美容装置
【課題】美容装置において、電極及び肌間の電流集中を抑制することにある。
【解決手段】制御装置１１は、何れかのＲＦ電極に肌が接触していない旨判断すると、肌及びＲＦ電極の接触面積が不十分であるとして、両電極群２８，２９に高周波電流を供給しない。これにより、肌が一部のＲＦ電極に接触した状態において、その接触部分に電流が集中することが抑制される。
【解決手段】制御装置１１は、何れかのＲＦ電極に肌が接触していない旨判断すると、肌及びＲＦ電極の接触面積が不十分であるとして、両電極群２８，２９に高周波電流を供給しない。これにより、肌が一部のＲＦ電極に接触した状態において、その接触部分に電流が集中することが抑制される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、美容装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、パルス光を肌に照射するとともに、低周波電流又は高周波電流を肌に供給する美容装置が知られている。この美容装置を使用することを通じて、パルス光によって肌の細胞を活性化させるとともに、低周波電流又は高周波電流によって皮膚を適当な温度まで加熱して肌を引き締める美容効果がある。
【０００３】
上記装置として、例えば、特許文献１に記載の構成が公知である。なお、この文献における装置は治療を目的とした治療装置であるが、パルス光及び低周波電流により上述した美容効果を奏することができる。図１０に示すように、装置の探触子であるプローブ１００は、その内部に設けられるパルス光源１０２と、肌に直接押し当てられる透明電極１０１とを備える。プローブ１００は２つ１組で構成される。両透明電極１０１が肌に当てられることで、両透明電極１０１を介して装置からの低周波電流が体内に供給される。また、パルス光源１０２から照射される光は透明電極１０１を介して肌に照射される。本構成によれば、パルス光及び低周波電流による美容効果が同時に得られる。
【０００４】
また、例えば、特許文献２に示される美容装置は、両電極が単一のプローブに配設されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１０３３１号公報
【特許文献２】特開平９−１５４９１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記両装置における電極は、凹凸がある例えば顔等に当てられる。従って、図１１に示すように、透明電極１０１を当てる部位によっては、透明電極１０１と肌との接触面積を十分に確保できず、透明電極１０１の一部のみが肌に接触することがある。透明電極１０１の一部のみが肌に接触した場合には、その一部に集中して電流が流れ込む。これにより、皮膚の温度が上記適当な温度を超えて、期待される美容効果が十分に得られないおそれがある。
【０００７】
この発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、電極及び肌間の電流集中を抑制することができる美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
以下、上記目的を達成するための手段について説明する。
第１の発明は、皮膚との接触を介して皮膚に電流を供給する複数の電極と、
前記電極への電流の供給を制御する制御装置と、前記電極と皮膚との接触を検出する接触センサと、を備え、前記制御装置は、前記接触センサの検出結果に基づき判断される前記電極及び皮膚の接触面積に応じて前記電極へ供給する電流を制御することをその要旨としている。
【０００９】
第２の発明は、前記複数の電極のうち、最も離れて位置する２つの電極に前記接触センサを設けることをその要旨としている。
第３の発明は、縦横に格子状に配設される前記複数の電極のうち角に位置する電極に前記接触センサを設けることをその要旨としている。
【００１０】
第４の発明は、前記電極は２つで１組の複数組にて構成され、前記各電極に前記接触センサを設け、前記制御装置は前記各接触センサの検出結果に基づき組をなす２つの前記電極が皮膚に接触していると判断した組の電極にのみ電流を供給することをその要旨としている。
【００１１】
第５の発明は、前記接触センサは、静電容量方式又は赤外線方式の接触センサであることをその要旨としている。
第６の発明は、前記接触センサは、静電容量方式のものを採用し、同センサは前記複数の電極のうち少なくとも１つの電極の周囲に形成されるとともに、同電極の皮膚側に露出する面と同一面を有することをその要旨としている。
【００１２】
第７の発明は、前記接触センサは、前記電極に供給される電流を検出するとともに、同電極に印加される電圧を検出するセンサと、前記センサの検出結果に基づき皮膚のインピーダンスを算出するとともに、算出されたインピーダンスが、前記電極及び皮膚の接触面積が確保された状態での皮膚のインピーダンスを基準に設定されるしきい値以下であるか否かを判断する判断部とからなることをその要旨としている。
【００１３】
第８の発明は、光を皮膚に照射する光源を、前記複数の電極の背面側に設け、前記電極は透明電極としたことをその要旨としている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、美容装置において、電極及び肌間の電流集中を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１の実施形態における美容装置の構成図。
【図２】第１の実施形態における美容装置の正面図。
【図３】第１の実施形態における美容装置の内部構成を示した断面図。
【図４】第１及び第３の実施形態における美容装置の下面図。
【図５】第１の実施形態におけるＲＦ電極の側面図。
【図６】第１の実施形態におけるＲＦ電極の下面図。
【図７】第２の実施形態における美容装置の下面図。
【図８】他の実施形態における美容装置の下面図。
【図９】他の実施形態における美容装置の下面図。
【図１０】従来のプローブの断面図。
【図１１】従来のプローブの電極が肌に当てられたときの説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
（第１の実施形態）
以下、本発明にかかる美容装置を具体化した第１の実施形態について図１〜６を参照して説明する。本例における美容装置では、パルス光及び高周波電流を皮膚に与えることで美容効果が得られる。
【００１７】
まず、美容装置におけるパルス光に関する構成について説明する。
図１に示すように、美容装置は、制御装置１１と、光源用照射回路１３と、光源１４とを備える。制御装置１１は、ＲＦ制御回路１１ａと、センサ制御回路１１ｂと、光源制御回路１１ｃとを備えてなる。光源制御回路１１ｃは、光源用照射回路１３に制御信号を出力する。この光源用照射回路１３は、制御信号に基づき、バッテリ（内部電源）からの電力を光源１４へ供給する。光源１４は電力が供給されることで発光する。本例では、光源１４として、キセノンフラシュを採用している。キセノンフラシュでは皮膚の浅い部分（表皮）を温めるとともに、同部分の細胞を活性化させる効果が得られる。なお、本例では、皮膚に悪影響を及ぼすとされる４００ｎｍ以下の波長の光は光学フィルタ（図示略）でカットされる。
【００１８】
次に、美容装置における高周波電流に関する構成について説明する。
図１に示すように、美容装置は、ＲＦ（Radio Frequency）発信機１５と、両電極群２８，２９と、接触センサ２４ａ〜２４ｐと、を備える。ＲＦ制御回路１１ａは、ＲＦ発信機１５に制御信号を出力する。ＲＦ発信機１５は、制御信号に基づき、バッテリ（内部電源）からの直流電流を高周波電流（交流電流）に変換するとともに、変換した高周波電流を第１及び第２の電極群２８，２９へ供給する。
【００１９】
第１の電極群２８はＲＦ電極２１ａ〜２１ｈからなり、第２の電極群はＲＦ電極２１ｉ〜２１ｐからなる。各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）で形成された透明電極が採用されている。第１の電極群２８のＲＦ電極２１ａ〜２１ｈは導線３７を介して並列接続されている。同様に、第２の電極群２９のＲＦ電極２１ｉ〜２１ｐは導線３８を介して並列接続されている。各導線３７，３８はＲＦ発信機１５に接続されている。
【００２０】
両電極群２８，２９が肌に当てられたとき、皮膚を介して第１の電極群２８（ＲＦ電極２１ａ〜２１ｈ）及び第２の電極群２９（ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐ）間で電流の授受がなされる。このとき、皮膚が電極群２８，２９間を接続する電気的抵抗となる。これにより、ＲＦ発信機１５及び両電極群２８，２９を備えた装置の内部回路が電気的に閉じて、同回路に高周波電流が流れる。このため、皮膚に高周波電流を供給することができる。すなわち、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に当てられたときには、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの設置範囲全域に亘る皮膚に高周波電流を供給することができる。皮膚は電気的抵抗として作用するため、皮膚にて電気エネルギが熱エネルギとして消費される。これにより、皮膚（真皮、皮下脂肪）が温められて真皮のコラーゲンや皮下脂肪が収縮して肌を引き締めることができる。ここで、皮膚の温度は加熱しすぎても期待される美容効果が得られない。また、光源１４からのパルス光の照射によって表皮が温められることで、皮膚のインピーダンス（電気的抵抗）が下がる。従って、高周波電流を確実に表皮より深い真皮及び皮下脂肪まで到達させることができるため、相乗効果が得られる。
【００２１】
図４に示すように、各接触センサ２４ａ〜２４ｐは各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに対応して設けられている。本例において、接触センサ２４ａ〜２４ｐは、静電容量方式のセンサが採用されている。本方式のセンサでは、接触センサ２４ａ〜２４ｐと皮膚との接触による静電容量の変化に基づき皮膚の接触の有無が検出される。図１に示すように、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果はセンサ制御回路１１ｂに出力される。センサ制御回路１１ｂは、例えば、接触センサ２４ａの検出結果に基づき接触センサ２４ａに肌が接触している旨認識した場合には、接触センサ２４ａに対応するＲＦ電極２１ａに肌が接触していると判断する。従って、制御装置１１は、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、全ての接触センサ２４ａ〜２４ｐ、すなわち全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触している旨判断した場合、肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積が十分に確保されているとして、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに高周波電流を供給する。このときの電流は、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触したことを想定した値に設定されている。制御装置１１は、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、一部のＲＦ電極にしか肌が接触していないと判断した場合には、両電極群２８，２９に電力を供給しない。
【００２２】
また、図１に示すように、美容装置は、ユーザによって操作される電源スイッチ１６及び光照射スイッチ１７を備える。電源スイッチ１６及び光照射スイッチ１７は、図２に示すように、装置の外形をなす樹脂製のハウジング３０に取り付けられている。電源スイッチ１６が操作されると、制御装置１１等の装置各部にバッテリ電力（動作電力）が供給される。そして、センサ制御回路１１ｂは、接触センサ２４ａ〜２４ｐからの検出結果を待つ待機状態となる。この待機状態において、センサ制御回路１１ｂは、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触している旨判断した場合、その旨を示す信号をＲＦ制御回路１１ａに出力する。ＲＦ制御回路１１ａはセンサ制御回路１１ｂからの信号に基づき制御信号（高周波電流供給指令信号）をＲＦ発信機１５へ出力する。これにより、ＲＦ発信機１５は、両電極群２８，２９に高周波電流を供給可能な状態となる。このとき、両電極群２８，２９間に肌が接触していれば、ＲＦ発信機１５からの高周波電流が皮膚に供給される。この状態において、電源スイッチ１６が操作されると、装置各部への電力供給が遮断される。そして、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐ及び皮膚への電力供給も停止される。
【００２３】
美容装置の各部に動作電力が供給された状態において、光照射スイッチ１７が操作されると、その旨の操作信号が光源制御回路１１ｃに出力される。光源制御回路１１ｃは、光照射スイッチ１７からの操作信号を受けると、光源用照射回路１３を介して図示しないバッテリの電力を光源１４に供給する。これにより、光源１４が所定周期毎に発光する。光源制御回路１１ｃは、光照射スイッチ１７からの操作信号を再び受けると、光源用照射回路１３を介して光源１４への電力供給を停止する。
【００２４】
以上のように、電源スイッチ１６の操作により、高周波電流が供給される。また、高周波電流が供給されている状態において、光照射スイッチ１７を操作することで、高周波電流及びパルス光を同時に供給することができる。なお、美容装置の電源は、バッテリに限らず商用電源であってもよい。この場合、装置のバッテリを省略できる。
【００２５】
次に、光源１４及び両電極群２８，２９の構成について、図３〜図６を参照しつつ説明する。
図３に示すように、ハウジング３０の底部には、透過板３３が嵌め込まれている。この透過板３３は、光透過性及び非導電性を有する例えば、石英ガラス若しくはアクリル樹脂からなる。ハウジング３０の内部には反射部材３２が設けられている。反射部材３２は上側に向かうにつれて穴径が小さくなる傘状に形成されている。また、反射部材３２の内面は、光を反射させる性質を有する例えばアルミニウムの層が形成される。反射部材３２の内頂部には、管球からなる光源１４が設けられている。従って、反射部材３２は、光源１４からその上側に拡散する光を透過板３３側に反射させる。光源１４からのパルス光は透過板３３を介して皮膚に照射される。
【００２６】
図４に示すように、透過板３３の外側に露出する面には計１６個のＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが配置される。ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、左右上下方向に沿って４×４の行列をなすように配置されている。ここで、左右方向に並ぶ電極を行とし、上下方向に並ぶ電極を列とする。上側から１行目にはＲＦ電極２１ａ〜２１ｄが配置され、２行目にはＲＦ電極２１ｅ〜２１ｈが配置され、３行目にはＲＦ電極２１ｉ〜２１ｌが配置され、４行目にはＲＦ電極２１ｍ〜２１ｐが配置されている。すなわち、左から順に１列目にはＲＦ電極２１ａ，２１ｅ，２１ｉ，２１ｍが配置され、２列目にはＲＦ電極２１ｂ，２１ｆ，２１ｊ，２１ｎが配置され、３列目にはＲＦ電極２１ｃ，２１ｇ，２１ｋ，２１ｏが配置され、４列目にはＲＦ電極２１ｄ，２１ｈ，２１ｌ，２１ｐが配置されている。
【００２７】
図５に示すように、各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの周囲には、接触センサ２４ａ〜２４ｐが設けられている。接触センサ２４ａ〜２４ｐは、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの全周に亘って沿う態様にて設けられている。接触センサ２４ａ〜２４ｐ及びＲＦ電極２１ａ〜２１ｉは、透過板３３の反対側に同一の接触面２５を形成する。ここで、図６に示すように、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐを皮膚に対して移動させるときには、接触面２５の外側から皮膚が接触していく。これにより、接触面２５の一部にのみ皮膚が接触した場合であれ、接触センサ２４ａ〜２４ｐは確実に肌の接触を検出することができる。なお、透過板３３及び皮膚がそれらの全面で面接触する態様でＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが皮膚に当てられた場合には、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐ及び接触センサ２４ａ〜２４ｐはほぼ同時に皮膚に接触する。以上のように、肌がＲＦ電極２１ａ〜２１ｐにのみ接触することを抑制することができる。
【００２８】
ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、透過板３３に紫外線硬化型の接着剤により接着されている。前述のように、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとしてＩＴＯからなる透明電極が採用されている。このため、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐを透過板３３の全域に亘って配置した場合であれ、それらが光源１４からの光を遮ることはない。
【００２９】
図３に示すように、第１の電極群２８を構成するＲＦ電極２１ａ〜２１ｈは、透過板３３の厚さ方向に貫通する導線３７にて並列接続されている。また、第２の電極群２９を構成するＲＦ電極２１ｉ〜２１ｐは、透過板３３の厚さ方向に貫通する導線３８にて並列接続されている。両導線３７，３８は、それぞれハウジング３０の内部のＲＦ発信機１５に接続されている。また、各接触センサ２４ａ〜２４ｐには、透過板３３の厚さ方向に貫通する導線３９が接続されている。この導線３９は、それぞれハウジング３０の内部の制御装置１１（センサ制御回路１１ｂ）に接続されている。
【００３０】
以上のように構成される美容装置は、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に当てられて使用される。ここで、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは肌に対して変形しない透過板３３に配置されて、顔や腕等の凹凸がある各部に当てられるため、常に、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触するとは限らない。例えば、図４に２点鎖線で示すように、肌が領域４０における部分にのみ接触して、領域４０に位置する接触センサ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｅ，２４ｆにのみ接触する場合がある。このとき、制御装置１１は、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、接触センサ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｅ，２４ｆを含む領域４０以外のＲＦ電極２１ｄ，２１ｇ〜２１ｐに肌が接触していない旨判断して、両電極群２８，２９に高周波電流を供給しない。換言すると、何れかのＲＦ電極に肌が接触していない旨判断されると、肌及びＲＦ電極の接触面積が不十分であるとして、高周波電流が供給されない。
【００３１】
制御装置１１は、高周波電流の供給中においても所定周期毎に接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触しているか否か判断する。そして、制御装置１１は、何れかのＲＦ電極に肌が接触していない旨判断した時点で、両電極群２８，２９への高周波電流の供給を停止する。
【００３２】
ここで、接触センサ２４ａ〜２４ｐを備えない従来の美容装置では、例えば、肌が全ての第２の電極群２９と、第１の電極群２８のうちＲＦ電極２１ａとに接触した場合、本来８つのＲＦ電極２１ａ〜２１ｈに分散される電流が１つのＲＦ電極２１ａに集中して流れる。本例では、肌が全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに接触した旨判断されたことを条件に高周波電流が供給されるため、上記のような電流集中の発生を抑制することができる。これにより、真皮を適切な温度に加熱することができ、上述のような美容効果が確実に得られる。また、美容効果が期待できない状況での電流供給を抑制できるところ、無駄な電力消費を低減することができる。
【００３３】
以上、説明した実施形態によれば、以下の作用効果を奏することができる。
（１）制御装置１１は、何れかのＲＦ電極に肌が接触していない旨判断すると、肌及びＲＦ電極の接触面積が不十分であるとして、両電極群２８，２９に高周波電流を供給しない。従って、肌が一部のＲＦ電極に接触した状態において、その接触するＲＦ電極に電流が集中することが抑制される。これにより、上述した美容効果が確実に得られる。
【００３４】
（２）接触センサ２４ａ〜２４ｐは、静電容量方式のセンサが採用されている。本方式のセンサにおいては、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと一体で形成することができる。よって、より確実に肌がＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに接触しているか否かを検出できる。
【００３５】
（３）ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとしてＩＴＯからなる透明電極が採用されている。このため、光源１４からのパルス光がＲＦ電極２１ａ〜２１ｐにより遮られることはない。
（４）接触センサ２４ａ〜２４ｐは、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと同一の接触面２５を有する態様で、各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの周囲に設けられている。これにより、接触面２５の一部にのみ肌が接触する場合であれ、接触センサ２４ａ〜２４ｐは確実に肌の接触を検出することができる。
【００３６】
（第２の実施形態）
以下、本発明にかかる美容装置を具体化した第２の実施形態について、図７を参照して説明する。この実施形態の美容装置は、電極と肌との接触の有無を検出する方式が上記第１の実施形態と異なっている。以下、第１の実施形態との相違点を中心に説明する。なお、この実施形態の美容装置は、図１に示す第１の実施形態の美容装置と同様の構成を備えている。
【００３７】
図７に示すように、接触センサ４１〜４４は、透過板３３における同図の上下左右の各端部に設けられる。すなわち、透過板３３の周縁部において接触センサ４１はＲＦ電極２１ｂ，２１ｃの間に位置し、接触センサ４２はＲＦ電極２１ｎ，２１ｏの間に位置し、接触センサ４３はＲＦ電極２１ｈ，２１ｌの間に位置し、接触センサ４４はＲＦ電極２１ｅ，２１ｉの間に位置する。
【００３８】
本実施形態における接触センサ４１〜４４は赤外線方式が採用されている。本方式においては、人体が放射する赤外線を受光して、これを電気信号に変換する。この電気信号を赤外線の検出結果として制御装置１１（センサ制御回路１１ｂ）に出力する。ここで、人体が接触センサ４１〜４４に近づくにつれて接触センサ４１〜４４が出力する電圧レベルは大きくなる。制御装置１１は、各接触センサ４１〜４４からの電気信号の電圧レベルが一定値を超えたとき、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触した旨の判断をする。これは、透過板３３の周縁部の４つの接触センサ４１〜４４により肌が検出された場合、それらの内側に存在するＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは当然に肌に接触していると考えられるからである。なお、一定値は、肌が接触センサ４１〜４４付近のＲＦ電極に接触したときに接触センサ４１〜４４において生成される電気信号の電圧レベル未満の値に設定されている。ここで、接触センサ４１〜４４付近のＲＦ電極とは、例えば、接触センサ４１であればＲＦ電極２１ｂ，２１ｃ，２１ｆ，２１ｇである。そして、制御装置１１は、接触センサ４１〜４４の検出結果に基づきＲＦ発信機１５を介して両電極群２８，２９に高周波電流を供給する。すなわち、接触センサ４１〜４４からの電気信号のうち１つでも電圧レベルが一定値を超えないものがある場合には、肌が接触していない電極が存在する、すなわちＲＦ電極２１ａ〜２１ｉと肌との接触面積が不十分であるとして、両電極群２８，２９に高周波電流を供給しない。これにより、第１の実施形態と同様に、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの一部のＲＦ電極に肌が接触する場合にその接触した部分に電流が集中することが抑制される。
【００３９】
制御装置１１は、高周波電流の供給中においても所定周期毎に接触センサ４１〜４４の検出結果に基づき、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触しているか否か判断する。そして、接触センサ４１〜４４のうち１つでも肌を検出していない旨判断される場合には、その検出していないセンサ付近のＲＦ電極が肌に接触していないとして両電極群２８，２９への高周波電流の供給が停止される。
【００４０】
本実施形態においては、接触センサ４１〜４４を透過板３３の周縁部において、４つの辺の中央に設けることにより、４つの接触センサ４１〜４４だけで各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に全て接触しているか否かを検出することができる。また、接触センサ４１〜４４は、透過板３３における図４の上下左右の各端部に設けられているため、光源１４からのパルス光を遮ることはない。さらに、接触センサ４１〜４４は４つで済むため、美容装置をより簡易に構成できる。
【００４１】
以上、説明した実施形態によれば、第１の実施形態の（１）及び（３）の作用効果に加え、以下の作用効果を奏することができる。
（５）接触センサ４１〜４４は赤外線方式が採用されている。制御装置１１は、４つの接触センサ４１〜４４からの検出結果（電気信号）の電圧レベルがすべて一定値を超えたとき、両電極群２８，２９に高周波電流を供給する。このように、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと肌との接触面積が十分に確保されたときに高周波電流が供給される。従って、肌が一部のＲＦ電極に接触して、その肌に電流が集中することを抑制できる。これにより、美容効果を確実に得ることができる。
【００４２】
（第３の実施形態）
以下、本発明にかかる美容装置を具体化した第３の実施形態について説明する。この実施形態の美容装置は、ＲＦ電極が２つで１組として制御されている点が第１の実施形態と異なっている。以下、第１の実施形態との相違点を中心に説明する。なお、この実施形態の美容装置は、図１に示す第１の実施形態の美容装置と同様の構成を備えている。
【００４３】
本実施形態ではＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、ＲＦ電極２１ａ及びＲＦ電極２１ｂの組み合わせ、ＲＦ電極２１ｃ及びＲＦ電極２１ｄの組み合わせ、以下同様にして、計８組で構成されている。各ＲＦ電極はＲＦ発信機１５に接続されている。制御装置１１は、ＲＦ発信機１５を介して各組のＲＦ電極にそれぞれ高周波電流を供給する。すなわち、ＲＦ発信機１５は例えば、各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐへの電力経路（導線３７，３８等）を開閉するスイッチング回路を備える。制御装置１１は、ＲＦ発信機１５のスイッチング回路のスイッチング動作を通じて、高周波電流を供給するＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの組を高速で切り替える。ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの各組に供給される電流は第１の実施形態における両電極群２８，２９間に供給される電流より小さく（例えば、８分の１程度）設定されている。
【００４４】
以上のように構成される美容装置は、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に当てられて使用される。ここで、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、顔や腕等の凹凸がある各部に当てられるため、常に、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触するとは限らない。例えば、図４に示すように、肌が領域４０に位置する接触センサ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｅ，２４ｆにのみ接触する場合がある。このとき、制御装置１１は、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、接触センサ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｅ，２４ｆを含む領域４０に肌が接触している旨認識する。そして、制御装置１１は領域４０に含まれるＲＦ電極２１ａ，２１ｂの組み合わせ及びＲＦ電極２１ｅ，２１ｆの組み合わせの計２組に交互に高周波電流を供給する。ここで、接触センサ２４ｃには肌が接触しているものの、接触センサ２４ｄは肌の接触を検出していない。従って、それら接触センサ２４ｃ，２４ｄに対応するＲＦ電極２１ｃ，２１ｄの組には高周波電流が供給されない。制御装置１１は、所定周期毎に接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、高周波電流を供給するＲＦ電極の組を更新する。
【００４５】
また、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの組毎に切り替えて高周波電流を供給することで、各組に供給する電力を小さくすることができる。
さらに、肌が接触していると認識される領域の増大に応じて、その増大した領域におけるＲＦ電極の組への高周波電流の供給が開始される。従って、例えば、２つの電極から構成される上記背景技術で説明した美容装置と異なり、肌とＲＦ電極との接触面積に関わらず、単位肌面積当たりに供給される電力をほぼ一定に保つことができる。
【００４６】
以上により、第１の実施形態と同様に、ＲＦ電極及び肌間の電流集中を抑制できる。また、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触していない場合であっても、接触しているＲＦ電極を介して皮膚に高周波電流を供給して、上述のような美容効果が得られる。
【００４７】
また、肌が接触していると認識される領域に存在するＲＦ電極の組にのみ高周波電流が供給される。従って、肌が接触していないと認識されるＲＦ電極、上記例ではＲＦ電極２１ｄ，２１ｇ〜２１ｐに高周波電流を供給するべく、ＲＦ発信機１５を介して行われるスイッチング動作を省略できる。これにより、肌が接触するＲＦ電極の組間で順に高周波電流を供給することができる。このため、ＲＦ電極が接触する肌により高い頻度で高周波電流を供給して迅速に美容効果を得ることができる。
【００４８】
なお、本実施形態においても、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの一部分のみに肌が接触することで、多少の電流集中は考えられるものの、上述のように、各組に供給される電力が比較的小さいため大きな電流集中は発生しない。また、そもそも、ＲＦ電極のサイズが小さいので、ＲＦ電極の一部分に肌が接触する状況が発生しづらい。
【００４９】
以上、説明した実施形態によれば、第１の実施形態の（１）〜（４）の作用効果に加え、以下の作用効果を奏することができる。
（６）接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき肌が接触していると認識される領域に存在するＲＦ電極の組に順に高周波電流が供給される。これにより、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの一部の組に肌が当接した場合であっても、単位肌面積当たりに供給される電力をほぼ一定に保つことができる。これにより、ＲＦ電極及び肌間の電力集中を抑制することができる。また、一部のＲＦ電極の組にしか肌が接触していない場合であっても、その接触するＲＦ電極の組について高周波電流を供給することができる。従って、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐを接触させるのが困難な顔等の凹凸の多い部分に使用するのに好適である。
【００５０】
なお、上記実施形態は、これを適宜変更した以下の形態にて実施することができる。
・第２の実施形態においては、接触センサ４１〜４４は、透過板３３における図７の上下左右の各端部に設けられていた。しかし、接触センサ４１〜４４の数及び位置はこれに限定されるものではない。例えば、透過板３３の面の中央に１つ設置してもよい。本構成においても、透過板３３の面の中央に肌が接触する場合には、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐのうち多数が肌に接触すると想定される。このため、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと肌との接触面積を確保することができ、第２の実施形態と同様の効果が得られる。
【００５１】
・第２の実施形態においては、透過板３３の上下左右の各端部に赤外線方式の接触センサ４１〜４４が設けられていた。しかし、その接触センサ４１〜４４に替えて静電容量方式のセンサを接触センサ４１〜４４と同じ位置に設けてもよい。
【００５２】
・第１の実施形態においては、各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの周囲に接触センサ２４ａ〜２４ｐが設けられていた。しかし、ＲＦ電極の一側面側に接触センサを設けてもよい。
・第１の実施形態においては、制御装置１１は、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触している旨判断したとき、両電極群２８，２９に高周波電流を供給していた。しかし、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと肌との接触面積（合計）がある程度確保されていれば、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触していなくてもよい。例えば、肌が１０個以上のＲＦ電極に接触している旨判断したとき、両電極群２８，２９に高周波電流を供給してもよい。この場合であっても、接触面積がある程度確保されるため、電流集中を抑制できる。
【００５３】
・第３の実施形態において示した高周波電流を供給するＲＦ電極の組み合わせは一例であって、組み合わせは変更可能である。
・第１〜第３の実施形態においては、高周波電流を皮膚に供給していたが、低周波電流であってもよい。
【００５４】
・第１〜第３の実施形態においては、光源１４としてキセノンフラシュが採用されていた。しかし、光源１４は美容効果が得られるものであれば、これに限らず、ＬＥＤ（発光ダイオード）又はハロゲンランプ等であってもよい。
【００５５】
・第１及び第３の実施形態においては、接触センサ２４ａ〜２４ｐは各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに対応して設けられていた。しかし、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに接触センサが設けられていなくてもよい。例えば、図８に示すように、透過板３３の対角にある２つのＲＦ電極２１ａ及びＲＦ電極２１ｐに対応して接触センサ２４ａ及び接触センサ２４ｐが設けられていてもよい。本構成においては、接触センサ２４ｂ〜２４ｏを省略できる。このように、最も離れた一対のＲＦ電極に接触センサを設けることで、少ないセンサで肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積が確保されているか否かが認識できる。すなわち、接触センサ２４ａ，２４ｐの両方により肌の接触が検出されたときには、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの各組に高周波電流が供給される。このとき、少なくとも領域４５に亘って肌が接触していると想定される。なお、領域４５は、図８に２点鎖線で示されるように、両接触センサ２４ａ，２４ｐを含む透過板３３の対角線に沿って延びる領域である。同図では領域４５内に１０個のＲＦ電極が存在している。よって、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの大半（１６分の１０以上）の面積が肌に接触していることになる。これにより、肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積が確保された状態で高周波電流が供給される。
【００５６】
また、図９に示すように、透過板３３の４つの角部のＲＦ電極２１ａ，２１ｄ，２１ｍ，２１ｐに接触センサ２４ａ，２４ｄ，２４ｍ，２４ｐを設けてもよい。接触センサ２４ａ，２４ｄ，２４ｍ，２４ｐの全てのセンサにより肌の接触が検出されたときには、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの各組に高周波電流が供給される。このとき、領域４５，４６に亘って肌が接触していると想定される。領域４６は、領域４５に交わる対角線に沿って延びる領域である、本例では、領域４５と同様に１０個のＲＦ電極が含まれている。よって、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触していることになる。これにより、肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積が確保された状態で高周波電流が供給される。
【００５７】
上記両構成によれば、接触センサの数を抑制しつつ、肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積を確保した状態で皮膚に高周波電流を供給することができる。このため、上記各実施形態と同様に、電流集中を抑制することができる。
【００５８】
・第１の実施形態、並びに図８及び図９に示した実施形態における静電容量方式のセンサを赤外線方式のセンサに置換してもよい。この場合には、赤外線方式のセンサはＲＦ電極の近傍に設置される。
【００５９】
・第１〜第３の実施形態においては、ＲＦ電極としてＩＴＯからなる透明電極が採用されていた。しかし、ＲＦ電極は透明電極でない例えば銅等を採用してもよい。この場合であっても、光源１４からの光はＲＦ電極間の隙間を通じて肌に照射される。
【００６０】
・第１〜第３の実施形態においては、美容装置は光源１４を備えていたが、光源１４を省略してもよい。この場合であっても、ＲＦ電極を介した高周波電流により美容効果が得られる。
【００６１】
・第１〜第３の実施形態においては、ＲＦ電極は計１６個であったが、ＲＦ電極の数はこれに限定されるものではない。例えば、２つのＲＦ電極で構成されていてもよい。この場合であっても、接触センサの検出結果に基づき、肌とＲＦ電極との接触面積が小さい旨判断された場合には、制御装置１１は、両ＲＦ電極に供給する高周波電流を小さくする若しくは供給を停止する。これにより、肌とＲＦ電極との接触面積が不十分な場合における電流集中を抑制することができる。
【００６２】
・第１〜第３の実施形態においては、接触センサは静電容量方式又は赤外線方式であったが、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐへの肌の接触が検出できれば、接触センサの方式はこれらに限定されるものではない。例えば、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに供給される電流に基づきＲＦ電極への接触の有無を判断してもよい。この場合には、例えば、導線３７，３８にホール素子等の電流センサを設ける。この電流センサの検出結果は制御装置１１に出力される。制御装置１１は、電流センサの検出結果に基づき、ＲＦ電極に電流が供給されるときにはそのＲＦ電極に肌が接触している旨判断する。また、上記方式の他、電磁誘導方式、抵抗膜方式、表面弾性波方式等のセンサであってもよい。また、例えば、肌の色を検知するセンサや肌の水分を検知するセンサであってもよい。さらに、上記各種センサを組み合わせてもよい。
【００６３】
さらに、皮膚のインピーダンスの算出を通じてＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの接触の有無及び接触面積を検出することもできる。具体的には、図１に２点鎖線で示すように、美容装置は、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの何れかの組のＲＦ電極に供給される電流と、そのＲＦ電極に印加される電圧とを検出する電流電圧検出センサ５０を備える。電流電圧検出センサ５０の検出結果は、制御装置１１の判断部１１ｄに出力される。判断部１１ｄは、電流電圧センサの検出結果に基づき皮膚のインピーダンスを算出する。皮膚のインピーダンスは電圧と電流の比で算出することができる。
【００６４】
判断部１１ｄは、算出された皮膚のインピーダンスと、自身のメモリ（図示略）に記憶されるしきい値との比較を通じて、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触しているか否か、さらにはＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと肌との接触面積が十分に確保されているか否かが判断される。
【００６５】
ここで、皮膚のインピーダンスは、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの接触面積に応じて変化する。すなわち、接触面積が大きくなるにつれて、皮膚のインピーダンスは減少する。しきい値は、接触面積が十分に確保された状態でＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触したときの皮膚のインピーダンスを基準に設定される。ここで、皮膚のインピーダンスは、ＲＦ電極間隔距離及び周波数によっても変化するため、それらを加味した上で設定する。
【００６６】
判断部１１ｄは、皮膚のインピーダンスがしきい値以下となったとき、接触面積が十分に確保されたとしてＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに高周波電流を供給する。これによって、上記各実施形態と同様に電流集中を抑制することができる。
【符号の説明】
【００６７】
１１…制御装置、１４…光源、２１ａ〜２１ｐ…ＲＦ電極、２４ａ〜２４ｐ、４１〜４４…接触センサ、３３…透過板。
【技術分野】
【０００１】
この発明は、美容装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、パルス光を肌に照射するとともに、低周波電流又は高周波電流を肌に供給する美容装置が知られている。この美容装置を使用することを通じて、パルス光によって肌の細胞を活性化させるとともに、低周波電流又は高周波電流によって皮膚を適当な温度まで加熱して肌を引き締める美容効果がある。
【０００３】
上記装置として、例えば、特許文献１に記載の構成が公知である。なお、この文献における装置は治療を目的とした治療装置であるが、パルス光及び低周波電流により上述した美容効果を奏することができる。図１０に示すように、装置の探触子であるプローブ１００は、その内部に設けられるパルス光源１０２と、肌に直接押し当てられる透明電極１０１とを備える。プローブ１００は２つ１組で構成される。両透明電極１０１が肌に当てられることで、両透明電極１０１を介して装置からの低周波電流が体内に供給される。また、パルス光源１０２から照射される光は透明電極１０１を介して肌に照射される。本構成によれば、パルス光及び低周波電流による美容効果が同時に得られる。
【０００４】
また、例えば、特許文献２に示される美容装置は、両電極が単一のプローブに配設されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１０３３１号公報
【特許文献２】特開平９−１５４９１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記両装置における電極は、凹凸がある例えば顔等に当てられる。従って、図１１に示すように、透明電極１０１を当てる部位によっては、透明電極１０１と肌との接触面積を十分に確保できず、透明電極１０１の一部のみが肌に接触することがある。透明電極１０１の一部のみが肌に接触した場合には、その一部に集中して電流が流れ込む。これにより、皮膚の温度が上記適当な温度を超えて、期待される美容効果が十分に得られないおそれがある。
【０００７】
この発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、電極及び肌間の電流集中を抑制することができる美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
以下、上記目的を達成するための手段について説明する。
第１の発明は、皮膚との接触を介して皮膚に電流を供給する複数の電極と、
前記電極への電流の供給を制御する制御装置と、前記電極と皮膚との接触を検出する接触センサと、を備え、前記制御装置は、前記接触センサの検出結果に基づき判断される前記電極及び皮膚の接触面積に応じて前記電極へ供給する電流を制御することをその要旨としている。
【０００９】
第２の発明は、前記複数の電極のうち、最も離れて位置する２つの電極に前記接触センサを設けることをその要旨としている。
第３の発明は、縦横に格子状に配設される前記複数の電極のうち角に位置する電極に前記接触センサを設けることをその要旨としている。
【００１０】
第４の発明は、前記電極は２つで１組の複数組にて構成され、前記各電極に前記接触センサを設け、前記制御装置は前記各接触センサの検出結果に基づき組をなす２つの前記電極が皮膚に接触していると判断した組の電極にのみ電流を供給することをその要旨としている。
【００１１】
第５の発明は、前記接触センサは、静電容量方式又は赤外線方式の接触センサであることをその要旨としている。
第６の発明は、前記接触センサは、静電容量方式のものを採用し、同センサは前記複数の電極のうち少なくとも１つの電極の周囲に形成されるとともに、同電極の皮膚側に露出する面と同一面を有することをその要旨としている。
【００１２】
第７の発明は、前記接触センサは、前記電極に供給される電流を検出するとともに、同電極に印加される電圧を検出するセンサと、前記センサの検出結果に基づき皮膚のインピーダンスを算出するとともに、算出されたインピーダンスが、前記電極及び皮膚の接触面積が確保された状態での皮膚のインピーダンスを基準に設定されるしきい値以下であるか否かを判断する判断部とからなることをその要旨としている。
【００１３】
第８の発明は、光を皮膚に照射する光源を、前記複数の電極の背面側に設け、前記電極は透明電極としたことをその要旨としている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、美容装置において、電極及び肌間の電流集中を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１の実施形態における美容装置の構成図。
【図２】第１の実施形態における美容装置の正面図。
【図３】第１の実施形態における美容装置の内部構成を示した断面図。
【図４】第１及び第３の実施形態における美容装置の下面図。
【図５】第１の実施形態におけるＲＦ電極の側面図。
【図６】第１の実施形態におけるＲＦ電極の下面図。
【図７】第２の実施形態における美容装置の下面図。
【図８】他の実施形態における美容装置の下面図。
【図９】他の実施形態における美容装置の下面図。
【図１０】従来のプローブの断面図。
【図１１】従来のプローブの電極が肌に当てられたときの説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
（第１の実施形態）
以下、本発明にかかる美容装置を具体化した第１の実施形態について図１〜６を参照して説明する。本例における美容装置では、パルス光及び高周波電流を皮膚に与えることで美容効果が得られる。
【００１７】
まず、美容装置におけるパルス光に関する構成について説明する。
図１に示すように、美容装置は、制御装置１１と、光源用照射回路１３と、光源１４とを備える。制御装置１１は、ＲＦ制御回路１１ａと、センサ制御回路１１ｂと、光源制御回路１１ｃとを備えてなる。光源制御回路１１ｃは、光源用照射回路１３に制御信号を出力する。この光源用照射回路１３は、制御信号に基づき、バッテリ（内部電源）からの電力を光源１４へ供給する。光源１４は電力が供給されることで発光する。本例では、光源１４として、キセノンフラシュを採用している。キセノンフラシュでは皮膚の浅い部分（表皮）を温めるとともに、同部分の細胞を活性化させる効果が得られる。なお、本例では、皮膚に悪影響を及ぼすとされる４００ｎｍ以下の波長の光は光学フィルタ（図示略）でカットされる。
【００１８】
次に、美容装置における高周波電流に関する構成について説明する。
図１に示すように、美容装置は、ＲＦ（Radio Frequency）発信機１５と、両電極群２８，２９と、接触センサ２４ａ〜２４ｐと、を備える。ＲＦ制御回路１１ａは、ＲＦ発信機１５に制御信号を出力する。ＲＦ発信機１５は、制御信号に基づき、バッテリ（内部電源）からの直流電流を高周波電流（交流電流）に変換するとともに、変換した高周波電流を第１及び第２の電極群２８，２９へ供給する。
【００１９】
第１の電極群２８はＲＦ電極２１ａ〜２１ｈからなり、第２の電極群はＲＦ電極２１ｉ〜２１ｐからなる。各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）で形成された透明電極が採用されている。第１の電極群２８のＲＦ電極２１ａ〜２１ｈは導線３７を介して並列接続されている。同様に、第２の電極群２９のＲＦ電極２１ｉ〜２１ｐは導線３８を介して並列接続されている。各導線３７，３８はＲＦ発信機１５に接続されている。
【００２０】
両電極群２８，２９が肌に当てられたとき、皮膚を介して第１の電極群２８（ＲＦ電極２１ａ〜２１ｈ）及び第２の電極群２９（ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐ）間で電流の授受がなされる。このとき、皮膚が電極群２８，２９間を接続する電気的抵抗となる。これにより、ＲＦ発信機１５及び両電極群２８，２９を備えた装置の内部回路が電気的に閉じて、同回路に高周波電流が流れる。このため、皮膚に高周波電流を供給することができる。すなわち、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に当てられたときには、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの設置範囲全域に亘る皮膚に高周波電流を供給することができる。皮膚は電気的抵抗として作用するため、皮膚にて電気エネルギが熱エネルギとして消費される。これにより、皮膚（真皮、皮下脂肪）が温められて真皮のコラーゲンや皮下脂肪が収縮して肌を引き締めることができる。ここで、皮膚の温度は加熱しすぎても期待される美容効果が得られない。また、光源１４からのパルス光の照射によって表皮が温められることで、皮膚のインピーダンス（電気的抵抗）が下がる。従って、高周波電流を確実に表皮より深い真皮及び皮下脂肪まで到達させることができるため、相乗効果が得られる。
【００２１】
図４に示すように、各接触センサ２４ａ〜２４ｐは各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに対応して設けられている。本例において、接触センサ２４ａ〜２４ｐは、静電容量方式のセンサが採用されている。本方式のセンサでは、接触センサ２４ａ〜２４ｐと皮膚との接触による静電容量の変化に基づき皮膚の接触の有無が検出される。図１に示すように、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果はセンサ制御回路１１ｂに出力される。センサ制御回路１１ｂは、例えば、接触センサ２４ａの検出結果に基づき接触センサ２４ａに肌が接触している旨認識した場合には、接触センサ２４ａに対応するＲＦ電極２１ａに肌が接触していると判断する。従って、制御装置１１は、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、全ての接触センサ２４ａ〜２４ｐ、すなわち全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触している旨判断した場合、肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積が十分に確保されているとして、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに高周波電流を供給する。このときの電流は、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触したことを想定した値に設定されている。制御装置１１は、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、一部のＲＦ電極にしか肌が接触していないと判断した場合には、両電極群２８，２９に電力を供給しない。
【００２２】
また、図１に示すように、美容装置は、ユーザによって操作される電源スイッチ１６及び光照射スイッチ１７を備える。電源スイッチ１６及び光照射スイッチ１７は、図２に示すように、装置の外形をなす樹脂製のハウジング３０に取り付けられている。電源スイッチ１６が操作されると、制御装置１１等の装置各部にバッテリ電力（動作電力）が供給される。そして、センサ制御回路１１ｂは、接触センサ２４ａ〜２４ｐからの検出結果を待つ待機状態となる。この待機状態において、センサ制御回路１１ｂは、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触している旨判断した場合、その旨を示す信号をＲＦ制御回路１１ａに出力する。ＲＦ制御回路１１ａはセンサ制御回路１１ｂからの信号に基づき制御信号（高周波電流供給指令信号）をＲＦ発信機１５へ出力する。これにより、ＲＦ発信機１５は、両電極群２８，２９に高周波電流を供給可能な状態となる。このとき、両電極群２８，２９間に肌が接触していれば、ＲＦ発信機１５からの高周波電流が皮膚に供給される。この状態において、電源スイッチ１６が操作されると、装置各部への電力供給が遮断される。そして、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐ及び皮膚への電力供給も停止される。
【００２３】
美容装置の各部に動作電力が供給された状態において、光照射スイッチ１７が操作されると、その旨の操作信号が光源制御回路１１ｃに出力される。光源制御回路１１ｃは、光照射スイッチ１７からの操作信号を受けると、光源用照射回路１３を介して図示しないバッテリの電力を光源１４に供給する。これにより、光源１４が所定周期毎に発光する。光源制御回路１１ｃは、光照射スイッチ１７からの操作信号を再び受けると、光源用照射回路１３を介して光源１４への電力供給を停止する。
【００２４】
以上のように、電源スイッチ１６の操作により、高周波電流が供給される。また、高周波電流が供給されている状態において、光照射スイッチ１７を操作することで、高周波電流及びパルス光を同時に供給することができる。なお、美容装置の電源は、バッテリに限らず商用電源であってもよい。この場合、装置のバッテリを省略できる。
【００２５】
次に、光源１４及び両電極群２８，２９の構成について、図３〜図６を参照しつつ説明する。
図３に示すように、ハウジング３０の底部には、透過板３３が嵌め込まれている。この透過板３３は、光透過性及び非導電性を有する例えば、石英ガラス若しくはアクリル樹脂からなる。ハウジング３０の内部には反射部材３２が設けられている。反射部材３２は上側に向かうにつれて穴径が小さくなる傘状に形成されている。また、反射部材３２の内面は、光を反射させる性質を有する例えばアルミニウムの層が形成される。反射部材３２の内頂部には、管球からなる光源１４が設けられている。従って、反射部材３２は、光源１４からその上側に拡散する光を透過板３３側に反射させる。光源１４からのパルス光は透過板３３を介して皮膚に照射される。
【００２６】
図４に示すように、透過板３３の外側に露出する面には計１６個のＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが配置される。ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、左右上下方向に沿って４×４の行列をなすように配置されている。ここで、左右方向に並ぶ電極を行とし、上下方向に並ぶ電極を列とする。上側から１行目にはＲＦ電極２１ａ〜２１ｄが配置され、２行目にはＲＦ電極２１ｅ〜２１ｈが配置され、３行目にはＲＦ電極２１ｉ〜２１ｌが配置され、４行目にはＲＦ電極２１ｍ〜２１ｐが配置されている。すなわち、左から順に１列目にはＲＦ電極２１ａ，２１ｅ，２１ｉ，２１ｍが配置され、２列目にはＲＦ電極２１ｂ，２１ｆ，２１ｊ，２１ｎが配置され、３列目にはＲＦ電極２１ｃ，２１ｇ，２１ｋ，２１ｏが配置され、４列目にはＲＦ電極２１ｄ，２１ｈ，２１ｌ，２１ｐが配置されている。
【００２７】
図５に示すように、各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの周囲には、接触センサ２４ａ〜２４ｐが設けられている。接触センサ２４ａ〜２４ｐは、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの全周に亘って沿う態様にて設けられている。接触センサ２４ａ〜２４ｐ及びＲＦ電極２１ａ〜２１ｉは、透過板３３の反対側に同一の接触面２５を形成する。ここで、図６に示すように、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐを皮膚に対して移動させるときには、接触面２５の外側から皮膚が接触していく。これにより、接触面２５の一部にのみ皮膚が接触した場合であれ、接触センサ２４ａ〜２４ｐは確実に肌の接触を検出することができる。なお、透過板３３及び皮膚がそれらの全面で面接触する態様でＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが皮膚に当てられた場合には、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐ及び接触センサ２４ａ〜２４ｐはほぼ同時に皮膚に接触する。以上のように、肌がＲＦ電極２１ａ〜２１ｐにのみ接触することを抑制することができる。
【００２８】
ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、透過板３３に紫外線硬化型の接着剤により接着されている。前述のように、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとしてＩＴＯからなる透明電極が採用されている。このため、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐを透過板３３の全域に亘って配置した場合であれ、それらが光源１４からの光を遮ることはない。
【００２９】
図３に示すように、第１の電極群２８を構成するＲＦ電極２１ａ〜２１ｈは、透過板３３の厚さ方向に貫通する導線３７にて並列接続されている。また、第２の電極群２９を構成するＲＦ電極２１ｉ〜２１ｐは、透過板３３の厚さ方向に貫通する導線３８にて並列接続されている。両導線３７，３８は、それぞれハウジング３０の内部のＲＦ発信機１５に接続されている。また、各接触センサ２４ａ〜２４ｐには、透過板３３の厚さ方向に貫通する導線３９が接続されている。この導線３９は、それぞれハウジング３０の内部の制御装置１１（センサ制御回路１１ｂ）に接続されている。
【００３０】
以上のように構成される美容装置は、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に当てられて使用される。ここで、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは肌に対して変形しない透過板３３に配置されて、顔や腕等の凹凸がある各部に当てられるため、常に、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触するとは限らない。例えば、図４に２点鎖線で示すように、肌が領域４０における部分にのみ接触して、領域４０に位置する接触センサ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｅ，２４ｆにのみ接触する場合がある。このとき、制御装置１１は、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、接触センサ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｅ，２４ｆを含む領域４０以外のＲＦ電極２１ｄ，２１ｇ〜２１ｐに肌が接触していない旨判断して、両電極群２８，２９に高周波電流を供給しない。換言すると、何れかのＲＦ電極に肌が接触していない旨判断されると、肌及びＲＦ電極の接触面積が不十分であるとして、高周波電流が供給されない。
【００３１】
制御装置１１は、高周波電流の供給中においても所定周期毎に接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触しているか否か判断する。そして、制御装置１１は、何れかのＲＦ電極に肌が接触していない旨判断した時点で、両電極群２８，２９への高周波電流の供給を停止する。
【００３２】
ここで、接触センサ２４ａ〜２４ｐを備えない従来の美容装置では、例えば、肌が全ての第２の電極群２９と、第１の電極群２８のうちＲＦ電極２１ａとに接触した場合、本来８つのＲＦ電極２１ａ〜２１ｈに分散される電流が１つのＲＦ電極２１ａに集中して流れる。本例では、肌が全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに接触した旨判断されたことを条件に高周波電流が供給されるため、上記のような電流集中の発生を抑制することができる。これにより、真皮を適切な温度に加熱することができ、上述のような美容効果が確実に得られる。また、美容効果が期待できない状況での電流供給を抑制できるところ、無駄な電力消費を低減することができる。
【００３３】
以上、説明した実施形態によれば、以下の作用効果を奏することができる。
（１）制御装置１１は、何れかのＲＦ電極に肌が接触していない旨判断すると、肌及びＲＦ電極の接触面積が不十分であるとして、両電極群２８，２９に高周波電流を供給しない。従って、肌が一部のＲＦ電極に接触した状態において、その接触するＲＦ電極に電流が集中することが抑制される。これにより、上述した美容効果が確実に得られる。
【００３４】
（２）接触センサ２４ａ〜２４ｐは、静電容量方式のセンサが採用されている。本方式のセンサにおいては、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと一体で形成することができる。よって、より確実に肌がＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに接触しているか否かを検出できる。
【００３５】
（３）ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとしてＩＴＯからなる透明電極が採用されている。このため、光源１４からのパルス光がＲＦ電極２１ａ〜２１ｐにより遮られることはない。
（４）接触センサ２４ａ〜２４ｐは、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと同一の接触面２５を有する態様で、各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの周囲に設けられている。これにより、接触面２５の一部にのみ肌が接触する場合であれ、接触センサ２４ａ〜２４ｐは確実に肌の接触を検出することができる。
【００３６】
（第２の実施形態）
以下、本発明にかかる美容装置を具体化した第２の実施形態について、図７を参照して説明する。この実施形態の美容装置は、電極と肌との接触の有無を検出する方式が上記第１の実施形態と異なっている。以下、第１の実施形態との相違点を中心に説明する。なお、この実施形態の美容装置は、図１に示す第１の実施形態の美容装置と同様の構成を備えている。
【００３７】
図７に示すように、接触センサ４１〜４４は、透過板３３における同図の上下左右の各端部に設けられる。すなわち、透過板３３の周縁部において接触センサ４１はＲＦ電極２１ｂ，２１ｃの間に位置し、接触センサ４２はＲＦ電極２１ｎ，２１ｏの間に位置し、接触センサ４３はＲＦ電極２１ｈ，２１ｌの間に位置し、接触センサ４４はＲＦ電極２１ｅ，２１ｉの間に位置する。
【００３８】
本実施形態における接触センサ４１〜４４は赤外線方式が採用されている。本方式においては、人体が放射する赤外線を受光して、これを電気信号に変換する。この電気信号を赤外線の検出結果として制御装置１１（センサ制御回路１１ｂ）に出力する。ここで、人体が接触センサ４１〜４４に近づくにつれて接触センサ４１〜４４が出力する電圧レベルは大きくなる。制御装置１１は、各接触センサ４１〜４４からの電気信号の電圧レベルが一定値を超えたとき、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触した旨の判断をする。これは、透過板３３の周縁部の４つの接触センサ４１〜４４により肌が検出された場合、それらの内側に存在するＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは当然に肌に接触していると考えられるからである。なお、一定値は、肌が接触センサ４１〜４４付近のＲＦ電極に接触したときに接触センサ４１〜４４において生成される電気信号の電圧レベル未満の値に設定されている。ここで、接触センサ４１〜４４付近のＲＦ電極とは、例えば、接触センサ４１であればＲＦ電極２１ｂ，２１ｃ，２１ｆ，２１ｇである。そして、制御装置１１は、接触センサ４１〜４４の検出結果に基づきＲＦ発信機１５を介して両電極群２８，２９に高周波電流を供給する。すなわち、接触センサ４１〜４４からの電気信号のうち１つでも電圧レベルが一定値を超えないものがある場合には、肌が接触していない電極が存在する、すなわちＲＦ電極２１ａ〜２１ｉと肌との接触面積が不十分であるとして、両電極群２８，２９に高周波電流を供給しない。これにより、第１の実施形態と同様に、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの一部のＲＦ電極に肌が接触する場合にその接触した部分に電流が集中することが抑制される。
【００３９】
制御装置１１は、高周波電流の供給中においても所定周期毎に接触センサ４１〜４４の検出結果に基づき、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触しているか否か判断する。そして、接触センサ４１〜４４のうち１つでも肌を検出していない旨判断される場合には、その検出していないセンサ付近のＲＦ電極が肌に接触していないとして両電極群２８，２９への高周波電流の供給が停止される。
【００４０】
本実施形態においては、接触センサ４１〜４４を透過板３３の周縁部において、４つの辺の中央に設けることにより、４つの接触センサ４１〜４４だけで各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に全て接触しているか否かを検出することができる。また、接触センサ４１〜４４は、透過板３３における図４の上下左右の各端部に設けられているため、光源１４からのパルス光を遮ることはない。さらに、接触センサ４１〜４４は４つで済むため、美容装置をより簡易に構成できる。
【００４１】
以上、説明した実施形態によれば、第１の実施形態の（１）及び（３）の作用効果に加え、以下の作用効果を奏することができる。
（５）接触センサ４１〜４４は赤外線方式が採用されている。制御装置１１は、４つの接触センサ４１〜４４からの検出結果（電気信号）の電圧レベルがすべて一定値を超えたとき、両電極群２８，２９に高周波電流を供給する。このように、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと肌との接触面積が十分に確保されたときに高周波電流が供給される。従って、肌が一部のＲＦ電極に接触して、その肌に電流が集中することを抑制できる。これにより、美容効果を確実に得ることができる。
【００４２】
（第３の実施形態）
以下、本発明にかかる美容装置を具体化した第３の実施形態について説明する。この実施形態の美容装置は、ＲＦ電極が２つで１組として制御されている点が第１の実施形態と異なっている。以下、第１の実施形態との相違点を中心に説明する。なお、この実施形態の美容装置は、図１に示す第１の実施形態の美容装置と同様の構成を備えている。
【００４３】
本実施形態ではＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、ＲＦ電極２１ａ及びＲＦ電極２１ｂの組み合わせ、ＲＦ電極２１ｃ及びＲＦ電極２１ｄの組み合わせ、以下同様にして、計８組で構成されている。各ＲＦ電極はＲＦ発信機１５に接続されている。制御装置１１は、ＲＦ発信機１５を介して各組のＲＦ電極にそれぞれ高周波電流を供給する。すなわち、ＲＦ発信機１５は例えば、各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐへの電力経路（導線３７，３８等）を開閉するスイッチング回路を備える。制御装置１１は、ＲＦ発信機１５のスイッチング回路のスイッチング動作を通じて、高周波電流を供給するＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの組を高速で切り替える。ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの各組に供給される電流は第１の実施形態における両電極群２８，２９間に供給される電流より小さく（例えば、８分の１程度）設定されている。
【００４４】
以上のように構成される美容装置は、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に当てられて使用される。ここで、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐは、顔や腕等の凹凸がある各部に当てられるため、常に、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触するとは限らない。例えば、図４に示すように、肌が領域４０に位置する接触センサ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｅ，２４ｆにのみ接触する場合がある。このとき、制御装置１１は、接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、接触センサ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｅ，２４ｆを含む領域４０に肌が接触している旨認識する。そして、制御装置１１は領域４０に含まれるＲＦ電極２１ａ，２１ｂの組み合わせ及びＲＦ電極２１ｅ，２１ｆの組み合わせの計２組に交互に高周波電流を供給する。ここで、接触センサ２４ｃには肌が接触しているものの、接触センサ２４ｄは肌の接触を検出していない。従って、それら接触センサ２４ｃ，２４ｄに対応するＲＦ電極２１ｃ，２１ｄの組には高周波電流が供給されない。制御装置１１は、所定周期毎に接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき、高周波電流を供給するＲＦ電極の組を更新する。
【００４５】
また、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの組毎に切り替えて高周波電流を供給することで、各組に供給する電力を小さくすることができる。
さらに、肌が接触していると認識される領域の増大に応じて、その増大した領域におけるＲＦ電極の組への高周波電流の供給が開始される。従って、例えば、２つの電極から構成される上記背景技術で説明した美容装置と異なり、肌とＲＦ電極との接触面積に関わらず、単位肌面積当たりに供給される電力をほぼ一定に保つことができる。
【００４６】
以上により、第１の実施形態と同様に、ＲＦ電極及び肌間の電流集中を抑制できる。また、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触していない場合であっても、接触しているＲＦ電極を介して皮膚に高周波電流を供給して、上述のような美容効果が得られる。
【００４７】
また、肌が接触していると認識される領域に存在するＲＦ電極の組にのみ高周波電流が供給される。従って、肌が接触していないと認識されるＲＦ電極、上記例ではＲＦ電極２１ｄ，２１ｇ〜２１ｐに高周波電流を供給するべく、ＲＦ発信機１５を介して行われるスイッチング動作を省略できる。これにより、肌が接触するＲＦ電極の組間で順に高周波電流を供給することができる。このため、ＲＦ電極が接触する肌により高い頻度で高周波電流を供給して迅速に美容効果を得ることができる。
【００４８】
なお、本実施形態においても、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの一部分のみに肌が接触することで、多少の電流集中は考えられるものの、上述のように、各組に供給される電力が比較的小さいため大きな電流集中は発生しない。また、そもそも、ＲＦ電極のサイズが小さいので、ＲＦ電極の一部分に肌が接触する状況が発生しづらい。
【００４９】
以上、説明した実施形態によれば、第１の実施形態の（１）〜（４）の作用効果に加え、以下の作用効果を奏することができる。
（６）接触センサ２４ａ〜２４ｐの検出結果に基づき肌が接触していると認識される領域に存在するＲＦ電極の組に順に高周波電流が供給される。これにより、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの一部の組に肌が当接した場合であっても、単位肌面積当たりに供給される電力をほぼ一定に保つことができる。これにより、ＲＦ電極及び肌間の電力集中を抑制することができる。また、一部のＲＦ電極の組にしか肌が接触していない場合であっても、その接触するＲＦ電極の組について高周波電流を供給することができる。従って、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐを接触させるのが困難な顔等の凹凸の多い部分に使用するのに好適である。
【００５０】
なお、上記実施形態は、これを適宜変更した以下の形態にて実施することができる。
・第２の実施形態においては、接触センサ４１〜４４は、透過板３３における図７の上下左右の各端部に設けられていた。しかし、接触センサ４１〜４４の数及び位置はこれに限定されるものではない。例えば、透過板３３の面の中央に１つ設置してもよい。本構成においても、透過板３３の面の中央に肌が接触する場合には、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐのうち多数が肌に接触すると想定される。このため、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと肌との接触面積を確保することができ、第２の実施形態と同様の効果が得られる。
【００５１】
・第２の実施形態においては、透過板３３の上下左右の各端部に赤外線方式の接触センサ４１〜４４が設けられていた。しかし、その接触センサ４１〜４４に替えて静電容量方式のセンサを接触センサ４１〜４４と同じ位置に設けてもよい。
【００５２】
・第１の実施形態においては、各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの周囲に接触センサ２４ａ〜２４ｐが設けられていた。しかし、ＲＦ電極の一側面側に接触センサを設けてもよい。
・第１の実施形態においては、制御装置１１は、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触している旨判断したとき、両電極群２８，２９に高周波電流を供給していた。しかし、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと肌との接触面積（合計）がある程度確保されていれば、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触していなくてもよい。例えば、肌が１０個以上のＲＦ電極に接触している旨判断したとき、両電極群２８，２９に高周波電流を供給してもよい。この場合であっても、接触面積がある程度確保されるため、電流集中を抑制できる。
【００５３】
・第３の実施形態において示した高周波電流を供給するＲＦ電極の組み合わせは一例であって、組み合わせは変更可能である。
・第１〜第３の実施形態においては、高周波電流を皮膚に供給していたが、低周波電流であってもよい。
【００５４】
・第１〜第３の実施形態においては、光源１４としてキセノンフラシュが採用されていた。しかし、光源１４は美容効果が得られるものであれば、これに限らず、ＬＥＤ（発光ダイオード）又はハロゲンランプ等であってもよい。
【００５５】
・第１及び第３の実施形態においては、接触センサ２４ａ〜２４ｐは各ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに対応して設けられていた。しかし、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに接触センサが設けられていなくてもよい。例えば、図８に示すように、透過板３３の対角にある２つのＲＦ電極２１ａ及びＲＦ電極２１ｐに対応して接触センサ２４ａ及び接触センサ２４ｐが設けられていてもよい。本構成においては、接触センサ２４ｂ〜２４ｏを省略できる。このように、最も離れた一対のＲＦ電極に接触センサを設けることで、少ないセンサで肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積が確保されているか否かが認識できる。すなわち、接触センサ２４ａ，２４ｐの両方により肌の接触が検出されたときには、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの各組に高周波電流が供給される。このとき、少なくとも領域４５に亘って肌が接触していると想定される。なお、領域４５は、図８に２点鎖線で示されるように、両接触センサ２４ａ，２４ｐを含む透過板３３の対角線に沿って延びる領域である。同図では領域４５内に１０個のＲＦ電極が存在している。よって、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの大半（１６分の１０以上）の面積が肌に接触していることになる。これにより、肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積が確保された状態で高周波電流が供給される。
【００５６】
また、図９に示すように、透過板３３の４つの角部のＲＦ電極２１ａ，２１ｄ，２１ｍ，２１ｐに接触センサ２４ａ，２４ｄ，２４ｍ，２４ｐを設けてもよい。接触センサ２４ａ，２４ｄ，２４ｍ，２４ｐの全てのセンサにより肌の接触が検出されたときには、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの各組に高周波電流が供給される。このとき、領域４５，４６に亘って肌が接触していると想定される。領域４６は、領域４５に交わる対角線に沿って延びる領域である、本例では、領域４５と同様に１０個のＲＦ電極が含まれている。よって、全てのＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触していることになる。これにより、肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積が確保された状態で高周波電流が供給される。
【００５７】
上記両構成によれば、接触センサの数を抑制しつつ、肌とＲＦ電極２１ａ〜２１ｐとの接触面積を確保した状態で皮膚に高周波電流を供給することができる。このため、上記各実施形態と同様に、電流集中を抑制することができる。
【００５８】
・第１の実施形態、並びに図８及び図９に示した実施形態における静電容量方式のセンサを赤外線方式のセンサに置換してもよい。この場合には、赤外線方式のセンサはＲＦ電極の近傍に設置される。
【００５９】
・第１〜第３の実施形態においては、ＲＦ電極としてＩＴＯからなる透明電極が採用されていた。しかし、ＲＦ電極は透明電極でない例えば銅等を採用してもよい。この場合であっても、光源１４からの光はＲＦ電極間の隙間を通じて肌に照射される。
【００６０】
・第１〜第３の実施形態においては、美容装置は光源１４を備えていたが、光源１４を省略してもよい。この場合であっても、ＲＦ電極を介した高周波電流により美容効果が得られる。
【００６１】
・第１〜第３の実施形態においては、ＲＦ電極は計１６個であったが、ＲＦ電極の数はこれに限定されるものではない。例えば、２つのＲＦ電極で構成されていてもよい。この場合であっても、接触センサの検出結果に基づき、肌とＲＦ電極との接触面積が小さい旨判断された場合には、制御装置１１は、両ＲＦ電極に供給する高周波電流を小さくする若しくは供給を停止する。これにより、肌とＲＦ電極との接触面積が不十分な場合における電流集中を抑制することができる。
【００６２】
・第１〜第３の実施形態においては、接触センサは静電容量方式又は赤外線方式であったが、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐへの肌の接触が検出できれば、接触センサの方式はこれらに限定されるものではない。例えば、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに供給される電流に基づきＲＦ電極への接触の有無を判断してもよい。この場合には、例えば、導線３７，３８にホール素子等の電流センサを設ける。この電流センサの検出結果は制御装置１１に出力される。制御装置１１は、電流センサの検出結果に基づき、ＲＦ電極に電流が供給されるときにはそのＲＦ電極に肌が接触している旨判断する。また、上記方式の他、電磁誘導方式、抵抗膜方式、表面弾性波方式等のセンサであってもよい。また、例えば、肌の色を検知するセンサや肌の水分を検知するセンサであってもよい。さらに、上記各種センサを組み合わせてもよい。
【００６３】
さらに、皮膚のインピーダンスの算出を通じてＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの接触の有無及び接触面積を検出することもできる。具体的には、図１に２点鎖線で示すように、美容装置は、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの何れかの組のＲＦ電極に供給される電流と、そのＲＦ電極に印加される電圧とを検出する電流電圧検出センサ５０を備える。電流電圧検出センサ５０の検出結果は、制御装置１１の判断部１１ｄに出力される。判断部１１ｄは、電流電圧センサの検出結果に基づき皮膚のインピーダンスを算出する。皮膚のインピーダンスは電圧と電流の比で算出することができる。
【００６４】
判断部１１ｄは、算出された皮膚のインピーダンスと、自身のメモリ（図示略）に記憶されるしきい値との比較を通じて、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに肌が接触しているか否か、さらにはＲＦ電極２１ａ〜２１ｐと肌との接触面積が十分に確保されているか否かが判断される。
【００６５】
ここで、皮膚のインピーダンスは、ＲＦ電極２１ａ〜２１ｐの接触面積に応じて変化する。すなわち、接触面積が大きくなるにつれて、皮膚のインピーダンスは減少する。しきい値は、接触面積が十分に確保された状態でＲＦ電極２１ａ〜２１ｐが肌に接触したときの皮膚のインピーダンスを基準に設定される。ここで、皮膚のインピーダンスは、ＲＦ電極間隔距離及び周波数によっても変化するため、それらを加味した上で設定する。
【００６６】
判断部１１ｄは、皮膚のインピーダンスがしきい値以下となったとき、接触面積が十分に確保されたとしてＲＦ電極２１ａ〜２１ｐに高周波電流を供給する。これによって、上記各実施形態と同様に電流集中を抑制することができる。
【符号の説明】
【００６７】
１１…制御装置、１４…光源、２１ａ〜２１ｐ…ＲＦ電極、２４ａ〜２４ｐ、４１〜４４…接触センサ、３３…透過板。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
皮膚との接触を介して皮膚に電流を供給する複数の電極と、
前記電極への電流の供給を制御する制御装置と、
前記電極と皮膚との接触を検出する接触センサと、を備え、
前記制御装置は、前記接触センサの検出結果に基づき判断される前記電極及び皮膚の接触面積に応じて前記電極へ供給する電流を制御する美容装置。
【請求項２】
請求項１に記載の美容装置において、
前記複数の電極のうち、最も離れて位置する２つの電極に前記接触センサを設ける美容装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の美容装置において、
縦横に格子状に配設される前記複数の電極のうち角に位置する電極に前記接触センサを設ける美容装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の美容装置において、
前記電極は２つで１組の複数組にて構成され、
前記各電極に前記接触センサを設け、
前記制御装置は前記各接触センサの検出結果に基づき組をなす２つの前記電極が皮膚に接触していると判断した組の電極にのみ電流を供給する美容装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の美容装置において、
前記接触センサは、静電容量方式又は赤外線方式の接触センサである美容装置。
【請求項６】
請求項５に記載の美容装置において、
前記接触センサは、静電容量方式のものを採用し、同センサは前記複数の電極のうち少なくとも１つの電極の周囲に形成されるとともに、同電極の皮膚側に露出する面と同一面を有する美容装置。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の美容装置において、
前記接触センサは、前記電極に供給される電流を検出するとともに、同電極に印加される電圧を検出するセンサと、前記センサの検出結果に基づき皮膚のインピーダンスを算出するとともに、算出されたインピーダンスが、前記電極及び皮膚の接触面積が確保された状態での皮膚のインピーダンスを基準に設定されるしきい値以下であるか否かを判断する判断部とからなる美容装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の美容装置において、
光を皮膚に照射する光源を、前記複数の電極の背面側に設け、
前記電極は透明電極とした美容装置。
【請求項１】
皮膚との接触を介して皮膚に電流を供給する複数の電極と、
前記電極への電流の供給を制御する制御装置と、
前記電極と皮膚との接触を検出する接触センサと、を備え、
前記制御装置は、前記接触センサの検出結果に基づき判断される前記電極及び皮膚の接触面積に応じて前記電極へ供給する電流を制御する美容装置。
【請求項２】
請求項１に記載の美容装置において、
前記複数の電極のうち、最も離れて位置する２つの電極に前記接触センサを設ける美容装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の美容装置において、
縦横に格子状に配設される前記複数の電極のうち角に位置する電極に前記接触センサを設ける美容装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の美容装置において、
前記電極は２つで１組の複数組にて構成され、
前記各電極に前記接触センサを設け、
前記制御装置は前記各接触センサの検出結果に基づき組をなす２つの前記電極が皮膚に接触していると判断した組の電極にのみ電流を供給する美容装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の美容装置において、
前記接触センサは、静電容量方式又は赤外線方式の接触センサである美容装置。
【請求項６】
請求項５に記載の美容装置において、
前記接触センサは、静電容量方式のものを採用し、同センサは前記複数の電極のうち少なくとも１つの電極の周囲に形成されるとともに、同電極の皮膚側に露出する面と同一面を有する美容装置。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の美容装置において、
前記接触センサは、前記電極に供給される電流を検出するとともに、同電極に印加される電圧を検出するセンサと、前記センサの検出結果に基づき皮膚のインピーダンスを算出するとともに、算出されたインピーダンスが、前記電極及び皮膚の接触面積が確保された状態での皮膚のインピーダンスを基準に設定されるしきい値以下であるか否かを判断する判断部とからなる美容装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の美容装置において、
光を皮膚に照射する光源を、前記複数の電極の背面側に設け、
前記電極は透明電極とした美容装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１１−１９４１７３（Ｐ２０１１−１９４１７３Ａ）
【公開日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−６７２８８（Ｐ２０１０−６７２８８）
【出願日】平成２２年３月２４日（２０１０．３．２４）
【出願人】（０００００５８３２）パナソニック電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２４日（２０１０．３．２４）
【出願人】（０００００５８３２）パナソニック電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
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