表示媒体の作製方法、及び表示媒体
【課題】簡易な工程で密着力の低下を抑制可能な表示媒体の作製方法、及び表示媒体を提供する。
【解決手段】電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層を構成する層を少なくとも含む第1の基板と、光学的特性分布による画像が表示される表示層を少なくとも含む第２の基板と、を、光導電層を構成する層と表示層とが向かい合うように重ね合わせた積層体とする第1の工程と、第1の基板の第２の基板と接する領域を構成する材料と、第２の基板の第1の基板と接する領域を構成する材料と、の内の、ガラス転移温度の低い材料のガラス転移温度以上融点以下の温度で積層体を加熱して第1の基板と第２の基板とを熱融着する第２の工程と、を備えた表示媒体の作製方法と、この表示媒体の作製方法を用いて作製した表示媒体。
【解決手段】電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層を構成する層を少なくとも含む第1の基板と、光学的特性分布による画像が表示される表示層を少なくとも含む第２の基板と、を、光導電層を構成する層と表示層とが向かい合うように重ね合わせた積層体とする第1の工程と、第1の基板の第２の基板と接する領域を構成する材料と、第２の基板の第1の基板と接する領域を構成する材料と、の内の、ガラス転移温度の低い材料のガラス転移温度以上融点以下の温度で積層体を加熱して第1の基板と第２の基板とを熱融着する第２の工程と、を備えた表示媒体の作製方法と、この表示媒体の作製方法を用いて作製した表示媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示媒体の作製方法及び表示媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータの普及、インターネットを始めとする情報化社会の発達により、電子情報の一時的な閲覧を目的とする、いわゆる短寿命文書としての紙の消費は、益々増加する傾向にあり、森林資源保護などの地球環境保全や事務環境改善などの理由から、紙に代わる書き換え可能な表示媒体の実現が望まれている。
【０００３】
そこで、無電源でのメモリ性を有し、且つ外部装置によって短時間で画像を書き換えることができる紙に代わる表示媒体として、コレステリック液晶等の表示層と、電場下で光照射されることで内部光電効果による自由電子の移動が発生する光導電体と、を用いた表示媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このような表示媒体の作製方法としては、支持基板上に光導電体を含む層を形成した積層体と、支持基板上に表示層を形成した積層体と、を接着層を介して貼り合わせることにより表示媒体を製造することが一般的に行われていた。
【特許文献１】特開２００３−５２１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、簡易な工程で密着力の低下を抑制可能な表示媒体の作製方法、及び表示媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の本発明により達成される。すなわち、
【０００７】
請求項１に係る発明は、電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層を構成する層を少なくとも含む第1の基板と、光学的特性分布による画像が表示される表示層を少なくとも含む第２の基板と、を、前記光導電層を構成する層と前記表示層とが向かい合うように重ね合わせた積層体とする第1の工程と、前記第1の基板の前記第２の基板と接する領域を構成する材料と、前記第２の基板の前記第1の基板と接する領域を構成する材料と、の内の、ガラス転移温度の低い材料のガラス転移温度以上融点以下の温度で前記積層体を加熱して前記第1の基板と前記第２の基板とを熱融着する第２の工程と、を備えた表示媒体の作製方法である。
【０００８】
請求項２に係る発明は、前記第２の工程において、前記第1の基板と前記第２の基板とを加圧密着させることを特徴とする請求項１に記載の表示媒体の作製方法である。
【０００９】
請求項３に係る発明は、前記光導電層は、一対の電荷発生層と、電荷輸送層と、を含んで構成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示媒体の作製方法である。
【００１０】
請求項４に係る発明は、請求項１〜請求項３の何れか１つの作製方法によって製造された表示媒体である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、本発明の工程を用いない場合に比較して、簡易な工程で密着力の低下を抑制可能な表示媒体の作製方法、及び表示媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の表示媒体の作製方法及び本発明の表示媒体の作製方法によって製造される表示媒体の一の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００１３】
まず、本発明の表示媒体の作製方法によって製造される表示媒体の一例を説明する。
【００１４】
本実施の形態の形態に係る表示媒体１０は、図１に示すように、それぞれ電極１６及び電極１８を備えた基板１２及び基板１４間に、光導電層２４と、遮光層２２と、液晶層２０と、が積層されて構成されている。なお、表示媒体１０が、本発明の表示媒体に相当し、光導電層２４が、本発明の表示媒体の光導電層２４に相当し、液晶層２０が、本発明の表示媒体の表示層に相当する。
【００１５】
基板１２及び基板１４各々は、絶縁性（体積抵抗で１０１２Ωｃｍ以上、以下これに準ずる）を有している。また、基板１２及び基板１４の内の、表示媒体１０に画像を書込むときに照射する光である露光光２６が照射される側または表示媒体１０に表示された画像を読み取るときに表示媒体１０に入射される外部光３０が入射される側に位置する基板、または基板１２及び基板１４の双方は、透光性を有している。
【００１６】
なお、本実施の形態において、透光性とは、波長３８０〜７８０ｎｍの光の８０％以上を透過する性質を示している。
【００１７】
また、本実施の形態において、露光光２６以外に表示媒体１０に照射される光を、外部光３０と称し、この外部光３０の内、表示媒体１０への露光光２６の照射時に表示媒体１０に入射される光を外光３０Ａと称し、表示媒体１０に書込まれた画像を読み取るときに表示媒体１０に入射される光を読出光３０Ｂと称して説明する。
【００１８】
基板１２及び基板１４は、ガラス及びシリコン等の無機シート、またはポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、及びポリエチレンナフタレート等の高分子フィルムを用いて構成することができる。基板１２及び基板１４の厚みは、０．０１ｍｍ〜０．５ｍｍの範囲内であることが好ましい。
【００１９】
電極１６及び電極１８は、導電性（シート抵抗（表面抵抗）で５００Ω/□以下、これに準ずる）を有している。また、電極１６及び電極１８の内の、露光光２６が照射される側または読出光３０Ｂが入射される側に位置する基板、または基板１２及び基板１４の双方は、透光性を有している。
【００２０】
電極１６及び電極１８には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いることができる。なお、本実施の形態では、電極１６及び電極１８にＩＴＯを用いる場合を説明するが、ＩＴＯ以外にも、Ａｕなどの金属膜、ＳｎＯ2、ＺｎＯなど酸化物、ポリピロールなどの導電性高分子の膜などの電気導電体を用いることができる。また、本実施の形態の一対の電極１６及び電極１８は、基板１２及び基板１４上にスパッタリングされて形成されているが、必ずしもスパッタリングによる必要はなく、印刷、ＣＶＤ、蒸着などにより形成することもできる。
【００２１】
電極１６及び電極１８の形態及び駆動方式としては、本実施の形態においては両電極共に表示領域に共通の電極とし、駆動方式は特開２００３−１４０１８４号公報と特開２０００−１１１９４２号公報とに記載の駆動方式を用いて駆動させている。しかし、基板１２側の電極１６と基板１４側の電極１８の一方を表示媒体１０に表示する画像の各画素に共通の電極とし、他方を各画素に個別の電極とするセグメント駆動方式、電極１６と電極１８とを互いに交差する方向に各々ストライプ状に形成して、互いに対峙する位置を１つの画素に対応する領域とする単純マトリクス駆動方式、電極１６及び電極１８の一方を各画素に共通の電極とし、他方を互いに交差するストライプ状の走査電極及び信号電極から構成されるものとして、これにＴＦＴやＭＩＮ等の能動素子を設けるアクティブマトリックス駆動方式等であってもよい。
【００２２】
光導電層２４は、所定の波長の光を吸収すると共に、電場下でこの所定の波長の光を照射されると内部光電効果による自由電子の移動が発生し、光の強度に応じて抵抗値が小さくなる。露光光２６としては、この光導電層２４が光吸収感度を有する波長領域の光が、露光光２６として定められる。
【００２３】
光導電層２４としては、（ａ）無機半導体材料として、アモルファス・シリコンや、ＺｎＳｅ、ＣｄＳなどの化合物半導体から構成される層、（ｂ）有機半導体材料として、アントラセン、ポリビニルカルバゾールなどから構成される層、（ｃ）光照射によって電荷を発生する電荷発生材料及び電界によって電荷移動を生ずる電荷輸送材料の混合物や積層体から構成される層などが挙げられる。
【００２４】
ここで、光導電層２４は、上述のように、内部光電効果を有し、照射された光の強度に応じて抵抗値が変化することから、交流駆動が可能であり、且つ照射された光に対して対象駆動することが好ましく、この観点から、図１に示すように、電荷輸送層（ＣＴＬ）２４Ｂを上下から挟むように一対の電荷発生層（ＣＧＬ）２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃが積層された３層構造であることが好ましい。
【００２５】
電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃは、露光光２６を吸収して自由電子を発生させる機能を有する層である。電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃとしては、露光光２６を吸収して励起子を発生させ、電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃの内部、または電荷輸送層２４Ｂとの界面で自由電子に効率良く分離させられるものが好ましい。
【００２６】
電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃ各々を構成する電荷発生材料としては、例えば、ペリレン系、フタロシアニン系、ビスアゾ系、ジチオピトケロピロール系、スクワリリウム系、アズレニウム系、チアピリリウム・ポリカーボネート系化合物などが挙げられる。
【００２７】
上記電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃ各々を構成する電荷発生材料として挙げた材料のうち、外部光３０の有する波長以外の光として、赤外光の波長領域について光吸収感度を有する材料として、６００〜８５０ｎｍに優れた光感度を有する点でフタロシアニン系化合物を用いる事が好ましい。
【００２８】
前記フタロシアニン系化合物としては、例えば、無金属フタロシアニン、金属フタロシアニン、及びそれらのダイマ−などが挙げられる。
【００２９】
前記金属フタロシアニンの中心金属としては、例えば、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｖ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｍｇ、Ｐｂ等が挙げられる。また、これら中心金属の酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルキル化物、アルコキシ化物等も使用できる。具体的には、無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、１，２−ジ（オキソガリウムフタロシアニニル）エタン、バナジルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン、ジクロロ錫フタロシアニン、銅フタロシアニンなどが挙げられる。また、これらのフタロシアニン環に置換基を含むものも使用することができる。更にまた、これらのフタロシアニン環中の炭素原子が窒素原子で置換されたものも有効である。これらフタロシアニン系化合物の形態としては、アルモルファス又は公知の総ての結晶多形のものが使用可能である。これらフタロシアニン系化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３０】
これらフタロシアニン系化合物の中でも、チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、１，２−ジ（オキソガリウムフタロシアニニル）エタン、無金属フタロシアニン、バナジルフタロシアニン、及びジクロロ錫フタロシアニンは、特に優れた光感度を有している点で特に好ましい。
【００３１】
更にこれらのフタロシアニン系化合物は、以下に示す結晶形にて用いることが好ましい。即ち、無金属フタロシアニンにおいてはＸ型が、バナジルフタロシアニンにおいてはα型が、それぞれ好ましい。チタニルフタロシアニンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、9.2 °、13.1°、20.7°、26.2°及び27.1°に強い回折ピークを有するもの、少なくとも7.6 °、12.3°、16.3°、25.3°及び28.7°に強い回折ピークを有するもの、並びに、少なくとも9.5 °、11.7°、15.0°、23.5°及び27.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。クロロガリウムフタロシアニンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、13.4°及び27.0°に強い回折ピークを有するもの、並びに、少なくとも7.4 °、16.6°、25.5°及び28.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。ヒドロキシガリウムフタロシアニンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、7.5 °、9.9 °、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°及び28.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。1,2-ジ(オキソガリウムフタロシアニニル)エタンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、6.9 °、13.0°、15.9°、25.6°及び26.1°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。ジクロロ錫フタロシアニン結晶においては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、8.3 °、13.7°及び28.3°に強い回折ピークを有するもの、少なくとも8.5 °、11.2°、14.5°及び27.2°に強い回折ピークを有するもの、並びに、少なくとも9.2 °、12.2°、13.4°、14.6°、17.0°及び25.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。
【００３２】
上記電荷輸送層２４Ｂを構成する電荷輸送材料としては、例えば、トリニトロフルオレン系、ポリビニルカルバゾール系、オキサジアゾール系、ピラリゾン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、トリフェニルアミン系、トリフェニルメタン系、ジアミン系化合物や、ＬｉＣｌＯ4を添加したポリビニルアルコ−ルやポリエチレンオキシド等が、また電荷発生材と電荷輸送材との複合体として、積層体、混合物、マイクロカプセルなど、を利用することができる。
【００３３】
なお、光導電層２４の層厚は１μｍ以上１００μｍ以下の範囲で用い、露光光２６照射時と露光光２６非照射時の抵抗比は大きい方が望ましい。
【００３４】
液晶層２０は、電場によって入射光のうち特定の色光の反射・透過状態を変調する機能を有し、選択した状態が無電場で保持できる性質の層である。曲げや圧力などの外力に対して変形しない構造であることが望ましい。
【００３５】
液晶層２０には、カイラルネマチック液晶（コレステリック液晶）をゼラチンバインダー（高分子マトリックス）中に分散させたＰＤＬＣ（Polymer Network Liquid Crystal）構造を用いることができる。なお、本実施の形態では、液晶層２０がＰＤＬＣ構造を採用する場合を説明するが、この構造に限ることなく、コレステリック液晶を、リブを介し電極間距離を固定したセルに配置する方式やカプセル液晶化することにより実現してもよい。また、液晶もコレステリック液晶に限ることなく、スメクチックＡ液晶、ネマチック液晶、ディスコティック液晶などが利用できる。
【００３６】
液晶層２０の反射波長域（表示色波長域）は、例えば液晶としてコレステリック液晶を用いる場合には、該コレステリック液晶の螺旋ピッチにより調整することができる。コレステリック液晶の螺旋ピッチは、ネマチック液晶に対するカイラル剤の添加量で調整することができる。また、コレステリック液晶の螺旋ピッチの温度依存性を補償するために、捩じれ方向が異なる、または逆の温度依存性を示す複数のカイラル剤を添加する公知の手法を用いてもよい。
なお、液晶の光学的特性変化を補助する補助部材として、偏光板、位相差板、反射板などの受動光学部品と併用したり、液晶中に２色性色素を添加したりしてもよい。
【００３７】
なお、液晶層２０の層厚は通常１μｍ以上５０μｍ以下の範囲として用いることが望ましい。
【００３８】
液晶層２０に含まれる液晶材料としては、シアノビフェニル系、フェニルシクロヘキシル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゾエート系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、スチルベン系、トラン系など公知の液晶組成物が利用できる。液晶材料には２色性色素などの色素、粒子などの添加剤を加えてもよく、高分子マトリクス中に分散したものや、高分子ゲル化したものや、マイクロカプセル化したものでもよい。また、液晶は高分子、中分子、低分子のいずれでもよく、またこれらの混合物でもよい。
【００３９】
電極１６及び電極１８に電圧が印加されると共に、露光光２６が照射されると、照射された露光光２６の光量に応じて光導電層２４の電気特性分布としての抵抗分布が変化する。この光導電層２４の電気抵抗分布の変化によって、結果として液晶層２０に印加される電圧も露光光２６の光量に応じて変化し、液晶層２０に含まれる液晶の配向が変化して光学的特性分布が変化する。この変化によって、露光光２６に応じた画像が液晶層２０に書込まれる。この液晶層２０に書込まれた画像は、読出光３０Ｂの液晶層２０による反射光として視認される。
【００４０】
遮光層２２は、外光３０Ａや読出光３０Ｂ等の露光光２６以外の外部光３０を反射または吸収すると共に、露光光２６の波長の光のみを透過、または露光光２６の波長領域を除いた波長領域の光を吸収または反射する。
【００４１】
なお、本実施の形態において、「光を吸収する」とは、入射光の光強度が吸収後１０％以下となることを意味し、「光を透過する」とは、入射光の光強度が透過後５０％以上、好ましくは８０％以上であることを意味している。
【００４２】
遮光層２２は、表示媒体１０の、光導電層２４より露光光２６の照射方向上流側に設けられている。なお、本実施の形態では、図１に示すように、遮光層２２は、光導電層２４と液晶層２０とに挟まれて設けられている場合を説明するが、遮光層２２は、光導電層２４より露光光２６の照射方向上流側に設けられていれば良く、例えば、液晶層２０上と電極１６とに挟まれて設けられていても良い。
【００４３】
このため、露光光２６が照射されると、露光光２６の波長領域の光のみが遮光層２２を透過して光導電層２４に到達し、露光光２６の波長領域以外の波長領域の外部光３０は、遮光層２２において吸収または反射されて、光導電層２４に到達することを抑制される。
【００４４】
遮光層２２の電気抵抗は、遮光層２２内の電流によって解像度の低下を引き起こさないように、少なくとも体積抵抗率で１０8Ω・ｃｍ以上とすることが望ましい。さらに、液晶層２０に加わる分圧の変化分を大きくするためには、遮光層２２の静電容量が大きい程よいので、誘電率が大きく層厚が出来る限り薄く形成されることが好ましい。
【００４５】
遮光層２２としては、カドミウム系、クロム系、コバルト系、マンガン系、カーボン系などの無機顔料、またはアゾ系、アントラキノン系、インジゴ系、トリフェニルメタン系、ニトロ系、フタロシアニン系、ペリレン系、ピロロピロール系、キナクリドン系、多環キノン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、ピリリウム系、アントロン系、等の有機染料や有機顔料、あるいはこれらを樹脂に分散した材料を用いて形成され、少なくとも上記特性を有すように構成する。
【００４６】
本実施の形態における遮光層２２用の樹脂（バインダー）としては、水溶性樹脂を用いることが好ましく、具体的にはカルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基、水酸基、ポリエチレングリコール骨格、アミド基、メチロールアミン基などの親水基を有する樹脂で、例えば、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエチレンオキシド、アクリルアミド、アルキド樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂などが利用できる。グリオキザールやポリイソシアナートなどの架橋剤を添加してもよい。ただし、液晶中に不純物を溶出させないという観点から、これらの材料は非イオン性を有するものであることが好ましい。
【００４７】
遮光層２２に必要な光学濃度は、光導電層２４の光吸収感度と読出光３０Ｂの強度に依存するため一概に規定できないが、読出光３０Ｂによる画像読み出し時に、読み出し時に視認される方向とは反対側（図１における下側）からの透過光により視認性が低下するのを防止するために、少なくとも１以上、特に２以上が望ましい。特に４００〜７００ｎｍの波長域の光学濃度を高くすると視認性の低下を防止する効果が強い。
【００４８】
このようにして形成した遮光層２２の層厚は、０．５μｍ以上３．０μｍ以下の範囲とすることが好ましく、０．７μｍ以上２．０μｍ以下の範囲とすることがより好ましい。
【００４９】
このような表示媒体１０においては、電極１６及び電極１８に電圧が印加された状態で、露光光２６が光導電層２４に照射されると、照射された露光光２６の光量に応じて光導電層２４の電気特性分布としての抵抗分布が変化する。この光導電層２４の電気抵抗分布の変化によって、結果として液晶層２０に印加される電圧も露光光２６の光量に応じて変化し、液晶層２０に含まれる液晶の配向が変化して光学的特性分布が変化する。この変化によって、露光光２６に応じた画像が液晶層２０に書込まれる。この液晶層２０に書込まれた画像は、読出光３０Ｂ等の外光の液晶層２０による反射光として視認され、表示媒体１０に画像が書込まれ、表示される。
【００５０】
次に、この表示媒体１０の作製方法について説明する。
【００５１】
この表示媒体１０の作製は、図２（Ａ）に示すように、複数の層からなる表示媒体１０の内の、少なくとも液晶層２０を含む第１の基板４０と、少なくとも光導電層２４を構成する層を含む第２の基板４２と、を重ね合わせた積層体１０Ａを熱融着することによって行われる。
【００５２】
なお、この第１の基板４０及び第２の基板４２各々は、第１の基板４０と第２の基板４２とを重ね合わせた積層体１０Ａとしたときに、第１の基板４０の第２の基板４２と接する領域の材料と、第２の基板４２の第１の基板４２と接する領域の材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料から構成される層のガラス転移温度が、表示媒体１０を構成する層の各々のガラス転移温度の内で最も低い温度となるように、第１の基板４０及び第２の基板４２を構成することが好ましい。
【００５３】
詳細には、例えば、図２（Ａ）に示すように、まず、第１の基板４０として、電極１６の形成された基板１２の該電極１６上に、液晶層２０及び遮光層２２を順に積層した積層体を第１の基板４０として作製する。
【００５４】
この第１の基板４０の作製としては、例えば、電極１６の形成された基板１２としてＩＴＯ蒸着ＰＥＴフィルムを用い、この電極１６上に、液晶層２０として、例えば、液晶マイクロカプセルを含む塗布液を塗布することによって液晶層２０を形成する。
この液晶マイクロカプセルを含む塗布液の塗布には、例えば、ブレードコート法、ロッドコート法、スクイズコート法、リバースロールコート法、トランスファコールコート法、スピンコート法、バーコート法、エアーナイフ法、グラビア印刷法、スプレーコート法、など公知の塗布方法を用いて塗布する。
【００５５】
次にこの液晶層２０上に、遮光層２２を構成する材料を含む溶液を、例えば、ブレードコート法、ロッドコート法、スクイズコート法、リバースロールコート法、トランスファコールコート法、スピンコート法、バーコート法、エアーナイフ法、グラビア印刷法、スプレーコート法、など公知の塗布方法を用いて塗布する。これによって、第１の基板４０を作製する。
【００５６】
次に、電極１８の形成された基板１４の該電極１８上に、光導電層２４を積層した積層体を第２の基板４２として作製した。
【００５７】
この第２の基板４２の作製としては、例えば、光導電層２４が電荷発生層２４Ｃ、電荷輸送層２４Ｂ、及び電荷発生層２４Ａを積層した構成である場合には、例えば、電極１８の形成された基板１４としてＩＴＯ蒸着ＰＥＴフィルムを用い、この電極１８の上に、電荷発生層２４Ｃ、電荷輸送層２４Ｂ、及び電荷発生層２４Ａの３層構造の光導電層２４を形成する。
【００５８】
詳細には、例えば、電極１８上に、電荷発生材料を分散した溶液を塗布することによって電荷発生層２４Ｃを形成し、この電荷発生層２４Ｃの上に電荷輸送材料を分散した溶液を塗布することによって電荷輸送層２４Ｂを形成し、さらにこの電荷輸送層２４Ｂの上に電荷発生材料を分散した溶液を塗布することによって電荷発生層２４Ａを形成する。
【００５９】
この電荷発生層２４Ｃ及び電荷発生層２４Ａの塗布方法、及び電荷輸送層２４Ｂの塗布方法としては、例えば、ブレードコート法、ロッドコート法、スクイズコート法、リバースロールコート法、トランスファコールコート法、スピンコート法、バーコート法、エアーナイフ法、グラビア印刷法、スプレーコート法、など公知の塗布方法を用いればよい。
【００６０】
次に、図２（Ｂ）に示すように、上述のようにして作製した第１の基板４０及び第２の基板４２を、光導電層２４と液晶層２０とが遮光層２２を介して向かい合うように積層した積層体１０Ａとする。なお、この工程が、本発明の表示場板の製造方法の積層工程に相当する。
【００６１】
次に、図２（Ｃ）に示すように、この積層体１０Ａを、加熱加圧装置４４を用いて熱融着けする。
【００６２】
この加熱加圧装置４４は、加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂを含んで構成されている。この加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂは円柱状であって、各々、中心軸４５Ａ、中心軸４５Ｂを介してその両端部を、図示を省略する一対の支持部材によって回転可能に支持されている。そしてこれらの図示を省略する支持部材は、加熱加圧装置４４の筐体に固定されている。
【００６３】
これらの加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂは、各々駆動部４６、駆動部４８を含んで構成されており、これらの駆動部４６及び駆動部４８による制御によって、所定の温度に発熱すると共に、互いに反対の方向に同一速度で回転する。
【００６４】
これらの加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂの回転により上記積層体１０Ａを挟持搬送することによって、積層体１０Ａは加熱加圧される。この工程を得ることによって、積層体１０Ａは熱融着される。
【００６５】
この加熱加圧装置４４の加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂは、第１の基板４０と第２の基板４２との積層体１０Ａにおいて、第１の基板４０の第２の基板４２と接する領域を構成する材料（図２に示す例では、遮光層２２を構成する材料）と、第２の基板４２の第１の基板４０と接する領域を構成する材料（図２に示す例では、電荷発生層２４Ａを構成する材料）と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料のガラス転移温度以上融点以下の温度に発熱するように予め設定されている。
【００６６】
この加熱加圧装置４４によって積層体１０Ａに加えられる熱の温度範囲は、上述のように、第１の基板４０の第２の基板４２と接する領域を構成する材料と、第２の基板４２の第１の基板４０と接する領域を構成する材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料の温度以上で、且つ融点以下の温度範囲内であればよい。
【００６７】
なお、この温度範囲を示す情報は、予め駆動部４６及び駆動部４８の図示を省略するメモリ内に記憶しておけばよい。そして、この駆動部４６及び駆動部４８の制御によって加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂの図示を省略する発熱体が発熱することで、加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂが、上記温度範囲内の温度に発熱する。
【００６８】
また、この加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂ間の距離は、積層体１０Ａ及び表示媒体１０の厚みに応じて予め調整されているとする。
【００６９】
このように、本実施の形態における表示媒体１０は、図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、積層体１０Ａを、第１の基板４０の第２の基板４２と接する領域の材料と、第２の基板４２の第１の基板４２と接する領域の材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料から構成される層のガラス転移温度以上融点以下の範囲内で加熱することで熱融着することによって、作製される。
【００７０】
このため、第１の基板４０と第２の基板４２との間に接着層を設けてこれらを貼り合わせることによって表示媒体１０を作製する場合に比べて、簡易な工程で容易に表示媒体１０を作製することができる。
【００７１】
また、作製された表示媒体１０の第１の基板４０と第２の基板４２との間は、熱融着によって接着された状態となっているため、接着層を介して貼り合わせる場合に比べて、第１の基板４０と第２の基板４２との密着力の低下を抑制することができると考えられる。
【００７２】
なお、上記図２を用いた説明では、電極１６の形成された基板１２の該電極１６上に、液晶層２０及び遮光層２２を順に積層した積層体を第１の基板４０として作製し、電極１８の形成された基板１４上に電荷発生層２４Ｃ、電荷輸送層２４Ｂ、電荷発生層２４Ａを積層した積層体を第２の基板４２として作製する場合を説明したが、第１の基板４０は、少なくとも液晶層２０を含み、第２の基板４２は、少なくとも光導電層２４を構成する層を含めばよく、第１の基板及び第２の基板に含まれる層は、このような形態に限られるものではない。
【００７３】
例えば、図３（Ａ）に示すように、電極１６の形成された基板１２の該電極１６上に、液晶層２０、遮光層２２、及び電荷発生層２４Ａを順に積層した積層体を第１の基板５０とし、電極１８の形成された基板１４上に電荷発生層２４Ｃ、及び電荷輸送層２４Ｂを積層した積層体を第２の基板５２として表示媒体１０を作製してもよい。
【００７４】
この場合についても、図２を用いて説明したのと同様に、図３（Ｂ）に示すように、第１の基板５０と第２の基板５２とを、第１の基板５０の電荷発生層２４Ａと第２の基板５２の電荷輸送層２４Ｂとが接するように重ね合わせた積層体１０Ｂとする。そして、図３（Ｃ）に示すように、この積層体１０Ｂを、加熱加圧装置４４を用いて、第１の基板５０の第２の基板５２と接する領域（電荷発生層２４Ａ）の材料と、第２の基板５２の第１の基板５２と接する領域（電荷輸送層２４Ｂ）の材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料から構成される層のガラス転移温度以上融点以下の範囲内で加熱することで熱融着することによって、表示媒体１０を作製すればよい。
【００７５】
また、例えば、図４（Ａ）に示すように、電極１６の形成された基板１２の該電極１６上に、液晶層２０、遮光層２２、電荷発生層２４Ａ、及び電荷輸送層２４Ｂを順に積層した積層体を第１の基板６０とし、電極１８の形成された基板１４上に電荷発生層２４Ｃを積層した積層体を第２の基板６２として表示媒体１０を作製してもよい。
【００７６】
この場合についても、図２を用いて説明したのと同様に、図４（Ｂ）に示すように、第１の基板６０と第２の基板６２とを、第１の基板６０の電荷輸送層２４Ｂと第２の基板５２の電荷発生層２４Ｃとが接するように重ね合わせた積層体１０Ｃとする。そして、図４（Ｃ）に示すように、この積層体１０Ｃを、加熱加圧装置４４を用いて、第１の基板６０の第２の基板６２と接する領域（電荷輸送層２４Ｂ）の材料と、第２の基板６２の第１の基板６２と接する領域（電荷発生層２４Ｃ）の材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料から構成される層のガラス転移温度以上融点以下の範囲内で加熱することで熱融着することによって、表示媒体１０を作製すればよい。
【００７７】
＜試験例＞
（試験例１）
以上説明した本発明の表示媒体の作製方法及び表示媒体の効果を確認するため、以下の試験を行った。具体的には、図１に示す表示媒体を、図２に示す方法で作製すると共に、剥離強度を測定した。
【００７８】
―表示媒体の作製―
第２の基板４２として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルムを基板１４及び電極１８とし、この上に、電荷発生層２４Ｃ、電荷輸送層２４Ｂ、及び電荷発生層２４Ａの３層構造の光導電層２４を形成した。まず、フタロシアニン顔料系電荷発生材料を分散したポリビニルブチラール樹脂のアルコール溶液をスピンコートして０．１μｍ厚の電荷発生層２４Ｃを形成し、つぎにジアミン系電荷輸送材料とポリカーボネート樹脂のクロロベンゼン溶液をアプリケータでコートして３μｍ厚の電荷輸送層２４Ｂを形成し、最後に再度、フタロシアニン顔料系電荷発生材料を分散したポリビニルブチラール樹脂のアルコール溶液をスピンコートして０．１μｍ厚の電荷発生層２４Ａを形成して光導電層２４を得た。
【００７９】
次に、第１の基板４０として、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶Ｅ８（メルク社製）７４．８質量部に，カイラル剤ＣＢ１５（ＢＤＨ社製）２１質量部とカイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）４．２質量部とを加熱溶解し、その後室温に戻して、ブルーグリーンの色光を選択反射するカイラルネマチック液晶を得た。
【００８０】
このブルーグリーンカイラルネマチック液晶１０質量部に、キシレンジイソシアネート３モルとトリメチロールプロパン１モルとの付加物（武田薬品工業製Ｄ−１１０Ｎ）３質量部と酢酸エチル１００質量部とを加えて均一溶液とし、油相となる液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（クラレ社製ポバール２１７ＥＥ）１０質量部を、熱したイオン交換水１０００質量部に加えて攪拌後、放置冷却することによって水相となる液を調製した。
【００８１】
次に、スライダックで３０Ｖ交流を与えた家庭用ミキサーによって、前記油相１０質量部を前記水相１００質量部中に１分間乳化分散して、水相中に油相液滴が分散した水中油エマルジョンを調製した。この水中油エマルジョンを６０℃のウォーターバスで加熱しながら２時間攪拌し、界面重合を完了させて、液晶マイクロカプセルを形成した。得られた液晶マイクロカプセルの平均粒径をレーザー粒度分布計によって測定したところ、約１２μｍと見積もられた。
【００８２】
得られた液晶マイクロカプセル分散液を、網目３８μｍのステンレスメッシュを通して濾過後一昼夜放置し、乳白色の上澄みを取り除くことにより、液晶マイクロカプセルからなる固形成分約４０質量％のスラリーを得た。
得られたスラリーに、その固形成分の質量に対して２／３となる量のポリビニルアルコールを含むポリビニルアルコール１０質量％の溶液を加えることにより塗布液Ｃを調製した。
ＩＴＯ膜（透明電極層、厚さ８００Å）付きのＰＥＴフィルム（東レハイビーム、透明基板、板厚１２５μｍ）のＩＴＯ膜面の上に、上記塗布液Ｃを＃４４のワイヤーバーで塗布することにより、液晶層２０を形成した。
【００８３】
次に、この液晶層２０上に、ブラックポリイミドＢＫＲ−１０５（日本化薬製）を塗布し、遮光層（厚さ１μｍ）２２を形成した。
【００８４】
上記作製した第１の基板４０と、第２の基板４２とを、第１の基板４０の遮光層２２と、第２の基板４２の電荷発生層２４Ａとが接するように重ね併せて積層体１０Ａとした。なお、遮光層２２のガラス転移温度は約７０℃であり、電荷発生層２４Ａのガラス転移温度も約７０℃であった。
【００８５】
加熱加圧装置４４として、Φ５５ｍｍ、ゴム厚５ｍｍの加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂを備えた加熱加圧装置４４を用意して、積層体１０Ａを加熱加圧することによって、積層体１０Ａを熱融着した。
【００８６】
この熱融着条件は、成形速度０．２ｍ／分、積層体１０Ａの厚み約３００μｍ、加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂから積層体１０Ａに加えられる熱の温度は１００℃であった。また、加圧０．４ＭＰａであった。
【００８７】
熱融着された積層体を用い、金型打ち抜き器により５４．５ｍｍ×４６．５ｍｍの大きさの長方形に打ち抜き、表示媒体１０を作製した。
【００８８】
作製した表示媒体１０について、下記方法を用いて密着力を評価した。
表示媒体１０を識別カード状にパッケージングし、JIS X 6305の識別カードの試験方法第１部の評価方法に従って１０００回曲げ試験を行い剥離が発生せず、実用上問題ないことを確認した。
【００８９】
また、この作製した表示媒体１０について、温度６０℃、湿度９０％ＲＨの環境下に500時間放置した後に、上記と同様にして密着力を評価したところ、同様に剥離は発生せず、密着力の低下はみられなかった。
【００９０】
（比較例１）
上記試験例１では、第１の基板４０と第２の基板４２とを、熱融着する場合を説明したが、本比較例１では、接着層を用いて接着した場合を説明する。
【００９１】
なお、本比較例１では、第１の基板４０と第２の基板４２を熱融着ではなく、接着層を用いて接着した以外は試験例１と同様にして表示媒体を作製し、試験例１と同様にして密着力の評価を行った。
【００９２】
本比較例１では、試験例１で作製した第１の基板４０と、第２の基板４２とを、アクリル樹脂系接着シート（日立化成工業社製、商品名ヒタレックス）を用いて、第１の基板４０の遮光層２２と、第２の基板４２の電荷発生層２４Ａとが接するように重ね併せることによって、表示媒体を作製した。
【００９３】
比較例１では試験例１と比較して粘着シートが必要であり、コストと共に駆動電圧の上昇を招く。更に表示媒体の取り出し電極上に粘着剤が存在すると電気的なコンタクトが困難であり、その部分を回避した複雑な設計、工程が必要になり更にコスト増加を招くことになり好適ではない。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】本実施の形態の表示媒体の一例を示す構成図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｃ）本実施の形態の表示媒体の作製方法の一例を示す模式図である。
【図３】（Ａ）〜（Ｃ）本実施の形態の表示媒体の作製方法の一例を示す模式図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）本実施の形態の表示媒体の作製方法の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００９５】
１０ 表示媒体
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ 積層体
２０ 液晶層
２４ 光導電層
２４Ａ 電荷発生層
２４Ｂ 電荷輸送層
２４Ｃ 電荷発生層
４０、５０、６０ 第１の基板
４２、５２、６２ 第２の基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示媒体の作製方法及び表示媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータの普及、インターネットを始めとする情報化社会の発達により、電子情報の一時的な閲覧を目的とする、いわゆる短寿命文書としての紙の消費は、益々増加する傾向にあり、森林資源保護などの地球環境保全や事務環境改善などの理由から、紙に代わる書き換え可能な表示媒体の実現が望まれている。
【０００３】
そこで、無電源でのメモリ性を有し、且つ外部装置によって短時間で画像を書き換えることができる紙に代わる表示媒体として、コレステリック液晶等の表示層と、電場下で光照射されることで内部光電効果による自由電子の移動が発生する光導電体と、を用いた表示媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このような表示媒体の作製方法としては、支持基板上に光導電体を含む層を形成した積層体と、支持基板上に表示層を形成した積層体と、を接着層を介して貼り合わせることにより表示媒体を製造することが一般的に行われていた。
【特許文献１】特開２００３−５２１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、簡易な工程で密着力の低下を抑制可能な表示媒体の作製方法、及び表示媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の本発明により達成される。すなわち、
【０００７】
請求項１に係る発明は、電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層を構成する層を少なくとも含む第1の基板と、光学的特性分布による画像が表示される表示層を少なくとも含む第２の基板と、を、前記光導電層を構成する層と前記表示層とが向かい合うように重ね合わせた積層体とする第1の工程と、前記第1の基板の前記第２の基板と接する領域を構成する材料と、前記第２の基板の前記第1の基板と接する領域を構成する材料と、の内の、ガラス転移温度の低い材料のガラス転移温度以上融点以下の温度で前記積層体を加熱して前記第1の基板と前記第２の基板とを熱融着する第２の工程と、を備えた表示媒体の作製方法である。
【０００８】
請求項２に係る発明は、前記第２の工程において、前記第1の基板と前記第２の基板とを加圧密着させることを特徴とする請求項１に記載の表示媒体の作製方法である。
【０００９】
請求項３に係る発明は、前記光導電層は、一対の電荷発生層と、電荷輸送層と、を含んで構成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示媒体の作製方法である。
【００１０】
請求項４に係る発明は、請求項１〜請求項３の何れか１つの作製方法によって製造された表示媒体である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、本発明の工程を用いない場合に比較して、簡易な工程で密着力の低下を抑制可能な表示媒体の作製方法、及び表示媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の表示媒体の作製方法及び本発明の表示媒体の作製方法によって製造される表示媒体の一の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００１３】
まず、本発明の表示媒体の作製方法によって製造される表示媒体の一例を説明する。
【００１４】
本実施の形態の形態に係る表示媒体１０は、図１に示すように、それぞれ電極１６及び電極１８を備えた基板１２及び基板１４間に、光導電層２４と、遮光層２２と、液晶層２０と、が積層されて構成されている。なお、表示媒体１０が、本発明の表示媒体に相当し、光導電層２４が、本発明の表示媒体の光導電層２４に相当し、液晶層２０が、本発明の表示媒体の表示層に相当する。
【００１５】
基板１２及び基板１４各々は、絶縁性（体積抵抗で１０１２Ωｃｍ以上、以下これに準ずる）を有している。また、基板１２及び基板１４の内の、表示媒体１０に画像を書込むときに照射する光である露光光２６が照射される側または表示媒体１０に表示された画像を読み取るときに表示媒体１０に入射される外部光３０が入射される側に位置する基板、または基板１２及び基板１４の双方は、透光性を有している。
【００１６】
なお、本実施の形態において、透光性とは、波長３８０〜７８０ｎｍの光の８０％以上を透過する性質を示している。
【００１７】
また、本実施の形態において、露光光２６以外に表示媒体１０に照射される光を、外部光３０と称し、この外部光３０の内、表示媒体１０への露光光２６の照射時に表示媒体１０に入射される光を外光３０Ａと称し、表示媒体１０に書込まれた画像を読み取るときに表示媒体１０に入射される光を読出光３０Ｂと称して説明する。
【００１８】
基板１２及び基板１４は、ガラス及びシリコン等の無機シート、またはポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、及びポリエチレンナフタレート等の高分子フィルムを用いて構成することができる。基板１２及び基板１４の厚みは、０．０１ｍｍ〜０．５ｍｍの範囲内であることが好ましい。
【００１９】
電極１６及び電極１８は、導電性（シート抵抗（表面抵抗）で５００Ω/□以下、これに準ずる）を有している。また、電極１６及び電極１８の内の、露光光２６が照射される側または読出光３０Ｂが入射される側に位置する基板、または基板１２及び基板１４の双方は、透光性を有している。
【００２０】
電極１６及び電極１８には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いることができる。なお、本実施の形態では、電極１６及び電極１８にＩＴＯを用いる場合を説明するが、ＩＴＯ以外にも、Ａｕなどの金属膜、ＳｎＯ2、ＺｎＯなど酸化物、ポリピロールなどの導電性高分子の膜などの電気導電体を用いることができる。また、本実施の形態の一対の電極１６及び電極１８は、基板１２及び基板１４上にスパッタリングされて形成されているが、必ずしもスパッタリングによる必要はなく、印刷、ＣＶＤ、蒸着などにより形成することもできる。
【００２１】
電極１６及び電極１８の形態及び駆動方式としては、本実施の形態においては両電極共に表示領域に共通の電極とし、駆動方式は特開２００３−１４０１８４号公報と特開２０００−１１１９４２号公報とに記載の駆動方式を用いて駆動させている。しかし、基板１２側の電極１６と基板１４側の電極１８の一方を表示媒体１０に表示する画像の各画素に共通の電極とし、他方を各画素に個別の電極とするセグメント駆動方式、電極１６と電極１８とを互いに交差する方向に各々ストライプ状に形成して、互いに対峙する位置を１つの画素に対応する領域とする単純マトリクス駆動方式、電極１６及び電極１８の一方を各画素に共通の電極とし、他方を互いに交差するストライプ状の走査電極及び信号電極から構成されるものとして、これにＴＦＴやＭＩＮ等の能動素子を設けるアクティブマトリックス駆動方式等であってもよい。
【００２２】
光導電層２４は、所定の波長の光を吸収すると共に、電場下でこの所定の波長の光を照射されると内部光電効果による自由電子の移動が発生し、光の強度に応じて抵抗値が小さくなる。露光光２６としては、この光導電層２４が光吸収感度を有する波長領域の光が、露光光２６として定められる。
【００２３】
光導電層２４としては、（ａ）無機半導体材料として、アモルファス・シリコンや、ＺｎＳｅ、ＣｄＳなどの化合物半導体から構成される層、（ｂ）有機半導体材料として、アントラセン、ポリビニルカルバゾールなどから構成される層、（ｃ）光照射によって電荷を発生する電荷発生材料及び電界によって電荷移動を生ずる電荷輸送材料の混合物や積層体から構成される層などが挙げられる。
【００２４】
ここで、光導電層２４は、上述のように、内部光電効果を有し、照射された光の強度に応じて抵抗値が変化することから、交流駆動が可能であり、且つ照射された光に対して対象駆動することが好ましく、この観点から、図１に示すように、電荷輸送層（ＣＴＬ）２４Ｂを上下から挟むように一対の電荷発生層（ＣＧＬ）２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃが積層された３層構造であることが好ましい。
【００２５】
電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃは、露光光２６を吸収して自由電子を発生させる機能を有する層である。電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃとしては、露光光２６を吸収して励起子を発生させ、電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃの内部、または電荷輸送層２４Ｂとの界面で自由電子に効率良く分離させられるものが好ましい。
【００２６】
電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃ各々を構成する電荷発生材料としては、例えば、ペリレン系、フタロシアニン系、ビスアゾ系、ジチオピトケロピロール系、スクワリリウム系、アズレニウム系、チアピリリウム・ポリカーボネート系化合物などが挙げられる。
【００２７】
上記電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃ各々を構成する電荷発生材料として挙げた材料のうち、外部光３０の有する波長以外の光として、赤外光の波長領域について光吸収感度を有する材料として、６００〜８５０ｎｍに優れた光感度を有する点でフタロシアニン系化合物を用いる事が好ましい。
【００２８】
前記フタロシアニン系化合物としては、例えば、無金属フタロシアニン、金属フタロシアニン、及びそれらのダイマ−などが挙げられる。
【００２９】
前記金属フタロシアニンの中心金属としては、例えば、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｖ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｍｇ、Ｐｂ等が挙げられる。また、これら中心金属の酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルキル化物、アルコキシ化物等も使用できる。具体的には、無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、１，２−ジ（オキソガリウムフタロシアニニル）エタン、バナジルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン、ジクロロ錫フタロシアニン、銅フタロシアニンなどが挙げられる。また、これらのフタロシアニン環に置換基を含むものも使用することができる。更にまた、これらのフタロシアニン環中の炭素原子が窒素原子で置換されたものも有効である。これらフタロシアニン系化合物の形態としては、アルモルファス又は公知の総ての結晶多形のものが使用可能である。これらフタロシアニン系化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３０】
これらフタロシアニン系化合物の中でも、チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、１，２−ジ（オキソガリウムフタロシアニニル）エタン、無金属フタロシアニン、バナジルフタロシアニン、及びジクロロ錫フタロシアニンは、特に優れた光感度を有している点で特に好ましい。
【００３１】
更にこれらのフタロシアニン系化合物は、以下に示す結晶形にて用いることが好ましい。即ち、無金属フタロシアニンにおいてはＸ型が、バナジルフタロシアニンにおいてはα型が、それぞれ好ましい。チタニルフタロシアニンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、9.2 °、13.1°、20.7°、26.2°及び27.1°に強い回折ピークを有するもの、少なくとも7.6 °、12.3°、16.3°、25.3°及び28.7°に強い回折ピークを有するもの、並びに、少なくとも9.5 °、11.7°、15.0°、23.5°及び27.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。クロロガリウムフタロシアニンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、13.4°及び27.0°に強い回折ピークを有するもの、並びに、少なくとも7.4 °、16.6°、25.5°及び28.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。ヒドロキシガリウムフタロシアニンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、7.5 °、9.9 °、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°及び28.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。1,2-ジ(オキソガリウムフタロシアニニル)エタンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、6.9 °、13.0°、15.9°、25.6°及び26.1°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。ジクロロ錫フタロシアニン結晶においては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、8.3 °、13.7°及び28.3°に強い回折ピークを有するもの、少なくとも8.5 °、11.2°、14.5°及び27.2°に強い回折ピークを有するもの、並びに、少なくとも9.2 °、12.2°、13.4°、14.6°、17.0°及び25.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。
【００３２】
上記電荷輸送層２４Ｂを構成する電荷輸送材料としては、例えば、トリニトロフルオレン系、ポリビニルカルバゾール系、オキサジアゾール系、ピラリゾン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、トリフェニルアミン系、トリフェニルメタン系、ジアミン系化合物や、ＬｉＣｌＯ4を添加したポリビニルアルコ−ルやポリエチレンオキシド等が、また電荷発生材と電荷輸送材との複合体として、積層体、混合物、マイクロカプセルなど、を利用することができる。
【００３３】
なお、光導電層２４の層厚は１μｍ以上１００μｍ以下の範囲で用い、露光光２６照射時と露光光２６非照射時の抵抗比は大きい方が望ましい。
【００３４】
液晶層２０は、電場によって入射光のうち特定の色光の反射・透過状態を変調する機能を有し、選択した状態が無電場で保持できる性質の層である。曲げや圧力などの外力に対して変形しない構造であることが望ましい。
【００３５】
液晶層２０には、カイラルネマチック液晶（コレステリック液晶）をゼラチンバインダー（高分子マトリックス）中に分散させたＰＤＬＣ（Polymer Network Liquid Crystal）構造を用いることができる。なお、本実施の形態では、液晶層２０がＰＤＬＣ構造を採用する場合を説明するが、この構造に限ることなく、コレステリック液晶を、リブを介し電極間距離を固定したセルに配置する方式やカプセル液晶化することにより実現してもよい。また、液晶もコレステリック液晶に限ることなく、スメクチックＡ液晶、ネマチック液晶、ディスコティック液晶などが利用できる。
【００３６】
液晶層２０の反射波長域（表示色波長域）は、例えば液晶としてコレステリック液晶を用いる場合には、該コレステリック液晶の螺旋ピッチにより調整することができる。コレステリック液晶の螺旋ピッチは、ネマチック液晶に対するカイラル剤の添加量で調整することができる。また、コレステリック液晶の螺旋ピッチの温度依存性を補償するために、捩じれ方向が異なる、または逆の温度依存性を示す複数のカイラル剤を添加する公知の手法を用いてもよい。
なお、液晶の光学的特性変化を補助する補助部材として、偏光板、位相差板、反射板などの受動光学部品と併用したり、液晶中に２色性色素を添加したりしてもよい。
【００３７】
なお、液晶層２０の層厚は通常１μｍ以上５０μｍ以下の範囲として用いることが望ましい。
【００３８】
液晶層２０に含まれる液晶材料としては、シアノビフェニル系、フェニルシクロヘキシル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゾエート系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、スチルベン系、トラン系など公知の液晶組成物が利用できる。液晶材料には２色性色素などの色素、粒子などの添加剤を加えてもよく、高分子マトリクス中に分散したものや、高分子ゲル化したものや、マイクロカプセル化したものでもよい。また、液晶は高分子、中分子、低分子のいずれでもよく、またこれらの混合物でもよい。
【００３９】
電極１６及び電極１８に電圧が印加されると共に、露光光２６が照射されると、照射された露光光２６の光量に応じて光導電層２４の電気特性分布としての抵抗分布が変化する。この光導電層２４の電気抵抗分布の変化によって、結果として液晶層２０に印加される電圧も露光光２６の光量に応じて変化し、液晶層２０に含まれる液晶の配向が変化して光学的特性分布が変化する。この変化によって、露光光２６に応じた画像が液晶層２０に書込まれる。この液晶層２０に書込まれた画像は、読出光３０Ｂの液晶層２０による反射光として視認される。
【００４０】
遮光層２２は、外光３０Ａや読出光３０Ｂ等の露光光２６以外の外部光３０を反射または吸収すると共に、露光光２６の波長の光のみを透過、または露光光２６の波長領域を除いた波長領域の光を吸収または反射する。
【００４１】
なお、本実施の形態において、「光を吸収する」とは、入射光の光強度が吸収後１０％以下となることを意味し、「光を透過する」とは、入射光の光強度が透過後５０％以上、好ましくは８０％以上であることを意味している。
【００４２】
遮光層２２は、表示媒体１０の、光導電層２４より露光光２６の照射方向上流側に設けられている。なお、本実施の形態では、図１に示すように、遮光層２２は、光導電層２４と液晶層２０とに挟まれて設けられている場合を説明するが、遮光層２２は、光導電層２４より露光光２６の照射方向上流側に設けられていれば良く、例えば、液晶層２０上と電極１６とに挟まれて設けられていても良い。
【００４３】
このため、露光光２６が照射されると、露光光２６の波長領域の光のみが遮光層２２を透過して光導電層２４に到達し、露光光２６の波長領域以外の波長領域の外部光３０は、遮光層２２において吸収または反射されて、光導電層２４に到達することを抑制される。
【００４４】
遮光層２２の電気抵抗は、遮光層２２内の電流によって解像度の低下を引き起こさないように、少なくとも体積抵抗率で１０8Ω・ｃｍ以上とすることが望ましい。さらに、液晶層２０に加わる分圧の変化分を大きくするためには、遮光層２２の静電容量が大きい程よいので、誘電率が大きく層厚が出来る限り薄く形成されることが好ましい。
【００４５】
遮光層２２としては、カドミウム系、クロム系、コバルト系、マンガン系、カーボン系などの無機顔料、またはアゾ系、アントラキノン系、インジゴ系、トリフェニルメタン系、ニトロ系、フタロシアニン系、ペリレン系、ピロロピロール系、キナクリドン系、多環キノン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、ピリリウム系、アントロン系、等の有機染料や有機顔料、あるいはこれらを樹脂に分散した材料を用いて形成され、少なくとも上記特性を有すように構成する。
【００４６】
本実施の形態における遮光層２２用の樹脂（バインダー）としては、水溶性樹脂を用いることが好ましく、具体的にはカルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基、水酸基、ポリエチレングリコール骨格、アミド基、メチロールアミン基などの親水基を有する樹脂で、例えば、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエチレンオキシド、アクリルアミド、アルキド樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂などが利用できる。グリオキザールやポリイソシアナートなどの架橋剤を添加してもよい。ただし、液晶中に不純物を溶出させないという観点から、これらの材料は非イオン性を有するものであることが好ましい。
【００４７】
遮光層２２に必要な光学濃度は、光導電層２４の光吸収感度と読出光３０Ｂの強度に依存するため一概に規定できないが、読出光３０Ｂによる画像読み出し時に、読み出し時に視認される方向とは反対側（図１における下側）からの透過光により視認性が低下するのを防止するために、少なくとも１以上、特に２以上が望ましい。特に４００〜７００ｎｍの波長域の光学濃度を高くすると視認性の低下を防止する効果が強い。
【００４８】
このようにして形成した遮光層２２の層厚は、０．５μｍ以上３．０μｍ以下の範囲とすることが好ましく、０．７μｍ以上２．０μｍ以下の範囲とすることがより好ましい。
【００４９】
このような表示媒体１０においては、電極１６及び電極１８に電圧が印加された状態で、露光光２６が光導電層２４に照射されると、照射された露光光２６の光量に応じて光導電層２４の電気特性分布としての抵抗分布が変化する。この光導電層２４の電気抵抗分布の変化によって、結果として液晶層２０に印加される電圧も露光光２６の光量に応じて変化し、液晶層２０に含まれる液晶の配向が変化して光学的特性分布が変化する。この変化によって、露光光２６に応じた画像が液晶層２０に書込まれる。この液晶層２０に書込まれた画像は、読出光３０Ｂ等の外光の液晶層２０による反射光として視認され、表示媒体１０に画像が書込まれ、表示される。
【００５０】
次に、この表示媒体１０の作製方法について説明する。
【００５１】
この表示媒体１０の作製は、図２（Ａ）に示すように、複数の層からなる表示媒体１０の内の、少なくとも液晶層２０を含む第１の基板４０と、少なくとも光導電層２４を構成する層を含む第２の基板４２と、を重ね合わせた積層体１０Ａを熱融着することによって行われる。
【００５２】
なお、この第１の基板４０及び第２の基板４２各々は、第１の基板４０と第２の基板４２とを重ね合わせた積層体１０Ａとしたときに、第１の基板４０の第２の基板４２と接する領域の材料と、第２の基板４２の第１の基板４２と接する領域の材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料から構成される層のガラス転移温度が、表示媒体１０を構成する層の各々のガラス転移温度の内で最も低い温度となるように、第１の基板４０及び第２の基板４２を構成することが好ましい。
【００５３】
詳細には、例えば、図２（Ａ）に示すように、まず、第１の基板４０として、電極１６の形成された基板１２の該電極１６上に、液晶層２０及び遮光層２２を順に積層した積層体を第１の基板４０として作製する。
【００５４】
この第１の基板４０の作製としては、例えば、電極１６の形成された基板１２としてＩＴＯ蒸着ＰＥＴフィルムを用い、この電極１６上に、液晶層２０として、例えば、液晶マイクロカプセルを含む塗布液を塗布することによって液晶層２０を形成する。
この液晶マイクロカプセルを含む塗布液の塗布には、例えば、ブレードコート法、ロッドコート法、スクイズコート法、リバースロールコート法、トランスファコールコート法、スピンコート法、バーコート法、エアーナイフ法、グラビア印刷法、スプレーコート法、など公知の塗布方法を用いて塗布する。
【００５５】
次にこの液晶層２０上に、遮光層２２を構成する材料を含む溶液を、例えば、ブレードコート法、ロッドコート法、スクイズコート法、リバースロールコート法、トランスファコールコート法、スピンコート法、バーコート法、エアーナイフ法、グラビア印刷法、スプレーコート法、など公知の塗布方法を用いて塗布する。これによって、第１の基板４０を作製する。
【００５６】
次に、電極１８の形成された基板１４の該電極１８上に、光導電層２４を積層した積層体を第２の基板４２として作製した。
【００５７】
この第２の基板４２の作製としては、例えば、光導電層２４が電荷発生層２４Ｃ、電荷輸送層２４Ｂ、及び電荷発生層２４Ａを積層した構成である場合には、例えば、電極１８の形成された基板１４としてＩＴＯ蒸着ＰＥＴフィルムを用い、この電極１８の上に、電荷発生層２４Ｃ、電荷輸送層２４Ｂ、及び電荷発生層２４Ａの３層構造の光導電層２４を形成する。
【００５８】
詳細には、例えば、電極１８上に、電荷発生材料を分散した溶液を塗布することによって電荷発生層２４Ｃを形成し、この電荷発生層２４Ｃの上に電荷輸送材料を分散した溶液を塗布することによって電荷輸送層２４Ｂを形成し、さらにこの電荷輸送層２４Ｂの上に電荷発生材料を分散した溶液を塗布することによって電荷発生層２４Ａを形成する。
【００５９】
この電荷発生層２４Ｃ及び電荷発生層２４Ａの塗布方法、及び電荷輸送層２４Ｂの塗布方法としては、例えば、ブレードコート法、ロッドコート法、スクイズコート法、リバースロールコート法、トランスファコールコート法、スピンコート法、バーコート法、エアーナイフ法、グラビア印刷法、スプレーコート法、など公知の塗布方法を用いればよい。
【００６０】
次に、図２（Ｂ）に示すように、上述のようにして作製した第１の基板４０及び第２の基板４２を、光導電層２４と液晶層２０とが遮光層２２を介して向かい合うように積層した積層体１０Ａとする。なお、この工程が、本発明の表示場板の製造方法の積層工程に相当する。
【００６１】
次に、図２（Ｃ）に示すように、この積層体１０Ａを、加熱加圧装置４４を用いて熱融着けする。
【００６２】
この加熱加圧装置４４は、加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂを含んで構成されている。この加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂは円柱状であって、各々、中心軸４５Ａ、中心軸４５Ｂを介してその両端部を、図示を省略する一対の支持部材によって回転可能に支持されている。そしてこれらの図示を省略する支持部材は、加熱加圧装置４４の筐体に固定されている。
【００６３】
これらの加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂは、各々駆動部４６、駆動部４８を含んで構成されており、これらの駆動部４６及び駆動部４８による制御によって、所定の温度に発熱すると共に、互いに反対の方向に同一速度で回転する。
【００６４】
これらの加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂの回転により上記積層体１０Ａを挟持搬送することによって、積層体１０Ａは加熱加圧される。この工程を得ることによって、積層体１０Ａは熱融着される。
【００６５】
この加熱加圧装置４４の加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂは、第１の基板４０と第２の基板４２との積層体１０Ａにおいて、第１の基板４０の第２の基板４２と接する領域を構成する材料（図２に示す例では、遮光層２２を構成する材料）と、第２の基板４２の第１の基板４０と接する領域を構成する材料（図２に示す例では、電荷発生層２４Ａを構成する材料）と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料のガラス転移温度以上融点以下の温度に発熱するように予め設定されている。
【００６６】
この加熱加圧装置４４によって積層体１０Ａに加えられる熱の温度範囲は、上述のように、第１の基板４０の第２の基板４２と接する領域を構成する材料と、第２の基板４２の第１の基板４０と接する領域を構成する材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料の温度以上で、且つ融点以下の温度範囲内であればよい。
【００６７】
なお、この温度範囲を示す情報は、予め駆動部４６及び駆動部４８の図示を省略するメモリ内に記憶しておけばよい。そして、この駆動部４６及び駆動部４８の制御によって加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂの図示を省略する発熱体が発熱することで、加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂが、上記温度範囲内の温度に発熱する。
【００６８】
また、この加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂ間の距離は、積層体１０Ａ及び表示媒体１０の厚みに応じて予め調整されているとする。
【００６９】
このように、本実施の形態における表示媒体１０は、図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、積層体１０Ａを、第１の基板４０の第２の基板４２と接する領域の材料と、第２の基板４２の第１の基板４２と接する領域の材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料から構成される層のガラス転移温度以上融点以下の範囲内で加熱することで熱融着することによって、作製される。
【００７０】
このため、第１の基板４０と第２の基板４２との間に接着層を設けてこれらを貼り合わせることによって表示媒体１０を作製する場合に比べて、簡易な工程で容易に表示媒体１０を作製することができる。
【００７１】
また、作製された表示媒体１０の第１の基板４０と第２の基板４２との間は、熱融着によって接着された状態となっているため、接着層を介して貼り合わせる場合に比べて、第１の基板４０と第２の基板４２との密着力の低下を抑制することができると考えられる。
【００７２】
なお、上記図２を用いた説明では、電極１６の形成された基板１２の該電極１６上に、液晶層２０及び遮光層２２を順に積層した積層体を第１の基板４０として作製し、電極１８の形成された基板１４上に電荷発生層２４Ｃ、電荷輸送層２４Ｂ、電荷発生層２４Ａを積層した積層体を第２の基板４２として作製する場合を説明したが、第１の基板４０は、少なくとも液晶層２０を含み、第２の基板４２は、少なくとも光導電層２４を構成する層を含めばよく、第１の基板及び第２の基板に含まれる層は、このような形態に限られるものではない。
【００７３】
例えば、図３（Ａ）に示すように、電極１６の形成された基板１２の該電極１６上に、液晶層２０、遮光層２２、及び電荷発生層２４Ａを順に積層した積層体を第１の基板５０とし、電極１８の形成された基板１４上に電荷発生層２４Ｃ、及び電荷輸送層２４Ｂを積層した積層体を第２の基板５２として表示媒体１０を作製してもよい。
【００７４】
この場合についても、図２を用いて説明したのと同様に、図３（Ｂ）に示すように、第１の基板５０と第２の基板５２とを、第１の基板５０の電荷発生層２４Ａと第２の基板５２の電荷輸送層２４Ｂとが接するように重ね合わせた積層体１０Ｂとする。そして、図３（Ｃ）に示すように、この積層体１０Ｂを、加熱加圧装置４４を用いて、第１の基板５０の第２の基板５２と接する領域（電荷発生層２４Ａ）の材料と、第２の基板５２の第１の基板５２と接する領域（電荷輸送層２４Ｂ）の材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料から構成される層のガラス転移温度以上融点以下の範囲内で加熱することで熱融着することによって、表示媒体１０を作製すればよい。
【００７５】
また、例えば、図４（Ａ）に示すように、電極１６の形成された基板１２の該電極１６上に、液晶層２０、遮光層２２、電荷発生層２４Ａ、及び電荷輸送層２４Ｂを順に積層した積層体を第１の基板６０とし、電極１８の形成された基板１４上に電荷発生層２４Ｃを積層した積層体を第２の基板６２として表示媒体１０を作製してもよい。
【００７６】
この場合についても、図２を用いて説明したのと同様に、図４（Ｂ）に示すように、第１の基板６０と第２の基板６２とを、第１の基板６０の電荷輸送層２４Ｂと第２の基板５２の電荷発生層２４Ｃとが接するように重ね合わせた積層体１０Ｃとする。そして、図４（Ｃ）に示すように、この積層体１０Ｃを、加熱加圧装置４４を用いて、第１の基板６０の第２の基板６２と接する領域（電荷輸送層２４Ｂ）の材料と、第２の基板６２の第１の基板６２と接する領域（電荷発生層２４Ｃ）の材料と、の内の、ガラス転移温度の低い方の材料から構成される層のガラス転移温度以上融点以下の範囲内で加熱することで熱融着することによって、表示媒体１０を作製すればよい。
【００７７】
＜試験例＞
（試験例１）
以上説明した本発明の表示媒体の作製方法及び表示媒体の効果を確認するため、以下の試験を行った。具体的には、図１に示す表示媒体を、図２に示す方法で作製すると共に、剥離強度を測定した。
【００７８】
―表示媒体の作製―
第２の基板４２として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルムを基板１４及び電極１８とし、この上に、電荷発生層２４Ｃ、電荷輸送層２４Ｂ、及び電荷発生層２４Ａの３層構造の光導電層２４を形成した。まず、フタロシアニン顔料系電荷発生材料を分散したポリビニルブチラール樹脂のアルコール溶液をスピンコートして０．１μｍ厚の電荷発生層２４Ｃを形成し、つぎにジアミン系電荷輸送材料とポリカーボネート樹脂のクロロベンゼン溶液をアプリケータでコートして３μｍ厚の電荷輸送層２４Ｂを形成し、最後に再度、フタロシアニン顔料系電荷発生材料を分散したポリビニルブチラール樹脂のアルコール溶液をスピンコートして０．１μｍ厚の電荷発生層２４Ａを形成して光導電層２４を得た。
【００７９】
次に、第１の基板４０として、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶Ｅ８（メルク社製）７４．８質量部に，カイラル剤ＣＢ１５（ＢＤＨ社製）２１質量部とカイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）４．２質量部とを加熱溶解し、その後室温に戻して、ブルーグリーンの色光を選択反射するカイラルネマチック液晶を得た。
【００８０】
このブルーグリーンカイラルネマチック液晶１０質量部に、キシレンジイソシアネート３モルとトリメチロールプロパン１モルとの付加物（武田薬品工業製Ｄ−１１０Ｎ）３質量部と酢酸エチル１００質量部とを加えて均一溶液とし、油相となる液を調製した。
一方、ポリビニルアルコール（クラレ社製ポバール２１７ＥＥ）１０質量部を、熱したイオン交換水１０００質量部に加えて攪拌後、放置冷却することによって水相となる液を調製した。
【００８１】
次に、スライダックで３０Ｖ交流を与えた家庭用ミキサーによって、前記油相１０質量部を前記水相１００質量部中に１分間乳化分散して、水相中に油相液滴が分散した水中油エマルジョンを調製した。この水中油エマルジョンを６０℃のウォーターバスで加熱しながら２時間攪拌し、界面重合を完了させて、液晶マイクロカプセルを形成した。得られた液晶マイクロカプセルの平均粒径をレーザー粒度分布計によって測定したところ、約１２μｍと見積もられた。
【００８２】
得られた液晶マイクロカプセル分散液を、網目３８μｍのステンレスメッシュを通して濾過後一昼夜放置し、乳白色の上澄みを取り除くことにより、液晶マイクロカプセルからなる固形成分約４０質量％のスラリーを得た。
得られたスラリーに、その固形成分の質量に対して２／３となる量のポリビニルアルコールを含むポリビニルアルコール１０質量％の溶液を加えることにより塗布液Ｃを調製した。
ＩＴＯ膜（透明電極層、厚さ８００Å）付きのＰＥＴフィルム（東レハイビーム、透明基板、板厚１２５μｍ）のＩＴＯ膜面の上に、上記塗布液Ｃを＃４４のワイヤーバーで塗布することにより、液晶層２０を形成した。
【００８３】
次に、この液晶層２０上に、ブラックポリイミドＢＫＲ−１０５（日本化薬製）を塗布し、遮光層（厚さ１μｍ）２２を形成した。
【００８４】
上記作製した第１の基板４０と、第２の基板４２とを、第１の基板４０の遮光層２２と、第２の基板４２の電荷発生層２４Ａとが接するように重ね併せて積層体１０Ａとした。なお、遮光層２２のガラス転移温度は約７０℃であり、電荷発生層２４Ａのガラス転移温度も約７０℃であった。
【００８５】
加熱加圧装置４４として、Φ５５ｍｍ、ゴム厚５ｍｍの加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂを備えた加熱加圧装置４４を用意して、積層体１０Ａを加熱加圧することによって、積層体１０Ａを熱融着した。
【００８６】
この熱融着条件は、成形速度０．２ｍ／分、積層体１０Ａの厚み約３００μｍ、加熱加圧ロール４４Ａ及び加熱加圧ロール４４Ｂから積層体１０Ａに加えられる熱の温度は１００℃であった。また、加圧０．４ＭＰａであった。
【００８７】
熱融着された積層体を用い、金型打ち抜き器により５４．５ｍｍ×４６．５ｍｍの大きさの長方形に打ち抜き、表示媒体１０を作製した。
【００８８】
作製した表示媒体１０について、下記方法を用いて密着力を評価した。
表示媒体１０を識別カード状にパッケージングし、JIS X 6305の識別カードの試験方法第１部の評価方法に従って１０００回曲げ試験を行い剥離が発生せず、実用上問題ないことを確認した。
【００８９】
また、この作製した表示媒体１０について、温度６０℃、湿度９０％ＲＨの環境下に500時間放置した後に、上記と同様にして密着力を評価したところ、同様に剥離は発生せず、密着力の低下はみられなかった。
【００９０】
（比較例１）
上記試験例１では、第１の基板４０と第２の基板４２とを、熱融着する場合を説明したが、本比較例１では、接着層を用いて接着した場合を説明する。
【００９１】
なお、本比較例１では、第１の基板４０と第２の基板４２を熱融着ではなく、接着層を用いて接着した以外は試験例１と同様にして表示媒体を作製し、試験例１と同様にして密着力の評価を行った。
【００９２】
本比較例１では、試験例１で作製した第１の基板４０と、第２の基板４２とを、アクリル樹脂系接着シート（日立化成工業社製、商品名ヒタレックス）を用いて、第１の基板４０の遮光層２２と、第２の基板４２の電荷発生層２４Ａとが接するように重ね併せることによって、表示媒体を作製した。
【００９３】
比較例１では試験例１と比較して粘着シートが必要であり、コストと共に駆動電圧の上昇を招く。更に表示媒体の取り出し電極上に粘着剤が存在すると電気的なコンタクトが困難であり、その部分を回避した複雑な設計、工程が必要になり更にコスト増加を招くことになり好適ではない。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】本実施の形態の表示媒体の一例を示す構成図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｃ）本実施の形態の表示媒体の作製方法の一例を示す模式図である。
【図３】（Ａ）〜（Ｃ）本実施の形態の表示媒体の作製方法の一例を示す模式図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）本実施の形態の表示媒体の作製方法の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００９５】
１０ 表示媒体
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ 積層体
２０ 液晶層
２４ 光導電層
２４Ａ 電荷発生層
２４Ｂ 電荷輸送層
２４Ｃ 電荷発生層
４０、５０、６０ 第１の基板
４２、５２、６２ 第２の基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層を構成する層を少なくとも含む第1の基板と、光学的特性分布による画像が表示される表示層を少なくとも含む第２の基板と、を前記光導電層を構成する層と前記表示層とが向かい合うように重ね合わせた積層体とする第1の工程と、
前記第1の基板の前記第２の基板と接する領域を構成する材料と、前記第２の基板の前記第1の基板と接する領域を構成する材料と、の内の、ガラス転移温度の低い材料のガラス転移温度以上融点以下の温度で前記積層体を加熱して前記第1の基板と前記第２の基板とを熱融着する第２の工程と、
を備えた表示媒体の作製方法。
【請求項２】
前記第２の工程において、前記第1の基板と前記第２の基板とを加圧密着させることを特徴とする請求項１に記載の表示媒体の作製方法。
【請求項３】
前記光導電層は、一対の電荷発生層と、電荷輸送層と、を含んで構成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示媒体の作製方法。
【請求項４】
請求項１〜請求項３の何れか１つの作製方法によって製造された表示媒体。
【請求項１】
電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層を構成する層を少なくとも含む第1の基板と、光学的特性分布による画像が表示される表示層を少なくとも含む第２の基板と、を前記光導電層を構成する層と前記表示層とが向かい合うように重ね合わせた積層体とする第1の工程と、
前記第1の基板の前記第２の基板と接する領域を構成する材料と、前記第２の基板の前記第1の基板と接する領域を構成する材料と、の内の、ガラス転移温度の低い材料のガラス転移温度以上融点以下の温度で前記積層体を加熱して前記第1の基板と前記第２の基板とを熱融着する第２の工程と、
を備えた表示媒体の作製方法。
【請求項２】
前記第２の工程において、前記第1の基板と前記第２の基板とを加圧密着させることを特徴とする請求項１に記載の表示媒体の作製方法。
【請求項３】
前記光導電層は、一対の電荷発生層と、電荷輸送層と、を含んで構成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示媒体の作製方法。
【請求項４】
請求項１〜請求項３の何れか１つの作製方法によって製造された表示媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００８−２６８７６１（Ｐ２００８−２６８７６１Ａ）
【公開日】平成２０年１１月６日（２００８．１１．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１１４６１９（Ｐ２００７−１１４６１９）
【出願日】平成１９年４月２４日（２００７．４．２４）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１１月６日（２００８．１１．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年４月２４日（２００７．４．２４）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
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