり、超音波を当てて洗浄したりすると、樹脂製基板が洗浄剤から浮き上がってしまい、この場合も、良好に基板を洗浄できない問題があった。
【０００９】
そこで、従来においては、樹脂製基板を押さえつけたりして、樹脂製基板の浮き上がりを防止していた。しかしながら、樹脂製基板を搬送するケースなどに、樹脂製基板を押さえつけるための機構を取り付けたりする必要があったため、機構が複雑になり、洗浄工程において簡便な構造を採用することができない問題があった。また、治具等による過度の接触により基板そのものを損傷してしまうおそれがあった。
【００１０】
また、樹脂製基板の浮き上がりを防止するために、洗浄剤として比重の軽いフロン等の有機溶剤を用いて洗浄を行っていたが、排気設備等に関して製造設備の維持管理が複雑であり、また環境面においても問題があった。
【００１１】
さらに、ドライエッチングなどのドライプロセスでの洗浄では、基板損傷のリスクもあり、近年の情報記録媒体用基板の要求品質に対し不十分となっていた。
【００１２】
この発明は上記の問題を解決するものであり、洗浄工程における磁気記録媒体用基板の浮き上がりを防止し、良好に洗浄することが可能な磁気記録媒体用基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
この発明の第１の形態は、円板状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の比重が、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きいことを特徴とする磁気記録媒体用基板である。
【００１４】
この発明の第２の形態は、第１の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記基板の比重が１．２以上であることを特徴とする。
【００１５】
この発明の第３の形態は、第２の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記基板に無機材料のフィラー材を含有させて、前記基板の比重を１．２以上としたことを特徴とする。
【００１６】
この発明の第４の形態は、第３の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記フィラー材は、酸化物、炭化物、窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする。
【００１７】
この発明の第５の形態は、第３の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記フィラー材は、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする。
【００１８】
この発明の第６の形態は、第３の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記フィラー材は、単結晶体、多結晶体、鉱物、セラミックス、ガラスの中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする。
【００１９】
この発明の第７の形態は、第３から第６のいずれかの形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記フィラー材が前記基板の全体に占める体積の割合が、５［％］以上であることを特徴とする。
【００２０】
この発明の第８の形態は、第２の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記基板の表面に被覆層を形成して、前記基板の比重を１．２以上としたことを特徴とする。
【００２１】
この発明の第９の形態は、第８の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は非磁性の金属層、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする。
【００２２】
この発明の第１０の形態は、第８の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層はＮｉ合金層であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
この発明によると、磁気記録媒体用基板の比重が洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板が洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【００２４】
また、洗浄剤に純水を用いた場合も、磁気記録媒体用基板の比重を純水の比重よりも大きくすることで、磁気記録媒体用基板を純水に沈ませて、磁気記録媒体用基板を洗浄することが可能となる。純水は安価で環境に対する負荷も少ないため、従来における環境面の問題を解決することができ、さらに、洗浄能力が高いため、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【００２５】
また、磁気記録媒体用基板の浮き上がりを防止するために、磁気記録媒体用基板を押さえつけたりする必要がないため、洗浄工程において、複雑な機構を利用する必要がなく、簡便な機構で磁気記録媒体用基板を洗浄することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
（構成）
この発明の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成について説明する。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板は円板状の形状を有し、円板の中央に貫通孔が形成されている。また、この磁気記録媒体用基板は樹脂により構成されている。そして、この磁気記録媒体用基板は、ハードディスクなどの磁気記録媒体の基板として用いられる。
【００２７】
この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重（水に対する比重）は、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重（水に対する比重）よりも大きい。また、磁気記録媒体用基板の比重（水に対する比重）が１．２以上であることが好ましい。
【００２８】
磁気記録媒体用基板の比重が、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きいため、洗浄工程において磁気記録媒体用基板が洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。これにより、表面が清浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られる。
【００２９】
また、磁気記録媒体用基板が洗浄剤に沈むため、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に容易に浸漬させることが可能となる。そのことにより、磁気記録媒体用基板を押さえつけたりする必要がないため、洗浄工程において、複雑な機構を利用する必要がなく、簡便な機構で磁気記録媒体用基板を洗浄することが可能となる。
【００３０】
また、磁気記録媒体用基板の比重を１．２以上とすることで、酸性の洗浄剤、アルカリ性の洗浄剤、中性の洗浄剤、純水、又はアルコールの洗浄剤を用いても、磁気記録媒体用基板が洗浄剤に沈むため、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【００３１】
例えば、酸性の洗浄剤には、塩酸（比重１．１９）、過塩素酸（比重１．７７）、次亜塩素酸、硫酸（比重１．８４）、亜硫酸、硝酸（比重１．４２）、炭酸，リン酸、クロム酸、クロロスルホン酸、臭化水素酸、ほう酸、フッ化水素酸、フッ化けい酸、フッ化ほう素酸、酢酸、シュウ酸（比重１．９０）、クエン酸、オレイン酸、サリチル酸、石炭酸、酒石酸、乳酸、マレイン酸、りんご酸などから選択される１つ以上の酸性成分を純水、蒸留水などで希釈し、比重１．００から1．１０の範囲に調整した酸性洗浄剤水溶液が用いられる。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重は、これら酸性の洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。
【００３２】
また、アルカリ性の洗浄剤は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム，水酸化マグネシウム、アンモニア、テトラメチル水酸化物などから選択される1つ以上のアルカリ成分を純水、蒸留水などで希釈し、比重１．００から1．１０の範囲に調整したアルカリ性洗浄剤水溶液が用いられる。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重は、これらアルカリ性の洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。
【００３３】
また、中性の洗浄剤は、イオン性界面活性剤（直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、脂肪酸ナトリウム、脂肪酸カリウム、アルキル硫酸エステルナトリウム、アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム、アルファオレフィンスルホン酸ナトリウム 、アルキルスルホン酸ナトリウム、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウム、アルキルベタイン、アルキルアミンオキシド、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、高級アルコール硫酸エステル塩）、非イオン性界面活性剤（しょ糖脂肪酸エステルソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪族アルカノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル）などからなる界面活性剤を主体としており、その中から選択される1つ以上の界面活性剤成分を純水、蒸留水などで希釈し、比重１．００から1．１０の範囲に調整した中性洗浄剤水溶液が用いられる。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重は、これら中性の洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。
【００３４】
また、アルコールの洗浄剤には、メタノール（比重０．７９）、エタノール（比重０．７９）、イソプロピルアルコール（比重０．７８）、イソブチルアルコール（比重０．８０）、シクロヘキサノール（比重０．９４）、ヘキシルアルコール（比重０．８２）、ベンジルアルコール（比重１．０５）などが用いられる。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重は、これらアルコールの洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。
【００３５】
また、純水を用いて磁気記録媒体用基板を洗浄することができるため、従来における環境面の問題を解決することができ、さらに、高い洗浄能力が得られる。つまり、純水は、安価で安全（環境への影響が少ない）で、かつ洗浄能力が高いため、環境面と洗浄性の問題を解決することが可能となる。さらに、純水は、管理が容易であるという効果もある。
【００３６】
次に、この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の材料について説明する。磁気記録媒体用基板には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は活性線硬化性樹脂の他、様々な樹脂を用いることができる。
【００３７】
熱可塑性樹脂として、磁気記録媒体用基板には、例えば、ポリカーボネイト樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ＰＥＥＫ樹脂）、環状ポリオレフィン樹脂、メタクリルスチレン樹脂（ＭＳ樹脂）、ポリスチレン樹脂（ＰＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ＡＢＳ樹脂、ポリエステル樹脂（ＰＥＴ樹脂、ＰＢＴ樹脂など）、ポリオレフィン樹脂（ＰＥ樹脂、ＰＰ樹脂など）、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリアミド樹脂、又は、アクリル樹脂などを用いることができる。また、熱硬化性樹脂として、例えば、フェノール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂（ＢＭＣ樹脂など）、シリコン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂などを用いることができる。その他、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ樹脂）などを用いることができる。
【００３８】
活性線硬化性樹脂として、例えば、光硬化性樹脂が用いられる。光硬化性樹脂としては、例えば、光硬化性アクリルウレタン系樹脂、光硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、光硬化性エポキシアクリレート系樹脂、光硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、光硬化性エポキシ樹脂、光硬化シリコン系樹脂、又は、光硬化アクリル樹脂などを挙げることができる。
【００３９】
また、塗説された硬化前の層に活性線を照射することによって硬化するときに、光開始剤を用いて硬化反応を促進させることが好ましい。このとき光増感剤を併用しても良い。
【００４０】
また、空気中の酸素が上記硬化反応を抑制する場合は、酸素濃度を低下させる、または除去するために、例えば不活性ガス雰囲気下で活性線を照射することもできる。活性線としては、赤外線、可視光、紫外線などを適宜選択することができ、特に限定されるものではない。また、光硬化生樹脂のうち紫外線硬化性樹脂は光による硬化機能が高いため、紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。また、活性線の照射中、または前後に加熱（若しくは冷却）によって硬化反応を促進させても良い。
【００４１】
さらに、磁気記録媒体用基板には、液晶ポリマー、有機／無機ハイブリッド樹脂（例えば、高分子成分にシリコンを骨格として取り込んだもの）などを用いても良い。なお、上記に挙げた樹脂は磁気記録媒体用基板に用いられる樹脂の一例であり、この発明に係る基板がこれらの樹脂に限定されることはない。２種以上の樹脂を混合して樹脂製の基板としても良く、また、別々の層として異なる成分を隣接させた基板としても良い。
【００４２】
また、母材としての樹脂は、極力、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが高い方が望ましい。樹脂製の磁気記録媒体用基板にはスパッタリングにより磁性層が形成されるため、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇは、そのスパッタリングにおける温度以上であることが望ましい。例えば、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが１５０℃以上である樹脂を用いることが望ましく、より好ましくは２００℃以上である樹脂を用いることが望ましい。
【００４３】
耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが１５０℃以上の代表的な樹脂として、耐熱性ポリカーボネイト、シリコン樹脂、フッ素樹脂（ＰＴＦＥ，ＦＥＰ，ＥＴＦＥ）、無機フィラーを充填したフェノール、メラニン、エポキシ、ポリフェニレンスルファイド、不飽和ポリエステルなどの樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ＢＭＣ樹脂、又は、液晶ポリマーなどが挙げられる。より具体的には、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）として、ユーデル（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）として、ウルテム（日本ＧＥプラスチック）、ポリアミドイミド樹脂として、トーロン（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリイミド樹脂（熱可塑性）として、オーラム（三井化学）、ポリイミド（熱硬化性）として、ユーピレックス（宇部興産）、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂として、ＰＢＩ／Ｃｅｌａｚｏｌｅ（クラリアントジャパン）が挙げられる。また、液晶ポリマーとして、スミカスーパーＬＣＰ（住友化学）、ポリエーテルエーテルケトンとして、ビクトレックス（ビクトレックスＭＣ）が挙げられる。
【００４４】
樹脂製の基板は、基板に対応した形状を有する金型を用いて、射出成形法、注型成形法、シート成形法、射出圧縮成形法、又は圧縮成形法などの成形法によって製造することができる。さらに、必要に応じて、成形した基板をカッティングし、打ち抜き、又はプレス成形を行ってこの実施形態に係る磁気記録媒体用基板を製造しても良い。
【００４５】
また、上記射出成形法などによりこの実施形態に係る磁気記録媒体用基板を成形することで、基板の内径の寸法、外径の寸法、内周端部の形状、又は外周端部の形状の少なくとも１つを同時に形成することができる。つまり、基板の内径の寸法や外径の寸法に合わせて、射出成形法などに用いられる金型を作製し、その金型を用いることで、内径寸法や外径寸法が樹脂成形時に完成されることになる。また、基板の内周端部の形状や外周端部の形状に合わせて、金型を作製し、その金型を用いることで、内周端部の形状や外周端部の形状が樹脂成形時に形成されることになる。
【００４６】
また、以上の説明は、基板が単一の樹脂により構成されているものを例として行ったが、基板は単一の樹脂で構成されているものに限らず、金属やガラスなどの非磁性材料の表面を樹脂層で被覆することにより構成されるものでも良い。この場合、樹脂で被覆される非磁性材料としては、樹脂、金属、セラミックス、ガラス、ガラスセラミックス、又は、有機無機複合材など、基板として適用できる様々な素材を用いることができる。なお、基板は単一の樹脂で構成されている方が、製造工程をより簡略化できるという効果があるため、好ましい。
【００４７】
また、磁気記録媒体用基板として、吸湿による基板の寸法変化による磁気ヘッドとの位置ずれを防ぐために、吸湿性が少ない樹脂を用いることが望ましい。吸湿性の少ない樹脂の代表としては、ポリカーボネイトや環状ポリオレフィン樹脂がある。
【００４８】
次に、この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の具体的な構成について説明する。ここでは、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする手法として、３つの形態について説明する。
【００４９】
（第１の形態）
まず、第１の形態について説明する。この第１の形態では、樹脂材料に比重が大きい材料を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。
【００５０】
例えば、無機材料のフィラー材を樹脂材料に含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。
【００５１】
フィラー材の材料としては、金属、酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物、ガラス、ガラスファイバー、又はカーボンファイバーなどが用いられる。具体的には、フィラー材の材料として、Ｓｉ（シリコン）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｃ（カーボン）、Ｓｎ（錫）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｔｉ（チタン）、Ｉｎ（インジウム）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｂａ（バリウム）、Ｌａ（ランタン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｗ（タングステン）、Ｖ（バナジウム）、又はＳｒ（ストロンチウム）などを用いることができる。さらに、これらを主成分とする化合物、例えば、酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物などであっても良い。具体的には、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＳｒＣＯ３、Ｃ、ＡｌＰＯ４、ＣａＣＯ３、ＩＴＯ、ＺｎＳ、ＭｇＦ２などがフィラー材として用いられる。
【００５２】
また、無機材料としては、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、又はガラスなどの酸化物や、ＳｉＣ、ＷＣなどの炭化物、ＢＮ、ＡｌＮ、ＴｉＮなどの窒化物などを用いることが好ましい。
【００５３】
なお、上述したフィラー材の材料の例は無機物質の例であるが、有機無機の複合物質をフィラー材の材料に用いても良く、さらに粒子状、繊維状、円柱状のものを組み合わせて使用しても良い。また、２種類以上の材料を同時にフィラー材として使用しても良い。
【００５４】
また、粒子状フィラー材場合、粒径は５０μｍ以下であることが好ましい。繊維状フィラー材の場合、繊維径が２０μｍ以下、繊維長さが５ｍｍ以下であることが好ましい。円柱状フィラー材の場合、円柱の長さと円柱直径の大きい方が５０μｍ以下であることが好ましい。
【００５５】
さらに、樹脂製基板の全体に占める無機材料の体積の割合が、１．０［％］以上であることが好ましい。これ以下では、フィラーが均質に基板全体に分散されず、比重の偏りが発生する恐れがある。体積比で１．０％以上含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を均質に１．２以上とすることができるため、洗浄剤の比重よりも大きくすることが可能となる。
【００５６】
なお、無機材料の種類や体積の割合を変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、無機材料の種類や体積の割合を変えて、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくすればよい。
【００５７】
（第２の形態）
次に、第２の形態について説明する。この第２の形態は、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。
【００５８】
被覆層には、金属層、磁性層（常磁性層、軟磁性層、又は強磁性層）、ガラス層、セラミック層等の酸化物層、又は、無機層と有機層との複合層（ハイブリッド層）が用いられる。被覆層の具体的な成分として、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｃａ（カルシウム）、Ｓｒ（ストロンチウム）Ｂａ（バリウム）、Ｔｉ（チタン）、Ｓｃ（スカンジウム）、Ｖ（バナジウム）、Ｃｒ（クロム）、Ｍｎ（マンガン）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｏ（コバルト）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｕ（銅）、Ｚｎ（亜鉛）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｓｉ（シリコン）、Ｐ（リン）、Ｇａ（ガリウム）、Ｇｅ（ゲルマニウム）、Ａｓ（砒素）、Ｓｅ（セレン）、Ｙ（イットリウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｒｕ（ルテニウム）Ｒｈ（ロジウム）、Ｐｄ（パラジウム）、Ａｇ（銀）、Ｃｄ（カドミウム）、Ｉｎ（インジウム）、Ｓｎ（錫）、Ｓｂ（アンチモン）、Ｔｅ（テルル）、Ｌａ（ランタン）、Ｃｅ（セリウム）、Ｐｒ（プラセオジウム）、Ｎｄ（ネオジウム）、Ｐｍ（プロメチウム）、Ｓｍ（サマリウム）、Ｅｕ（ユーロピウム）、Ｇｄ（ガドリウム）、Ｔｂ（テルビウム）、Ｄｙ（ジスプロシウム）、Ｈｏ（ホルミウム）、Ｅｒ（エルビウム）、Ｔｍ（ツリウム）、Ｙｂ（イッテルビウム）、Ｌｕ（ルテチウム）、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｔａ（タンタル）、Ｗ（タングステン）、Ｒｅ（レニウム）、Ｏｓ（オスミウム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｐｔ（白金）、Ａｕ（金）、Ｔｌ（タリウム）、Ｐｂ（鉛）、Ｂｉ（ビスマス）、Ｐｏ（ポロニウム）、などの元素を単体若しくは複数組み合わせて使用してもよく、又はそれらの酸化物、窒化物、炭化物を単体若しくは複数組み合わせて使用してもよい。
【００５９】
また、合金層として、Ｎｉ−Ｐ（ニッケル−リン）合金層などを樹脂製基板の表面に形成してもよい。
【００６０】
さらに、高密度化技術として期待の大きい垂直磁気記録媒体においては、基板表面に対して垂直に磁性体を並べる必要があり、そのためには、磁性層と基板との間に軟磁性層を形成する必要がある。この軟磁性層の代表的な合金として、Ｎｉ−Ｃｏ（ニッケル−コバルト）合金がある。被覆層としてＮｉ−Ｃｏ合金を用いることにより、垂直磁気記録媒体における軟磁性層としての機能も果たすことが可能となる。
【００６１】
被覆層は、電気めっき又は化学めっきなどのめっき法によって樹脂製基板の表面上に形成することが可能である。その他、スパッタリング、真空蒸着、又はＣＶＤ法などによっても形成することが可能である。また、バーコート法、ディップコート（浸漬引き上げ）法、スピンコート法、スプレー法、又は印刷法などの塗布法によって形成してもよい。
【００６２】
なお、この実施形態に係る磁気記録媒体用基板を用いて磁気記録媒体を作製する場合、表面に形成された被覆層の上に磁性層を形成して磁気記録媒体とする。例えば、表面上に形成された被覆層を研磨し、研磨後の被覆層上にスパッタリングなどによりＣｏ系合金などの磁性層を形成して磁気記録媒体とする。
【００６３】
また、樹脂製基板には、表面に形成される被覆層との密着度が高い樹脂を用いることが好ましい。例えば、表面に極性基が存在する樹脂や、表面粗さＲａが大きい樹脂や、フィラー材が含まれる樹脂や、表面に溝が設けられた樹脂などを基板の材料として用いることで、樹脂製基板と被覆層との密着度を高めることが可能となる。
【００６４】
（第３の形態）
次に、第３の形態について説明する。この第３の形態は、比重が大きい樹脂を用いて磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。この場合、さらにフィラー材の添加や被複層の形成を組み合わせることよって、より一層の効果を得ることも出来る。
【００６５】
例えば、フェノール樹脂（比重１．２１〜１．３０）、メラニン樹脂（比重１．４８）、アリル樹脂（比重１．３０〜１．４０）、ポリイミド樹脂（比重１．３３〜１．５１）、高密度型エポキシ樹脂（比重１．２５〜１．４０）。高密度型シリコーン樹脂（比重１．２２〜１．５０）、高密度型不飽和ポリエステル樹脂（比重１．２４〜１．４６）、全芳香族ポリエステル樹脂（比重１．３５）、ポリアミドイミド樹脂（比重１．４１）、ポリエーテルイミド樹脂（比重１．２７）、飽和ポリエステル樹脂（比重１．３４〜１．３９）、ポリアセタール樹脂（比重１．４２）、ポリエーテルスルフォン樹脂（比重１．６８）ポリフェニレンスルファイド樹脂（比重１．３４）、ポリスルフォン樹脂（比重１．２４）テトラフルオロエチレン樹脂（比重２．１４〜２．２０）トリフルオロエチレン樹脂（比重２．１０〜２．２０）、ポリ弗化ビニリデン樹脂（比重１．７５〜１．７８）を用いることで所望の特性を発揮できる。
【００６６】
［実施例］
次に、この発明の具体的な実施例について説明する。
【００６７】
（実施例１）
実施例１では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させことで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。
【００６８】
（樹脂製基板）
基板の原料としてポリカーボネイト樹脂を用い、その原料に無機材料のフィラー材を含有させた。そして、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。ポリカーボネイト樹脂として、パンライト（帝人社製）を用いた。この磁気記録媒体用基板の寸法を以下に示す。
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
基板の厚さ：０．４［ｍｍ］
【００６９】
（フィラー材）
実施例１で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラー材の材料：ガラスパウダー
フィラー材の粒径：平均粒径１２μｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：２５％
【００７０】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．４５になった。
【００７１】
（評価）
実施例１に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【００７２】
中性の洗浄剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテルを主成分とする市販の中性洗剤サンウォッシュＬＨ−３０（ライオン社製）を蒸留水で希釈し、比重０．９９として用いた。
【００７３】
実施例１に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．４５であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００７４】
また、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００７５】
（実施例２）
実施例２では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例２に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【００７６】
（フィラー材）
実施例２では、フィラー材の材料を変えた。実施例２で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラー材の材料：石英（ＳｉＯ２）ファイバー
フィラー材の寸法：繊維径４μｍ、平均長さ０．７０ｍｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：３０％
【００７７】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．６５になった。
【００７８】
（評価）
実施例２に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。中性の洗浄剤は、実施例１と同じものを用いた。
【００７９】
実施例２に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．６５であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００８０】
また、実施例２に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００８１】
（実施例３）
実施例３では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例３に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【００８２】
（フィラー材）
実施例３では、フィラー材の材料を変えた。実施例３で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラー材の材料：アルミナ粒子
フィラー材の粒径：平均粒径３０μｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：２５％
【００８３】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．４５になった。
【００８４】
（評価）
実施例３に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【００８５】
中性の洗浄剤としては、クリンスルーＫＳ７４０５（花王社製）を純水で希釈し、比重０．９８として用いた。
【００８６】
実施例３に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．４５であり、中性の洗浄剤の比重は０．９８であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００８７】
また、実施例３に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００８８】
（実施例４）
実施例４では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例４に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【００８９】
（フィラー材）
実施例４では、フィラー材の材料を変えた。実施例４で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラー材の材料：ＺｒＯ２（酸化ジルコニウム）
フィラー材の粒径：平均粒径３０μｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：１８％
【００９０】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．７８になった。
【００９１】
（評価）
実施例４に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【００９２】
中性の洗浄剤としては、直鎖アルキルベンゼン系界面活性剤を主成分としたアルワンコンク（アルタン社製）をイオン交換水で希釈し、比重１．００として用いた。
【００９３】
実施例４に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．７８であり、中性の洗浄剤の比重は１．００であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００９４】
また、実施例４に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００９５】
（実施例５）
実施例５では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例５に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【００９６】
（フィラー材）
実施例５では、フィラー材の材料を変えた。実施例５で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラーの材料：ガラスファイバー
フィラーの寸法：ファイバー径１２μｍ、ファイバー長さ２ｍｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：４５％
【００９７】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．６２になった。
【００９８】
（評価）
実施例５に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。中性の洗浄剤は、実施例１と同じものを用いた。
【００９９】
実施例５に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．６２であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１００】
また、実施例５に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１０１】
（実施例６）
実施例６では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例６に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【０１０２】
（フィラー材）
実施例６では、フィラー材の材料を変えた。実施例６で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラーの材料：ＳｉＣ
フィラーの粒径：２μｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：２４％
【０１０３】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．６３になった。
【０１０４】
（評価）
実施例６に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。中性の洗浄剤は、実施例１と同じものを用いた。
【０１０５】
実施例６に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．６３であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１０６】
また、実施例６に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１０７】
以上のように、実施例１から実施例６によると、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくすることができるため、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈めることができ、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られる。
【０１０８】
なお、フィラー材の体積の割合を変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、フィラーの占有体積の割合を変えればよい。
【０１０９】
また、上記実施例１から実施例６では、洗浄剤として中性の洗浄剤を用いたが、酸性の洗浄剤やアルカリ性の洗浄剤を用いた場合も、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈ませることができ、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができる。例えば、酸性の洗浄剤として、希塩酸溶液（比重１．０１）、炭酸水溶液（比重１．０１）を用い、アルカリ性の洗浄剤に、水酸化カルシウム水溶液（比重１．０３）、水酸化カリウム水溶液（比重１．０２）を用いることで、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈ませることができる。
【０１１０】
また、上記実施例１から実施例６では、樹脂製基板の材料としてポリカーボネイト樹脂を用いたが、上記実施形態で挙げた他の樹脂を用いても同様の効果を奏することができる。
【０１１１】
（実施例７）
実施例７では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。
【０１１２】
（樹脂製基板）
この実施例７では、基板の原料としてＡＢＳ樹脂を用い、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。ＡＢＳ樹脂として、トヨラック（東レ社製）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１１３】
（被覆層）
実施例７では、被覆層として非磁性の金属層を樹脂製基板に形成した。実施例７では、無電解めっき法により、樹脂製基板の表面にＮｉ−Ｐ合金層を形成した。
Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さ：１３μｍ
【０１１４】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．３５になった。
【０１１５】
（評価）
実施例７に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。
【０１１６】
（超音波洗浄プロセス）
超音波洗浄プロセスの条件を以下に示す。
超音波洗浄装置：島田理化社製 ＳＵＣ Ｕ−３０２
洗浄剤：純水
超音波洗浄の条件：周波数２８ｋＨｚ、出力２００Ｗ
【０１１７】
実施例７に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１１８】
（実施例８）
実施例８では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例７と同様に、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例８に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１１９】
（被覆層）
実施例８では、実施例７と同様に、無電解めっき法によって、樹脂製基板の表面にＮｉ−Ｐ合金層を形成した。実施例８では、Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さを変えた。
Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さ：５０μｍ
【０１２０】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、２．２０になった。
【０１２１】
（評価）
実施例８に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１２２】
実施例８に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１２３】
（実施例９）
実施例９では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例７と同様に、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例９に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１２４】
（被覆層）
実施例９では、実施例７と同様に、無電解めっき法によって、樹脂製基板の表面にＮｉ−Ｐ合金層を形成した。実施例９では、Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さを変えた。
Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さ：８０μｍ
【０１２５】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、２．７２になった。
【０１２６】
（評価）
実施例９に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１２７】
実施例９に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１２８】
以上のように、実施例７から実施例９によると、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくすることができるため、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈めることができ、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【０１２９】
なお、Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さを変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さを変えればよい。
【０１３０】
（実施例１０）
実施例１０では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例１０に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１３１】
（被覆層）
実施例１０では、樹脂製基板の表面に形成する被覆層を変えた。具体的には、無電解めっき法により、樹脂製基板の表面にＮｉ層を形成した。
Ｎｉ層の厚さ：３０μｍ
【０１３２】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、２．０５になった。
【０１３３】
（評価）
実施例１０に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１３４】
実施例１０に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１３５】
なお、Ｎｉ層の厚さを変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、Ｎｉ層の厚さを変えればよい。
【０１３６】
（実施例１１）
実施例１１では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例１１に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１３７】
（被覆層）
実施例１１では、樹脂製基板の表面に形成する被覆層を変えた。具体的には、無電解めっき法により、樹脂製基板の表面にＣｕ層を形成した。
Ｃｕ合金層の厚さ：４０μｍ
【０１３８】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、２．２５になった。
【０１３９】
（評価）
実施例１１に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１４０】
実施例１１に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１４１】
なお、Ｃｕ層の厚さを変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、Ｃｕ層の厚さを変えればよい。
【０１４２】
（実施例１２）
実施例１２では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例１２に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１４３】
（被覆層）
実施例１２では、樹脂製基板の表面に形成する被覆層を変えた。具体的には、無電解めっき法により、樹脂製基板の表面に亜鉛層を形成した。
亜鉛層の厚さ：１０μｍ
【０１４４】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．２９になった。
【０１４５】
（評価）
実施例１２に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１４６】
実施例１２に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１４７】
なお、亜鉛層の厚さを変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、亜鉛層の厚さを変えればよい。
【０１４８】
また、上記実施例７から実施例１２では、洗浄剤として純水を用いたが、洗浄剤に中性の洗浄剤、酸性の洗浄剤、又はアルカリ性の洗浄剤を用いた場合も、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈ませることができ、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができる。
【０１４９】
なお、上記実施例７から実施例１２では、樹脂製基板の材料としてＡＢＳ樹脂を用いたが、上記実施形態で挙げた他の樹脂を用いても同様の効果を奏することができる。
【０１５０】
（実施例１３）
実施例１３では、上記第３の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、比重が大きい樹脂を用いて磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。なお、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板と同じにした。
【０１５１】
（樹脂製基板）
基板の原料として、比重が１．３９のポリイミド樹脂を用い、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。例えば、ポリイミド樹脂として、スーパーオーラム（三井化学社製）を用いた。
【０１５２】
上記の樹脂によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．４０になった。
【０１５３】
（評価）
実施例１３に係る磁気記録媒体用基板を、実施例１の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【０１５４】
実施例１３に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．４０であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１５５】
また、実施例１３に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１５６】
（実施例１４）
実施例１４では、上記第３の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、比重が大きい樹脂を用いて磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重より大きくする。なお、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板と同じにした。
【０１５７】
（樹脂製基板）
基板の原料として、比重が１．４２のポリブチレンテレフタレート樹脂を用い、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。例えば、ポリブチレンテレフタレート樹脂としてノバデュラン５０１０Ｎ５（三菱エンジニアリングプラスチックス社製）を用いた。
【０１５８】
上記の樹脂によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．４２になった。
【０１５９】
（評価）
実施例１４に係る磁気記録媒体用基板を、実施例１の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【０１６０】
実施例１４に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．４２であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１６１】
また、実施例１４に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１６２】
（実施例１５）
実施例１５では、上記第３の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、比重が大きい樹脂を用いて磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重より大きくする。なお、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板と同じにした。
【０１６３】
（樹脂製基板）
基板の原料として、比重が１．３５の全芳香族ポリエステル樹脂を用い、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。例えば、全芳香族ポリエステル樹脂として、スミカスーパーＬＣＰ（住友化学社製）を用いた。
【０１６４】
上記の樹脂によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．３５になった。
【０１６５】
（評価）
実施例１５に係る磁気記録媒体用基板を、実施例１の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【０１６６】
実施例１５に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．３５であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１６７】
また、実施例１５に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１６８】
以上のように、実施例１３から実施例１５によると、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくすることができるため、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈めることができ、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【０１６９】
なお、この発明は、上記実施例１３から実施例１５に挙げた樹脂に限定されず、比重が洗浄剤よりも大きい樹脂を用いることで、この発明の効果を奏することができる。
【０１７０】
（比較例）
次に、上記実施例に対する比較例について説明する。この比較例に係る樹脂製基板では、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【０１７１】
（比重）
この比較例では、射出成形により製造された磁気記録媒体用基板における比重を測定した。この比較例では、比重は１．１０になった。
【０１７２】
（評価）
比較例に係る磁気記録媒体用基板を、実施例１の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。比較例に係る磁気記録媒体用基板は、比重が１．１０であるため、洗浄剤や純水の比重との差が小さくなる。その結果、洗浄工程において洗浄キャリアーから浮いてしまい、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが困難になる。
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気ディスク記録装置の基板に用いられる磁気記録媒体用基板に関し、特に、樹脂製の基板を用いた磁気記録媒体用基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータなどに用いられる磁気ディスク記録装置には、従来からアルミニウム基板又はガラス基板が用いられている。そして、この基板上に金属磁気薄膜が形成され、金属磁気薄膜を磁気ヘッドで磁化することにより情報が記録される（例えば特許文献１から特許文献６など）。
【０００３】
例えばアルミニウム基板を用いる場合、アルミニウム板をプレス成形して円板状にした後、表面に対して高精度の研削・研磨加工及び洗浄工程を施すことにより、表面を平滑化し、続いて、めっき処理を施すことによりニッケル−リン（Ｎｉ−Ｐ）合金を基板の表面に形成する。その後、研磨加工、テクスチャー加工を施し、さらにスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００４】
また、ガラス基板を用いる場合、ガラス素材を溶融し、溶融したガラスをプレス成形し、円板状のガラス基板を作製する。そして、ガラス基板の表面に対して高精度の研削・研磨加工及び洗浄工程を施すことにより、表面を平滑化した後、アルカリの溶融塩によるイオン交換によって表面を化学強化処理し、精密洗浄工程を経た後、テクスチャー加工を施し、さらにスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００５】
ところで、磁気記録媒体用基板としてプラスチック基板などの樹脂製基板を採用する試みがなされている。この場合、樹脂製基板上に磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−５４９６５号公報
【特許文献２】特開２００３−５５００１号公報
【特許文献３】特開２０００−１６３７４０号公報
【特許文献４】特開２００４−１６４７７３号公報
【特許文献５】特開２０００−２１０１９号公報
【特許文献６】特開２００１−２９４６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、樹脂製基板を用いて磁気記録媒体を製造する場合、樹脂製基板の洗浄工程において問題があった。
【０００８】
洗浄工程においては、洗浄液（アルカリ溶液（ＮａＯＨ、ＫＯＨ）、酸溶液（塩酸、硝酸、硫酸、シュウ酸、クエン酸、酢酸）、アルカリ性洗剤液、酸性洗剤液、中性洗浄液、アルコール、エーテル、超純水、ＲＯ水など）に樹脂製基板を浸漬して樹脂製基板を洗浄している。ところが、樹脂製基板が洗浄剤から浮き上がってしまい、良好に樹脂製基板を洗浄できない問題があった。例えば、純水を用いて樹脂製基板を洗浄−濯ぎをする場合、樹脂製基板が純水から浮き上がってしまい、良好に基板を洗浄できなかった。また、樹脂製基板を揺動したり、超音波を当てて洗浄したりすると、樹脂製基板が洗浄剤から浮き上がってしまい、この場合も、良好に基板を洗浄できない問題があった。
【０００９】
そこで、従来においては、樹脂製基板を押さえつけたりして、樹脂製基板の浮き上がりを防止していた。しかしながら、樹脂製基板を搬送するケースなどに、樹脂製基板を押さえつけるための機構を取り付けたりする必要があったため、機構が複雑になり、洗浄工程において簡便な構造を採用することができない問題があった。また、治具等による過度の接触により基板そのものを損傷してしまうおそれがあった。
【００１０】
また、樹脂製基板の浮き上がりを防止するために、洗浄剤として比重の軽いフロン等の有機溶剤を用いて洗浄を行っていたが、排気設備等に関して製造設備の維持管理が複雑であり、また環境面においても問題があった。
【００１１】
さらに、ドライエッチングなどのドライプロセスでの洗浄では、基板損傷のリスクもあり、近年の情報記録媒体用基板の要求品質に対し不十分となっていた。
【００１２】
この発明は上記の問題を解決するものであり、洗浄工程における磁気記録媒体用基板の浮き上がりを防止し、良好に洗浄することが可能な磁気記録媒体用基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
この発明の第１の形態は、円板状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の比重が、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きいことを特徴とする磁気記録媒体用基板である。
【００１４】
この発明の第２の形態は、第１の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記基板の比重が１．２以上であることを特徴とする。
【００１５】
この発明の第３の形態は、第２の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記基板に無機材料のフィラー材を含有させて、前記基板の比重を１．２以上としたことを特徴とする。
【００１６】
この発明の第４の形態は、第３の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記フィラー材は、酸化物、炭化物、窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする。
【００１７】
この発明の第５の形態は、第３の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記フィラー材は、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする。
【００１８】
この発明の第６の形態は、第３の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記フィラー材は、単結晶体、多結晶体、鉱物、セラミックス、ガラスの中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする。
【００１９】
この発明の第７の形態は、第３から第６のいずれかの形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記フィラー材が前記基板の全体に占める体積の割合が、５［％］以上であることを特徴とする。
【００２０】
この発明の第８の形態は、第２の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記基板の表面に被覆層を形成して、前記基板の比重を１．２以上としたことを特徴とする。
【００２１】
この発明の第９の形態は、第８の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は非磁性の金属層、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする。
【００２２】
この発明の第１０の形態は、第８の形態に係る磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層はＮｉ合金層であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
この発明によると、磁気記録媒体用基板の比重が洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板が洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【００２４】
また、洗浄剤に純水を用いた場合も、磁気記録媒体用基板の比重を純水の比重よりも大きくすることで、磁気記録媒体用基板を純水に沈ませて、磁気記録媒体用基板を洗浄することが可能となる。純水は安価で環境に対する負荷も少ないため、従来における環境面の問題を解決することができ、さらに、洗浄能力が高いため、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【００２５】
また、磁気記録媒体用基板の浮き上がりを防止するために、磁気記録媒体用基板を押さえつけたりする必要がないため、洗浄工程において、複雑な機構を利用する必要がなく、簡便な機構で磁気記録媒体用基板を洗浄することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
（構成）
この発明の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成について説明する。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板は円板状の形状を有し、円板の中央に貫通孔が形成されている。また、この磁気記録媒体用基板は樹脂により構成されている。そして、この磁気記録媒体用基板は、ハードディスクなどの磁気記録媒体の基板として用いられる。
【００２７】
この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重（水に対する比重）は、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重（水に対する比重）よりも大きい。また、磁気記録媒体用基板の比重（水に対する比重）が１．２以上であることが好ましい。
【００２８】
磁気記録媒体用基板の比重が、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きいため、洗浄工程において磁気記録媒体用基板が洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。これにより、表面が清浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られる。
【００２９】
また、磁気記録媒体用基板が洗浄剤に沈むため、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に容易に浸漬させることが可能となる。そのことにより、磁気記録媒体用基板を押さえつけたりする必要がないため、洗浄工程において、複雑な機構を利用する必要がなく、簡便な機構で磁気記録媒体用基板を洗浄することが可能となる。
【００３０】
また、磁気記録媒体用基板の比重を１．２以上とすることで、酸性の洗浄剤、アルカリ性の洗浄剤、中性の洗浄剤、純水、又はアルコールの洗浄剤を用いても、磁気記録媒体用基板が洗浄剤に沈むため、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【００３１】
例えば、酸性の洗浄剤には、塩酸（比重１．１９）、過塩素酸（比重１．７７）、次亜塩素酸、硫酸（比重１．８４）、亜硫酸、硝酸（比重１．４２）、炭酸，リン酸、クロム酸、クロロスルホン酸、臭化水素酸、ほう酸、フッ化水素酸、フッ化けい酸、フッ化ほう素酸、酢酸、シュウ酸（比重１．９０）、クエン酸、オレイン酸、サリチル酸、石炭酸、酒石酸、乳酸、マレイン酸、りんご酸などから選択される１つ以上の酸性成分を純水、蒸留水などで希釈し、比重１．００から1．１０の範囲に調整した酸性洗浄剤水溶液が用いられる。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重は、これら酸性の洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。
【００３２】
また、アルカリ性の洗浄剤は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム，水酸化マグネシウム、アンモニア、テトラメチル水酸化物などから選択される1つ以上のアルカリ成分を純水、蒸留水などで希釈し、比重１．００から1．１０の範囲に調整したアルカリ性洗浄剤水溶液が用いられる。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重は、これらアルカリ性の洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。
【００３３】
また、中性の洗浄剤は、イオン性界面活性剤（直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、脂肪酸ナトリウム、脂肪酸カリウム、アルキル硫酸エステルナトリウム、アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム、アルファオレフィンスルホン酸ナトリウム 、アルキルスルホン酸ナトリウム、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウム、アルキルベタイン、アルキルアミンオキシド、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、高級アルコール硫酸エステル塩）、非イオン性界面活性剤（しょ糖脂肪酸エステルソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪族アルカノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル）などからなる界面活性剤を主体としており、その中から選択される1つ以上の界面活性剤成分を純水、蒸留水などで希釈し、比重１．００から1．１０の範囲に調整した中性洗浄剤水溶液が用いられる。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重は、これら中性の洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。
【００３４】
また、アルコールの洗浄剤には、メタノール（比重０．７９）、エタノール（比重０．７９）、イソプロピルアルコール（比重０．７８）、イソブチルアルコール（比重０．８０）、シクロヘキサノール（比重０．９４）、ヘキシルアルコール（比重０．８２）、ベンジルアルコール（比重１．０５）などが用いられる。この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の比重は、これらアルコールの洗浄剤の比重よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈み、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。
【００３５】
また、純水を用いて磁気記録媒体用基板を洗浄することができるため、従来における環境面の問題を解決することができ、さらに、高い洗浄能力が得られる。つまり、純水は、安価で安全（環境への影響が少ない）で、かつ洗浄能力が高いため、環境面と洗浄性の問題を解決することが可能となる。さらに、純水は、管理が容易であるという効果もある。
【００３６】
次に、この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の材料について説明する。磁気記録媒体用基板には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は活性線硬化性樹脂の他、様々な樹脂を用いることができる。
【００３７】
熱可塑性樹脂として、磁気記録媒体用基板には、例えば、ポリカーボネイト樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ＰＥＥＫ樹脂）、環状ポリオレフィン樹脂、メタクリルスチレン樹脂（ＭＳ樹脂）、ポリスチレン樹脂（ＰＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ＡＢＳ樹脂、ポリエステル樹脂（ＰＥＴ樹脂、ＰＢＴ樹脂など）、ポリオレフィン樹脂（ＰＥ樹脂、ＰＰ樹脂など）、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリアミド樹脂、又は、アクリル樹脂などを用いることができる。また、熱硬化性樹脂として、例えば、フェノール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂（ＢＭＣ樹脂など）、シリコン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂などを用いることができる。その他、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ樹脂）などを用いることができる。
【００３８】
活性線硬化性樹脂として、例えば、光硬化性樹脂が用いられる。光硬化性樹脂としては、例えば、光硬化性アクリルウレタン系樹脂、光硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、光硬化性エポキシアクリレート系樹脂、光硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、光硬化性エポキシ樹脂、光硬化シリコン系樹脂、又は、光硬化アクリル樹脂などを挙げることができる。
【００３９】
また、塗説された硬化前の層に活性線を照射することによって硬化するときに、光開始剤を用いて硬化反応を促進させることが好ましい。このとき光増感剤を併用しても良い。
【００４０】
また、空気中の酸素が上記硬化反応を抑制する場合は、酸素濃度を低下させる、または除去するために、例えば不活性ガス雰囲気下で活性線を照射することもできる。活性線としては、赤外線、可視光、紫外線などを適宜選択することができ、特に限定されるものではない。また、光硬化生樹脂のうち紫外線硬化性樹脂は光による硬化機能が高いため、紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。また、活性線の照射中、または前後に加熱（若しくは冷却）によって硬化反応を促進させても良い。
【００４１】
さらに、磁気記録媒体用基板には、液晶ポリマー、有機／無機ハイブリッド樹脂（例えば、高分子成分にシリコンを骨格として取り込んだもの）などを用いても良い。なお、上記に挙げた樹脂は磁気記録媒体用基板に用いられる樹脂の一例であり、この発明に係る基板がこれらの樹脂に限定されることはない。２種以上の樹脂を混合して樹脂製の基板としても良く、また、別々の層として異なる成分を隣接させた基板としても良い。
【００４２】
また、母材としての樹脂は、極力、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが高い方が望ましい。樹脂製の磁気記録媒体用基板にはスパッタリングにより磁性層が形成されるため、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇは、そのスパッタリングにおける温度以上であることが望ましい。例えば、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが１５０℃以上である樹脂を用いることが望ましく、より好ましくは２００℃以上である樹脂を用いることが望ましい。
【００４３】
耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが１５０℃以上の代表的な樹脂として、耐熱性ポリカーボネイト、シリコン樹脂、フッ素樹脂（ＰＴＦＥ，ＦＥＰ，ＥＴＦＥ）、無機フィラーを充填したフェノール、メラニン、エポキシ、ポリフェニレンスルファイド、不飽和ポリエステルなどの樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ＢＭＣ樹脂、又は、液晶ポリマーなどが挙げられる。より具体的には、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）として、ユーデル（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）として、ウルテム（日本ＧＥプラスチック）、ポリアミドイミド樹脂として、トーロン（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリイミド樹脂（熱可塑性）として、オーラム（三井化学）、ポリイミド（熱硬化性）として、ユーピレックス（宇部興産）、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂として、ＰＢＩ／Ｃｅｌａｚｏｌｅ（クラリアントジャパン）が挙げられる。また、液晶ポリマーとして、スミカスーパーＬＣＰ（住友化学）、ポリエーテルエーテルケトンとして、ビクトレックス（ビクトレックスＭＣ）が挙げられる。
【００４４】
樹脂製の基板は、基板に対応した形状を有する金型を用いて、射出成形法、注型成形法、シート成形法、射出圧縮成形法、又は圧縮成形法などの成形法によって製造することができる。さらに、必要に応じて、成形した基板をカッティングし、打ち抜き、又はプレス成形を行ってこの実施形態に係る磁気記録媒体用基板を製造しても良い。
【００４５】
また、上記射出成形法などによりこの実施形態に係る磁気記録媒体用基板を成形することで、基板の内径の寸法、外径の寸法、内周端部の形状、又は外周端部の形状の少なくとも１つを同時に形成することができる。つまり、基板の内径の寸法や外径の寸法に合わせて、射出成形法などに用いられる金型を作製し、その金型を用いることで、内径寸法や外径寸法が樹脂成形時に完成されることになる。また、基板の内周端部の形状や外周端部の形状に合わせて、金型を作製し、その金型を用いることで、内周端部の形状や外周端部の形状が樹脂成形時に形成されることになる。
【００４６】
また、以上の説明は、基板が単一の樹脂により構成されているものを例として行ったが、基板は単一の樹脂で構成されているものに限らず、金属やガラスなどの非磁性材料の表面を樹脂層で被覆することにより構成されるものでも良い。この場合、樹脂で被覆される非磁性材料としては、樹脂、金属、セラミックス、ガラス、ガラスセラミックス、又は、有機無機複合材など、基板として適用できる様々な素材を用いることができる。なお、基板は単一の樹脂で構成されている方が、製造工程をより簡略化できるという効果があるため、好ましい。
【００４７】
また、磁気記録媒体用基板として、吸湿による基板の寸法変化による磁気ヘッドとの位置ずれを防ぐために、吸湿性が少ない樹脂を用いることが望ましい。吸湿性の少ない樹脂の代表としては、ポリカーボネイトや環状ポリオレフィン樹脂がある。
【００４８】
次に、この実施形態に係る磁気記録媒体用基板の具体的な構成について説明する。ここでは、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする手法として、３つの形態について説明する。
【００４９】
（第１の形態）
まず、第１の形態について説明する。この第１の形態では、樹脂材料に比重が大きい材料を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。
【００５０】
例えば、無機材料のフィラー材を樹脂材料に含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。
【００５１】
フィラー材の材料としては、金属、酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物、ガラス、ガラスファイバー、又はカーボンファイバーなどが用いられる。具体的には、フィラー材の材料として、Ｓｉ（シリコン）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｃ（カーボン）、Ｓｎ（錫）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｔｉ（チタン）、Ｉｎ（インジウム）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｂａ（バリウム）、Ｌａ（ランタン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｗ（タングステン）、Ｖ（バナジウム）、又はＳｒ（ストロンチウム）などを用いることができる。さらに、これらを主成分とする化合物、例えば、酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物などであっても良い。具体的には、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＳｒＣＯ３、Ｃ、ＡｌＰＯ４、ＣａＣＯ３、ＩＴＯ、ＺｎＳ、ＭｇＦ２などがフィラー材として用いられる。
【００５２】
また、無機材料としては、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、又はガラスなどの酸化物や、ＳｉＣ、ＷＣなどの炭化物、ＢＮ、ＡｌＮ、ＴｉＮなどの窒化物などを用いることが好ましい。
【００５３】
なお、上述したフィラー材の材料の例は無機物質の例であるが、有機無機の複合物質をフィラー材の材料に用いても良く、さらに粒子状、繊維状、円柱状のものを組み合わせて使用しても良い。また、２種類以上の材料を同時にフィラー材として使用しても良い。
【００５４】
また、粒子状フィラー材場合、粒径は５０μｍ以下であることが好ましい。繊維状フィラー材の場合、繊維径が２０μｍ以下、繊維長さが５ｍｍ以下であることが好ましい。円柱状フィラー材の場合、円柱の長さと円柱直径の大きい方が５０μｍ以下であることが好ましい。
【００５５】
さらに、樹脂製基板の全体に占める無機材料の体積の割合が、１．０［％］以上であることが好ましい。これ以下では、フィラーが均質に基板全体に分散されず、比重の偏りが発生する恐れがある。体積比で１．０％以上含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を均質に１．２以上とすることができるため、洗浄剤の比重よりも大きくすることが可能となる。
【００５６】
なお、無機材料の種類や体積の割合を変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、無機材料の種類や体積の割合を変えて、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくすればよい。
【００５７】
（第２の形態）
次に、第２の形態について説明する。この第２の形態は、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。
【００５８】
被覆層には、金属層、磁性層（常磁性層、軟磁性層、又は強磁性層）、ガラス層、セラミック層等の酸化物層、又は、無機層と有機層との複合層（ハイブリッド層）が用いられる。被覆層の具体的な成分として、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｃａ（カルシウム）、Ｓｒ（ストロンチウム）Ｂａ（バリウム）、Ｔｉ（チタン）、Ｓｃ（スカンジウム）、Ｖ（バナジウム）、Ｃｒ（クロム）、Ｍｎ（マンガン）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｏ（コバルト）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｕ（銅）、Ｚｎ（亜鉛）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｓｉ（シリコン）、Ｐ（リン）、Ｇａ（ガリウム）、Ｇｅ（ゲルマニウム）、Ａｓ（砒素）、Ｓｅ（セレン）、Ｙ（イットリウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｒｕ（ルテニウム）Ｒｈ（ロジウム）、Ｐｄ（パラジウム）、Ａｇ（銀）、Ｃｄ（カドミウム）、Ｉｎ（インジウム）、Ｓｎ（錫）、Ｓｂ（アンチモン）、Ｔｅ（テルル）、Ｌａ（ランタン）、Ｃｅ（セリウム）、Ｐｒ（プラセオジウム）、Ｎｄ（ネオジウム）、Ｐｍ（プロメチウム）、Ｓｍ（サマリウム）、Ｅｕ（ユーロピウム）、Ｇｄ（ガドリウム）、Ｔｂ（テルビウム）、Ｄｙ（ジスプロシウム）、Ｈｏ（ホルミウム）、Ｅｒ（エルビウム）、Ｔｍ（ツリウム）、Ｙｂ（イッテルビウム）、Ｌｕ（ルテチウム）、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｔａ（タンタル）、Ｗ（タングステン）、Ｒｅ（レニウム）、Ｏｓ（オスミウム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｐｔ（白金）、Ａｕ（金）、Ｔｌ（タリウム）、Ｐｂ（鉛）、Ｂｉ（ビスマス）、Ｐｏ（ポロニウム）、などの元素を単体若しくは複数組み合わせて使用してもよく、又はそれらの酸化物、窒化物、炭化物を単体若しくは複数組み合わせて使用してもよい。
【００５９】
また、合金層として、Ｎｉ−Ｐ（ニッケル−リン）合金層などを樹脂製基板の表面に形成してもよい。
【００６０】
さらに、高密度化技術として期待の大きい垂直磁気記録媒体においては、基板表面に対して垂直に磁性体を並べる必要があり、そのためには、磁性層と基板との間に軟磁性層を形成する必要がある。この軟磁性層の代表的な合金として、Ｎｉ−Ｃｏ（ニッケル−コバルト）合金がある。被覆層としてＮｉ−Ｃｏ合金を用いることにより、垂直磁気記録媒体における軟磁性層としての機能も果たすことが可能となる。
【００６１】
被覆層は、電気めっき又は化学めっきなどのめっき法によって樹脂製基板の表面上に形成することが可能である。その他、スパッタリング、真空蒸着、又はＣＶＤ法などによっても形成することが可能である。また、バーコート法、ディップコート（浸漬引き上げ）法、スピンコート法、スプレー法、又は印刷法などの塗布法によって形成してもよい。
【００６２】
なお、この実施形態に係る磁気記録媒体用基板を用いて磁気記録媒体を作製する場合、表面に形成された被覆層の上に磁性層を形成して磁気記録媒体とする。例えば、表面上に形成された被覆層を研磨し、研磨後の被覆層上にスパッタリングなどによりＣｏ系合金などの磁性層を形成して磁気記録媒体とする。
【００６３】
また、樹脂製基板には、表面に形成される被覆層との密着度が高い樹脂を用いることが好ましい。例えば、表面に極性基が存在する樹脂や、表面粗さＲａが大きい樹脂や、フィラー材が含まれる樹脂や、表面に溝が設けられた樹脂などを基板の材料として用いることで、樹脂製基板と被覆層との密着度を高めることが可能となる。
【００６４】
（第３の形態）
次に、第３の形態について説明する。この第３の形態は、比重が大きい樹脂を用いて磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。この場合、さらにフィラー材の添加や被複層の形成を組み合わせることよって、より一層の効果を得ることも出来る。
【００６５】
例えば、フェノール樹脂（比重１．２１〜１．３０）、メラニン樹脂（比重１．４８）、アリル樹脂（比重１．３０〜１．４０）、ポリイミド樹脂（比重１．３３〜１．５１）、高密度型エポキシ樹脂（比重１．２５〜１．４０）。高密度型シリコーン樹脂（比重１．２２〜１．５０）、高密度型不飽和ポリエステル樹脂（比重１．２４〜１．４６）、全芳香族ポリエステル樹脂（比重１．３５）、ポリアミドイミド樹脂（比重１．４１）、ポリエーテルイミド樹脂（比重１．２７）、飽和ポリエステル樹脂（比重１．３４〜１．３９）、ポリアセタール樹脂（比重１．４２）、ポリエーテルスルフォン樹脂（比重１．６８）ポリフェニレンスルファイド樹脂（比重１．３４）、ポリスルフォン樹脂（比重１．２４）テトラフルオロエチレン樹脂（比重２．１４〜２．２０）トリフルオロエチレン樹脂（比重２．１０〜２．２０）、ポリ弗化ビニリデン樹脂（比重１．７５〜１．７８）を用いることで所望の特性を発揮できる。
【００６６】
［実施例］
次に、この発明の具体的な実施例について説明する。
【００６７】
（実施例１）
実施例１では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させことで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。
【００６８】
（樹脂製基板）
基板の原料としてポリカーボネイト樹脂を用い、その原料に無機材料のフィラー材を含有させた。そして、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。ポリカーボネイト樹脂として、パンライト（帝人社製）を用いた。この磁気記録媒体用基板の寸法を以下に示す。
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
基板の厚さ：０．４［ｍｍ］
【００６９】
（フィラー材）
実施例１で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラー材の材料：ガラスパウダー
フィラー材の粒径：平均粒径１２μｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：２５％
【００７０】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．４５になった。
【００７１】
（評価）
実施例１に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【００７２】
中性の洗浄剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテルを主成分とする市販の中性洗剤サンウォッシュＬＨ−３０（ライオン社製）を蒸留水で希釈し、比重０．９９として用いた。
【００７３】
実施例１に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．４５であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００７４】
また、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００７５】
（実施例２）
実施例２では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例２に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【００７６】
（フィラー材）
実施例２では、フィラー材の材料を変えた。実施例２で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラー材の材料：石英（ＳｉＯ２）ファイバー
フィラー材の寸法：繊維径４μｍ、平均長さ０．７０ｍｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：３０％
【００７７】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．６５になった。
【００７８】
（評価）
実施例２に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。中性の洗浄剤は、実施例１と同じものを用いた。
【００７９】
実施例２に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．６５であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００８０】
また、実施例２に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００８１】
（実施例３）
実施例３では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例３に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【００８２】
（フィラー材）
実施例３では、フィラー材の材料を変えた。実施例３で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラー材の材料：アルミナ粒子
フィラー材の粒径：平均粒径３０μｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：２５％
【００８３】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．４５になった。
【００８４】
（評価）
実施例３に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【００８５】
中性の洗浄剤としては、クリンスルーＫＳ７４０５（花王社製）を純水で希釈し、比重０．９８として用いた。
【００８６】
実施例３に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．４５であり、中性の洗浄剤の比重は０．９８であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００８７】
また、実施例３に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００８８】
（実施例４）
実施例４では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例４に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【００８９】
（フィラー材）
実施例４では、フィラー材の材料を変えた。実施例４で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラー材の材料：ＺｒＯ２（酸化ジルコニウム）
フィラー材の粒径：平均粒径３０μｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：１８％
【００９０】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．７８になった。
【００９１】
（評価）
実施例４に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【００９２】
中性の洗浄剤としては、直鎖アルキルベンゼン系界面活性剤を主成分としたアルワンコンク（アルタン社製）をイオン交換水で希釈し、比重１．００として用いた。
【００９３】
実施例４に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．７８であり、中性の洗浄剤の比重は１．００であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００９４】
また、実施例４に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【００９５】
（実施例５）
実施例５では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例５に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【００９６】
（フィラー材）
実施例５では、フィラー材の材料を変えた。実施例５で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラーの材料：ガラスファイバー
フィラーの寸法：ファイバー径１２μｍ、ファイバー長さ２ｍｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：４５％
【００９７】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．６２になった。
【００９８】
（評価）
実施例５に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。中性の洗浄剤は、実施例１と同じものを用いた。
【００９９】
実施例５に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．６２であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１００】
また、実施例５に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１０１】
（実施例６）
実施例６では、上記第１の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例１と同様に、樹脂材料に無機材料のフィラー材を含有させることで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例６に係る樹脂製基板は、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【０１０２】
（フィラー材）
実施例６では、フィラー材の材料を変えた。実施例６で用いたフィラー材の条件を以下に示す。
フィラーの材料：ＳｉＣ
フィラーの粒径：２μｍ
磁気記録媒体用基板の全体に占める体積の割合：２４％
【０１０３】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．６３になった。
【０１０４】
（評価）
実施例６に係る磁気記録媒体用基板を、中性の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。中性の洗浄剤は、実施例１と同じものを用いた。
【０１０５】
実施例６に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．６３であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１０６】
また、実施例６に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１０７】
以上のように、実施例１から実施例６によると、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくすることができるため、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈めることができ、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られる。
【０１０８】
なお、フィラー材の体積の割合を変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、フィラーの占有体積の割合を変えればよい。
【０１０９】
また、上記実施例１から実施例６では、洗浄剤として中性の洗浄剤を用いたが、酸性の洗浄剤やアルカリ性の洗浄剤を用いた場合も、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈ませることができ、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができる。例えば、酸性の洗浄剤として、希塩酸溶液（比重１．０１）、炭酸水溶液（比重１．０１）を用い、アルカリ性の洗浄剤に、水酸化カルシウム水溶液（比重１．０３）、水酸化カリウム水溶液（比重１．０２）を用いることで、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈ませることができる。
【０１１０】
また、上記実施例１から実施例６では、樹脂製基板の材料としてポリカーボネイト樹脂を用いたが、上記実施形態で挙げた他の樹脂を用いても同様の効果を奏することができる。
【０１１１】
（実施例７）
実施例７では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。
【０１１２】
（樹脂製基板）
この実施例７では、基板の原料としてＡＢＳ樹脂を用い、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。ＡＢＳ樹脂として、トヨラック（東レ社製）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１１３】
（被覆層）
実施例７では、被覆層として非磁性の金属層を樹脂製基板に形成した。実施例７では、無電解めっき法により、樹脂製基板の表面にＮｉ−Ｐ合金層を形成した。
Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さ：１３μｍ
【０１１４】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．３５になった。
【０１１５】
（評価）
実施例７に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。
【０１１６】
（超音波洗浄プロセス）
超音波洗浄プロセスの条件を以下に示す。
超音波洗浄装置：島田理化社製 ＳＵＣ Ｕ−３０２
洗浄剤：純水
超音波洗浄の条件：周波数２８ｋＨｚ、出力２００Ｗ
【０１１７】
実施例７に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１１８】
（実施例８）
実施例８では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例７と同様に、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例８に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１１９】
（被覆層）
実施例８では、実施例７と同様に、無電解めっき法によって、樹脂製基板の表面にＮｉ−Ｐ合金層を形成した。実施例８では、Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さを変えた。
Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さ：５０μｍ
【０１２０】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、２．２０になった。
【０１２１】
（評価）
実施例８に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１２２】
実施例８に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１２３】
（実施例９）
実施例９では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、実施例７と同様に、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例９に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１２４】
（被覆層）
実施例９では、実施例７と同様に、無電解めっき法によって、樹脂製基板の表面にＮｉ−Ｐ合金層を形成した。実施例９では、Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さを変えた。
Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さ：８０μｍ
【０１２５】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、２．７２になった。
【０１２６】
（評価）
実施例９に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１２７】
実施例９に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１２８】
以上のように、実施例７から実施例９によると、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくすることができるため、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈めることができ、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【０１２９】
なお、Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さを変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、Ｎｉ−Ｐ合金層の厚さを変えればよい。
【０１３０】
（実施例１０）
実施例１０では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例１０に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１３１】
（被覆層）
実施例１０では、樹脂製基板の表面に形成する被覆層を変えた。具体的には、無電解めっき法により、樹脂製基板の表面にＮｉ層を形成した。
Ｎｉ層の厚さ：３０μｍ
【０１３２】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、２．０５になった。
【０１３３】
（評価）
実施例１０に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１３４】
実施例１０に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１３５】
なお、Ｎｉ層の厚さを変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、Ｎｉ層の厚さを変えればよい。
【０１３６】
（実施例１１）
実施例１１では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例１１に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１３７】
（被覆層）
実施例１１では、樹脂製基板の表面に形成する被覆層を変えた。具体的には、無電解めっき法により、樹脂製基板の表面にＣｕ層を形成した。
Ｃｕ合金層の厚さ：４０μｍ
【０１３８】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、２．２５になった。
【０１３９】
（評価）
実施例１１に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１４０】
実施例１１に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１４１】
なお、Ｃｕ層の厚さを変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、Ｃｕ層の厚さを変えればよい。
【０１４２】
（実施例１２）
実施例１２では、上記第２の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、樹脂製基板の表面に被覆層を形成することで、磁気記録媒体用基板の比重を大きくした。なお、この実施例１２に係る樹脂製基板は、実施例７と同じ樹脂（ＡＢＳ樹脂）を用いた。また、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板の寸法と同じにした。
【０１４３】
（被覆層）
実施例１２では、樹脂製基板の表面に形成する被覆層を変えた。具体的には、無電解めっき法により、樹脂製基板の表面に亜鉛層を形成した。
亜鉛層の厚さ：１０μｍ
【０１４４】
上記の条件によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．２９になった。
【０１４５】
（評価）
実施例１２に係る磁気記録媒体用基板を、純水を用いた超音波洗浄プロセスに投入した。超音波洗浄のプロセスは実施例７と同じである。
【０１４６】
実施例１２に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。また、磁気記録媒体用基板を超音波洗浄プロセスに投入しても、磁気記録媒体用基板は純水から浮き上がることなく、良好に洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１４７】
なお、亜鉛層の厚さを変えることにより、磁気記録媒体用基板の比重を変えることができるため、洗浄工程に用いる洗浄剤の比重に応じて、亜鉛層の厚さを変えればよい。
【０１４８】
また、上記実施例７から実施例１２では、洗浄剤として純水を用いたが、洗浄剤に中性の洗浄剤、酸性の洗浄剤、又はアルカリ性の洗浄剤を用いた場合も、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈ませることができ、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができる。
【０１４９】
なお、上記実施例７から実施例１２では、樹脂製基板の材料としてＡＢＳ樹脂を用いたが、上記実施形態で挙げた他の樹脂を用いても同様の効果を奏することができる。
【０１５０】
（実施例１３）
実施例１３では、上記第３の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、比重が大きい樹脂を用いて磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくする。なお、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板と同じにした。
【０１５１】
（樹脂製基板）
基板の原料として、比重が１．３９のポリイミド樹脂を用い、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。例えば、ポリイミド樹脂として、スーパーオーラム（三井化学社製）を用いた。
【０１５２】
上記の樹脂によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．４０になった。
【０１５３】
（評価）
実施例１３に係る磁気記録媒体用基板を、実施例１の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【０１５４】
実施例１３に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．４０であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１５５】
また、実施例１３に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１５６】
（実施例１４）
実施例１４では、上記第３の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、比重が大きい樹脂を用いて磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重より大きくする。なお、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板と同じにした。
【０１５７】
（樹脂製基板）
基板の原料として、比重が１．４２のポリブチレンテレフタレート樹脂を用い、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。例えば、ポリブチレンテレフタレート樹脂としてノバデュラン５０１０Ｎ５（三菱エンジニアリングプラスチックス社製）を用いた。
【０１５８】
上記の樹脂によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．４２になった。
【０１５９】
（評価）
実施例１４に係る磁気記録媒体用基板を、実施例１の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【０１６０】
実施例１４に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．４２であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１６１】
また、実施例１４に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１６２】
（実施例１５）
実施例１５では、上記第３の形態による手法により、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくした。具体的には、比重が大きい樹脂を用いて磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重より大きくする。なお、寸法は、実施例１に係る磁気記録媒体用基板と同じにした。
【０１６３】
（樹脂製基板）
基板の原料として、比重が１．３５の全芳香族ポリエステル樹脂を用い、射出成形により磁気記録媒体用基板を作製した。例えば、全芳香族ポリエステル樹脂として、スミカスーパーＬＣＰ（住友化学社製）を用いた。
【０１６４】
上記の樹脂によって磁気記録媒体用基板を作製することで、磁気記録媒体用基板の比重は、１．３５になった。
【０１６５】
（評価）
実施例１５に係る磁気記録媒体用基板を、実施例１の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。
【０１６６】
実施例１５に係る磁気記録媒体用基板の比重は１．３５であり、中性の洗浄剤の比重は０．９９であるため、磁気記録媒体用基板は中性の洗浄剤に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１６７】
また、実施例１５に係る磁気記録媒体用基板の比重は純水よりも大きいため、磁気記録媒体用基板は純水に沈み、良好に磁気記録媒体用基板を洗浄することができた。これにより、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られた。
【０１６８】
以上のように、実施例１３から実施例１５によると、磁気記録媒体用基板の比重を洗浄剤の比重よりも大きくすることができるため、磁気記録媒体用基板を洗浄剤に沈めることができ、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが可能となる。
【０１６９】
なお、この発明は、上記実施例１３から実施例１５に挙げた樹脂に限定されず、比重が洗浄剤よりも大きい樹脂を用いることで、この発明の効果を奏することができる。
【０１７０】
（比較例）
次に、上記実施例に対する比較例について説明する。この比較例に係る樹脂製基板では、実施例１と同じ樹脂（ポリカーボネイト樹脂）を用い、寸法も、実施例１に係る樹脂製基板の寸法と同じにした。
【０１７１】
（比重）
この比較例では、射出成形により製造された磁気記録媒体用基板における比重を測定した。この比較例では、比重は１．１０になった。
【０１７２】
（評価）
比較例に係る磁気記録媒体用基板を、実施例１の洗浄剤と純水に浸漬させて洗浄した。比較例に係る磁気記録媒体用基板は、比重が１．１０であるため、洗浄剤や純水の比重との差が小さくなる。その結果、洗浄工程において洗浄キャリアーから浮いてしまい、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することが困難になる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円板状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の比重が、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きいことを特徴とする磁気記録媒体用基板。
【請求項２】
前記基板の比重が１．２以上であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項３】
前記基板に無機材料のフィラー材を含有させて、前記基板の比重を１．２以上としたことを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項４】
前記フィラー材は、酸化物、炭化物、窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項５】
前記フィラー材は、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項６】
前記フィラー材は、単結晶体、多結晶体、鉱物、セラミックス、ガラスの中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項７】
前記フィラー材が前記基板の全体に占める体積の割合が、５［％］以上であることを特徴とする請求項３から請求項６のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項８】
前記基板の表面に被覆層を形成して、前記基板の比重を１．２以上としたことを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項９】
前記被覆層は非磁性の金属層、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項８に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１０】
前記被覆層はＮｉ合金層であることを特徴とする請求項８に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１】
円板状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の比重が、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きいことを特徴とする磁気記録媒体用基板。
【請求項２】
前記基板の比重が１．２以上であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項３】
前記基板に無機材料のフィラー材を含有させて、前記基板の比重を１．２以上としたことを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項４】
前記フィラー材は、酸化物、炭化物、窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項５】
前記フィラー材は、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項６】
前記フィラー材は、単結晶体、多結晶体、鉱物、セラミックス、ガラスの中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項７】
前記フィラー材が前記基板の全体に占める体積の割合が、５［％］以上であることを特徴とする請求項３から請求項６のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項８】
前記基板の表面に被覆層を形成して、前記基板の比重を１．２以上としたことを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項９】
前記被覆層は非磁性の金属層、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物の中から選ばれる一つ若しくは二つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項８に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１０】
前記被覆層はＮｉ合金層であることを特徴とする請求項８に記載の磁気記録媒体用基板。
【公開番号】特開２００８−９０９８８（Ｐ２００８−９０９８８Ａ）
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２７３８９５（Ｐ２００６−２７３８９５）
【出願日】平成１８年１０月５日（２００６．１０．５）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月５日（２００６．１０．５）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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