電子写真感光体および画像形成方法
【課題】 耐摩耗性に優れ、かつ、干渉スジおよび画像ムラの発生が抑制された高画質のハーフトーン画像を得ることができる電子写真感光体および当該電子写真感光体を用いた画像形成方法の提供。
【解決手段】 電子写真感光体は、円筒状基体上に少なくとも電荷発生層および少なくとも２層以上の電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体であって、前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、式（１）：ΔＬ≧１０μｍ〔式（１）中、ΔＬは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。〕の条件を満たす切削加工形状を有し、前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの無機粒子が含有されていることを特徴とする。
【解決手段】 電子写真感光体は、円筒状基体上に少なくとも電荷発生層および少なくとも２層以上の電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体であって、前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、式（１）：ΔＬ≧１０μｍ〔式（１）中、ΔＬは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。〕の条件を満たす切削加工形状を有し、前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの無機粒子が含有されていることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、軽印刷分野等に用いられる、極めて高画質なハーフトーン画像を形成することができる電子写真感光体および当該電子写真感光体を用いた画像形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真法による画像形成装置について、その性能の向上に伴って比較的高画質の画像が得られるようになったことから、比較的少部数のプリントを得る軽印刷分野等において電子写真法による画像形成装置が広く用いられるようになってきた。
その結果として、電子写真法による画像形成装置においては、さらに高いレベルの画質が要求されている。また、従来の電子写真法による画像形成装置においては稀な用途、例えばコート紙へのプリント、高カバレッジ画像のプリント、極めて高精細な画像や微妙なトーン（色調）を有する画像のプリントや、同一画像の大量連続プリント等に電子写真法による画像形成装置が利用されている。これらに伴い、従来は殆どあるいは全く指摘されなかった不具合が生じている。
【０００３】
その不具合の一つとして、高画質の画像形成装置によって中間色の均一性を向上させたハーフトーン画像をコート紙などに出力するといった組み合わせにおいて近年頻発している、画像における斜めスジ状濃度ムラの発生がある。
この斜めスジ状濃度ムラは、いわゆる干渉スジと呼ばれるものであって、電子写真法による画像形成装置において用いられる電子写真感光体（以下、単に「感光体」ともいう。）の円筒状基体の表面には、その外径等の寸法精度を所望のレベルにする、表面の酸化膜を除きフレッシュにする等の目的で、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成されているところ、当該感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期と、スクリーン処理に用いるスクリーンパターン（露光パターン）の周期（ピッチ）との間の干渉に起因して生じるものと推測される。
【０００４】
干渉スジの発生を抑制する技術として、従来、感光体を構成する円筒状基体の表面の切削凹凸の形状に工夫をする技術がある（例えば、特許文献１〜３）。すなわち、円筒状基体の表面の切削形状はバイト切削加工によって形成されることが多いが、露光パターンの周期の整数倍ではない周期等、比較的害の少ない周期の切削凹凸を、定速切削によって形成したり、さらに陽極酸化処理やブラスト処理といったコストがかかり弊害が生じやすい追加工を実施して切削凹凸形状の消去を図ることが行われてきた。特許文献１〜３に開示された円筒状基体の中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差ΔＬは、具体的には、最大でも４μｍ程度である。
このような切削凹凸を形成した円筒状基体の感光体を用いた画像形成装置においては、オフィス等において普通紙に出力される一般のハーフトーン画像については、十分な画像品質レベルを有するものとして満足されていた。
【０００５】
しかしながら、上述のような軽印刷分野等において用いられる高画質の画像形成装置によって中間色の均一性を向上させたハーフトーン画像をコート紙などに出力したものについては、濃度ムラの視認性が格段に向上されてしまうため、上記の技術では干渉スジの発生の抑制の効果が充分ではない。
【０００６】
一方、以前から感光体の耐摩耗性を改善する試みがなされている。例えば、感光体の最上層に保護層を設けることが行われており、具体的には、熱や光のエネルギーにより硬化性の官能基を有する化合物を硬化反応によって重合させて保護層を形成する技術が検討されている。硬化反応による保護層の形成の技術においては、架橋反応の制御性等の観点により光エネルギーを用いた架橋反応が特に好ましく用いられている（例えば、特許文献４参照）。
【０００７】
しかしながら、このような感光体は円筒状基体上に電荷輸送特性を有する感光層が形成されているが、上記のような硬化反応によって形成する保護層には、電荷輸送特性を付与することが難しく、従って、感度の低下が生じるという問題があり、実用には好ましくない。
【０００８】
また、従来、長時間複写機を放置した後に形成した１枚目の画像などにおいて、ハーフトーン画像に軽微な画像ムラが稀に発生するという問題もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−９１０８５号公報
【特許文献２】特許第３８９４０２３号公報
【特許文献３】特開２００１−２８９６３０号公報
【特許文献４】特開２００１−１２５２９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、耐摩耗性に優れ、かつ、干渉スジおよび画像ムラの発生が抑制された高画質のハーフトーン画像を得ることができる電子写真感光体および当該電子写真感光体を用いた画像形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の電子写真感光体は、円筒状基体上に少なくとも電荷発生層および少なくとも２層以上の電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体であって、
前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、下記式（１）の条件を満たす切削加工形状を有し、
前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの無機粒子が含有されていることを特徴とする。
式（１）：ΔＬ≧１０μｍ
〔式（１）中、ΔＬは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。〕
【００１２】
本発明の電子写真感光体においては、前記無機粒子がシリカ粒子であることが好ましい。
【００１３】
また、本発明の電子写真感光体は、上記の電子写真感光体を用いて画像を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の電子写真感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。
また、本発明の電子写真感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。
さらに、本発明の電子写真感光体によれば、最上層の電荷輸送層に特定範囲の無機粒子が含有されていることにより、優れた耐摩耗性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の電子写真感光体の構成の一例を示す部分断面図である。
【図２】形成されたハーフトーン画像に現れる干渉スジのイメージ図である。
【図３】感光体の断面における部分拡大図である。
【図４】本発明に係るΔＬの測定方法を説明する図である。
【図５】本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置の構成の一例を示す説明用断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明について具体的に説明する。
【００１７】
〔感光体〕
本発明の電子写真感光体は、少なくとも電荷発生層および少なくとも２層以上の電荷輸送層がこの順に積層されたものであって、円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、上記式（１）の条件を満たす切削加工形状（以下、「特定の切削加工形状」ともいう。）を有し、最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの無機粒子（以下、「特定の無機粒子」ともいう。）が含有される、特定の感光体からなることを特徴とするものである。
【００１８】
具体的な一例を挙げると、例えば図１に示されるように、特定の切削加工形状を有する円筒状基体１ａ上に、中間層１ｂ、電荷発生層１ｃ、特定の無機粒子を含有しない電荷輸送層（以下、「下層の電荷輸送層」ともいう。）１ｄ、特定の無機粒子を含有する電荷輸送層（以下、「最上層の電荷輸送層」ともいう。）１ｅがこの順に積層されてなり、電荷発生層１ｃ、下層の電荷輸送層１ｄおよび最上層の電荷輸送層１ｅから電子写真感光体の構成に必要不可欠な感光層１αが構成されている。このような感光体１は、電荷発生層１ｃおよび電荷輸送層１ｄ、１ｅがそれぞれ公知の有機電荷発生物質および有機電荷輸送物質から構成される有機感光層である、いわゆる有機感光体であることが好ましい。
以下、特定の感光体が有機感光体からなるものとして説明する。
【００１９】
（円筒状基体）
特定の感光体を構成する円筒状基体は、導電性を有し、その外周面に特定の切削加工形状が形成された円筒形状のものである。
特定の切削加工形状を示す上記式（１）の条件において、ΔＬは、切削凹凸の周期の変動の幅を示し、具体的には、円筒状基体の外周面の画像領域内における、切削凹凸の周期幅（図３においてＷで示す。）の最大値と最小値との差である。
【００２０】
上記式（１）が導き出された理由は、以下の通りである。
本発明において課題とされる、形成された画像に現れる干渉スジを図２に示す。このように、干渉スジは、画面ｒ上に感光体の周方向、すなわち画像支持体Ｐの搬送方向ｓに沿った方向に伸びる斜めのスジ状の濃度ムラとして現われるものであり、一様な画像において目立ち、特に、滑面画像で軽印刷の如く大画面の高画質なハーフトーン画像において明確に視認されてしまう。
【００２１】
発明者の検討によれば、本発明にて問題視される干渉スジの発生原因は、下記の通りである。
【００２２】
図３は、感光体の断面における部分拡大図である。
干渉スジは、円筒状基体の切削凹凸自体に起因するものではなく、当該切削凹凸を反映して感光体１の感度が周期を有することに起因して生じる。
すなわち、図３に示すように、当該円筒状基体１ａの表面の切削凹凸の形状が中間層１ｂを介して電荷発生層（ＣＧＬ）１ｃの膜厚に反映され、具体的には円筒状基体１ａの切削凹凸の深さの大小に対応して膜厚が厚い部分βや膜厚の薄い部分α等が生じ、その結果、感光体１が、電荷発生層１ｃの膜厚が規則的な周期に従って変動するものとなる。
そして、感光体１の感度は、電荷発生層１ｃの膜厚に従って変動するので、当該感光体１の感度の周期と、レーザー光やＬＥＤ光源等による露光が行われるときの当該露光に係るスクリーンパターンの周期とが干渉して静電潜像に周期性を有する電位ムラが生じ、当該静電潜像が現像、転写および定着されて得られた画像において、当該画像が高画質なものとされる場合に、周期的な濃度ムラ、すなわち干渉スジとして可視化される。
【００２３】
本発明においては、円筒状基体の表面に切削により生じる切削凹凸の周期幅をある程度以上変動させることが、干渉スジの発生の抑制に極めて有効であることを見いだし、さらに、その変動の幅の下限値を見いだしたものである。
【００２４】
ΔＬが１０μｍ未満である場合は、円筒状基体が切削凹凸の周期性の十分に低減されたものとならず、露光パターンの周期と感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間に干渉が生じて高画質なハーフトーン画像を形成した場合に当該画像に干渉スジが発生することがある。
【００２５】
ΔＬの上限値は、現時点では切削加工形状を形成するための加工機の性能によって限定されているが、発明の効果による限界は存在しないと思われる。ただし、加工機の特性によっては、加工機の速度プログラムをΔＬを大きくするための設定にすることにより、速度変動が急激に起こって加工面に段差が発生し、これに起因して画像にスジが生じることがある。そのため、ΔＬは、好ましくは３００μｍ≧ΔＬ≧１０μｍであり、より好ましくは１５０μｍ≧ΔＬ≧１０μｍである。
【００２６】
（円筒状基体の作製方法）
円筒状基体は、例えば円筒管よりなる素管の表面にバイト切削加工によって特定の切削加工形状を形成させることにより、作製することができる。
素管としては、特に限定されず、例えば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛およびステンレスなどの金属をドラム状に成形したものなどが挙げられる。
【００２７】
特定の切削加工形状は、具体的には、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに、素管を円筒軸を中心として回転させると共に切削バイトを非定速的に移動させながら当接させることにより形成することができる。
以下、本発明に係る特定の切削加工形状を形成するためのバイト切削加工について、さらに説明する。
【００２８】
円筒状基体のバイト切削加工は、円筒状基体の外径等の寸法精度を所望のレベルにする、円筒状基体の表面の酸化膜を除きフレッシュにする、円筒状基体の表面を所望の形状にする等の目的で行われる。従来のバイト切削加工で仕上げられた円筒状基体は、その中心軸方向に極めて規則的に切削凹凸が形成された形状を有するものとなり、円筒状基体上に形成された感光層の膜厚分布は、当該形状を反映した周期性を有し、その反映は間に中間層を介するなど、層を重ねても容易には消失しない。
【００２９】
図示の例のように、円筒状基体上に中間層（ＵＣＬ）が設けられ、当該中間層上に電荷発生層が形成される場合には、当該電荷発生層の下地となる形状は中間層の表面形状になるが、当該中間層の表面形状は、円筒状基体の表面の形状と中間層の組成によって主に決定される。
【００３０】
切削凹凸の周期の不規則性の指標であるΔＬを１０μｍ以上とするためには、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに、素管の表面に対する切削バイトの移動速度を加工途中で頻繁に変える指示を加えればよい。
【００３１】
例えば、切削バイトの移動速度Ｘn （ｍｍ／回転）とその指示位置Ｙn （ｍｍ）とを指示するＣＮＣ旋盤を用いる場合には、（Ｘ1 、Ｙ1 ）、（Ｘ2 、Ｙ2 ）、…（Ｘn 、Ｙn ）のようにｎブロックのプログラムを行うことになる。例えば第ｍブロックにおいて、（Ｙm+1 −Ｙm ）／Ｘm が特定数とならない場合に、そのブロック終点で切り替えを可能とするために切削バイトの移動速度の減速が生じ、次の第ｍ＋１ブロックでは指示速度Ｘm+1 までの増速が行われる。この場合、例えばＸm とＸm+1 が同じ速度の指示であっても、（Ｙm+1 −Ｙm ）／Ｘm が特定数とならない場合には、減速、増速が起こるため、これを用いて切削バイトの移動速度を変化させることが可能である。また、同じプログラムでも主軸回転数（素管の回転数）を変えるとΔＬは変わることがある。この原因は、切削バイトの移動を観測した結果に基づいて行われるプログラムの速度切り換え判断がデジタル回路によって間欠的に行われ、その間隔が加工速度に対して充分短くはないためと考えられる。特定数が必ずしも自然数ではないのも同様の理由によると考えられる。
【００３２】
言い換えると、特定数は旋盤の設計および設定と主軸回転数に依存する。
【００３３】
また、ＣＮＣ旋盤ではなくアナログ旋盤を用いる場合には、切削バイトの移動速度を制御しているモーター電圧を、例えば複数の抵抗をスイッチングする回路を通して出力させることにより切削バイトの移動速度を変化させることが可能である。また例えば、指定した波形の電圧を出力することができる電源を用いて切削バイトの移動を行わせることによってもその移動速度を変化させることが可能である。
【００３４】
切削凹凸の周期性をより低減させるために、切削バイトの移動速度を変える指示間隔は一定にしないことが望ましい。これは例えば、上記のＣＮＣ旋盤を用いる場合はＹn −Ｙn-1 を一定にしないことで、また上記のアナログ旋盤を用いる場合はスイッチングするタイマーを複数用いること、或いは出力波形を異なる波形の重畳等で複雑化することが可能な電源を用いること等で達成することができる。
【００３５】
また、ΔＬを１０μｍ以上とすることは、バイト切削加工時の素管の回転数（主軸回転数）を適宜変動させることにより実現することも可能である。これは例えば、上記のアナログ旋盤の場合と同様な手段で達成することができる。
【００３６】
ΔＬは切削バイトの移動速度の指示値差よりも大きくなる傾向があるが、それは上記ＣＮＣ旋盤の場合は上記の減速が入るためであり、上記アナログ旋盤の場合は電圧を変化させる時のオーバーシュートのためと考えられる。
【００３７】
また、素管の回転数（主軸回転数）が大きいほどΔＬが大きくなる傾向があるが、それは回転体の振れやワウの影響であると考えられる。
【００３８】
以上のように、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに素管の表面に対して切削バイトを変則的に移動させながら当接させることにより、ΔＬを１０以上にすることができる。
【００３９】
（ΔＬの測定方法）
本発明における円筒状基体の外周面の画像領域内における、切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差ΔＬは、例えば図４に例示するように、当該外周面の画像領域の断面曲線から読み取られたものである。具体的には、図４（ａ）の断面曲線から、繰り返し形状および周期に目ぼしをつけ、図４（ｂ）の断面曲線に示すように適切な倍率に上げてその周期幅を読み取ったものである。なお、図４（ｂ）の断面曲線は、横倍率を図４（ａ）の断面曲線の４倍にしたものである。
【００４０】
切削凹凸の周期幅の最大値および最小値を読み取るために測定される切削凹凸の周期数は、５周期以上であればよい。
【００４１】
断面曲線の測定箇所は、円筒状基体の外周面の画像領域内の任意の箇所でよく、１箇所であっても複数箇所であってもよい。測定箇所が１箇所である場合は、当該測定箇所から連続した、あるいは断続した５周期以上の切削凹凸の周期幅から最大値および最小値を読み取ればよく、測定箇所が複数箇所である場合は、当該複数の測定箇所から任意に５周期以上の切削凹凸の周期幅を選択し、これらから最大値および最小値を読み取ればよい。
【００４２】
断面曲線の測定箇所としては、例えば円筒状基体の中心軸方向の中央付近が選定されることが好ましい。
【００４３】
断面曲線の測定長さは、切削凹凸の周期幅を読み取ることができれば任意の長さでよいが、測定箇所が１箇所である場合は、切削凹凸の周期幅が少なくとも５周期以上読み取れる長さであることが好ましく、１０周期以上読み取れる長さであることが特に好ましい。
断面曲線の測定長さは、具体的には例えば４ｍｍとされる。
【００４４】
円筒状基体の外周面の画像領域の断面曲線は、触針式の表面粗さ測定器「サーフコム１４００Ｄ」（（株）東京精密製）を用いて下記の測定条件において得られたものである。
【００４５】
−測定条件−
・測定モード：粗さ測定（ＪＩＳ’０１規格）
・測定長：４．０ｍｍ
・カットオフ：０．８ｍｍ（ガウシアン）
・測定速度：０．３ｍｍ／ｓｅｃ
【００４６】
（中間層）
中間層は、円筒状基体と有機感光層との間にバリアー機能と接着機能とを付与するものである。種々の故障防止などの観点から、このような中間層を設けることが好ましい。
【００４７】
中間層は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コポリマー、ポリアミド、ポリウレタン、アルキッド−メラミン、エポキシおよびゼラチンなどのバインダー樹脂を公知の溶媒に溶解して塗布液を調製し、この塗布液を、円筒状基体の外周面に浸漬塗布などによって塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥することにより形成することができる。
中間層を形成するバインダー樹脂としては、アルコール可溶性のポリアミド樹脂を用いることが好ましい。
【００４８】
また、中間層には抵抗調整や粗さ付与等の目的で金属酸化物粒子等の各種の微粒子を含有させることができる。
中間層に各種の微粒子が含有された特定の感光体によれば、中間層の表面形状が円筒状基体の表面の切削凹凸に加えて当該微粒子の形状に由来するランダムな凸形状を反映したものとなるために、円筒状基体の表面の形状に由来の感度の周期性を減ずることができ、干渉スジの発生を極めて有効に抑制することができる。
【００４９】
金属酸化物粒子としては、例えば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズおよび酸化ジルコニウムなどの微粒子が挙げられる。
【００５０】
これらの金属酸化物粒子は、２種類以上を混合して用いてもよい。２種類以上混合した場合には、固溶体または融着の形をとってもよい。このような金属酸化物粒子の平均粒径は好ましくは０．３μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ以下である。また、これらの金属酸化物粒子は、無機化合物や有機化合物で一重または多重に表面処理されていてもよい。
【００５１】
中間層を形成するバインダー樹脂を溶解させる溶媒としては、公知のものを挙げることができるが、例えばバインダー樹脂としてアルコール可溶性ポリアミドを用いる場合、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール等の炭素数１〜４のアルコール類が、ポリアミドの溶解性と塗布性能に優れるために好ましい。また、塗布性や保存性、微粒子の分散性等を向上するために、溶媒と共に助溶媒を用いることが好ましく、好ましい効果を得られる助溶媒としては、ベンジルアルコール、トルエン、メチレンクロライド、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【００５２】
中間層を形成するための塗布液におけるバインダー樹脂の濃度は、中間層の膜厚や生産速度に合わせて適宜選択される。
【００５３】
中間層に微粒子を含有させる場合のバインダー樹脂に対する微粒子の混合割合は、バインダー樹脂１００体積部に対して微粒子２０〜４００体積部が好ましく、さらに好ましくは４０〜２００体積部である。
【００５４】
微粒子の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサー等が使用することができるが、これらに限定されるものではない。平均粒径０．１〜０．５ｍｍのビーズを用いたビーズミルを好ましいものとして挙げることができる。
【００５５】
なお、中間層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。
【００５６】
中間層の乾燥方法は、バインダー樹脂や溶媒の種類、膜厚に応じて適宜選択することができるが、熱乾燥が好ましい。
【００５７】
中間層の膜厚は、０．１〜３０μｍであることが好ましく、０．３〜１５μｍであることがより好ましい。
【００５８】
（電荷発生層）
特定の感光体を構成する電荷発生層は、バインダー樹脂中に電荷発生物質が含有されたものである。
【００５９】
電荷発生物質は、スーダンレッドおよびダイアンブルーなどのアゾ顔料、ピレンキノンやアントアントロンなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴおよびチオインジゴなどのインジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの電荷発生物質は単独、もしくは公知の樹脂中に分散する形態で使用することができる。
【００６０】
電荷発生層を形成するバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、並びにこれらの樹脂の内２つ以上を含む共重合体樹脂（例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂）およびポリビニルカルバゾール樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６１】
電荷発生層は、バインダー樹脂を溶媒に溶解させた溶液中に分散機を用いて電荷発生物質を分散して塗布液を調製し、当該塗布液を、中間層の外周面に塗布機で一定の膜厚に塗布し、乾燥して塗布膜を作製することが好ましい。
【００６２】
電荷発生層に使用するバインダー樹脂を溶解し塗布するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６３】
電荷発生物質の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサー等が使用することができるが、これらに限定されるものではない。
【００６４】
バインダー樹脂に対する電荷発生物質の混合割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷発生物質１０〜６００質量部が好ましく、さらに好ましくは５０〜５００質量部である。
電荷発生層の膜厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合等により異なるが好ましくは０．０１〜５μｍ、より好ましくは０．０５〜３μｍである。なお、電荷発生層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。前記顔料を真空蒸着することによって形成することもできる。
【００６５】
（下層の電荷輸送層）
特定の感光体を構成する下層の電荷輸送層は、バインダー樹脂中に電荷輸送物質（ＣＴＭ）が含有されたものである。
【００６６】
電荷輸送物質としては、例えば、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−１−ビニルピレンおよびポリ−９−ビニルアントラセン、トリフェニルアミン誘導体等が挙げられ、これらは２種以上混合して使用してもよい。
【００６７】
バインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂およびスチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂等が挙げられるが、ポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。また、ＢＰＡ、ＢＰＺ、ジメチルＢＰＡ、ＢＰＡ−ジメチルＢＰＡ共重合体等を用いることが、耐クラック、耐磨耗性、帯電特性の点で好ましい。
【００６８】
下層の電荷輸送層は、バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶媒に溶解させて塗布液を調製し、当該塗布液を、電荷発生層の外周面に塗布機によって一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。
【００６９】
バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶解するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７０】
バインダー樹脂に対する電荷輸送物質の混合割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷輸送物質１０〜５００質量部が好ましく、さらに好ましくは２０〜１００質量部である。
【００７１】
下層の電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合等により異なるが好ましくは５〜４０μｍであり、さらに好ましくは１０〜３０μｍである。
【００７２】
下層の電荷輸送層中には酸化防止剤、電子導電剤、安定剤等が添加されていてもよい。酸化防止剤については特開２０００−３０５２９１号公報に記載のものが挙げられ、電子導電剤については特開昭５０−１３７５４３号公報、同５８−７６４８３号公報等に記載のものが挙げられる。
【００７３】
（最上層の電荷輸送層）
特定の感光体を構成する最上層の電荷輸送層は、バインダー樹脂中に電荷輸送物質（ＣＴＭ）および特定の無機粒子が含有されたものである。
特定の感光体において、２層の電荷輸送層を有する理由は、電位特性と耐摩耗性とを両立して得るためである。
【００７４】
最上層の電荷輸送層を構成するバインダー樹脂および電荷輸送物質としては、下層の電荷輸送層と同様のものを用いることができる。
【００７５】
最上層の電荷輸送層は、バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶媒に溶解させ、この溶解液に特定の無機粒子を分散させて塗布液を調製し、当該塗布液を、下層の電荷輸送層の外周面に塗布機によって一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。
【００７６】
バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶解するための溶媒としては、下層の電荷輸送層を形成するための溶媒と同様のものを用いることができる。
【００７７】
バインダー樹脂に対する電荷輸送物質の混合割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷輸送物質１０〜５００質量部が好ましく、さらに好ましくは２０〜１００質量部である。
【００７８】
また、バインダー樹脂に対する特定の無機粒子の使用割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して２．５〜４０質量部であることが好ましく、さらに好ましくは５〜３５質量部である。
【００７９】
最上層の電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性、特定の無機粒子の特性および混合割合等により異なるが好ましくは２〜１２μｍであり、さらに好ましくは５〜９μｍである。
【００８０】
最上層の電荷輸送層中には、下層の電荷輸送層と同様に、酸化防止剤、電子導電剤、安定剤等が添加されていてもよい。
【００８１】
（特定の無機粒子）
最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子としては、金属酸化物粒子を用いることができる。
金属酸化物粒子としては、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉛、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸化セレン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウム等を例示することができるが、これらの中でも、酸化チタン、アルミナ、酸化亜鉛、酸化錫等の粒子が好ましい。
特定の無機粒子としては、シリカ粒子を用いることもできる。
以上の無機粒子の中でも、シリカ粒子を用いることが特に好ましい。
【００８２】
また、上記の金属酸化物粒子は、公知の方法、例えば気相法、塩素法、硫酸法、プラズマ法、電解法等の一般的な製造法で作製されたものであることが好ましい。
【００８３】
本発明の感光体の最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子は、その数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの範囲のものである。
最上層の電荷輸送層に含有される無機粒子の数平均一次粒径（Ｄｐ）が３ｎｍ未満である場合は、耐摩耗性について十分な効果が得られないおそれがあり、また、最上層の電荷輸送層に含有される無機粒子の数平均一次粒径（Ｄｐ）が１００ｎｍを超える場合は、当該無機粒子が塗布液中において沈殿しやすく、凝集物が発生するおそれがある。
【００８４】
特定の無機粒子の数平均一次粒径（Ｄｐ）は、走査型電子顕微鏡（日本電子製）により１０，０００倍の拡大写真を撮影し、当該写真画像を、凝集粒子は除いてランダムに３００個の粒子を選択してこれらが含まれるようスキャナーにより取り込んみ、自動画像処理解析装置「ＬＵＺＥＸ ＡＰ」（ニレコ社製）ソフトウエアバージョン Ｖｅｒ．１．３２を使用して画像解析を行い、フェレ方向の平均径として算出した値である。
【００８５】
本発明の感光体の最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子は、疎水化処理されたものであることが好ましい。
特定の無機粒子が疎水化処理されたものであることにより、当該特定の無機粒子を最上層の電荷輸送層中に均一な分散状態で分散させることができる。
【００８６】
（疎水化処理された無機粒子の作製方法）
疎水化処理された無機粒子は、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等の表面処理剤を用いて材料となる無機粒子を表面処理することにより、得ることができる。
【００８７】
疎水化処理された無機粒子の具体的な作製方法として、表面処理剤としてシランカップリング剤の１種である反応性有機ケイ素化合物を用いる場合は有機溶剤や水に対して反応性有機ケイ素化合物を溶解または懸濁させた処理剤溶液に材料となる無機粒子を添加した無機粒子分散液を、数分から１時間程度撹拌し、そして場合によっては当該無機粒子分散液に加熱処理を施した後に、濾過等の工程を経た後乾燥させることによって、表面を有機ケイ素化合物によって被覆された特定の無機粒子を作製することができる。無機粒子分散液は、有機溶剤や水に対して材料となる無機粒子を添加した後に反応性有機ケイ素化合物を添加しても構わない。
【００８８】
この疎水化処理に用いられる反応性有機ケイ素化合物の量は、仕込量で材料となる無機粒子１００質量部に対して、０．１〜５０質量部、さらに好ましくは１〜１０質量部であることが好ましい。
【００８９】
反応性有機ケイ素化合物としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられるが、材料となる無機粒子の表面の水酸基等の反応性基と縮合反応する化合物であれば、下記の化合物に限定されない。
【００９０】
一般式（Ａ）：（Ｒ）n −Ｓｉ−（Ｘ）4-n
〔一般式（Ａ）中、Ｒは１価の有機基、Ｘは加水分解性基を表し、ｎは０〜３の整数を表す。〕
【００９１】
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物において、Ｒで示される有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等のアルキル基；フェニル基、トリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基；γ−グリシドキシプロピル基、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基等の含エポキシ基；γ−アクリロキシプロピル基、γ−メタアクリロキシプロピル基等の含（メタ）アクリロイル基；γ−ヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシプロピルオキシプロピル基等の含水酸基、ビニル、プロペニル等の含ビニル基、γ−メルカプトプロピル等の含メルカプト基；γ−アミノプロピル基、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピル基等の含アミノ基；γ−クロロプロピル基、１，１，１−トリフルオロプロピル基、ノナフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチルエチル基等の含ハロゲン基；その他ニトロ基、シアノ置換アルキル基等が挙げられる。
また、Ｘで示される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；ハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
【００９２】
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物において、ｎが２以上である場合、複数のＲは互いに同一であっても異なっていてもよい。同様に、ｎが２以下の場合、複数のＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００９３】
ｎが０の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、テトラクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、テトラメトキシシラン、フェノキシトリクロロシラン、テトラアセトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアリロキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラキス（２−メトキシエトキシ）シラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラキス（２−エチルブトキシ）シラン、テトラキス（２−エチルヘキシロキシ）シラン等が挙げられる。
【００９４】
ｎが１の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、ｎ−プロピルトリクロロシラン、ｎ−ブチルトリクロロシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、エチルトリメトキシシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラン、メチルトリアセトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、３−アリルチオプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−ブロモプロピルトリエトキシシラン、３−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビス（エチルメチルケトオキシム）メトキシメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００９５】
ｎが２の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、ジメチルジクロロシラン、ジメトキシメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジエトキシシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジエトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシ−３−メルカプトプロピルメチルシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）ジメトキシメチルシラン、ｔ−ブチルフェニルジクロロシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−（３−シアノプロピルチオプロピル）ジメトキシメチルシラン、３−（２−アセトキシエチルチオプロピル）ジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−２−ピペリジノエチルシラン、ジブトキシジメチルシラン、３−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメチルシラン、３−（３−アセトキシプロピルチオ）プロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−３−ピペリジノプロピルシラン、ジエトキシメチルオクタデシルシラン等が挙げられる。
【００９６】
ｎが３の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、トリメチルクロロシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、メトキシジメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３−クロロプロピルメトキシジメチルシラン、メトキシ−３−メルカプトプロピルメチルメチルシラン等が挙げられる。
【００９７】
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物は、１種を単独で使用してもよく、また、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物を２種以上を組み合わせて用いるとき、ＲおよびＸはそれぞれの化合物間で同一でもよく、異なっていてもよい。
【００９８】
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物としては、下記一般式（Ｂ）で示される化合物を用いることが好ましい。
【００９９】
一般式（Ｂ）：Ｒ’−Ｓｉ−（Ｘ’）3
〔一般式（Ｂ）中、Ｒ’はアルキル基またはアリール基、Ｘ’はメトキシ基、エトキシ基またはハロゲン基を表す。〕
【０１００】
一般式（Ｂ）で表される反応性有機ケイ素化合物としては、さらに、Ｒ’が炭素数４〜８のアルキル基である有機ケイ素化合物がより好ましく、具体的には、トリメトキシｎ−ブチルシラン、トリメトキシｉ−ブチルシラン、トリメトキシヘキシルシラン、トリメトキシオクチルシラン等が挙げられる。
【０１０１】
また、反応性有機ケイ素化合物としてはハイドロジェンポリシロキサン化合物を挙げることもできる。ハイドロジェンポリシロキサン化合物としては、分子量が１０００〜２００００のものを用いることが、一般に入手しやすく、また、黒ポチ発生防止機能も良好であるために、好ましい。特に、メチルハイドロジェンポリシロキサンを最後の疎水化処理（表面処理）に用いることにより、良好な効果が得られる。
【０１０２】
また、反応性有機ケイ素化合物としてはフッ素原子を有する有機ケイ素化合物を挙げることもできる。
【０１０３】
フッ素原子を有する有機ケイ素化合物としては、具体的には、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジメトキシメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン等が挙げられる。
【０１０４】
また、表面処理剤としては、チタンカップリング剤の一種である反応性有機チタン化合物を用いることもできる。反応性有機チタン化合物としては、例えば、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等の金属アルコキシド化合物やジイソプロポキシチタニウムビス（アセチルアセテート）、ジイソプロポキシチタニウムビス（エチルアセトアセテート）、ジイソプロポキシチタニウムビス（ラクテート）、ジブトキシチタニウムビス（オクチレングリコレート）、ジイソプロポキシチタニウムビス（トリエタノールアミナート）等の金属キレート化合物が挙げられる。
【０１０５】
また、表面処理剤としては、反応性有機ジルコニウム化合物を用いることもできる。反応性有機ジルコニウム化合物としては、例えば、テトラブトキシジルコニウムやブトキシジルコニウムトリ（アセチルアセテート）等の金属アルコキシド化合物や金属キレート化合物が挙げられる。
【０１０６】
また、疎水化処理された無機粒子の別の作製方法としては、湿式メディア分散型装置を使用する方法を採用することもできる。
具体的には、例えば材料となる無機粒子としてアルミナ粒子を用いる場合、アルミナ粒子と表面処理剤とを含むスラリー（固体粒子の懸濁液）を湿式粉砕することにより、アルミナ粒子を微細化すると同時にアルミナ粒子の表面の疎水化処理が進行する。その後、スラリーの溶媒を除去することにより均一でしかもより微細に粉体化され、その表面がシラン化合物などの表面処理剤に由来の化合物により疎水化されたアルミナ粒子を得ることができる。
【０１０７】
湿式メディア分散型装置は、容器内にメディアとしてビーズが充填され、さらに回転軸と垂直に取り付けられた攪拌ディスクを高速回転させることにより、アルミナの凝集粒子を砕いて粉砕・分散する機能を有する装置であり、その具体的な構成としては、アルミナ粒子を十分に分散させ、かつ疎水化処理することができる形式であれば問題なく、例えば、縦型・横型、連続式・回分式など、種々の様式が採用することができる。具体的にはサンドグラインダーミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミル等が使用することができる。これらの湿式メディア分散型装置において、ボール、ビーズ等の粉砕媒体（メディア）を使用して衝撃圧壊、摩擦、専断、ズリ応力等により微粉砕、分散が行われる。
【０１０８】
サンドグラインダーミルで用いるビーズとしては、ガラス、アルミナ、ジルコン、ジルコニア、スチール、フリント石などを原材料としたボールが使用可能であるが、特にジルコニア製やジルコン製のものを用いることが好ましい。また、ビーズの大きさとしては、通常、直径１〜２ｍｍ程度のものを使用するが、本発明では０．１〜１．０ｍｍ程度のものを用いることが好ましい。
【０１０９】
湿式メディア分散型装置におけるディスクや容器内壁としては、ステンレス製、ナイロン製、セラミック製など種々の素材のものが使用することができるが、特にジルコニアまたはシリコンカーバイドといったセラミック製のものを用いることが好ましい。
【０１１０】
この疎水化処理に用いられる表面処理剤の量は、仕込量で材料となるアルミナ粒子１００質量部に対して、０．１〜１００質量部であることが好ましい。
また、スラリーの溶媒は、仕込量で材料となるアルミナ粒子１００質量部に対して、５０〜５０００質量部であることが好ましい。
【０１１１】
以上のような感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。
また、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。
さらに、最上層の電荷輸送層に特定範囲の無機粒子が含有されていることにより、優れた耐摩耗性が得られる。
【０１１２】
〔画像形成装置〕
図５は、本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置の構成の一例を示す説明用断面図である。
この画像形成装置は、タンデム型のカラー画像形成装置と称せられるもので、それぞれイエロー、マゼンタ、シアンまたは黒のトナー像を形成する画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋと、これらの画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋにおいて形成された各色のトナー像を画像支持体Ｐ上に転写する中間転写ユニット７と、画像支持体Ｐに対してトナー像を定着させる定着手段２４とを備える画像形成装置本体Ａを有し、当該画像形成装置本体Ａの上部に、原稿を光学的に走査して画像情報をデジタルデータ（原稿画像データ）として読み取るための原稿画像読み取り装置ＳＣが配置されている。
【０１１３】
画像形成ユニット１０Ｙについて、以下に詳細に説明する。
画像形成ユニット１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋは、各々、イエロートナーに代えて、マゼンタトナー、シアントナー、黒トナーによってトナー像を形成するものであり、基本的には画像形成ユニット１０Ｙと同様の構成を有するものである。
【０１１４】
画像形成ユニット１０Ｙは、像形成体であるドラム状の感光体１Ｙの周囲に、当該感光体１Ｙの表面に一様な電位を与える帯電手段２Ｙ、一様に帯電された感光体１Ｙ上に露光用画像データ信号（イエロー）に基づいて露光を行い、イエローの画像に対応する静電潜像を形成する露光手段３Ｙ、カラートナーを感光体１Ｙ上に搬送して静電潜像を顕像化する現像手段４Ｙ、一次転写後に感光体１Ｙ上に残留した残留トナーを回収するクリーニング手段６Ｙが配置されてなり、感光体１Ｙ上にイエロー（Ｙ）のトナー像を形成するものである。
【０１１５】
帯電手段２Ｙとしては、コロナ放電型の帯電器が用いられている。
【０１１６】
露光手段３Ｙとしては、露光光源として発光ダイオードを用いた、例えば感光体１Ｙの軸方向にアレイ状に発光ダイオードからなる発光素子が配列されたＬＥＤ部と結像素子とから構成される光照射装置、あるいは、露光光源として半導体レーザーを用いた、レーザー光学系のレーザ照射装置等よりなり、図５の画像形成装置においては、レーザー照射装置が用いられている。
【０１１７】
露光手段３Ｙにおいては、発振波長が３５０〜８５０ｎｍの半導体レーザーまたは発光ダイオードを、露光光源として用いた装置からなることが望ましい。このような露光光源を、書き込みの主査方向の露光ドット径を１０〜１００μｍに絞り込んで用い、感光体１Ｙ上にデジタル露光を行うことにより、６００ｄｐｉから２４００ｄｐｉ、あるいはそれ以上の高解像度の電子写真画像を得ることができる。
【０１１８】
露光手段３Ｙにおける露光方法としては、半導体レーザーを用いた走査光学系であってもよく、ＬＥＤによる固体型であってもよい。光強度分布についても、ガウス分布およびローレンツ分布等があるがそれぞれのピーク強度の１／ｅ2 以上の領域を露光ドット径とすればよい。
【０１１９】
この例の画像形成装置においては、画像形成ユニット１０Ｙにおける感光体１Ｙ、帯電手段２Ｙ、現像手段４Ｙ、クリーニング手段６Ｙが一体化されたプロセスカートリッジとして設けられている。
【０１２０】
以上のような画像形成装置は、一の画像形成ユニットにおける感光体と、現像手段、クリーニング手段等の構成要素とをプロセスカートリッジとして一体に結合させて構成し、このプロセスカートリッジが画像形成装置本体に対して着脱自在とされるよう構成されていてもよい。また、一の画像形成ユニットにおける帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段または図示しない分離手段、およびクリーニング手段の少なくとも１つを感光体と共に一体に支持してプロセスカートリッジを形成し、レールなどの案内手段を用いて画像形成装置本体に対して着脱自在とされるよう構成してもよい。
【０１２１】
中間転写ユニット７は、複数の支持ローラ７１〜７４により張架され、循環移動可能に支持された無端ベルト状の中間転写体７０と、それぞれ画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋによって形成されたトナー像を中間転写体７０に転写するための一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｂｋと、一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｂｋによって中間転写体７０上に転写されたトナー像を画像支持体Ｐ上に転写する二次転写ローラ５ｂと、中間転写体７０上に残留した残留トナーを回収するクリーニング手段６ｂとを有する。
【０１２２】
中間転写ユニット７における一次転写ローラ５Ｂｋは、画像形成処理中の常時、感光体１Ｂｋに当接されており、他の一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃは、カラー画像を形成する場合にのみ、それぞれ対応する感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃに当接される。
【０１２３】
また、二次転写ローラ５ｂは、ここを画像支持体Ｐが通過して二次転写が行われるときにのみ、中間転写体７０に当接される。
【０１２４】
この画像形成装置においては、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋにおけるプロセスカートリッジのそれぞれと、中間転写ユニット７の二次転写ローラ５ｂ以外のものが筐体８に収納されており、当該筐体８が、画像形成装置本体Ａから支持レール８２Ｌ、８２Ｒを介して引き出し可能に構成されている。
【０１２５】
この画像形成装置においては、全ての画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋの感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋのうち、全ての感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋが上記の特定の切削加工形状を有する特定の感光体からなるものであることが好ましいが、感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋのうち少なくとも１つが上記の特定の感光体から構成されていれば、干渉スジの発生が抑制された高画質な画像を形成する効果を得ることができる。
【０１２６】
本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置は、電子写真複写機、レーザープリンター、ＬＥＤプリンターおよび液晶シャッター式プリンター等の電子写真装置一般に適応するが、更に、電子写真技術を応用したディスプレー、記録、軽印刷、製版およびファクシミリ等の装置にも幅広く適用することができる。
【０１２７】
〔画像形成方法〕
本発明の電子写真感光体が搭載された以上のような画像形成装置においては、感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋの表面が帯電手段２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｂｋより帯電され、露光手段３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｂｋが原稿画像読み取り装置ＳＣによって得られた原稿画像データに各種の画像処理等が施されて得られた各色の露光用画像データ信号に従って動作され、具体的には当該露国用画像データ信号に対応して変調されたレーザー光が露光光源から出力され、このレーザー光によって当該感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋが走査露光されることにより、原稿画像読み取り装置ＳＣにより読み取られた原稿に対応したイエロー、マゼンタ、シアン、黒の各色に対応した静電潜像が各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋ上にそれぞれ形成される。
【０１２８】
次いで、感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋ上に形成された静電潜像が、現像手段４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｂｋにおいて各色のトナーによって現像されることにより各色のトナー像が形成され、一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｂｋにより各色のトナー像が中間転写体７０上に逐次転写されて重ね合わされて合成され、カラートナー像が形成される。
さらに、カラートナー像の形成に同期して、給紙カセット２０内に収容された普通紙や透明シート等の画像支持体Ｐが、給紙手段２１により給紙され、複数の中間ローラ２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄおよびレジストローラ２３を経て、二次転写ローラ５ｂに搬送され、当該画像支持体Ｐ上に、二次転写ローラ５ｂによって中間転写体７０上に転写されたカラートナー像が一括して転写される。
画像支持体Ｐ上に転写されたカラートナー像は、定着手段２４において例えば加熱および加圧により定着されて可視画像が形成され、その後、可視画像が形成された画像支持体Ｐが、排紙ローラ２５によって機外に排出されて排紙トレイ２６上に載置される。
【０１２９】
各色のトナー像を中間転写体７０に転写させた後の感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋは、それぞれクリーニング手段６Ｙ、６Ｍ、６Ｃ、６Ｂｋにより当該感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋに残留したトナーを除去した後に、次の各色のトナー像の形成に供される。
一方、二次転写ローラ５ｂにより画像支持体Ｐ上にカラートナー像を転写し、画像支持体Ｐが曲率分離された後の中間転写体７０は、クリーニング手段６ｂにより当該中間転写体７０上に残留したトナーを除去した後に、次のトナー像の中間転写に供される。
【０１３０】
〔トナーおよび現像剤〕
本発明の画像形成方法に用いられるトナーは、粉砕トナーであっても重合トナーであってもよいが、本発明の画像形成方法においては、安定した粒度分布を得られる観点から、重合法で作製された重合トナーを用いることが好ましい。
【０１３１】
重合トナーとは、トナーを形成するバインダー樹脂の生成とトナー粒子形状の形成が、バインダー樹脂を得るための原料モノマーの重合と、必要によりその後の化学的処理とにより並行して行われて得られるトナーを意味する。
【０１３２】
より具体的には、懸濁重合、乳化重合等の重合反応により樹脂微粒子を得る工程と、必要によりその後に行われる樹脂微粒子同士を融着させる工程を経て形成されるトナーを意味する。
【０１３３】
トナーの体積平均粒径、すなわち、上記５０％体積粒径（Ｄｖ５０）は２〜９μｍ、より好ましくは３〜７μｍであることが望ましい。この範囲とすることにより、解像度を高くすることができる。さらに上記の範囲と組み合わせることにより、小粒径トナーでありながら、微細な粒径のトナーの存在量を少なくすることができ、長期に亘ってドット画像の再現性が改善され、鮮鋭性の良好な、安定した画像を形成することができる。
【０１３４】
本発明に係るトナーは、それのみで一成分現像剤として用いてもよく、キャリアと混合して二成分現像剤として用いてもよい。
【０１３５】
一成分現像剤として用いる場合は、非磁性一成分現像剤、あるいはトナー中に０．１〜０．５μｍ程度の磁性粒子を含有させ磁性一成分現像剤としたものが挙げられ、いずれも使用することができる。
【０１３６】
また、キャリアと混合して二成分現像剤として用いる場合は、キャリアの磁性粒子として、鉄、フェライト、マグネタイト等の金属、それらの金属とアルミニウム、鉛等の金属との合金等の従来から公知の材料を用いることができ。特にフェライト粒子が好ましい。上記磁性粒子は、その体積平均粒径としては１５〜１００μｍ、より好ましくは２５〜８０μｍのものがよい。
【０１３７】
キャリアの体積平均粒径の測定は、代表的には湿式分散機を備えたレーザー回折式粒度分布測定装置「ヘロス（ＨＥＬＯＳ）」（シンパティック（ＳＹＭＰＡＴＥＣ）社製）により測定することができる。
【０１３８】
キャリアは、磁性粒子が更に樹脂により被覆されているもの、あるいは樹脂中に磁性粒子を分散させたいわゆる樹脂分散型キャリアが好ましい。コーティング用の樹脂組成としては、特に限定はないが、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、エステル系樹脂或いはフッ素含有重合体系樹脂等が用いられる。また、樹脂分散型キャリアを構成するための樹脂としては、特に限定されず公知のものを使用することができ、例えば、スチレン−アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素系樹脂、フェノール樹脂等を使用することができる。
【０１３９】
本発明の画像形成方法によれば、感光体の円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。
また、感光体の円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。
【０１４０】
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明の実施形態は上記の例に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。
例えば、感光体の具体的な層構成は、上記の構成に限定されるものではない。
【実施例】
【０１４１】
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、ΔＬは、円筒状基体の外周面の中央付近における断面曲線を、「サーフコム１４００Ｄ」（（株）東京精密製）を用い、ＪＩＳ’０１規格において、測定長４．０ｍｍ、カットオフ０．８ｍｍ（ガウシアン）、測定速度０．３ｍｍ／ｓｅｃの測定条件で行った粗さ測定によって得、この断面曲線を用いて上述の通りに測定した。
また、Ｒｚは、上記の断面曲線の測定においてカットオフを０．２５ｍｍとした他は同様にして得た断面曲線から算出した。
【０１４２】
＜感光体基体の作製例１＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、ＣＮＣ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、外径５９．９５ｍｍ、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔１〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を６０００ｒｐｍに設定し、バイトの移動速度（バイト送り速度）を、０．３４０〜０．３６０ｍｍ／回転の間を、加工距離１．５ｍｍ毎に０．００５ｍｍ／回転ずつ変化するよう、送り速度の増減を繰り返させるプログラムによって変速させながら行った。
円筒状基体〔１〕の外周面におけるΔＬを測定したところ、５０μｍであった。
【０１４３】
＜感光体基体の作製例２＞
感光体基体の作製例１において、バイト切削加工の旋盤の主軸回転数を２０００ｒｐｍに設定したことの他は同様にして、円筒状基体〔２〕を得た。この円筒状基体〔２〕の外周面のΔＬを測定したところ、３０μｍであった。
【０１４４】
＜感光体基体の作製例３＞
感光体基体の作製例２において、バイト切削加工のバイト送り速度を、０．３４０ｍｍ／回転と０．３４５ｍｍ／回転の間を加工距離１．５ｍｍ毎にスイッチするプログラムにより行ったことの他は同様にして、円筒状基体〔３〕を得た。この円筒状基体〔３〕の外周面のΔＬを測定したところ、１０μｍであった。
【０１４５】
＜感光体基体の作製例４＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、ＣＮＣ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔４〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を４０００ｒｐｍに設定し、バイト送り速度値は４００μｍ／回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が１．４３ｍｍ、２．２８ｍｍ、１．６４ｍｍ、２．４９ｍｍ、１．８５ｍｍ、２．７１ｍｍ、２．０６ｍｍ、２．９２ｍｍ、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。
円筒状基体〔４〕の外周面のΔＬを測定したところ、２０μｍであった。
【０１４６】
＜感光体基体の作製例５＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、ＣＮＣ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔５〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を３１６０ｒｐｍに設定し、バイト送り速度値は４００μｍ／回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が２．２０ｍｍ、２．２１ｍｍ、２．２２ｍｍ、２．２３ｍｍ、２．２４ｍｍ、２．２３ｍｍ、２．２２ｍｍ、２．２１ｍｍ、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。
円筒状基体〔５〕の外周面のΔＬを測定したところ、６５μｍであった。
【０１４７】
＜感光体基体の作製例６＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、アナログ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔６〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を３１６０ｒｐｍに設定し、加工距離に対するバイト送り速度の指示値（加工距離−速度指示値）が、
０．５ｍｍ−３８０μｍ／回転、１．６ｍｍ−３９０μｍ／回転、２．８ｍｍ−３８０μｍ／回転、１．１ｍｍ−３９０μｍ／回転、２．５ｍｍ−３８０μｍ／回転、３．２ｍｍ−３９０μｍ／回転、の繰り返しになるように、タイマーと抵抗等を組み合わせた回路を介した電圧をバイト移動モータに入力して行った。
円筒状基体〔６〕の外周面のΔＬを測定したところ、２５μｍであった。
【０１４８】
＜感光体基体の作製例７＞
感光体基体の作製例１において、バイト切削加工の旋盤の主軸回転数を３０００ｒｐｍに設定すると共に、バイト送り速度を０．３５０ｍｍ／回転に固定したことの他は同様にして、円筒状基体〔７〕を得た。この円筒状基体〔７〕の外周面のΔＬを測定したところ、３μｍであった。
【０１４９】
＜感光体基体の作製例８＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、ＣＮＣ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔８〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を４０００ｒｐｍに設定し、バイト送り速度値は４００μｍ／回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が１．４７ｍｍ、２．３２ｍｍ、１．６８ｍｍ、２．５３ｍｍ、１．８９ｍｍ、２．７５ｍｍ、２．１０ｍｍ、２．９６ｍｍ、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。
円筒状基体〔８〕の外周面のΔＬを測定したところ、８μｍであった。
【０１５０】
〔実施例１：感光体の製造例１〕
（１）中間層の形成
下記式（Ｎ−１）で表されるバインダー樹脂１質量部を、エタノールとｎ−プロピルアルコールとテトラヒドロフランの混合溶媒（体積比＝４５：２０：３５）２０質量部に加え、撹拌して溶解させた後、質量比で５％のメチルハイドロジェンポリシロキサンによって表面処理をしたルチル型酸化チタン粒子４．２質量部を混合し、この混合液をビーズミルを用いて、平均粒径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用い、充填率８０％、周速設定４ｍ／ｓｅｃ、ミル滞留時間３時間の条件で分散することにより、中間層塗布液〔１〕を調製した。この中間層塗布液〔１〕を、濾過精度５μｍのポリプロピレン製の濾材を用いたフィルタによって濾過し、これを、上記の円筒状基体〔１〕を洗浄した後の外周面に浸漬塗布法によって塗布し、１２０℃で２０分間乾燥することにより、円筒状基体〔１〕上に乾燥膜厚２μｍの中間層〔１〕を形成した。
【０１５１】
【化１】
【０１５２】
（２）電荷発生層の形成
次いで、下記成分を混合し、サンドミル分散機を用いて分散することにより、電荷発生層塗布液を調製した。
この電荷発生層塗布液を浸漬塗布法によって中間層〔１〕上に塗布して、乾燥膜厚０．３μｍの電荷発生層〔１〕を形成した。
・Ｙ−チタニルフタロシアニン（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線によるＸ線回折のスペクトルでブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを有するチタニルフタロシン顔料）
２０質量部
・ポリビニルブチラール（「ＢＸ−１」（積水化学（株）製）） １０質量部
・メチルエチルケトン ７００質量部
・シクロヘキサノン ３００質量部
【０１５３】
（３）電荷輸送層（下層）の形成
次いで、下記成分を混合し、溶解させることにより、電荷輸送層（下層）塗布液を調製した。
この電荷輸送層（下層）塗布液を浸漬塗布法によって電荷発生層〔１〕上に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、乾燥膜厚２０μｍの下層の電荷輸送層〔１ａ〕を形成した。
・下記式（ＣＴＭ）で表される電荷輸送物質 ５０質量部
・ポリカーボネート樹脂「ユーピロン−Ｚ３００」（三菱ガス化学社製） １００質量部
・酸化防止剤（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール） ８質量部
・テトラヒドロフラン／トルエン（体積比８／２） ７５０質量部
【０１５４】
【化２】
【０１５５】
（４）電荷輸送層（最上層）の形成
次いで、下記成分を混合、撹拌することにより、電荷輸送層（最上層）塗布液を調製した。
この電荷輸送層（最上層）塗布液を浸漬塗布法によって電荷輸送層〔１ａ〕上に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、乾燥膜厚５μｍの最上層の電荷輸送層〔１ｂ〕を形成し、これにより、感光体〔１〕を得た。
・上記式（ＣＴＭ）で表される電荷輸送物質 １．２質量部
・ポリカーボネート樹脂「ユーピロン−Ｚ３００」（三菱ガス化学社製） ２．７質量部
・（酸化チタンの質量の２５質量％のメチルハイドロジェンポリシロキサン（表面処理剤）で表面処理した個数基準の５０％粒径が３１ｎｍの酸化チタン） １．０質量部
・酸化防止剤（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール） ０．１質量部
・テトラヒドロフラン／トルエン（体積比８／２）混合液 ３０質量部
・シリコーンオイル「ＫＦ−９６」（信越シリコーン（株）製） ０．００５質量部
【０１５６】
〔実施例２〜１１：比較例１〜３：感光体の製造例２〜１４〕
感光体の製造例１において、円筒状基体の種類、並びに最上層の電荷輸送層に含有させる無機粒子の種類および当該無機粒子の表面処理剤を表１に従って変更したことの他は同様にして、感光体〔２〕〜〔１４〕を得た。
表１において、表面処理剤「ＳＨ−１」、「ＳＨ−２」、「ＳＨ−３」、「ＳＨ−４」は以下のものを表す。
【０１５７】
「ＳＨ−１」：メチルハイドロジェンポリシロキサン
「ＳＨ−２」：オクチルトリメトキシシラン
「ＳＨ−３」：メチルトリメトキシシラン
「ＳＨ−４」：ジイソプロポキシチタニウムビス（アセチルアセテート）
【０１５８】
〔画質評価Ａ〕
画像形成装置「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）に以上の感光体〔１〕〜〔１４〕のいずれかを搭載して、下記のテスト画像Ａ〜Ｃをコート紙「ＰＯＤグロスコート（１００ｇ／ｍ2 ）」（王子製紙社製）上に出力し、得られたテスト画像Ａ〜Ｃについて、干渉スジおよび感光体周方向スジについての画質評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５９】
テスト画像Ａは、黒（Ｂｋ）位置において、下記の露光パターンＡを用いて濃度指示値を０／２５５、１５／２５５、３１／２５５・・・と１６おきに２５５／２５５までの１７諧調に振って出力したハーフトーン画像である。
【０１６０】
露光パターンＡ：「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」内部搭載パターン Ｎｏ．５３ Ｄｏｔ１、規則性を有するドット状に形成された露光パターンの代表的なもの。
【０１６１】
テスト画像Ｂは、黒（Ｂｋ）位置において、下記の露光パターンＢを用いて濃度指示値を０／２５５、１５／２５５、３１／２５５・・・と１６おきに２５５／２５５までの１７諧調に振って出力したハーフトーン画像である。
【０１６２】
露光パターンＢ：「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」内部搭載パターン Ｎｏ．７ Ｃｏｎｔｎｏｅ、感光体軸方向に対し直角方向に連続的に形成されている露光パターンの代表的なもの。
【０１６３】
テスト画像Ｃは、黒（Ｂｋ）位置において、下記の露光パターンＣを用いて濃度指示値を０／２５５、１５／２５５、３１／２５５・・・と１６おきに２５５／２５５までの１７諧調に振って出力したハーフトーン画像である。
【０１６４】
露光パターンＣ：「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」内部搭載パターン Ｎｏ．１ Ｌｉｎｅ１、感光体軸方向に対し平行な方向に連続的に形成されている露光パターンの代表的なもの。
【０１６５】
（画質評価１）斜めスジ状濃度ムラ（干渉スジ）
露光パターンＡによるテスト画像Ａおよび露光パターンＢによるテスト画像Ｂについて、下記の評価基準に従って画質評価を行った。画質評価は、濃度指示値が異なる画像部分中、最悪水準の画像部分で評価した。
−評価基準−
○：斜めスジ状濃度ムラが全く見られない。
△：斜めスジ状濃度ムラが僅かに見られるが、実使用上は問題ない。
×：斜めスジ状濃度ムラが見られ、実使用上問題あり。
【０１６６】
（画質評価２）感光体周方向スジ
露光パターンＣによるテスト画像Ｃについて画質評価を行った。画質評価は、濃度指示値が異なる画像部分中、最悪水準の画像部分で評価した。
−評価基準−
○：感光体周方向スジが全く見られない。
△：感光体周方向スジが僅かに見られるが、実使用上は問題ない。
×：感光体周方向スジが見られ、実使用上問題あり。
【０１６７】
〔画質評価Ｂ：画像ムラ〕
画像形成装置「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）に以上の感光体〔１〕〜〔１４〕のいずれかを搭載して、下記のテスト画像Ｄをコート紙「ＰＯＤグロスコート（１００ｇ／ｍ2 ）」（王子製紙社製）上に出力したテストプリントを１００枚形成し、得られた１００枚のテストプリントについて、画像ムラについて下記の評価基準に従って画質評価を行った。結果を表１に示す。
【０１６８】
テスト画像Ｄは、黒（Ｂｋ）位置において、上記の露光パターンＡを用いて濃度指示値を７５／２５５として出力したハーフトーン画像である。
【０１６９】
−評価基準−
○：１００枚のテストプリント全てに画像ムラの発生がない。
△：１００枚のテストプリント中、僅かに画像ムラが見られるものもあるが、実使用上は問題無し。
×：１００枚のテストプリント中、画像ムラが見られものもあり、そのレベルは実使用上問題あるレベルである。
【０１７０】
〔耐摩耗性の評価〕
画像形成装置「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）に以上の感光体〔１〕〜〔１４〕のいずれかを搭載して５０万枚の耐刷試験を行い、耐刷試験前後の感光層の膜厚の差を膜厚減耗量として、耐摩耗性を評価した。結果を表１に示す。なお、膜厚減耗量が４．０μｍ以下である場合を、実用上問題なく合格であると判断することができる。
【０１７１】
【表１】
【０１７２】
表１から明らかなように、ΔＬ≧１０である円筒状基体を有すると共に最上層に特定の無機粒子を含有させた電荷輸送層が形成されてなる感光体（特定の感光体）を用いて画像を形成した場合においては、干渉スジおよび画像ムラの発生の抑制された良好な画像が得られたのに対し、比較例１〜３のようにΔＬが小さい円筒状基体による感光体を用いて画像を形成した場合においては、円筒状基体の切削凹凸の周期と露光パターンの周期との間の干渉に起因すると推定される干渉スジと、感光体における散乱効果が小さいことに起因すると推定される画像ムラとが発生した。また、比較例３のように最上層の電荷輸送層に特定の無機粒子が含有されていない感光体は、膜厚減耗量が大きく、耐摩耗性が低いことが確認された。
【符号の説明】
【０１７３】
１、１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋ 感光体
１ａ 円筒状基体
１ｂ 中間層
１ｃ 電荷発生層
１ｄ 下層の電荷輸送層
１ｅ 最上層の電荷輸送層
１α 感光層
２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｂｋ 帯電手段
３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｂｋ 露光手段
４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｂｋ 現像手段
５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｂｋ 一次転写ローラ
５ｂ 二次転写ローラ
６Ｙ、６Ｍ、６Ｃ、６Ｂｋ クリーニング手段
６ｂ クリーニング手段
７ 中間転写ユニット
８ 筐体
１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋ 画像形成ユニット
２０ 給紙カセット
２１ 給紙手段
２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄ 中間ローラ
２３ レジストローラ
２４ 定着手段
２５ 排紙ローラ
２６ 排紙トレイ
７０ 中間転写体
７１〜７４ 支持ローラ
８２Ｌ、８２Ｒ 支持レール
Ａ 画像形成装置本体
Ｐ 画像支持体
ＳＣ 原稿画像読み取り装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、軽印刷分野等に用いられる、極めて高画質なハーフトーン画像を形成することができる電子写真感光体および当該電子写真感光体を用いた画像形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真法による画像形成装置について、その性能の向上に伴って比較的高画質の画像が得られるようになったことから、比較的少部数のプリントを得る軽印刷分野等において電子写真法による画像形成装置が広く用いられるようになってきた。
その結果として、電子写真法による画像形成装置においては、さらに高いレベルの画質が要求されている。また、従来の電子写真法による画像形成装置においては稀な用途、例えばコート紙へのプリント、高カバレッジ画像のプリント、極めて高精細な画像や微妙なトーン（色調）を有する画像のプリントや、同一画像の大量連続プリント等に電子写真法による画像形成装置が利用されている。これらに伴い、従来は殆どあるいは全く指摘されなかった不具合が生じている。
【０００３】
その不具合の一つとして、高画質の画像形成装置によって中間色の均一性を向上させたハーフトーン画像をコート紙などに出力するといった組み合わせにおいて近年頻発している、画像における斜めスジ状濃度ムラの発生がある。
この斜めスジ状濃度ムラは、いわゆる干渉スジと呼ばれるものであって、電子写真法による画像形成装置において用いられる電子写真感光体（以下、単に「感光体」ともいう。）の円筒状基体の表面には、その外径等の寸法精度を所望のレベルにする、表面の酸化膜を除きフレッシュにする等の目的で、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成されているところ、当該感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期と、スクリーン処理に用いるスクリーンパターン（露光パターン）の周期（ピッチ）との間の干渉に起因して生じるものと推測される。
【０００４】
干渉スジの発生を抑制する技術として、従来、感光体を構成する円筒状基体の表面の切削凹凸の形状に工夫をする技術がある（例えば、特許文献１〜３）。すなわち、円筒状基体の表面の切削形状はバイト切削加工によって形成されることが多いが、露光パターンの周期の整数倍ではない周期等、比較的害の少ない周期の切削凹凸を、定速切削によって形成したり、さらに陽極酸化処理やブラスト処理といったコストがかかり弊害が生じやすい追加工を実施して切削凹凸形状の消去を図ることが行われてきた。特許文献１〜３に開示された円筒状基体の中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差ΔＬは、具体的には、最大でも４μｍ程度である。
このような切削凹凸を形成した円筒状基体の感光体を用いた画像形成装置においては、オフィス等において普通紙に出力される一般のハーフトーン画像については、十分な画像品質レベルを有するものとして満足されていた。
【０００５】
しかしながら、上述のような軽印刷分野等において用いられる高画質の画像形成装置によって中間色の均一性を向上させたハーフトーン画像をコート紙などに出力したものについては、濃度ムラの視認性が格段に向上されてしまうため、上記の技術では干渉スジの発生の抑制の効果が充分ではない。
【０００６】
一方、以前から感光体の耐摩耗性を改善する試みがなされている。例えば、感光体の最上層に保護層を設けることが行われており、具体的には、熱や光のエネルギーにより硬化性の官能基を有する化合物を硬化反応によって重合させて保護層を形成する技術が検討されている。硬化反応による保護層の形成の技術においては、架橋反応の制御性等の観点により光エネルギーを用いた架橋反応が特に好ましく用いられている（例えば、特許文献４参照）。
【０００７】
しかしながら、このような感光体は円筒状基体上に電荷輸送特性を有する感光層が形成されているが、上記のような硬化反応によって形成する保護層には、電荷輸送特性を付与することが難しく、従って、感度の低下が生じるという問題があり、実用には好ましくない。
【０００８】
また、従来、長時間複写機を放置した後に形成した１枚目の画像などにおいて、ハーフトーン画像に軽微な画像ムラが稀に発生するという問題もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−９１０８５号公報
【特許文献２】特許第３８９４０２３号公報
【特許文献３】特開２００１−２８９６３０号公報
【特許文献４】特開２００１−１２５２９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、耐摩耗性に優れ、かつ、干渉スジおよび画像ムラの発生が抑制された高画質のハーフトーン画像を得ることができる電子写真感光体および当該電子写真感光体を用いた画像形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の電子写真感光体は、円筒状基体上に少なくとも電荷発生層および少なくとも２層以上の電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体であって、
前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、下記式（１）の条件を満たす切削加工形状を有し、
前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの無機粒子が含有されていることを特徴とする。
式（１）：ΔＬ≧１０μｍ
〔式（１）中、ΔＬは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。〕
【００１２】
本発明の電子写真感光体においては、前記無機粒子がシリカ粒子であることが好ましい。
【００１３】
また、本発明の電子写真感光体は、上記の電子写真感光体を用いて画像を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の電子写真感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。
また、本発明の電子写真感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。
さらに、本発明の電子写真感光体によれば、最上層の電荷輸送層に特定範囲の無機粒子が含有されていることにより、優れた耐摩耗性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の電子写真感光体の構成の一例を示す部分断面図である。
【図２】形成されたハーフトーン画像に現れる干渉スジのイメージ図である。
【図３】感光体の断面における部分拡大図である。
【図４】本発明に係るΔＬの測定方法を説明する図である。
【図５】本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置の構成の一例を示す説明用断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明について具体的に説明する。
【００１７】
〔感光体〕
本発明の電子写真感光体は、少なくとも電荷発生層および少なくとも２層以上の電荷輸送層がこの順に積層されたものであって、円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、上記式（１）の条件を満たす切削加工形状（以下、「特定の切削加工形状」ともいう。）を有し、最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの無機粒子（以下、「特定の無機粒子」ともいう。）が含有される、特定の感光体からなることを特徴とするものである。
【００１８】
具体的な一例を挙げると、例えば図１に示されるように、特定の切削加工形状を有する円筒状基体１ａ上に、中間層１ｂ、電荷発生層１ｃ、特定の無機粒子を含有しない電荷輸送層（以下、「下層の電荷輸送層」ともいう。）１ｄ、特定の無機粒子を含有する電荷輸送層（以下、「最上層の電荷輸送層」ともいう。）１ｅがこの順に積層されてなり、電荷発生層１ｃ、下層の電荷輸送層１ｄおよび最上層の電荷輸送層１ｅから電子写真感光体の構成に必要不可欠な感光層１αが構成されている。このような感光体１は、電荷発生層１ｃおよび電荷輸送層１ｄ、１ｅがそれぞれ公知の有機電荷発生物質および有機電荷輸送物質から構成される有機感光層である、いわゆる有機感光体であることが好ましい。
以下、特定の感光体が有機感光体からなるものとして説明する。
【００１９】
（円筒状基体）
特定の感光体を構成する円筒状基体は、導電性を有し、その外周面に特定の切削加工形状が形成された円筒形状のものである。
特定の切削加工形状を示す上記式（１）の条件において、ΔＬは、切削凹凸の周期の変動の幅を示し、具体的には、円筒状基体の外周面の画像領域内における、切削凹凸の周期幅（図３においてＷで示す。）の最大値と最小値との差である。
【００２０】
上記式（１）が導き出された理由は、以下の通りである。
本発明において課題とされる、形成された画像に現れる干渉スジを図２に示す。このように、干渉スジは、画面ｒ上に感光体の周方向、すなわち画像支持体Ｐの搬送方向ｓに沿った方向に伸びる斜めのスジ状の濃度ムラとして現われるものであり、一様な画像において目立ち、特に、滑面画像で軽印刷の如く大画面の高画質なハーフトーン画像において明確に視認されてしまう。
【００２１】
発明者の検討によれば、本発明にて問題視される干渉スジの発生原因は、下記の通りである。
【００２２】
図３は、感光体の断面における部分拡大図である。
干渉スジは、円筒状基体の切削凹凸自体に起因するものではなく、当該切削凹凸を反映して感光体１の感度が周期を有することに起因して生じる。
すなわち、図３に示すように、当該円筒状基体１ａの表面の切削凹凸の形状が中間層１ｂを介して電荷発生層（ＣＧＬ）１ｃの膜厚に反映され、具体的には円筒状基体１ａの切削凹凸の深さの大小に対応して膜厚が厚い部分βや膜厚の薄い部分α等が生じ、その結果、感光体１が、電荷発生層１ｃの膜厚が規則的な周期に従って変動するものとなる。
そして、感光体１の感度は、電荷発生層１ｃの膜厚に従って変動するので、当該感光体１の感度の周期と、レーザー光やＬＥＤ光源等による露光が行われるときの当該露光に係るスクリーンパターンの周期とが干渉して静電潜像に周期性を有する電位ムラが生じ、当該静電潜像が現像、転写および定着されて得られた画像において、当該画像が高画質なものとされる場合に、周期的な濃度ムラ、すなわち干渉スジとして可視化される。
【００２３】
本発明においては、円筒状基体の表面に切削により生じる切削凹凸の周期幅をある程度以上変動させることが、干渉スジの発生の抑制に極めて有効であることを見いだし、さらに、その変動の幅の下限値を見いだしたものである。
【００２４】
ΔＬが１０μｍ未満である場合は、円筒状基体が切削凹凸の周期性の十分に低減されたものとならず、露光パターンの周期と感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間に干渉が生じて高画質なハーフトーン画像を形成した場合に当該画像に干渉スジが発生することがある。
【００２５】
ΔＬの上限値は、現時点では切削加工形状を形成するための加工機の性能によって限定されているが、発明の効果による限界は存在しないと思われる。ただし、加工機の特性によっては、加工機の速度プログラムをΔＬを大きくするための設定にすることにより、速度変動が急激に起こって加工面に段差が発生し、これに起因して画像にスジが生じることがある。そのため、ΔＬは、好ましくは３００μｍ≧ΔＬ≧１０μｍであり、より好ましくは１５０μｍ≧ΔＬ≧１０μｍである。
【００２６】
（円筒状基体の作製方法）
円筒状基体は、例えば円筒管よりなる素管の表面にバイト切削加工によって特定の切削加工形状を形成させることにより、作製することができる。
素管としては、特に限定されず、例えば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛およびステンレスなどの金属をドラム状に成形したものなどが挙げられる。
【００２７】
特定の切削加工形状は、具体的には、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに、素管を円筒軸を中心として回転させると共に切削バイトを非定速的に移動させながら当接させることにより形成することができる。
以下、本発明に係る特定の切削加工形状を形成するためのバイト切削加工について、さらに説明する。
【００２８】
円筒状基体のバイト切削加工は、円筒状基体の外径等の寸法精度を所望のレベルにする、円筒状基体の表面の酸化膜を除きフレッシュにする、円筒状基体の表面を所望の形状にする等の目的で行われる。従来のバイト切削加工で仕上げられた円筒状基体は、その中心軸方向に極めて規則的に切削凹凸が形成された形状を有するものとなり、円筒状基体上に形成された感光層の膜厚分布は、当該形状を反映した周期性を有し、その反映は間に中間層を介するなど、層を重ねても容易には消失しない。
【００２９】
図示の例のように、円筒状基体上に中間層（ＵＣＬ）が設けられ、当該中間層上に電荷発生層が形成される場合には、当該電荷発生層の下地となる形状は中間層の表面形状になるが、当該中間層の表面形状は、円筒状基体の表面の形状と中間層の組成によって主に決定される。
【００３０】
切削凹凸の周期の不規則性の指標であるΔＬを１０μｍ以上とするためには、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに、素管の表面に対する切削バイトの移動速度を加工途中で頻繁に変える指示を加えればよい。
【００３１】
例えば、切削バイトの移動速度Ｘn （ｍｍ／回転）とその指示位置Ｙn （ｍｍ）とを指示するＣＮＣ旋盤を用いる場合には、（Ｘ1 、Ｙ1 ）、（Ｘ2 、Ｙ2 ）、…（Ｘn 、Ｙn ）のようにｎブロックのプログラムを行うことになる。例えば第ｍブロックにおいて、（Ｙm+1 −Ｙm ）／Ｘm が特定数とならない場合に、そのブロック終点で切り替えを可能とするために切削バイトの移動速度の減速が生じ、次の第ｍ＋１ブロックでは指示速度Ｘm+1 までの増速が行われる。この場合、例えばＸm とＸm+1 が同じ速度の指示であっても、（Ｙm+1 −Ｙm ）／Ｘm が特定数とならない場合には、減速、増速が起こるため、これを用いて切削バイトの移動速度を変化させることが可能である。また、同じプログラムでも主軸回転数（素管の回転数）を変えるとΔＬは変わることがある。この原因は、切削バイトの移動を観測した結果に基づいて行われるプログラムの速度切り換え判断がデジタル回路によって間欠的に行われ、その間隔が加工速度に対して充分短くはないためと考えられる。特定数が必ずしも自然数ではないのも同様の理由によると考えられる。
【００３２】
言い換えると、特定数は旋盤の設計および設定と主軸回転数に依存する。
【００３３】
また、ＣＮＣ旋盤ではなくアナログ旋盤を用いる場合には、切削バイトの移動速度を制御しているモーター電圧を、例えば複数の抵抗をスイッチングする回路を通して出力させることにより切削バイトの移動速度を変化させることが可能である。また例えば、指定した波形の電圧を出力することができる電源を用いて切削バイトの移動を行わせることによってもその移動速度を変化させることが可能である。
【００３４】
切削凹凸の周期性をより低減させるために、切削バイトの移動速度を変える指示間隔は一定にしないことが望ましい。これは例えば、上記のＣＮＣ旋盤を用いる場合はＹn −Ｙn-1 を一定にしないことで、また上記のアナログ旋盤を用いる場合はスイッチングするタイマーを複数用いること、或いは出力波形を異なる波形の重畳等で複雑化することが可能な電源を用いること等で達成することができる。
【００３５】
また、ΔＬを１０μｍ以上とすることは、バイト切削加工時の素管の回転数（主軸回転数）を適宜変動させることにより実現することも可能である。これは例えば、上記のアナログ旋盤の場合と同様な手段で達成することができる。
【００３６】
ΔＬは切削バイトの移動速度の指示値差よりも大きくなる傾向があるが、それは上記ＣＮＣ旋盤の場合は上記の減速が入るためであり、上記アナログ旋盤の場合は電圧を変化させる時のオーバーシュートのためと考えられる。
【００３７】
また、素管の回転数（主軸回転数）が大きいほどΔＬが大きくなる傾向があるが、それは回転体の振れやワウの影響であると考えられる。
【００３８】
以上のように、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに素管の表面に対して切削バイトを変則的に移動させながら当接させることにより、ΔＬを１０以上にすることができる。
【００３９】
（ΔＬの測定方法）
本発明における円筒状基体の外周面の画像領域内における、切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差ΔＬは、例えば図４に例示するように、当該外周面の画像領域の断面曲線から読み取られたものである。具体的には、図４（ａ）の断面曲線から、繰り返し形状および周期に目ぼしをつけ、図４（ｂ）の断面曲線に示すように適切な倍率に上げてその周期幅を読み取ったものである。なお、図４（ｂ）の断面曲線は、横倍率を図４（ａ）の断面曲線の４倍にしたものである。
【００４０】
切削凹凸の周期幅の最大値および最小値を読み取るために測定される切削凹凸の周期数は、５周期以上であればよい。
【００４１】
断面曲線の測定箇所は、円筒状基体の外周面の画像領域内の任意の箇所でよく、１箇所であっても複数箇所であってもよい。測定箇所が１箇所である場合は、当該測定箇所から連続した、あるいは断続した５周期以上の切削凹凸の周期幅から最大値および最小値を読み取ればよく、測定箇所が複数箇所である場合は、当該複数の測定箇所から任意に５周期以上の切削凹凸の周期幅を選択し、これらから最大値および最小値を読み取ればよい。
【００４２】
断面曲線の測定箇所としては、例えば円筒状基体の中心軸方向の中央付近が選定されることが好ましい。
【００４３】
断面曲線の測定長さは、切削凹凸の周期幅を読み取ることができれば任意の長さでよいが、測定箇所が１箇所である場合は、切削凹凸の周期幅が少なくとも５周期以上読み取れる長さであることが好ましく、１０周期以上読み取れる長さであることが特に好ましい。
断面曲線の測定長さは、具体的には例えば４ｍｍとされる。
【００４４】
円筒状基体の外周面の画像領域の断面曲線は、触針式の表面粗さ測定器「サーフコム１４００Ｄ」（（株）東京精密製）を用いて下記の測定条件において得られたものである。
【００４５】
−測定条件−
・測定モード：粗さ測定（ＪＩＳ’０１規格）
・測定長：４．０ｍｍ
・カットオフ：０．８ｍｍ（ガウシアン）
・測定速度：０．３ｍｍ／ｓｅｃ
【００４６】
（中間層）
中間層は、円筒状基体と有機感光層との間にバリアー機能と接着機能とを付与するものである。種々の故障防止などの観点から、このような中間層を設けることが好ましい。
【００４７】
中間層は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コポリマー、ポリアミド、ポリウレタン、アルキッド−メラミン、エポキシおよびゼラチンなどのバインダー樹脂を公知の溶媒に溶解して塗布液を調製し、この塗布液を、円筒状基体の外周面に浸漬塗布などによって塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥することにより形成することができる。
中間層を形成するバインダー樹脂としては、アルコール可溶性のポリアミド樹脂を用いることが好ましい。
【００４８】
また、中間層には抵抗調整や粗さ付与等の目的で金属酸化物粒子等の各種の微粒子を含有させることができる。
中間層に各種の微粒子が含有された特定の感光体によれば、中間層の表面形状が円筒状基体の表面の切削凹凸に加えて当該微粒子の形状に由来するランダムな凸形状を反映したものとなるために、円筒状基体の表面の形状に由来の感度の周期性を減ずることができ、干渉スジの発生を極めて有効に抑制することができる。
【００４９】
金属酸化物粒子としては、例えば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズおよび酸化ジルコニウムなどの微粒子が挙げられる。
【００５０】
これらの金属酸化物粒子は、２種類以上を混合して用いてもよい。２種類以上混合した場合には、固溶体または融着の形をとってもよい。このような金属酸化物粒子の平均粒径は好ましくは０．３μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ以下である。また、これらの金属酸化物粒子は、無機化合物や有機化合物で一重または多重に表面処理されていてもよい。
【００５１】
中間層を形成するバインダー樹脂を溶解させる溶媒としては、公知のものを挙げることができるが、例えばバインダー樹脂としてアルコール可溶性ポリアミドを用いる場合、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール等の炭素数１〜４のアルコール類が、ポリアミドの溶解性と塗布性能に優れるために好ましい。また、塗布性や保存性、微粒子の分散性等を向上するために、溶媒と共に助溶媒を用いることが好ましく、好ましい効果を得られる助溶媒としては、ベンジルアルコール、トルエン、メチレンクロライド、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【００５２】
中間層を形成するための塗布液におけるバインダー樹脂の濃度は、中間層の膜厚や生産速度に合わせて適宜選択される。
【００５３】
中間層に微粒子を含有させる場合のバインダー樹脂に対する微粒子の混合割合は、バインダー樹脂１００体積部に対して微粒子２０〜４００体積部が好ましく、さらに好ましくは４０〜２００体積部である。
【００５４】
微粒子の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサー等が使用することができるが、これらに限定されるものではない。平均粒径０．１〜０．５ｍｍのビーズを用いたビーズミルを好ましいものとして挙げることができる。
【００５５】
なお、中間層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。
【００５６】
中間層の乾燥方法は、バインダー樹脂や溶媒の種類、膜厚に応じて適宜選択することができるが、熱乾燥が好ましい。
【００５７】
中間層の膜厚は、０．１〜３０μｍであることが好ましく、０．３〜１５μｍであることがより好ましい。
【００５８】
（電荷発生層）
特定の感光体を構成する電荷発生層は、バインダー樹脂中に電荷発生物質が含有されたものである。
【００５９】
電荷発生物質は、スーダンレッドおよびダイアンブルーなどのアゾ顔料、ピレンキノンやアントアントロンなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴおよびチオインジゴなどのインジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの電荷発生物質は単独、もしくは公知の樹脂中に分散する形態で使用することができる。
【００６０】
電荷発生層を形成するバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、並びにこれらの樹脂の内２つ以上を含む共重合体樹脂（例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂）およびポリビニルカルバゾール樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６１】
電荷発生層は、バインダー樹脂を溶媒に溶解させた溶液中に分散機を用いて電荷発生物質を分散して塗布液を調製し、当該塗布液を、中間層の外周面に塗布機で一定の膜厚に塗布し、乾燥して塗布膜を作製することが好ましい。
【００６２】
電荷発生層に使用するバインダー樹脂を溶解し塗布するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６３】
電荷発生物質の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサー等が使用することができるが、これらに限定されるものではない。
【００６４】
バインダー樹脂に対する電荷発生物質の混合割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷発生物質１０〜６００質量部が好ましく、さらに好ましくは５０〜５００質量部である。
電荷発生層の膜厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合等により異なるが好ましくは０．０１〜５μｍ、より好ましくは０．０５〜３μｍである。なお、電荷発生層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。前記顔料を真空蒸着することによって形成することもできる。
【００６５】
（下層の電荷輸送層）
特定の感光体を構成する下層の電荷輸送層は、バインダー樹脂中に電荷輸送物質（ＣＴＭ）が含有されたものである。
【００６６】
電荷輸送物質としては、例えば、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−１−ビニルピレンおよびポリ−９−ビニルアントラセン、トリフェニルアミン誘導体等が挙げられ、これらは２種以上混合して使用してもよい。
【００６７】
バインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂およびスチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂等が挙げられるが、ポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。また、ＢＰＡ、ＢＰＺ、ジメチルＢＰＡ、ＢＰＡ−ジメチルＢＰＡ共重合体等を用いることが、耐クラック、耐磨耗性、帯電特性の点で好ましい。
【００６８】
下層の電荷輸送層は、バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶媒に溶解させて塗布液を調製し、当該塗布液を、電荷発生層の外周面に塗布機によって一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。
【００６９】
バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶解するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７０】
バインダー樹脂に対する電荷輸送物質の混合割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷輸送物質１０〜５００質量部が好ましく、さらに好ましくは２０〜１００質量部である。
【００７１】
下層の電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合等により異なるが好ましくは５〜４０μｍであり、さらに好ましくは１０〜３０μｍである。
【００７２】
下層の電荷輸送層中には酸化防止剤、電子導電剤、安定剤等が添加されていてもよい。酸化防止剤については特開２０００−３０５２９１号公報に記載のものが挙げられ、電子導電剤については特開昭５０−１３７５４３号公報、同５８−７６４８３号公報等に記載のものが挙げられる。
【００７３】
（最上層の電荷輸送層）
特定の感光体を構成する最上層の電荷輸送層は、バインダー樹脂中に電荷輸送物質（ＣＴＭ）および特定の無機粒子が含有されたものである。
特定の感光体において、２層の電荷輸送層を有する理由は、電位特性と耐摩耗性とを両立して得るためである。
【００７４】
最上層の電荷輸送層を構成するバインダー樹脂および電荷輸送物質としては、下層の電荷輸送層と同様のものを用いることができる。
【００７５】
最上層の電荷輸送層は、バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶媒に溶解させ、この溶解液に特定の無機粒子を分散させて塗布液を調製し、当該塗布液を、下層の電荷輸送層の外周面に塗布機によって一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。
【００７６】
バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶解するための溶媒としては、下層の電荷輸送層を形成するための溶媒と同様のものを用いることができる。
【００７７】
バインダー樹脂に対する電荷輸送物質の混合割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷輸送物質１０〜５００質量部が好ましく、さらに好ましくは２０〜１００質量部である。
【００７８】
また、バインダー樹脂に対する特定の無機粒子の使用割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して２．５〜４０質量部であることが好ましく、さらに好ましくは５〜３５質量部である。
【００７９】
最上層の電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性、特定の無機粒子の特性および混合割合等により異なるが好ましくは２〜１２μｍであり、さらに好ましくは５〜９μｍである。
【００８０】
最上層の電荷輸送層中には、下層の電荷輸送層と同様に、酸化防止剤、電子導電剤、安定剤等が添加されていてもよい。
【００８１】
（特定の無機粒子）
最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子としては、金属酸化物粒子を用いることができる。
金属酸化物粒子としては、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉛、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸化セレン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウム等を例示することができるが、これらの中でも、酸化チタン、アルミナ、酸化亜鉛、酸化錫等の粒子が好ましい。
特定の無機粒子としては、シリカ粒子を用いることもできる。
以上の無機粒子の中でも、シリカ粒子を用いることが特に好ましい。
【００８２】
また、上記の金属酸化物粒子は、公知の方法、例えば気相法、塩素法、硫酸法、プラズマ法、電解法等の一般的な製造法で作製されたものであることが好ましい。
【００８３】
本発明の感光体の最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子は、その数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの範囲のものである。
最上層の電荷輸送層に含有される無機粒子の数平均一次粒径（Ｄｐ）が３ｎｍ未満である場合は、耐摩耗性について十分な効果が得られないおそれがあり、また、最上層の電荷輸送層に含有される無機粒子の数平均一次粒径（Ｄｐ）が１００ｎｍを超える場合は、当該無機粒子が塗布液中において沈殿しやすく、凝集物が発生するおそれがある。
【００８４】
特定の無機粒子の数平均一次粒径（Ｄｐ）は、走査型電子顕微鏡（日本電子製）により１０，０００倍の拡大写真を撮影し、当該写真画像を、凝集粒子は除いてランダムに３００個の粒子を選択してこれらが含まれるようスキャナーにより取り込んみ、自動画像処理解析装置「ＬＵＺＥＸ ＡＰ」（ニレコ社製）ソフトウエアバージョン Ｖｅｒ．１．３２を使用して画像解析を行い、フェレ方向の平均径として算出した値である。
【００８５】
本発明の感光体の最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子は、疎水化処理されたものであることが好ましい。
特定の無機粒子が疎水化処理されたものであることにより、当該特定の無機粒子を最上層の電荷輸送層中に均一な分散状態で分散させることができる。
【００８６】
（疎水化処理された無機粒子の作製方法）
疎水化処理された無機粒子は、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等の表面処理剤を用いて材料となる無機粒子を表面処理することにより、得ることができる。
【００８７】
疎水化処理された無機粒子の具体的な作製方法として、表面処理剤としてシランカップリング剤の１種である反応性有機ケイ素化合物を用いる場合は有機溶剤や水に対して反応性有機ケイ素化合物を溶解または懸濁させた処理剤溶液に材料となる無機粒子を添加した無機粒子分散液を、数分から１時間程度撹拌し、そして場合によっては当該無機粒子分散液に加熱処理を施した後に、濾過等の工程を経た後乾燥させることによって、表面を有機ケイ素化合物によって被覆された特定の無機粒子を作製することができる。無機粒子分散液は、有機溶剤や水に対して材料となる無機粒子を添加した後に反応性有機ケイ素化合物を添加しても構わない。
【００８８】
この疎水化処理に用いられる反応性有機ケイ素化合物の量は、仕込量で材料となる無機粒子１００質量部に対して、０．１〜５０質量部、さらに好ましくは１〜１０質量部であることが好ましい。
【００８９】
反応性有機ケイ素化合物としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられるが、材料となる無機粒子の表面の水酸基等の反応性基と縮合反応する化合物であれば、下記の化合物に限定されない。
【００９０】
一般式（Ａ）：（Ｒ）n −Ｓｉ−（Ｘ）4-n
〔一般式（Ａ）中、Ｒは１価の有機基、Ｘは加水分解性基を表し、ｎは０〜３の整数を表す。〕
【００９１】
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物において、Ｒで示される有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等のアルキル基；フェニル基、トリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基；γ−グリシドキシプロピル基、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基等の含エポキシ基；γ−アクリロキシプロピル基、γ−メタアクリロキシプロピル基等の含（メタ）アクリロイル基；γ−ヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシプロピルオキシプロピル基等の含水酸基、ビニル、プロペニル等の含ビニル基、γ−メルカプトプロピル等の含メルカプト基；γ−アミノプロピル基、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピル基等の含アミノ基；γ−クロロプロピル基、１，１，１−トリフルオロプロピル基、ノナフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチルエチル基等の含ハロゲン基；その他ニトロ基、シアノ置換アルキル基等が挙げられる。
また、Ｘで示される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；ハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
【００９２】
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物において、ｎが２以上である場合、複数のＲは互いに同一であっても異なっていてもよい。同様に、ｎが２以下の場合、複数のＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００９３】
ｎが０の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、テトラクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、テトラメトキシシラン、フェノキシトリクロロシラン、テトラアセトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアリロキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラキス（２−メトキシエトキシ）シラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラキス（２−エチルブトキシ）シラン、テトラキス（２−エチルヘキシロキシ）シラン等が挙げられる。
【００９４】
ｎが１の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、ｎ−プロピルトリクロロシラン、ｎ−ブチルトリクロロシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、エチルトリメトキシシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラン、メチルトリアセトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、３−アリルチオプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−ブロモプロピルトリエトキシシラン、３−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビス（エチルメチルケトオキシム）メトキシメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００９５】
ｎが２の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、ジメチルジクロロシラン、ジメトキシメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジエトキシシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジエトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシ−３−メルカプトプロピルメチルシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）ジメトキシメチルシラン、ｔ−ブチルフェニルジクロロシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−（３−シアノプロピルチオプロピル）ジメトキシメチルシラン、３−（２−アセトキシエチルチオプロピル）ジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−２−ピペリジノエチルシラン、ジブトキシジメチルシラン、３−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメチルシラン、３−（３−アセトキシプロピルチオ）プロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−３−ピペリジノプロピルシラン、ジエトキシメチルオクタデシルシラン等が挙げられる。
【００９６】
ｎが３の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、トリメチルクロロシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、メトキシジメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３−クロロプロピルメトキシジメチルシラン、メトキシ−３−メルカプトプロピルメチルメチルシラン等が挙げられる。
【００９７】
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物は、１種を単独で使用してもよく、また、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物を２種以上を組み合わせて用いるとき、ＲおよびＸはそれぞれの化合物間で同一でもよく、異なっていてもよい。
【００９８】
一般式（Ａ）で表される反応性有機ケイ素化合物としては、下記一般式（Ｂ）で示される化合物を用いることが好ましい。
【００９９】
一般式（Ｂ）：Ｒ’−Ｓｉ−（Ｘ’）3
〔一般式（Ｂ）中、Ｒ’はアルキル基またはアリール基、Ｘ’はメトキシ基、エトキシ基またはハロゲン基を表す。〕
【０１００】
一般式（Ｂ）で表される反応性有機ケイ素化合物としては、さらに、Ｒ’が炭素数４〜８のアルキル基である有機ケイ素化合物がより好ましく、具体的には、トリメトキシｎ−ブチルシラン、トリメトキシｉ−ブチルシラン、トリメトキシヘキシルシラン、トリメトキシオクチルシラン等が挙げられる。
【０１０１】
また、反応性有機ケイ素化合物としてはハイドロジェンポリシロキサン化合物を挙げることもできる。ハイドロジェンポリシロキサン化合物としては、分子量が１０００〜２００００のものを用いることが、一般に入手しやすく、また、黒ポチ発生防止機能も良好であるために、好ましい。特に、メチルハイドロジェンポリシロキサンを最後の疎水化処理（表面処理）に用いることにより、良好な効果が得られる。
【０１０２】
また、反応性有機ケイ素化合物としてはフッ素原子を有する有機ケイ素化合物を挙げることもできる。
【０１０３】
フッ素原子を有する有機ケイ素化合物としては、具体的には、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジメトキシメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン等が挙げられる。
【０１０４】
また、表面処理剤としては、チタンカップリング剤の一種である反応性有機チタン化合物を用いることもできる。反応性有機チタン化合物としては、例えば、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等の金属アルコキシド化合物やジイソプロポキシチタニウムビス（アセチルアセテート）、ジイソプロポキシチタニウムビス（エチルアセトアセテート）、ジイソプロポキシチタニウムビス（ラクテート）、ジブトキシチタニウムビス（オクチレングリコレート）、ジイソプロポキシチタニウムビス（トリエタノールアミナート）等の金属キレート化合物が挙げられる。
【０１０５】
また、表面処理剤としては、反応性有機ジルコニウム化合物を用いることもできる。反応性有機ジルコニウム化合物としては、例えば、テトラブトキシジルコニウムやブトキシジルコニウムトリ（アセチルアセテート）等の金属アルコキシド化合物や金属キレート化合物が挙げられる。
【０１０６】
また、疎水化処理された無機粒子の別の作製方法としては、湿式メディア分散型装置を使用する方法を採用することもできる。
具体的には、例えば材料となる無機粒子としてアルミナ粒子を用いる場合、アルミナ粒子と表面処理剤とを含むスラリー（固体粒子の懸濁液）を湿式粉砕することにより、アルミナ粒子を微細化すると同時にアルミナ粒子の表面の疎水化処理が進行する。その後、スラリーの溶媒を除去することにより均一でしかもより微細に粉体化され、その表面がシラン化合物などの表面処理剤に由来の化合物により疎水化されたアルミナ粒子を得ることができる。
【０１０７】
湿式メディア分散型装置は、容器内にメディアとしてビーズが充填され、さらに回転軸と垂直に取り付けられた攪拌ディスクを高速回転させることにより、アルミナの凝集粒子を砕いて粉砕・分散する機能を有する装置であり、その具体的な構成としては、アルミナ粒子を十分に分散させ、かつ疎水化処理することができる形式であれば問題なく、例えば、縦型・横型、連続式・回分式など、種々の様式が採用することができる。具体的にはサンドグラインダーミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミル等が使用することができる。これらの湿式メディア分散型装置において、ボール、ビーズ等の粉砕媒体（メディア）を使用して衝撃圧壊、摩擦、専断、ズリ応力等により微粉砕、分散が行われる。
【０１０８】
サンドグラインダーミルで用いるビーズとしては、ガラス、アルミナ、ジルコン、ジルコニア、スチール、フリント石などを原材料としたボールが使用可能であるが、特にジルコニア製やジルコン製のものを用いることが好ましい。また、ビーズの大きさとしては、通常、直径１〜２ｍｍ程度のものを使用するが、本発明では０．１〜１．０ｍｍ程度のものを用いることが好ましい。
【０１０９】
湿式メディア分散型装置におけるディスクや容器内壁としては、ステンレス製、ナイロン製、セラミック製など種々の素材のものが使用することができるが、特にジルコニアまたはシリコンカーバイドといったセラミック製のものを用いることが好ましい。
【０１１０】
この疎水化処理に用いられる表面処理剤の量は、仕込量で材料となるアルミナ粒子１００質量部に対して、０．１〜１００質量部であることが好ましい。
また、スラリーの溶媒は、仕込量で材料となるアルミナ粒子１００質量部に対して、５０〜５０００質量部であることが好ましい。
【０１１１】
以上のような感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。
また、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。
さらに、最上層の電荷輸送層に特定範囲の無機粒子が含有されていることにより、優れた耐摩耗性が得られる。
【０１１２】
〔画像形成装置〕
図５は、本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置の構成の一例を示す説明用断面図である。
この画像形成装置は、タンデム型のカラー画像形成装置と称せられるもので、それぞれイエロー、マゼンタ、シアンまたは黒のトナー像を形成する画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋと、これらの画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋにおいて形成された各色のトナー像を画像支持体Ｐ上に転写する中間転写ユニット７と、画像支持体Ｐに対してトナー像を定着させる定着手段２４とを備える画像形成装置本体Ａを有し、当該画像形成装置本体Ａの上部に、原稿を光学的に走査して画像情報をデジタルデータ（原稿画像データ）として読み取るための原稿画像読み取り装置ＳＣが配置されている。
【０１１３】
画像形成ユニット１０Ｙについて、以下に詳細に説明する。
画像形成ユニット１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋは、各々、イエロートナーに代えて、マゼンタトナー、シアントナー、黒トナーによってトナー像を形成するものであり、基本的には画像形成ユニット１０Ｙと同様の構成を有するものである。
【０１１４】
画像形成ユニット１０Ｙは、像形成体であるドラム状の感光体１Ｙの周囲に、当該感光体１Ｙの表面に一様な電位を与える帯電手段２Ｙ、一様に帯電された感光体１Ｙ上に露光用画像データ信号（イエロー）に基づいて露光を行い、イエローの画像に対応する静電潜像を形成する露光手段３Ｙ、カラートナーを感光体１Ｙ上に搬送して静電潜像を顕像化する現像手段４Ｙ、一次転写後に感光体１Ｙ上に残留した残留トナーを回収するクリーニング手段６Ｙが配置されてなり、感光体１Ｙ上にイエロー（Ｙ）のトナー像を形成するものである。
【０１１５】
帯電手段２Ｙとしては、コロナ放電型の帯電器が用いられている。
【０１１６】
露光手段３Ｙとしては、露光光源として発光ダイオードを用いた、例えば感光体１Ｙの軸方向にアレイ状に発光ダイオードからなる発光素子が配列されたＬＥＤ部と結像素子とから構成される光照射装置、あるいは、露光光源として半導体レーザーを用いた、レーザー光学系のレーザ照射装置等よりなり、図５の画像形成装置においては、レーザー照射装置が用いられている。
【０１１７】
露光手段３Ｙにおいては、発振波長が３５０〜８５０ｎｍの半導体レーザーまたは発光ダイオードを、露光光源として用いた装置からなることが望ましい。このような露光光源を、書き込みの主査方向の露光ドット径を１０〜１００μｍに絞り込んで用い、感光体１Ｙ上にデジタル露光を行うことにより、６００ｄｐｉから２４００ｄｐｉ、あるいはそれ以上の高解像度の電子写真画像を得ることができる。
【０１１８】
露光手段３Ｙにおける露光方法としては、半導体レーザーを用いた走査光学系であってもよく、ＬＥＤによる固体型であってもよい。光強度分布についても、ガウス分布およびローレンツ分布等があるがそれぞれのピーク強度の１／ｅ2 以上の領域を露光ドット径とすればよい。
【０１１９】
この例の画像形成装置においては、画像形成ユニット１０Ｙにおける感光体１Ｙ、帯電手段２Ｙ、現像手段４Ｙ、クリーニング手段６Ｙが一体化されたプロセスカートリッジとして設けられている。
【０１２０】
以上のような画像形成装置は、一の画像形成ユニットにおける感光体と、現像手段、クリーニング手段等の構成要素とをプロセスカートリッジとして一体に結合させて構成し、このプロセスカートリッジが画像形成装置本体に対して着脱自在とされるよう構成されていてもよい。また、一の画像形成ユニットにおける帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段または図示しない分離手段、およびクリーニング手段の少なくとも１つを感光体と共に一体に支持してプロセスカートリッジを形成し、レールなどの案内手段を用いて画像形成装置本体に対して着脱自在とされるよう構成してもよい。
【０１２１】
中間転写ユニット７は、複数の支持ローラ７１〜７４により張架され、循環移動可能に支持された無端ベルト状の中間転写体７０と、それぞれ画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋによって形成されたトナー像を中間転写体７０に転写するための一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｂｋと、一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｂｋによって中間転写体７０上に転写されたトナー像を画像支持体Ｐ上に転写する二次転写ローラ５ｂと、中間転写体７０上に残留した残留トナーを回収するクリーニング手段６ｂとを有する。
【０１２２】
中間転写ユニット７における一次転写ローラ５Ｂｋは、画像形成処理中の常時、感光体１Ｂｋに当接されており、他の一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃは、カラー画像を形成する場合にのみ、それぞれ対応する感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃに当接される。
【０１２３】
また、二次転写ローラ５ｂは、ここを画像支持体Ｐが通過して二次転写が行われるときにのみ、中間転写体７０に当接される。
【０１２４】
この画像形成装置においては、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋにおけるプロセスカートリッジのそれぞれと、中間転写ユニット７の二次転写ローラ５ｂ以外のものが筐体８に収納されており、当該筐体８が、画像形成装置本体Ａから支持レール８２Ｌ、８２Ｒを介して引き出し可能に構成されている。
【０１２５】
この画像形成装置においては、全ての画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋの感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋのうち、全ての感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋが上記の特定の切削加工形状を有する特定の感光体からなるものであることが好ましいが、感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋのうち少なくとも１つが上記の特定の感光体から構成されていれば、干渉スジの発生が抑制された高画質な画像を形成する効果を得ることができる。
【０１２６】
本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置は、電子写真複写機、レーザープリンター、ＬＥＤプリンターおよび液晶シャッター式プリンター等の電子写真装置一般に適応するが、更に、電子写真技術を応用したディスプレー、記録、軽印刷、製版およびファクシミリ等の装置にも幅広く適用することができる。
【０１２７】
〔画像形成方法〕
本発明の電子写真感光体が搭載された以上のような画像形成装置においては、感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋの表面が帯電手段２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｂｋより帯電され、露光手段３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｂｋが原稿画像読み取り装置ＳＣによって得られた原稿画像データに各種の画像処理等が施されて得られた各色の露光用画像データ信号に従って動作され、具体的には当該露国用画像データ信号に対応して変調されたレーザー光が露光光源から出力され、このレーザー光によって当該感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋが走査露光されることにより、原稿画像読み取り装置ＳＣにより読み取られた原稿に対応したイエロー、マゼンタ、シアン、黒の各色に対応した静電潜像が各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋ上にそれぞれ形成される。
【０１２８】
次いで、感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋ上に形成された静電潜像が、現像手段４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｂｋにおいて各色のトナーによって現像されることにより各色のトナー像が形成され、一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｂｋにより各色のトナー像が中間転写体７０上に逐次転写されて重ね合わされて合成され、カラートナー像が形成される。
さらに、カラートナー像の形成に同期して、給紙カセット２０内に収容された普通紙や透明シート等の画像支持体Ｐが、給紙手段２１により給紙され、複数の中間ローラ２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄおよびレジストローラ２３を経て、二次転写ローラ５ｂに搬送され、当該画像支持体Ｐ上に、二次転写ローラ５ｂによって中間転写体７０上に転写されたカラートナー像が一括して転写される。
画像支持体Ｐ上に転写されたカラートナー像は、定着手段２４において例えば加熱および加圧により定着されて可視画像が形成され、その後、可視画像が形成された画像支持体Ｐが、排紙ローラ２５によって機外に排出されて排紙トレイ２６上に載置される。
【０１２９】
各色のトナー像を中間転写体７０に転写させた後の感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋは、それぞれクリーニング手段６Ｙ、６Ｍ、６Ｃ、６Ｂｋにより当該感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋに残留したトナーを除去した後に、次の各色のトナー像の形成に供される。
一方、二次転写ローラ５ｂにより画像支持体Ｐ上にカラートナー像を転写し、画像支持体Ｐが曲率分離された後の中間転写体７０は、クリーニング手段６ｂにより当該中間転写体７０上に残留したトナーを除去した後に、次のトナー像の中間転写に供される。
【０１３０】
〔トナーおよび現像剤〕
本発明の画像形成方法に用いられるトナーは、粉砕トナーであっても重合トナーであってもよいが、本発明の画像形成方法においては、安定した粒度分布を得られる観点から、重合法で作製された重合トナーを用いることが好ましい。
【０１３１】
重合トナーとは、トナーを形成するバインダー樹脂の生成とトナー粒子形状の形成が、バインダー樹脂を得るための原料モノマーの重合と、必要によりその後の化学的処理とにより並行して行われて得られるトナーを意味する。
【０１３２】
より具体的には、懸濁重合、乳化重合等の重合反応により樹脂微粒子を得る工程と、必要によりその後に行われる樹脂微粒子同士を融着させる工程を経て形成されるトナーを意味する。
【０１３３】
トナーの体積平均粒径、すなわち、上記５０％体積粒径（Ｄｖ５０）は２〜９μｍ、より好ましくは３〜７μｍであることが望ましい。この範囲とすることにより、解像度を高くすることができる。さらに上記の範囲と組み合わせることにより、小粒径トナーでありながら、微細な粒径のトナーの存在量を少なくすることができ、長期に亘ってドット画像の再現性が改善され、鮮鋭性の良好な、安定した画像を形成することができる。
【０１３４】
本発明に係るトナーは、それのみで一成分現像剤として用いてもよく、キャリアと混合して二成分現像剤として用いてもよい。
【０１３５】
一成分現像剤として用いる場合は、非磁性一成分現像剤、あるいはトナー中に０．１〜０．５μｍ程度の磁性粒子を含有させ磁性一成分現像剤としたものが挙げられ、いずれも使用することができる。
【０１３６】
また、キャリアと混合して二成分現像剤として用いる場合は、キャリアの磁性粒子として、鉄、フェライト、マグネタイト等の金属、それらの金属とアルミニウム、鉛等の金属との合金等の従来から公知の材料を用いることができ。特にフェライト粒子が好ましい。上記磁性粒子は、その体積平均粒径としては１５〜１００μｍ、より好ましくは２５〜８０μｍのものがよい。
【０１３７】
キャリアの体積平均粒径の測定は、代表的には湿式分散機を備えたレーザー回折式粒度分布測定装置「ヘロス（ＨＥＬＯＳ）」（シンパティック（ＳＹＭＰＡＴＥＣ）社製）により測定することができる。
【０１３８】
キャリアは、磁性粒子が更に樹脂により被覆されているもの、あるいは樹脂中に磁性粒子を分散させたいわゆる樹脂分散型キャリアが好ましい。コーティング用の樹脂組成としては、特に限定はないが、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、エステル系樹脂或いはフッ素含有重合体系樹脂等が用いられる。また、樹脂分散型キャリアを構成するための樹脂としては、特に限定されず公知のものを使用することができ、例えば、スチレン−アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素系樹脂、フェノール樹脂等を使用することができる。
【０１３９】
本発明の画像形成方法によれば、感光体の円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。
また、感光体の円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。
【０１４０】
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明の実施形態は上記の例に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。
例えば、感光体の具体的な層構成は、上記の構成に限定されるものではない。
【実施例】
【０１４１】
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、ΔＬは、円筒状基体の外周面の中央付近における断面曲線を、「サーフコム１４００Ｄ」（（株）東京精密製）を用い、ＪＩＳ’０１規格において、測定長４．０ｍｍ、カットオフ０．８ｍｍ（ガウシアン）、測定速度０．３ｍｍ／ｓｅｃの測定条件で行った粗さ測定によって得、この断面曲線を用いて上述の通りに測定した。
また、Ｒｚは、上記の断面曲線の測定においてカットオフを０．２５ｍｍとした他は同様にして得た断面曲線から算出した。
【０１４２】
＜感光体基体の作製例１＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、ＣＮＣ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、外径５９．９５ｍｍ、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔１〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を６０００ｒｐｍに設定し、バイトの移動速度（バイト送り速度）を、０．３４０〜０．３６０ｍｍ／回転の間を、加工距離１．５ｍｍ毎に０．００５ｍｍ／回転ずつ変化するよう、送り速度の増減を繰り返させるプログラムによって変速させながら行った。
円筒状基体〔１〕の外周面におけるΔＬを測定したところ、５０μｍであった。
【０１４３】
＜感光体基体の作製例２＞
感光体基体の作製例１において、バイト切削加工の旋盤の主軸回転数を２０００ｒｐｍに設定したことの他は同様にして、円筒状基体〔２〕を得た。この円筒状基体〔２〕の外周面のΔＬを測定したところ、３０μｍであった。
【０１４４】
＜感光体基体の作製例３＞
感光体基体の作製例２において、バイト切削加工のバイト送り速度を、０．３４０ｍｍ／回転と０．３４５ｍｍ／回転の間を加工距離１．５ｍｍ毎にスイッチするプログラムにより行ったことの他は同様にして、円筒状基体〔３〕を得た。この円筒状基体〔３〕の外周面のΔＬを測定したところ、１０μｍであった。
【０１４５】
＜感光体基体の作製例４＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、ＣＮＣ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔４〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を４０００ｒｐｍに設定し、バイト送り速度値は４００μｍ／回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が１．４３ｍｍ、２．２８ｍｍ、１．６４ｍｍ、２．４９ｍｍ、１．８５ｍｍ、２．７１ｍｍ、２．０６ｍｍ、２．９２ｍｍ、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。
円筒状基体〔４〕の外周面のΔＬを測定したところ、２０μｍであった。
【０１４６】
＜感光体基体の作製例５＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、ＣＮＣ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔５〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を３１６０ｒｐｍに設定し、バイト送り速度値は４００μｍ／回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が２．２０ｍｍ、２．２１ｍｍ、２．２２ｍｍ、２．２３ｍｍ、２．２４ｍｍ、２．２３ｍｍ、２．２２ｍｍ、２．２１ｍｍ、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。
円筒状基体〔５〕の外周面のΔＬを測定したところ、６５μｍであった。
【０１４７】
＜感光体基体の作製例６＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、アナログ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔６〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を３１６０ｒｐｍに設定し、加工距離に対するバイト送り速度の指示値（加工距離−速度指示値）が、
０．５ｍｍ−３８０μｍ／回転、１．６ｍｍ−３９０μｍ／回転、２．８ｍｍ−３８０μｍ／回転、１．１ｍｍ−３９０μｍ／回転、２．５ｍｍ−３８０μｍ／回転、３．２ｍｍ−３９０μｍ／回転、の繰り返しになるように、タイマーと抵抗等を組み合わせた回路を介した電圧をバイト移動モータに入力して行った。
円筒状基体〔６〕の外周面のΔＬを測定したところ、２５μｍであった。
【０１４８】
＜感光体基体の作製例７＞
感光体基体の作製例１において、バイト切削加工の旋盤の主軸回転数を３０００ｒｐｍに設定すると共に、バイト送り速度を０．３５０ｍｍ／回転に固定したことの他は同様にして、円筒状基体〔７〕を得た。この円筒状基体〔７〕の外周面のΔＬを測定したところ、３μｍであった。
【０１４９】
＜感光体基体の作製例８＞
長さ３６２ｍｍのアルミニウム合金製の素管を、ＣＮＣ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のＲｚが０．７５μｍになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔８〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を４０００ｒｐｍに設定し、バイト送り速度値は４００μｍ／回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が１．４７ｍｍ、２．３２ｍｍ、１．６８ｍｍ、２．５３ｍｍ、１．８９ｍｍ、２．７５ｍｍ、２．１０ｍｍ、２．９６ｍｍ、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。
円筒状基体〔８〕の外周面のΔＬを測定したところ、８μｍであった。
【０１５０】
〔実施例１：感光体の製造例１〕
（１）中間層の形成
下記式（Ｎ−１）で表されるバインダー樹脂１質量部を、エタノールとｎ−プロピルアルコールとテトラヒドロフランの混合溶媒（体積比＝４５：２０：３５）２０質量部に加え、撹拌して溶解させた後、質量比で５％のメチルハイドロジェンポリシロキサンによって表面処理をしたルチル型酸化チタン粒子４．２質量部を混合し、この混合液をビーズミルを用いて、平均粒径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用い、充填率８０％、周速設定４ｍ／ｓｅｃ、ミル滞留時間３時間の条件で分散することにより、中間層塗布液〔１〕を調製した。この中間層塗布液〔１〕を、濾過精度５μｍのポリプロピレン製の濾材を用いたフィルタによって濾過し、これを、上記の円筒状基体〔１〕を洗浄した後の外周面に浸漬塗布法によって塗布し、１２０℃で２０分間乾燥することにより、円筒状基体〔１〕上に乾燥膜厚２μｍの中間層〔１〕を形成した。
【０１５１】
【化１】
【０１５２】
（２）電荷発生層の形成
次いで、下記成分を混合し、サンドミル分散機を用いて分散することにより、電荷発生層塗布液を調製した。
この電荷発生層塗布液を浸漬塗布法によって中間層〔１〕上に塗布して、乾燥膜厚０．３μｍの電荷発生層〔１〕を形成した。
・Ｙ−チタニルフタロシアニン（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線によるＸ線回折のスペクトルでブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを有するチタニルフタロシン顔料）
２０質量部
・ポリビニルブチラール（「ＢＸ−１」（積水化学（株）製）） １０質量部
・メチルエチルケトン ７００質量部
・シクロヘキサノン ３００質量部
【０１５３】
（３）電荷輸送層（下層）の形成
次いで、下記成分を混合し、溶解させることにより、電荷輸送層（下層）塗布液を調製した。
この電荷輸送層（下層）塗布液を浸漬塗布法によって電荷発生層〔１〕上に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、乾燥膜厚２０μｍの下層の電荷輸送層〔１ａ〕を形成した。
・下記式（ＣＴＭ）で表される電荷輸送物質 ５０質量部
・ポリカーボネート樹脂「ユーピロン−Ｚ３００」（三菱ガス化学社製） １００質量部
・酸化防止剤（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール） ８質量部
・テトラヒドロフラン／トルエン（体積比８／２） ７５０質量部
【０１５４】
【化２】
【０１５５】
（４）電荷輸送層（最上層）の形成
次いで、下記成分を混合、撹拌することにより、電荷輸送層（最上層）塗布液を調製した。
この電荷輸送層（最上層）塗布液を浸漬塗布法によって電荷輸送層〔１ａ〕上に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、乾燥膜厚５μｍの最上層の電荷輸送層〔１ｂ〕を形成し、これにより、感光体〔１〕を得た。
・上記式（ＣＴＭ）で表される電荷輸送物質 １．２質量部
・ポリカーボネート樹脂「ユーピロン−Ｚ３００」（三菱ガス化学社製） ２．７質量部
・（酸化チタンの質量の２５質量％のメチルハイドロジェンポリシロキサン（表面処理剤）で表面処理した個数基準の５０％粒径が３１ｎｍの酸化チタン） １．０質量部
・酸化防止剤（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール） ０．１質量部
・テトラヒドロフラン／トルエン（体積比８／２）混合液 ３０質量部
・シリコーンオイル「ＫＦ−９６」（信越シリコーン（株）製） ０．００５質量部
【０１５６】
〔実施例２〜１１：比較例１〜３：感光体の製造例２〜１４〕
感光体の製造例１において、円筒状基体の種類、並びに最上層の電荷輸送層に含有させる無機粒子の種類および当該無機粒子の表面処理剤を表１に従って変更したことの他は同様にして、感光体〔２〕〜〔１４〕を得た。
表１において、表面処理剤「ＳＨ−１」、「ＳＨ−２」、「ＳＨ−３」、「ＳＨ−４」は以下のものを表す。
【０１５７】
「ＳＨ−１」：メチルハイドロジェンポリシロキサン
「ＳＨ−２」：オクチルトリメトキシシラン
「ＳＨ−３」：メチルトリメトキシシラン
「ＳＨ−４」：ジイソプロポキシチタニウムビス（アセチルアセテート）
【０１５８】
〔画質評価Ａ〕
画像形成装置「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）に以上の感光体〔１〕〜〔１４〕のいずれかを搭載して、下記のテスト画像Ａ〜Ｃをコート紙「ＰＯＤグロスコート（１００ｇ／ｍ2 ）」（王子製紙社製）上に出力し、得られたテスト画像Ａ〜Ｃについて、干渉スジおよび感光体周方向スジについての画質評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５９】
テスト画像Ａは、黒（Ｂｋ）位置において、下記の露光パターンＡを用いて濃度指示値を０／２５５、１５／２５５、３１／２５５・・・と１６おきに２５５／２５５までの１７諧調に振って出力したハーフトーン画像である。
【０１６０】
露光パターンＡ：「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」内部搭載パターン Ｎｏ．５３ Ｄｏｔ１、規則性を有するドット状に形成された露光パターンの代表的なもの。
【０１６１】
テスト画像Ｂは、黒（Ｂｋ）位置において、下記の露光パターンＢを用いて濃度指示値を０／２５５、１５／２５５、３１／２５５・・・と１６おきに２５５／２５５までの１７諧調に振って出力したハーフトーン画像である。
【０１６２】
露光パターンＢ：「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」内部搭載パターン Ｎｏ．７ Ｃｏｎｔｎｏｅ、感光体軸方向に対し直角方向に連続的に形成されている露光パターンの代表的なもの。
【０１６３】
テスト画像Ｃは、黒（Ｂｋ）位置において、下記の露光パターンＣを用いて濃度指示値を０／２５５、１５／２５５、３１／２５５・・・と１６おきに２５５／２５５までの１７諧調に振って出力したハーフトーン画像である。
【０１６４】
露光パターンＣ：「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」内部搭載パターン Ｎｏ．１ Ｌｉｎｅ１、感光体軸方向に対し平行な方向に連続的に形成されている露光パターンの代表的なもの。
【０１６５】
（画質評価１）斜めスジ状濃度ムラ（干渉スジ）
露光パターンＡによるテスト画像Ａおよび露光パターンＢによるテスト画像Ｂについて、下記の評価基準に従って画質評価を行った。画質評価は、濃度指示値が異なる画像部分中、最悪水準の画像部分で評価した。
−評価基準−
○：斜めスジ状濃度ムラが全く見られない。
△：斜めスジ状濃度ムラが僅かに見られるが、実使用上は問題ない。
×：斜めスジ状濃度ムラが見られ、実使用上問題あり。
【０１６６】
（画質評価２）感光体周方向スジ
露光パターンＣによるテスト画像Ｃについて画質評価を行った。画質評価は、濃度指示値が異なる画像部分中、最悪水準の画像部分で評価した。
−評価基準−
○：感光体周方向スジが全く見られない。
△：感光体周方向スジが僅かに見られるが、実使用上は問題ない。
×：感光体周方向スジが見られ、実使用上問題あり。
【０１６７】
〔画質評価Ｂ：画像ムラ〕
画像形成装置「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）に以上の感光体〔１〕〜〔１４〕のいずれかを搭載して、下記のテスト画像Ｄをコート紙「ＰＯＤグロスコート（１００ｇ／ｍ2 ）」（王子製紙社製）上に出力したテストプリントを１００枚形成し、得られた１００枚のテストプリントについて、画像ムラについて下記の評価基準に従って画質評価を行った。結果を表１に示す。
【０１６８】
テスト画像Ｄは、黒（Ｂｋ）位置において、上記の露光パターンＡを用いて濃度指示値を７５／２５５として出力したハーフトーン画像である。
【０１６９】
−評価基準−
○：１００枚のテストプリント全てに画像ムラの発生がない。
△：１００枚のテストプリント中、僅かに画像ムラが見られるものもあるが、実使用上は問題無し。
×：１００枚のテストプリント中、画像ムラが見られものもあり、そのレベルは実使用上問題あるレベルである。
【０１７０】
〔耐摩耗性の評価〕
画像形成装置「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＯ Ｃ６５０１」（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）に以上の感光体〔１〕〜〔１４〕のいずれかを搭載して５０万枚の耐刷試験を行い、耐刷試験前後の感光層の膜厚の差を膜厚減耗量として、耐摩耗性を評価した。結果を表１に示す。なお、膜厚減耗量が４．０μｍ以下である場合を、実用上問題なく合格であると判断することができる。
【０１７１】
【表１】
【０１７２】
表１から明らかなように、ΔＬ≧１０である円筒状基体を有すると共に最上層に特定の無機粒子を含有させた電荷輸送層が形成されてなる感光体（特定の感光体）を用いて画像を形成した場合においては、干渉スジおよび画像ムラの発生の抑制された良好な画像が得られたのに対し、比較例１〜３のようにΔＬが小さい円筒状基体による感光体を用いて画像を形成した場合においては、円筒状基体の切削凹凸の周期と露光パターンの周期との間の干渉に起因すると推定される干渉スジと、感光体における散乱効果が小さいことに起因すると推定される画像ムラとが発生した。また、比較例３のように最上層の電荷輸送層に特定の無機粒子が含有されていない感光体は、膜厚減耗量が大きく、耐摩耗性が低いことが確認された。
【符号の説明】
【０１７３】
１、１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｂｋ 感光体
１ａ 円筒状基体
１ｂ 中間層
１ｃ 電荷発生層
１ｄ 下層の電荷輸送層
１ｅ 最上層の電荷輸送層
１α 感光層
２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｂｋ 帯電手段
３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｂｋ 露光手段
４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｂｋ 現像手段
５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｂｋ 一次転写ローラ
５ｂ 二次転写ローラ
６Ｙ、６Ｍ、６Ｃ、６Ｂｋ クリーニング手段
６ｂ クリーニング手段
７ 中間転写ユニット
８ 筐体
１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｂｋ 画像形成ユニット
２０ 給紙カセット
２１ 給紙手段
２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄ 中間ローラ
２３ レジストローラ
２４ 定着手段
２５ 排紙ローラ
２６ 排紙トレイ
７０ 中間転写体
７１〜７４ 支持ローラ
８２Ｌ、８２Ｒ 支持レール
Ａ 画像形成装置本体
Ｐ 画像支持体
ＳＣ 原稿画像読み取り装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状基体上に少なくとも電荷発生層および少なくとも２層以上の電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体であって、
前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、下記式（１）の条件を満たす切削加工形状を有し、
前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの無機粒子が含有されていることを特徴とする電子写真感光体。
式（１）：ΔＬ≧１０μｍ
〔式（１）中、ΔＬは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。〕
【請求項２】
前記無機粒子がシリカ粒子であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体を用いて画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【請求項１】
円筒状基体上に少なくとも電荷発生層および少なくとも２層以上の電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体であって、
前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、下記式（１）の条件を満たす切削加工形状を有し、
前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径（Ｄｐ）が３〜１００ｎｍの無機粒子が含有されていることを特徴とする電子写真感光体。
式（１）：ΔＬ≧１０μｍ
〔式（１）中、ΔＬは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。〕
【請求項２】
前記無機粒子がシリカ粒子であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体を用いて画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１３−５４２９３（Ｐ２０１３−５４２９３Ａ）
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９３９５９（Ｐ２０１１−１９３９５９）
【出願日】平成２３年９月６日（２０１１．９．６）
【出願人】（３０３０００３７２）コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 (12,802)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月６日（２０１１．９．６）
【出願人】（３０３０００３７２）コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 (12,802)
【Ｆターム（参考）】
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