育苗方法及び育苗施設
【課題】既存の育苗施設を有効に利用して、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿、加温し、苗の養生育成を低コストで実現する。
【解決手段】育苗室(1)内の架台(3)上に載置する複数の育苗ベンチ(2,…)と、育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に被覆する第一の被覆材(4,…)と、第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて被覆し、且つ、その下端が育苗ベンチ(2,…)より下位になるような第二の被覆材(6,…)と、育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧する細霧管(8,…)とから構成する。育苗過程における適期に、まず第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、その後に第一の被覆材(4,…)を解除すると共に、温湯の噴霧を停止しながら養生育苗する。
【解決手段】育苗室(1)内の架台(3)上に載置する複数の育苗ベンチ(2,…)と、育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に被覆する第一の被覆材(4,…)と、第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて被覆し、且つ、その下端が育苗ベンチ(2,…)より下位になるような第二の被覆材(6,…)と、育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧する細霧管(8,…)とから構成する。育苗過程における適期に、まず第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、その後に第一の被覆材(4,…)を解除すると共に、温湯の噴霧を停止しながら養生育苗する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、育苗方法及び育苗施設に関する。
【背景技術】
【0002】
接ぎ木育苗装置において、接ぎ木された苗を養生するための養生ミニハウス内に接ぎ木苗を植えたトレイ用ベンチを設け、このベンチの下方に貯水槽を設け、この貯水槽内に設けられた一対の高圧空気配管の多数の空気噴出口から互いに対向する方向に空気を噴出し、対向する方向に噴出する空気が衝突して、細かい気泡を発生させ水蒸気を発散させるものは、公知である。
【特許文献1】特開平8−242702号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
この発明は、既存の育苗室を利用して、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿、加温をし、苗の養生を低コストで実現できる育苗方法及び育苗施設を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【0004】
請求項1の発明は、育苗室(1)内の架台(3)上に複数の苗を植えた育苗ベンチ(2,…)を載置し、前記育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に第一の被覆材(4,…)で被覆し、前記第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて第二の被覆材(6,…)により、該第二の被覆材(6,…)の下端が前記育苗ベンチ(2,…)より下位になるように覆い、前記育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧し、育苗過程における適期に前記第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、その後に第一の被覆材(4,…)を解除すると共に、温湯の噴霧を停止することを特徴とする育苗方法とする。
【0005】
請求項2の発明は、育苗室(1)内の架台(3)上に載置する複数の育苗ベンチ(2,…)と、前記育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に被覆する第一の被覆材(4,…)と、前記第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて被覆し、且つ、その下端が前記育苗ベンチ(2,…)より下位になるような第二の被覆材(6,…)と、前記育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧する細霧管(8,…)と、からなる育苗施設とする。
【0006】
前記構成によると、請求項1及び請求項2の発明は、育苗室(1)内の架台(3)上に複数の育苗ベンチ(2,…)を載置し、育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に第一の被覆材(4,…)で被覆し、第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて第二の被覆材(6,…)で育苗ベンチ(2,…)の下位まで覆い、育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で細霧管(8,…)から温湯を噴霧しながら苗を養生育苗する。そして、育苗過程における適期に、まず第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、その後に第一の被覆材(4,…)を解除すると共に、細霧管(8,…)の温湯の噴霧を停止しながら苗を養生育成する。
【発明の効果】
【0007】
請求項1の発明及び請求項2の発明は、既存の育苗施設を有効に活用しながら、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿状態を保持しながら第一の被覆材(4,…)及び第二の被覆材(6,…)の被覆、解除状態を変更することにより、加温状態を変更することができ、苗の養生を低コストで容易に実現することができる。また、育苗過程において、まず、第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、次いで、第一の被覆材(4,…)の被覆を解除すると共に、温湯噴霧を停止することにより、育苗状態に合わせて加湿状態及び加温状態を調節することができ、圃場栽培に適応した良質の苗を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
以下、本発明の実施形態について説明する。図1には育苗室の側面図が図示されている。
育苗室1内には前後方向に長い複数の架台3,…を設け、この架台3,…の網状載置面3a,…には、通気性底面の形成されている複数の育苗ベンチ2,…を前後方向に並べて載置し、各育苗ベンチ2,…の上方をベンチカバー4,…でそれぞれ被覆可能に構成している。また、架台3,…上の育苗ベンチ2,…を被覆している複数のベンチカバー4,…の上方を、トンネル状の養生カバー6,…でまとめて被覆可能に構成している。そして、この養生カバー6,…の下端縁部を育苗ベンチ2,…の下方の例えば地面まで延長している。
【0009】
また、育苗ベンチ2,…の下方には、長手方向に沿って温水供給用の温水メイン管7を配設し、温水メイン管7からステンレス製の例えば1.5メートル毎に噴霧ノズルを設けている細霧管8,…を延出し、育苗ベンチ2,…の下方に温水を噴霧できるように構成している。この細霧管8,…を育苗ベンチ2,…の下方で且つ養生カバー6,…の下端よりも上方に位置するように配設し、細霧管8,…を横方向の前後左右に噴霧する縦噴霧管8a,…と、下向きに噴霧する前後方向の横噴霧管8b,…により構成している。
【0010】
しかして、架台3,…に載置された苗9,…の育苗過程において、育苗室1に暖房しながら、最初はベンチカバー4,…、トンネル状の養生カバー6,…を共に被覆状態として、温水噴霧しながら苗9,…を養生育苗する。次いで、ベンチカバー4,…を取り除いて、トンネル状の養生カバー6,…のみの被覆状態として、温水噴霧しながら苗9,…を養生育苗する。次いで、トンネル状の養生カバー6,…を半開き被覆状態として、温水噴霧しながら育苗し、次いで、トンネル状の半開き被覆状態の養生カバー6,…を取り除き苗を開放状態とし、温水噴霧しながら育苗する。
【0011】
前記構成によると、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿状態を保持しながら架台カバー4及び養生カバー6の被覆状態を変更することにより、加温状態を変更することができ、苗の養生を低コストで容易に実現することができる。また、苗9,…の育苗過程において、まず養生カバー6,…の被覆を解除し、次いで、ベンチカバー4,…の被覆を解除し、温湯噴霧を停止することにより、育苗状態に合わせて加湿状態及び加温状態を調節することができ、圃場栽培に適応した良質の苗を得ることができる。
【0012】
次に、図2に基づき育苗施設に養生エリアを並設した実施形態について説明する。
育苗室11の一部に養生エリア12を設けている。この養生エリア12には、網状載置面3a,…を備えた架台3、架台3の網状載置面3aに載置する通気底面を備えた育苗ベンチ2、ベンチカバー4,…、トンネル状の養生カバー6,…、温水主管7、及び、細霧管8を配設し、前記実施形態と同様に苗9の養生ができるように構成している。また、育苗室11の育苗エリア11aには、搬送装置(図示省略)を備えた架台3,…を設け、養生エリア12の架台3にも同様に搬送装置(図示省略)を設けている。
【0013】
しかして、養生エリア12で養生しながら育苗した育苗ベンチ2,…上の苗9,…を、養生エリア12の架台3,…から搬送装置(図示省略)を利用して育苗エリア11aの架台3,…に移送し、育苗エリア11aの架台3,…上を順次下手側に移送しながら、ベンチカバー4及びトンネル状の養生カバー6の被覆状態を順次変更し、細霧管8から温水噴霧をしながら順化育成することができる。
【0014】
前記構成によると、養生エリア12及び育苗エリア11aの架台3,…上を育苗ベンチ2,…の苗を順次移送することにより養生、順化、育成し、効率的で良質な苗9を生産することができる。
【0015】
次に、図3に基づき育苗用苗種子の温湯殺菌装置について説明する。
温湯殺菌装置は、上手側には温湯槽21を、下手側に冷却槽22を設け、冷却槽22の下方にリターンタンク23を設け、冷却槽22から溢れた冷水を還元樋23aを経由してリターンタンク23に還流し、再利用するように構成している。また、温湯槽21と冷却槽22の側方にはチエンブロックなどからなる移動装置26を設け、種子容器(図示省略)を持ち上げながら温湯槽21に投入したり、冷却槽22に移し変えるように構成している。また、図3(B)に示すように、温湯槽21の温湯の水面よりも冷却槽22の冷水水面22aを高くしている。
【0016】
前記構成によると、温湯殺菌装置をコンパクトで効率の良いものにし、種子容器を温湯槽21から冷却槽22に移し変える際に、水しぶきを小さくすることができる。
また、温湯殺菌装置を次のように構成してもよい。上手側に温湯槽21を、下手側に冷却槽22を配設し、温湯槽21の上手側にリターンタンク23を設けている。また、温湯槽21の後側壁に沿って返り水受樋24を設けて、リターンタンク23に還流するように構成し、種子容器を温湯槽21から冷却槽22に移す際に溢れた温水を返り水受樋24で受けてリターンタンク23に返すことができる。また、冷却槽22の底面22bを後下がり傾斜状に構成し、種子容器25の下手側への移動を容易にしている。前記構成によると、温湯槽21から溢れた温湯を再利用することができる。
【0017】
次に、温湯殺菌装置の他の実施形態について説明する。上手側に温湯槽21を、下手側に冷却槽22を配設し、温湯槽21の温湯の水面21aよりも冷却槽22の冷水水面22aを高くしている。そして、温湯槽21及び冷却槽22の底部には気泡噴出管27,…を配設し、空気供給管28から気泡噴出管27に空気を送り込み、温湯及び冷却水内に気泡を噴出し、温湯及び冷却水の種子容器25への浸入を促進している。そして、下手側の始端側空気供給管28aを冷却槽22aの上方を通して始端側に延出し、冷却槽22の気泡噴出管27,…の上側端部を始端側空気供給管28aに接続している。
【0018】
また、始端側空気供給管28aの前側端部に接続した中間空気供給管28bを、温湯槽21と冷却槽22の間を通して下方に延出し、この中間空気供給管28bの終端側に終端側空気供給管28cを接続し、温湯槽21の後側壁を貫通して温湯槽21内に延出し、終端側空気供給管28cに温湯槽21の気泡噴出管27,…を接続している。
【0019】
前記構成によると、空気供給管28に結露した水が伝わって温湯槽21に流れ込むのを防止し、温湯槽21内の温湯の温度低下を防止することができる。
また、温湯槽21の底面21bを、図6に示すように、種子容器25の投入される上手側を深く、下手側ほど低くなる上り傾斜に構成すると、種子投入時の温湯の温度低下を抑制し、殺菌効果を高めることができる。
【0020】
また、図7(A)に示すように構成してもよい。温湯槽21及び冷却槽22内には、種子容器25の案内支持機能と空気噴出機能とを兼ねた案内兼空気噴出装置31を配設する。この案内兼空気噴出装置31は、空気の圧送される空気供給管31aと、空気を噴出する気泡噴出管31bにより構成している。そして、空気供給管31aは、起立した前側案内部31dと、種子容器載置用の中間載置部31eと、起立した後側案内部31fにより構成し、中間載置部31eに気泡噴出管31b,…を取り付けている。
【0021】
前記構成によると、案内兼空気噴出装置31は種子容器25の案内支持機能、及び、気泡噴出機能を兼ねたものとなり、コストの低減を図ることができる。
また、図7(B)に示すように、空気供給管31aを、前側部の後下がり傾斜の前側案内部31dと、種子容器載置用の中間載置部31eと、後側部の後上り傾斜の後側案内部31fにより構成すると、種子容器25の投入及び取出を楽に行なうことができる。
【0022】
次に、図8に基づき他の実施形態について説明する。
前記案内兼気泡噴出装置31に合わせた殺菌兼案内篭32を設けている。この殺菌兼案内篭32は、前側平面案内部32aと、中間載置部32bと、後側平面案内部32cにより構成している。このように構成した殺菌兼案内篭32を移動装置26により温湯槽21及び冷却槽22に出し入れし、案内兼気泡噴出装置31に嵌合載置すると、種子容器25の種子に均等に温湯あるいは冷水の気泡を噴出し、効率的に殺菌冷却することができる。
【0023】
また、図9に示すように、殺菌兼案内篭32を、前側平面案内部32a及び後側平面案内部32cを省略し、中間載置部32bだけで構成してもよい。
次に、図10〜図13により栽培施設の他の実施形態について説明する。
【0024】
育苗室11内には前後方向に複数の架台3,…を並設している。架台3,…では9月から翌年6月にかけてイチゴを栽培し、7月から8月にかけてトマトを栽培する。イチゴを栽培する場合には、図10に示すように、前後方向の架台3,…上に栽培樋41,…を前後方向に沿わせてそれぞれ載置し、栽培樋41,…に床土を詰めイチゴを栽培する。
【0025】
また、トマトを栽培する場合には、図11乃至図13に示すように、左右一対の架台3,…上の栽培樋41,…に波板43,…を載置する。そして、その波板43,…上にトマト苗を植えているフラワトレイ44,…を7〜8個千鳥足状に載置し栽培する。
【0026】
また、左右の架台3,3上の栽培樋41,41に載置している波板43に、左右方向にに勾配をつけることで、波板43に排液が溜まるのを防止し排水性が良くなり、トマトの根腐れを防止することができる。
【0027】
また、左右の架台3,3の栽培樋41,41上に載置している波板43の左右両端を、栽培樋41,41の左右方向中心までの長さとすると、波板43に落下した排液を栽培樋41,41に確実に回収し、地面に落ちるのを防止することができる。
【0028】
次に、図14、図15及び表1に基づき養液栽培装置について説明する。
この養液栽培装置は高い糖度のトマトを生産するためのもので、トマトの成育過程において、糖度測定装置51を利用して糖度を糖度を測定し、測定糖度と目標糖度に応じて給液制御装置52の供液量を調節し、高い糖度のトマトを生産するようにしたものである。
【0029】
糖度測定装置51は、物質に吸収されやすい近赤外線を含む光を発生する光源51a、光干渉型プローブ(図示省略)及び分光分析器(図示省略)により果実の成育途中の内成分情報をパソコン53に入力し、パソコン53の予め作成している演算モデルに基づいて前記内成分情報から果実の成熟時の内成分情報を予測するように構成している。
【0030】
また、給液制御装置52はパソコン53、記憶装置(図示省略)、給液信号出力装置(図示省略)、画像入力装置(図示省略)を有し、デジタルカメラなどの撮影装置55で撮影したトマト56の葉部のしおれ撮影情報をパソコン53に入力する。しかして、糖度測定装置51の予測糖度情報と撮影装置55のしおれ撮影情報から所定の演算式により、収穫時に基準糖度にするための供液量を算出し、パソコン53から供液指令がA/D変換器を経由して供液装置54に送られ、養液がトマト6の栽培樋41に供給されるように構成している。
【0031】
前記構成によると、例えば、トマトの目標糖度を8%brix、トマトの葉部のしおれ基準度を80%、収穫時期を11月末とし、糖度制御期間を例えば11月の第1週から第3週とし、第4週目に収穫しようとして、例えば、表1に示すように次のような制御がなされるものである。
【0032】
【表1】
(表1)トマトの成育状態における目標糖度、測定糖度、しおれ基準度、しおれ変更量、測定しおれ量を示した表
第1週末の第1回目の測定糖度が7.5%brix、測定しおれ度が「−5%の75%」である。すると、基準糖度8%brixにするために、予め定めた後述の計算式(1)により、第2週のしおれ設定量が「+8%の83%」と算出実行され、供液量を減少調節し、しおれ度を下げる制御がなされる。
【0033】
また、第2週末の測定糖度が「8.6%」、しおれ度が「+8%の83%」であると、予め定めた後述の計算式(2)により、第3週目のしおれ設定量が「−5%の78%」と算出され、測定糖度が上り過ぎであるので、供液量を増加調節し、しおれ度を上げる制御がなされる。
【0034】
また、第3週末の測定糖度が「7.8%」、撮影しおれ度が「78%」で、目標糖度にほぼ近づいていると、前記第3週目の設定しおり度に基づく供液量を維持する制御がなされ、第4週末にトマトの収穫がなされる。
【0035】
なお、前記計算式は、図15に示すように、基準糖度8%に対して測定糖度が0.2%以上低い場合には、計算式(1)の「y=Ax−B」を用いて設定しおれ度を計算する。また、基準糖度8%に対して測定糖度が0.2%以上高い場合には、計算式(2)「y=cx+D」を用いて設定しおれ度を計算する。また、基準糖度8%に対して測定糖度が「−0.2〜+0.2%」の接近した場合には、次週の設定しおれ度の算出を中止し、前回の設定しおれ度に基づく供液を継続するように構成している。
【0036】
前記構成によると、設定しおれ度の高低の変化を少なくしながら、高い糖度のトマトを効率的に生産することができる。
【図面の簡単な説明】
【0037】
【図1】養生棟の側面図
【図2】育苗室の平面図
【図3】温湯殺菌装置の側面図
【図4】温湯殺菌装置の側面図
【図5】温湯殺菌装置の側面図
【図6】温湯殺菌装置の側面図
【図7】温湯殺菌装置の斜視図
【図8】温湯殺菌装置の斜視図
【図9】温湯殺菌装置の斜視図
【図10】育苗室の正面図
【図11】育苗室の正面図
【図12】栽培装置の平面図、正面図
【図13】栽培装置の平面図、正面図
【図14】糖度測定装置及び供液制御装置のブロック図
【図15】基準糖度、測定糖度及び設定しおれ度との関係を示すグラフ
【符号の説明】
【0038】
1 育苗室
3 架台
2 育苗ベンチ
4 第一の被覆材(ベンチカバー)
6 第二の被覆材(養生カバー)
8 細霧管
【技術分野】
【0001】
本発明は、育苗方法及び育苗施設に関する。
【背景技術】
【0002】
接ぎ木育苗装置において、接ぎ木された苗を養生するための養生ミニハウス内に接ぎ木苗を植えたトレイ用ベンチを設け、このベンチの下方に貯水槽を設け、この貯水槽内に設けられた一対の高圧空気配管の多数の空気噴出口から互いに対向する方向に空気を噴出し、対向する方向に噴出する空気が衝突して、細かい気泡を発生させ水蒸気を発散させるものは、公知である。
【特許文献1】特開平8−242702号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
この発明は、既存の育苗室を利用して、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿、加温をし、苗の養生を低コストで実現できる育苗方法及び育苗施設を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【0004】
請求項1の発明は、育苗室(1)内の架台(3)上に複数の苗を植えた育苗ベンチ(2,…)を載置し、前記育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に第一の被覆材(4,…)で被覆し、前記第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて第二の被覆材(6,…)により、該第二の被覆材(6,…)の下端が前記育苗ベンチ(2,…)より下位になるように覆い、前記育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧し、育苗過程における適期に前記第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、その後に第一の被覆材(4,…)を解除すると共に、温湯の噴霧を停止することを特徴とする育苗方法とする。
【0005】
請求項2の発明は、育苗室(1)内の架台(3)上に載置する複数の育苗ベンチ(2,…)と、前記育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に被覆する第一の被覆材(4,…)と、前記第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて被覆し、且つ、その下端が前記育苗ベンチ(2,…)より下位になるような第二の被覆材(6,…)と、前記育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧する細霧管(8,…)と、からなる育苗施設とする。
【0006】
前記構成によると、請求項1及び請求項2の発明は、育苗室(1)内の架台(3)上に複数の育苗ベンチ(2,…)を載置し、育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に第一の被覆材(4,…)で被覆し、第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて第二の被覆材(6,…)で育苗ベンチ(2,…)の下位まで覆い、育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で細霧管(8,…)から温湯を噴霧しながら苗を養生育苗する。そして、育苗過程における適期に、まず第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、その後に第一の被覆材(4,…)を解除すると共に、細霧管(8,…)の温湯の噴霧を停止しながら苗を養生育成する。
【発明の効果】
【0007】
請求項1の発明及び請求項2の発明は、既存の育苗施設を有効に活用しながら、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿状態を保持しながら第一の被覆材(4,…)及び第二の被覆材(6,…)の被覆、解除状態を変更することにより、加温状態を変更することができ、苗の養生を低コストで容易に実現することができる。また、育苗過程において、まず、第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、次いで、第一の被覆材(4,…)の被覆を解除すると共に、温湯噴霧を停止することにより、育苗状態に合わせて加湿状態及び加温状態を調節することができ、圃場栽培に適応した良質の苗を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
以下、本発明の実施形態について説明する。図1には育苗室の側面図が図示されている。
育苗室1内には前後方向に長い複数の架台3,…を設け、この架台3,…の網状載置面3a,…には、通気性底面の形成されている複数の育苗ベンチ2,…を前後方向に並べて載置し、各育苗ベンチ2,…の上方をベンチカバー4,…でそれぞれ被覆可能に構成している。また、架台3,…上の育苗ベンチ2,…を被覆している複数のベンチカバー4,…の上方を、トンネル状の養生カバー6,…でまとめて被覆可能に構成している。そして、この養生カバー6,…の下端縁部を育苗ベンチ2,…の下方の例えば地面まで延長している。
【0009】
また、育苗ベンチ2,…の下方には、長手方向に沿って温水供給用の温水メイン管7を配設し、温水メイン管7からステンレス製の例えば1.5メートル毎に噴霧ノズルを設けている細霧管8,…を延出し、育苗ベンチ2,…の下方に温水を噴霧できるように構成している。この細霧管8,…を育苗ベンチ2,…の下方で且つ養生カバー6,…の下端よりも上方に位置するように配設し、細霧管8,…を横方向の前後左右に噴霧する縦噴霧管8a,…と、下向きに噴霧する前後方向の横噴霧管8b,…により構成している。
【0010】
しかして、架台3,…に載置された苗9,…の育苗過程において、育苗室1に暖房しながら、最初はベンチカバー4,…、トンネル状の養生カバー6,…を共に被覆状態として、温水噴霧しながら苗9,…を養生育苗する。次いで、ベンチカバー4,…を取り除いて、トンネル状の養生カバー6,…のみの被覆状態として、温水噴霧しながら苗9,…を養生育苗する。次いで、トンネル状の養生カバー6,…を半開き被覆状態として、温水噴霧しながら育苗し、次いで、トンネル状の半開き被覆状態の養生カバー6,…を取り除き苗を開放状態とし、温水噴霧しながら育苗する。
【0011】
前記構成によると、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿状態を保持しながら架台カバー4及び養生カバー6の被覆状態を変更することにより、加温状態を変更することができ、苗の養生を低コストで容易に実現することができる。また、苗9,…の育苗過程において、まず養生カバー6,…の被覆を解除し、次いで、ベンチカバー4,…の被覆を解除し、温湯噴霧を停止することにより、育苗状態に合わせて加湿状態及び加温状態を調節することができ、圃場栽培に適応した良質の苗を得ることができる。
【0012】
次に、図2に基づき育苗施設に養生エリアを並設した実施形態について説明する。
育苗室11の一部に養生エリア12を設けている。この養生エリア12には、網状載置面3a,…を備えた架台3、架台3の網状載置面3aに載置する通気底面を備えた育苗ベンチ2、ベンチカバー4,…、トンネル状の養生カバー6,…、温水主管7、及び、細霧管8を配設し、前記実施形態と同様に苗9の養生ができるように構成している。また、育苗室11の育苗エリア11aには、搬送装置(図示省略)を備えた架台3,…を設け、養生エリア12の架台3にも同様に搬送装置(図示省略)を設けている。
【0013】
しかして、養生エリア12で養生しながら育苗した育苗ベンチ2,…上の苗9,…を、養生エリア12の架台3,…から搬送装置(図示省略)を利用して育苗エリア11aの架台3,…に移送し、育苗エリア11aの架台3,…上を順次下手側に移送しながら、ベンチカバー4及びトンネル状の養生カバー6の被覆状態を順次変更し、細霧管8から温水噴霧をしながら順化育成することができる。
【0014】
前記構成によると、養生エリア12及び育苗エリア11aの架台3,…上を育苗ベンチ2,…の苗を順次移送することにより養生、順化、育成し、効率的で良質な苗9を生産することができる。
【0015】
次に、図3に基づき育苗用苗種子の温湯殺菌装置について説明する。
温湯殺菌装置は、上手側には温湯槽21を、下手側に冷却槽22を設け、冷却槽22の下方にリターンタンク23を設け、冷却槽22から溢れた冷水を還元樋23aを経由してリターンタンク23に還流し、再利用するように構成している。また、温湯槽21と冷却槽22の側方にはチエンブロックなどからなる移動装置26を設け、種子容器(図示省略)を持ち上げながら温湯槽21に投入したり、冷却槽22に移し変えるように構成している。また、図3(B)に示すように、温湯槽21の温湯の水面よりも冷却槽22の冷水水面22aを高くしている。
【0016】
前記構成によると、温湯殺菌装置をコンパクトで効率の良いものにし、種子容器を温湯槽21から冷却槽22に移し変える際に、水しぶきを小さくすることができる。
また、温湯殺菌装置を次のように構成してもよい。上手側に温湯槽21を、下手側に冷却槽22を配設し、温湯槽21の上手側にリターンタンク23を設けている。また、温湯槽21の後側壁に沿って返り水受樋24を設けて、リターンタンク23に還流するように構成し、種子容器を温湯槽21から冷却槽22に移す際に溢れた温水を返り水受樋24で受けてリターンタンク23に返すことができる。また、冷却槽22の底面22bを後下がり傾斜状に構成し、種子容器25の下手側への移動を容易にしている。前記構成によると、温湯槽21から溢れた温湯を再利用することができる。
【0017】
次に、温湯殺菌装置の他の実施形態について説明する。上手側に温湯槽21を、下手側に冷却槽22を配設し、温湯槽21の温湯の水面21aよりも冷却槽22の冷水水面22aを高くしている。そして、温湯槽21及び冷却槽22の底部には気泡噴出管27,…を配設し、空気供給管28から気泡噴出管27に空気を送り込み、温湯及び冷却水内に気泡を噴出し、温湯及び冷却水の種子容器25への浸入を促進している。そして、下手側の始端側空気供給管28aを冷却槽22aの上方を通して始端側に延出し、冷却槽22の気泡噴出管27,…の上側端部を始端側空気供給管28aに接続している。
【0018】
また、始端側空気供給管28aの前側端部に接続した中間空気供給管28bを、温湯槽21と冷却槽22の間を通して下方に延出し、この中間空気供給管28bの終端側に終端側空気供給管28cを接続し、温湯槽21の後側壁を貫通して温湯槽21内に延出し、終端側空気供給管28cに温湯槽21の気泡噴出管27,…を接続している。
【0019】
前記構成によると、空気供給管28に結露した水が伝わって温湯槽21に流れ込むのを防止し、温湯槽21内の温湯の温度低下を防止することができる。
また、温湯槽21の底面21bを、図6に示すように、種子容器25の投入される上手側を深く、下手側ほど低くなる上り傾斜に構成すると、種子投入時の温湯の温度低下を抑制し、殺菌効果を高めることができる。
【0020】
また、図7(A)に示すように構成してもよい。温湯槽21及び冷却槽22内には、種子容器25の案内支持機能と空気噴出機能とを兼ねた案内兼空気噴出装置31を配設する。この案内兼空気噴出装置31は、空気の圧送される空気供給管31aと、空気を噴出する気泡噴出管31bにより構成している。そして、空気供給管31aは、起立した前側案内部31dと、種子容器載置用の中間載置部31eと、起立した後側案内部31fにより構成し、中間載置部31eに気泡噴出管31b,…を取り付けている。
【0021】
前記構成によると、案内兼空気噴出装置31は種子容器25の案内支持機能、及び、気泡噴出機能を兼ねたものとなり、コストの低減を図ることができる。
また、図7(B)に示すように、空気供給管31aを、前側部の後下がり傾斜の前側案内部31dと、種子容器載置用の中間載置部31eと、後側部の後上り傾斜の後側案内部31fにより構成すると、種子容器25の投入及び取出を楽に行なうことができる。
【0022】
次に、図8に基づき他の実施形態について説明する。
前記案内兼気泡噴出装置31に合わせた殺菌兼案内篭32を設けている。この殺菌兼案内篭32は、前側平面案内部32aと、中間載置部32bと、後側平面案内部32cにより構成している。このように構成した殺菌兼案内篭32を移動装置26により温湯槽21及び冷却槽22に出し入れし、案内兼気泡噴出装置31に嵌合載置すると、種子容器25の種子に均等に温湯あるいは冷水の気泡を噴出し、効率的に殺菌冷却することができる。
【0023】
また、図9に示すように、殺菌兼案内篭32を、前側平面案内部32a及び後側平面案内部32cを省略し、中間載置部32bだけで構成してもよい。
次に、図10〜図13により栽培施設の他の実施形態について説明する。
【0024】
育苗室11内には前後方向に複数の架台3,…を並設している。架台3,…では9月から翌年6月にかけてイチゴを栽培し、7月から8月にかけてトマトを栽培する。イチゴを栽培する場合には、図10に示すように、前後方向の架台3,…上に栽培樋41,…を前後方向に沿わせてそれぞれ載置し、栽培樋41,…に床土を詰めイチゴを栽培する。
【0025】
また、トマトを栽培する場合には、図11乃至図13に示すように、左右一対の架台3,…上の栽培樋41,…に波板43,…を載置する。そして、その波板43,…上にトマト苗を植えているフラワトレイ44,…を7〜8個千鳥足状に載置し栽培する。
【0026】
また、左右の架台3,3上の栽培樋41,41に載置している波板43に、左右方向にに勾配をつけることで、波板43に排液が溜まるのを防止し排水性が良くなり、トマトの根腐れを防止することができる。
【0027】
また、左右の架台3,3の栽培樋41,41上に載置している波板43の左右両端を、栽培樋41,41の左右方向中心までの長さとすると、波板43に落下した排液を栽培樋41,41に確実に回収し、地面に落ちるのを防止することができる。
【0028】
次に、図14、図15及び表1に基づき養液栽培装置について説明する。
この養液栽培装置は高い糖度のトマトを生産するためのもので、トマトの成育過程において、糖度測定装置51を利用して糖度を糖度を測定し、測定糖度と目標糖度に応じて給液制御装置52の供液量を調節し、高い糖度のトマトを生産するようにしたものである。
【0029】
糖度測定装置51は、物質に吸収されやすい近赤外線を含む光を発生する光源51a、光干渉型プローブ(図示省略)及び分光分析器(図示省略)により果実の成育途中の内成分情報をパソコン53に入力し、パソコン53の予め作成している演算モデルに基づいて前記内成分情報から果実の成熟時の内成分情報を予測するように構成している。
【0030】
また、給液制御装置52はパソコン53、記憶装置(図示省略)、給液信号出力装置(図示省略)、画像入力装置(図示省略)を有し、デジタルカメラなどの撮影装置55で撮影したトマト56の葉部のしおれ撮影情報をパソコン53に入力する。しかして、糖度測定装置51の予測糖度情報と撮影装置55のしおれ撮影情報から所定の演算式により、収穫時に基準糖度にするための供液量を算出し、パソコン53から供液指令がA/D変換器を経由して供液装置54に送られ、養液がトマト6の栽培樋41に供給されるように構成している。
【0031】
前記構成によると、例えば、トマトの目標糖度を8%brix、トマトの葉部のしおれ基準度を80%、収穫時期を11月末とし、糖度制御期間を例えば11月の第1週から第3週とし、第4週目に収穫しようとして、例えば、表1に示すように次のような制御がなされるものである。
【0032】
【表1】
(表1)トマトの成育状態における目標糖度、測定糖度、しおれ基準度、しおれ変更量、測定しおれ量を示した表
第1週末の第1回目の測定糖度が7.5%brix、測定しおれ度が「−5%の75%」である。すると、基準糖度8%brixにするために、予め定めた後述の計算式(1)により、第2週のしおれ設定量が「+8%の83%」と算出実行され、供液量を減少調節し、しおれ度を下げる制御がなされる。
【0033】
また、第2週末の測定糖度が「8.6%」、しおれ度が「+8%の83%」であると、予め定めた後述の計算式(2)により、第3週目のしおれ設定量が「−5%の78%」と算出され、測定糖度が上り過ぎであるので、供液量を増加調節し、しおれ度を上げる制御がなされる。
【0034】
また、第3週末の測定糖度が「7.8%」、撮影しおれ度が「78%」で、目標糖度にほぼ近づいていると、前記第3週目の設定しおり度に基づく供液量を維持する制御がなされ、第4週末にトマトの収穫がなされる。
【0035】
なお、前記計算式は、図15に示すように、基準糖度8%に対して測定糖度が0.2%以上低い場合には、計算式(1)の「y=Ax−B」を用いて設定しおれ度を計算する。また、基準糖度8%に対して測定糖度が0.2%以上高い場合には、計算式(2)「y=cx+D」を用いて設定しおれ度を計算する。また、基準糖度8%に対して測定糖度が「−0.2〜+0.2%」の接近した場合には、次週の設定しおれ度の算出を中止し、前回の設定しおれ度に基づく供液を継続するように構成している。
【0036】
前記構成によると、設定しおれ度の高低の変化を少なくしながら、高い糖度のトマトを効率的に生産することができる。
【図面の簡単な説明】
【0037】
【図1】養生棟の側面図
【図2】育苗室の平面図
【図3】温湯殺菌装置の側面図
【図4】温湯殺菌装置の側面図
【図5】温湯殺菌装置の側面図
【図6】温湯殺菌装置の側面図
【図7】温湯殺菌装置の斜視図
【図8】温湯殺菌装置の斜視図
【図9】温湯殺菌装置の斜視図
【図10】育苗室の正面図
【図11】育苗室の正面図
【図12】栽培装置の平面図、正面図
【図13】栽培装置の平面図、正面図
【図14】糖度測定装置及び供液制御装置のブロック図
【図15】基準糖度、測定糖度及び設定しおれ度との関係を示すグラフ
【符号の説明】
【0038】
1 育苗室
3 架台
2 育苗ベンチ
4 第一の被覆材(ベンチカバー)
6 第二の被覆材(養生カバー)
8 細霧管
【特許請求の範囲】
【請求項1】
育苗室(1)内の架台(3)上に複数の苗を植えた育苗ベンチ(2,…)を載置し、前記育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に第一の被覆材(4,…)で被覆し、前記第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて第二の被覆材(6,…)により、該第二の被覆材(6,…)の下端が前記育苗ベンチ(2,…)より下位になるように覆い、前記育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧し、育苗過程における適期に前記第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、その後に第一の被覆材(4,…)を解除すると共に、温湯の噴霧を停止することを特徴とする育苗方法。
【請求項2】
育苗室(1)内の架台(3)上に載置する複数の育苗ベンチ(2,…)と、前記育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に被覆する第一の被覆材(4,…)と、前記第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて被覆し、且つ、その下端が前記育苗ベンチ(2,…)より下位になるような第二の被覆材(6,…)と、前記育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧する細霧管(8,…)と、からなる育苗施設。
【請求項1】
育苗室(1)内の架台(3)上に複数の苗を植えた育苗ベンチ(2,…)を載置し、前記育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に第一の被覆材(4,…)で被覆し、前記第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて第二の被覆材(6,…)により、該第二の被覆材(6,…)の下端が前記育苗ベンチ(2,…)より下位になるように覆い、前記育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧し、育苗過程における適期に前記第二の被覆材(6,…)の被覆を解除し、その後に第一の被覆材(4,…)を解除すると共に、温湯の噴霧を停止することを特徴とする育苗方法。
【請求項2】
育苗室(1)内の架台(3)上に載置する複数の育苗ベンチ(2,…)と、前記育苗ベンチ(2,…)の上方を単位毎に被覆する第一の被覆材(4,…)と、前記第一の被覆材(4,…)の上方から複数単位をまとめて被覆し、且つ、その下端が前記育苗ベンチ(2,…)より下位になるような第二の被覆材(6,…)と、前記育苗ベンチ(2,…)の下方で且つ第二の被覆材(6,…)の下端より上側で温湯を噴霧する細霧管(8,…)と、からなる育苗施設。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【公開番号】特開2009−201485(P2009−201485A)
【公開日】平成21年9月10日(2009.9.10)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−50203(P2008−50203)
【出願日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【出願人】(000000125)井関農機株式会社 (3,813)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成21年9月10日(2009.9.10)
【国際特許分類】
【出願日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【出願人】(000000125)井関農機株式会社 (3,813)
【Fターム(参考)】
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