複屈折パターン認証用ビューワ、複屈折パターン認証用キット、真正性認証媒体、および真正性認証方法
【課題】偽造防止ラベルなどに用いられる複屈折パターンを確実かつ簡便に認証するビューワを提供する。
【解決手段】 複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板１に、少なくとも一層の光学異方性層２が積層され、光学異方性層２の正面レタデーションが５ｎｍ以上であり、かつ、光学異方性層２の正面レタデーションと前記複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ／２より大きいビューワ。
【解決手段】 複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板１に、少なくとも一層の光学異方性層２が積層され、光学異方性層２の正面レタデーションが５ｎｍ以上であり、かつ、光学異方性層２の正面レタデーションと前記複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ／２より大きいビューワ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は複屈折パターンを認証するためのビューワおよびキット、並びに、真正性認証媒体および真正性認証方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
製品の偽造防止の手段としては、製品そのものを複製不能とする手段か、偽造防止手段として複製不能の標識を製品に取り付けることで真正な製品（真正品）と判定させる手段に大きく分けられる。特に後者の場合は個別な対応が必要な前者に比べて汎用性が高いので、多く用いられている。
後者の手段はさらに、２つに分けられる。ひとつは、偽造防止手段の存在が常に誰にでも識別できるもので、良く知られている技術としてホログラムがある。もうひとつは、偽造防止手段が通常は検出不能な状態であり、偽造防止手段の存在を知る者のみが特別な手段によって偽造防止手段を検出し、真正品かどうかを識別するもので、光軸のパターニングされた位相差媒体による潜像を、偏光板を用いて観察し、真偽を判別する技術が知られている（例えば、特許文献１，２参照）。しかし、このようにして可視化される潜像は、正面から見たときは単色であるし、偏光板を回転させないと真正性が確認できないことから、認証が面倒であるという問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１３７２３２号公報
【特許文献２】特開２００８−１２９４２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
偽造防止ラベル等に用いられる複屈折パターンを簡便かつ確実に認証することのできるビューワを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、
（１）複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板に、少なくとも一層の光学異方性層が積層され、該光学異方性層の正面レタデーションが５ｎｍ以上であり、かつ、該光学異方性層の正面レタデーションと前記複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ／２より大きいことを特徴とするビューワ、
（２）光軸がパターニングされた複屈折パターンを識別するためのビューワであることを特徴とする（１）項に記載のビューワ、
（３）複屈折パターンの位相差が（ｎ１／２＋１／８）λ〜（ｎ１／２＋３／８）λ（ｎ１：０以上の整数）であることを特徴とする（２）項に記載のビューワ、
（４）ビューワの光学異方性層の位相差が（ｎ２／２−１／８）λ〜（ｎ２／２＋１／８）λ（ｎ２：自然数）であることを特徴とする（２）または（３）項に記載のビューワ、
（５）レタデーションがパターニングされた複屈折パターンを識別するためのビューワであることを特徴とする（１）項に記載のビューワ、
（６）ビューワを複数有する複屈折パターン認証用キットであって、少なくとも１つのビューワが（１）〜（５）のいずれか１項に記載のビューワからなることを特徴とする複屈折パターン認証用キット、
（７）前記複数のビューワは、互いに光軸、及び／または、被認証体側の光学異方性層のレタデーションが異なることを特徴とする（６）項に記載の複屈折パターン認証用キット、
（８）被認証体の一部に、（１）〜（５）のいずれか１項に記載のビューワを有することを特徴とする真正性認証媒体、
（９）（１）〜（５）のいずれか１項に記載のビューワ、または（６）または（７）項に記載の複屈折パターン認証用キットを用いたことを特徴とする真正性認証方法、および
（１０）真性品には前記複屈折パターンが形成されている被認証体を、前記ビューワ、または前記キットを介して観察し、３色以上からなる潜像を確認することにより該被認証体の真性品を認証することを特徴とする（９）項記載の真正性認証方法
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００６】
また、本発明のビューワにより、複屈折パターンの複数の色の潜像を表現できる。また、軸パターンの施された潜像を、正面から見たときにも多色に認識できる。よって、ビューワを回転しなくても、ビューワをかざしたときの潜像の色によって真偽判定が可能であり、認証にかかる時間を短縮することができる。
したがって、本発明のビューワおよびそれを用いたキットにより、複屈折パターンを用いた偽造防止ラベル等の被認証体の真偽を判別する真正性の認証を確実かつ簡単な操作により行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の好ましい実施態様のビューワの概略断面図である。
【図２】本発明の本発明のビューワによって認証される被認証体の一実施形態の概略断面図である。
【図３】本発明のビューワにより識別される複屈折パターンの例を示す説明図であって、図３（ａ）はレタデーションに関してパターニングした例の説明図であり、図３（ｂ）は光軸方向に関してパターニングした例の説明図である。
【図４】実施例に用いられたフォトマスクの平面図である。
【図５】実施例における複屈折パターンの平面図である。
【図６】比較例１のビューワの概略断面図である。
【図７】実施例１のビューワの概略断面図である。
【図８】実施例２のビューワの概略断面図である。
【図９】実施例４の複屈折パターン認証用キットの平面図である。
【図１０】実施例６のビューワ一体型複屈折パターンの平面図である。
【図１１】実施例６に用いられたフォトマスクの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明のビューワは、複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板に、少なくとも一層の光学異方性層が積層され、該光学異方性層の正面レタデーションが５ｎｍ以上であり、かつ、光学異方性層の正面レタデーションと複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ／２より大きいものである。
【０００９】
図１は本発明の好ましい実施態様のビューワ（光学フィルタ）の概略断面図であり、偏光板１に光学異方性層２が積層されたものである。
【００１０】
偏光板１は自然光を直線偏光に変換する性質を有する板で、例えば、ヨウ素系偏光板、染料系偏光板、ワイヤグリッド偏光板、金属ナノ粒子を用いた偏光板などが挙げられるが、一般的にはヨウ素系偏光板（ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色、延伸を行った後、その両面に保護フィルムを積層して作製されたもの）を用いることが好ましい。偏光板１の厚さは、特に限定するものではないが、保護フィルムを含み、８０〜５００μｍが好ましい。
【００１１】
光学異方性層２は、正面レタデーションが実質的に０ではない、５ｎｍ以上の正面レタデーションを有する層である。正面レタデーションは、５０ｎｍ以上であることが好ましく、１００ｎｍ以上であることがより好ましい。特に、光軸のパターニングされた複屈折パターンを識別する際には、（ｎ２／２−１／８）λ〜（ｎ２／２＋１／８）λ（ｎ２：自然数）であることが好ましい。
なお、本明細書および特許請求の範囲において、レタデーションまたはＲｅまたは位相差は面内レタデーションを表す。面内のレタデーション（Ｒｅ(λ)）はＫＯＢＲＡ ＷＲ（商品名、王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定された値である。
また、本明細書および特許請求の範囲において、波長を特に規定しないレタデーションは、５５０ｎｍの波長で測定されたものを意味する。
【００１２】
光学異方性層２は、例えば、透明支持体に、配合層を介して、液晶性化合物を含む組成物（塗布液）を塗布、乾燥して液晶相状態とした後、配合状態を固定化して形成して、光学異方性層を形成したフィルム状ものが挙げられる。液晶化合物としては、例えば、ＵＶ硬化型サーモトロピック・ネマティック液晶を用いることができる。このような液晶は市販品として入手することができ、例えばＰａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）を挙げることができる。
また、光学異方性層２は、所望のレタデーションを有する市販の一軸延伸フィルムや二軸延伸フィルムを用いることもできる。
光学異方性層２は、好ましくは、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、及びポリエステル系粘着剤などの感圧系の粘着剤により、偏光板１に貼り付けられて、積層され、ビューワを形成する。
【００１３】
本発明のビューワは、複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターンを認証するために用いられる。
【００１４】
また、本明細書および特許請求の範囲において、「認証」は、「識別」、「判別」、「有無の確認」などにより、被認証体の真偽を証明することを含む。
【００１５】
本発明においては、ビューワの光学異方性層の正面レタデーションと、複屈折パターンの正面レタデーションの最大値との和がλ／２より大きいものである。前記の和の値を上記の範囲に設定することで潜像の色相を大きく変化させるという作用効果を奏する。ビューワの光学異方性層の正面レタデーションと、複屈折パターンパターニング光学異方性層の正面レタデーションの最大値との和はλ／２〜３λであることが好ましく、λ〜２λであることがより好ましい。偏光板の光学異方性層の正面レタデーションと複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和をλ／２より大きいものとすることは、例えば、複屈折パターンのパターニング光学異方性層の正面レタデーションの最大値を大きくする、あるいは、ビューワの光学異方性層の正面レタデーションを大きくする、あるいは、その両者をかけあわせることにより行うことができる。液晶性化合物を硬化して作製した光学異方性層は、膜厚を大きくする、あるいは、異方性の大きい液晶性材料を使うことによって、正面レタデーションを大きくすることができる。あるいは、延伸フィルムにおいては、その延伸倍率を大きくすることによって、正面レタデーションを大きくすることができる。
【００１６】
本発明のビューワが認証する複屈折パターンは、上記のように、複屈折性が異なる領域を複数含む層、すなわち、パターニング光学異方性層を有している。
本発明において、複屈折パターンは複屈折性が異なる領域を３つ以上有することがさらに好ましい。上記の複屈折性が同一である個々の領域は連続的形状であっても非連続的形状であってもよい。また、パターニング光学異方性層は、複数の層が積層されていてもよい。複屈折パターンを有する物品は通常平面（膜又はシート）状の形状を有していればよい。
【００１７】
本発明のビューワによって認証される、一つの好ましい複屈折パターンは、光軸方向のパターニングされている複屈折パターン、すなわち、複屈折性が異なる領域が、光軸方向が互いに異なる領域を２つ以上有するものである。なお、本明細書において「光軸」というとき、「遅相軸」又は「透過軸」を意味する。
光軸がパターニングされている場合、光軸の向きが好ましくは５度以上、より好ましくは１０度以上、さらに好ましくは１５度以上異なることをいう。光軸がパターニングされている複屈折パターンの光学異方性層は、例えば、特表２００１−５２５０８０号公報に記載の方法などで得ることができ、さらにこの液晶化合物の層内配向方向制御と後述のレタデーション値制御を組み合わせることにより、層内のレタデーションと配向方向が任意にパターニングされた光学異方性層を作製することができる。
【００１８】
光軸がパターニングされている場合、複屈折パターンの位相差が（ｎ１／２＋１／８）〜（ｎ１／２＋３／８）λ（ｎ１：０以上の整数）であることが好ましい。複屈折パターンの位相差がこの範囲にあることで潜像の色相を大きく変化させることができる。複屈折パターンの位相差を上記範囲とすることは、例えば、パターニング光学異方性層の膜厚を調整する、あるいは液晶の固有複屈折を調整することにより行うことができる。
【００１９】
光軸方向のパターニングされている複屈折パターンの認証においては、ビューワの光学異方性層層の位相差が（ｎ２／２−１／８）〜（ｎ２／２＋１／８）λ（ｎ２：自然数）であることが好ましい。ビューワの光学異方性層の位相差がこの範囲にあることで潜像の色相を大きく変化させることができる。ビューワの光学異方性層の位相差を上記範囲とすることは、例えば、液晶性化合物を硬化した光学異方性層を用いる場合には、その膜厚を調整する、あるいは液晶の固有複屈折を調整することによって、あるいは、延伸フィルムを用いる場合には、その延伸倍率を変えることにより行うことができる。
【００２０】
本発明のビューワによって認証される、別の好ましい複屈折パターンは、レタデーションのパターニングされた複屈折パターンである。「レタデーションのパターニングされた」とは、レタデーションが互いに異なる領域を２つ以上有することをいうレタデーションがパターニングされている場合には、好ましくは２０ｎｍ以上、より好ましくは３０ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以上レタデーションが異なることをいう。
【００２１】
図２は本発明のビューワによって認証される被認証体の一実施形態の概略断面図を示す。図２に示す被認証体は、支持体１０１上に反射層１０２を介して光学異方性層１０３を有する。光学異方性層１０３は領域ＡとＢを有し、これらは互いに複屈折性が異なる領域である。複屈折パターン及び光学異方性層、ならびに必要に応じて設けられる各層について、以下に詳述する。
複屈折パターンの例としてはレタデーション及び／又は光軸方向が面内でパターニングされた光学異方性層を含む物品が挙げられる。複屈折パターンの例を図３に示す。
図３（ａ）はレタデーションの相違によってパターニングされている例の模式的な説明図である。図３（ａ）に示す例においてはａｎｍ、ｂｎｍ、ｃｎｍ、及びｄｎｍで示されるレタデーションは互いに異なるものとする。図３（ｂ）は光軸方向の相違によってパターニングされている例の模式的な説明図である。図３（ｂ）において矢印は光軸方向を示す。
光軸方向が面内でパターニングされた光学異方性層は、例えば、特表２００１−５２５０８０号公報に記載の方法などで得ることができる。
また、レタデーションが面内でパターニングされた光学異方性層は、例えば、以下に詳細に説明する方法で作製することができる。
なお、以下の光学異方性層についての記載は、パターニングに関する記載以外に関しては、上記のビューワの光学異方性層に適用することができる。
【００２２】
［複屈折パターン部材］
（光学異方性層）
パターニング光学異方性層は実質的に同一の層形成組成物から形成されることが好ましい。ここで同一の層形成組成物とは、厳密には分子の電子状態が異なり、複屈折性が異なるが原材料が同一であることをいう。
複屈折パターンは少なくとも１層のパターニング光学異方性層を含む。
パターニング光学異方性層は高分子を含む。高分子を含むことにより、複屈折性、透明性、耐溶媒性、強靭性および柔軟性といった異なった種類の要求を満たすことができる。
【００２３】
光学異方性層は好ましくは２０℃において、より好ましくは３０℃において、さらに好ましくは４０℃において固体であればよい。２０℃において固体であると、他の機能性層の塗布や、支持体上への転写や貼合が容易であるからである。
他の機能性層の塗布を行う場合、本発明の光学異方性層は耐溶媒性を有することが好ましい。本明細書において、「耐溶媒性を有する」とは対象の溶媒に２分間浸漬した後のレタデーションが浸漬前のレタデーションの３０％から１７０％の範囲内に、より好ましくは５０％から１５０％の範囲内に、最も好ましくは８０％から１２０％の範囲内にあることを意味する。対象の溶媒としては水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサン、クロロホルム、酢酸エチルの中から、好ましくはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ−メチルピロリドンの中から、最も好ましくはメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、またはこれらの混合溶媒等があげられる。
【００２４】
光学異方性層でレタデーションを付与した領域のレタデーションの値は２０℃においてレタデーションが５ｎｍ以上であればよく、２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。レタデーションが５ｎｍ未満では複屈折パターンの形成が困難となったり、潜像の鮮明性が低下する場合がある。レタデーションが１０００ｎｍを越えると、誤差が大きくなり実用できる精度を達成することが困難である場合がある。
また、被認証体の潜像形成を考慮して、あるいは被認証体を構成するその他の層のレタデーションを考慮して、光学異方性層のレタデーション値を制御することができる。
【００２５】
光学異方性層の製法としては特に限定されないが、少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含んでなる溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射して重合固定化して作製する方法；少なくとも２つ以上の反応性基を有するモノマーを重合固定化した層を延伸する方法；高分子からなる層にカップリング剤を用いて反応性基を導入した後に延伸する方法；または高分子からなる層を延伸した後にカップリング剤を用いて反応性基を導入する方法などが挙げられる。
また、後述するように、本発明の光学異方性層は転写により形成されたものであってもよい。
パターニング光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【００２６】
《光学異方性層(材料)》
（液晶性化合物を含有する組成物を重合固定化してなる光学異方性層）
光学異方性層の製法として少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含んでなる溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射して重合固定化して作製する場合について以下に説明する。本製法は、後述する高分子を延伸して光学異方性層を得る製法と比較して、薄い膜厚で同等のレタデーションを有する光学異方性層を得ることや、緻密なパターン制御が容易となる。
【００２７】
（液晶性化合物）
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。複屈折パターンの光学異方性層では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。大きなレタデーションを発現させるためには、棒状タイプを用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。本発明においては、上記ビューワにおける光学異方性層に用いられる液晶化合物と同様の液晶化合物を好ましく用いることができ、また、温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、その場合少なくとも１種の２以上の反応性基を有するものを用いることが好ましい。
【００２８】
液晶性化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを選択的に重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む光学異方性層を作製することが可能となる。用いる重合条件としては重合固定化に用いる電離放射線の波長域や重合温度でもよいし、用いる重合機構の違いでもよいが、好ましくは用いる開始剤の種類によって制御可能な、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基の組み合わせが選択的な重合の制御の観点で好ましい。前記ラジカル性の反応性基がエチレン性不飽和基、特にアクリル基および／またはメタクリル基であり、かつ前記カチオン性基がビニルエーテル基、オキセタン基および／またはエポキシ基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。
また、本発明において液晶性化合物から形成したとは、最終的にできた物が液晶性を示す必要はなく、例えば、熱、光等で反応する基を有した低分子ディスコティック液晶が、捜査の過程で熱、光等の反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【００２９】
棒状液晶性化合物としては、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００４３］〜［００６０］に記載の化合物を用いることができる。
【００３０】
本発明の他の態様として、前記光学異方性層にディスコティック液晶を使用した態様がある。前記光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層または重合性の液晶性ディスコティック（円盤状）化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層であるのが好ましい。ディスコティック化合物としては、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００６１］〜［００７５］に記載の化合物を用いることができる。
【００３１】
光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
【００３２】
（水平配向剤）
液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させるために、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００８４］〜［００９３］の記載を参考に、水平配向剤を添加してもよい。
【００３３】
液晶性化合物を含む組成物からなる光学異方性層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物を含む組成物からなる層と棒状性液晶性化合物を含む組成物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。
【００３４】
光学異方性層は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する配向層の上に塗布する方法などで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００３５】
（液晶性化合物の配向状態の固定化）
配向させた液晶性化合物は、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００８０］〜［００８１］に記載の方法で、配向状態を維持して固定することが好ましい。
【００３６】
（偏光照射による光配向）
前記光学異方性層は、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００８２］〜［００８３］に記載されているように、偏光照射による光配向で面内のレタデーションが発現あるいは増加した層であってもよい。
【００３７】
光軸方向が層内でパターニングされた光学異方性層は、前述のように特表２００１−５２５０８０号公報に記載の方法などで得ることができる。
【００３８】
液晶化合物の層内配向方向が実質的に一定である複屈折パターンを施した光学異方性層について説明を行う。これは、層内の液晶性化合物の配向方向は同じでレタデーション値を制御したパターニングの事例である。さらに前述の液晶化合物の層内配向方向制御と組み合わせることにより、配向方向とレタデーションを任意にパターニングされた光学異方性層を作製することもできる。
パターン形成前の該光学異方性層中の高分子は未反応の反応性基を有することが好ましい。露光により未反応の反応性基が反応して高分子鎖の架橋が起こるが、露光条件の異なる露光によって高分子鎖の架橋の程度が異なり、その結果としてレタデーション値が変化して複屈折パターンが形成しやすくなる。
【００３９】
（ラジカル性の反応性基とカチオン性の反応性基を有する液晶化合物の配向状態の固定化）
前述したように、液晶性化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む光学異方性層を作製することが可能である。このような液晶性化合物として、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基を有する液晶性化合物（具体例としては例えば、前述のＩ−２２〜Ｉ−２５）を用いた場合に特に適した重合固定化の条件について以下に説明する。
【００４０】
まず、重合開始剤としては重合させようと意図する反応性基に対して作用する光重合開始剤のみを用いることが好ましい。すなわち、ラジカル性の反応基を選択的に重合させる場合にはラジカル光重合開始剤のみを、カチオン性の反応基を選択的に重合させる場合にはカチオン光重合開始剤のみを用いることが好ましい。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜８質量％であることがより好ましく、０．５〜４質量％であることが特に好ましい。
【００４１】
次に、重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。この際、照射エネルギーおよび／または照度が強すぎるとラジカル性反応性基とカチオン性反応性基の両方が非選択的に反応してしまう恐れがある。したがって、照射エネルギーは、５ｍＪ／ｃｍ2〜５００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１０〜４００ｍＪ／ｃｍ2であることがより好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜２００ｍＪ／ｃｍ2であることが特に好ましい。また照度は５〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、１０〜３００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、２０〜１００ｍＷ／ｃｍ2であることが特に好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００４２】
また光重合反応のうち、ラジカル光重合開始剤を用いた反応は酸素によって阻害され、カチオン光重合開始剤を用いた反応は酸素によって阻害されない。従って、液晶性化合物としてラジカル性の反応基とカチオン性の反応基を有する液晶化合物を用いてその反応性基の片方種類を選択的に重合させる場合、ラジカル性の反応基を選択的に重合させる場合には窒素などの不活性ガス雰囲気下で光照射を行うことが好ましく、カチオン性の反応基を選択的に重合させる場合には敢えて酸素を有する雰囲気下（例えば大気下）で光照射を行うことが好ましい。
【００４３】
［複屈折パターン部材の作製］
本発明の複屈折パターン作製材料を用いて、パターン状の熱処理または電離放射線照射を行う工程、及び光学異方性層中の残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程を行う事によって、複屈折パターン部材を作製することができる。特に光学異方性層がレタデーション消失温度を有し、かつ該レタデーション消失温度が電離放射線照射（あるいはレタデーション消失温度以下の熱処理）によって上昇する場合、容易に複屈折パターン部材を作製することができる。
以下に、電離放射線照射や熱処理による複屈折パターン作製工程を例示する。
【００４４】
パターン状の電離放射線照射としては、例えば、露光（パターン露光）が挙げられる。パターン露光によって光学異方性層中の未反応の反応性基を反応させて露光部のレタデーション消失温度を上昇させ、その後に未露光部のレタデーション消失温度より高く露光部のレタデーション消失温度より低い温度において光学異方性層中の残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程を行う事により、未露光部のレタデーションのみを選択的に消失させて複屈折パターンを形成する事ができる。光学異方性層中の残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程としては全面露光でもよいし、反応性基が熱によっても反応できるのなら全面熱処理（ベーク）でもよい。省コスト化の為には、未露光部のレタデーション消失温度より高く露光部のレタデーション消失温度より低い温度への加熱がそのまま反応の為の熱処理も兼ねられることが好ましい。
一方で、逆に、先に一部領域の加熱（パターン状の熱処理）をレタデーション消失温度近くの温度で行ってレタデーションを低下ないしは消失させ、その後にレタデーション消失温度より低い温度で光学異方性層中の残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程（全面露光ないしは全面加熱）を行って複屈折パターンを得る手法もある。この場合には先に加熱された部分のみがレタデーションを失ったパターンを得る事が可能である。
パターン露光およびパターン状熱処理の詳細については後述する。
【００４５】
本発明における「反応条件」とは、以下に述べる「パターン露光」または「パターン状熱処理」の条件をいう。
先に、パターン状の露光とレタデーション消失温度以上での全面熱処理ないしは全面露光による複屈折パターン作製について詳細を述べる。
【００４６】
［パターン露光］
複屈折パターンを作製するためのパターン露光は、複屈折パターン作製材料につき、複屈折性を残したい領域を露光するように、露光部と未露光部のみを形成するように行ってもよく、露光条件の異なる露光をパターン状に行ってもよい。
パターン露光の手法としてはマスクを用いたコンタクト露光、プロキシ露光、投影露光などでもよいし、レーザーや電子線などを用いてマスクなしに決められた位置にフォーカスして直接描画してもよい。前記露光の光源の照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。感光性樹脂層により同時に段差を形成する場合には樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射することも好ましい。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、青色レーザー等が挙げられる。好ましい露光量としては通常３〜２０００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、より好ましくは５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度、さらに好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度、最も好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００４７】
露光条件としては、特に限定はされないが、露光ピーク波長、露光照度、露光時間、露光量、露光時の温度、露光時の雰囲気等が挙げられる。この中で、条件調整の容易性の観点から、露光ピーク波長、露光照度、露光時間、および露光量が好ましく、露光照度、露光時間および露光量がさらに好ましい。
露光条件の異なる露光は複数回の露光によって行われてもよく、もしくは、例えば領域によって異なる透過スペクトルを示す２つ以上の領域を有するマスク等を用いて１回の露光によって行われていてもよく、又は両者が組み合わされていてもよい。露光条件の異なる露光をパターン状に行うとはすなわち、異なる露光条件で露光された２つ以上の露光領域を生ずるような形で露光が行われていることを意味とする。
パターン露光時に相異なる露光条件で露光された領域はその後、焼成を経て相異なる、かつ露光条件によって制御された複屈折性を示す。特に異なるレタデーション値を与える。すなわち、パターン露光の際に領域ごとに露光条件を調整することにより、焼成を経た後に領域ごとに異なる、かつ所望のレタデーションを有する複屈折パターンを作製することが可能である。なお、異なる露光条件で露光された２つ以上の露光領域間の露光条件は不連続に変化させてもよいし、連続的に変化させてもよい。
【００４８】
（マスク露光）
露光条件の異なる露光領域を生じる手段として、露光マスクを用いた露光は有用である。例えば１つの領域のみを露光するような露光マスクを用いて露光を行った後に、温度、雰囲気、露光照度、露光時間、露光波長を変えて別のマスクを用いた露光や全面露光を行うことで、先に露光された領域と後に露光された領域の露光条件は容易に変更することができる。また、露光照度、あるいは露光波長を変えるためのマスクとして領域によって異なる透過スペクトルを示す２つ以上の領域を有するマスクは特に有用である。この場合、ただ一度の露光を行うだけで複数の領域に対して異なる露光照度、あるいは露光波長での露光を行うことができる。異なる露光照度の元で同一時間の露光を行う事で異なる露光量を与えることができることは言うまでもない。
またレーザーなどを用いた走査露光を用いる場合には、露光領域によって光源強度を変える、走査速度を変えるなどの手法で領域ごとに露光条件を変えることが可能である。
【００４９】
また、複屈折パターン作製材料にパターン露光を行って得られた積層体の上に新たな複屈折パターン作製用転写材料を転写し、その後に新たにパターン露光を行う手法を併用してもよい。この場合、一度目及び二度目ともに未露光部である領域（通常レタデーション値が一番低い）、一度目に露光部であり二度目に未露光部である領域、及び、一度目及び二度目ともに露光部である領域（通常レタデーション値が一番高い）でベーク後に残るレタデーションの値を効果的に変えることができる。なお、一度目に未露光部であり二度目に露光部である領域は、二度目の露光により一度目及び二度目ともに露光部である領域と同様となると考えられる。同様にして転写とパターン露光を交互に三度、四度と行うことにより、四つ以上の領域を作ることも容易にできる。この手法は、異なる領域の間で、露光条件だけでは与え得ないような差異（光学軸の方向の違いや非常に大きなレタデーションの差異など）を持たせたい時に有用である。
【００５０】
［レタデーション消失温度以上での全面熱処理（ベーク）ないしは全面露光による反応処理］
パターン露光された複屈折パターン作製材料に対して露光部のレタデーションを残しつつ未露光部のレタデーションを低下させ、さらにその状態で残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させて安定な複屈折パターンを得るために、未露光部のレタデーション消失温度以上での全面熱処理ないしは全面露光を行うことが好ましい。
処理を全面熱処理で行う場合、温度条件は材料によって変わるが未露光部のレタデーション消失温度以上で露光部のレタデーション消失温度以下が好ましい。またその上で未反応の反応性基の反応もしくは失活が効率よく進む温度であることが好ましい。具体的には特に限定されないが５０℃〜４００℃程度の熱処理が好ましく、１００〜２６０℃程度の熱処理がより好ましく、１５０〜２５０℃がさらに好ましく、１８０〜２３０℃が特に好ましいが、必要とされる複屈折性（レタデーション）や用いる光学異方性層の熱硬化反応性によって適した温度は異なる。また熱処理には材料中の不要な成分を気化あるいは燃焼させて除く効果も期待できる。熱処理の時間は特に限定されないが、１分以上５時間以内が好ましく、３分以上３時間以内がより好ましく、５分以上２時間以内が特に好ましい。
露光部のレタデーション消失温度以下の温度では未反応の反応性基の反応性が十分でなく反応処理が十分に進まない場合などには、未露光部のレタデーション消失温度以上の温度を保ちつつ全面露光を行うことも有用である。この際の好ましい光源は前記パターン露光において上げたものと同一であり、好ましい露光量としては通常３〜２０００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、より好ましくは５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度、さらに好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度、最も好ましくは１０〜３００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００５１】
次に、パターン状熱処理によるパターン状レタデーション低下とレタデーション消失温度以下での全面熱処理ないしは全面露光による複屈折パターン作製について詳細を述べる。
【００５２】
［パターン状熱処理（熱パターン書き込み）］
パターン状熱処理の際の加熱温度は、加熱部と非加熱部のレタデーションに差異を生じさせる温度であればよく、特に限定されない。特に加熱部のレタデーションを実質的に０ｎｍとしたい場合には、用いられる複屈折パターン作製材料の光学異方性層のレタデーション消失温度以上の温度で加熱することが好ましい。また一方で、加熱温度は光学異方性層の燃焼や着色の生じる温度未満であることが好ましい。一般的には１２０℃〜２６０℃程度の加熱を行えばよく、１５０℃〜２５０℃がより好ましく、１８０℃〜２３０℃がさらに好ましい。
【００５３】
複屈折パターン作製材料の一部を加熱する方法は特に限定されないが、加熱体を複屈折パターン作製材料に接触させて行う方法、加熱体を複屈折パターン作製材料のごく近傍に位置させて行う方法、ヒートモード露光を用いて複屈折パターン作製材料を部分加熱する方法などが挙げられる。
【００５４】
［レタデーション消失温度以下での全面熱処理（ベーク）ないしは全面露光による反応処理］
前記パターン状熱処理が行われた光学異方性層において熱処理が行われなかった領域は、レタデーションを有しつつも未反応の反応性基を残しており、未だ不安定な状態である。未処理領域に残存する未反応の反応性基を反応もしくは失活させるために、全面熱処理ないしは全面露光による反応処理を行うことが好ましい。
【００５５】
全面熱処理による反応処理は、用いられる複屈折パターン作製材料の光学異方性層のレタデーション消失温度より低い温度で、かつ未反応の反応性基の反応もしくは失活が効率よく進む温度であることが好ましい。
パターン露光された複屈折パターン作製材料に対して５０℃以上４００℃以下、好ましくは８０℃以上４００℃以下に加熱を行うことにより複屈折パターンを作製することができる。複屈折パターン作製に用いる複屈折パターン作製材料の有する光学異方性層の露光前のレタデーション消失温度をＴ１［℃］、露光後のレタデーション消失温度をＴ２［℃］とした場合（レタデーション消失温度が２５０℃以下の温度域にない場合はＴ２＝２５０とする）、ベーク時の温度はＴ１℃以上Ｔ２℃以下が好ましく、（Ｔ１＋１０）℃以上（Ｔ２−５）℃以下がより好ましく、（Ｔ１＋２０）℃以上（Ｔ２−１０）℃以下が最も好ましい。
一般的に１２０〜１８０℃程度の加熱を行えばよく、１３０〜１７０℃がより好ましく、１４０〜１６０℃がさらに好ましいが、必要とされる複屈折性（レタデーション）や用いる光学異方性層の熱硬化反応性によって適した温度は異なる。熱処理の時間は特に限定されないが、１分以上５時間以内が好ましく、３分以上３時間以内がより好ましく、５分以上２時間以内が特に好ましい。
【００５６】
ベークによって複屈折パターン作製材料中の未露光部のレタデーションが低下し、一方で先のパターン露光でレタデーション消失温度が上昇した露光部はレタデーションの低下が小さく、もしくは全く低下しないかあるいは上昇し、結果として未露光部のレタデーションが露光部のレタデーションに比較して小さくなり複屈折パターン（パターン化光学異方性層）が作製される。
光学上の効果を発揮するため、ベーク後の露光部のレタデーションは５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが最も好ましい。５ｎｍ以下では作製された複屈折パターンの目視による識別が困難となる。
【００５７】
また、光学上の効果を発揮するため、複屈折パターン作製材料中の未露光部のベーク後のレタデーションはベーク前の８０％以下となることが好ましく、ベーク前の６０％以下となることがより好ましく、ベーク前の２０％以下となることがさらに好ましく、５ｎｍ未満となることが最も好ましい。特にベーク後のレタデーションが５ｎｍ未満となった場合、そこは目視の上ではあたかも複屈折性が全く無かったかのような印象を与える。すなわち、クロスニコル下では黒が、パラニコル下あるいは偏光板＋反射板の上では無色が表現できる。このようにベーク後の未露光部のレタデーションが５ｎｍ未満となる複屈折パターン作製材料は、複屈折パターンでカラー画像を表現する際、あるいは複数層の異なるパターンを積層して使用する際に有用である。
【００５８】
全面熱処理の代わりに、全面露光によっても反応処理を行うことができる。この際の光源の照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。感光性樹脂層により同時に段差を形成する場合には樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射することも好ましい。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、青色レーザー等が挙げられる。好ましい露光量としては通常３〜２０００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、より好ましくは５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度、さらに好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度、最も好ましくは１０〜３００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００５９】
また、ベークもしくは全面露光を行った複屈折パターン作製材料の上に新たな複屈折パターン作製用転写材料を転写し、その後に新たにパターン露光とベーク（または全面露光）を行ってもよい。この場合、一度目及び二度目ともに未露光部である領域、一度目に露光部であり二度目に未露光部である領域、一度目に未露光部であり二度目に露光部である領域（１度目の未露光部のレタデーションはベークによりすでに消失）、一度目及び二度目ともに露光部である領域で、二度目のベーク後に残るレタデーションの値を効果的に変えることができる。この手法は、例えば互いに遅相軸の方向が異なる複屈折性を持つ二つの領域を互いに重ならない形で作りたい時に有用である。
【００６０】
［仕上げ熱処理］
前節までの工程で作製された複屈折パターンの安定性をさらに高めたい場合、固定化された後にまだ残存している未反応の反応性基をさらに反応させて耐久性を増したり、材料中の不要な成分を気化あるいは燃焼させて除いたりする目的の為に仕上げ熱処理を行ってもよい。特にパターン露光と加熱全面露光、あるいはパターン状熱処理と全面露光で複屈折パターンを作製した場合には効果的である。仕上げ熱処理の温度としては１８０〜３００℃程度の加熱を行えばよく、１９０〜２６０℃がより好ましく、２００〜２４０℃がさらに好ましい。熱処理の時間は特に限定されないが、１分以上５時間以内が好ましく、３分以上３時間以内がより好ましく、５分以上２時間以内が特に好ましい。
【００６１】
（延伸によって作製される光学異方性層）
光学異方性層は高分子の延伸によって作製されたものでもよい。光学異方性層は少なくとも１つの未反応の反応性基を持つ事が好ましいが、このような高分子を作製する際にはあらかじめ反応性基を有する高分子を延伸してもよいし、延伸後の光学異方性層にカップリング剤などを用いて反応性基を導入してもよい。延伸法によって得られる光学異方性層の特長としては、コストが安いこと、及び自己支持性を持つ（光学異方性層の形成及び維持に支持体を要しない）ことなどが挙げられる。
【００６２】
（光学異方性層の後処理）
作製された光学異方性層を改質するために、様々な後処理を行ってもよい。後処理としては例えば、密着性向上の為のコロナ処理や、柔軟性向上の為の可塑剤添加、保存性向上の為の熱重合禁止剤添加、反応性向上の為のカップリング処理などが挙げられる。また、光学異方性層中の高分子が未反応の反応性基を有する場合、該反応性基に対応する重合開始剤を添加することも有効な改質手段である。例えば、カチオン性の反応性基とラジカル性の反応性基を有する液晶性化合物を、カチオン光重合開始剤を用いて重合固定化した光学異方性層に対してラジカル光重合開始剤を添加することで、後にパターン露光を行う際の未反応のラジカル性の反応性基の反応を促進することができる。可塑剤や光重合開始剤の添加手段としては、例えば、光学異方性層を該当する添加剤の溶液に浸漬する手段や、光学異方性層の上に該当する添加剤の溶液を塗布して浸透させる手段などが挙げられる。また、光学異方性層の上に他の層を塗布する際にその層の塗布液に添加剤を添加しておき、光学異方性層に浸漬させる方法もあげられる。本発明においては、この際に浸漬させる添加剤、特には光重合開始剤の種類や量により、後に述べる複屈折パターン作製材料へのパターン露光時の各領域への露光量と最終的に得られる各領域のレタデーションとの関係を調整し、所望する材料特性に近づけることが可能である。
【００６３】
（光学異方性層以外の複屈折パターン部材の構成材料）
複屈折パターン部材を得るための光学異方性層を含む構造体（以降、「複屈折パターン作製材料」という。）は複屈折パターンを作製する為の材料であり、所定の工程を経る事で複屈折パターン部材を得る事ができる材料である。複屈折パターン作製材料は製造適性などの観点から、通常、フィルム、またはシート形状であるとよい。複屈折パターン作製材料は前述の光学異方性層のほかに、様々な副次的機能を付与することが可能である機能性層を有していてもよい。機能性層としては、支持体、配向層、後粘着層などが挙げられる。あるいは、複屈折パターン部材は、転写箔の形態であってもよい。
被認証体を構成する光学異方性層以外の層は潜像の形成に影響を与えないレタデーションを有するように構成されるか、それらの層が有するレタデーションを考慮して潜像形成のための光学異方性層のレタデーション値を設定することができる。
【００６４】
［支持体］
複屈折パターン部材は透明支持体又は反射支持体を有していることが好ましい。支持体には特に限定はないが、反射光を用いて潜像を顕在化させる場合には後述する反射層を有する支持体または、反射機能を有する支持体を用いればよく、透過光を用いて潜像を顕在化させる場合には、潜像に影響を与えない光学特性を有する透明支持体を用いればよい。この場合、基材のレタデーションは２００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。
支持体の例としてはセルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーなどのプラスチックフィルムなどが挙げられる。支持体の膜厚としては、ロールツーロールなどの連続製造に用いる場合などでは３〜５００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましいが、製造形態によって適宜選択できる。
【００６５】
複屈折パターン部材は偏光板を用いない目視でも視認可能なパターンが描かれていてもよい。
また、光学異方性層を支持体中に埋め込むように作成してもよい。本発明の光学異方性は各種耐性が高いので、たとえば流延装置のエンドレスベルトまたはドラム上に光学異方性層を転写し、その上に溶融状態の支持体用素材を流延して通常のポリマーフィルムのように、賦形、圧延、延伸などの所望の工程を経てフィルム上に成形することもできる。また、２枚の支持体を用いその間に光学異方性層をはさんで被認証体を形成しても良い。
被認証体としては、光学異方性層の特性劣化を起こさない温度以下に溶融温度を有する樹脂を用いることができる。
また、延伸処理を行うと引き裂き性が出て開封性を向上させることができるなどの各種機械特性の付与が期待できるので、製品形態を考慮して既知の各種工程を製造工程に加えることができる。
【００６６】
［配向層］
上記したように、光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に支持体もしくは仮支持体上又は支持体もしくは仮支持体上に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよく、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００９４］〜［００９９］の記載を参考にして形成することができる。
【００６７】
[反射層]
本発明における被認証体において反射層又は反射機能を有する支持体を用いることができる。反射機能を有する支持体とは、アルミ箔など、支持体としたときに該支持体そのものに反射機能があるものをいう。反射層又は前記支持体のパターニング光学異方性層側から偏光板を介して観察することによって、複屈折パターンによる潜像を可視化することができる。
反射層としては特に限定されないが、例えばアルミや銀などの金属層が挙げられる。このような金属層を支持体や複屈折パターニング作成材料に蒸着してもよいし、金属箔を箔押ししてもよい。このように金属層を設けた被認証体は帯電防止性能やガスバリア性が向上するので、精密機器の包装材などの被認証体に好ましく用いることができる。金属層以外にはゴールドやシルバー等のインキで印刷した支持体を用いることもできる。完全鏡面である必要はなく、表面にマット加工が施されていてもよい。
また、透明な被認証体で光沢面を有する物品（箱や商品など）を包装して、反射層を設けたのと同じ効果を得ることもできる。
【００６８】
［後粘着層］
複屈折パターン作製材料は、複屈折パターン部材をさらに他の物品に貼付するための後粘着層を有していてもよい。
【００６９】
［２層以上の光学異方性層］
複屈折パターン作製材料は、光学異方性層を２層以上有してもよい。２層以上の光学異方性層は法線方向に互いに隣接していてもよいし、間に別の機能性層を挟んでいてもよい。２層以上の光学異方性層は互いにほぼ同等のレタデーションを有していてもよく、異なるレタデーションを有していてもよい。また遅相軸の方向が互いにほぼ同じ方向を向いていてもよく、異なる向きを向いていてもよい。
【００７０】
遅相軸が同じ向きを向くように積層した２層以上の光学異方性層を有する複屈折パターン作製材料を用いる例として、大きなレタデーションを有するパターンを作製する場合が挙げられる。手持ちの光学異方性層では一層では必要とするレタデーションに足りない場合でも、二層三層と積層してからパターン露光することで大きなレタデーションや複雑なレタデーションの階調を有する領域を含むパターン化光学異方性層を容易に得ることができる。
また、遅相軸が異なる向きを向くように積層した２層以上の光学異方性層を有する複屈折パターン作製材料を用いる例として、遅相軸の向きごとに異なる潜像を配置することができる。
【００７１】
（複屈折パターン作製材料の作製方法）
複屈折パターン作製材料を作製する方法としては特に限定されないが、例えば、支持体上に光学異方性層を直接形成する、複屈折パターン作製材料を転写材料として作成後に別の支持体上に転写する、自己支持性の光学異方性層として形成する、自己支持性の光学異方性層上に他の機能性層を形成する、自己支持性の光学異方性層に支持体に貼合する、などの方法が挙げられる。このうち光学異方性層の物性に制約を加えないという点からは支持体上に光学異方性層を直接形成する方法と転写材料を用いて支持体上に光学異方性層を転写する方法が好ましく、さらに支持体に対する制約が少ない点から転写材料を用いて支持体上に光学異方性層を転写する方法がより好ましく用いることができる。
【００７２】
光学異方性層を２層以上含む複屈折パターン作製材料を作製する方法としては、複屈折パターン作製材料上に光学異方性層を直接形成する、別の複屈折パターン作製材料を転写材料として用いて複屈折パターン作製材料上に光学異方性層を転写するなどの方法が挙げられる。
【００７３】
以下に、転写材料として用いられる複屈折パターン作製材料について説明する。なお、転写材料として用いられる複屈折パターン作製材料は、後述の実施例などにおいて「複屈折パターン作製用転写材料」という場合がある。
【００７４】
［仮支持体］
転写材料として用いられる複屈折パターン作製材料は仮支持体上に形成されることが好ましい。仮支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。仮支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（商品名、ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（いずれも商品名、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
【００７５】
［転写用接着層］
転写材料は転写接着層を有しても良い。転写接着層としては、透明で着色がなく、十分な転写性を有していれば特に制限はなく、粘着剤による粘着層、感圧性樹脂層、感熱性樹脂層、感光性樹脂層などが挙げられる。例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［０１００］〜［０１１９］に記載の粘着剤、感圧性樹脂層、感光性樹脂層を用いることができる。
ただし、潜像を顕在化させる場合に、偏光が転写用接着層を経由する場合には、転写用接着層の光学特性として、支持体の項で述べたように潜像に影響を与えない、即ち等方性か、潜像の顕在化に影響を与えないレタデーション値を有することが好ましい。
【００７６】
（力学特性制御層）
転写材料の、仮支持体と光学異方性層の間には、力学特性や凹凸追従性をコントロールするために力学特性制御層を形成することが好ましい。力学特性制御層としては、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の［０１２０］に記載のものを用いることができる。
【００７７】
［中間層］
転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、および塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜や、前記光学異方性形成用の配向層を用いることが好ましい。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールもしくはポリビニルピロリドンとそれらの変性物の一つもしくは複数を混合してなる層である。前記熱可塑性樹脂層や前記酸素遮断膜、前記配向層を兼用することもできる。
【００７８】
［剥離層］
転写材料として用いられる複屈折パターン作製材料は仮支持体の上に剥離層を有してもよい。剥離層は仮支持体と剥離層間の、あるいは剥離層とその直上層の間の密着力を制御し、光学異方性層を転写した後の仮支持体の剥離を助ける役目を負う。また前述の他の機能層、例えば配向層、力学特性制御層、中間層などが剥離層としての機能を有してもよい。
【００７９】
［表面保護層］
複屈折パターン部材の表面には、汚染や損傷から保護する為に防汚性やハードコート性を有する表面保護層を設けることが好ましい。表面保護層の性質は特に限定されず既知の素材を用いることができ、前述の（仮）支持体や他の機能性層と同じか又は類似の材料からなってもよい。
表面保護層の材料としては例えば、ポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素樹脂からなる防汚層や多官能アクリレートを含んでなるアクリル樹脂で形成されるハードコート層などが挙げられる。なお、ハードコート層上に防汚層を配置したり、光学異方性層やその他の機能性層上に保護層を配置しても良い。
【００８０】
［その他の機能性層］
上記の機能性層以外にも例えば、複屈折パターン部材を剥離して再利用する行為を不可能とするため、破壊もしくは光学特性を変化させる機能層や、非可視光で顕在化する潜像技術など他のセキュリティ技術を組み合わせるための潜像層などの多様な機能性層と組み合わせることができる。被認証体を構成するその他の層は潜像の形成に影響を与えないレタデーション有するように構成されるか、前述のようにそれらの層のレタデーションを考慮して、あるいは光学異方性層の潜像形成ためのレタデーション値を考慮して設定することができる。
【００８１】
光学異方性層、感光性樹脂層、転写接着層および所望により形成される配向層、熱可塑性樹脂層、力学特性制御層および中間層等の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリットコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
また、光学異方性層上に塗布する層（例えば転写接着層）の塗布の際には、その塗布液に可塑剤や光重合開始剤を添加することにより、それらの添加剤の浸漬による光学異方性層の改質を同時に行ってもよい。
【００８２】
（転写材料を被転写材料上に転写する方法）
転写材料を支持体等の被転写材料上に転写する方法については特に制限されず、被転写材料上に上記光学異方性層を転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した転写材料を、転写接着層面を被転写材料表面側にして、ラミネータを用いて加熱および／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。例えば、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
被転写材料としては、支持体、支持体及び他の機能性層を含む積層体、又は複屈折パターン作製材料が挙げられる。
【００８３】
（転写に伴う工程）
複屈折パターン作製用転写材料を被転写材料上に転写した後、仮支持体は剥離してもよく、しなくともよい。ただし剥離しない場合には仮支持体がその後のパターン露光に適した透明性やベークに耐え得る耐熱性などを有していることが好ましい。また、光学異方性層と一緒に転写される不要の層を除去する工程があってもよい。例えば配向層としてポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの共重合体を用いた場合には、弱アルカリ性の水系現像液での現像により配向層より上の層の除去が可能である。現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【００８４】
また転写後、必要に応じて仮支持体の剥離や不要層の除去を行った後の表面に他の層を形成してもよい。あるいは必要に応じて仮支持体の剥離や不要層の除去を行った後の表面に転写材料を転写してもよい。この際に用いる転写材料は先に転写した転写材料と同じでもよく、異なってもよい。また、先に転写した転写材料の光学異方性層の遅相軸と新たに転写する転写材料の光学異方性層と遅相軸は互いに同じ向きでもよく、異なる向きでもよい。前述のように、複数層の光学異方性層を転写する事は遅相軸の向きを揃えた複数層の光学異方性層を積層した大きなレタデーションを持つ複屈折パターンや遅相軸の向きの異なる複数層を積層した特殊な複屈折パターンの作製などに有用である。
【００８５】
［転写のタイミング］
複屈折パターンの作製において転写を行う場合、そのタイミングは任意である。すなわち、例えば、少なくとも以下の工程：
・液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥させる工程；
・熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程；
・再度熱処理または電離放射線照射を行い前記相異なる反応性基のうち前記工程で反応させたものと異なる反応性基も含めて反応させる工程；及び
・光学異方性層中に残存する未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程（例えば５０℃以上４００℃以下のベーク）
をこの順に含む複屈折パターンの作製において転写を行う場合、転写は液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥させる工程の直後に行ってもよいし、熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程の後に行ってもよいし、残存する未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程の直前もしくは直後に行ってもよい。
【００８６】
この場合、タイミングによっては使用する材料に制約がかかることもある。例えば、塗布乾燥の直後に転写を行う場合には未反応の状態で転写に耐えるような液晶性化合物でなければならない。また他に例えば、残存する未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程としてベークを用いてかつその後に転写を行う場合には、転写までの仮支持体として用いている材料がベークに耐える材料でなければならない。広範な材料の使用を可能にする観点からは、転写は熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程より後であることが好ましい。
【００８７】
［パターン形成のタイミング］
複屈折パターンの作製においてパターン状の熱処理または電離放射線照射を行うタイミングは、熱処理または電離放射線照射を行う工程のいずれであってもよい。すなわち、例えば、少なくとも以下の工程：
・液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥させる工程；
・熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程；及び
・再度熱処理または電離放射線照射を行い前記相異なる反応性基のうち前記工程で反応させたものと異なる反応性基も含めて反応させる工程
をこの順に含む複屈折パターンの作製において、熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程がパターン状に行われてもよいし、再度熱処理または電離放射線照射を行い前記相異なる反応性基のうち前記工程で反応させたものと異なる反応性基も含めて反応させる工程がパターン状に行われてもよいし、その両方の工程がパターン状に行われてもよい。
【００８８】
一方で複屈折パターンの作製において転写を行う場合、パターン状の熱処理または電離放射線照射を行うタイミングによっては使用する材料に制約がかかることもある。例えば、熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程をパターン状に行いかつその直後に転写を行う場合には未反応の領域が存在する状態で転写に耐えるような液晶性化合物で無ければならない。広範な材料の使用を可能にする観点からは、複屈折パターンの作製において途中に転写を伴う場合、転写を行うより前に一度はパターン状でない熱処理または電離放射線照射が行われている事が好ましい。
【００８９】
さらに一方で、転写をした上で転写後の基材の形状や下地に合わせてパターン形成を行いたい場合には、先に熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程を非パターン状に（全面に）行った後に転写を行い、その後に再度熱処理または電離放射線照射を行い前記相異なる反応性基のうち前記工程で反応させたものと異なる反応性基も含めて反応させる工程をパターン状に行うことが好ましい。以下はそのような場合を例に説明する。
【００９０】
［複屈折パターン部材を用いた物品］
複屈折パターン作製材料に上述のように露光及びベークを行って得られる本発明における被認証体は通常はほぼ無色透明である一方で、二枚の偏光板で挟まれた場合、あるいは反射層と偏光板とで挟まれた場合においては特徴的な明暗、あるいは調整されたレタデーションから干渉によって得られる所望の色を示し容易に目視で認識できる。この性質を生かして、上記の製造方法により得られる被認証体は、例えば偽造防止手段として利用することができる。すなわち、本発明における被認証体、特に反射層を含む被認証体は通常は目視ではほぼ不可視な一方で、偏光板を介することで容易に多色の画像が識別可能となる。複屈折パターンは偏光板を介さずにコピーしても何も映らず、逆に偏光板を介してコピーすると永続的な、つまりは偏光板無しでも目視可能なパターンとして残る。従って複屈折パターンの複製は困難である。このような複屈折パターンの作製法は広まっておらず、材料も特殊であることから、偽造防止手段として用いるに適していると考えられる。
また、偽造防止手段以外に緻密及びまたは多色を示すことができる潜像を利用した情報や画像の表示媒体などの活用が考えられる。
【００９１】
本発明のビューワを用いる複屈折パターンの認証方法の具体的態様を以下に説明する。
本発明のビューワは、複屈折パターンの上に概ね平行になるように配置させる。このとき、重ねてもよいし、パターンの視認性を損なわない範囲で、間隔をあけてもよい。この状態で、概ね法線方向から、複屈折パターンを視認する。
【００９２】
本発明の別の好ましい実施態様は、異なるビューワを複数有する複屈折パターン認証用キットであって、前記複数のビューワの少なくとも１枚が上記の本発明のビューワである複屈折パターン認証用キットである。例えば、厚紙に左右の窓を設け、その窓の少なくとも一方に上記の本発明のビューワを貼り付けることにより形成することができる。この場合、本発明のビューワの光学異方性層を、認証する被認証体側にくるように形成する。また、一つのビューワを上記の本発明のビューワにより形成した場合、他のビューワは、上記の本発明のビューワで形成しても良いし、従来の偏光板をそのまま用いてもよい。複数のビューワを有するキットを用いることで、異なるカラーパターンを連続的に認証できるので、１枚のビューワにより真偽判定を行うよりも、確実に真偽判定を行うことができるようになる。
【００９３】
本発明の複屈折パターン認証用キットは、ビューワが、互いに光軸、及び／または、被認証体側の光学異方性層のレタデーションが異なることが好ましい。例えば、一方のビューワの偏光板の吸収軸の方向と、他方のビューワの偏光板の吸収軸の方向が異なるように貼り付けることで異なるビューワが互いに光軸が異なるものとすることができる。
このように、複数のビューワは、互いに光軸、及び／または、被認証体側の光学異方性層のレタデーションが異なることで、それぞれ色の異なる潜像を可視化させることができる。
複屈折パターン認証用キットの異なるビューワの数は、特に限定はないが２〜４であることが好ましい。
【００９４】
本発明の別の好ましい実施態様は、被認証体の一部に、上記のビューワを有する真正性認証媒体である。例えば、商品券などの被認証体の一部領域を上記の複屈折パターンを設け、被認証体の他の領域に上記の本発明のビューワを設けたものが挙げられる。このようなビューワ一体型複屈折パターンは、例えば、被認証体を折り曲げ、複屈折パターンとビューワを、ビューワの光学異方性層が複屈折パターン側になるように重ねることで、被認証体内の複屈折パターンに認識することができ、いつでも、どこでも、誰でも、例えば、被認証体の真正性を判定することが可能である。
【００９５】
本発明の別の実施態様は、上記のビューワ、または複屈折パターン認証用キットを用いた、真正性認証方法である。例えば、位相差フィルムを複屈折パターン側にして、ビューワまたは認証用キットを複屈折パターンにかざして観察する。このように観察することで、軸パターニングされた複屈折パターンが多色に見える。偏光板を回転させるという面倒な作業なく、真正性を認証し、確認できる。例えば、真性品には前記複屈折パターンが形成されている被認証体を、上記のビューワ、または上記のキットを介して観察し、３色以上からなる潜像を確認した場合に、該被認証体を真性品と認証することができる。
【実施例】
【００９６】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
なお、本実施例において、レタデーションはＫＯＢＲＡ ＷＲ（商品名、王子計測機器（株）製）において波長５５０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定された値である。
【００９７】
参考例１
［複屈折パターンの作製］
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────―
配向層用塗布液ＡＬ−１組成（質量％）
──────────────────────────────────―
液晶配向剤（ＡＬ−１−１） １．０
テトラヒドラフラン ９９．０
──────────────────────────────────―
【００９８】
【化１】
【００９９】
（配向層用塗布液ＡＬ−２の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−２として用いた。
──────────────────────────────────―
配向層用塗布液ＡＬ−２組成（質量％）
──────────────────────────────────―
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５（商品名）、クラレ（株）製）
３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０（商品名）、ＢＡＳＦ社製）
１．４８
蒸留水 ５２．１０
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────―
【０１００】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
──────────────────────────────────―――――
光学異方性層用塗布液ＬＣ−１組成（質量％）
──────────────────────────────────―――――
Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製） ３１．５３
ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．９９
カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）製） ０．３３
メガファックＦ−１７６ＰＦ（商品名、大日本インキ化学工業（株）製） ０．１５
メチルエチルケトン ６７．００
──────────────────────────────────―――――
【０１０１】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−２の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−２として用いた。
ＬＣ−１−１は２つの反応性基を有する液晶化合物であり、２つの反応性基の片方はラジカル性の反応性基であるアクリル基、他方はカチオン性の反応性基であるオキセタン基である。
ＬＣ−１−２は配向制御の目的で添加する円盤状の化合物である。Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法に準じて合成した。
──────────────────────────────────―――――
光学異方性層用塗布液ＬＣ−２組成（質量％）
──────────────────────────────────―――――
棒状液晶（ＬＣ−１−１） ３２．５９
水平配向剤（ＬＣ−１−２） ０．０２
カチオン系光重合開始剤
（ＣＰＩ１００−Ｐ（商品名）、サンアプロ株式会社製） ０．６６
重合制御剤
（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（商品名）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
０．０７
メチルエチルケトン ６６．６６
──────────────────────────────────―――――
【０１０２】
【化２】
【０１０３】
（保護層用塗布液ＰＬ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、保護層用塗布液ＰＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
保護層用塗布液ＰＬ−１組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メタクリル酸メチル
＝３５．９／２２．４／４１．７モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．８万） ８．０５
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（商品名、日本化薬（株）製） ４．８３
ラジカル光重合開始剤（２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
１，３，４−オキサジアゾール） ０．１２
ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．００２
メガファックＦ−１７６ＰＦ（商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
０．０５
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３４．８０
メチルエチルケトン ５０．５３８
メタノール １．６１
──────────────────────────────────――
【０１０４】
（パターン露光用フォトマスク）
図４（Ａ）〜（Ｅ）および（Ａ´）〜（Ｄ´）の平面図に示す、フォトマスク１１を本実施例に用いた。図４（Ａ）はフォトマスクＡ、図４（Ｂ）はフォトマスクＢ、図４（Ｃ）はフォトマスクＣ、図４（Ｄ）はフォトマスクＤ、図４（Ｅ）はフォトマスクＥ、図４（Ａ´）はフォトマスクＡ´、図４（Ｂ´）はフォトマスクＢ´、図４（Ｃ´）はフォトマスクＣ´、および図４（Ｄ´）はフォトマスクＤ´をそれぞれ示す。各フォトマスクは厚さ２．１ｍｍの、基材が石英ガラスからなるエマルジョンマスクで、図４（Ａ）〜（Ｄ）および（Ａ´）〜（Ｄ´）では、黒く塗られた領域の３６５ｎｍの透過率が０％、白い部分の３６５ｎｍの透過率が９２％である。
また、フォトマスクＥは、文字「Ａ」、文字「Ｂ」、文字「Ｃ」、背景の４つのエリアからなる濃度マスクである。各々の領域のλ＝３６５ｎｍの紫外光に対する透過率を表Ａに示す。
表Ａ
――――――――――――
領域 透過率
――――――――――――
文字Ａ ２０％
文字Ｂ ３３％
文字Ｃ ９２％
背景 ０％
――――――――――――
【０１０５】
（複屈折パターンＢＰ−１の作製）
厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタラートフィルム（ルミラーＬ−２５Ｔ６０（商品名）、東レ（株）製）の上にアルミニウムを６０ｎｍ蒸着した。次いで、アルミニウムの上に、ワイヤーバーを用いて配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は０．１μｍであった。
得られた有機膜の上にフォトマスクＡを配置し、紫外線照射器（ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ社製、ＥＸＥＣＵＲＥ３０００）より出射される紫外光より出射される光を、直線偏光板を介して、支持体に対して垂直の方向から１００ｍＷ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の強度で１秒間照射した。このとき、直線偏光板の吸収軸の方位角がフォトマスクの長辺に対して０°となるように偏光板を配置した。
続いて、フォトマスクをＢ、Ｃ、Ｄと順に変更し、直線偏光板の吸収軸がそれぞれフォトマスクの長辺に対して４５°、９０°、１３５°となるように偏光板を配置した上で、同様に紫外線を照射した。
次いで、ワイヤーバーを用いて、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ０．９μｍの光学異方性層を形成することで、図５の平面図に示すパターンの、ＢＰ−１を作製した。
ＢＰ−１の文字Ａ１２、文字Ｂ１３、文字Ｃ１４、背景１５の遅相軸はそれぞれ、ＢＰ−１の長辺に対して０°、４５°、９０°、１３５°であった。また、これらの領域のレタデーションはいずれも１３５ｎｍ（λ／４）であった。
【０１０６】
（複屈折パターン作製用材料ＴＲ−１の作製）
厚さ１００μｍの易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＡ４１００、東洋紡績（株）製）の仮支持体の上に、ワイヤーバーを用いて順に、配向層用塗布液ＡＬ−２を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は０．５μｍであった。次いで、配向層をＭＤ方向にラビングし、ワイヤーバーを用いて光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ３．１μｍの光学異方性層を形成して光学異方性層塗布サンプルＴＲＣ−１を作製した。この際用いた紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３２０ｎｍ〜４００ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量はＵＶ−Ａ領域において８０ｍＪ／ｃｍ２であった。光学異方性層は２０℃で固体の高分子で、耐ＭＥＫ（メチルエチルケトン）性を示した。
次いで、光学異方性層の上に保護層用塗布液ＰＬ−１を塗布、乾燥して１．２μｍの保護層を形成し、複屈折パターン作製用転写材料ＴＲ−１を作製した。
【０１０７】
（複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの作製）
フォトマスクＡ´、Ｂ´、Ｃ´、Ｄ´はいずれも同じ大きさである。ＴＲ−１を、フォトマスクと同じ大きさに４枚切り出した。このとき、それぞれ、長辺がＭＤ方向、長辺がＭＤ方向から１３５度方向、長辺がＭＤ方向から９０度方向、長辺がＭＤ方向から４５度方向となるように切り出した。長辺がＭＤ方向となるように切り出したＴＲ−１の上にフォトマスクＡ´を重ねた状態で、ミカサ社製Ｍ−３Ｌマスクアライナーを用いてピーク波長が３６５ｎｍの光を露光照度６．２５ｍＷ／ｃｍ２で１０秒間照射して、複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ａを作製した。
同様に、長辺がＭＤ方向から１３５度方向となるように切り出したＴＲ−１、長辺がＭＤ方向から９０度方向となるように切り出したＴＲ−１、長辺がＭＤ方向から４５度方向となるように切り出したＴＲ−１の上に、それぞれ、フォトマスクＢ´、Ｃ´、Ｄ´を用いて露光して、複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ｂ、Ｃ、Ｄを作製した。
【０１０８】
（複屈折パターンＢＰ−２の作製）
アルミニウムを６０ｎｍ蒸着した、厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（カプトン２００Ｈ、東レ・デュポン（株）製）を用意した。複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ａをラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、１００℃で２分間加熱した上記ポリイミドフィルムのアルミ蒸着面に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。ラミネート後、仮支持体を剥離した。この上に、同様の手法で複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ｂ、Ｃ、Ｄをラミネートした。
その後、さらに２００℃のクリーンオーブンで３０分間のベークを行って、図５の平面図に示すのと同様のパターンの、複屈折パターンＢＰ−２を作製した。
ＢＰ−２の文字Ａ１２、文字Ｂ１３、文字Ｃ１４、背景１５の遅相軸はそれぞれ、ＢＰ−２の長辺に対して０°、４５°、９０°、１３５°であった。また、これらの領域のレタデーションはいずれも２７０ｎｍ（λ／２）であった。
【０１０９】
（複屈折パターンＢＰ−３の作製）
支持体を、サンドブラスト処理した厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタラートフィルム（ルミラーＬ−２５Ｔ６０（商品名）、東レ（株）製）にアルミニウムを６０ｎｍ蒸着したものとし、光学異方性層の膜厚を２．８μｍとする以外は、複屈折パターンＢＰ−１と同様にして、図５の平面図に示すのと同様のパターンの、複屈折パターンＢＰ−３を作製した。
ＢＰ−３の文字Ａ１２、文字Ｂ１３、文字Ｃ１４、背景１５の遅相軸はそれぞれ、ＢＰ−３の長辺に対して０°、４５°、９０°、１３５°であった。また、これらの領域のレタデーションはいずれも４２０ｎｍ（３λ／４）であった。
【０１１０】
（複屈折パターンＢＰ−４の作製）
厚さ５０μｍのポリイミドフィルム（カプトン２００Ｈ、東レ・デュポン（株）製）の上にアルミニウムを６０ｎｍ蒸着し、その上に、ワイヤーバーを用いて順に、配向層用塗布液ＡＬ−２を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は０．５μｍであった。次いで、配向層をＭＤ方向にラビングし、ワイヤーバーを用いて光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ３．５μｍの光学異方性層を形成して光学異方性層塗布サンプルＴＲＣ−２を作製した。この際用いた紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３２０ｎｍ〜４００ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量はＵＶ−Ａ領域において８０ｍＪ／ｃｍ２であった。光学異方性層は２０℃で固体の高分子で、耐ＭＥＫ（メチルエチルケトン）性を示した。
次いで、光学異方性層の上に保護層用塗布液ＰＬ−１を塗布、乾燥して１．２μｍの保護層を形成した。このフィルムに対して、ミカサ社製Ｍ−３ＬマスクアライナーとフォトマスクＥを用いて露光照度６．２５ｍＷ／ｃｍ２で８．２秒間の露光を行った。このとき、フィルムのＭＤ方向がフォトマスクの横軸に対し、４５°となるように配置した。
その後、さらに２００℃のクリーンオーブンで３０分間のベークを行い、最後に通常の印刷を行った上で、図５の平面図に示すのと同様のパターンの、複屈折パターンＢＰ−４を作製した。
ＢＰ−４の文字Ａ１２、文字Ｂ１３、文字Ｃ１４、背景１５のレタデーションはそれぞれ、１４３ｎｍ、２０２ｎｍ、２９７ｎｍ、３ｎｍであった。また、これらの領域の遅相軸はいずれも４５°方向であった。
【０１１１】
比較例１
（ビューワ１）
図６の概略断面図に示す偏光板２１（サンリッツ社製、スーパーハイコントラスト直線偏光板）をビューワ１とした。ビューワ１の位相差（レタデーション）は０である。
【０１１２】
実施例１
（ビューワ２）
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム製、フジタックＴＤ８０）の上に、ワイヤーバーを用いて配向層用塗布液ＡＬ−２を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は０．５μｍであった。次いで、配向層をＭＤ方向にラビングし、ワイヤーバーを用いて、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ０．９μｍの光学異方性層を形成することで、位相差フィルムを作製した。
位相差フィルムの遅相軸はＭＤ方向であり、レタデーションは１３５ｎｍ（λ／４）であった。
図７の概略断面図に示すように、サンリッツ社製、スーパーハイコントラスト直線偏光板２１の上に、位相差フィルム２２を、その遅相軸を偏光板の吸収軸から反時計回りに４５度回転させるようにして、粘着剤を用いて貼り合わせ、これをビューワ２とした。
【０１１３】
実施例２
（ビューワ３）
図８の概略断面図に示すように、サンリッツ社製、スーパーハイコントラスト直線偏光板２１の上に、レタデーションが２７５ｎｍ（λ／２）の一軸延伸フィルム２３を、その遅相軸を偏光板の吸収軸から反時計回りに４５度回転させるようにして、粘着剤を用いて貼り合わせ、これをビューワ３とした。
【０１１４】
実施例３
（ビューワ４）
ビューワ２において、光学異方性層の膜厚を２．８μｍとする以外は、ビューワ２と同様にして、ビューワ４を作製した。このとき、位相差フィルムのレタデーションは４２０ｎｍ（３λ／４）であった。
【０１１５】
実施例４
（複屈折パターン認証用キット１）
図９の平面図に示すように、２×２ｃｍの窓３１，３２を２つ開けた縦４ｃｍ、横７．５の板紙３３（ＯＫボール（商品名）、王子製紙製、３１０ｇ／ｍ２）を用意した。左側の窓３１には、図８に示す実施例２のビューワ３を、一軸延伸フィルム２３側が下になるように、かつ、偏光板２１の吸収軸が板紙３３の長辺に対して９０°方向となるように貼り付けた。また、右側の窓３２には、ビューワ３を、一軸延伸フィルム２３側が下になるように、かつ、偏光板３１の吸収軸が、板紙３３の長辺に対して４５°方向となるように貼り付け、複屈折パターン認証用キット１を得た。
【０１１６】
実施例５
（複屈折パターン認証用キット２）
実施例４と同様に、２×２ｃｍの窓３１，３２を２つ開けた縦４ｃｍ、横７．５ｃｍの板紙３３を用意した。その内、左側の窓３１には、図８に示す実施例２のビューワ３を、一軸延伸フィルム２３側が下になるように、かつ、偏光板２１の吸収軸が板紙３３に対して９０°方向となるように貼り付けた。また、右側の窓には、図６に示す比較例１のビューワ１を、偏光板２１の吸収軸が板紙３３の長辺に対して９０°方向となるように貼り付けた。
【０１１７】
試験例１
通常の目視では、反射性の銀色のフィルムである複屈折パターンＢＰ−１を、比較例１のビューワ１を、その吸収軸が複屈折パターンＢＰ−１の長辺に対して９０°方向となるように配置して観察した。その結果文字「Ａ」と「Ｃ」が明るく、それ以外の部分は暗く見えた。ビューワ１を４５°回転させると、明暗が反転した。偏光板を回転させることによって、真偽判定が可能であるが、大量に真偽判定をする際には、効率的ではない。
【０１１８】
試験例２
通常の目視では、反射性の銀色のフィルムである複屈折パターンＢＰ−２を、比較例１のビューワ１を用いて観察した。その結果、文字「Ａ」と「Ｃ」が明るく、それ以外の部分は緑色に見えた。ビューワ１を４５°回転させると、色が反転した。偏光板を回転させることによって、真偽判定が可能であるが、大量に真偽判定をする際には、効率的ではない。
【０１１９】
試験例３
複屈折パターンＢＰ−３は、これを比較例１のビューワ１を用いて観察した。その結果、文字「Ａ」と「Ｃ」が明るく、それ以外の部分は紫色に見えた。ビューワ１を４５°回転させると、色が反転した。偏光板を回転させることによって、真偽判定が可能であるが、大量に真偽判定をする際には、効率的ではない。
【０１２０】
試験例４
複屈折パターンＢＰ−１を、実施例１のビューワ２を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−１側にして観察した。その結果、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は薄緑色、文字「Ｂ」は緑色、背景は灰色に見え、３色のパターンを視認することができた。
【０１２１】
試験例５
複屈折パターンＢＰ−１を、実施例２ビューワ３を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−１側にして観察した。その結果、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は灰色、文字「Ｂ」は紫色、背景は紺色に見え、３色のパターンをはっきりと視認することができた。
【０１２２】
試験例６
複屈折パターンＢＰ−２を、実施例２のビューワ３を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−２側にして観察した。その結果、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は薄黄緑色、文字「Ｂ」は緑色、背景は灰色に見え、３色のパターンを視認することができた。
【０１２３】
試験例７
複屈折パターンＢＰ−３を、ビューワ３を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−３側にして観察した。その結果、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は薄黄緑色、文字「Ｂ」は緑色、背景は灰色に見え、３色のパターンをはっきりと視認することができた。
【０１２４】
試験例８
複屈折パターンＢＰ−１を、実施例３のビューワ４を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−１側にして観察した。その結果すると、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は灰色、文字「Ｂ」は緑色、背景は黄緑色に見え、３色のパターンを視認することができた。
【０１２５】
試験例１〜８の結果をまとめて、表１に示す。
【０１２６】
【表１】
【０１２７】
表１中、識別性の×は「潜像が２色からなるため、識別性が低い」を意味し、○は「潜像が３色からなり識別性が高いが、その内二色は色相が近い」を意味し、◎は「潜像が３色からなり、その３色いずれも色相が異なるため識別性に非常に優れる」を意味する。
表１に示されるように、比較例１のビューワ１では、２色のパターンしか視認できず、ビューワを回転させなければ真偽判定ができないが、実施例１〜３のビューワ２〜４を用いると偏光板を回転しなくても、３色のパターンを視認でき、真偽判定が可能となる。特に、ビューワ３を用いた場合は、３色の色相が大きく異なるため、視認性が更に優れる。
【０１２８】
試験例９
実施例４の複屈折パターン認証用キット１を用いて、ＢＰ−１を観察した。左側のビューワで観察した場合には、紺色の背景に、灰色の文字「Ａ」、「Ｃ」が、紫色の「Ｂ」の文字が観察されるが、右側のビューワで観察した場合には、透明の背景に、紫色の文字「Ａ」、及び、紺色の文字「Ｃ」が観察された。
【０１２９】
試験例１０
実施例５の複屈折パターン認証用キット２を用いて、ＢＰ−１を観察した。左側のビューワで観察した場合には、紺色の背景に、灰色の文字「Ａ」、「Ｃ」が、紫色の「Ｂ」の文字が観察されるが、右側のビューワで観察した場合には、紺色の背景に、灰色の文字「Ａ」、及び「Ｃ」が観察された。
【０１３０】
試験例９および１０に示されるように、複数のビューワを有するキットを用いることで、さらに確実に真偽判定を行うことができるようになる。
【０１３１】
試験例１１
通常の目視では、印刷の施された反射性の銀色のフィルムである複屈折パターンＢＰ−４を、比較例１のビューワ１を用い、その吸収軸がＢＰ−４の長辺に対し９０°方向となるように配置して観察した。その結果、文字「Ａ」は紺色、文字「Ｂ」は黄緑色、文字「Ｃ」は黄色、背景は灰色に見えた。
【０１３２】
試験例１２
複屈折パターンＢＰ−４を、ビューワとして実施例１のビューワ２を用いた以外は、試験例１１と同様に観察した。その結果、文字「Ａ」、文字「Ｂ」、文字「Ｃ」、背景のそれぞれの領域は、黄緑色、橙色、紫色、紺色と色が変化した。
【０１３３】
試験例１３
複屈折パターンＢＰ−４を、実施例２のビューワ３を用いた以外は、試験例１１と同様に観察した。その結果、文字「Ａ」、文字「Ｂ」、文字「Ｃ」、背景のそれぞれの領域は、紫色、青緑色、黄色、緑色となった。
【０１３４】
試験例１１〜１３に示されるように、ビューワ１でもある程度の識別性を有しているが、ビューワ２〜３を用いると、更に、多彩な色表現が可能となり、より、識別性が向上した。
【０１３５】
実施例６
（ビューワ一体型複屈折パターン）
板紙４１に、図１０の平面図に示すように、印刷を行った。図中、４２で示された領域の背景は銀インキで印刷されており、金額の部分「￥１０，０００」は赤色で印刷されている。
次いで、領域４２の上に、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥した。この上に、図１１（ａ）の平面図に示すフォトマスク４４（石英ガラスエマルジョンマスクに、「ｇｅｎｕｉｎｅ」の文字を透過部としたもの）を配置し、紫外線照射器（ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ社製、ＥＸＥＣＵＲＥ３０００）より出射される紫外光より出射される光を、直線偏光板を介して、支持体に対して垂直の方向から１００ｍＷ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の強度で１秒間照射した。このとき、直線偏光板の吸収軸の方位角が板紙４１の長辺に対し４５°となるように偏光板を配置した。
続いて、フォトマスクを図１１（ｂ）に示すフォトマスク４５（石英ガラスエマルジョンマスクに、「壱万円」の文字を透過部としたもの）、図１１（ｃ）に示すフォトマスク４６（石英ガラスエマルジョンマスクに、「ｇｅｎｕｉｎｅ」および「壱万円」の文字を透過部としたもの）と順に変更し、直線偏光板の吸収軸が板紙４１の長辺に対しそれぞれ９０°、１３５°となるように偏光板を配置した上で、同様に紫外線を照射した。なお、フォトマスク４４〜４６の平面外形は、領域４２の外形とほぼ同一である。
更に、その上に、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ０．９μｍの光学異方性層を形成した。
得られたパターニンにおける、文字「ｇｅｎｕｉｎｅ」、文字「壱万円」、背景の遅相軸はそれぞれ、板紙４１の長辺に対し４５°、９０°、１３５°であった。また、これらの領域のレタデーションはいずれも１３５ｎｍであった。
その後、図１０に示す領域４３を打ち抜いた。その部分に、図８に示す実施例２のビューワ３を、一軸延伸フィルム２３が手前側に、また、偏光板の吸収軸が９０°方向となるように貼り付けた。このようにして、ビューワ一体型複屈折パターンＢＰ−５を作製した。
【０１３６】
試験例１４
図１０に示す商品券の領域４２は、通常の目視では、銀色の下地印刷の上に赤い文字で「￥１０，０００」と書かれているように見える。しかし、商品券の右下の部分をつまみ、窓の部分、すなわち、領域４３を、領域４２に重ねてみると、「￥１０，０００」の上に、紫色の文字で「ｇｅｎｕｉｎｅ」、「￥１０，０００」の下には、灰色の文字で、「壱万円」という文字が浮かび上がった、このとき、背景の部分は紺色であった。ビューワ一体型複屈折パターンＢＰ−５は、別途、ビューワを用意しなくても、商品券内にビューワが埋め込まれているため、いつでも、どこでも、誰でも、商品券の真正性を判定することが可能である。
【符号の説明】
【０１３７】
１ 偏光板
２ 光学異方性層
１１ フォトマスク
１２ 文字Ａ
１３ 文字Ｂ
１４ 文字Ｃ
１５ 背景
２１ 偏光板
２２ 位相差フィルム
２３ 一軸延伸フィルム
３１，３２ 窓
３３ 板紙
４１ 板紙
４２，４３ 領域
４４，４５，４６ フォトマスク
１０１ 支持体
１０２ 反射層
１０３ 光学異方性層
【技術分野】
【０００１】
本発明は複屈折パターンを認証するためのビューワおよびキット、並びに、真正性認証媒体および真正性認証方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
製品の偽造防止の手段としては、製品そのものを複製不能とする手段か、偽造防止手段として複製不能の標識を製品に取り付けることで真正な製品（真正品）と判定させる手段に大きく分けられる。特に後者の場合は個別な対応が必要な前者に比べて汎用性が高いので、多く用いられている。
後者の手段はさらに、２つに分けられる。ひとつは、偽造防止手段の存在が常に誰にでも識別できるもので、良く知られている技術としてホログラムがある。もうひとつは、偽造防止手段が通常は検出不能な状態であり、偽造防止手段の存在を知る者のみが特別な手段によって偽造防止手段を検出し、真正品かどうかを識別するもので、光軸のパターニングされた位相差媒体による潜像を、偏光板を用いて観察し、真偽を判別する技術が知られている（例えば、特許文献１，２参照）。しかし、このようにして可視化される潜像は、正面から見たときは単色であるし、偏光板を回転させないと真正性が確認できないことから、認証が面倒であるという問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１３７２３２号公報
【特許文献２】特開２００８−１２９４２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
偽造防止ラベル等に用いられる複屈折パターンを簡便かつ確実に認証することのできるビューワを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、
（１）複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板に、少なくとも一層の光学異方性層が積層され、該光学異方性層の正面レタデーションが５ｎｍ以上であり、かつ、該光学異方性層の正面レタデーションと前記複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ／２より大きいことを特徴とするビューワ、
（２）光軸がパターニングされた複屈折パターンを識別するためのビューワであることを特徴とする（１）項に記載のビューワ、
（３）複屈折パターンの位相差が（ｎ１／２＋１／８）λ〜（ｎ１／２＋３／８）λ（ｎ１：０以上の整数）であることを特徴とする（２）項に記載のビューワ、
（４）ビューワの光学異方性層の位相差が（ｎ２／２−１／８）λ〜（ｎ２／２＋１／８）λ（ｎ２：自然数）であることを特徴とする（２）または（３）項に記載のビューワ、
（５）レタデーションがパターニングされた複屈折パターンを識別するためのビューワであることを特徴とする（１）項に記載のビューワ、
（６）ビューワを複数有する複屈折パターン認証用キットであって、少なくとも１つのビューワが（１）〜（５）のいずれか１項に記載のビューワからなることを特徴とする複屈折パターン認証用キット、
（７）前記複数のビューワは、互いに光軸、及び／または、被認証体側の光学異方性層のレタデーションが異なることを特徴とする（６）項に記載の複屈折パターン認証用キット、
（８）被認証体の一部に、（１）〜（５）のいずれか１項に記載のビューワを有することを特徴とする真正性認証媒体、
（９）（１）〜（５）のいずれか１項に記載のビューワ、または（６）または（７）項に記載の複屈折パターン認証用キットを用いたことを特徴とする真正性認証方法、および
（１０）真性品には前記複屈折パターンが形成されている被認証体を、前記ビューワ、または前記キットを介して観察し、３色以上からなる潜像を確認することにより該被認証体の真性品を認証することを特徴とする（９）項記載の真正性認証方法
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００６】
また、本発明のビューワにより、複屈折パターンの複数の色の潜像を表現できる。また、軸パターンの施された潜像を、正面から見たときにも多色に認識できる。よって、ビューワを回転しなくても、ビューワをかざしたときの潜像の色によって真偽判定が可能であり、認証にかかる時間を短縮することができる。
したがって、本発明のビューワおよびそれを用いたキットにより、複屈折パターンを用いた偽造防止ラベル等の被認証体の真偽を判別する真正性の認証を確実かつ簡単な操作により行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の好ましい実施態様のビューワの概略断面図である。
【図２】本発明の本発明のビューワによって認証される被認証体の一実施形態の概略断面図である。
【図３】本発明のビューワにより識別される複屈折パターンの例を示す説明図であって、図３（ａ）はレタデーションに関してパターニングした例の説明図であり、図３（ｂ）は光軸方向に関してパターニングした例の説明図である。
【図４】実施例に用いられたフォトマスクの平面図である。
【図５】実施例における複屈折パターンの平面図である。
【図６】比較例１のビューワの概略断面図である。
【図７】実施例１のビューワの概略断面図である。
【図８】実施例２のビューワの概略断面図である。
【図９】実施例４の複屈折パターン認証用キットの平面図である。
【図１０】実施例６のビューワ一体型複屈折パターンの平面図である。
【図１１】実施例６に用いられたフォトマスクの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明のビューワは、複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板に、少なくとも一層の光学異方性層が積層され、該光学異方性層の正面レタデーションが５ｎｍ以上であり、かつ、光学異方性層の正面レタデーションと複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ／２より大きいものである。
【０００９】
図１は本発明の好ましい実施態様のビューワ（光学フィルタ）の概略断面図であり、偏光板１に光学異方性層２が積層されたものである。
【００１０】
偏光板１は自然光を直線偏光に変換する性質を有する板で、例えば、ヨウ素系偏光板、染料系偏光板、ワイヤグリッド偏光板、金属ナノ粒子を用いた偏光板などが挙げられるが、一般的にはヨウ素系偏光板（ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色、延伸を行った後、その両面に保護フィルムを積層して作製されたもの）を用いることが好ましい。偏光板１の厚さは、特に限定するものではないが、保護フィルムを含み、８０〜５００μｍが好ましい。
【００１１】
光学異方性層２は、正面レタデーションが実質的に０ではない、５ｎｍ以上の正面レタデーションを有する層である。正面レタデーションは、５０ｎｍ以上であることが好ましく、１００ｎｍ以上であることがより好ましい。特に、光軸のパターニングされた複屈折パターンを識別する際には、（ｎ２／２−１／８）λ〜（ｎ２／２＋１／８）λ（ｎ２：自然数）であることが好ましい。
なお、本明細書および特許請求の範囲において、レタデーションまたはＲｅまたは位相差は面内レタデーションを表す。面内のレタデーション（Ｒｅ(λ)）はＫＯＢＲＡ ＷＲ（商品名、王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定された値である。
また、本明細書および特許請求の範囲において、波長を特に規定しないレタデーションは、５５０ｎｍの波長で測定されたものを意味する。
【００１２】
光学異方性層２は、例えば、透明支持体に、配合層を介して、液晶性化合物を含む組成物（塗布液）を塗布、乾燥して液晶相状態とした後、配合状態を固定化して形成して、光学異方性層を形成したフィルム状ものが挙げられる。液晶化合物としては、例えば、ＵＶ硬化型サーモトロピック・ネマティック液晶を用いることができる。このような液晶は市販品として入手することができ、例えばＰａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）を挙げることができる。
また、光学異方性層２は、所望のレタデーションを有する市販の一軸延伸フィルムや二軸延伸フィルムを用いることもできる。
光学異方性層２は、好ましくは、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、及びポリエステル系粘着剤などの感圧系の粘着剤により、偏光板１に貼り付けられて、積層され、ビューワを形成する。
【００１３】
本発明のビューワは、複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターンを認証するために用いられる。
【００１４】
また、本明細書および特許請求の範囲において、「認証」は、「識別」、「判別」、「有無の確認」などにより、被認証体の真偽を証明することを含む。
【００１５】
本発明においては、ビューワの光学異方性層の正面レタデーションと、複屈折パターンの正面レタデーションの最大値との和がλ／２より大きいものである。前記の和の値を上記の範囲に設定することで潜像の色相を大きく変化させるという作用効果を奏する。ビューワの光学異方性層の正面レタデーションと、複屈折パターンパターニング光学異方性層の正面レタデーションの最大値との和はλ／２〜３λであることが好ましく、λ〜２λであることがより好ましい。偏光板の光学異方性層の正面レタデーションと複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和をλ／２より大きいものとすることは、例えば、複屈折パターンのパターニング光学異方性層の正面レタデーションの最大値を大きくする、あるいは、ビューワの光学異方性層の正面レタデーションを大きくする、あるいは、その両者をかけあわせることにより行うことができる。液晶性化合物を硬化して作製した光学異方性層は、膜厚を大きくする、あるいは、異方性の大きい液晶性材料を使うことによって、正面レタデーションを大きくすることができる。あるいは、延伸フィルムにおいては、その延伸倍率を大きくすることによって、正面レタデーションを大きくすることができる。
【００１６】
本発明のビューワが認証する複屈折パターンは、上記のように、複屈折性が異なる領域を複数含む層、すなわち、パターニング光学異方性層を有している。
本発明において、複屈折パターンは複屈折性が異なる領域を３つ以上有することがさらに好ましい。上記の複屈折性が同一である個々の領域は連続的形状であっても非連続的形状であってもよい。また、パターニング光学異方性層は、複数の層が積層されていてもよい。複屈折パターンを有する物品は通常平面（膜又はシート）状の形状を有していればよい。
【００１７】
本発明のビューワによって認証される、一つの好ましい複屈折パターンは、光軸方向のパターニングされている複屈折パターン、すなわち、複屈折性が異なる領域が、光軸方向が互いに異なる領域を２つ以上有するものである。なお、本明細書において「光軸」というとき、「遅相軸」又は「透過軸」を意味する。
光軸がパターニングされている場合、光軸の向きが好ましくは５度以上、より好ましくは１０度以上、さらに好ましくは１５度以上異なることをいう。光軸がパターニングされている複屈折パターンの光学異方性層は、例えば、特表２００１−５２５０８０号公報に記載の方法などで得ることができ、さらにこの液晶化合物の層内配向方向制御と後述のレタデーション値制御を組み合わせることにより、層内のレタデーションと配向方向が任意にパターニングされた光学異方性層を作製することができる。
【００１８】
光軸がパターニングされている場合、複屈折パターンの位相差が（ｎ１／２＋１／８）〜（ｎ１／２＋３／８）λ（ｎ１：０以上の整数）であることが好ましい。複屈折パターンの位相差がこの範囲にあることで潜像の色相を大きく変化させることができる。複屈折パターンの位相差を上記範囲とすることは、例えば、パターニング光学異方性層の膜厚を調整する、あるいは液晶の固有複屈折を調整することにより行うことができる。
【００１９】
光軸方向のパターニングされている複屈折パターンの認証においては、ビューワの光学異方性層層の位相差が（ｎ２／２−１／８）〜（ｎ２／２＋１／８）λ（ｎ２：自然数）であることが好ましい。ビューワの光学異方性層の位相差がこの範囲にあることで潜像の色相を大きく変化させることができる。ビューワの光学異方性層の位相差を上記範囲とすることは、例えば、液晶性化合物を硬化した光学異方性層を用いる場合には、その膜厚を調整する、あるいは液晶の固有複屈折を調整することによって、あるいは、延伸フィルムを用いる場合には、その延伸倍率を変えることにより行うことができる。
【００２０】
本発明のビューワによって認証される、別の好ましい複屈折パターンは、レタデーションのパターニングされた複屈折パターンである。「レタデーションのパターニングされた」とは、レタデーションが互いに異なる領域を２つ以上有することをいうレタデーションがパターニングされている場合には、好ましくは２０ｎｍ以上、より好ましくは３０ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以上レタデーションが異なることをいう。
【００２１】
図２は本発明のビューワによって認証される被認証体の一実施形態の概略断面図を示す。図２に示す被認証体は、支持体１０１上に反射層１０２を介して光学異方性層１０３を有する。光学異方性層１０３は領域ＡとＢを有し、これらは互いに複屈折性が異なる領域である。複屈折パターン及び光学異方性層、ならびに必要に応じて設けられる各層について、以下に詳述する。
複屈折パターンの例としてはレタデーション及び／又は光軸方向が面内でパターニングされた光学異方性層を含む物品が挙げられる。複屈折パターンの例を図３に示す。
図３（ａ）はレタデーションの相違によってパターニングされている例の模式的な説明図である。図３（ａ）に示す例においてはａｎｍ、ｂｎｍ、ｃｎｍ、及びｄｎｍで示されるレタデーションは互いに異なるものとする。図３（ｂ）は光軸方向の相違によってパターニングされている例の模式的な説明図である。図３（ｂ）において矢印は光軸方向を示す。
光軸方向が面内でパターニングされた光学異方性層は、例えば、特表２００１−５２５０８０号公報に記載の方法などで得ることができる。
また、レタデーションが面内でパターニングされた光学異方性層は、例えば、以下に詳細に説明する方法で作製することができる。
なお、以下の光学異方性層についての記載は、パターニングに関する記載以外に関しては、上記のビューワの光学異方性層に適用することができる。
【００２２】
［複屈折パターン部材］
（光学異方性層）
パターニング光学異方性層は実質的に同一の層形成組成物から形成されることが好ましい。ここで同一の層形成組成物とは、厳密には分子の電子状態が異なり、複屈折性が異なるが原材料が同一であることをいう。
複屈折パターンは少なくとも１層のパターニング光学異方性層を含む。
パターニング光学異方性層は高分子を含む。高分子を含むことにより、複屈折性、透明性、耐溶媒性、強靭性および柔軟性といった異なった種類の要求を満たすことができる。
【００２３】
光学異方性層は好ましくは２０℃において、より好ましくは３０℃において、さらに好ましくは４０℃において固体であればよい。２０℃において固体であると、他の機能性層の塗布や、支持体上への転写や貼合が容易であるからである。
他の機能性層の塗布を行う場合、本発明の光学異方性層は耐溶媒性を有することが好ましい。本明細書において、「耐溶媒性を有する」とは対象の溶媒に２分間浸漬した後のレタデーションが浸漬前のレタデーションの３０％から１７０％の範囲内に、より好ましくは５０％から１５０％の範囲内に、最も好ましくは８０％から１２０％の範囲内にあることを意味する。対象の溶媒としては水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサン、クロロホルム、酢酸エチルの中から、好ましくはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ−メチルピロリドンの中から、最も好ましくはメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、またはこれらの混合溶媒等があげられる。
【００２４】
光学異方性層でレタデーションを付与した領域のレタデーションの値は２０℃においてレタデーションが５ｎｍ以上であればよく、２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。レタデーションが５ｎｍ未満では複屈折パターンの形成が困難となったり、潜像の鮮明性が低下する場合がある。レタデーションが１０００ｎｍを越えると、誤差が大きくなり実用できる精度を達成することが困難である場合がある。
また、被認証体の潜像形成を考慮して、あるいは被認証体を構成するその他の層のレタデーションを考慮して、光学異方性層のレタデーション値を制御することができる。
【００２５】
光学異方性層の製法としては特に限定されないが、少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含んでなる溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射して重合固定化して作製する方法；少なくとも２つ以上の反応性基を有するモノマーを重合固定化した層を延伸する方法；高分子からなる層にカップリング剤を用いて反応性基を導入した後に延伸する方法；または高分子からなる層を延伸した後にカップリング剤を用いて反応性基を導入する方法などが挙げられる。
また、後述するように、本発明の光学異方性層は転写により形成されたものであってもよい。
パターニング光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【００２６】
《光学異方性層(材料)》
（液晶性化合物を含有する組成物を重合固定化してなる光学異方性層）
光学異方性層の製法として少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含んでなる溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射して重合固定化して作製する場合について以下に説明する。本製法は、後述する高分子を延伸して光学異方性層を得る製法と比較して、薄い膜厚で同等のレタデーションを有する光学異方性層を得ることや、緻密なパターン制御が容易となる。
【００２７】
（液晶性化合物）
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。複屈折パターンの光学異方性層では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。大きなレタデーションを発現させるためには、棒状タイプを用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。本発明においては、上記ビューワにおける光学異方性層に用いられる液晶化合物と同様の液晶化合物を好ましく用いることができ、また、温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、その場合少なくとも１種の２以上の反応性基を有するものを用いることが好ましい。
【００２８】
液晶性化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを選択的に重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む光学異方性層を作製することが可能となる。用いる重合条件としては重合固定化に用いる電離放射線の波長域や重合温度でもよいし、用いる重合機構の違いでもよいが、好ましくは用いる開始剤の種類によって制御可能な、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基の組み合わせが選択的な重合の制御の観点で好ましい。前記ラジカル性の反応性基がエチレン性不飽和基、特にアクリル基および／またはメタクリル基であり、かつ前記カチオン性基がビニルエーテル基、オキセタン基および／またはエポキシ基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。
また、本発明において液晶性化合物から形成したとは、最終的にできた物が液晶性を示す必要はなく、例えば、熱、光等で反応する基を有した低分子ディスコティック液晶が、捜査の過程で熱、光等の反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【００２９】
棒状液晶性化合物としては、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００４３］〜［００６０］に記載の化合物を用いることができる。
【００３０】
本発明の他の態様として、前記光学異方性層にディスコティック液晶を使用した態様がある。前記光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層または重合性の液晶性ディスコティック（円盤状）化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層であるのが好ましい。ディスコティック化合物としては、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００６１］〜［００７５］に記載の化合物を用いることができる。
【００３１】
光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
【００３２】
（水平配向剤）
液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させるために、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００８４］〜［００９３］の記載を参考に、水平配向剤を添加してもよい。
【００３３】
液晶性化合物を含む組成物からなる光学異方性層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物を含む組成物からなる層と棒状性液晶性化合物を含む組成物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。
【００３４】
光学異方性層は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する配向層の上に塗布する方法などで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００３５】
（液晶性化合物の配向状態の固定化）
配向させた液晶性化合物は、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００８０］〜［００８１］に記載の方法で、配向状態を維持して固定することが好ましい。
【００３６】
（偏光照射による光配向）
前記光学異方性層は、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００８２］〜［００８３］に記載されているように、偏光照射による光配向で面内のレタデーションが発現あるいは増加した層であってもよい。
【００３７】
光軸方向が層内でパターニングされた光学異方性層は、前述のように特表２００１−５２５０８０号公報に記載の方法などで得ることができる。
【００３８】
液晶化合物の層内配向方向が実質的に一定である複屈折パターンを施した光学異方性層について説明を行う。これは、層内の液晶性化合物の配向方向は同じでレタデーション値を制御したパターニングの事例である。さらに前述の液晶化合物の層内配向方向制御と組み合わせることにより、配向方向とレタデーションを任意にパターニングされた光学異方性層を作製することもできる。
パターン形成前の該光学異方性層中の高分子は未反応の反応性基を有することが好ましい。露光により未反応の反応性基が反応して高分子鎖の架橋が起こるが、露光条件の異なる露光によって高分子鎖の架橋の程度が異なり、その結果としてレタデーション値が変化して複屈折パターンが形成しやすくなる。
【００３９】
（ラジカル性の反応性基とカチオン性の反応性基を有する液晶化合物の配向状態の固定化）
前述したように、液晶性化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む光学異方性層を作製することが可能である。このような液晶性化合物として、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基を有する液晶性化合物（具体例としては例えば、前述のＩ−２２〜Ｉ−２５）を用いた場合に特に適した重合固定化の条件について以下に説明する。
【００４０】
まず、重合開始剤としては重合させようと意図する反応性基に対して作用する光重合開始剤のみを用いることが好ましい。すなわち、ラジカル性の反応基を選択的に重合させる場合にはラジカル光重合開始剤のみを、カチオン性の反応基を選択的に重合させる場合にはカチオン光重合開始剤のみを用いることが好ましい。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜８質量％であることがより好ましく、０．５〜４質量％であることが特に好ましい。
【００４１】
次に、重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。この際、照射エネルギーおよび／または照度が強すぎるとラジカル性反応性基とカチオン性反応性基の両方が非選択的に反応してしまう恐れがある。したがって、照射エネルギーは、５ｍＪ／ｃｍ2〜５００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１０〜４００ｍＪ／ｃｍ2であることがより好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜２００ｍＪ／ｃｍ2であることが特に好ましい。また照度は５〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、１０〜３００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、２０〜１００ｍＷ／ｃｍ2であることが特に好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００４２】
また光重合反応のうち、ラジカル光重合開始剤を用いた反応は酸素によって阻害され、カチオン光重合開始剤を用いた反応は酸素によって阻害されない。従って、液晶性化合物としてラジカル性の反応基とカチオン性の反応基を有する液晶化合物を用いてその反応性基の片方種類を選択的に重合させる場合、ラジカル性の反応基を選択的に重合させる場合には窒素などの不活性ガス雰囲気下で光照射を行うことが好ましく、カチオン性の反応基を選択的に重合させる場合には敢えて酸素を有する雰囲気下（例えば大気下）で光照射を行うことが好ましい。
【００４３】
［複屈折パターン部材の作製］
本発明の複屈折パターン作製材料を用いて、パターン状の熱処理または電離放射線照射を行う工程、及び光学異方性層中の残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程を行う事によって、複屈折パターン部材を作製することができる。特に光学異方性層がレタデーション消失温度を有し、かつ該レタデーション消失温度が電離放射線照射（あるいはレタデーション消失温度以下の熱処理）によって上昇する場合、容易に複屈折パターン部材を作製することができる。
以下に、電離放射線照射や熱処理による複屈折パターン作製工程を例示する。
【００４４】
パターン状の電離放射線照射としては、例えば、露光（パターン露光）が挙げられる。パターン露光によって光学異方性層中の未反応の反応性基を反応させて露光部のレタデーション消失温度を上昇させ、その後に未露光部のレタデーション消失温度より高く露光部のレタデーション消失温度より低い温度において光学異方性層中の残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程を行う事により、未露光部のレタデーションのみを選択的に消失させて複屈折パターンを形成する事ができる。光学異方性層中の残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程としては全面露光でもよいし、反応性基が熱によっても反応できるのなら全面熱処理（ベーク）でもよい。省コスト化の為には、未露光部のレタデーション消失温度より高く露光部のレタデーション消失温度より低い温度への加熱がそのまま反応の為の熱処理も兼ねられることが好ましい。
一方で、逆に、先に一部領域の加熱（パターン状の熱処理）をレタデーション消失温度近くの温度で行ってレタデーションを低下ないしは消失させ、その後にレタデーション消失温度より低い温度で光学異方性層中の残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程（全面露光ないしは全面加熱）を行って複屈折パターンを得る手法もある。この場合には先に加熱された部分のみがレタデーションを失ったパターンを得る事が可能である。
パターン露光およびパターン状熱処理の詳細については後述する。
【００４５】
本発明における「反応条件」とは、以下に述べる「パターン露光」または「パターン状熱処理」の条件をいう。
先に、パターン状の露光とレタデーション消失温度以上での全面熱処理ないしは全面露光による複屈折パターン作製について詳細を述べる。
【００４６】
［パターン露光］
複屈折パターンを作製するためのパターン露光は、複屈折パターン作製材料につき、複屈折性を残したい領域を露光するように、露光部と未露光部のみを形成するように行ってもよく、露光条件の異なる露光をパターン状に行ってもよい。
パターン露光の手法としてはマスクを用いたコンタクト露光、プロキシ露光、投影露光などでもよいし、レーザーや電子線などを用いてマスクなしに決められた位置にフォーカスして直接描画してもよい。前記露光の光源の照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。感光性樹脂層により同時に段差を形成する場合には樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射することも好ましい。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、青色レーザー等が挙げられる。好ましい露光量としては通常３〜２０００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、より好ましくは５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度、さらに好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度、最も好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００４７】
露光条件としては、特に限定はされないが、露光ピーク波長、露光照度、露光時間、露光量、露光時の温度、露光時の雰囲気等が挙げられる。この中で、条件調整の容易性の観点から、露光ピーク波長、露光照度、露光時間、および露光量が好ましく、露光照度、露光時間および露光量がさらに好ましい。
露光条件の異なる露光は複数回の露光によって行われてもよく、もしくは、例えば領域によって異なる透過スペクトルを示す２つ以上の領域を有するマスク等を用いて１回の露光によって行われていてもよく、又は両者が組み合わされていてもよい。露光条件の異なる露光をパターン状に行うとはすなわち、異なる露光条件で露光された２つ以上の露光領域を生ずるような形で露光が行われていることを意味とする。
パターン露光時に相異なる露光条件で露光された領域はその後、焼成を経て相異なる、かつ露光条件によって制御された複屈折性を示す。特に異なるレタデーション値を与える。すなわち、パターン露光の際に領域ごとに露光条件を調整することにより、焼成を経た後に領域ごとに異なる、かつ所望のレタデーションを有する複屈折パターンを作製することが可能である。なお、異なる露光条件で露光された２つ以上の露光領域間の露光条件は不連続に変化させてもよいし、連続的に変化させてもよい。
【００４８】
（マスク露光）
露光条件の異なる露光領域を生じる手段として、露光マスクを用いた露光は有用である。例えば１つの領域のみを露光するような露光マスクを用いて露光を行った後に、温度、雰囲気、露光照度、露光時間、露光波長を変えて別のマスクを用いた露光や全面露光を行うことで、先に露光された領域と後に露光された領域の露光条件は容易に変更することができる。また、露光照度、あるいは露光波長を変えるためのマスクとして領域によって異なる透過スペクトルを示す２つ以上の領域を有するマスクは特に有用である。この場合、ただ一度の露光を行うだけで複数の領域に対して異なる露光照度、あるいは露光波長での露光を行うことができる。異なる露光照度の元で同一時間の露光を行う事で異なる露光量を与えることができることは言うまでもない。
またレーザーなどを用いた走査露光を用いる場合には、露光領域によって光源強度を変える、走査速度を変えるなどの手法で領域ごとに露光条件を変えることが可能である。
【００４９】
また、複屈折パターン作製材料にパターン露光を行って得られた積層体の上に新たな複屈折パターン作製用転写材料を転写し、その後に新たにパターン露光を行う手法を併用してもよい。この場合、一度目及び二度目ともに未露光部である領域（通常レタデーション値が一番低い）、一度目に露光部であり二度目に未露光部である領域、及び、一度目及び二度目ともに露光部である領域（通常レタデーション値が一番高い）でベーク後に残るレタデーションの値を効果的に変えることができる。なお、一度目に未露光部であり二度目に露光部である領域は、二度目の露光により一度目及び二度目ともに露光部である領域と同様となると考えられる。同様にして転写とパターン露光を交互に三度、四度と行うことにより、四つ以上の領域を作ることも容易にできる。この手法は、異なる領域の間で、露光条件だけでは与え得ないような差異（光学軸の方向の違いや非常に大きなレタデーションの差異など）を持たせたい時に有用である。
【００５０】
［レタデーション消失温度以上での全面熱処理（ベーク）ないしは全面露光による反応処理］
パターン露光された複屈折パターン作製材料に対して露光部のレタデーションを残しつつ未露光部のレタデーションを低下させ、さらにその状態で残りの未反応の反応性基を反応もしくは失活させて安定な複屈折パターンを得るために、未露光部のレタデーション消失温度以上での全面熱処理ないしは全面露光を行うことが好ましい。
処理を全面熱処理で行う場合、温度条件は材料によって変わるが未露光部のレタデーション消失温度以上で露光部のレタデーション消失温度以下が好ましい。またその上で未反応の反応性基の反応もしくは失活が効率よく進む温度であることが好ましい。具体的には特に限定されないが５０℃〜４００℃程度の熱処理が好ましく、１００〜２６０℃程度の熱処理がより好ましく、１５０〜２５０℃がさらに好ましく、１８０〜２３０℃が特に好ましいが、必要とされる複屈折性（レタデーション）や用いる光学異方性層の熱硬化反応性によって適した温度は異なる。また熱処理には材料中の不要な成分を気化あるいは燃焼させて除く効果も期待できる。熱処理の時間は特に限定されないが、１分以上５時間以内が好ましく、３分以上３時間以内がより好ましく、５分以上２時間以内が特に好ましい。
露光部のレタデーション消失温度以下の温度では未反応の反応性基の反応性が十分でなく反応処理が十分に進まない場合などには、未露光部のレタデーション消失温度以上の温度を保ちつつ全面露光を行うことも有用である。この際の好ましい光源は前記パターン露光において上げたものと同一であり、好ましい露光量としては通常３〜２０００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、より好ましくは５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度、さらに好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度、最も好ましくは１０〜３００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００５１】
次に、パターン状熱処理によるパターン状レタデーション低下とレタデーション消失温度以下での全面熱処理ないしは全面露光による複屈折パターン作製について詳細を述べる。
【００５２】
［パターン状熱処理（熱パターン書き込み）］
パターン状熱処理の際の加熱温度は、加熱部と非加熱部のレタデーションに差異を生じさせる温度であればよく、特に限定されない。特に加熱部のレタデーションを実質的に０ｎｍとしたい場合には、用いられる複屈折パターン作製材料の光学異方性層のレタデーション消失温度以上の温度で加熱することが好ましい。また一方で、加熱温度は光学異方性層の燃焼や着色の生じる温度未満であることが好ましい。一般的には１２０℃〜２６０℃程度の加熱を行えばよく、１５０℃〜２５０℃がより好ましく、１８０℃〜２３０℃がさらに好ましい。
【００５３】
複屈折パターン作製材料の一部を加熱する方法は特に限定されないが、加熱体を複屈折パターン作製材料に接触させて行う方法、加熱体を複屈折パターン作製材料のごく近傍に位置させて行う方法、ヒートモード露光を用いて複屈折パターン作製材料を部分加熱する方法などが挙げられる。
【００５４】
［レタデーション消失温度以下での全面熱処理（ベーク）ないしは全面露光による反応処理］
前記パターン状熱処理が行われた光学異方性層において熱処理が行われなかった領域は、レタデーションを有しつつも未反応の反応性基を残しており、未だ不安定な状態である。未処理領域に残存する未反応の反応性基を反応もしくは失活させるために、全面熱処理ないしは全面露光による反応処理を行うことが好ましい。
【００５５】
全面熱処理による反応処理は、用いられる複屈折パターン作製材料の光学異方性層のレタデーション消失温度より低い温度で、かつ未反応の反応性基の反応もしくは失活が効率よく進む温度であることが好ましい。
パターン露光された複屈折パターン作製材料に対して５０℃以上４００℃以下、好ましくは８０℃以上４００℃以下に加熱を行うことにより複屈折パターンを作製することができる。複屈折パターン作製に用いる複屈折パターン作製材料の有する光学異方性層の露光前のレタデーション消失温度をＴ１［℃］、露光後のレタデーション消失温度をＴ２［℃］とした場合（レタデーション消失温度が２５０℃以下の温度域にない場合はＴ２＝２５０とする）、ベーク時の温度はＴ１℃以上Ｔ２℃以下が好ましく、（Ｔ１＋１０）℃以上（Ｔ２−５）℃以下がより好ましく、（Ｔ１＋２０）℃以上（Ｔ２−１０）℃以下が最も好ましい。
一般的に１２０〜１８０℃程度の加熱を行えばよく、１３０〜１７０℃がより好ましく、１４０〜１６０℃がさらに好ましいが、必要とされる複屈折性（レタデーション）や用いる光学異方性層の熱硬化反応性によって適した温度は異なる。熱処理の時間は特に限定されないが、１分以上５時間以内が好ましく、３分以上３時間以内がより好ましく、５分以上２時間以内が特に好ましい。
【００５６】
ベークによって複屈折パターン作製材料中の未露光部のレタデーションが低下し、一方で先のパターン露光でレタデーション消失温度が上昇した露光部はレタデーションの低下が小さく、もしくは全く低下しないかあるいは上昇し、結果として未露光部のレタデーションが露光部のレタデーションに比較して小さくなり複屈折パターン（パターン化光学異方性層）が作製される。
光学上の効果を発揮するため、ベーク後の露光部のレタデーションは５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが最も好ましい。５ｎｍ以下では作製された複屈折パターンの目視による識別が困難となる。
【００５７】
また、光学上の効果を発揮するため、複屈折パターン作製材料中の未露光部のベーク後のレタデーションはベーク前の８０％以下となることが好ましく、ベーク前の６０％以下となることがより好ましく、ベーク前の２０％以下となることがさらに好ましく、５ｎｍ未満となることが最も好ましい。特にベーク後のレタデーションが５ｎｍ未満となった場合、そこは目視の上ではあたかも複屈折性が全く無かったかのような印象を与える。すなわち、クロスニコル下では黒が、パラニコル下あるいは偏光板＋反射板の上では無色が表現できる。このようにベーク後の未露光部のレタデーションが５ｎｍ未満となる複屈折パターン作製材料は、複屈折パターンでカラー画像を表現する際、あるいは複数層の異なるパターンを積層して使用する際に有用である。
【００５８】
全面熱処理の代わりに、全面露光によっても反応処理を行うことができる。この際の光源の照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。感光性樹脂層により同時に段差を形成する場合には樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射することも好ましい。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、青色レーザー等が挙げられる。好ましい露光量としては通常３〜２０００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、より好ましくは５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度、さらに好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度、最も好ましくは１０〜３００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００５９】
また、ベークもしくは全面露光を行った複屈折パターン作製材料の上に新たな複屈折パターン作製用転写材料を転写し、その後に新たにパターン露光とベーク（または全面露光）を行ってもよい。この場合、一度目及び二度目ともに未露光部である領域、一度目に露光部であり二度目に未露光部である領域、一度目に未露光部であり二度目に露光部である領域（１度目の未露光部のレタデーションはベークによりすでに消失）、一度目及び二度目ともに露光部である領域で、二度目のベーク後に残るレタデーションの値を効果的に変えることができる。この手法は、例えば互いに遅相軸の方向が異なる複屈折性を持つ二つの領域を互いに重ならない形で作りたい時に有用である。
【００６０】
［仕上げ熱処理］
前節までの工程で作製された複屈折パターンの安定性をさらに高めたい場合、固定化された後にまだ残存している未反応の反応性基をさらに反応させて耐久性を増したり、材料中の不要な成分を気化あるいは燃焼させて除いたりする目的の為に仕上げ熱処理を行ってもよい。特にパターン露光と加熱全面露光、あるいはパターン状熱処理と全面露光で複屈折パターンを作製した場合には効果的である。仕上げ熱処理の温度としては１８０〜３００℃程度の加熱を行えばよく、１９０〜２６０℃がより好ましく、２００〜２４０℃がさらに好ましい。熱処理の時間は特に限定されないが、１分以上５時間以内が好ましく、３分以上３時間以内がより好ましく、５分以上２時間以内が特に好ましい。
【００６１】
（延伸によって作製される光学異方性層）
光学異方性層は高分子の延伸によって作製されたものでもよい。光学異方性層は少なくとも１つの未反応の反応性基を持つ事が好ましいが、このような高分子を作製する際にはあらかじめ反応性基を有する高分子を延伸してもよいし、延伸後の光学異方性層にカップリング剤などを用いて反応性基を導入してもよい。延伸法によって得られる光学異方性層の特長としては、コストが安いこと、及び自己支持性を持つ（光学異方性層の形成及び維持に支持体を要しない）ことなどが挙げられる。
【００６２】
（光学異方性層の後処理）
作製された光学異方性層を改質するために、様々な後処理を行ってもよい。後処理としては例えば、密着性向上の為のコロナ処理や、柔軟性向上の為の可塑剤添加、保存性向上の為の熱重合禁止剤添加、反応性向上の為のカップリング処理などが挙げられる。また、光学異方性層中の高分子が未反応の反応性基を有する場合、該反応性基に対応する重合開始剤を添加することも有効な改質手段である。例えば、カチオン性の反応性基とラジカル性の反応性基を有する液晶性化合物を、カチオン光重合開始剤を用いて重合固定化した光学異方性層に対してラジカル光重合開始剤を添加することで、後にパターン露光を行う際の未反応のラジカル性の反応性基の反応を促進することができる。可塑剤や光重合開始剤の添加手段としては、例えば、光学異方性層を該当する添加剤の溶液に浸漬する手段や、光学異方性層の上に該当する添加剤の溶液を塗布して浸透させる手段などが挙げられる。また、光学異方性層の上に他の層を塗布する際にその層の塗布液に添加剤を添加しておき、光学異方性層に浸漬させる方法もあげられる。本発明においては、この際に浸漬させる添加剤、特には光重合開始剤の種類や量により、後に述べる複屈折パターン作製材料へのパターン露光時の各領域への露光量と最終的に得られる各領域のレタデーションとの関係を調整し、所望する材料特性に近づけることが可能である。
【００６３】
（光学異方性層以外の複屈折パターン部材の構成材料）
複屈折パターン部材を得るための光学異方性層を含む構造体（以降、「複屈折パターン作製材料」という。）は複屈折パターンを作製する為の材料であり、所定の工程を経る事で複屈折パターン部材を得る事ができる材料である。複屈折パターン作製材料は製造適性などの観点から、通常、フィルム、またはシート形状であるとよい。複屈折パターン作製材料は前述の光学異方性層のほかに、様々な副次的機能を付与することが可能である機能性層を有していてもよい。機能性層としては、支持体、配向層、後粘着層などが挙げられる。あるいは、複屈折パターン部材は、転写箔の形態であってもよい。
被認証体を構成する光学異方性層以外の層は潜像の形成に影響を与えないレタデーションを有するように構成されるか、それらの層が有するレタデーションを考慮して潜像形成のための光学異方性層のレタデーション値を設定することができる。
【００６４】
［支持体］
複屈折パターン部材は透明支持体又は反射支持体を有していることが好ましい。支持体には特に限定はないが、反射光を用いて潜像を顕在化させる場合には後述する反射層を有する支持体または、反射機能を有する支持体を用いればよく、透過光を用いて潜像を顕在化させる場合には、潜像に影響を与えない光学特性を有する透明支持体を用いればよい。この場合、基材のレタデーションは２００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。
支持体の例としてはセルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーなどのプラスチックフィルムなどが挙げられる。支持体の膜厚としては、ロールツーロールなどの連続製造に用いる場合などでは３〜５００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましいが、製造形態によって適宜選択できる。
【００６５】
複屈折パターン部材は偏光板を用いない目視でも視認可能なパターンが描かれていてもよい。
また、光学異方性層を支持体中に埋め込むように作成してもよい。本発明の光学異方性は各種耐性が高いので、たとえば流延装置のエンドレスベルトまたはドラム上に光学異方性層を転写し、その上に溶融状態の支持体用素材を流延して通常のポリマーフィルムのように、賦形、圧延、延伸などの所望の工程を経てフィルム上に成形することもできる。また、２枚の支持体を用いその間に光学異方性層をはさんで被認証体を形成しても良い。
被認証体としては、光学異方性層の特性劣化を起こさない温度以下に溶融温度を有する樹脂を用いることができる。
また、延伸処理を行うと引き裂き性が出て開封性を向上させることができるなどの各種機械特性の付与が期待できるので、製品形態を考慮して既知の各種工程を製造工程に加えることができる。
【００６６】
［配向層］
上記したように、光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に支持体もしくは仮支持体上又は支持体もしくは仮支持体上に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよく、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［００９４］〜［００９９］の記載を参考にして形成することができる。
【００６７】
[反射層]
本発明における被認証体において反射層又は反射機能を有する支持体を用いることができる。反射機能を有する支持体とは、アルミ箔など、支持体としたときに該支持体そのものに反射機能があるものをいう。反射層又は前記支持体のパターニング光学異方性層側から偏光板を介して観察することによって、複屈折パターンによる潜像を可視化することができる。
反射層としては特に限定されないが、例えばアルミや銀などの金属層が挙げられる。このような金属層を支持体や複屈折パターニング作成材料に蒸着してもよいし、金属箔を箔押ししてもよい。このように金属層を設けた被認証体は帯電防止性能やガスバリア性が向上するので、精密機器の包装材などの被認証体に好ましく用いることができる。金属層以外にはゴールドやシルバー等のインキで印刷した支持体を用いることもできる。完全鏡面である必要はなく、表面にマット加工が施されていてもよい。
また、透明な被認証体で光沢面を有する物品（箱や商品など）を包装して、反射層を設けたのと同じ効果を得ることもできる。
【００６８】
［後粘着層］
複屈折パターン作製材料は、複屈折パターン部材をさらに他の物品に貼付するための後粘着層を有していてもよい。
【００６９】
［２層以上の光学異方性層］
複屈折パターン作製材料は、光学異方性層を２層以上有してもよい。２層以上の光学異方性層は法線方向に互いに隣接していてもよいし、間に別の機能性層を挟んでいてもよい。２層以上の光学異方性層は互いにほぼ同等のレタデーションを有していてもよく、異なるレタデーションを有していてもよい。また遅相軸の方向が互いにほぼ同じ方向を向いていてもよく、異なる向きを向いていてもよい。
【００７０】
遅相軸が同じ向きを向くように積層した２層以上の光学異方性層を有する複屈折パターン作製材料を用いる例として、大きなレタデーションを有するパターンを作製する場合が挙げられる。手持ちの光学異方性層では一層では必要とするレタデーションに足りない場合でも、二層三層と積層してからパターン露光することで大きなレタデーションや複雑なレタデーションの階調を有する領域を含むパターン化光学異方性層を容易に得ることができる。
また、遅相軸が異なる向きを向くように積層した２層以上の光学異方性層を有する複屈折パターン作製材料を用いる例として、遅相軸の向きごとに異なる潜像を配置することができる。
【００７１】
（複屈折パターン作製材料の作製方法）
複屈折パターン作製材料を作製する方法としては特に限定されないが、例えば、支持体上に光学異方性層を直接形成する、複屈折パターン作製材料を転写材料として作成後に別の支持体上に転写する、自己支持性の光学異方性層として形成する、自己支持性の光学異方性層上に他の機能性層を形成する、自己支持性の光学異方性層に支持体に貼合する、などの方法が挙げられる。このうち光学異方性層の物性に制約を加えないという点からは支持体上に光学異方性層を直接形成する方法と転写材料を用いて支持体上に光学異方性層を転写する方法が好ましく、さらに支持体に対する制約が少ない点から転写材料を用いて支持体上に光学異方性層を転写する方法がより好ましく用いることができる。
【００７２】
光学異方性層を２層以上含む複屈折パターン作製材料を作製する方法としては、複屈折パターン作製材料上に光学異方性層を直接形成する、別の複屈折パターン作製材料を転写材料として用いて複屈折パターン作製材料上に光学異方性層を転写するなどの方法が挙げられる。
【００７３】
以下に、転写材料として用いられる複屈折パターン作製材料について説明する。なお、転写材料として用いられる複屈折パターン作製材料は、後述の実施例などにおいて「複屈折パターン作製用転写材料」という場合がある。
【００７４】
［仮支持体］
転写材料として用いられる複屈折パターン作製材料は仮支持体上に形成されることが好ましい。仮支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。仮支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（商品名、ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（いずれも商品名、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
【００７５】
［転写用接着層］
転写材料は転写接着層を有しても良い。転写接着層としては、透明で着色がなく、十分な転写性を有していれば特に制限はなく、粘着剤による粘着層、感圧性樹脂層、感熱性樹脂層、感光性樹脂層などが挙げられる。例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の段落［０１００］〜［０１１９］に記載の粘着剤、感圧性樹脂層、感光性樹脂層を用いることができる。
ただし、潜像を顕在化させる場合に、偏光が転写用接着層を経由する場合には、転写用接着層の光学特性として、支持体の項で述べたように潜像に影響を与えない、即ち等方性か、潜像の顕在化に影響を与えないレタデーション値を有することが好ましい。
【００７６】
（力学特性制御層）
転写材料の、仮支持体と光学異方性層の間には、力学特性や凹凸追従性をコントロールするために力学特性制御層を形成することが好ましい。力学特性制御層としては、例えば、特開２００８−２８１９８９号公報の［０１２０］に記載のものを用いることができる。
【００７７】
［中間層］
転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、および塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜や、前記光学異方性形成用の配向層を用いることが好ましい。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールもしくはポリビニルピロリドンとそれらの変性物の一つもしくは複数を混合してなる層である。前記熱可塑性樹脂層や前記酸素遮断膜、前記配向層を兼用することもできる。
【００７８】
［剥離層］
転写材料として用いられる複屈折パターン作製材料は仮支持体の上に剥離層を有してもよい。剥離層は仮支持体と剥離層間の、あるいは剥離層とその直上層の間の密着力を制御し、光学異方性層を転写した後の仮支持体の剥離を助ける役目を負う。また前述の他の機能層、例えば配向層、力学特性制御層、中間層などが剥離層としての機能を有してもよい。
【００７９】
［表面保護層］
複屈折パターン部材の表面には、汚染や損傷から保護する為に防汚性やハードコート性を有する表面保護層を設けることが好ましい。表面保護層の性質は特に限定されず既知の素材を用いることができ、前述の（仮）支持体や他の機能性層と同じか又は類似の材料からなってもよい。
表面保護層の材料としては例えば、ポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素樹脂からなる防汚層や多官能アクリレートを含んでなるアクリル樹脂で形成されるハードコート層などが挙げられる。なお、ハードコート層上に防汚層を配置したり、光学異方性層やその他の機能性層上に保護層を配置しても良い。
【００８０】
［その他の機能性層］
上記の機能性層以外にも例えば、複屈折パターン部材を剥離して再利用する行為を不可能とするため、破壊もしくは光学特性を変化させる機能層や、非可視光で顕在化する潜像技術など他のセキュリティ技術を組み合わせるための潜像層などの多様な機能性層と組み合わせることができる。被認証体を構成するその他の層は潜像の形成に影響を与えないレタデーション有するように構成されるか、前述のようにそれらの層のレタデーションを考慮して、あるいは光学異方性層の潜像形成ためのレタデーション値を考慮して設定することができる。
【００８１】
光学異方性層、感光性樹脂層、転写接着層および所望により形成される配向層、熱可塑性樹脂層、力学特性制御層および中間層等の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリットコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
また、光学異方性層上に塗布する層（例えば転写接着層）の塗布の際には、その塗布液に可塑剤や光重合開始剤を添加することにより、それらの添加剤の浸漬による光学異方性層の改質を同時に行ってもよい。
【００８２】
（転写材料を被転写材料上に転写する方法）
転写材料を支持体等の被転写材料上に転写する方法については特に制限されず、被転写材料上に上記光学異方性層を転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した転写材料を、転写接着層面を被転写材料表面側にして、ラミネータを用いて加熱および／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。例えば、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
被転写材料としては、支持体、支持体及び他の機能性層を含む積層体、又は複屈折パターン作製材料が挙げられる。
【００８３】
（転写に伴う工程）
複屈折パターン作製用転写材料を被転写材料上に転写した後、仮支持体は剥離してもよく、しなくともよい。ただし剥離しない場合には仮支持体がその後のパターン露光に適した透明性やベークに耐え得る耐熱性などを有していることが好ましい。また、光学異方性層と一緒に転写される不要の層を除去する工程があってもよい。例えば配向層としてポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの共重合体を用いた場合には、弱アルカリ性の水系現像液での現像により配向層より上の層の除去が可能である。現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【００８４】
また転写後、必要に応じて仮支持体の剥離や不要層の除去を行った後の表面に他の層を形成してもよい。あるいは必要に応じて仮支持体の剥離や不要層の除去を行った後の表面に転写材料を転写してもよい。この際に用いる転写材料は先に転写した転写材料と同じでもよく、異なってもよい。また、先に転写した転写材料の光学異方性層の遅相軸と新たに転写する転写材料の光学異方性層と遅相軸は互いに同じ向きでもよく、異なる向きでもよい。前述のように、複数層の光学異方性層を転写する事は遅相軸の向きを揃えた複数層の光学異方性層を積層した大きなレタデーションを持つ複屈折パターンや遅相軸の向きの異なる複数層を積層した特殊な複屈折パターンの作製などに有用である。
【００８５】
［転写のタイミング］
複屈折パターンの作製において転写を行う場合、そのタイミングは任意である。すなわち、例えば、少なくとも以下の工程：
・液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥させる工程；
・熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程；
・再度熱処理または電離放射線照射を行い前記相異なる反応性基のうち前記工程で反応させたものと異なる反応性基も含めて反応させる工程；及び
・光学異方性層中に残存する未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程（例えば５０℃以上４００℃以下のベーク）
をこの順に含む複屈折パターンの作製において転写を行う場合、転写は液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥させる工程の直後に行ってもよいし、熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程の後に行ってもよいし、残存する未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程の直前もしくは直後に行ってもよい。
【００８６】
この場合、タイミングによっては使用する材料に制約がかかることもある。例えば、塗布乾燥の直後に転写を行う場合には未反応の状態で転写に耐えるような液晶性化合物でなければならない。また他に例えば、残存する未反応の反応性基を反応もしくは失活させる工程としてベークを用いてかつその後に転写を行う場合には、転写までの仮支持体として用いている材料がベークに耐える材料でなければならない。広範な材料の使用を可能にする観点からは、転写は熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程より後であることが好ましい。
【００８７】
［パターン形成のタイミング］
複屈折パターンの作製においてパターン状の熱処理または電離放射線照射を行うタイミングは、熱処理または電離放射線照射を行う工程のいずれであってもよい。すなわち、例えば、少なくとも以下の工程：
・液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥させる工程；
・熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程；及び
・再度熱処理または電離放射線照射を行い前記相異なる反応性基のうち前記工程で反応させたものと異なる反応性基も含めて反応させる工程
をこの順に含む複屈折パターンの作製において、熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程がパターン状に行われてもよいし、再度熱処理または電離放射線照射を行い前記相異なる反応性基のうち前記工程で反応させたものと異なる反応性基も含めて反応させる工程がパターン状に行われてもよいし、その両方の工程がパターン状に行われてもよい。
【００８８】
一方で複屈折パターンの作製において転写を行う場合、パターン状の熱処理または電離放射線照射を行うタイミングによっては使用する材料に制約がかかることもある。例えば、熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程をパターン状に行いかつその直後に転写を行う場合には未反応の領域が存在する状態で転写に耐えるような液晶性化合物で無ければならない。広範な材料の使用を可能にする観点からは、複屈折パターンの作製において途中に転写を伴う場合、転写を行うより前に一度はパターン状でない熱処理または電離放射線照射が行われている事が好ましい。
【００８９】
さらに一方で、転写をした上で転写後の基材の形状や下地に合わせてパターン形成を行いたい場合には、先に熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程を非パターン状に（全面に）行った後に転写を行い、その後に再度熱処理または電離放射線照射を行い前記相異なる反応性基のうち前記工程で反応させたものと異なる反応性基も含めて反応させる工程をパターン状に行うことが好ましい。以下はそのような場合を例に説明する。
【００９０】
［複屈折パターン部材を用いた物品］
複屈折パターン作製材料に上述のように露光及びベークを行って得られる本発明における被認証体は通常はほぼ無色透明である一方で、二枚の偏光板で挟まれた場合、あるいは反射層と偏光板とで挟まれた場合においては特徴的な明暗、あるいは調整されたレタデーションから干渉によって得られる所望の色を示し容易に目視で認識できる。この性質を生かして、上記の製造方法により得られる被認証体は、例えば偽造防止手段として利用することができる。すなわち、本発明における被認証体、特に反射層を含む被認証体は通常は目視ではほぼ不可視な一方で、偏光板を介することで容易に多色の画像が識別可能となる。複屈折パターンは偏光板を介さずにコピーしても何も映らず、逆に偏光板を介してコピーすると永続的な、つまりは偏光板無しでも目視可能なパターンとして残る。従って複屈折パターンの複製は困難である。このような複屈折パターンの作製法は広まっておらず、材料も特殊であることから、偽造防止手段として用いるに適していると考えられる。
また、偽造防止手段以外に緻密及びまたは多色を示すことができる潜像を利用した情報や画像の表示媒体などの活用が考えられる。
【００９１】
本発明のビューワを用いる複屈折パターンの認証方法の具体的態様を以下に説明する。
本発明のビューワは、複屈折パターンの上に概ね平行になるように配置させる。このとき、重ねてもよいし、パターンの視認性を損なわない範囲で、間隔をあけてもよい。この状態で、概ね法線方向から、複屈折パターンを視認する。
【００９２】
本発明の別の好ましい実施態様は、異なるビューワを複数有する複屈折パターン認証用キットであって、前記複数のビューワの少なくとも１枚が上記の本発明のビューワである複屈折パターン認証用キットである。例えば、厚紙に左右の窓を設け、その窓の少なくとも一方に上記の本発明のビューワを貼り付けることにより形成することができる。この場合、本発明のビューワの光学異方性層を、認証する被認証体側にくるように形成する。また、一つのビューワを上記の本発明のビューワにより形成した場合、他のビューワは、上記の本発明のビューワで形成しても良いし、従来の偏光板をそのまま用いてもよい。複数のビューワを有するキットを用いることで、異なるカラーパターンを連続的に認証できるので、１枚のビューワにより真偽判定を行うよりも、確実に真偽判定を行うことができるようになる。
【００９３】
本発明の複屈折パターン認証用キットは、ビューワが、互いに光軸、及び／または、被認証体側の光学異方性層のレタデーションが異なることが好ましい。例えば、一方のビューワの偏光板の吸収軸の方向と、他方のビューワの偏光板の吸収軸の方向が異なるように貼り付けることで異なるビューワが互いに光軸が異なるものとすることができる。
このように、複数のビューワは、互いに光軸、及び／または、被認証体側の光学異方性層のレタデーションが異なることで、それぞれ色の異なる潜像を可視化させることができる。
複屈折パターン認証用キットの異なるビューワの数は、特に限定はないが２〜４であることが好ましい。
【００９４】
本発明の別の好ましい実施態様は、被認証体の一部に、上記のビューワを有する真正性認証媒体である。例えば、商品券などの被認証体の一部領域を上記の複屈折パターンを設け、被認証体の他の領域に上記の本発明のビューワを設けたものが挙げられる。このようなビューワ一体型複屈折パターンは、例えば、被認証体を折り曲げ、複屈折パターンとビューワを、ビューワの光学異方性層が複屈折パターン側になるように重ねることで、被認証体内の複屈折パターンに認識することができ、いつでも、どこでも、誰でも、例えば、被認証体の真正性を判定することが可能である。
【００９５】
本発明の別の実施態様は、上記のビューワ、または複屈折パターン認証用キットを用いた、真正性認証方法である。例えば、位相差フィルムを複屈折パターン側にして、ビューワまたは認証用キットを複屈折パターンにかざして観察する。このように観察することで、軸パターニングされた複屈折パターンが多色に見える。偏光板を回転させるという面倒な作業なく、真正性を認証し、確認できる。例えば、真性品には前記複屈折パターンが形成されている被認証体を、上記のビューワ、または上記のキットを介して観察し、３色以上からなる潜像を確認した場合に、該被認証体を真性品と認証することができる。
【実施例】
【００９６】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
なお、本実施例において、レタデーションはＫＯＢＲＡ ＷＲ（商品名、王子計測機器（株）製）において波長５５０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定された値である。
【００９７】
参考例１
［複屈折パターンの作製］
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────―
配向層用塗布液ＡＬ−１組成（質量％）
──────────────────────────────────―
液晶配向剤（ＡＬ−１−１） １．０
テトラヒドラフラン ９９．０
──────────────────────────────────―
【００９８】
【化１】
【００９９】
（配向層用塗布液ＡＬ−２の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−２として用いた。
──────────────────────────────────―
配向層用塗布液ＡＬ−２組成（質量％）
──────────────────────────────────―
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５（商品名）、クラレ（株）製）
３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０（商品名）、ＢＡＳＦ社製）
１．４８
蒸留水 ５２．１０
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────―
【０１００】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
──────────────────────────────────―――――
光学異方性層用塗布液ＬＣ−１組成（質量％）
──────────────────────────────────―――――
Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製） ３１．５３
ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．９９
カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）製） ０．３３
メガファックＦ−１７６ＰＦ（商品名、大日本インキ化学工業（株）製） ０．１５
メチルエチルケトン ６７．００
──────────────────────────────────―――――
【０１０１】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−２の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−２として用いた。
ＬＣ−１−１は２つの反応性基を有する液晶化合物であり、２つの反応性基の片方はラジカル性の反応性基であるアクリル基、他方はカチオン性の反応性基であるオキセタン基である。
ＬＣ−１−２は配向制御の目的で添加する円盤状の化合物である。Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法に準じて合成した。
──────────────────────────────────―――――
光学異方性層用塗布液ＬＣ−２組成（質量％）
──────────────────────────────────―――――
棒状液晶（ＬＣ−１−１） ３２．５９
水平配向剤（ＬＣ−１−２） ０．０２
カチオン系光重合開始剤
（ＣＰＩ１００−Ｐ（商品名）、サンアプロ株式会社製） ０．６６
重合制御剤
（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（商品名）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
０．０７
メチルエチルケトン ６６．６６
──────────────────────────────────―――――
【０１０２】
【化２】
【０１０３】
（保護層用塗布液ＰＬ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、保護層用塗布液ＰＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
保護層用塗布液ＰＬ−１組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メタクリル酸メチル
＝３５．９／２２．４／４１．７モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．８万） ８．０５
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（商品名、日本化薬（株）製） ４．８３
ラジカル光重合開始剤（２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
１，３，４−オキサジアゾール） ０．１２
ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．００２
メガファックＦ−１７６ＰＦ（商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
０．０５
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３４．８０
メチルエチルケトン ５０．５３８
メタノール １．６１
──────────────────────────────────――
【０１０４】
（パターン露光用フォトマスク）
図４（Ａ）〜（Ｅ）および（Ａ´）〜（Ｄ´）の平面図に示す、フォトマスク１１を本実施例に用いた。図４（Ａ）はフォトマスクＡ、図４（Ｂ）はフォトマスクＢ、図４（Ｃ）はフォトマスクＣ、図４（Ｄ）はフォトマスクＤ、図４（Ｅ）はフォトマスクＥ、図４（Ａ´）はフォトマスクＡ´、図４（Ｂ´）はフォトマスクＢ´、図４（Ｃ´）はフォトマスクＣ´、および図４（Ｄ´）はフォトマスクＤ´をそれぞれ示す。各フォトマスクは厚さ２．１ｍｍの、基材が石英ガラスからなるエマルジョンマスクで、図４（Ａ）〜（Ｄ）および（Ａ´）〜（Ｄ´）では、黒く塗られた領域の３６５ｎｍの透過率が０％、白い部分の３６５ｎｍの透過率が９２％である。
また、フォトマスクＥは、文字「Ａ」、文字「Ｂ」、文字「Ｃ」、背景の４つのエリアからなる濃度マスクである。各々の領域のλ＝３６５ｎｍの紫外光に対する透過率を表Ａに示す。
表Ａ
――――――――――――
領域 透過率
――――――――――――
文字Ａ ２０％
文字Ｂ ３３％
文字Ｃ ９２％
背景 ０％
――――――――――――
【０１０５】
（複屈折パターンＢＰ−１の作製）
厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタラートフィルム（ルミラーＬ−２５Ｔ６０（商品名）、東レ（株）製）の上にアルミニウムを６０ｎｍ蒸着した。次いで、アルミニウムの上に、ワイヤーバーを用いて配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は０．１μｍであった。
得られた有機膜の上にフォトマスクＡを配置し、紫外線照射器（ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ社製、ＥＸＥＣＵＲＥ３０００）より出射される紫外光より出射される光を、直線偏光板を介して、支持体に対して垂直の方向から１００ｍＷ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の強度で１秒間照射した。このとき、直線偏光板の吸収軸の方位角がフォトマスクの長辺に対して０°となるように偏光板を配置した。
続いて、フォトマスクをＢ、Ｃ、Ｄと順に変更し、直線偏光板の吸収軸がそれぞれフォトマスクの長辺に対して４５°、９０°、１３５°となるように偏光板を配置した上で、同様に紫外線を照射した。
次いで、ワイヤーバーを用いて、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ０．９μｍの光学異方性層を形成することで、図５の平面図に示すパターンの、ＢＰ−１を作製した。
ＢＰ−１の文字Ａ１２、文字Ｂ１３、文字Ｃ１４、背景１５の遅相軸はそれぞれ、ＢＰ−１の長辺に対して０°、４５°、９０°、１３５°であった。また、これらの領域のレタデーションはいずれも１３５ｎｍ（λ／４）であった。
【０１０６】
（複屈折パターン作製用材料ＴＲ−１の作製）
厚さ１００μｍの易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＡ４１００、東洋紡績（株）製）の仮支持体の上に、ワイヤーバーを用いて順に、配向層用塗布液ＡＬ−２を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は０．５μｍであった。次いで、配向層をＭＤ方向にラビングし、ワイヤーバーを用いて光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ３．１μｍの光学異方性層を形成して光学異方性層塗布サンプルＴＲＣ−１を作製した。この際用いた紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３２０ｎｍ〜４００ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量はＵＶ−Ａ領域において８０ｍＪ／ｃｍ２であった。光学異方性層は２０℃で固体の高分子で、耐ＭＥＫ（メチルエチルケトン）性を示した。
次いで、光学異方性層の上に保護層用塗布液ＰＬ−１を塗布、乾燥して１．２μｍの保護層を形成し、複屈折パターン作製用転写材料ＴＲ−１を作製した。
【０１０７】
（複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの作製）
フォトマスクＡ´、Ｂ´、Ｃ´、Ｄ´はいずれも同じ大きさである。ＴＲ−１を、フォトマスクと同じ大きさに４枚切り出した。このとき、それぞれ、長辺がＭＤ方向、長辺がＭＤ方向から１３５度方向、長辺がＭＤ方向から９０度方向、長辺がＭＤ方向から４５度方向となるように切り出した。長辺がＭＤ方向となるように切り出したＴＲ−１の上にフォトマスクＡ´を重ねた状態で、ミカサ社製Ｍ−３Ｌマスクアライナーを用いてピーク波長が３６５ｎｍの光を露光照度６．２５ｍＷ／ｃｍ２で１０秒間照射して、複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ａを作製した。
同様に、長辺がＭＤ方向から１３５度方向となるように切り出したＴＲ−１、長辺がＭＤ方向から９０度方向となるように切り出したＴＲ−１、長辺がＭＤ方向から４５度方向となるように切り出したＴＲ−１の上に、それぞれ、フォトマスクＢ´、Ｃ´、Ｄ´を用いて露光して、複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ｂ、Ｃ、Ｄを作製した。
【０１０８】
（複屈折パターンＢＰ−２の作製）
アルミニウムを６０ｎｍ蒸着した、厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（カプトン２００Ｈ、東レ・デュポン（株）製）を用意した。複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ａをラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、１００℃で２分間加熱した上記ポリイミドフィルムのアルミ蒸着面に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。ラミネート後、仮支持体を剥離した。この上に、同様の手法で複屈折パターン転写材料ＴＲ−Ｂ、Ｃ、Ｄをラミネートした。
その後、さらに２００℃のクリーンオーブンで３０分間のベークを行って、図５の平面図に示すのと同様のパターンの、複屈折パターンＢＰ−２を作製した。
ＢＰ−２の文字Ａ１２、文字Ｂ１３、文字Ｃ１４、背景１５の遅相軸はそれぞれ、ＢＰ−２の長辺に対して０°、４５°、９０°、１３５°であった。また、これらの領域のレタデーションはいずれも２７０ｎｍ（λ／２）であった。
【０１０９】
（複屈折パターンＢＰ−３の作製）
支持体を、サンドブラスト処理した厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタラートフィルム（ルミラーＬ−２５Ｔ６０（商品名）、東レ（株）製）にアルミニウムを６０ｎｍ蒸着したものとし、光学異方性層の膜厚を２．８μｍとする以外は、複屈折パターンＢＰ−１と同様にして、図５の平面図に示すのと同様のパターンの、複屈折パターンＢＰ−３を作製した。
ＢＰ−３の文字Ａ１２、文字Ｂ１３、文字Ｃ１４、背景１５の遅相軸はそれぞれ、ＢＰ−３の長辺に対して０°、４５°、９０°、１３５°であった。また、これらの領域のレタデーションはいずれも４２０ｎｍ（３λ／４）であった。
【０１１０】
（複屈折パターンＢＰ−４の作製）
厚さ５０μｍのポリイミドフィルム（カプトン２００Ｈ、東レ・デュポン（株）製）の上にアルミニウムを６０ｎｍ蒸着し、その上に、ワイヤーバーを用いて順に、配向層用塗布液ＡＬ−２を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は０．５μｍであった。次いで、配向層をＭＤ方向にラビングし、ワイヤーバーを用いて光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ３．５μｍの光学異方性層を形成して光学異方性層塗布サンプルＴＲＣ−２を作製した。この際用いた紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３２０ｎｍ〜４００ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量はＵＶ−Ａ領域において８０ｍＪ／ｃｍ２であった。光学異方性層は２０℃で固体の高分子で、耐ＭＥＫ（メチルエチルケトン）性を示した。
次いで、光学異方性層の上に保護層用塗布液ＰＬ−１を塗布、乾燥して１．２μｍの保護層を形成した。このフィルムに対して、ミカサ社製Ｍ−３ＬマスクアライナーとフォトマスクＥを用いて露光照度６．２５ｍＷ／ｃｍ２で８．２秒間の露光を行った。このとき、フィルムのＭＤ方向がフォトマスクの横軸に対し、４５°となるように配置した。
その後、さらに２００℃のクリーンオーブンで３０分間のベークを行い、最後に通常の印刷を行った上で、図５の平面図に示すのと同様のパターンの、複屈折パターンＢＰ−４を作製した。
ＢＰ−４の文字Ａ１２、文字Ｂ１３、文字Ｃ１４、背景１５のレタデーションはそれぞれ、１４３ｎｍ、２０２ｎｍ、２９７ｎｍ、３ｎｍであった。また、これらの領域の遅相軸はいずれも４５°方向であった。
【０１１１】
比較例１
（ビューワ１）
図６の概略断面図に示す偏光板２１（サンリッツ社製、スーパーハイコントラスト直線偏光板）をビューワ１とした。ビューワ１の位相差（レタデーション）は０である。
【０１１２】
実施例１
（ビューワ２）
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム製、フジタックＴＤ８０）の上に、ワイヤーバーを用いて配向層用塗布液ＡＬ−２を塗布、乾燥した。乾燥膜厚は０．５μｍであった。次いで、配向層をＭＤ方向にラビングし、ワイヤーバーを用いて、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ０．９μｍの光学異方性層を形成することで、位相差フィルムを作製した。
位相差フィルムの遅相軸はＭＤ方向であり、レタデーションは１３５ｎｍ（λ／４）であった。
図７の概略断面図に示すように、サンリッツ社製、スーパーハイコントラスト直線偏光板２１の上に、位相差フィルム２２を、その遅相軸を偏光板の吸収軸から反時計回りに４５度回転させるようにして、粘着剤を用いて貼り合わせ、これをビューワ２とした。
【０１１３】
実施例２
（ビューワ３）
図８の概略断面図に示すように、サンリッツ社製、スーパーハイコントラスト直線偏光板２１の上に、レタデーションが２７５ｎｍ（λ／２）の一軸延伸フィルム２３を、その遅相軸を偏光板の吸収軸から反時計回りに４５度回転させるようにして、粘着剤を用いて貼り合わせ、これをビューワ３とした。
【０１１４】
実施例３
（ビューワ４）
ビューワ２において、光学異方性層の膜厚を２．８μｍとする以外は、ビューワ２と同様にして、ビューワ４を作製した。このとき、位相差フィルムのレタデーションは４２０ｎｍ（３λ／４）であった。
【０１１５】
実施例４
（複屈折パターン認証用キット１）
図９の平面図に示すように、２×２ｃｍの窓３１，３２を２つ開けた縦４ｃｍ、横７．５の板紙３３（ＯＫボール（商品名）、王子製紙製、３１０ｇ／ｍ２）を用意した。左側の窓３１には、図８に示す実施例２のビューワ３を、一軸延伸フィルム２３側が下になるように、かつ、偏光板２１の吸収軸が板紙３３の長辺に対して９０°方向となるように貼り付けた。また、右側の窓３２には、ビューワ３を、一軸延伸フィルム２３側が下になるように、かつ、偏光板３１の吸収軸が、板紙３３の長辺に対して４５°方向となるように貼り付け、複屈折パターン認証用キット１を得た。
【０１１６】
実施例５
（複屈折パターン認証用キット２）
実施例４と同様に、２×２ｃｍの窓３１，３２を２つ開けた縦４ｃｍ、横７．５ｃｍの板紙３３を用意した。その内、左側の窓３１には、図８に示す実施例２のビューワ３を、一軸延伸フィルム２３側が下になるように、かつ、偏光板２１の吸収軸が板紙３３に対して９０°方向となるように貼り付けた。また、右側の窓には、図６に示す比較例１のビューワ１を、偏光板２１の吸収軸が板紙３３の長辺に対して９０°方向となるように貼り付けた。
【０１１７】
試験例１
通常の目視では、反射性の銀色のフィルムである複屈折パターンＢＰ−１を、比較例１のビューワ１を、その吸収軸が複屈折パターンＢＰ−１の長辺に対して９０°方向となるように配置して観察した。その結果文字「Ａ」と「Ｃ」が明るく、それ以外の部分は暗く見えた。ビューワ１を４５°回転させると、明暗が反転した。偏光板を回転させることによって、真偽判定が可能であるが、大量に真偽判定をする際には、効率的ではない。
【０１１８】
試験例２
通常の目視では、反射性の銀色のフィルムである複屈折パターンＢＰ−２を、比較例１のビューワ１を用いて観察した。その結果、文字「Ａ」と「Ｃ」が明るく、それ以外の部分は緑色に見えた。ビューワ１を４５°回転させると、色が反転した。偏光板を回転させることによって、真偽判定が可能であるが、大量に真偽判定をする際には、効率的ではない。
【０１１９】
試験例３
複屈折パターンＢＰ−３は、これを比較例１のビューワ１を用いて観察した。その結果、文字「Ａ」と「Ｃ」が明るく、それ以外の部分は紫色に見えた。ビューワ１を４５°回転させると、色が反転した。偏光板を回転させることによって、真偽判定が可能であるが、大量に真偽判定をする際には、効率的ではない。
【０１２０】
試験例４
複屈折パターンＢＰ−１を、実施例１のビューワ２を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−１側にして観察した。その結果、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は薄緑色、文字「Ｂ」は緑色、背景は灰色に見え、３色のパターンを視認することができた。
【０１２１】
試験例５
複屈折パターンＢＰ−１を、実施例２ビューワ３を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−１側にして観察した。その結果、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は灰色、文字「Ｂ」は紫色、背景は紺色に見え、３色のパターンをはっきりと視認することができた。
【０１２２】
試験例６
複屈折パターンＢＰ−２を、実施例２のビューワ３を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−２側にして観察した。その結果、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は薄黄緑色、文字「Ｂ」は緑色、背景は灰色に見え、３色のパターンを視認することができた。
【０１２３】
試験例７
複屈折パターンＢＰ−３を、ビューワ３を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−３側にして観察した。その結果、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は薄黄緑色、文字「Ｂ」は緑色、背景は灰色に見え、３色のパターンをはっきりと視認することができた。
【０１２４】
試験例８
複屈折パターンＢＰ−１を、実施例３のビューワ４を用いて、位相差フィルムを複屈折パターンＢＰ−１側にして観察した。その結果すると、文字「Ａ」と文字「Ｃ」は灰色、文字「Ｂ」は緑色、背景は黄緑色に見え、３色のパターンを視認することができた。
【０１２５】
試験例１〜８の結果をまとめて、表１に示す。
【０１２６】
【表１】
【０１２７】
表１中、識別性の×は「潜像が２色からなるため、識別性が低い」を意味し、○は「潜像が３色からなり識別性が高いが、その内二色は色相が近い」を意味し、◎は「潜像が３色からなり、その３色いずれも色相が異なるため識別性に非常に優れる」を意味する。
表１に示されるように、比較例１のビューワ１では、２色のパターンしか視認できず、ビューワを回転させなければ真偽判定ができないが、実施例１〜３のビューワ２〜４を用いると偏光板を回転しなくても、３色のパターンを視認でき、真偽判定が可能となる。特に、ビューワ３を用いた場合は、３色の色相が大きく異なるため、視認性が更に優れる。
【０１２８】
試験例９
実施例４の複屈折パターン認証用キット１を用いて、ＢＰ−１を観察した。左側のビューワで観察した場合には、紺色の背景に、灰色の文字「Ａ」、「Ｃ」が、紫色の「Ｂ」の文字が観察されるが、右側のビューワで観察した場合には、透明の背景に、紫色の文字「Ａ」、及び、紺色の文字「Ｃ」が観察された。
【０１２９】
試験例１０
実施例５の複屈折パターン認証用キット２を用いて、ＢＰ−１を観察した。左側のビューワで観察した場合には、紺色の背景に、灰色の文字「Ａ」、「Ｃ」が、紫色の「Ｂ」の文字が観察されるが、右側のビューワで観察した場合には、紺色の背景に、灰色の文字「Ａ」、及び「Ｃ」が観察された。
【０１３０】
試験例９および１０に示されるように、複数のビューワを有するキットを用いることで、さらに確実に真偽判定を行うことができるようになる。
【０１３１】
試験例１１
通常の目視では、印刷の施された反射性の銀色のフィルムである複屈折パターンＢＰ−４を、比較例１のビューワ１を用い、その吸収軸がＢＰ−４の長辺に対し９０°方向となるように配置して観察した。その結果、文字「Ａ」は紺色、文字「Ｂ」は黄緑色、文字「Ｃ」は黄色、背景は灰色に見えた。
【０１３２】
試験例１２
複屈折パターンＢＰ−４を、ビューワとして実施例１のビューワ２を用いた以外は、試験例１１と同様に観察した。その結果、文字「Ａ」、文字「Ｂ」、文字「Ｃ」、背景のそれぞれの領域は、黄緑色、橙色、紫色、紺色と色が変化した。
【０１３３】
試験例１３
複屈折パターンＢＰ−４を、実施例２のビューワ３を用いた以外は、試験例１１と同様に観察した。その結果、文字「Ａ」、文字「Ｂ」、文字「Ｃ」、背景のそれぞれの領域は、紫色、青緑色、黄色、緑色となった。
【０１３４】
試験例１１〜１３に示されるように、ビューワ１でもある程度の識別性を有しているが、ビューワ２〜３を用いると、更に、多彩な色表現が可能となり、より、識別性が向上した。
【０１３５】
実施例６
（ビューワ一体型複屈折パターン）
板紙４１に、図１０の平面図に示すように、印刷を行った。図中、４２で示された領域の背景は銀インキで印刷されており、金額の部分「￥１０，０００」は赤色で印刷されている。
次いで、領域４２の上に、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥した。この上に、図１１（ａ）の平面図に示すフォトマスク４４（石英ガラスエマルジョンマスクに、「ｇｅｎｕｉｎｅ」の文字を透過部としたもの）を配置し、紫外線照射器（ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ社製、ＥＸＥＣＵＲＥ３０００）より出射される紫外光より出射される光を、直線偏光板を介して、支持体に対して垂直の方向から１００ｍＷ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の強度で１秒間照射した。このとき、直線偏光板の吸収軸の方位角が板紙４１の長辺に対し４５°となるように偏光板を配置した。
続いて、フォトマスクを図１１（ｂ）に示すフォトマスク４５（石英ガラスエマルジョンマスクに、「壱万円」の文字を透過部としたもの）、図１１（ｃ）に示すフォトマスク４６（石英ガラスエマルジョンマスクに、「ｇｅｎｕｉｎｅ」および「壱万円」の文字を透過部としたもの）と順に変更し、直線偏光板の吸収軸が板紙４１の長辺に対しそれぞれ９０°、１３５°となるように偏光板を配置した上で、同様に紫外線を照射した。なお、フォトマスク４４〜４６の平面外形は、領域４２の外形とほぼ同一である。
更に、その上に、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ０．９μｍの光学異方性層を形成した。
得られたパターニンにおける、文字「ｇｅｎｕｉｎｅ」、文字「壱万円」、背景の遅相軸はそれぞれ、板紙４１の長辺に対し４５°、９０°、１３５°であった。また、これらの領域のレタデーションはいずれも１３５ｎｍであった。
その後、図１０に示す領域４３を打ち抜いた。その部分に、図８に示す実施例２のビューワ３を、一軸延伸フィルム２３が手前側に、また、偏光板の吸収軸が９０°方向となるように貼り付けた。このようにして、ビューワ一体型複屈折パターンＢＰ−５を作製した。
【０１３６】
試験例１４
図１０に示す商品券の領域４２は、通常の目視では、銀色の下地印刷の上に赤い文字で「￥１０，０００」と書かれているように見える。しかし、商品券の右下の部分をつまみ、窓の部分、すなわち、領域４３を、領域４２に重ねてみると、「￥１０，０００」の上に、紫色の文字で「ｇｅｎｕｉｎｅ」、「￥１０，０００」の下には、灰色の文字で、「壱万円」という文字が浮かび上がった、このとき、背景の部分は紺色であった。ビューワ一体型複屈折パターンＢＰ−５は、別途、ビューワを用意しなくても、商品券内にビューワが埋め込まれているため、いつでも、どこでも、誰でも、商品券の真正性を判定することが可能である。
【符号の説明】
【０１３７】
１ 偏光板
２ 光学異方性層
１１ フォトマスク
１２ 文字Ａ
１３ 文字Ｂ
１４ 文字Ｃ
１５ 背景
２１ 偏光板
２２ 位相差フィルム
２３ 一軸延伸フィルム
３１，３２ 窓
３３ 板紙
４１ 板紙
４２，４３ 領域
４４，４５，４６ フォトマスク
１０１ 支持体
１０２ 反射層
１０３ 光学異方性層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板に、少なくとも一層の光学異方性層が積層され、該光学異方性層の正面レタデーションが５ｎｍ以上であり、かつ、該光学異方性層の正面レタデーションと前記複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ／２より大きいことを特徴とするビューワ。
【請求項２】
光軸のパターニングされた複屈折パターンを識別するためのビューワであることを特徴とする請求項１に記載のビューワ。
【請求項３】
複屈折パターンの位相差が（ｎ１／２＋１／８）λ〜（ｎ１／２＋３／８）λ（ｎ１：０以上の整数）であることを特徴とする請求項２に記載のビューワ。
【請求項４】
ビューワの光学異方性層の位相差が（ｎ２／２−１／８）λ〜（ｎ２／２＋１／８）λ（ｎ２：自然数）であることを特徴とする請求項２または３に記載のビューワ。
【請求項５】
レタデーションのパターニングされた複屈折パターンを識別するためのビューワであることを特徴とする請求項１に記載のビューワ。
【請求項６】
ビューワを複数有する複屈折パターン認証用キットであって、少なくとも１つのビューワが請求項１〜５のいずれか１項に記載のビューワからなることを特徴とする複屈折パターン認証用キット。
【請求項７】
前記複数のビューワは、互いに光軸、及び／または、被認証体側の光学異方性層のレタデーションが異なることを特徴とする請求項６に記載の複屈折パターン認証用キット。
【請求項８】
被認証体の一部に、請求項１〜５のいずれか１項に記載のビューワを有することを特徴とする真正性認証媒体。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のビューワ、または請求項６または７に記載の複屈折パターン認証用キットを用いたことを特徴とする真正性認証方法。
【請求項１０】
真性品には前記複屈折パターンが形成されている被認証体を、前記ビューワ、または前記キットを介して観察し、３色以上からなる潜像を確認することにより該被認証体の真性品を認証することを特徴とする請求項９記載の真正性認証方法。
【請求項１】
複屈折性の異なる少なくとも２つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板に、少なくとも一層の光学異方性層が積層され、該光学異方性層の正面レタデーションが５ｎｍ以上であり、かつ、該光学異方性層の正面レタデーションと前記複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ／２より大きいことを特徴とするビューワ。
【請求項２】
光軸のパターニングされた複屈折パターンを識別するためのビューワであることを特徴とする請求項１に記載のビューワ。
【請求項３】
複屈折パターンの位相差が（ｎ１／２＋１／８）λ〜（ｎ１／２＋３／８）λ（ｎ１：０以上の整数）であることを特徴とする請求項２に記載のビューワ。
【請求項４】
ビューワの光学異方性層の位相差が（ｎ２／２−１／８）λ〜（ｎ２／２＋１／８）λ（ｎ２：自然数）であることを特徴とする請求項２または３に記載のビューワ。
【請求項５】
レタデーションのパターニングされた複屈折パターンを識別するためのビューワであることを特徴とする請求項１に記載のビューワ。
【請求項６】
ビューワを複数有する複屈折パターン認証用キットであって、少なくとも１つのビューワが請求項１〜５のいずれか１項に記載のビューワからなることを特徴とする複屈折パターン認証用キット。
【請求項７】
前記複数のビューワは、互いに光軸、及び／または、被認証体側の光学異方性層のレタデーションが異なることを特徴とする請求項６に記載の複屈折パターン認証用キット。
【請求項８】
被認証体の一部に、請求項１〜５のいずれか１項に記載のビューワを有することを特徴とする真正性認証媒体。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のビューワ、または請求項６または７に記載の複屈折パターン認証用キットを用いたことを特徴とする真正性認証方法。
【請求項１０】
真性品には前記複屈折パターンが形成されている被認証体を、前記ビューワ、または前記キットを介して観察し、３色以上からなる潜像を確認することにより該被認証体の真性品を認証することを特徴とする請求項９記載の真正性認証方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１０−２７６７１３（Ｐ２０１０−２７６７１３Ａ）
【公開日】平成２２年１２月９日（２０１０．１２．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１２６８２９（Ｐ２００９−１２６８２９）
【出願日】平成２１年５月２６日（２００９．５．２６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１２月９日（２０１０．１２．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月２６日（２００９．５．２６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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