透明シート付タッチパネルセンサ
【課題】意匠性の良い保護カバー付タッチパネルセンサを提供する。
【解決手段】保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、第１透明導電体４０は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっている。また、第１アンダーコート層７１および第１低屈折率層７３の光屈折率は、第１透明導電体４０および第１高屈折率層７２の光屈折率よりも小さくなっている。そして、タッチパネルセンサと保護カバー１２との間に介在された第１接着層１４は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている。
【解決手段】保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、第１透明導電体４０は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっている。また、第１アンダーコート層７１および第１低屈折率層７３の光屈折率は、第１透明導電体４０および第１高屈折率層７２の光屈折率よりも小さくなっている。そして、タッチパネルセンサと保護カバー１２との間に介在された第１接着層１４は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明シート付タッチパネルセンサに関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能になっている。タッチパネルセンサのうち表示装置の表示領域に対応する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの透明な領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成している。
【０００３】
タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別される。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。容量結合方式のタッチパネル装置においては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）する際、新たに奇生容量が発生する。この奇生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネルセンサ上における対象物の位置が検出される。容量結合方式には表面型と投影型とがあるが、マルチタッチの認識（多点認識）への対応に適していることから、投影型が注目を浴びている（例えば、特許文献１）。
【０００４】
投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、誘電体と、誘電体の両側に異なるパターンでそれぞれ形成された第１センサ電極および第２センサ電極と、を有している。典型的には、第１センサ電極および第２センサ電極は、格子状に配列された透明導電体を有し、外部導体（典型的には、指）がタッチパネルセンサに接触または接近した際に生じる、電磁的な変化または静電容量の変化に基づき、透明導電体の位置を検出するようになっている。
【０００５】
このような投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、一般に、第１透明基板に第１アンダーコート層を介して第１透明導電層が形成された第１フィルムと、第２透明基板に第２アンダーコート層を介して第２透明導電層が形成された第２フィルムとを粘着層により接合することで作製されている（例えば、特許文献２）。特許文献２において、各アンダーコート層は、低屈折率層と、低屈折率層よりも光屈折率が高い高屈折率層とを含む積層体から構成されている。
【０００６】
投影型容量結合方式のタッチパネルセンサにおいて、一般に、透明導電体の光屈折率は比較的に大きく、このため、タッチパネルセンサのうち透明導電体が配列されている領域と透明導電体が配列されていない領域との間における光の透過率および反射率の差が大きくなる場合がある。このように領域間における光の透過率および反射率の差が大きい場合、透明導電体のパターンがタッチパネルセンサの使用者から視認されることになり、意匠上の観点から好ましくない。このような課題を解決するため、例えば特許文献２においては、粘着層として用いる材料の光屈折率を適宜調整することにより、領域間における光の反射率の差が低減されたタッチパネルセンサが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平９−２９２９５０号公報
【特許文献２】特開２００８−９８１６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、昨今においては、タッチパネル装置およびタッチパネルセンサに対して、薄型化および光学特性の向上が要望されている。しかしながら、特許文献２に記載のタッチパネルセンサにおいては、二枚のフィルムセンサが貼り合わされるとともに、二枚のフィルムセンサ間に粘着層（ＯＣＡ、Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）が介在されているため、タッチパネルセンサの厚みが大きくなるだけでなく、透過光に対して光学的作用を及ぼし得る界面の数を増やしてしまう。この結果、表示装置からの映像光の透過率を低下させてしまうとともに、表示装置が表示する映像の画質を劣化させてしまう。また、粘着層を多く用いることにより製造コストも増大する。
【０００９】
本発明は、このような課題を効果的に解決し得る透明シート付タッチパネルセンサを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなる透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、を備え、基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、を有し、前記第１透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、前記第１アンダーコート層および前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっていることを特徴とする透明シート付タッチパネルセンサである。
【００１１】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっていてもよい。
【００１２】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、（前記第１透明導電体の光屈折率−０．０６）〜（前記第１透明導電体の光屈折率＋０．４７）の範囲内となっていてもよい。
【００１３】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１低屈折率層は、その厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている。
【００１４】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１アンダーコート層は、その厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている。
【００１５】
本発明は、タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなる透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、基材フィルムの他側の面上にパターニングされた第２透明導電体と、を備え、基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、フィルム本体の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２アンダーコート層と、第２アンダーコート層の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２高屈折率層と、第２高屈折率層の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２低屈折率層と、を有し、前記第１透明導電体および前記第２透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、前記第１アンダーコート層および前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、前記第２アンダーコート層および前記第２低屈折率層の光屈折率は、前記第２透明導電体および前記第２高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっていることを特徴とする透明シート付タッチパネルセンサである。
【００１６】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記第１高屈折率層および前記第２高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっていてもよい。
【００１７】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、（前記第１透明導電体の光屈折率−０．０６）〜（前記第１透明導電体の光屈折率＋０．４７）の範囲内となっており、前記第２高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、（前記第２透明導電体の光屈折率−０．０６）〜（前記第２透明導電体の光屈折率＋０．４７）の範囲内となっていてもよい。
【００１８】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１低屈折率層および前記第２低屈折率層は、その厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている。
【００１９】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１アンダーコート層および前記第２アンダーコート層は、その厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、透明シート付タッチパネルセンサは、タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなっている。このうちタッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、を備えている。また基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、を有している。そして、第１透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっている。また、タッチパネルセンサと透明シートとの間に介在された接着層は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている。このように、大気の光屈折率と第１透明導電体の光屈折率との間の適切な範囲内に接着層の光屈折率を設定することにより、このような接着層が設けられていない場合に比べて、第１透明導電体において光が反射されるのを抑制することができる。また、第１アンダーコート層および第１低屈折率層の光屈折率は、第１透明導電体および第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっている。このため、タッチパネルセンサのうち第１透明導電体がパターニングされている領域とパターニングされていない領域との間における光の透過率および反射率の差を小さくすることができる。このことにより、第１透明導電体のパターンが透明シート付タッチパネルセンサの外部から視認されるのを防ぐことができ、これによって、透明シート付タッチパネルセンサの意匠性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、タッチパネル装置を表示装置とともに概略的に示す透明シート付タッチパネルセンサ図である。
【図２】図２は、図１のタッチパネル装置のタッチパネルセンサを表示装置ともに示す断面図である。なお、図２に示された断面は、図１のII−II線に沿った断面に概ね対応している。
【図３Ａ】図３Ａは、タッチパネル装置のタッチパネルセンサを示す上面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３ＡのIII−III線に沿った断面図である。
【図４】図４（ａ）は、透明シート付タッチパネルセンサに含まれる基材フィルムの具体例を示す図であり、図４（ｂ）は、基材フィルムの機能層により透過光のスペクトルが各波長域で平坦にされる様子を示す図である。
【図５】図５（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は、タッチパネルセンサを作製するために用いられる積層体を製造する方法を説明するための図である。
【図６】図６は、本発明による透明シート付タッチパネルセンサの各構成要素において、屈折率の波長依存性の一例を示す図である。
【図７Ａ】図７Ａは、実施例１において、透明導電体が設けられている領域における透過スペクトルを示す図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、実施例１において、透明導電体が設けられていない領域における透過スペクトルを示す図である。
【図７Ｃ】図７Ｃは、実施例１において、透明導電体が設けられている領域における反射スペクトルを示す図である。
【図７Ｄ】図７Ｄは、実施例１において、透明導電体が設けられていない領域における反射スペクトルを示す図である。
【図８Ａ】図８Ａは、実施例２において、接着層が設けられている場合の、透明導電体の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、実施例２において、接着層が設けられてない場合の、透明導電体の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図９Ａ】図９Ａは、実施例３において、透明導電体が設けられている領域における透過スペクトルを示す図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、実施例３において、透明導電体が設けられていない領域における透過スペクトルを示す図である。
【図９Ｃ】図９Ｃは、実施例３において、透明導電体が設けられている領域における反射スペクトルを示す図である。
【図９Ｄ】図９Ｄは、実施例３において、透明導電体が設けられていない領域における反射スペクトルを示す図である。
【図９Ｅ】図９Ｅは、実施例３における透過率差を示す図である。
【図９Ｆ】図９Ｆは、実施例３における反射率差を示す図である。
【図９Ｇ】図９Ｇは、実施例３において、接着層の光屈折率と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１０】図１０は、実施例４において、アンダーコート層の厚みと、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、実施例５における透過率差を示す図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、実施例５における反射率差を示す図である。
【図１１Ｃ】図１１Ｃは、実施例５において、アンダーコート層の光屈折率と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１２Ａ】図１２Ａは、実施例６における透過率差を示す図である。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、実施例６における反射率差を示す図である。
【図１２Ｃ】図１２Ｃは、実施例６において、高屈折率層の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、実施例７における透過率差を示す図である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、実施例７における反射率差を示す図である。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、実施例７において、高屈折率層の光屈折率の変位量と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、実施例８における透過率差を示す図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、実施例８における反射率差を示す図である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、実施例９における透過率差を示す図である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、実施例９における反射率差を示す図である。
【図１５Ｃ】図１５Ｃは、実施例９において、高屈折率層の光屈折率の変位量（透明導電体の屈折率との差）と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１６Ａ】図１６Ａは、実施例１０における透過率差を示す図である。
【図１６Ｂ】図１６Ｂは、実施例１０における反射率差を示す図である。
【図１６Ｃ】図１６Ｃは、実施例１０において、低屈折率層の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１７Ａ】図１７Ａは、実施例１１における透過率差を示す図である。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、実施例１１における反射率差を示す図である。
【図１７Ｃ】図１７Ｃは、実施例１１において、低屈折率層の光屈折率と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１８Ａ】図１８Ａは、実施例１２における透過率差を示す図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、実施例１２における反射率差を示す図である。
【図１８Ｃ】図１８Ｃは、実施例１２において、透明導電体の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１９Ａ】図１９Ａは、実施例１３における透過率差を示す図である。
【図１９Ｂ】図１９Ｂは、実施例１３における反射率差を示す図である。
【図１９Ｃ】図１９Ｃは、実施例１３において、透明導電体の光屈折率の変位量と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００２３】
なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２４】
また、本件において、「シート」、「フィルム」、「板」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「シート」はフィルムや板等とも呼ばれ得るような部材や部分も含む概念である。
【００２５】
タッチパネル装置
はじめに図１および図２を参照して、タッチパネルセンサ３０を備えたタッチパネル装置２０全体について説明する。図１および図２に示されたタッチパネル装置２０は、投影型の静電容量結合方式として構成され、タッチパネル装置２０への外部導体（例えば、人間の指）の接触位置を検出可能に構成されている。なお、静電容量結合方式のタッチパネル装置２０の検出感度が優れている場合には、外部導体がタッチパネル装置に接近しただけで当該外部導体がタッチパネル装置のどの領域に接近しているかを検出することができる。従って、ここで用いる「接触位置」とは、実際には接触していないが位置を検出され得る接近位置を含む概念とする。
【００２６】
図１および図２に示すように、タッチパネル装置２０は、表示装置（例えば液晶表示装置）１５と組み合わせて用いられることにより、入出力装置１０を構成する。図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部１７と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができる表示領域Ａ１と、表示領域Ａ１を取り囲むようにして表示領域Ａ１の外側に配置された非表示領域（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部１７は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。表示パネル１６は、表示制御部１７の制御信号に基づいて、所定の映像を表示面１６ａに表示する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。
【００２７】
図１および図２に示すように、タッチパネル装置２０は、表示装置１５の表示面１６ａ上配置されたタッチパネルセンサ３０と、タッチパネルセンサ３０の観察者側（一側）に第１接着層１４を介して設けられた保護カバー（透明シート）１２と、タッチパネルセンサ３０に接続された検出制御部２５と、を有している。このうちタッチパネルセンサ３０は、図２に示すように、表示装置１５の表示面１６ａ上に第２接着層１９を介して接着されている。上述したように、タッチパネル装置２０は、投影型容量結合方式のタッチパネル装置として構成されており、情報を入力する入力装置としての役割を担っている。
【００２８】
上述の保護カバー１２は、誘電体として機能するとともに、透光性を有するものであり、この保護カバー１２が、タッチパネル装置２０への入力面（タッチ面、接触面）となる。つまり、保護カバー１２に導体、例えば人間の指５を接触させることにより、タッチパネル装置２０に対して外部から情報を入力することができるようになっている。また、保護カバー１２は、入出力装置１０の最観察者側面をなしており、入出力装置１０において、タッチパネル装置２０および表示装置１５を外部から保護するカバーとしても機能する。
【００２９】
この保護カバー１２の厚みは、例えば約１ｍｍとなっている。また、保護カバー１２は、強化ガラスなどのガラスや、若しくは、ＰＭＭＡ（アクリル樹脂）、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのプラスチックから構成されている。プラスチックなどからなる柔軟性を有する保護カバー１２がタッチパネルセンサ３０に第１接着層１４を介して取り付けられる場合、組立や取り扱いの容易さを確保しながら、タッチパネルセンサ３０を外部から保護することが可能となる。
【００３０】
また接着層１４，１９は、後述するように、タッチパネルセンサ３０の透明導電体４０，４５において生じる光の反射を抑制し、これによって、表示装置１５からの映像光の透過率を向上させるという機能も担っている。このような機能を果たすため、接着層１４，１９の光屈折率は、好ましくは１．４〜１．８（光波長５５０ｎｍ）の範囲内となっている。接着層１４，１９の厚みは、保護カバー１２または表示装置１５の構成などに応じて適宜設定されるが、例えば１０〜１００μｍの範囲内となっている。例えば、２５μｍまたは５０μｍの厚みを有する接着層１４，１９が主に使用される。
【００３１】
接着層１４，１９を構成する材料としては、透光性を有するとともに、上述の光屈折率を有する種々の接着材料を用いることができる。例えば、アクリル系粘着材やポリエーテル系粘着材を用いることができる。より具体的には、積水化学製の＃５４００Ａシリーズ、日東電工製のＬＵＣＩＡＣＳなどが用いられる。また、本明細書において、「接着（層）」は粘着（層）をも含む概念として用いられる。
【００３２】
上述の検出制御部２５には、タッチパネルセンサ３０の後述するセンサ電極からの信号が伝達されており、この検出制御部２５により、保護カバー１２を介して入力された情報が処理される。具体的には、検出制御部２５は、保護カバー１２へ導体（典型的には、人間の指）５が接触している際に、保護カバー１２への導体５の接触位置を特定し得るように構成された回路（検出回路）を含んでいる。また、検出制御部２５が、表示装置１５の表示制御部１７と連動していてもよい。この場合、検出制御部２５は、処理した入力情報を表示制御部１７へ送信することができる。この際、表示制御部１７は、入力情報に基づいた映像情報を作成し、入力情報に対応した映像を表示パネル１６に表示させることができる。これら検出制御部２５および表示制御部１７の具体的な構成や配置などが特に限られることはない。例えば、検出制御部２５および表示制御部１７は、表示装置１５内に組み入れられる制御基板として構成されてもよく、または、表示装置１５とは別体に設けられる制御基板として構成されてもよい。
【００３３】
なお、「容量結合」方式および「投影型」の容量結合方式との用語は、タッチパネルの技術分野で用いられる際の意味と同様の意味を有するものとして、本件において用いられている。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネル装置は導電体層を含んでおり、外部の導体（典型的には人間の指）がタッチパネルに接触することにより、外部の導体とタッチパネル装置の導電体層との間でコンデンサ（静電容量）が形成される。そして、このコンデンサの形成にともなった電気的な状態の変化に基づき、タッチパネル上において外部導体が接触している位置の位置座標が特定される。また、「投影型」の容量結合方式は、タッチパネルの技術分野において「投影式」の容量結合方式等とも呼ばれており、本件では、この「投影式」の容量結合方式等と同義の用語として取り扱う。「投影型」の容量結合方式とは、典型的には、格子状に配列されたセンサ電極を用いて外部導体が接触している位置を検出する方式であり、膜状の電極を用いる「表面型」の容量結合方式と対比され得る。
【００３４】
タッチパネルセンサ
次に図２乃至図３Ｂを参照して、タッチパネルセンサ３０について詳述する。図２乃至図３Ｂに示すように、タッチパネルセンサ３０は、基材フィルム３２と、基材フィルム３２の観察者側（一側）の面３２ａ上に所定のパターンで設けられた第１透明導電体４０と、基材フィルム３２の表示装置１５側（他側）の面３２ｂ上に所定のパターンで設けられた第２透明導電体４５と、を有している。
【００３５】
このうち基材フィルム３２は、タッチパネルセンサ３０において誘電体として機能するものである。図３Ａに示すように、基材フィルム３２は、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１に隣接する非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。このうちアクティブエリアＡａ１は、図１に示すように、表示装置１５の表示領域Ａ１に対応する領域を占めており、一方、非アクティブエリアＡａ２は、矩形状のアクティブエリアＡａ１を四方から周状に取り囲むように、言い換えると、額縁状に形成されている。この非アクティブエリアＡａ２は、表示装置１５の非表示領域Ａ２に対応する領域に形成されている。
【００３６】
前述のとおり、基材フィルム３２には第１透明導電体４０および第２透明導電体４５が設けられており、このうち基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１に設けられた第１透明導電体４０および第２透明導電体４５により、外部導体５との間で容量結合を形成し得る第１センサ電極３６ａおよび第２センサ電極３７ａがそれぞれ形成されている（図３Ａ参照）。基材フィルム３２、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５はそれぞれ透光性を有しており、このため観察者は、これらを介して、表示装置１５に表示された映像を観察することができる。
【００３７】
一方、図３Ａに示すように、基材フィルム３２の非アクティブエリアＡａ２に設けられた第１透明導電体４０および第２透明導電体４５により、第１センサ電極３６ａおよび第２センサ電極３７ａとの電気的接続を有する第１取出配線３６ｂおよび第２取出配線３７ｂがそれぞれ形成されている。取出配線３６ｂ，３７ｂは、その一端においてセンサ電極３６ａ，３７ａに接続され、また、その他端において、外部導体５の表示面１６ａへの接触位置を検出するように構成された検出制御部２５の検出回路に電気的に接続されている。
【００３８】
なお図３Ａおよび図３Ｂに示すように、第１取出配線３６ｂは、第１透明導電体４０の一部分上に設けられた第１取出導電体４３を更に含んでいてもよい。同様に、第２取出配線３７ｂは、第２透明導電体４５の一部分上に設けられた第２取出導電体４８（後に図５（ｄ）にて示す）を更に含んでいてもよい。ここで、第１取出導電体４３の比抵抗は第１透明導電体４０の比抵抗よりも小さくなっており、また第２取出導電体４８の比抵抗は第２透明導電体４５の比抵抗よりも小さくなっている。このため、第１取出配線３６ｂおよび第２取出配線３７ｂが第１取出導電体４３および第２取出導電体４８を更に含むことにより、センサ電極３６ａ，３７ａからの電気信号をより効率良く検出制御部２５の検出回路に伝導させることができる。
【００３９】
なお図３Ｂにおいては、第１取出導電体４３が単層からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第１取出導電体４３は、比抵抗の小さな金属層、耐酸化性、耐水性などを有する保護層、および、金属層と保護層の間の密着性を向上させる中間層など、複数の層を含んでいてもよい。同様に、第２取出導電体４８も、金属層、保護層および中間層など、複数の層を含んでいてもよい。
【００４０】
次に、タッチパネルセンサ３０を構成する各要素についてさらに詳述する。
【００４１】
透明導電体
はじめに、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５について詳述する。第１透明導電体４０および第２透明導電体４５は、導電性を有した材料から形成されている。これら透明導電体４０，４５は、外部導体５の保護カバー１２への接触位置を検出するように構成された検出制御部２５の検出回路に電気的に接続されている。第１透明導電体４０は、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１に配置された多数の第１センサ部（第１センサ導電体、センサ電極）４１と、各第１センサ部４１にそれぞれ接続され基材フィルム３２の非アクティブエリアＡａ２に配置された多数の第１接続部（第１端子導電体）４２と、を有している。同様に、第２透明導電体４５は、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１に配置された多数の第２センサ部（第２センサ導電体、センサ電極）４６と、各第２センサ部４６にそれぞれ接続され基材フィルム３２の非アクティブエリアＡａ２に配置された多数の第２接続部（第２端子導電体）４７と、を有している。
【００４２】
第１透明導電体４０の第１センサ部４１は、基材フィルム３２の一側（観察者側）の面３２ａ上に所定のパターンで配置されている。また、第２透明導電体４５の第２センサ部４６は、基材フィルム３２の他側（表示装置１５の側）の面３２ｂ上に、第１透明導電体４０の第１センサ部４１のパターンとは異なる所定のパターンで配置されている。より具体的には、図３Ａに示すように、第１透明導電体４０の第１センサ部４１は、基材フィルム３２のフィルム面に沿った一方向に並べて配列された線状導電体として構成されている。また、第２透明導電体４５の第２センサ部４６は、前記一方向と交差する基材フィルム３２のフィルム面に沿った他方向に並べて配列された線状導電体として構成されている。図３Ａに示すように、第１センサ部４１の配列方向である一方向と、第２センサ部４６の配列方向である他方向は、基材フィルム３２のフィルム面上において直交している。
【００４３】
図３Ａに示すように、第１センサ部４１をなす線状導電体の各々は、その配列方向（前記一方向）と交差する方向に線状に延びている。同様に、第２センサ部４６をなす線状導電体の各々は、その配列方向（前記他方向）と交差する方向に線状に延びている。とりわけ図示する例において、第１センサ部４１は、その配列方向（前記一方向）と直交する方向（前記他方向）に沿って直線状に延びており、第２センサ部４６は、その配列方向（前記他方向）と直交する方向（前記一方向）に沿って直線状に延びている。
【００４４】
本実施の形態において、各第１センサ部４１は、直線状に延びるライン部４１ａと、ライン部４１ａから膨出した膨出部４１ｂと、を有している。図示する例において、ライン部４１ａは、第１センサ部４１の配列方向と交差する方向に沿って直線状に延びている。膨出部４１ｂは、基材フィルム３２のフィルム面に沿ってライン部４１ａから膨らみ出ている部分である。したがって、各第１センサ部４１の幅は、膨出部４１ｂが設けられている部分において太くなっている。図３Ａに示すように、本実施の形態において、各第１センサ部４１は、膨出部４１ｂにおいて平面視略正方形形状の外輪郭を有するようになっている。
【００４５】
第２透明導電体４５に含まれる第２センサ部４６も、第１透明導電体４０に含まれる第１センサ部４１と同様に構成されている。すなわち、第２透明導電体４５に含まれる各第２センサ４６は、直線状に延びるライン部４６ａと、ライン部４６ａから膨出した膨出部４６ｂと、を有している。図示する例において、ライン部４６ａは、第２センサ部４６の配列方向と交差する方向に沿って直線状に延びている。膨出部４６ｂは、基材フィルム３２のフィルム面に沿ってライン部４６ａから膨らみ出ている部分である。したがって、各第２センサ部４６の幅は、膨出部４６ｂが設けられている部分において太くなっている。図３Ａに示すように、本実施の形態において、各第２センサ部４６は、膨出部４６ｂにおいて平面視略正方形形状の外輪郭を有するようになっている。
【００４６】
なお、図３Ａに示すように、基材フィルム３２のフィルム面の法線方向から観察した場合（すなわち、平面視において）、第１透明導電体４０に含まれる各第１センサ部４１は、第２透明導電体４５に含まれる多数の第２センサ部４６と交差している。そして、図３Ａに示すように、第１透明導電体４０の膨出部４１ｂは、第１センサ部４１上において、隣り合う二つの第２センサ部４６との交差点の間に配置されている。同様に、基材フィルム３２のフィルム面の法線方向から観察した場合、第２透明導電体４５に含まれる各第２センサ部４６は、第１透明導電体４０に含まれる多数の第１センサ部４１と交差している。そして、第２透明導電体４５の膨出部４６ｂも、第２センサ部４６上において、隣り合う二つの第１センサ部４１との交差点の間に配置されている。さらに、本実施の形態において、第１透明導電体４０に含まれる第１センサ部４１の膨出部４１ｂと、第２透明導電体４５に含まれる第２センサ部４６の膨出部４６ｂとは、基材フィルム３２のフィルム面の法線方向から観察した場合に重ならないように配置されている。つまり、基材フィルム３２のフィルム面の法線方向から観察した場合、第１透明導電体４０に含まれる第１センサ部４１と第２透明導電体４５に含まれる第２センサ部４６とは、各センサ部４１，４６のライン部４１ａ、４６ａのみにおいて交わっている。
【００４７】
上述したように、第１透明導電体４０は、このような第１センサ部４１に接続された第１接続部４２を有している。第１接続部４２は、第１センサ部４１の各々に対し、接触位置の検出方法に応じて一端または両端に設けられている。各第１接続部４２は、対応する第１センサ部４１の端部からそれぞれ線状に延び出している。同様に、第２透明導電体４５は、第２センサ部４６に接続された第２接続部４７を有している。第２接続部４７は、第２センサ部４６の各々に対し、接触位置の検出方法に応じて一端または両端に設けられている。各第２接続部４７は、対応する第２センサ部４６の端部からそれぞれ線状に延び出している。図３Ａに示すように、本実施の形態において、第１接続部４２は第１センサ部４１と同一の材料から一体的に形成され、第２接続部４７は第１センサ部４６と同一の材料から一体的に形成されている。
【００４８】
第１透明導電体４０および第２透明導電体４５の材料としては、透明性および所要の導電性を有するものが用いられる。このような材料として、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物を挙げることができ、また、これらの金属酸化物が２種以上複合されてもよい。第１透明導電体４０および第２透明導電体４５の形成方法は特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。本実施の形態においては、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５が、スパッタリング法により形成されたＩＴＯからなる。
【００４９】
なおＩＴＯからなる透明導電体４０、４５の光屈折率は、光波長５５０ｎｍ付近において例えば１．９７となっており、光波長４００ｎｍ付近において例えば２．１２となっている。光屈折率の算出方法は特には限定されないが、例えばエリプソメーターを用いた測定から算出される。また後述する基材フィルム３２の各層においても、当該各層の光屈折率が例えばエリプソメーターを用いた測定から算出される。
【００５０】
ＩＴＯからなる透明導電体４０、４５の厚みは、好ましくは２２．７ｎｍ以下となっている。膜厚が小さい場合、例えば４０ｎｍ以下の場合、一般に、透明導電体４０、４５の厚みが小さいほど、透明導電体４０、４５に由来する光の反射率は小さくなり、吸収項の影響が小さいため透過率が高くなる。
【００５１】
透明導電体４０、４５とフィルム本体３３との間にインデックスマッチング層（後述）が介在されていない場合、一般に、透明導電体４０、４５における光の反射率が小さいほど、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率の差も小さくなる。このため、透明導電体４０、４５の厚みをより小さくすることにより、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率の差を小さくすることができ、これによって、透明導電体４０、４５のパターンがタッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【００５２】
一方、透明導電体４０、４５とフィルム本体３３との間にインデックスマッチング層を介在させると、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率と、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率とが変化する。この際、インデックスマッチング層を適切に設計することにより、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率、または、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率のうちどちらか一方をより大きく変化させることができる。
インデックスマッチング層が介在されていない場合、一般に、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率は、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率よりも大きくなっている。ここで、インデックスマッチング層を介在させることにより、例えば、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率と、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率とをともに低下させることができるが、この際、インデックスマッチング層を適切に設計することにより、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率の低下の程度を、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率の低下の程度よりも大きくすることができる。これによって、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率の差を小さくすることができる。
ここでインデックスマッチング層とは、少なくとも一対の高屈折率層および低屈折率層を含む層のことである。このようなインデックスマッチング層が透明導電体４０、４５とフィルム本体３３との間に介在されている場合、薄膜干渉の効果が生じ、これによって、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率および透過率の差を小さくすることができる。本実施の形態においては、後述する第１高屈折率層７２および第１低屈折率層７３により第１透明導電体４０とフィルム本体３３との間のインデックスマッチング層（後述する第１機能層７０）が構成されており、また後述する第２高屈折率層７７および第２低屈折率層７８により第２透明導電体４５とフィルム本体３３との間のインデックスマッチング層（後述する第２機能層７５）が構成されている。
【００５３】
本実施の形態においては、透明導電体４０、４５とフィルム本体３３との間にインデックスマッチング層を介在させることにより、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率および透過率の差を小さくすることを意図している。
【００５４】
ところで、一般に、透明導電体４０、４５の厚みが小さいほど、透明導電体４０、４５の電気抵抗は大きくなる。透明導電体４０、４５の電気抵抗が大きくなると、透明導電体４０、４５からなるセンサ電極３６ａ，３７ａから検出制御部２５の検出回路に送られる電気信号が阻害されることが考えられる。このため、透明導電体４０、４５の厚みを従来よりも小さくする場合、透明導電体４０、４５の電気抵抗が過大にならないよう、透明導電体４０、４５の材料として従来よりも比抵抗の小さい材料を用いることが好ましい。例えば、透明導電体４０、４５の比抵抗は４×１０−６Ωｍ（２３℃、５５％ＲＨ）以下であることが好ましい。
【００５５】
なお、透明導電体４０、４５により電気信号を送るという観点からは、透明導電体４０、４５の厚みを可能な限り大きくし、これによって透明導電体４０、４５の面積抵抗率をより小さくすることが好ましい。従って、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率および透過率の差を十分に小さくした上で、透明導電体４０、４５の厚みを可能な限り大きくすることが望まれる。透明導電体４０、４５における好ましい面積抵抗率の値は、例えば３００Ω／□以下となっている。
【００５６】
取出導電体
次に、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８について詳述する。上述したように、第１取出導電体４３は、第１透明導電体４０の一部分上に配置されており、第２取出導電体４８は、第２透明導電体４５の一部分上に配置されている。より具体的には、第１取出導電体４３は、第１透明導電体４０の第１接続部４２の一部分上に配置されており、第２取出導電体４８は、第２透明導電体４５の第２接続部４７の一部分上に配置されている。すなわち、第１取出導電体４３は、基材フィルム３２の一側の面３２ａにおいて、非アクティブエリアＡａ２に配置されており、第２取出導電体４８は、基材フィルム３２の他側の面３２ｂにおいて、非アクティブエリアＡａ２に配置されている。
【００５７】
図３Ａに示すように、第１透明導電体４０の第１接続部４２および第２透明導電体４５の第２接続部４７は線状に形成されている。そして、第１取出導電体４３は、線状に形成された第１接続部４２のうちの第１センサ部４１への接続箇所近傍の部分以外の部分上を、当該部分と同一のパターンで線状に延びている。同様に、第２取出導電体４８は、線状に形成された第２接続部４７のうちの第２センサ部４６への接続箇所近傍以外の部分上を、当該部分と同一のパターンで線状に延びている。
【００５８】
第１取出導電体４３は、第１透明導電体４０の第１センサ部４１からなる第１センサ電極３６ａを検出制御部２５へ接続させるための第１取出配線３６ｂを、第１透明導電体４０の第１接続部４２とともに構成している。また、第２取出導電体４８は、第２透明導電体４５の第２センサ部４６からなる第２センサ電極３７ａを検出制御部２５へ接続させるための第２取出配線３７ｂを、第２透明導電体４５の第２接続部４７とともに構成している。このような第１取出導電体４３および第２取出導電体４８は非アクティブエリアＡａ２に配置されていることから、透光性を有した材料から形成される必要はなく、高い導電性を有した金属などの材料から形成され得る。なお図３Ａに示すように、第１接続部４２と第１取出導電体４３とを含む第１取出配線３６ｂの幅は、第１センサ電極３６ａとの接続部分において第１センサ電極３６ａの幅よりも大きくなるよう形成されている。同様に、第２接続部４７と第２取出導電体４８とを含む第２取出配線３７ｂは、第２センサ電極３７ａとの接続部分において、その幅が第２センサ電極３７ａの幅よりも大きくなるよう形成されている。また図３Ａに示すように、取出配線３６ｂ，３７ｂのうち検出制御部２５との接続端子部３６ｃ，３７ｃの幅は、取出配線３６ｂ，３７ｂのその他の部分の幅よりも大きくなっている。
【００５９】
このような構成からなるタッチパネルセンサ３０においては、取出導電体４３，４８および透明導電体４０，４５の接続部４２，４７からなる取出配線３６ｂ，３７ｂは、図示しない外部接続配線（例えばフレキシブルプリント基板）を介し、検出制御部２５に接続されている。
【００６０】
次に、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８を形成する材料について詳述する。第１取出導電体４３および第２取出導電体４８は、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５をなす材料よりも高い導電率（電気伝導率）を有する材料から形成されている。具体的には、遮光性を有するとともに、ＩＴＯ等の透明導電体４０，４５よりも格段に高い導電率を有する、例えばアルミニウム、モリブデン、パラジウム、銀、クロム、銅等の金属、または、これらの金属を２種以上混合してなる合金、例えば銀合金を材料として形成されている。このうち銀合金は、一般に配線材料として用いられるクロムよりも比抵抗が小さく、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８の材料として好ましい。このような銀合金の一例として、銀、パラジウム、銅を含んでなるＡＰＣ合金を挙げることができる。
【００６１】
基材フィルム
次に図４（ａ）（ｂ）を参照して、基材フィルム３２について詳述する。本実施の形態において、基材フィルム３２は、複数の層から構成されている。ここで、基材フィルム３２の各層は、接着層を介しての接合を用いることなく、例えばスパッタリングにより一体に形成されている。なお、基材フィルム３２の各層を形成する方法がスパッタリングに限られることはなく、各層の構成などに応じて、塗布などの方法を適宜用いることができる。
【００６２】
図４（ａ）は、アクティブエリアＡａ１における基材フィルム３２の断面を示す図である。図４（ａ）に示すように、基材フィルム３２は、透明なフィルム本体３３と、フィルム本体３３の第１透明導電体４０側（一側）の面３３ａ上に設けられた第１アンダーコート層７１と、第１アンダーコート層７１の第１透明導電体４０側（一側）の面７１ａ上に設けられた第１高屈折率層７２と、第１高屈折率層７２の第１透明導電体４０側（一側）の面７２ａ上に設けられた第１低屈折率層７３と、フィルム本体３３の第２透明導電体４５側（他側）の面３３ｂ上に設けられた第２アンダーコート層７６と、第２アンダーコート層７６の第２透明導電体４５側（他側）の面７６ｂ上に設けられた第２高屈折率層７７と、第２高屈折率層７７の第２透明導電体４５側（他側）の面７７ｂ上に設けられた第２低屈折率層７８と、を有している。このうち、第１高屈折率層７２と第１低屈折率層７３とにより第１機能層７０が構成され、第２高屈折率層７７と第２低屈折率層７８とにより第２機能層７５が構成されている。
【００６３】
以下、基材フィルム３２を構成する各層について詳述する。はじめにフィルム本体３３について詳述する。
【００６４】
（フィルム本体）
フィルム本体３３の材料としては、透明性の高い材料が好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアミド（ＰＡ）、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、脂肪族環状ポリオレフィン、ノルボルネン系の熱可塑性透明樹脂などの可撓性フィルムを挙げることができる。本実施の形態においては、フィルム本体３３が、約１．６６（光波長５５０ｎｍ）の光屈折率を有するＰＥＴから形成されている。ＰＥＴからなるフィルム本体３３の厚みは特に限定されないが、例えば５０〜２００μｍの範囲内となっている。
【００６５】
（アンダーコート層）
次に第１アンダーコート層７１および第２アンダーコート層７６について詳述する。アンダーコート層７１，７６は、フィルム本体３３中に発生する低分子重合体（オリゴマー）が高屈折率層７２，７７側に入り込むのを防ぐための層であり、例えばアクリル樹脂から形成されている。アクリル樹脂からなるアンダーコート層７１，７６の光屈折率は例えば約１．５１（光波長５５０ｎｍ）となっており、その厚みは例えば３０００ｎｍとなっている。フィルム本体３３のオリゴマーは、一般に、透明導電体４０、４５の形成工程において基材フィルム３２を加熱する際に発生する。
【００６６】
なお、オリゴマーが適切に防がれない場合、オリゴマーが析出し結晶化することにより、タッチパネルセンサ３０の白濁化が起こることが考えられる（例えば特開２００４−６６７９０号公報参照）。また、高屈折率層７２，７７、低屈折率層７３，７８または透明導電体４０，４５の成膜時の予熱の際にオリゴマーが析出すると、白濁化だけでなく、高屈折率層７２，７７、低屈折率層７３，７８または透明導電体４０，４５にピンホールなどの欠陥が生じることが考えられる。本実施の形態においては、アンダーコート層７１，７６を設けることにより、これらの不利な現象が生じるのが抑制されている。
【００６７】
（機能層）
次に第１機能層７０および第２機能層７５について詳述する。はじめに、第１機能層７０および第２機能層７５を設ける目的について説明する。
【００６８】
（機能層の目的）
上述のように、フィルム本体３３と透明導電体４０，４５との光屈折率には約０．３の差がある。このようにフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との光屈折率の差が大きい場合、一般に、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域と設けられていない領域とにおいて、光の反射率、透過率が大きく異なることが考えられる。また、ＩＴＯからなる透明導電体４０，４５における光の吸収は、一般に、長波長側よりも、波長４５０ｎｍ以下の短波長側で大きくなっている。このため、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光のスペクトルが黄色くなることも考えられる。第１機能層７０および第２機能層７５はこのような課題に対応するために設けられる層である。
【００６９】
（機能層の構成）
次に、第１機能層７０および第２機能層７５の構成について説明する。上述のように、機能層７０，７５は高屈折率層７２，７７と低屈折率層７３，７８とを含んでいる。このうち高屈折率層７２，７７の光屈折率は、透明導電体４０，４５の光屈折率よりも大きくなっており、また低屈折率層７３，７８の光屈折率は、透明導電体４０，４５の光屈折率よりも小さくなっている。このような構成からなる機能層７０，７５をフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に設けることにより、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率（図４（ａ）において矢印（１），（３）で示す領域における光の反射率）と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率（図４（ａ）において矢印（２），（４）で示す領域における光の反射率）と、の差を小さくすることができる。同様に、機能層７０，７５を設けることにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率と、の差を小さくすることもできる。
【００７０】
また上述の構成を有する機能層７０，７５を設けることにより、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光のスペクトルを、各波長域で平坦なスペクトルに近づけることができる。図４（ｂ）において左側に示すスペクトルは、機能層７０，７５が設けられていない場合の透過光のスペクトルであり、図４（ｂ）において右側に示すスペクトルは、機能層７０，７５が設けられている場合の透過光のスペクトルである。図４（ｂ）に示すように、フィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に機能層７０，７５を設けることにより、各波長域で均一な透過率を実現することが可能となる。このようにして、透過光において黄色の成分のみが過大となるのを防ぐことができ、この場合、透過光をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表したときのｂ＊の絶対値は例えば１．５以下となっている。
【００７１】
（機能層の設計方法）
次に上述の機能を有する機能層７０，７５を設計する方法について説明する。はじめに、タッチパネルセンサ３０における光学特性の目標を決定する。例えば、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１のうち、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率と、の差がそれぞれ０．５％以下であって、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光のｂ＊の絶対値が１．５以下であることを光学特性の目標とする。
【００７２】
なお、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、Ｌ＊は明度を表し、ａ＊，ｂ＊は色相と彩度を表す量である。ａ＊およびｂ＊に関しては、その絶対値が小さい値領域にて、無彩色に近い色相となる。ｂ＊が＋１．５を超える領域では透過色が黄色味を帯びる様になり、また−１．５未満の領域では透過色が青味を帯びる様になる。これらの領域では、表示装置１５のカラー表示に透明導体４０、４５の透過色が悪影響を与える。従って、ｂ＊の絶対値が１．５以下である無彩色の領域の値を示す必要がある。
【００７３】
次に、基材フィルム３２の各層の厚みおよび光屈折率と、透明導電体４０，４５の厚みおよび光屈折率とに基づいて、シミュレーションにより反射率、透過率およびｂ＊の値を求める。そして、高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８の厚みと光屈折率とを可変のパラメータとして、上述の光学特性の目標を達成するパラメータを探索する。これによって、高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８の厚みおよび光屈折率の適切な範囲を算出し、このようにして、目標とする光学特性を得ることができる機能層７０，７５を設計する。なおシミュレーション用のツールとしては、例えばサイバネットシステムズ（株）製の薄膜設計ソフトウェア（ＯＰＴＡＳ−ＦＩＬＭ）を用いることができる。
【００７４】
なお後に実施例において示すように、シミュレーションは、基材フィルム３２の各層の厚みおよび光屈折率と、透明導電体４０，４５の厚みおよび光屈折率に加えて、透明導電体４０，４５上に設けられる接着層１４，１９の光屈折率も考慮して実施される。
【００７５】
なお、本件発明者らが実験を重ねたところ、機能層７０，７５の設計において、高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８の光屈折率の波長依存性を考慮すること、とりわけ高屈折率層７２，７７の光屈折率の波長依存性を考慮することが重要であることが知見された。より具体的に言えば、後述する実施例での実験結果で支持されているように、光波長５５０ｎｍ近傍の波長領域において上述の光学特性の目標を達成するとともに、光波長４００ｎｍ近傍の短波長領域においても上述の光学特性の目標を達成するよう、高屈折率層７２，７７の厚みおよび光屈折率の適切な範囲を算出するのが重要であることが知見された。例えば、上述の目標とする光学特性を得ることができる基材フィルム３２、透明導電体４０，４５および接着層１４，１９は、以下の表１に示す構成となっている。
【表１】
【００７６】
次に高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８の材料について詳述する。高屈折率層７２，７７の材料としては、目標とする光学特性を達成することのできる光屈折率を有する材料であれば特に限定されず、例えば波長４００ｎｍの光に対する光屈折率が２．３６となり、波長５５０ｎｍの光に対する光屈折率が２．１８となっている五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）が用いられる。また低屈折率層７３，７８の材料としても、目標とする光学特性を達成することのできる光屈折率を有する材料であれば特に限定されず、例えば１．４６の光屈折率を有する二酸化珪素（ＳｉＯ２）が用いられる。
【００７７】
次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ３０を製造する方法について説明する。
【００７８】
はじめに、図５を参照して、タッチパネルセンサ３０を作製するための元材としての積層体（ブランクスとも呼ばれる）５０を形成する工程について説明する。
積層体の形成工程
【００７９】
はじめに、フィルム本体３３を準備し、次に、フィルム本体３３の一側の面３３ａおよび他側の面３３ｂにそれぞれ第１アンダーコート層７１および第２アンダーコート層７６を形成する（図５（ａ）参照）。アンダーコート層７１，７６は、例えばコーティングにより形成される。この場合、フィルム本体３３とアンダーコート層７１，７６とが一体になっていてもよい。
【００８０】
次に図５（ｂ）に示すように、第１アンダーコート層７１の一側の面７１ａに第１機能層７０を形成し、第２アンダーコート層７６の他側の面７６ｂに第２機能層７５を形成する。前述のように、第１機能層７０は第１高屈折率層７２と第１低屈折率層７３とを含み、第２機能層７５は第２高屈折率層７７と第２低屈折率層７８とを含んでいる。高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８は、それぞれスパッタリングにより形成される。このようにして、フィルム本体３３と、アンダーコート層７１，７６と、高屈折率層７２，７７と、低屈折率層７３，７８とを有する基材フィルム３２が形成される。
【００８１】
次に図５（ｃ）を参照して、基材フィルム３２の一側の面３２ａに第１透明導電層５２ａを形成し、基材フィルム３２の他側の面３２ｂに第２透明導電層５２ｂを形成する工程について説明する。ここで第１透明導電層５２ａ、第２透明導電層５２ｂはそれぞれ、パターニングされることにより第１透明導電体４０および第２透明導電体４５となる層である。第１透明導電層５２ａ、第２透明導電層５２ｂとしては、透光性および導電性を有する材料が用いられ、例えばＩＴＯが用いられる。ＩＴＯからなる透明導電層５２ａ，５２ｂは、例えばスパッタリングにより基材フィルム３２上に形成される。これによって、図５（ｃ）に示すように、基材フィルム３２と透明導電層５２ａ，５２ｂとを含む中間積層体８０が得られる。なお、好ましくは、透明導電層５２ａ，５２ｂ（透明導電体４０、４５）は、錫を２〜４重量％含むＩＴＯからなる。このような組成のＩＴＯを用いることにより、ＩＴＯの結晶化をより促進することができ、これによって、透明導電層５２ａ，５２ｂ（透明導電体４０，４５）の厚みをより小さくすることが可能となる。
【００８２】
次に図５（ｄ）に示すように、中間積層体８０の一方の側の面８０ａに第１遮光導電層５４ａを形成し、透明導電層付フィルム８０の他方の側の面８０ｂに第２遮光導電層５４ｂを形成する。ここで第１遮光導電層５４ａ、第２遮光導電層５４ｂはそれぞれ、パターニングされることにより第１取出導電体４３および第２取出導電体４８となる層である。このようにして、タッチパネルセンサ３０を作製するために用いられる積層体５０であって、基材フィルム３２と透明導電層５２ａ，５２ｂと遮光導電層５４ａ，５４ｂとを含む積層体５０が形成される。
【００８３】
タッチパネルセンサの作製工程
その後、上述の工程により得られた積層体５０に成膜やパターニング等の処理（加工）を行っていくことにより、タッチパネルセンサ３０を作製する。例えばフォトリソグラフィー法を用いて第１遮光導電層５４ａおよび第２遮光導電層５４ｂをパターニングすることにより、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８が作製される。同様に、フォトリソグラフィー法を用いて第１透明導電層５２ａおよび第２透明導電層５２ｂをパターニングすることにより、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５が作製される。なお第１透明導電層５２ａおよび第２透明導電層５２ｂをパターニングする際、第１遮光導電層５４ａおよび第２遮光導電層５４ｂがマスクとして利用されてもよい。このようにして、図３Ａおよび図４（ａ）に示すタッチパネルセンサ３０が得られる。
【００８４】
入出力装置の作製工程
その後、得られたタッチパネルセンサ３０に、第１接着層１４を介して保護カバー１２を接合する。これによって、保護カバー（透明シート）１２付タッチパネルセンサ３０が得られる。また、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０を、第２接着層１９を介して表示装置１５に接合する。これによって、図１および図２に示す入出力装置１０が得られる。次に、この入出力装置１０を使用する際の作用について説明する。
【００８５】
入出力装置の作用
まず、このような入出力装置１０においては、表示装置１５の表示パネル１６によって映像を表示することによって、観察者は、保護カバー１２およびタッチパネルセンサ３０を介して映像を観察することができる。
【００８６】
また、この入出力装置１０において、タッチパネルセンサ３０および保護カバー１２がタッチパネル装置２０の一部分を構成し、外部導体５、典型的には人間の指５が保護カバー１２上に接触（接近）したこと検知することができるとともに、保護カバー１２上における外部導体５が接触（接近）した位置を検出することができる。
【００８７】
具体的には、まず、外部の導体（例えば、人間の指）５が保護カバー１２に接触すると、当該外部導体５と、外部導体５による保護カバー１２への接触位置の近傍に位置する透明導電体４０，４５の各センサ部４１，４６と、が電極として機能し、電界が形成される。この際、センサ電極３６ａ，３７ａを構成する透明導電体４０，４５のセンサ部４１，４６と、外部導体５と、の間に位置する保護カバー１２および基材フィルム３２等は誘電体として機能する。すなわち、外部導体５が保護カバー１２に接触することにより、センサ部４１，４６と外部導体５とを電極とするコンデンサが形成される。
【００８８】
タッチパネル装置２０の検出制御部２５の検出回路は、各センサ部４１，４６に接続され、各センサ部４１，４６と外部導体５との間の静電容量を検出することができるようになっている。そして、検出制御部２５が、各センサ部４１，４６と外部導体５との間の静電容量の変化を検出することによって、外部導体５がいずれの第１センサ部４１に対面しているか、並びに、外部導体５がいずれの第２センサ部４６に対面しているかを特定することができる。
【００８９】
すなわち、検出制御部２５の検出回路は、アクティブエリアＡａ１において前記一方向に並べて配列された第１透明導電体４０に含まれる多数の第１センサ部４１のうちの外部導体５と対面している第１センサ部（線状導電体）を特定することによって、前記一方向に延びる座標軸上における外部導体５の位置を特定することができる。同様に、検出制御部２５の検出回路は、アクティブエリアＡａ１において前記他方向に並べて配列された第２透明導電体４５に含まれる多数の第２センサ部４６のうちの外部導体５と対面している第２センサ部（線状導電体）を特定することによって、前記他方向に延びる座標軸上における外部導体５の位置を特定することができる。このようにして、タッチパネル装置２０（保護カバー１２）への外部導体５の接触位置を二つの方向において検出することにより、外部導体５のタッチパネル装置２０の表面への接触位置の位置座標を、タッチパネル装置２０の表面上で精度良く特定することができる。なお、投影型容量結合方式のタッチパネルにおいて接触位置を検出する様々な方法（原理）が、種々の文献に開示されており、本明細書では、これ以上の説明を省略する。
【００９０】
ここで本実施の形態によれば、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０は、タッチパネルセンサ３０と、タッチパネルセンサ３０の一側に第１接着層１４を介して接着された保護カバー１２とからなっている。このうちタッチパネルセンサ３０は、基材フィルム３２と、基材フィルム３２の一側の面３２ａ上にパターニングされた第１透明導電体４０と、を備えている。また基材フィルム３２は、透明なフィルム本体３３と、フィルム本体３３の第１透明導電体４０側の面３３ａ上に設けられた第１アンダーコート層７１と、第１アンダーコート層７１の第１透明導電体４０側の面７１ａ上に設けられた第１高屈折率層７２と、第１高屈折率層７２の第１透明導電体４０側の面７２ａ上に設けられた第１低屈折率層７３と、フィルム本体３３の第２透明導電体４５側の面３３ｂ上に設けられた第２アンダーコート層７６と、第２アンダーコート層７６の第２透明導電体４５側の面７６ｂ上に設けられた第２高屈折率層７７と、第２高屈折率層７７の第２透明導電体４５側の面７７ｂ上に設けられた第２低屈折率層７８と、を有している。そして、透明導電体４０，４５は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっている。また、タッチパネルセンサ３０と保護カバー１２との間に介在された第１接着層１４は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている。
このように、大気の光屈折率と第１透明導電体４０の光屈折率との間の適切な範囲内に第１接着層１４の光屈折率を設定することにより、このような第１接着層１４が設けられていない場合に比べて、第１透明導電体４０において光が反射されるのを抑制することができる。これによって、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０における光の透過率を向上させることができる。
【００９１】
また本実施の形態によれば、アンダーコート層７１，７６および低屈折率層７３，７８の光屈折率は、透明導電体４０，４５および高屈折率層７２，７７の光屈折率よりも小さくなっている。従って、高屈折率層７２，７７と低屈折率層７３，７８とから構成される機能層７０，７５が、インデックスマッチング層として機能することができる。このような機能層７０，７５をフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に設けることにより、薄膜干渉の効果を生じさせることができる。このことにより、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率と、の差を小さくすることができる。同様に、高屈折率層７２，７７と低屈折率層７３，７８とからなる機能層７０，７５をフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に設けることにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率と、の差を小さくすることもできる。このため、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０，４５がパターニングされている領域とパターニングされていない領域との間における光の透過率および反射率の差を小さくすることができる。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の外部から視認されるのを防ぐことができ、これによって、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の意匠性を向上させることができる。
【００９２】
さらに高屈折率層７２，７７と低屈折率層７３，７８とからなる機能層７０，７５をフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に設けることにより、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光のスペクトルを、各波長域で平坦なスペクトルとすることができ、例えば、透過光をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表したときのｂ＊の絶対値を１．５以下とすることができる。
【００９３】
変形例
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、変形の一例について説明する。
【００９４】
例えば、上述した実施の形態において、第１遮光導電層５４ａおよび第２遮光導電層５４ｂを含む積層体５０を準備するとともに、フォトリソグラフィー法を用いて第１遮光導電層５４ａおよび第２遮光導電層５４ｂをパターニングすることにより、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８が得られる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、スクリーン印刷法などを用いて基材フィルム３２上に導電性ペーストを印刷することにより、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８を形成してもよい。また、センサ電極３６ａ，３７ａから接続端子部３６ｃ，３７ｃまでの距離が十分に短い場合、透明導電体４０，４５のみによって取出配線３６ｂ，３７ｂが構成されていてもよい。
【００９５】
さらに、上述した実施の形態において、積層体（ブランクス）５０において、基材フィルム３２の両側に透明導電層５２ａ，５２ｂおよび被覆導電層５４ａ，５４ｂがそれぞれ設けられている例を示したが、これに限られない。基材フィルム３２の一つの面上のみに透明導電層および被覆導電層が設けられているようにしてもよい。この場合、基材フィルム３２の一つの面上に、上述した実施の形態のセンサ電極３６ａ，３７ａおよび取出配線３６ｂ，３７ｂが得られるようになる。
【００９６】
さらに、上述した実施の形態において、第１透明導電体４０の第１センサ部４１はライン部４１ａと膨出部４１ｂとを有し、第２透明導電体４５の第２センサ部４６はライン部４６ａと膨出部４６ｂとを有している例を示した。また、上述した実施の形態において、膨出部４１ｂ，４６ｂが平面視略正方形形状に形成されている例を示した。しかしながら、これに限られず、一例として、膨出部４１ｂ，４６ｂが、平面視において、正方形以外の菱形等の四角形形状、さらには、多角形形状や円形状等であってもよい。また、センサ部４１，４６が、膨出部４１ｂ，４６ｂを有さず、直線状の輪郭を有するようにしてもよい。
【００９７】
なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【実施例】
【００９８】
以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
【００９９】
実施例１
本発明の一例による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の基材フィルム３２について、フィルム本体３３、熱硬化型アクリル樹脂からなるアンダーコート層７１，７６、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）からなる高屈折率層７２，７７、および二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる低屈折率層７３，７８の光屈折率（実数部ｎおよび吸収項ｋ）および厚みを測定した。また、本発明の一例による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０について、ＩＴＯからなる透明導電体４０，４５、および接着層１４，１９の光屈折率（実数部ｎおよび吸収項ｋ）および厚みを測定した。結果を表２に示す。なお、光屈折率の測定は、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内で光波長を５ｎｍ刻みで変化させながら行った。なお、後述するシミュレーションにおいては、大気の光屈折率（実数部ｎおよび吸収項ｋ）をｎ＝１、ｋ＝０として扱った。
【表２】
【０１００】
表２に示すように、光屈折率が高い層、すなわち高屈折率層７２，７７および透明導電体４０，４５においては、光波長によって光屈折率が大きく変化していた。光波長に対して、各層の光屈折率（実数部ｎ）をプロットした結果を図６に示す。図６に示すように、光波長が４００ｎｍから５５０ｎｍになると、透明導電体４０，４５において光屈折率が０．１５だけ小さくなっており、高屈折率層７２，７７において光屈折率が０．１８だけ小さくなっていた。また光波長が５５０ｎｍから７８０ｎｍになると、透明導電体４０，４５において光屈折率が０．１２だけ小さくなっており、高屈折率層７２，７７において光屈折率が０．０７だけ小さくなっていた。すなわち、４００〜５５０ｎｍでは透明導電体４０，４５の屈折率変化より高屈折率層７２，７７の屈折率変化が大きく、５５０〜７８０ｎｍでは高屈折率層７２，７７の屈折率変化より透明導電体４０，４５の屈折率変化が大きかった。
【０１０１】
測定された保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の各構成要素の厚みおよび光屈折率に基づいて、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値との差を求めた。またシミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。以下、詳細について説明する。
【０１０２】
（シミュレーション条件）
透明導電体４０，４５が設けられている領域に関しては、以下の層構成を仮定して、フィルム本体とアンダーコート層の界面〜透明導電体と接着層の界面の間に存在する各層による透過率、反射率を求めるシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／アンダーコート層／高屈折率層／低屈折率層／透明導電体／接着層（入射側媒質）
この場合、後述する実施例においては、接着層の屈折率、アンダーコート層の屈折率および厚み、高屈折率層の屈折率および厚み、低屈折率層の屈折率および厚み、透明導電体の屈折率および厚みを適宜変化させながらシミュレーションを行った。なお表２に示すように、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みは、その他の構成要素の厚みに比べて非常に大きくなっている。従って、本実施例および後述する実施例においては、特に断らない限り、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みを無限大に設定してシミュレーションが行われている。またすべてのシミュレーションにおいて、光の入射角度を０度（垂直入射）に設定した。
【０１０３】
透明導電体４０，４５が設けられていない領域に関しては、以下の層構成を仮定して、フィルム本体とアンダーコート層の界面〜低屈折率層と接着層の界面の間に存在する各層による透過率、反射率を求めるシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／アンダーコート層／高屈折率層／低屈折率層／接着層（入射側媒質）
この場合、後述する実施例においては、接着層の屈折率、アンダーコート層の屈折率および厚み、高屈折率層の屈折率および厚み、低屈折率層の屈折率および厚みを適宜変化させながらシミュレーションを行った。なお表２に示すように、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みは、その他の構成要素の厚みに比べて非常に大きくなっている。従って、本実施例および後述する実施例においては、特に断らない限り、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みを無限大に設定してシミュレーションが行われている。またすべてのシミュレーションにおいて、光の入射角度を０度（垂直入射）に設定した。
【０１０４】
（評価項目１ 透過率）
透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過スペクトルをシミュレーションにより求めた。結果を図７Ａに示す。図７Ａに示すように、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内において、光の透過スペクトルの周期的な乱れ（ハンチング）が見られた。このようなハンチングの程度は、主にアンダーコート層７１，７６の厚みに依存していると考えられる。
【０１０５】
透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過スペクトルと、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過スペクトルとの差（透過率差）を図７Ｂに示す。ここで、透過率差＝（透明導電体４０，４５が設けられていない領域における透過率）−（透明導電体４０，４５が設けられている領域における透過率）となっている（後述する実施例においても同様である）。図７Ｂに示すように、透過率差についても、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内においてハンチングが見られた。このハンチングは、図７Ｂに示すように、透過率差が０％となる線（図７Ｂにおいて符号８１で示す点線）をほぼ中心線として生じていた。このようにハンチングが０％線８１をほぼ中心として生じることは、透過率差が実質的にゼロに近いことを意味している。また、波長が短いほどハンチングの振幅が大きくなるのが確認された。
【０１０６】
シミュレーションにより求めた透過スペクトルから、ＸＹＺ表色系における等色関数を用いて、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々について、ＸＹＺ表色系におけるＹ値を求めた。具体的な算出方法はＪＩＳ Ｚ８７０１に規定されており、ここでの詳細な説明は省略する。この際、色の表示に用いる標準の光の分光分布として、標準の光Ｃの分光分布を用いた。次に、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるＹ値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域におけるＹ値との差（以下、ΔＹ（透過）と称される。後述する実施例においても同様である。）を求めた。結果、ΔＹ（透過）が０．０５５７％となっていた。
【０１０７】
（評価項目２ 反射率）
透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射スペクトルをシミュレーションにより求めた。結果を図７Ｃに示す。図７Ｃに示すように、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内において、光の透過スペクトルの場合と同様に、光の反射スペクトルのハンチングが見られた。
【０１０８】
透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射スペクトルと、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射スペクトルとの差（反射率差）を図７Ｄに示す。ここで、反射率差＝（透明導電体４０，４５が設けられていない領域における反射率）−（透明導電体４０，４５が設けられている領域における反射率）となっている（後述する実施例においても同様である）。図７Ｄに示すように、反射率差についても、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内においてハンチングが見られた。このハンチングは、図７Ｄに示すように、０％線８１をほぼ中心線として生じていた。このようにハンチングが０％線８１をほぼ中心として生じることは、反射率差が実質的にゼロに近いことを意味している。また、波長が短いほどハンチングの振幅が大きくなるのが確認された。
【０１０９】
シミュレーションにより求めた反射スペクトルから、ＸＹＺ表色系（ＪＩＳ Ｚ８７０１参照）における等色関数を用いて、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々について、ＸＹＺ表色系におけるＹ値を求めた（ＪＩＳ Ｚ８７０１参照）。この際、色の表示に用いる標準の光の分光分布として、標準の光Ｃの分光分布を用いた。次に、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるＹ値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域におけるＹ値との差（以下、ΔＹ（反射）と称される。後述する実施例においても同様である。）を求めた。結果、ΔＹ（反射）は０．０３０８％となっていた。
【０１１０】
（評価項目３ ｂ＊）
透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるＸＹＺ表色系のＸ値、Ｙ値およびＺ値（ＪＩＳ Ｚ８７０１参照）を用いて、透明導電体４０，４５が設けられている領域について、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊を求めた。具体的な算出方法はＪＩＳ Ｚ８７２９に規定されており、ここでの詳細な説明は省略する。なお色座標ｂ＊の定義は、後述する実施例においても同様である。結果、ｂ＊は０．２１３９となっていた。
【０１１１】
本実施例によれば、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０は、上記の表２に示す光屈折率および厚みを有する各層からなる基材フィルム３２と、基材フィルム３２の面３２ａ，３２ｂ上に所定のパターンで設けられた透明導電体４０，４５と、透明導電体４０，４５上に設けられた接着層１４，１９と、を含んでいる。このため、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内における、透過率差および反射率差のハンチングを、０％線８１をほぼ中心線として生じさせることができた。これによって、上述のように、ΔＹ（透過）、ΔＹ（反射）およびｂ＊の絶対値の値を十分に小さくすることができた。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができた。
【０１１２】
実施例２
接着層１４，１９の作用効果を確認するため、接着層１４，１９が設けられている場合と接着層１４，１９が設けられていない場合のそれぞれについて、透過率および反射率をシミュレーションにより求めた。以下、詳細について説明する。
【０１１３】
（シミュレーション条件）
接着層１４，１９が設けられており、かつ透明導電体４０，４５が設けられている領域に関しては、以下の層構成を仮定してシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／透明導電体／接着層（入射側媒質）
この場合、透明導電体の厚みを適宜変化させながらシミュレーションを行った。
【０１１４】
接着層１４，１９が設けられており、透明導電体４０，４５が設けられていない領域に関しては、以下の層構成を仮定してシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／接着層（入射側媒質）
【０１１５】
接着層１４，１９が設けられておらず、かつ透明導電体４０，４５が設けられている領域に関しては、以下の層構成を仮定してシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／透明導電体／大気（入射側媒質）
【０１１６】
接着層１４，１９が設けられておらず、透明導電体４０，４５が設けられていない領域に関しては、以下の層構成を仮定してシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／大気（入射側媒質）
【０１１７】
ここで上述のとおり、シミュレーションにおいては、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みを無限大に設定した。また、フィルム本体３３、透明導電体４０，４５および接着層１４，１９の光屈折率の値としては、表２に記載の値を用いた。
【０１１８】
（シミュレーション結果）
シミュレーションにより、接着層１４，１９が設けられている場合について、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値との差（ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過））を求めた。またシミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図８Ａに示す。
【０１１９】
図８Ａに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが１３ｎｍ以下となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。
【０１２０】
さらに、シミュレーションにより、接着層１４，１９が設けられていない場合について、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値との差（ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過））を求めた。またシミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図８Ｂに示す。
【０１２１】
図８Ｂに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが８ｎｍ以下となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。
【０１２２】
図８Ａと図８Ｂとの比較から明らかなように、透明導電体４０，４５と大気との間に接着層１４，１９を介在させることにより、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）を０．５％以下とし、かつｂ＊の絶対値を１．５以下とすることが可能な透明導電体４０，４５の厚みの範囲を１３ｎｍまで広げることができた。この原因の１つとしては、透明導電体４０，４５と大気の間の屈折率差に比べて、透明導電体４０，４５と接着層１４，１９の間の屈折率差が小さく、このため、接着層１４，１９を設けることによって透明導電体４０，４５における光の反射を抑制することができた点が考えられる。
【０１２３】
ところで上述のように、透明導電体４０、４５により電気信号を送るという観点からは、透明導電体４０、４５の厚みを可能な限り大きくし、これによって透明導電体４０、４５の面積抵抗率を３００Ω／□以下とすることが好ましい。一方、透明導電体４０、４５の比抵抗が４×１０−６Ωｍであり、透明導電体４０，４５の厚みが１３ｎｍである場合、透明導電体４０、４５の面積抵抗率は３０８Ω／□となる。従って、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下であり、かつｂ＊の絶対値が１．５以下であるという点を満たすことができる透明導電体４０、４５の厚みの範囲をより広げることが望まれる。
【０１２４】
以下の実施例においては、透明導電体４０、４５の面積抵抗率が十分に小さくなるとともに、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下であり、かつｂ＊の絶対値が１．５以下となる条件を探索するため、実施例１２を除いて、透明導電体４０、４５の厚みを１７ｎｍ（表２参照）としてシミュレーションを行った。以下、接着層１４，１９を設ける場合における、接着層１４，１９の光屈折率の最適な範囲、基材フィルム３２の各層の光屈折率および厚みの最適な範囲、および、透明導電体４０，４５の光屈折率および厚みの最適な範囲について、シミュレーションを用いて詳細に検討した結果について示す。
【０１２５】
実施例３
接着層１４，１９の光屈折率（実数部）を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に１．０、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７または１．８としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値を求めた。
【０１２６】
（評価項目１ 透過率）
透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過スペクトルをシミュレーションにより求めた。透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるシミュレーション結果を図９Ａに示し、透明導電体４０，４５が設けられていない領域におけるシミュレーション結果を図９Ｂに示す。図９Ａおよび図９Ｂに示すように、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内において、光の透過スペクトルの周期的な乱れ（ハンチング）が見られた。
【０１２７】
シミュレーションにより求められた透過スペクトルから、ＸＹＺ表色系における等色関数を用いて、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々について、ＸＹＺ表色系におけるＹ値を求めた。結果、接着層１４，１９の光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている場合、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々において、Ｙ値が９９％以上になっていた。このように高いＹ値を実現できた理由としては、以下のことが考えられる。
【０１２８】
上述のシミュレーションにおいて、表２に示すように、透明導電体４０，４５の光屈折率は、１．８５〜２．１５の範囲内となっている。一方、大気の光屈折率は１に設定されている。このような状況下において、接着層１４，１９の光屈折率を透明導電体４０，４５の光屈折率の値と大気の光屈折率との間で適切に設定することにより、Ｙ値を９９％以上にすることができたと考えられる。
【０１２９】
（評価項目２ 反射率）
透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射スペクトルをシミュレーションにより求めた。透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるシミュレーション結果を図９Ｃに示し、透明導電体４０，４５が設けられていない領域におけるシミュレーション結果を図９Ｄに示す。図９Ｃおよび図９Ｄに示すように、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内において、光の反射スペクトルの周期的な乱れ（ハンチング）が見られた。
【０１３０】
（評価項目３ 透過率差）
透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過スペクトルと、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過スペクトルとの差（透過率差）を求めた。結果を図９Ｅに示す。図９Ｅに示すように、接着層１４，１９の光屈折率を大きくするにつれて、ハンチングの振幅が小さくなるのが確認された。また、波長４００ｎｍ以上の領域において、０％線８１をほぼ中心線としてハンチングが生じるのが確認された。
【０１３１】
（評価項目４ 反射率差）
透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射スペクトルと、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射スペクトルとの差（反射率差）を求めた。結果を図９Ｆに示す。図９Ｆに示すように、接着層１４，１９の光屈折率を大きくするにつれて、ハンチングの振幅が小さくなるのが確認された。また、波長４００ｎｍ以上の領域において、０％線８１をほぼ中心線としてハンチングが生じるのが確認された。
【０１３２】
（評価項目５ Ｙ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊）
上述のシミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）を求めた。また、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図９Ｇに示す。図９Ｇに示すように、接着層１４，１９の光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が０．５以下となっていた。
また上述のように、接着層１４，１９の光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている場合、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々において、Ｙ値が９９％以上となっていた。このように、大気と透明導電体４０，４５との間に、光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている接着層１４，１９を介在させることにより、Ｙ値を十分に大きくするとともに、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊を十分に小さくすることができた。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができるとともに、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０を透過する光の輝度を十分に大きくすることができる。
【０１３３】
実施例４
アンダーコート層７１，７６の厚みを、０、１００、２００、５００、６００、９００、９５０、１０００、２０００、３０００、４０００、５０００または１００００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値との差（ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過））を求めた。またシミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１０に示す。
【０１３４】
図１０に示すように、アンダーコート層７１，７６の厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が０．２５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、アンダーコート層７１，７６の厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１３５】
実施例５
アンダーコート層７１，７６の光屈折率を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に１．３、１．３５、１．４、１．４４、１．４７、１．４９、１．５、１．５１、１．５２、１．５３、１．５９、１．６、１．６９、１．７、１．８または２．０としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１１Ａおよび図１１Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１１Ｃに示す。
なお表２から明らかなように、アクリル樹脂などからなるアンダーコート層７１，７６における光屈折率の波長依存性は、透明導電体４０，４５または高屈折率層７２，７７における光屈折率の波長依存性に比べて小さい。従って本実施例においては、上述のように、アンダーコート層７１，７６の光屈折率を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律の値とした。
【０１３６】
図１１Ａに示すように、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．４の場合、長波長領域（波長５００ｎｍ以上）では０％線８１よりも上でハンチングし、短波長領域（波長５００ｎｍ以下）では０％線８１よりも下でハンチングしていた。一方、光屈折率が２．０の場合、長波長領域（波長５００ｎｍ以上）では０％線８１よりも下でハンチングし、短波長領域（波長５００ｎｍ以下）では０％線８１よりも上でハンチングしていた。そして、光屈折率が１．６近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。また、光屈折率が１．６近傍の場合、ハンチングの振幅が、その他の光屈折率の場合に比べて小さくなっていた。
なお、本明細書において、「０％線８１よりも上でハンチングする」とは、ハンチングの中心（振幅の中心）が０％線８１よりも上にあることを意味している。同様に、「０％線８１よりも下でハンチングする」とは、ハンチングの中心が０％線８１よりも下にあることを意味している。また、「０％線８１付近でハンチングする」とは、ハンチングの中心が０％線８１近傍にあることを意味している。
【０１３７】
図１１Ｂに示すように、反射率差に関しても、透過率差の場合と同様に、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．６近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングし、かつハンチングの振幅も比較的小さくなっていた。
【０１３８】
図１１Ｃに示すように、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．４４〜１．５９の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．５０〜１．５３の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっており、より好ましくは１．４４〜１．５９の範囲内となっており、さらに好ましくは１．５０〜１．５３の範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１３９】
実施例６
高屈折率層７２，７７の厚みを、０、１、２、３．４、４、５、５．４、５．８、６、６．３、６．４、７、７．２、８、８．６、１０、１１または１２ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１２Ａおよび図１２Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１２Ｃに示す。
【０１４０】
透過率差については、図１２Ａに示すように、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍの場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。一方、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍよりも小さくなるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。また、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍよりも大きくなるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１４１】
反射率差については、図１２Ｂに示すように、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍの場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。一方、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍよりも小さくなるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。また、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍよりも大きくなるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１４２】
図１２Ｃに示すように、高屈折率層７２，７７の厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、高屈折率層７２，７７の厚みが５．０〜７．２ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、高屈折率層７２，７７の厚みが５．８〜６．３ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、高屈折率層７２，７７の厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、より好ましくは５．０〜７．２ｎｍの範囲内となっており、さらに好ましくは５．８〜６．３ｎｍの範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１４３】
実施例７
高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を、表２に示す光屈折率から、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に＋０．３、＋０．２２、＋０．２、＋０．１２、＋０．１、＋０．０４、＋０．０３、０、−０．０２、−０．０７、−０．１１、−０．１４、−０．２、−０．２７または−０．３としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１３Ａおよび図１３Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１３Ｃに示す。
【０１４４】
透過率差については、図１３Ａに示すように、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が負の場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が正の場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１４５】
反射率差については、図１３Ｂに示すように、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が負の場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が正の場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１４６】
図１３Ｃに示すように、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．２７〜＋０．２２の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．１１〜＋０．１２の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．０２〜＋０．０３の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっている。より好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．１８＋０．１２／−０．１１の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．３６＋０．１２／−０．１１の範囲内となっている。さらに好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．１８＋０．０３／−０．０２の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．３６＋０．０３／−０．０２の範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１４７】
実施例８
表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることの作用効果を確認するため、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合の透過率差および反射率差をシミュレーションにより求めた。結果を図１４Ａおよび図１４Ｂに示す。図１４Ａおよび図１４Ｂには、比較のため、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を、表２に示すような波長依存性を有する値とした場合のシミュレーション結果も併せて示されている。
【０１４８】
透過率差については、図１４Ａに示すように、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。反射率差については、図１４Ｂに示すように、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。このことから、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透過率差および反射率差のハンチングをより０％線８１付近で生じさせることが可能になると考えられる。
【０１４９】
ここで図１４Ａに示す結果についてさらに詳細に検討する。波長５００ｎｍ以下の領域においては、図１４Ａに示すように、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合、および、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いる場合のいずれにおいても、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。ここで上述のとおり、透過率差＝（透明導電体４０，４５が設けられていない領域における透過率）−（透明導電体４０，４５が設けられている領域における透過率）となっている。従って、波長５００ｎｍ以下の領域においては、高屈折率層７２，７７の光屈折率の波長依存性に依らず、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における透過率が、透明導電体４０，４５が設けられている領域における透過率よりも高いと言える。すなわち、透明導電体４０，４５が設けられていない領域を透過した光は、透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光に比べて、より多くの青色光成分を含んでいると言える。
ここで図１４Ａに示すように、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いる場合の透過率差のハンチングは、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合のハンチングに比べて、０％線８１付近で生じている。このため、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透明導電体４０，４５が設けられていない領域を透過した光と、透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光との間での青色光成分の差を小さくすることができる。従って、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透過率差を小さくするだけでなく、透明導電体４０，４５が設けられていない領域を透過した光と、透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光との間での色相の差を小さくすることができる。すなわち、透過率の差（強度の差）と色相の差の両面において、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
同様に、図１４Ｂに示すように、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いる場合の反射率差のハンチングは、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合のハンチングに比べて、０％線８１付近で生じている。このため、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透明導電体４０，４５が設けられていない領域で反射した光と、透明導電体４０，４５が設けられている領域で反射した光との間での色相の差を小さくすることができる。すなわち、反射率の差（強度の差）と色相の差の両面において、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１５０】
このように本発明の高屈折率層７２，７７により、透過率差および反射率差のハンチングが０％線８１をほぼ中心線として生じるようにすることが可能となることについては、例えば以下のような理由が考えられる。表２に示す様に、本発明による高屈折率層７２，７７および透明導電体４０，４５は、光波長が短波長域（光波長３８０ｎｍ）から長波長域（光波長７８０ｎｍ）となるにつれて光屈折率（実数部）が約０．３だけ小さくなっている。すなわち、高屈折率層７２，７７の光屈折率の波長依存性は、透明導電体４０，４５の光屈折率の波長依存性に類似している。従って、この様な屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透明導電体４０，４５の屈折率の波長依存性に起因する透過率差および反射率差の波長依存性を適切に補正することが出来たと考えられる。
【０１５１】
実施例９
高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に＋０．６、＋０．５、＋０．４７、＋０．４、＋０．３３、＋０．３、＋０．２５、＋０．２１、＋０．２、＋０．１９、＋０．１５、＋０．１、０、−０．０６、−０．１または−０．２としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１５Ａおよび図１５Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１５Ｃに示す。
【０１５２】
透過率差については、図１５Ａに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が＋０．２よりも小さい場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が＋０．２よりも大きい場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１５３】
反射率差については、図１５Ｂに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が＋０．２よりも小さい場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が＋０．２よりも大きい場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１５４】
図１５Ｃに示すように、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）が、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から波長によらず一律で−０．０６〜＋０．４７の範囲内の値だけ変位した光屈折率となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）が、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から波長によらず一律で＋０．１〜＋０．３３の範囲内の値だけ変位した光屈折率となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）が、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から波長によらず一律で＋０．１９〜＋０．２５の範囲内の値だけ変位した光屈折率なっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、高屈折率層７２，７７の光屈折率は、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から−０．０６〜＋０．４７の範囲内の値だけ変位した値となっており、より好ましくは表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から＋０．１〜＋０．３３の範囲内の値だけ変位した値となっており、さらに好ましくは表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から＋０．１９〜＋０．２５の範囲内の値だけ変位した値となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
このことから、透明導電体４０，４５と同様の光屈折率の波長依存性を有するとともに、透明導電体４０，４５の光屈折率から所定量だけずれた光屈折率を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができると言える。
【０１５５】
実施例１０
低屈折率層７３，７８の厚みを、０、２０、２８、４０、４１、５０、５５、５７、６０、６１、６４、６８、７０、７８、８５、９１または１００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１６Ａおよび図１６Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１６Ｃに示す。
【０１５６】
透過率差については、図１６Ａに示すように、低屈折率層７３，７８の厚みが５５ｎｍ近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。また、低屈折率層７３，７８の厚みが５５ｎｍからずれるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１５７】
反射率差については、図１６Ｂに示すように、低屈折率層７３，７８の厚みが５５ｎｍ近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。また、低屈折率層７３，７８の厚みが５５ｎｍからずれるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１５８】
図１６Ｃに示すように、低屈折率層７３，７８の厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、低屈折率層７３，７８の厚みが５０〜８５ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、低屈折率層７３，７８の厚みが５７〜７８ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、低屈折率層７３，７８の厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、より好ましくは５０〜８５ｎｍの範囲内となっており、さらに好ましくは５７〜７８ｎｍの範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１５９】
実施例１１
低屈折率層７３，７８の光屈折率を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に１．２、１．２８、１．３、１．３６、１．４、１．４２、１．４５３、１．４９、１．５、１．６、１．６６、１．７、１．７２、１．８、１．８６または２．０としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１７Ａおよび図１７Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１７Ｃに示す。
なお表２から明らかなように、二酸化珪素（ＳｉＯ２）などからなる低屈折率層７３，７８における光屈折率の波長依存性は、透明導電体４０，４５または高屈折率層７２，７７における光屈折率の波長依存性に比べて小さい。従って本実施例においては、上述のように、低屈折率層７３，７８の光屈折率を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律の値とした。
【０１６０】
図１７Ａに示すように、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．２の場合、長波長領域（波長５００ｎｍ以上）では０％線８１よりも下でハンチングし、短波長領域（波長５００ｎｍ以下）では０％線８１よりも上でハンチングしていた。一方、光屈折率が１．８の場合、長波長領域（波長５００ｎｍ以上）では０％線８１よりも上でハンチングし、短波長領域（波長５００ｎｍ以下）では０％線８１よりも下でハンチングしていた。そして、光屈折率が１．４または１．６の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。
【０１６１】
図１７Ｂに示すように、反射率差に関しても、透過率差の場合と同様に、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．４または１．６の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。
【０１６２】
図１７Ｃに示すように、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．３６〜１．８０の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．４２〜１．４９の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、低屈折率層７３，７８が１．２８〜１．８６の範囲内となっており、より好ましくは１．３６〜１．８０の範囲内となっており、さらに好ましくは１．４２〜１．４９の範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１６３】
実施例１２
透明導電体４０，４５の厚みを、０、５、８、１０、１０．７、１５、１５．３、１５．７、１６、１７、１７．７、１８、１９．８、２０、２２．７または２５ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１８Ａおよび図１８Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１８Ｃに示す。
【０１６４】
透過率差については、図１８Ａに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍ近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。一方、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍよりも小さくなるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。また、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍよりも大きくなるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られるとともに、ハンチングの振幅が大きくなった。
【０１６５】
反射率差については、図１８Ｂに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍ近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。一方、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍよりも小さくなるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。また、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍよりも大きくなるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られるとともに、ハンチングの振幅が大きくなった。
【０１６６】
図１８Ｃに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが２２．７ｎｍ以下となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、透明導電体４０，４５の厚みが１０．７〜１９．８ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、透明導電体４０，４５の厚みが１５．７〜１７．７ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、透明導電体４０，４５の厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、より好ましくは１０．７〜１９．８ｎｍの範囲内となっており、さらに好ましくは１５．７〜１７．７ｎｍの範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１６７】
実施例１３
透明導電体４０，４５の光屈折率（実数部）を、表２に示す光屈折率から、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に＋０．３、＋０．２、＋０．１３、＋０．１、＋０．０６、＋０．０５、＋０．０１、０、−０．０３、−０．１、−０．１３、−０．２、−０．２５または−０．３としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１９Ａおよび図１９Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１９Ｃに示す。
【０１６８】
透過率差については、図１９Ａに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が負の場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が正の場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１６９】
反射率差については、図１９Ｂに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が負の場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が正の場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１７０】
図１９Ｃに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．３〜＋０．１３の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．１３〜＋０．０６の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．０３〜＋０．０１の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっている。より好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が１．９７＋０．０６／−０．１３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が２．１２＋０．０６／−０．１３の範囲内となっている。さらに好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が１．９７＋０．０１／−０．０３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が２．１２＋０．０１／−０．０３の範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【符号の説明】
【０１７１】
１０ 入出力装置
１２ 保護カバー
１４ 第１接着層
１５ 表示装置
１９ 第２接着層
２０ タッチパネル装置
３０ タッチパネルセンサ
３２ 基材フィルム
３２ａ 面（一側の面）
３２ｂ 面（他側の面）
３３ フィルム本体
３６ａ 第１センサ電極
３６ｂ 第１取出配線
３６ｃ 検出制御部との接続端子部
３７ａ 第２センサ電極
３７ｂ 第２取出配線
３７ｃ 検出制御部との接続端子部
４０ 第１透明導電体
４１ 第１センサ部
４１ａ ライン部
４１ｂ 膨出部
４２ 第１接続部
４３ 第１取出導電体
４５ 第２透明導電体
４６ 第２センサ部
４６ａ ライン部
４６ｂ 膨出部
４７ 第２接続部
４８ 第２取出導電体
５０ 積層体（ブランクス）
５２ａ 第１透明導電層
５２ｂ 第２透明導電層
５４ａ 第１遮光導電層
５４ｂ 第２遮光導電層
７０ 第１機能層
７１ 第１アンダーコート層
７１ａ 面（一側の面）
７２ 第１高屈折率層
７２ａ 面（一側の面）
７３ 第１低屈折率層
７５ 第２機能層
７６ 第２アンダーコート層
７６ｂ 面（他側の面）
７７ 第２高屈折率層
７７ｂ 面（他側の面）
７８ 第２低屈折率層
８０ 中間積層体
８１ ０％線
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明シート付タッチパネルセンサに関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能になっている。タッチパネルセンサのうち表示装置の表示領域に対応する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの透明な領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成している。
【０００３】
タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別される。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。容量結合方式のタッチパネル装置においては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）する際、新たに奇生容量が発生する。この奇生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネルセンサ上における対象物の位置が検出される。容量結合方式には表面型と投影型とがあるが、マルチタッチの認識（多点認識）への対応に適していることから、投影型が注目を浴びている（例えば、特許文献１）。
【０００４】
投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、誘電体と、誘電体の両側に異なるパターンでそれぞれ形成された第１センサ電極および第２センサ電極と、を有している。典型的には、第１センサ電極および第２センサ電極は、格子状に配列された透明導電体を有し、外部導体（典型的には、指）がタッチパネルセンサに接触または接近した際に生じる、電磁的な変化または静電容量の変化に基づき、透明導電体の位置を検出するようになっている。
【０００５】
このような投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、一般に、第１透明基板に第１アンダーコート層を介して第１透明導電層が形成された第１フィルムと、第２透明基板に第２アンダーコート層を介して第２透明導電層が形成された第２フィルムとを粘着層により接合することで作製されている（例えば、特許文献２）。特許文献２において、各アンダーコート層は、低屈折率層と、低屈折率層よりも光屈折率が高い高屈折率層とを含む積層体から構成されている。
【０００６】
投影型容量結合方式のタッチパネルセンサにおいて、一般に、透明導電体の光屈折率は比較的に大きく、このため、タッチパネルセンサのうち透明導電体が配列されている領域と透明導電体が配列されていない領域との間における光の透過率および反射率の差が大きくなる場合がある。このように領域間における光の透過率および反射率の差が大きい場合、透明導電体のパターンがタッチパネルセンサの使用者から視認されることになり、意匠上の観点から好ましくない。このような課題を解決するため、例えば特許文献２においては、粘着層として用いる材料の光屈折率を適宜調整することにより、領域間における光の反射率の差が低減されたタッチパネルセンサが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平９−２９２９５０号公報
【特許文献２】特開２００８−９８１６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、昨今においては、タッチパネル装置およびタッチパネルセンサに対して、薄型化および光学特性の向上が要望されている。しかしながら、特許文献２に記載のタッチパネルセンサにおいては、二枚のフィルムセンサが貼り合わされるとともに、二枚のフィルムセンサ間に粘着層（ＯＣＡ、Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）が介在されているため、タッチパネルセンサの厚みが大きくなるだけでなく、透過光に対して光学的作用を及ぼし得る界面の数を増やしてしまう。この結果、表示装置からの映像光の透過率を低下させてしまうとともに、表示装置が表示する映像の画質を劣化させてしまう。また、粘着層を多く用いることにより製造コストも増大する。
【０００９】
本発明は、このような課題を効果的に解決し得る透明シート付タッチパネルセンサを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなる透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、を備え、基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、を有し、前記第１透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、前記第１アンダーコート層および前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっていることを特徴とする透明シート付タッチパネルセンサである。
【００１１】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっていてもよい。
【００１２】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、（前記第１透明導電体の光屈折率−０．０６）〜（前記第１透明導電体の光屈折率＋０．４７）の範囲内となっていてもよい。
【００１３】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１低屈折率層は、その厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている。
【００１４】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１アンダーコート層は、その厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている。
【００１５】
本発明は、タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなる透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、基材フィルムの他側の面上にパターニングされた第２透明導電体と、を備え、基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、フィルム本体の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２アンダーコート層と、第２アンダーコート層の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２高屈折率層と、第２高屈折率層の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２低屈折率層と、を有し、前記第１透明導電体および前記第２透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、前記第１アンダーコート層および前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、前記第２アンダーコート層および前記第２低屈折率層の光屈折率は、前記第２透明導電体および前記第２高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっていることを特徴とする透明シート付タッチパネルセンサである。
【００１６】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記第１高屈折率層および前記第２高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっていてもよい。
【００１７】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、（前記第１透明導電体の光屈折率−０．０６）〜（前記第１透明導電体の光屈折率＋０．４７）の範囲内となっており、前記第２高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、（前記第２透明導電体の光屈折率−０．０６）〜（前記第２透明導電体の光屈折率＋０．４７）の範囲内となっていてもよい。
【００１８】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１低屈折率層および前記第２低屈折率層は、その厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている。
【００１９】
本発明による透明シート付タッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１アンダーコート層および前記第２アンダーコート層は、その厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、透明シート付タッチパネルセンサは、タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなっている。このうちタッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、を備えている。また基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、を有している。そして、第１透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっている。また、タッチパネルセンサと透明シートとの間に介在された接着層は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている。このように、大気の光屈折率と第１透明導電体の光屈折率との間の適切な範囲内に接着層の光屈折率を設定することにより、このような接着層が設けられていない場合に比べて、第１透明導電体において光が反射されるのを抑制することができる。また、第１アンダーコート層および第１低屈折率層の光屈折率は、第１透明導電体および第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっている。このため、タッチパネルセンサのうち第１透明導電体がパターニングされている領域とパターニングされていない領域との間における光の透過率および反射率の差を小さくすることができる。このことにより、第１透明導電体のパターンが透明シート付タッチパネルセンサの外部から視認されるのを防ぐことができ、これによって、透明シート付タッチパネルセンサの意匠性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、タッチパネル装置を表示装置とともに概略的に示す透明シート付タッチパネルセンサ図である。
【図２】図２は、図１のタッチパネル装置のタッチパネルセンサを表示装置ともに示す断面図である。なお、図２に示された断面は、図１のII−II線に沿った断面に概ね対応している。
【図３Ａ】図３Ａは、タッチパネル装置のタッチパネルセンサを示す上面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３ＡのIII−III線に沿った断面図である。
【図４】図４（ａ）は、透明シート付タッチパネルセンサに含まれる基材フィルムの具体例を示す図であり、図４（ｂ）は、基材フィルムの機能層により透過光のスペクトルが各波長域で平坦にされる様子を示す図である。
【図５】図５（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は、タッチパネルセンサを作製するために用いられる積層体を製造する方法を説明するための図である。
【図６】図６は、本発明による透明シート付タッチパネルセンサの各構成要素において、屈折率の波長依存性の一例を示す図である。
【図７Ａ】図７Ａは、実施例１において、透明導電体が設けられている領域における透過スペクトルを示す図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、実施例１において、透明導電体が設けられていない領域における透過スペクトルを示す図である。
【図７Ｃ】図７Ｃは、実施例１において、透明導電体が設けられている領域における反射スペクトルを示す図である。
【図７Ｄ】図７Ｄは、実施例１において、透明導電体が設けられていない領域における反射スペクトルを示す図である。
【図８Ａ】図８Ａは、実施例２において、接着層が設けられている場合の、透明導電体の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、実施例２において、接着層が設けられてない場合の、透明導電体の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図９Ａ】図９Ａは、実施例３において、透明導電体が設けられている領域における透過スペクトルを示す図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、実施例３において、透明導電体が設けられていない領域における透過スペクトルを示す図である。
【図９Ｃ】図９Ｃは、実施例３において、透明導電体が設けられている領域における反射スペクトルを示す図である。
【図９Ｄ】図９Ｄは、実施例３において、透明導電体が設けられていない領域における反射スペクトルを示す図である。
【図９Ｅ】図９Ｅは、実施例３における透過率差を示す図である。
【図９Ｆ】図９Ｆは、実施例３における反射率差を示す図である。
【図９Ｇ】図９Ｇは、実施例３において、接着層の光屈折率と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１０】図１０は、実施例４において、アンダーコート層の厚みと、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、実施例５における透過率差を示す図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、実施例５における反射率差を示す図である。
【図１１Ｃ】図１１Ｃは、実施例５において、アンダーコート層の光屈折率と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１２Ａ】図１２Ａは、実施例６における透過率差を示す図である。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、実施例６における反射率差を示す図である。
【図１２Ｃ】図１２Ｃは、実施例６において、高屈折率層の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、実施例７における透過率差を示す図である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、実施例７における反射率差を示す図である。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、実施例７において、高屈折率層の光屈折率の変位量と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、実施例８における透過率差を示す図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、実施例８における反射率差を示す図である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、実施例９における透過率差を示す図である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、実施例９における反射率差を示す図である。
【図１５Ｃ】図１５Ｃは、実施例９において、高屈折率層の光屈折率の変位量（透明導電体の屈折率との差）と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１６Ａ】図１６Ａは、実施例１０における透過率差を示す図である。
【図１６Ｂ】図１６Ｂは、実施例１０における反射率差を示す図である。
【図１６Ｃ】図１６Ｃは、実施例１０において、低屈折率層の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１７Ａ】図１７Ａは、実施例１１における透過率差を示す図である。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、実施例１１における反射率差を示す図である。
【図１７Ｃ】図１７Ｃは、実施例１１において、低屈折率層の光屈折率と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１８Ａ】図１８Ａは、実施例１２における透過率差を示す図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、実施例１２における反射率差を示す図である。
【図１８Ｃ】図１８Ｃは、実施例１２において、透明導電体の膜厚と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【図１９Ａ】図１９Ａは、実施例１３における透過率差を示す図である。
【図１９Ｂ】図１９Ｂは、実施例１３における反射率差を示す図である。
【図１９Ｃ】図１９Ｃは、実施例１３において、透明導電体の光屈折率の変位量と、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００２３】
なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２４】
また、本件において、「シート」、「フィルム」、「板」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「シート」はフィルムや板等とも呼ばれ得るような部材や部分も含む概念である。
【００２５】
タッチパネル装置
はじめに図１および図２を参照して、タッチパネルセンサ３０を備えたタッチパネル装置２０全体について説明する。図１および図２に示されたタッチパネル装置２０は、投影型の静電容量結合方式として構成され、タッチパネル装置２０への外部導体（例えば、人間の指）の接触位置を検出可能に構成されている。なお、静電容量結合方式のタッチパネル装置２０の検出感度が優れている場合には、外部導体がタッチパネル装置に接近しただけで当該外部導体がタッチパネル装置のどの領域に接近しているかを検出することができる。従って、ここで用いる「接触位置」とは、実際には接触していないが位置を検出され得る接近位置を含む概念とする。
【００２６】
図１および図２に示すように、タッチパネル装置２０は、表示装置（例えば液晶表示装置）１５と組み合わせて用いられることにより、入出力装置１０を構成する。図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部１７と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができる表示領域Ａ１と、表示領域Ａ１を取り囲むようにして表示領域Ａ１の外側に配置された非表示領域（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部１７は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。表示パネル１６は、表示制御部１７の制御信号に基づいて、所定の映像を表示面１６ａに表示する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。
【００２７】
図１および図２に示すように、タッチパネル装置２０は、表示装置１５の表示面１６ａ上配置されたタッチパネルセンサ３０と、タッチパネルセンサ３０の観察者側（一側）に第１接着層１４を介して設けられた保護カバー（透明シート）１２と、タッチパネルセンサ３０に接続された検出制御部２５と、を有している。このうちタッチパネルセンサ３０は、図２に示すように、表示装置１５の表示面１６ａ上に第２接着層１９を介して接着されている。上述したように、タッチパネル装置２０は、投影型容量結合方式のタッチパネル装置として構成されており、情報を入力する入力装置としての役割を担っている。
【００２８】
上述の保護カバー１２は、誘電体として機能するとともに、透光性を有するものであり、この保護カバー１２が、タッチパネル装置２０への入力面（タッチ面、接触面）となる。つまり、保護カバー１２に導体、例えば人間の指５を接触させることにより、タッチパネル装置２０に対して外部から情報を入力することができるようになっている。また、保護カバー１２は、入出力装置１０の最観察者側面をなしており、入出力装置１０において、タッチパネル装置２０および表示装置１５を外部から保護するカバーとしても機能する。
【００２９】
この保護カバー１２の厚みは、例えば約１ｍｍとなっている。また、保護カバー１２は、強化ガラスなどのガラスや、若しくは、ＰＭＭＡ（アクリル樹脂）、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのプラスチックから構成されている。プラスチックなどからなる柔軟性を有する保護カバー１２がタッチパネルセンサ３０に第１接着層１４を介して取り付けられる場合、組立や取り扱いの容易さを確保しながら、タッチパネルセンサ３０を外部から保護することが可能となる。
【００３０】
また接着層１４，１９は、後述するように、タッチパネルセンサ３０の透明導電体４０，４５において生じる光の反射を抑制し、これによって、表示装置１５からの映像光の透過率を向上させるという機能も担っている。このような機能を果たすため、接着層１４，１９の光屈折率は、好ましくは１．４〜１．８（光波長５５０ｎｍ）の範囲内となっている。接着層１４，１９の厚みは、保護カバー１２または表示装置１５の構成などに応じて適宜設定されるが、例えば１０〜１００μｍの範囲内となっている。例えば、２５μｍまたは５０μｍの厚みを有する接着層１４，１９が主に使用される。
【００３１】
接着層１４，１９を構成する材料としては、透光性を有するとともに、上述の光屈折率を有する種々の接着材料を用いることができる。例えば、アクリル系粘着材やポリエーテル系粘着材を用いることができる。より具体的には、積水化学製の＃５４００Ａシリーズ、日東電工製のＬＵＣＩＡＣＳなどが用いられる。また、本明細書において、「接着（層）」は粘着（層）をも含む概念として用いられる。
【００３２】
上述の検出制御部２５には、タッチパネルセンサ３０の後述するセンサ電極からの信号が伝達されており、この検出制御部２５により、保護カバー１２を介して入力された情報が処理される。具体的には、検出制御部２５は、保護カバー１２へ導体（典型的には、人間の指）５が接触している際に、保護カバー１２への導体５の接触位置を特定し得るように構成された回路（検出回路）を含んでいる。また、検出制御部２５が、表示装置１５の表示制御部１７と連動していてもよい。この場合、検出制御部２５は、処理した入力情報を表示制御部１７へ送信することができる。この際、表示制御部１７は、入力情報に基づいた映像情報を作成し、入力情報に対応した映像を表示パネル１６に表示させることができる。これら検出制御部２５および表示制御部１７の具体的な構成や配置などが特に限られることはない。例えば、検出制御部２５および表示制御部１７は、表示装置１５内に組み入れられる制御基板として構成されてもよく、または、表示装置１５とは別体に設けられる制御基板として構成されてもよい。
【００３３】
なお、「容量結合」方式および「投影型」の容量結合方式との用語は、タッチパネルの技術分野で用いられる際の意味と同様の意味を有するものとして、本件において用いられている。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネル装置は導電体層を含んでおり、外部の導体（典型的には人間の指）がタッチパネルに接触することにより、外部の導体とタッチパネル装置の導電体層との間でコンデンサ（静電容量）が形成される。そして、このコンデンサの形成にともなった電気的な状態の変化に基づき、タッチパネル上において外部導体が接触している位置の位置座標が特定される。また、「投影型」の容量結合方式は、タッチパネルの技術分野において「投影式」の容量結合方式等とも呼ばれており、本件では、この「投影式」の容量結合方式等と同義の用語として取り扱う。「投影型」の容量結合方式とは、典型的には、格子状に配列されたセンサ電極を用いて外部導体が接触している位置を検出する方式であり、膜状の電極を用いる「表面型」の容量結合方式と対比され得る。
【００３４】
タッチパネルセンサ
次に図２乃至図３Ｂを参照して、タッチパネルセンサ３０について詳述する。図２乃至図３Ｂに示すように、タッチパネルセンサ３０は、基材フィルム３２と、基材フィルム３２の観察者側（一側）の面３２ａ上に所定のパターンで設けられた第１透明導電体４０と、基材フィルム３２の表示装置１５側（他側）の面３２ｂ上に所定のパターンで設けられた第２透明導電体４５と、を有している。
【００３５】
このうち基材フィルム３２は、タッチパネルセンサ３０において誘電体として機能するものである。図３Ａに示すように、基材フィルム３２は、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１に隣接する非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。このうちアクティブエリアＡａ１は、図１に示すように、表示装置１５の表示領域Ａ１に対応する領域を占めており、一方、非アクティブエリアＡａ２は、矩形状のアクティブエリアＡａ１を四方から周状に取り囲むように、言い換えると、額縁状に形成されている。この非アクティブエリアＡａ２は、表示装置１５の非表示領域Ａ２に対応する領域に形成されている。
【００３６】
前述のとおり、基材フィルム３２には第１透明導電体４０および第２透明導電体４５が設けられており、このうち基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１に設けられた第１透明導電体４０および第２透明導電体４５により、外部導体５との間で容量結合を形成し得る第１センサ電極３６ａおよび第２センサ電極３７ａがそれぞれ形成されている（図３Ａ参照）。基材フィルム３２、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５はそれぞれ透光性を有しており、このため観察者は、これらを介して、表示装置１５に表示された映像を観察することができる。
【００３７】
一方、図３Ａに示すように、基材フィルム３２の非アクティブエリアＡａ２に設けられた第１透明導電体４０および第２透明導電体４５により、第１センサ電極３６ａおよび第２センサ電極３７ａとの電気的接続を有する第１取出配線３６ｂおよび第２取出配線３７ｂがそれぞれ形成されている。取出配線３６ｂ，３７ｂは、その一端においてセンサ電極３６ａ，３７ａに接続され、また、その他端において、外部導体５の表示面１６ａへの接触位置を検出するように構成された検出制御部２５の検出回路に電気的に接続されている。
【００３８】
なお図３Ａおよび図３Ｂに示すように、第１取出配線３６ｂは、第１透明導電体４０の一部分上に設けられた第１取出導電体４３を更に含んでいてもよい。同様に、第２取出配線３７ｂは、第２透明導電体４５の一部分上に設けられた第２取出導電体４８（後に図５（ｄ）にて示す）を更に含んでいてもよい。ここで、第１取出導電体４３の比抵抗は第１透明導電体４０の比抵抗よりも小さくなっており、また第２取出導電体４８の比抵抗は第２透明導電体４５の比抵抗よりも小さくなっている。このため、第１取出配線３６ｂおよび第２取出配線３７ｂが第１取出導電体４３および第２取出導電体４８を更に含むことにより、センサ電極３６ａ，３７ａからの電気信号をより効率良く検出制御部２５の検出回路に伝導させることができる。
【００３９】
なお図３Ｂにおいては、第１取出導電体４３が単層からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第１取出導電体４３は、比抵抗の小さな金属層、耐酸化性、耐水性などを有する保護層、および、金属層と保護層の間の密着性を向上させる中間層など、複数の層を含んでいてもよい。同様に、第２取出導電体４８も、金属層、保護層および中間層など、複数の層を含んでいてもよい。
【００４０】
次に、タッチパネルセンサ３０を構成する各要素についてさらに詳述する。
【００４１】
透明導電体
はじめに、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５について詳述する。第１透明導電体４０および第２透明導電体４５は、導電性を有した材料から形成されている。これら透明導電体４０，４５は、外部導体５の保護カバー１２への接触位置を検出するように構成された検出制御部２５の検出回路に電気的に接続されている。第１透明導電体４０は、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１に配置された多数の第１センサ部（第１センサ導電体、センサ電極）４１と、各第１センサ部４１にそれぞれ接続され基材フィルム３２の非アクティブエリアＡａ２に配置された多数の第１接続部（第１端子導電体）４２と、を有している。同様に、第２透明導電体４５は、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１に配置された多数の第２センサ部（第２センサ導電体、センサ電極）４６と、各第２センサ部４６にそれぞれ接続され基材フィルム３２の非アクティブエリアＡａ２に配置された多数の第２接続部（第２端子導電体）４７と、を有している。
【００４２】
第１透明導電体４０の第１センサ部４１は、基材フィルム３２の一側（観察者側）の面３２ａ上に所定のパターンで配置されている。また、第２透明導電体４５の第２センサ部４６は、基材フィルム３２の他側（表示装置１５の側）の面３２ｂ上に、第１透明導電体４０の第１センサ部４１のパターンとは異なる所定のパターンで配置されている。より具体的には、図３Ａに示すように、第１透明導電体４０の第１センサ部４１は、基材フィルム３２のフィルム面に沿った一方向に並べて配列された線状導電体として構成されている。また、第２透明導電体４５の第２センサ部４６は、前記一方向と交差する基材フィルム３２のフィルム面に沿った他方向に並べて配列された線状導電体として構成されている。図３Ａに示すように、第１センサ部４１の配列方向である一方向と、第２センサ部４６の配列方向である他方向は、基材フィルム３２のフィルム面上において直交している。
【００４３】
図３Ａに示すように、第１センサ部４１をなす線状導電体の各々は、その配列方向（前記一方向）と交差する方向に線状に延びている。同様に、第２センサ部４６をなす線状導電体の各々は、その配列方向（前記他方向）と交差する方向に線状に延びている。とりわけ図示する例において、第１センサ部４１は、その配列方向（前記一方向）と直交する方向（前記他方向）に沿って直線状に延びており、第２センサ部４６は、その配列方向（前記他方向）と直交する方向（前記一方向）に沿って直線状に延びている。
【００４４】
本実施の形態において、各第１センサ部４１は、直線状に延びるライン部４１ａと、ライン部４１ａから膨出した膨出部４１ｂと、を有している。図示する例において、ライン部４１ａは、第１センサ部４１の配列方向と交差する方向に沿って直線状に延びている。膨出部４１ｂは、基材フィルム３２のフィルム面に沿ってライン部４１ａから膨らみ出ている部分である。したがって、各第１センサ部４１の幅は、膨出部４１ｂが設けられている部分において太くなっている。図３Ａに示すように、本実施の形態において、各第１センサ部４１は、膨出部４１ｂにおいて平面視略正方形形状の外輪郭を有するようになっている。
【００４５】
第２透明導電体４５に含まれる第２センサ部４６も、第１透明導電体４０に含まれる第１センサ部４１と同様に構成されている。すなわち、第２透明導電体４５に含まれる各第２センサ４６は、直線状に延びるライン部４６ａと、ライン部４６ａから膨出した膨出部４６ｂと、を有している。図示する例において、ライン部４６ａは、第２センサ部４６の配列方向と交差する方向に沿って直線状に延びている。膨出部４６ｂは、基材フィルム３２のフィルム面に沿ってライン部４６ａから膨らみ出ている部分である。したがって、各第２センサ部４６の幅は、膨出部４６ｂが設けられている部分において太くなっている。図３Ａに示すように、本実施の形態において、各第２センサ部４６は、膨出部４６ｂにおいて平面視略正方形形状の外輪郭を有するようになっている。
【００４６】
なお、図３Ａに示すように、基材フィルム３２のフィルム面の法線方向から観察した場合（すなわち、平面視において）、第１透明導電体４０に含まれる各第１センサ部４１は、第２透明導電体４５に含まれる多数の第２センサ部４６と交差している。そして、図３Ａに示すように、第１透明導電体４０の膨出部４１ｂは、第１センサ部４１上において、隣り合う二つの第２センサ部４６との交差点の間に配置されている。同様に、基材フィルム３２のフィルム面の法線方向から観察した場合、第２透明導電体４５に含まれる各第２センサ部４６は、第１透明導電体４０に含まれる多数の第１センサ部４１と交差している。そして、第２透明導電体４５の膨出部４６ｂも、第２センサ部４６上において、隣り合う二つの第１センサ部４１との交差点の間に配置されている。さらに、本実施の形態において、第１透明導電体４０に含まれる第１センサ部４１の膨出部４１ｂと、第２透明導電体４５に含まれる第２センサ部４６の膨出部４６ｂとは、基材フィルム３２のフィルム面の法線方向から観察した場合に重ならないように配置されている。つまり、基材フィルム３２のフィルム面の法線方向から観察した場合、第１透明導電体４０に含まれる第１センサ部４１と第２透明導電体４５に含まれる第２センサ部４６とは、各センサ部４１，４６のライン部４１ａ、４６ａのみにおいて交わっている。
【００４７】
上述したように、第１透明導電体４０は、このような第１センサ部４１に接続された第１接続部４２を有している。第１接続部４２は、第１センサ部４１の各々に対し、接触位置の検出方法に応じて一端または両端に設けられている。各第１接続部４２は、対応する第１センサ部４１の端部からそれぞれ線状に延び出している。同様に、第２透明導電体４５は、第２センサ部４６に接続された第２接続部４７を有している。第２接続部４７は、第２センサ部４６の各々に対し、接触位置の検出方法に応じて一端または両端に設けられている。各第２接続部４７は、対応する第２センサ部４６の端部からそれぞれ線状に延び出している。図３Ａに示すように、本実施の形態において、第１接続部４２は第１センサ部４１と同一の材料から一体的に形成され、第２接続部４７は第１センサ部４６と同一の材料から一体的に形成されている。
【００４８】
第１透明導電体４０および第２透明導電体４５の材料としては、透明性および所要の導電性を有するものが用いられる。このような材料として、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物を挙げることができ、また、これらの金属酸化物が２種以上複合されてもよい。第１透明導電体４０および第２透明導電体４５の形成方法は特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。本実施の形態においては、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５が、スパッタリング法により形成されたＩＴＯからなる。
【００４９】
なおＩＴＯからなる透明導電体４０、４５の光屈折率は、光波長５５０ｎｍ付近において例えば１．９７となっており、光波長４００ｎｍ付近において例えば２．１２となっている。光屈折率の算出方法は特には限定されないが、例えばエリプソメーターを用いた測定から算出される。また後述する基材フィルム３２の各層においても、当該各層の光屈折率が例えばエリプソメーターを用いた測定から算出される。
【００５０】
ＩＴＯからなる透明導電体４０、４５の厚みは、好ましくは２２．７ｎｍ以下となっている。膜厚が小さい場合、例えば４０ｎｍ以下の場合、一般に、透明導電体４０、４５の厚みが小さいほど、透明導電体４０、４５に由来する光の反射率は小さくなり、吸収項の影響が小さいため透過率が高くなる。
【００５１】
透明導電体４０、４５とフィルム本体３３との間にインデックスマッチング層（後述）が介在されていない場合、一般に、透明導電体４０、４５における光の反射率が小さいほど、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率の差も小さくなる。このため、透明導電体４０、４５の厚みをより小さくすることにより、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率の差を小さくすることができ、これによって、透明導電体４０、４５のパターンがタッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【００５２】
一方、透明導電体４０、４５とフィルム本体３３との間にインデックスマッチング層を介在させると、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率と、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率とが変化する。この際、インデックスマッチング層を適切に設計することにより、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率、または、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率のうちどちらか一方をより大きく変化させることができる。
インデックスマッチング層が介在されていない場合、一般に、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率は、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率よりも大きくなっている。ここで、インデックスマッチング層を介在させることにより、例えば、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率と、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率とをともに低下させることができるが、この際、インデックスマッチング層を適切に設計することにより、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域における反射率の低下の程度を、透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域における反射率の低下の程度よりも大きくすることができる。これによって、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率の差を小さくすることができる。
ここでインデックスマッチング層とは、少なくとも一対の高屈折率層および低屈折率層を含む層のことである。このようなインデックスマッチング層が透明導電体４０、４５とフィルム本体３３との間に介在されている場合、薄膜干渉の効果が生じ、これによって、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率および透過率の差を小さくすることができる。本実施の形態においては、後述する第１高屈折率層７２および第１低屈折率層７３により第１透明導電体４０とフィルム本体３３との間のインデックスマッチング層（後述する第１機能層７０）が構成されており、また後述する第２高屈折率層７７および第２低屈折率層７８により第２透明導電体４５とフィルム本体３３との間のインデックスマッチング層（後述する第２機能層７５）が構成されている。
【００５３】
本実施の形態においては、透明導電体４０、４５とフィルム本体３３との間にインデックスマッチング層を介在させることにより、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率および透過率の差を小さくすることを意図している。
【００５４】
ところで、一般に、透明導電体４０、４５の厚みが小さいほど、透明導電体４０、４５の電気抵抗は大きくなる。透明導電体４０、４５の電気抵抗が大きくなると、透明導電体４０、４５からなるセンサ電極３６ａ，３７ａから検出制御部２５の検出回路に送られる電気信号が阻害されることが考えられる。このため、透明導電体４０、４５の厚みを従来よりも小さくする場合、透明導電体４０、４５の電気抵抗が過大にならないよう、透明導電体４０、４５の材料として従来よりも比抵抗の小さい材料を用いることが好ましい。例えば、透明導電体４０、４５の比抵抗は４×１０−６Ωｍ（２３℃、５５％ＲＨ）以下であることが好ましい。
【００５５】
なお、透明導電体４０、４５により電気信号を送るという観点からは、透明導電体４０、４５の厚みを可能な限り大きくし、これによって透明導電体４０、４５の面積抵抗率をより小さくすることが好ましい。従って、透明導電体４０、４５がパターニングされている領域と透明導電体４０、４５がパターニングされていない領域との間における光の反射率および透過率の差を十分に小さくした上で、透明導電体４０、４５の厚みを可能な限り大きくすることが望まれる。透明導電体４０、４５における好ましい面積抵抗率の値は、例えば３００Ω／□以下となっている。
【００５６】
取出導電体
次に、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８について詳述する。上述したように、第１取出導電体４３は、第１透明導電体４０の一部分上に配置されており、第２取出導電体４８は、第２透明導電体４５の一部分上に配置されている。より具体的には、第１取出導電体４３は、第１透明導電体４０の第１接続部４２の一部分上に配置されており、第２取出導電体４８は、第２透明導電体４５の第２接続部４７の一部分上に配置されている。すなわち、第１取出導電体４３は、基材フィルム３２の一側の面３２ａにおいて、非アクティブエリアＡａ２に配置されており、第２取出導電体４８は、基材フィルム３２の他側の面３２ｂにおいて、非アクティブエリアＡａ２に配置されている。
【００５７】
図３Ａに示すように、第１透明導電体４０の第１接続部４２および第２透明導電体４５の第２接続部４７は線状に形成されている。そして、第１取出導電体４３は、線状に形成された第１接続部４２のうちの第１センサ部４１への接続箇所近傍の部分以外の部分上を、当該部分と同一のパターンで線状に延びている。同様に、第２取出導電体４８は、線状に形成された第２接続部４７のうちの第２センサ部４６への接続箇所近傍以外の部分上を、当該部分と同一のパターンで線状に延びている。
【００５８】
第１取出導電体４３は、第１透明導電体４０の第１センサ部４１からなる第１センサ電極３６ａを検出制御部２５へ接続させるための第１取出配線３６ｂを、第１透明導電体４０の第１接続部４２とともに構成している。また、第２取出導電体４８は、第２透明導電体４５の第２センサ部４６からなる第２センサ電極３７ａを検出制御部２５へ接続させるための第２取出配線３７ｂを、第２透明導電体４５の第２接続部４７とともに構成している。このような第１取出導電体４３および第２取出導電体４８は非アクティブエリアＡａ２に配置されていることから、透光性を有した材料から形成される必要はなく、高い導電性を有した金属などの材料から形成され得る。なお図３Ａに示すように、第１接続部４２と第１取出導電体４３とを含む第１取出配線３６ｂの幅は、第１センサ電極３６ａとの接続部分において第１センサ電極３６ａの幅よりも大きくなるよう形成されている。同様に、第２接続部４７と第２取出導電体４８とを含む第２取出配線３７ｂは、第２センサ電極３７ａとの接続部分において、その幅が第２センサ電極３７ａの幅よりも大きくなるよう形成されている。また図３Ａに示すように、取出配線３６ｂ，３７ｂのうち検出制御部２５との接続端子部３６ｃ，３７ｃの幅は、取出配線３６ｂ，３７ｂのその他の部分の幅よりも大きくなっている。
【００５９】
このような構成からなるタッチパネルセンサ３０においては、取出導電体４３，４８および透明導電体４０，４５の接続部４２，４７からなる取出配線３６ｂ，３７ｂは、図示しない外部接続配線（例えばフレキシブルプリント基板）を介し、検出制御部２５に接続されている。
【００６０】
次に、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８を形成する材料について詳述する。第１取出導電体４３および第２取出導電体４８は、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５をなす材料よりも高い導電率（電気伝導率）を有する材料から形成されている。具体的には、遮光性を有するとともに、ＩＴＯ等の透明導電体４０，４５よりも格段に高い導電率を有する、例えばアルミニウム、モリブデン、パラジウム、銀、クロム、銅等の金属、または、これらの金属を２種以上混合してなる合金、例えば銀合金を材料として形成されている。このうち銀合金は、一般に配線材料として用いられるクロムよりも比抵抗が小さく、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８の材料として好ましい。このような銀合金の一例として、銀、パラジウム、銅を含んでなるＡＰＣ合金を挙げることができる。
【００６１】
基材フィルム
次に図４（ａ）（ｂ）を参照して、基材フィルム３２について詳述する。本実施の形態において、基材フィルム３２は、複数の層から構成されている。ここで、基材フィルム３２の各層は、接着層を介しての接合を用いることなく、例えばスパッタリングにより一体に形成されている。なお、基材フィルム３２の各層を形成する方法がスパッタリングに限られることはなく、各層の構成などに応じて、塗布などの方法を適宜用いることができる。
【００６２】
図４（ａ）は、アクティブエリアＡａ１における基材フィルム３２の断面を示す図である。図４（ａ）に示すように、基材フィルム３２は、透明なフィルム本体３３と、フィルム本体３３の第１透明導電体４０側（一側）の面３３ａ上に設けられた第１アンダーコート層７１と、第１アンダーコート層７１の第１透明導電体４０側（一側）の面７１ａ上に設けられた第１高屈折率層７２と、第１高屈折率層７２の第１透明導電体４０側（一側）の面７２ａ上に設けられた第１低屈折率層７３と、フィルム本体３３の第２透明導電体４５側（他側）の面３３ｂ上に設けられた第２アンダーコート層７６と、第２アンダーコート層７６の第２透明導電体４５側（他側）の面７６ｂ上に設けられた第２高屈折率層７７と、第２高屈折率層７７の第２透明導電体４５側（他側）の面７７ｂ上に設けられた第２低屈折率層７８と、を有している。このうち、第１高屈折率層７２と第１低屈折率層７３とにより第１機能層７０が構成され、第２高屈折率層７７と第２低屈折率層７８とにより第２機能層７５が構成されている。
【００６３】
以下、基材フィルム３２を構成する各層について詳述する。はじめにフィルム本体３３について詳述する。
【００６４】
（フィルム本体）
フィルム本体３３の材料としては、透明性の高い材料が好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアミド（ＰＡ）、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、脂肪族環状ポリオレフィン、ノルボルネン系の熱可塑性透明樹脂などの可撓性フィルムを挙げることができる。本実施の形態においては、フィルム本体３３が、約１．６６（光波長５５０ｎｍ）の光屈折率を有するＰＥＴから形成されている。ＰＥＴからなるフィルム本体３３の厚みは特に限定されないが、例えば５０〜２００μｍの範囲内となっている。
【００６５】
（アンダーコート層）
次に第１アンダーコート層７１および第２アンダーコート層７６について詳述する。アンダーコート層７１，７６は、フィルム本体３３中に発生する低分子重合体（オリゴマー）が高屈折率層７２，７７側に入り込むのを防ぐための層であり、例えばアクリル樹脂から形成されている。アクリル樹脂からなるアンダーコート層７１，７６の光屈折率は例えば約１．５１（光波長５５０ｎｍ）となっており、その厚みは例えば３０００ｎｍとなっている。フィルム本体３３のオリゴマーは、一般に、透明導電体４０、４５の形成工程において基材フィルム３２を加熱する際に発生する。
【００６６】
なお、オリゴマーが適切に防がれない場合、オリゴマーが析出し結晶化することにより、タッチパネルセンサ３０の白濁化が起こることが考えられる（例えば特開２００４−６６７９０号公報参照）。また、高屈折率層７２，７７、低屈折率層７３，７８または透明導電体４０，４５の成膜時の予熱の際にオリゴマーが析出すると、白濁化だけでなく、高屈折率層７２，７７、低屈折率層７３，７８または透明導電体４０，４５にピンホールなどの欠陥が生じることが考えられる。本実施の形態においては、アンダーコート層７１，７６を設けることにより、これらの不利な現象が生じるのが抑制されている。
【００６７】
（機能層）
次に第１機能層７０および第２機能層７５について詳述する。はじめに、第１機能層７０および第２機能層７５を設ける目的について説明する。
【００６８】
（機能層の目的）
上述のように、フィルム本体３３と透明導電体４０，４５との光屈折率には約０．３の差がある。このようにフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との光屈折率の差が大きい場合、一般に、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域と設けられていない領域とにおいて、光の反射率、透過率が大きく異なることが考えられる。また、ＩＴＯからなる透明導電体４０，４５における光の吸収は、一般に、長波長側よりも、波長４５０ｎｍ以下の短波長側で大きくなっている。このため、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光のスペクトルが黄色くなることも考えられる。第１機能層７０および第２機能層７５はこのような課題に対応するために設けられる層である。
【００６９】
（機能層の構成）
次に、第１機能層７０および第２機能層７５の構成について説明する。上述のように、機能層７０，７５は高屈折率層７２，７７と低屈折率層７３，７８とを含んでいる。このうち高屈折率層７２，７７の光屈折率は、透明導電体４０，４５の光屈折率よりも大きくなっており、また低屈折率層７３，７８の光屈折率は、透明導電体４０，４５の光屈折率よりも小さくなっている。このような構成からなる機能層７０，７５をフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に設けることにより、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率（図４（ａ）において矢印（１），（３）で示す領域における光の反射率）と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率（図４（ａ）において矢印（２），（４）で示す領域における光の反射率）と、の差を小さくすることができる。同様に、機能層７０，７５を設けることにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率と、の差を小さくすることもできる。
【００７０】
また上述の構成を有する機能層７０，７５を設けることにより、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光のスペクトルを、各波長域で平坦なスペクトルに近づけることができる。図４（ｂ）において左側に示すスペクトルは、機能層７０，７５が設けられていない場合の透過光のスペクトルであり、図４（ｂ）において右側に示すスペクトルは、機能層７０，７５が設けられている場合の透過光のスペクトルである。図４（ｂ）に示すように、フィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に機能層７０，７５を設けることにより、各波長域で均一な透過率を実現することが可能となる。このようにして、透過光において黄色の成分のみが過大となるのを防ぐことができ、この場合、透過光をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表したときのｂ＊の絶対値は例えば１．５以下となっている。
【００７１】
（機能層の設計方法）
次に上述の機能を有する機能層７０，７５を設計する方法について説明する。はじめに、タッチパネルセンサ３０における光学特性の目標を決定する。例えば、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１のうち、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率と、の差がそれぞれ０．５％以下であって、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光のｂ＊の絶対値が１．５以下であることを光学特性の目標とする。
【００７２】
なお、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、Ｌ＊は明度を表し、ａ＊，ｂ＊は色相と彩度を表す量である。ａ＊およびｂ＊に関しては、その絶対値が小さい値領域にて、無彩色に近い色相となる。ｂ＊が＋１．５を超える領域では透過色が黄色味を帯びる様になり、また−１．５未満の領域では透過色が青味を帯びる様になる。これらの領域では、表示装置１５のカラー表示に透明導体４０、４５の透過色が悪影響を与える。従って、ｂ＊の絶対値が１．５以下である無彩色の領域の値を示す必要がある。
【００７３】
次に、基材フィルム３２の各層の厚みおよび光屈折率と、透明導電体４０，４５の厚みおよび光屈折率とに基づいて、シミュレーションにより反射率、透過率およびｂ＊の値を求める。そして、高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８の厚みと光屈折率とを可変のパラメータとして、上述の光学特性の目標を達成するパラメータを探索する。これによって、高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８の厚みおよび光屈折率の適切な範囲を算出し、このようにして、目標とする光学特性を得ることができる機能層７０，７５を設計する。なおシミュレーション用のツールとしては、例えばサイバネットシステムズ（株）製の薄膜設計ソフトウェア（ＯＰＴＡＳ−ＦＩＬＭ）を用いることができる。
【００７４】
なお後に実施例において示すように、シミュレーションは、基材フィルム３２の各層の厚みおよび光屈折率と、透明導電体４０，４５の厚みおよび光屈折率に加えて、透明導電体４０，４５上に設けられる接着層１４，１９の光屈折率も考慮して実施される。
【００７５】
なお、本件発明者らが実験を重ねたところ、機能層７０，７５の設計において、高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８の光屈折率の波長依存性を考慮すること、とりわけ高屈折率層７２，７７の光屈折率の波長依存性を考慮することが重要であることが知見された。より具体的に言えば、後述する実施例での実験結果で支持されているように、光波長５５０ｎｍ近傍の波長領域において上述の光学特性の目標を達成するとともに、光波長４００ｎｍ近傍の短波長領域においても上述の光学特性の目標を達成するよう、高屈折率層７２，７７の厚みおよび光屈折率の適切な範囲を算出するのが重要であることが知見された。例えば、上述の目標とする光学特性を得ることができる基材フィルム３２、透明導電体４０，４５および接着層１４，１９は、以下の表１に示す構成となっている。
【表１】
【００７６】
次に高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８の材料について詳述する。高屈折率層７２，７７の材料としては、目標とする光学特性を達成することのできる光屈折率を有する材料であれば特に限定されず、例えば波長４００ｎｍの光に対する光屈折率が２．３６となり、波長５５０ｎｍの光に対する光屈折率が２．１８となっている五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）が用いられる。また低屈折率層７３，７８の材料としても、目標とする光学特性を達成することのできる光屈折率を有する材料であれば特に限定されず、例えば１．４６の光屈折率を有する二酸化珪素（ＳｉＯ２）が用いられる。
【００７７】
次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ３０を製造する方法について説明する。
【００７８】
はじめに、図５を参照して、タッチパネルセンサ３０を作製するための元材としての積層体（ブランクスとも呼ばれる）５０を形成する工程について説明する。
積層体の形成工程
【００７９】
はじめに、フィルム本体３３を準備し、次に、フィルム本体３３の一側の面３３ａおよび他側の面３３ｂにそれぞれ第１アンダーコート層７１および第２アンダーコート層７６を形成する（図５（ａ）参照）。アンダーコート層７１，７６は、例えばコーティングにより形成される。この場合、フィルム本体３３とアンダーコート層７１，７６とが一体になっていてもよい。
【００８０】
次に図５（ｂ）に示すように、第１アンダーコート層７１の一側の面７１ａに第１機能層７０を形成し、第２アンダーコート層７６の他側の面７６ｂに第２機能層７５を形成する。前述のように、第１機能層７０は第１高屈折率層７２と第１低屈折率層７３とを含み、第２機能層７５は第２高屈折率層７７と第２低屈折率層７８とを含んでいる。高屈折率層７２，７７および低屈折率層７３，７８は、それぞれスパッタリングにより形成される。このようにして、フィルム本体３３と、アンダーコート層７１，７６と、高屈折率層７２，７７と、低屈折率層７３，７８とを有する基材フィルム３２が形成される。
【００８１】
次に図５（ｃ）を参照して、基材フィルム３２の一側の面３２ａに第１透明導電層５２ａを形成し、基材フィルム３２の他側の面３２ｂに第２透明導電層５２ｂを形成する工程について説明する。ここで第１透明導電層５２ａ、第２透明導電層５２ｂはそれぞれ、パターニングされることにより第１透明導電体４０および第２透明導電体４５となる層である。第１透明導電層５２ａ、第２透明導電層５２ｂとしては、透光性および導電性を有する材料が用いられ、例えばＩＴＯが用いられる。ＩＴＯからなる透明導電層５２ａ，５２ｂは、例えばスパッタリングにより基材フィルム３２上に形成される。これによって、図５（ｃ）に示すように、基材フィルム３２と透明導電層５２ａ，５２ｂとを含む中間積層体８０が得られる。なお、好ましくは、透明導電層５２ａ，５２ｂ（透明導電体４０、４５）は、錫を２〜４重量％含むＩＴＯからなる。このような組成のＩＴＯを用いることにより、ＩＴＯの結晶化をより促進することができ、これによって、透明導電層５２ａ，５２ｂ（透明導電体４０，４５）の厚みをより小さくすることが可能となる。
【００８２】
次に図５（ｄ）に示すように、中間積層体８０の一方の側の面８０ａに第１遮光導電層５４ａを形成し、透明導電層付フィルム８０の他方の側の面８０ｂに第２遮光導電層５４ｂを形成する。ここで第１遮光導電層５４ａ、第２遮光導電層５４ｂはそれぞれ、パターニングされることにより第１取出導電体４３および第２取出導電体４８となる層である。このようにして、タッチパネルセンサ３０を作製するために用いられる積層体５０であって、基材フィルム３２と透明導電層５２ａ，５２ｂと遮光導電層５４ａ，５４ｂとを含む積層体５０が形成される。
【００８３】
タッチパネルセンサの作製工程
その後、上述の工程により得られた積層体５０に成膜やパターニング等の処理（加工）を行っていくことにより、タッチパネルセンサ３０を作製する。例えばフォトリソグラフィー法を用いて第１遮光導電層５４ａおよび第２遮光導電層５４ｂをパターニングすることにより、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８が作製される。同様に、フォトリソグラフィー法を用いて第１透明導電層５２ａおよび第２透明導電層５２ｂをパターニングすることにより、第１透明導電体４０および第２透明導電体４５が作製される。なお第１透明導電層５２ａおよび第２透明導電層５２ｂをパターニングする際、第１遮光導電層５４ａおよび第２遮光導電層５４ｂがマスクとして利用されてもよい。このようにして、図３Ａおよび図４（ａ）に示すタッチパネルセンサ３０が得られる。
【００８４】
入出力装置の作製工程
その後、得られたタッチパネルセンサ３０に、第１接着層１４を介して保護カバー１２を接合する。これによって、保護カバー（透明シート）１２付タッチパネルセンサ３０が得られる。また、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０を、第２接着層１９を介して表示装置１５に接合する。これによって、図１および図２に示す入出力装置１０が得られる。次に、この入出力装置１０を使用する際の作用について説明する。
【００８５】
入出力装置の作用
まず、このような入出力装置１０においては、表示装置１５の表示パネル１６によって映像を表示することによって、観察者は、保護カバー１２およびタッチパネルセンサ３０を介して映像を観察することができる。
【００８６】
また、この入出力装置１０において、タッチパネルセンサ３０および保護カバー１２がタッチパネル装置２０の一部分を構成し、外部導体５、典型的には人間の指５が保護カバー１２上に接触（接近）したこと検知することができるとともに、保護カバー１２上における外部導体５が接触（接近）した位置を検出することができる。
【００８７】
具体的には、まず、外部の導体（例えば、人間の指）５が保護カバー１２に接触すると、当該外部導体５と、外部導体５による保護カバー１２への接触位置の近傍に位置する透明導電体４０，４５の各センサ部４１，４６と、が電極として機能し、電界が形成される。この際、センサ電極３６ａ，３７ａを構成する透明導電体４０，４５のセンサ部４１，４６と、外部導体５と、の間に位置する保護カバー１２および基材フィルム３２等は誘電体として機能する。すなわち、外部導体５が保護カバー１２に接触することにより、センサ部４１，４６と外部導体５とを電極とするコンデンサが形成される。
【００８８】
タッチパネル装置２０の検出制御部２５の検出回路は、各センサ部４１，４６に接続され、各センサ部４１，４６と外部導体５との間の静電容量を検出することができるようになっている。そして、検出制御部２５が、各センサ部４１，４６と外部導体５との間の静電容量の変化を検出することによって、外部導体５がいずれの第１センサ部４１に対面しているか、並びに、外部導体５がいずれの第２センサ部４６に対面しているかを特定することができる。
【００８９】
すなわち、検出制御部２５の検出回路は、アクティブエリアＡａ１において前記一方向に並べて配列された第１透明導電体４０に含まれる多数の第１センサ部４１のうちの外部導体５と対面している第１センサ部（線状導電体）を特定することによって、前記一方向に延びる座標軸上における外部導体５の位置を特定することができる。同様に、検出制御部２５の検出回路は、アクティブエリアＡａ１において前記他方向に並べて配列された第２透明導電体４５に含まれる多数の第２センサ部４６のうちの外部導体５と対面している第２センサ部（線状導電体）を特定することによって、前記他方向に延びる座標軸上における外部導体５の位置を特定することができる。このようにして、タッチパネル装置２０（保護カバー１２）への外部導体５の接触位置を二つの方向において検出することにより、外部導体５のタッチパネル装置２０の表面への接触位置の位置座標を、タッチパネル装置２０の表面上で精度良く特定することができる。なお、投影型容量結合方式のタッチパネルにおいて接触位置を検出する様々な方法（原理）が、種々の文献に開示されており、本明細書では、これ以上の説明を省略する。
【００９０】
ここで本実施の形態によれば、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０は、タッチパネルセンサ３０と、タッチパネルセンサ３０の一側に第１接着層１４を介して接着された保護カバー１２とからなっている。このうちタッチパネルセンサ３０は、基材フィルム３２と、基材フィルム３２の一側の面３２ａ上にパターニングされた第１透明導電体４０と、を備えている。また基材フィルム３２は、透明なフィルム本体３３と、フィルム本体３３の第１透明導電体４０側の面３３ａ上に設けられた第１アンダーコート層７１と、第１アンダーコート層７１の第１透明導電体４０側の面７１ａ上に設けられた第１高屈折率層７２と、第１高屈折率層７２の第１透明導電体４０側の面７２ａ上に設けられた第１低屈折率層７３と、フィルム本体３３の第２透明導電体４５側の面３３ｂ上に設けられた第２アンダーコート層７６と、第２アンダーコート層７６の第２透明導電体４５側の面７６ｂ上に設けられた第２高屈折率層７７と、第２高屈折率層７７の第２透明導電体４５側の面７７ｂ上に設けられた第２低屈折率層７８と、を有している。そして、透明導電体４０，４５は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっている。また、タッチパネルセンサ３０と保護カバー１２との間に介在された第１接着層１４は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている。
このように、大気の光屈折率と第１透明導電体４０の光屈折率との間の適切な範囲内に第１接着層１４の光屈折率を設定することにより、このような第１接着層１４が設けられていない場合に比べて、第１透明導電体４０において光が反射されるのを抑制することができる。これによって、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０における光の透過率を向上させることができる。
【００９１】
また本実施の形態によれば、アンダーコート層７１，７６および低屈折率層７３，７８の光屈折率は、透明導電体４０，４５および高屈折率層７２，７７の光屈折率よりも小さくなっている。従って、高屈折率層７２，７７と低屈折率層７３，７８とから構成される機能層７０，７５が、インデックスマッチング層として機能することができる。このような機能層７０，７５をフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に設けることにより、薄膜干渉の効果を生じさせることができる。このことにより、基材フィルム３２のアクティブエリアＡａ１のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率と、の差を小さくすることができる。同様に、高屈折率層７２，７７と低屈折率層７３，７８とからなる機能層７０，７５をフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に設けることにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率と、の差を小さくすることもできる。このため、タッチパネルセンサ３０のうち透明導電体４０，４５がパターニングされている領域とパターニングされていない領域との間における光の透過率および反射率の差を小さくすることができる。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の外部から視認されるのを防ぐことができ、これによって、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の意匠性を向上させることができる。
【００９２】
さらに高屈折率層７２，７７と低屈折率層７３，７８とからなる機能層７０，７５をフィルム本体３３と透明導電体４０，４５との間に設けることにより、基材フィルム３２のうち透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光のスペクトルを、各波長域で平坦なスペクトルとすることができ、例えば、透過光をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表したときのｂ＊の絶対値を１．５以下とすることができる。
【００９３】
変形例
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、変形の一例について説明する。
【００９４】
例えば、上述した実施の形態において、第１遮光導電層５４ａおよび第２遮光導電層５４ｂを含む積層体５０を準備するとともに、フォトリソグラフィー法を用いて第１遮光導電層５４ａおよび第２遮光導電層５４ｂをパターニングすることにより、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８が得られる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、スクリーン印刷法などを用いて基材フィルム３２上に導電性ペーストを印刷することにより、第１取出導電体４３および第２取出導電体４８を形成してもよい。また、センサ電極３６ａ，３７ａから接続端子部３６ｃ，３７ｃまでの距離が十分に短い場合、透明導電体４０，４５のみによって取出配線３６ｂ，３７ｂが構成されていてもよい。
【００９５】
さらに、上述した実施の形態において、積層体（ブランクス）５０において、基材フィルム３２の両側に透明導電層５２ａ，５２ｂおよび被覆導電層５４ａ，５４ｂがそれぞれ設けられている例を示したが、これに限られない。基材フィルム３２の一つの面上のみに透明導電層および被覆導電層が設けられているようにしてもよい。この場合、基材フィルム３２の一つの面上に、上述した実施の形態のセンサ電極３６ａ，３７ａおよび取出配線３６ｂ，３７ｂが得られるようになる。
【００９６】
さらに、上述した実施の形態において、第１透明導電体４０の第１センサ部４１はライン部４１ａと膨出部４１ｂとを有し、第２透明導電体４５の第２センサ部４６はライン部４６ａと膨出部４６ｂとを有している例を示した。また、上述した実施の形態において、膨出部４１ｂ，４６ｂが平面視略正方形形状に形成されている例を示した。しかしながら、これに限られず、一例として、膨出部４１ｂ，４６ｂが、平面視において、正方形以外の菱形等の四角形形状、さらには、多角形形状や円形状等であってもよい。また、センサ部４１，４６が、膨出部４１ｂ，４６ｂを有さず、直線状の輪郭を有するようにしてもよい。
【００９７】
なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【実施例】
【００９８】
以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
【００９９】
実施例１
本発明の一例による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の基材フィルム３２について、フィルム本体３３、熱硬化型アクリル樹脂からなるアンダーコート層７１，７６、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）からなる高屈折率層７２，７７、および二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる低屈折率層７３，７８の光屈折率（実数部ｎおよび吸収項ｋ）および厚みを測定した。また、本発明の一例による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０について、ＩＴＯからなる透明導電体４０，４５、および接着層１４，１９の光屈折率（実数部ｎおよび吸収項ｋ）および厚みを測定した。結果を表２に示す。なお、光屈折率の測定は、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内で光波長を５ｎｍ刻みで変化させながら行った。なお、後述するシミュレーションにおいては、大気の光屈折率（実数部ｎおよび吸収項ｋ）をｎ＝１、ｋ＝０として扱った。
【表２】
【０１００】
表２に示すように、光屈折率が高い層、すなわち高屈折率層７２，７７および透明導電体４０，４５においては、光波長によって光屈折率が大きく変化していた。光波長に対して、各層の光屈折率（実数部ｎ）をプロットした結果を図６に示す。図６に示すように、光波長が４００ｎｍから５５０ｎｍになると、透明導電体４０，４５において光屈折率が０．１５だけ小さくなっており、高屈折率層７２，７７において光屈折率が０．１８だけ小さくなっていた。また光波長が５５０ｎｍから７８０ｎｍになると、透明導電体４０，４５において光屈折率が０．１２だけ小さくなっており、高屈折率層７２，７７において光屈折率が０．０７だけ小さくなっていた。すなわち、４００〜５５０ｎｍでは透明導電体４０，４５の屈折率変化より高屈折率層７２，７７の屈折率変化が大きく、５５０〜７８０ｎｍでは高屈折率層７２，７７の屈折率変化より透明導電体４０，４５の屈折率変化が大きかった。
【０１０１】
測定された保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の各構成要素の厚みおよび光屈折率に基づいて、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値との差を求めた。またシミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。以下、詳細について説明する。
【０１０２】
（シミュレーション条件）
透明導電体４０，４５が設けられている領域に関しては、以下の層構成を仮定して、フィルム本体とアンダーコート層の界面〜透明導電体と接着層の界面の間に存在する各層による透過率、反射率を求めるシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／アンダーコート層／高屈折率層／低屈折率層／透明導電体／接着層（入射側媒質）
この場合、後述する実施例においては、接着層の屈折率、アンダーコート層の屈折率および厚み、高屈折率層の屈折率および厚み、低屈折率層の屈折率および厚み、透明導電体の屈折率および厚みを適宜変化させながらシミュレーションを行った。なお表２に示すように、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みは、その他の構成要素の厚みに比べて非常に大きくなっている。従って、本実施例および後述する実施例においては、特に断らない限り、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みを無限大に設定してシミュレーションが行われている。またすべてのシミュレーションにおいて、光の入射角度を０度（垂直入射）に設定した。
【０１０３】
透明導電体４０，４５が設けられていない領域に関しては、以下の層構成を仮定して、フィルム本体とアンダーコート層の界面〜低屈折率層と接着層の界面の間に存在する各層による透過率、反射率を求めるシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／アンダーコート層／高屈折率層／低屈折率層／接着層（入射側媒質）
この場合、後述する実施例においては、接着層の屈折率、アンダーコート層の屈折率および厚み、高屈折率層の屈折率および厚み、低屈折率層の屈折率および厚みを適宜変化させながらシミュレーションを行った。なお表２に示すように、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みは、その他の構成要素の厚みに比べて非常に大きくなっている。従って、本実施例および後述する実施例においては、特に断らない限り、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みを無限大に設定してシミュレーションが行われている。またすべてのシミュレーションにおいて、光の入射角度を０度（垂直入射）に設定した。
【０１０４】
（評価項目１ 透過率）
透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過スペクトルをシミュレーションにより求めた。結果を図７Ａに示す。図７Ａに示すように、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内において、光の透過スペクトルの周期的な乱れ（ハンチング）が見られた。このようなハンチングの程度は、主にアンダーコート層７１，７６の厚みに依存していると考えられる。
【０１０５】
透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過スペクトルと、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過スペクトルとの差（透過率差）を図７Ｂに示す。ここで、透過率差＝（透明導電体４０，４５が設けられていない領域における透過率）−（透明導電体４０，４５が設けられている領域における透過率）となっている（後述する実施例においても同様である）。図７Ｂに示すように、透過率差についても、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内においてハンチングが見られた。このハンチングは、図７Ｂに示すように、透過率差が０％となる線（図７Ｂにおいて符号８１で示す点線）をほぼ中心線として生じていた。このようにハンチングが０％線８１をほぼ中心として生じることは、透過率差が実質的にゼロに近いことを意味している。また、波長が短いほどハンチングの振幅が大きくなるのが確認された。
【０１０６】
シミュレーションにより求めた透過スペクトルから、ＸＹＺ表色系における等色関数を用いて、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々について、ＸＹＺ表色系におけるＹ値を求めた。具体的な算出方法はＪＩＳ Ｚ８７０１に規定されており、ここでの詳細な説明は省略する。この際、色の表示に用いる標準の光の分光分布として、標準の光Ｃの分光分布を用いた。次に、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるＹ値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域におけるＹ値との差（以下、ΔＹ（透過）と称される。後述する実施例においても同様である。）を求めた。結果、ΔＹ（透過）が０．０５５７％となっていた。
【０１０７】
（評価項目２ 反射率）
透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射スペクトルをシミュレーションにより求めた。結果を図７Ｃに示す。図７Ｃに示すように、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内において、光の透過スペクトルの場合と同様に、光の反射スペクトルのハンチングが見られた。
【０１０８】
透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射スペクトルと、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射スペクトルとの差（反射率差）を図７Ｄに示す。ここで、反射率差＝（透明導電体４０，４５が設けられていない領域における反射率）−（透明導電体４０，４５が設けられている領域における反射率）となっている（後述する実施例においても同様である）。図７Ｄに示すように、反射率差についても、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内においてハンチングが見られた。このハンチングは、図７Ｄに示すように、０％線８１をほぼ中心線として生じていた。このようにハンチングが０％線８１をほぼ中心として生じることは、反射率差が実質的にゼロに近いことを意味している。また、波長が短いほどハンチングの振幅が大きくなるのが確認された。
【０１０９】
シミュレーションにより求めた反射スペクトルから、ＸＹＺ表色系（ＪＩＳ Ｚ８７０１参照）における等色関数を用いて、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々について、ＸＹＺ表色系におけるＹ値を求めた（ＪＩＳ Ｚ８７０１参照）。この際、色の表示に用いる標準の光の分光分布として、標準の光Ｃの分光分布を用いた。次に、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるＹ値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域におけるＹ値との差（以下、ΔＹ（反射）と称される。後述する実施例においても同様である。）を求めた。結果、ΔＹ（反射）は０．０３０８％となっていた。
【０１１０】
（評価項目３ ｂ＊）
透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるＸＹＺ表色系のＸ値、Ｙ値およびＺ値（ＪＩＳ Ｚ８７０１参照）を用いて、透明導電体４０，４５が設けられている領域について、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊を求めた。具体的な算出方法はＪＩＳ Ｚ８７２９に規定されており、ここでの詳細な説明は省略する。なお色座標ｂ＊の定義は、後述する実施例においても同様である。結果、ｂ＊は０．２１３９となっていた。
【０１１１】
本実施例によれば、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０は、上記の表２に示す光屈折率および厚みを有する各層からなる基材フィルム３２と、基材フィルム３２の面３２ａ，３２ｂ上に所定のパターンで設けられた透明導電体４０，４５と、透明導電体４０，４５上に設けられた接着層１４，１９と、を含んでいる。このため、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内における、透過率差および反射率差のハンチングを、０％線８１をほぼ中心線として生じさせることができた。これによって、上述のように、ΔＹ（透過）、ΔＹ（反射）およびｂ＊の絶対値の値を十分に小さくすることができた。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができた。
【０１１２】
実施例２
接着層１４，１９の作用効果を確認するため、接着層１４，１９が設けられている場合と接着層１４，１９が設けられていない場合のそれぞれについて、透過率および反射率をシミュレーションにより求めた。以下、詳細について説明する。
【０１１３】
（シミュレーション条件）
接着層１４，１９が設けられており、かつ透明導電体４０，４５が設けられている領域に関しては、以下の層構成を仮定してシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／透明導電体／接着層（入射側媒質）
この場合、透明導電体の厚みを適宜変化させながらシミュレーションを行った。
【０１１４】
接着層１４，１９が設けられており、透明導電体４０，４５が設けられていない領域に関しては、以下の層構成を仮定してシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／接着層（入射側媒質）
【０１１５】
接着層１４，１９が設けられておらず、かつ透明導電体４０，４５が設けられている領域に関しては、以下の層構成を仮定してシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／透明導電体／大気（入射側媒質）
【０１１６】
接着層１４，１９が設けられておらず、透明導電体４０，４５が設けられていない領域に関しては、以下の層構成を仮定してシミュレーションを行った。
フィルム本体（出射側媒質）／大気（入射側媒質）
【０１１７】
ここで上述のとおり、シミュレーションにおいては、フィルム本体３３および接着層１４，１９の厚みを無限大に設定した。また、フィルム本体３３、透明導電体４０，４５および接着層１４，１９の光屈折率の値としては、表２に記載の値を用いた。
【０１１８】
（シミュレーション結果）
シミュレーションにより、接着層１４，１９が設けられている場合について、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値との差（ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過））を求めた。またシミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図８Ａに示す。
【０１１９】
図８Ａに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが１３ｎｍ以下となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。
【０１２０】
さらに、シミュレーションにより、接着層１４，１９が設けられていない場合について、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値との差（ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過））を求めた。またシミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図８Ｂに示す。
【０１２１】
図８Ｂに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが８ｎｍ以下となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。
【０１２２】
図８Ａと図８Ｂとの比較から明らかなように、透明導電体４０，４５と大気との間に接着層１４，１９を介在させることにより、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）を０．５％以下とし、かつｂ＊の絶対値を１．５以下とすることが可能な透明導電体４０，４５の厚みの範囲を１３ｎｍまで広げることができた。この原因の１つとしては、透明導電体４０，４５と大気の間の屈折率差に比べて、透明導電体４０，４５と接着層１４，１９の間の屈折率差が小さく、このため、接着層１４，１９を設けることによって透明導電体４０，４５における光の反射を抑制することができた点が考えられる。
【０１２３】
ところで上述のように、透明導電体４０、４５により電気信号を送るという観点からは、透明導電体４０、４５の厚みを可能な限り大きくし、これによって透明導電体４０、４５の面積抵抗率を３００Ω／□以下とすることが好ましい。一方、透明導電体４０、４５の比抵抗が４×１０−６Ωｍであり、透明導電体４０，４５の厚みが１３ｎｍである場合、透明導電体４０、４５の面積抵抗率は３０８Ω／□となる。従って、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下であり、かつｂ＊の絶対値が１．５以下であるという点を満たすことができる透明導電体４０、４５の厚みの範囲をより広げることが望まれる。
【０１２４】
以下の実施例においては、透明導電体４０、４５の面積抵抗率が十分に小さくなるとともに、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下であり、かつｂ＊の絶対値が１．５以下となる条件を探索するため、実施例１２を除いて、透明導電体４０、４５の厚みを１７ｎｍ（表２参照）としてシミュレーションを行った。以下、接着層１４，１９を設ける場合における、接着層１４，１９の光屈折率の最適な範囲、基材フィルム３２の各層の光屈折率および厚みの最適な範囲、および、透明導電体４０，４５の光屈折率および厚みの最適な範囲について、シミュレーションを用いて詳細に検討した結果について示す。
【０１２５】
実施例３
接着層１４，１９の光屈折率（実数部）を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に１．０、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７または１．８としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値を求めた。
【０１２６】
（評価項目１ 透過率）
透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過スペクトルをシミュレーションにより求めた。透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるシミュレーション結果を図９Ａに示し、透明導電体４０，４５が設けられていない領域におけるシミュレーション結果を図９Ｂに示す。図９Ａおよび図９Ｂに示すように、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内において、光の透過スペクトルの周期的な乱れ（ハンチング）が見られた。
【０１２７】
シミュレーションにより求められた透過スペクトルから、ＸＹＺ表色系における等色関数を用いて、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々について、ＸＹＺ表色系におけるＹ値を求めた。結果、接着層１４，１９の光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている場合、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々において、Ｙ値が９９％以上になっていた。このように高いＹ値を実現できた理由としては、以下のことが考えられる。
【０１２８】
上述のシミュレーションにおいて、表２に示すように、透明導電体４０，４５の光屈折率は、１．８５〜２．１５の範囲内となっている。一方、大気の光屈折率は１に設定されている。このような状況下において、接着層１４，１９の光屈折率を透明導電体４０，４５の光屈折率の値と大気の光屈折率との間で適切に設定することにより、Ｙ値を９９％以上にすることができたと考えられる。
【０１２９】
（評価項目２ 反射率）
透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射スペクトルをシミュレーションにより求めた。透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるシミュレーション結果を図９Ｃに示し、透明導電体４０，４５が設けられていない領域におけるシミュレーション結果を図９Ｄに示す。図９Ｃおよび図９Ｄに示すように、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内において、光の反射スペクトルの周期的な乱れ（ハンチング）が見られた。
【０１３０】
（評価項目３ 透過率差）
透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過スペクトルと、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過スペクトルとの差（透過率差）を求めた。結果を図９Ｅに示す。図９Ｅに示すように、接着層１４，１９の光屈折率を大きくするにつれて、ハンチングの振幅が小さくなるのが確認された。また、波長４００ｎｍ以上の領域において、０％線８１をほぼ中心線としてハンチングが生じるのが確認された。
【０１３１】
（評価項目４ 反射率差）
透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射スペクトルと、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射スペクトルとの差（反射率差）を求めた。結果を図９Ｆに示す。図９Ｆに示すように、接着層１４，１９の光屈折率を大きくするにつれて、ハンチングの振幅が小さくなるのが確認された。また、波長４００ｎｍ以上の領域において、０％線８１をほぼ中心線としてハンチングが生じるのが確認された。
【０１３２】
（評価項目５ Ｙ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊）
上述のシミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）を求めた。また、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図９Ｇに示す。図９Ｇに示すように、接着層１４，１９の光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が０．５以下となっていた。
また上述のように、接着層１４，１９の光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている場合、透明導電体４０，４５が設けられている領域および透明導電体４０，４５が設けられていない領域各々において、Ｙ値が９９％以上となっていた。このように、大気と透明導電体４０，４５との間に、光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている接着層１４，１９を介在させることにより、Ｙ値を十分に大きくするとともに、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）およびｂ＊を十分に小さくすることができた。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができるとともに、保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０を透過する光の輝度を十分に大きくすることができる。
【０１３３】
実施例４
アンダーコート層７１，７６の厚みを、０、１００、２００、５００、６００、９００、９５０、１０００、２０００、３０００、４０００、５０００または１００００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の反射率および透過率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の反射率および透過率の値との差（ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過））を求めた。またシミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１０に示す。
【０１３４】
図１０に示すように、アンダーコート層７１，７６の厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が０．２５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、アンダーコート層７１，７６の厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１３５】
実施例５
アンダーコート層７１，７６の光屈折率を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に１．３、１．３５、１．４、１．４４、１．４７、１．４９、１．５、１．５１、１．５２、１．５３、１．５９、１．６、１．６９、１．７、１．８または２．０としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１１Ａおよび図１１Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１１Ｃに示す。
なお表２から明らかなように、アクリル樹脂などからなるアンダーコート層７１，７６における光屈折率の波長依存性は、透明導電体４０，４５または高屈折率層７２，７７における光屈折率の波長依存性に比べて小さい。従って本実施例においては、上述のように、アンダーコート層７１，７６の光屈折率を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律の値とした。
【０１３６】
図１１Ａに示すように、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．４の場合、長波長領域（波長５００ｎｍ以上）では０％線８１よりも上でハンチングし、短波長領域（波長５００ｎｍ以下）では０％線８１よりも下でハンチングしていた。一方、光屈折率が２．０の場合、長波長領域（波長５００ｎｍ以上）では０％線８１よりも下でハンチングし、短波長領域（波長５００ｎｍ以下）では０％線８１よりも上でハンチングしていた。そして、光屈折率が１．６近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。また、光屈折率が１．６近傍の場合、ハンチングの振幅が、その他の光屈折率の場合に比べて小さくなっていた。
なお、本明細書において、「０％線８１よりも上でハンチングする」とは、ハンチングの中心（振幅の中心）が０％線８１よりも上にあることを意味している。同様に、「０％線８１よりも下でハンチングする」とは、ハンチングの中心が０％線８１よりも下にあることを意味している。また、「０％線８１付近でハンチングする」とは、ハンチングの中心が０％線８１近傍にあることを意味している。
【０１３７】
図１１Ｂに示すように、反射率差に関しても、透過率差の場合と同様に、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．６近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングし、かつハンチングの振幅も比較的小さくなっていた。
【０１３８】
図１１Ｃに示すように、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．４４〜１．５９の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．５０〜１．５３の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、アンダーコート層７１，７６の光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっており、より好ましくは１．４４〜１．５９の範囲内となっており、さらに好ましくは１．５０〜１．５３の範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１３９】
実施例６
高屈折率層７２，７７の厚みを、０、１、２、３．４、４、５、５．４、５．８、６、６．３、６．４、７、７．２、８、８．６、１０、１１または１２ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１２Ａおよび図１２Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１２Ｃに示す。
【０１４０】
透過率差については、図１２Ａに示すように、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍの場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。一方、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍよりも小さくなるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。また、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍよりも大きくなるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１４１】
反射率差については、図１２Ｂに示すように、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍの場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。一方、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍよりも小さくなるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。また、高屈折率層７２，７７の厚みが６ｎｍよりも大きくなるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１４２】
図１２Ｃに示すように、高屈折率層７２，７７の厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、高屈折率層７２，７７の厚みが５．０〜７．２ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、高屈折率層７２，７７の厚みが５．８〜６．３ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、高屈折率層７２，７７の厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、より好ましくは５．０〜７．２ｎｍの範囲内となっており、さらに好ましくは５．８〜６．３ｎｍの範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１４３】
実施例７
高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を、表２に示す光屈折率から、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に＋０．３、＋０．２２、＋０．２、＋０．１２、＋０．１、＋０．０４、＋０．０３、０、−０．０２、−０．０７、−０．１１、−０．１４、−０．２、−０．２７または−０．３としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１３Ａおよび図１３Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１３Ｃに示す。
【０１４４】
透過率差については、図１３Ａに示すように、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が負の場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が正の場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１４５】
反射率差については、図１３Ｂに示すように、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が負の場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が正の場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１４６】
図１３Ｃに示すように、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．２７〜＋０．２２の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．１１〜＋０．１２の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、表２に示す高屈折率層７２，７７の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．０２〜＋０．０３の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっている。より好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．１８＋０．１２／−０．１１の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．３６＋０．１２／−０．１１の範囲内となっている。さらに好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．１８＋０．０３／−０．０２の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する高屈折率層７２，７７の光屈折率が２．３６＋０．０３／−０．０２の範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１４７】
実施例８
表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることの作用効果を確認するため、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合の透過率差および反射率差をシミュレーションにより求めた。結果を図１４Ａおよび図１４Ｂに示す。図１４Ａおよび図１４Ｂには、比較のため、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を、表２に示すような波長依存性を有する値とした場合のシミュレーション結果も併せて示されている。
【０１４８】
透過率差については、図１４Ａに示すように、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。反射率差については、図１４Ｂに示すように、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。このことから、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透過率差および反射率差のハンチングをより０％線８１付近で生じさせることが可能になると考えられる。
【０１４９】
ここで図１４Ａに示す結果についてさらに詳細に検討する。波長５００ｎｍ以下の領域においては、図１４Ａに示すように、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合、および、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いる場合のいずれにおいても、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。ここで上述のとおり、透過率差＝（透明導電体４０，４５が設けられていない領域における透過率）−（透明導電体４０，４５が設けられている領域における透過率）となっている。従って、波長５００ｎｍ以下の領域においては、高屈折率層７２，７７の光屈折率の波長依存性に依らず、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における透過率が、透明導電体４０，４５が設けられている領域における透過率よりも高いと言える。すなわち、透明導電体４０，４５が設けられていない領域を透過した光は、透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光に比べて、より多くの青色光成分を含んでいると言える。
ここで図１４Ａに示すように、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いる場合の透過率差のハンチングは、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合のハンチングに比べて、０％線８１付近で生じている。このため、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透明導電体４０，４５が設けられていない領域を透過した光と、透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光との間での青色光成分の差を小さくすることができる。従って、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透過率差を小さくするだけでなく、透明導電体４０，４５が設けられていない領域を透過した光と、透明導電体４０，４５が設けられている領域を透過した光との間での色相の差を小さくすることができる。すなわち、透過率の差（強度の差）と色相の差の両面において、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
同様に、図１４Ｂに示すように、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いる場合の反射率差のハンチングは、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を波長に依らず一律で２．１８３３７とした場合のハンチングに比べて、０％線８１付近で生じている。このため、表２に示すような光屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透明導電体４０，４５が設けられていない領域で反射した光と、透明導電体４０，４５が設けられている領域で反射した光との間での色相の差を小さくすることができる。すなわち、反射率の差（強度の差）と色相の差の両面において、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１５０】
このように本発明の高屈折率層７２，７７により、透過率差および反射率差のハンチングが０％線８１をほぼ中心線として生じるようにすることが可能となることについては、例えば以下のような理由が考えられる。表２に示す様に、本発明による高屈折率層７２，７７および透明導電体４０，４５は、光波長が短波長域（光波長３８０ｎｍ）から長波長域（光波長７８０ｎｍ）となるにつれて光屈折率（実数部）が約０．３だけ小さくなっている。すなわち、高屈折率層７２，７７の光屈折率の波長依存性は、透明導電体４０，４５の光屈折率の波長依存性に類似している。従って、この様な屈折率の波長依存性を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透明導電体４０，４５の屈折率の波長依存性に起因する透過率差および反射率差の波長依存性を適切に補正することが出来たと考えられる。
【０１５１】
実施例９
高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）を、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に＋０．６、＋０．５、＋０．４７、＋０．４、＋０．３３、＋０．３、＋０．２５、＋０．２１、＋０．２、＋０．１９、＋０．１５、＋０．１、０、−０．０６、−０．１または−０．２としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１５Ａおよび図１５Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１５Ｃに示す。
【０１５２】
透過率差については、図１５Ａに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が＋０．２よりも小さい場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が＋０．２よりも大きい場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１５３】
反射率差については、図１５Ｂに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が＋０．２よりも小さい場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が＋０．２よりも大きい場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１５４】
図１５Ｃに示すように、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）が、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から波長によらず一律で−０．０６〜＋０．４７の範囲内の値だけ変位した光屈折率となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）が、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から波長によらず一律で＋０．１〜＋０．３３の範囲内の値だけ変位した光屈折率となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、高屈折率層７２，７７の光屈折率（実数部）が、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から波長によらず一律で＋０．１９〜＋０．２５の範囲内の値だけ変位した光屈折率なっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、高屈折率層７２，７７の光屈折率は、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から−０．０６〜＋０．４７の範囲内の値だけ変位した値となっており、より好ましくは表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から＋０．１〜＋０．３３の範囲内の値だけ変位した値となっており、さらに好ましくは表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率から＋０．１９〜＋０．２５の範囲内の値だけ変位した値となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
このことから、透明導電体４０，４５と同様の光屈折率の波長依存性を有するとともに、透明導電体４０，４５の光屈折率から所定量だけずれた光屈折率を有する高屈折率層７２，７７を用いることにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができると言える。
【０１５５】
実施例１０
低屈折率層７３，７８の厚みを、０、２０、２８、４０、４１、５０、５５、５７、６０、６１、６４、６８、７０、７８、８５、９１または１００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１６Ａおよび図１６Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１６Ｃに示す。
【０１５６】
透過率差については、図１６Ａに示すように、低屈折率層７３，７８の厚みが５５ｎｍ近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。また、低屈折率層７３，７８の厚みが５５ｎｍからずれるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１５７】
反射率差については、図１６Ｂに示すように、低屈折率層７３，７８の厚みが５５ｎｍ近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。また、低屈折率層７３，７８の厚みが５５ｎｍからずれるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１５８】
図１６Ｃに示すように、低屈折率層７３，７８の厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、低屈折率層７３，７８の厚みが５０〜８５ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、低屈折率層７３，７８の厚みが５７〜７８ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、低屈折率層７３，７８の厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、より好ましくは５０〜８５ｎｍの範囲内となっており、さらに好ましくは５７〜７８ｎｍの範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１５９】
実施例１１
低屈折率層７３，７８の光屈折率を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に１．２、１．２８、１．３、１．３６、１．４、１．４２、１．４５３、１．４９、１．５、１．６、１．６６、１．７、１．７２、１．８、１．８６または２．０としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１７Ａおよび図１７Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１７Ｃに示す。
なお表２から明らかなように、二酸化珪素（ＳｉＯ２）などからなる低屈折率層７３，７８における光屈折率の波長依存性は、透明導電体４０，４５または高屈折率層７２，７７における光屈折率の波長依存性に比べて小さい。従って本実施例においては、上述のように、低屈折率層７３，７８の光屈折率を、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律の値とした。
【０１６０】
図１７Ａに示すように、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．２の場合、長波長領域（波長５００ｎｍ以上）では０％線８１よりも下でハンチングし、短波長領域（波長５００ｎｍ以下）では０％線８１よりも上でハンチングしていた。一方、光屈折率が１．８の場合、長波長領域（波長５００ｎｍ以上）では０％線８１よりも上でハンチングし、短波長領域（波長５００ｎｍ以下）では０％線８１よりも下でハンチングしていた。そして、光屈折率が１．４または１．６の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。
【０１６１】
図１７Ｂに示すように、反射率差に関しても、透過率差の場合と同様に、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．４または１．６の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。
【０１６２】
図１７Ｃに示すように、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．３６〜１．８０の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、低屈折率層７３，７８の光屈折率が１．４２〜１．４９の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、低屈折率層７３，７８が１．２８〜１．８６の範囲内となっており、より好ましくは１．３６〜１．８０の範囲内となっており、さらに好ましくは１．４２〜１．４９の範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１６３】
実施例１２
透明導電体４０，４５の厚みを、０、５、８、１０、１０．７、１５、１５．３、１５．７、１６、１７、１７．７、１８、１９．８、２０、２２．７または２５ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１８Ａおよび図１８Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１８Ｃに示す。
【０１６４】
透過率差については、図１８Ａに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍ近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。一方、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍよりも小さくなるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。また、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍよりも大きくなるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られるとともに、ハンチングの振幅が大きくなった。
【０１６５】
反射率差については、図１８Ｂに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍ近傍の場合、波長によらず０％線８１付近でハンチングしていた。一方、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍよりも小さくなるにつれて、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。また、透明導電体４０，４５の厚みが１５ｎｍよりも大きくなるにつれて、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られるとともに、ハンチングの振幅が大きくなった。
【０１６６】
図１８Ｃに示すように、透明導電体４０，４５の厚みが２２．７ｎｍ以下となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、透明導電体４０，４５の厚みが１０．７〜１９．８ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、透明導電体４０，４５の厚みが１５．７〜１７．７ｎｍの範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、透明導電体４０，４５の厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、より好ましくは１０．７〜１９．８ｎｍの範囲内となっており、さらに好ましくは１５．７〜１７．７ｎｍの範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【０１６７】
実施例１３
透明導電体４０，４５の光屈折率（実数部）を、表２に示す光屈折率から、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域にわたって一律に＋０．３、＋０．２、＋０．１３、＋０．１、＋０．０６、＋０．０５、＋０．０１、０、−０．０３、−０．１、−０．１３、−０．２、−０．２５または−０．３としたこと以外は、実施例１と同様にして、シミュレーションにより、透明導電体４０，４５が設けられている領域における光の透過率および反射率の値と、透明導電体４０，４５が設けられていない領域における光の透過率および反射率の値との差（透過率差および反射率差）を求めた。結果の一部を図１９Ａおよび図１９Ｂに示す。また、シミュレーション結果に基づいて、ΔＹ（反射）、ΔＹ（透過）および透明導電体４０，４５が設けられている領域におけるｂ＊を求めた。結果を図１９Ｃに示す。
【０１６８】
透過率差については、図１９Ａに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が負の場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が正の場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。
【０１６９】
反射率差については、図１９Ｂに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が負の場合、０％線８１よりも上でハンチングする傾向が見られた。一方、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が正の場合、０％線８１よりも下でハンチングする傾向が見られた。
【０１７０】
図１９Ｃに示すように、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．３〜＋０．１３の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。また、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．１３〜＋０．０６の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．２５％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。さらに、表２に示す透明導電体４０，４５の光屈折率からの変位量が波長によらず一律で−０．０３〜＋０．０１の範囲内となっている場合、ΔＹ（反射）およびΔＹ（透過）が０．１％以下になるとともに、ｂ＊の絶対値が１．５以下となっていた。従って、本発明による保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっている。より好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が１．９７＋０．０６／−０．１３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が２．１２＋０．０６／−０．１３の範囲内となっている。さらに好ましくは、波長５５０ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が１．９７＋０．０１／−０．０３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対する透明導電体４０，４５の光屈折率が２．１２＋０．０１／−０．０３の範囲内となっている。このことにより、透明導電体４０，４５のパターンが保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０の使用者から視認されるのを防ぐことができる。
【符号の説明】
【０１７１】
１０ 入出力装置
１２ 保護カバー
１４ 第１接着層
１５ 表示装置
１９ 第２接着層
２０ タッチパネル装置
３０ タッチパネルセンサ
３２ 基材フィルム
３２ａ 面（一側の面）
３２ｂ 面（他側の面）
３３ フィルム本体
３６ａ 第１センサ電極
３６ｂ 第１取出配線
３６ｃ 検出制御部との接続端子部
３７ａ 第２センサ電極
３７ｂ 第２取出配線
３７ｃ 検出制御部との接続端子部
４０ 第１透明導電体
４１ 第１センサ部
４１ａ ライン部
４１ｂ 膨出部
４２ 第１接続部
４３ 第１取出導電体
４５ 第２透明導電体
４６ 第２センサ部
４６ａ ライン部
４６ｂ 膨出部
４７ 第２接続部
４８ 第２取出導電体
５０ 積層体（ブランクス）
５２ａ 第１透明導電層
５２ｂ 第２透明導電層
５４ａ 第１遮光導電層
５４ｂ 第２遮光導電層
７０ 第１機能層
７１ 第１アンダーコート層
７１ａ 面（一側の面）
７２ 第１高屈折率層
７２ａ 面（一側の面）
７３ 第１低屈折率層
７５ 第２機能層
７６ 第２アンダーコート層
７６ｂ 面（他側の面）
７７ 第２高屈折率層
７７ｂ 面（他側の面）
７８ 第２低屈折率層
８０ 中間積層体
８１ ０％線
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなる透明シート付タッチパネルセンサにおいて、
前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、を備え、
基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、を有し、
前記第１透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、
前記第１アンダーコート層および前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、
前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層の光屈折率は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている
ことを特徴とする透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項２】
前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項１に記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項３】
前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、前記第１透明導電体の光屈折率−０．０６〜前記第１透明導電体の光屈折率＋０．４７の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項１に記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項４】
前記第１低屈折率層は、その厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項５】
前記第１アンダーコート層は、その厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項６】
タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなる透明シート付タッチパネルセンサにおいて、
前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、基材フィルムの他側の面上にパターニングされた第２透明導電体と、を備え、
基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、フィルム本体の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２アンダーコート層と、第２アンダーコート層の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２高屈折率層と、第２高屈折率層の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２低屈折率層と、を有し、
前記第１透明導電体および前記第２透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、
前記第１アンダーコート層および前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、
前記第２アンダーコート層および前記第２低屈折率層の光屈折率は、前記第２透明導電体および前記第２高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、
前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている
ことを特徴とする透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項７】
前記第１高屈折率層および前記第２高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項６に記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項８】
前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、前記第１透明導電体の光屈折率−０．０６〜前記第１透明導電体の光屈折率＋０．４７の範囲内となっており、
前記第２高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、前記第２透明導電体の光屈折率−０．０６〜前記第２透明導電体の光屈折率＋０．４７の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項６に記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項９】
前記第１低屈折率層および前記第２低屈折率層は、その厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項１０】
前記第１アンダーコート層および前記第２アンダーコート層は、その厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項１】
タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなる透明シート付タッチパネルセンサにおいて、
前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、を備え、
基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、を有し、
前記第１透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、
前記第１アンダーコート層および前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、
前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層の光屈折率は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている
ことを特徴とする透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項２】
前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項１に記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項３】
前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、前記第１透明導電体の光屈折率−０．０６〜前記第１透明導電体の光屈折率＋０．４７の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項１に記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項４】
前記第１低屈折率層は、その厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項５】
前記第１アンダーコート層は、その厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項６】
タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなる透明シート付タッチパネルセンサにおいて、
前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、基材フィルムの他側の面上にパターニングされた第２透明導電体と、を備え、
基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、フィルム本体の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２アンダーコート層と、第２アンダーコート層の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２高屈折率層と、第２高屈折率層の前記第２透明導電体側の面上に設けられた第２低屈折率層と、を有し、
前記第１透明導電体および前記第２透明導電体は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、
前記第１アンダーコート層および前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、
前記第２アンダーコート層および前記第２低屈折率層の光屈折率は、前記第２透明導電体および前記第２高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、
前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている
ことを特徴とする透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項７】
前記第１高屈折率層および前記第２高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して２．１８＋０．２２／−０．２７の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．３６＋０．２２／−０．２７の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項６に記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項８】
前記第１高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、前記第１透明導電体の光屈折率−０．０６〜前記第１透明導電体の光屈折率＋０．４７の範囲内となっており、
前記第２高屈折率層は、その厚みが３．４〜８．６ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が、前記第２透明導電体の光屈折率−０．０６〜前記第２透明導電体の光屈折率＋０．４７の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項６に記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項９】
前記第１低屈折率層および前記第２低屈折率層は、その厚みが４１〜９１ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．２８〜１．８６の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【請求項１０】
前記第１アンダーコート層および前記第２アンダーコート層は、その厚みが９００〜１００００ｎｍの範囲内となっており、かつその光屈折率が１．３５〜１．６９の範囲内となっている
ことを特徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載の透明シート付タッチパネルセンサ。
【図１】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図７Ｃ】
【図７Ｄ】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図９Ｅ】
【図９Ｆ】
【図９Ｇ】
【図１０】
【図１１Ａ】
【図１１Ｂ】
【図１１Ｃ】
【図１２Ａ】
【図１２Ｂ】
【図１２Ｃ】
【図１３Ａ】
【図１３Ｂ】
【図１３Ｃ】
【図１４Ａ】
【図１４Ｂ】
【図１５Ａ】
【図１５Ｂ】
【図１５Ｃ】
【図１６Ａ】
【図１６Ｂ】
【図１６Ｃ】
【図１７Ａ】
【図１７Ｂ】
【図１７Ｃ】
【図１８Ａ】
【図１８Ｂ】
【図１８Ｃ】
【図１９Ａ】
【図１９Ｂ】
【図１９Ｃ】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図７Ｃ】
【図７Ｄ】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図９Ｅ】
【図９Ｆ】
【図９Ｇ】
【図１０】
【図１１Ａ】
【図１１Ｂ】
【図１１Ｃ】
【図１２Ａ】
【図１２Ｂ】
【図１２Ｃ】
【図１３Ａ】
【図１３Ｂ】
【図１３Ｃ】
【図１４Ａ】
【図１４Ｂ】
【図１５Ａ】
【図１５Ｂ】
【図１５Ｃ】
【図１６Ａ】
【図１６Ｂ】
【図１６Ｃ】
【図１７Ａ】
【図１７Ｂ】
【図１７Ｃ】
【図１８Ａ】
【図１８Ｂ】
【図１８Ｃ】
【図１９Ａ】
【図１９Ｂ】
【図１９Ｃ】
【公開番号】特開２０１２−１１８９３６（Ｐ２０１２−１１８９３６Ａ）
【公開日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２７０６７０（Ｐ２０１０−２７０６７０）
【出願日】平成２２年１２月３日（２０１０．１２．３）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月３日（２０１０．１２．３）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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