電子写真感光体の製造方法
【課題】超音波の周波数を小さくすることなしに短時間で高い洗浄力をもって導電性基体を洗浄し、その上に感光層を形成して、優れた感光特性を有する電子写真感光体を歩留まりよく製造し得る電子写真感光体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いで前記導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いでさらに水洗および乾燥して、前記導電性基体を洗浄する工程、および洗浄された導電性基体上に感光層を形成する工程を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法により、上記の課題を解決する。
【解決手段】アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いで前記導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いでさらに水洗および乾燥して、前記導電性基体を洗浄する工程、および洗浄された導電性基体上に感光層を形成する工程を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法により、上記の課題を解決する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、複写機やプリンタに用いられる、優れた感光特性を有する電子写真感光体を歩留まりよく製造し得る方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真感光体（以下「感光体」ともいう）は、一般に円筒状の導電性基体上に感光層を積層形成することにより製造される。導電性基体の材料としては、低コストであること、軽量であること、加工が容易であることなどからアルミニウム系金属が広く用いられている。
アルミニウム系金属製の円筒状の導電性基体は、円筒状のアルミニウム系金属の表面を切削することにより成形され、切削加工においては、発生する熱の冷却、潤滑工具の摩耗防止、切削加工を施した導電性基体の面精度向上などのために、切削油として一般に灯油ナフサなどの鉱物油が使用されている。
【０００３】
このようにして加工された導電性基体上に感光層を順次形成して、感光体を得ることになるが、導電性基体表面には、切削時の油分（切削油）や切削粉、空気中（周囲）の粉じんなどが付着しているので、通常、これらの導電性基体表面の付着物を洗浄する。
導電性基体表面に油分や切削粉が残ると、感光層形成の際にハジキやシミの原因になり、均一な感光層が形成できず、感光体の欠陥の原因になる。
【０００４】
導電性基体表面の洗浄方法としては、
（１）有機溶剤または水系洗浄剤などに導電性基体を浸漬する浸漬洗浄、（２）有機溶剤または水系洗浄剤などに導電性基体を浸漬し、超音波を印加する浸漬洗浄、（３）有機溶剤または水系洗浄剤などに導電性基体を浸漬し、ブラシ、スポンジなどによる摩擦で物理的に付着物を除去する接触洗浄、（４）導電性基体に有機溶剤または水系洗浄剤などをシャワーリングしながらブラシ、スポンジなどによる摩擦で物理的に付着物を除去する接触洗浄、（５）導電性基体表面に有機溶剤または水系洗浄剤などをスリットより噴出させるジェット洗浄、（６）導電性基体を有機溶剤または水系洗浄剤などの蒸気中に通過させる蒸気洗浄、およびこれらの組み合わせが挙げられる。
【０００５】
洗浄に用いられる洗浄剤としては、有機溶剤、準水系洗浄剤、水系洗浄剤および純水などが挙げられ、現在では、オゾン層破壊や地球温暖化、大気汚染などの環境問題および人体への悪影響の観点から、塩素系溶剤の削減、全廃の方向に移行しており、水系洗浄剤または純水が主流となっている。
【０００６】
例えば、特開平２−２０１３７３号公報（特許文献１）には、上記（３）に相当する、感光体用の導電性基体を、少なくとも溶剤中においてブラシで洗浄する方法が記載され、特開平２−１９１９６３号公報（特許文献２）には、上記（５）に相当する、特定の研磨剤を用いて導電性基体を湿式ホーニング処理する方法が記載されている。
【０００７】
また、特開平７−１０４４８５号公報（特許文献３）には、上記（２）に相当する、水もしくは界面活性剤水溶液からなる洗浄液により導電性基体を洗浄し、次いで特定の比誘電率を有する水溶性有機溶剤より導電性基体を洗浄する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平２−２０１３７３号公報
【特許文献２】特開平２−１９１９６３号公報
【特許文献３】特開平７−１０４４８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
洗浄剤としての水系洗浄剤や純水は、塩素系溶剤に比べて洗浄力が低く、水系洗浄剤や純水を用いて塩素系溶剤と同等の洗浄力を得るためには、特許文献１および２のように、接触洗浄のような物理的手段に頼らざるを得ない。
しかしながら、接触洗浄などは、確かに洗浄力を高めることができる反面、導電性基体表面にキズをつける可能性が高くなるという欠点がある。
【００１０】
他方、切削加工時に水溶性切削油を用いることで、洗浄効率を高める方法も提案されているが、水溶性切削油は非水溶性切削油に比べて切削加工後の被切削物、ここでは導電性基体の水による腐食が生じ易いという欠点がある。
【００１１】
そこで、非水溶性切削油を用いた導電性基体の洗浄において、接触洗浄に代わり、特許文献３のような、超音波を印加する浸漬洗浄（超音波洗浄）が用いられるようになってきた。
超音波洗浄とは、超音波により発生したキャビテーションの衝撃力により、導電性基体表面の油分や切削粉、空気中の粉じんを除去する方法である。
キャビテーションの衝撃力は、一般的に、超音波の周波数が小さいほど大きくなり、逆に周波数が大きくなるほど小さくなることが知られている。
したがって、洗浄力を高めるためには、超音波によるキャビテーション衝撃力を大きくする、つまり低周波数で超音波を印加する、または長時間超音波を印加する必要がある。
【００１２】
しかしながら、アルミニウム系金属は比較的機械的衝撃に弱く、キャビテーションによる衝撃力が強いと、ダメージを受けることになる。
また、長時間超音波を印加すると、エロージョンと呼ばれる腐食が起こり、導電性基体表面にピンホールと呼ばれる微細な穴が生じさせることになる。
特に被洗浄物が大型で重量が大きい場合には、被洗浄物自体が超音波を吸収し、十分な洗浄力を得ることが困難になる。
そこで、高い洗浄力を得るために、超音波を低周波数にする、あるいは長時間超音波を印加すると、上記のように導電性基体自体を痛めることになる。
【００１３】
本発明は、超音波の周波数を小さくすることなしに短時間で高い洗浄力をもって導電性基体を洗浄し、その上に感光層を形成して、優れた感光特性を有する感光体を歩留まりよく製造し得る感光体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、感光体用のアルミニウム系金属製の導電性基体の洗浄工程において、水系洗浄剤中で超音波洗浄を行う前に、有機溶剤を用いた超音波洗浄（前処理）を行うことにより、導電性基体の表面に付着した切削油や切削粉を除去し易くなることを意外にも見出し、本発明を完成するに至った。
【００１５】
かくして、本発明によれば、アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いで前記導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いでさらに水洗および乾燥して、前記導電性基体を洗浄する工程、および洗浄された導電性基体上に感光層を形成する工程を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、超音波の周波数を小さくすることなしに短時間で高い洗浄力をもって導電性基体を洗浄し、その上に感光層を形成して、優れた感光特性を有する感光体を歩留まりよく製造し得る感光体の製造方法を提供することができる。
導電性基体の表面に付着する除去対象の汚れは、切削時の油分（切削油）や切削粉、空気中の粉じんである。切削粉や粉じんは、導電性基体上に付着した切削油を介して付着しているので、導電性基体上の切削油を除去できれば、切削粉や粉じんも除去できる。
有機溶剤は一般に水系洗浄剤に比べて脱脂力が高く、有機溶剤および界面活性剤を含む水溶液の順に導電性基体を浸漬し、超音波を印加（超音波洗浄）することにより、高い洗浄力をもって導電性基体を洗浄できたものと推察される。
【００１７】
本発明によれば、有機溶剤がテトラヒドロフラン、メタノール、エタノールまたはイソプロピルアルコールである場合に、特に有機溶剤がテトラヒドロフランである場合に、上記の効果がさらに発揮される。
また、本発明によれば、界面活性剤がアルキルグリコシドのような低分子系、ポリエチレングリコールやポリビニルアルコールのような高分子系から選択されるノニオン系界面活性剤およびカルボン酸、スルホン酸、リン酸構造を持つ物質を含むアニオン系界面活性剤である場合に、界面活性剤を含む水溶液が濃度０．５〜３０重量％の界面活性剤を含む場合に、界面活性剤を含む水溶液が液温３０〜６０℃に加熱されてなる場合に、上記の効果がさらに発揮される。
【００１８】
本発明によれば、超音波が０．５〜１０分間印加される場合に、導電性基体が直径８０〜１５０ｍｍの円筒状である場合に、上記の効果がさらに発揮される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の感光体の製造方法における導電性基体の洗浄工程に用いられる装置の概略図である。
【図２】本発明の感光体の製造方法において製造される積層型感光体（ａ）および単層型感光体（ｂ）の要部の構成を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の感光体の製造方法は、
アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いで導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いでさらに水洗および乾燥して、導電性基体を洗浄する工程、および
洗浄された導電性基体上に感光層を形成する工程
を含むことを特徴とする。
本発明の感光体の製造方法は、上記のように導電性基体の洗浄工程と導電性基体上への感光層の形成工程に分けられ、以下、これらの各工程について具体的に説明する。
【００２１】
（Ａ）導電性基体の洗浄工程
洗浄工程は、アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し（第１洗浄）、次いで導電性基体を界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し（第２洗浄）、次いで導電性基体を水洗および乾燥することからなり、大きく洗浄、水洗（リンス）および乾燥に分けられる。
【００２２】
（導電性基体）
導電性基体は、アルミニウム系金属製であり、例えば、単結晶ダイヤモンド焼結体からなるバイトにより円筒状のアルミニウム系金属の表面を切削加工することにより製造される。例えば、導電性基体の表面にミスト状にした切削油を吹きつけながら、バイトで切削する。切削油をミスト状にすることで、切削時に発生した切削粉や環境異物の頑強な付着を防止する。しかしながら、これらの付着を完全に防止できず、残った付着物を本発明の方法で除去する。
また、切削加工において切削油を用いることにより、導電性基体の表面が切削油で被覆され、均一な酸化膜が形成されるため、導電性基体の表面が安定化し、その腐食が防止できる。このような切削油の被膜は、切削後に長期間導電性基体が放置されても、本発明の方法の洗浄工程で容易に除去することができる。
【００２３】
アルミニウム系金属とは、純アルミニウムおよび所定量のマンガンやマグネシウムなどの金属を含有する合金を意味し、例えば、ＪＩＳ規格されているＡ１０７０、Ａ１１００、Ａ３００３、Ａ５００５、Ａ５８０５およびＡ６００３などが挙げられる。
導電性基体の形状としては、シート状、円筒状、円柱状、無端ベルト（シームレスベルトまたはエンドレスシートベルト）状などが挙げられ、これらの中でも、複合機に搭載した際に駆動が容易である、また強度の面から円筒状が好ましい。なお、円筒状の導電性基体を素管ともいう。
【００２４】
（第１洗浄：有機溶剤による洗浄）
第１洗浄は、アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加することからなる。
有機溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、ジフェニルメタン、ジメトキシベンゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム（トリクロロメタン）、1,1,1-トリクロロエタン（メチルクロロホルム）、トリクロロエチレン（トリクレン）、パークロロエチレン（四塩化エチレン）、テトラクロロプロパンなどのハロゲン化炭化水素；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジベンジルエーテル、ジメトキシメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、イソホロンなどのケトン類；安息香酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジフェニルスルフィドなどの含イオウ溶剤；フロン１１２（1,1,2,2-テトラクロロ-1,2-ジフルオロエタン）、フロン１１３（1,1,2-トリフルオロトリクロロエタン）、ヘキサフロオロイソプロパノールなどのフッ素系溶剤；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性極性溶剤などが挙げられ、これらは単独または混合溶剤として使用できる。
【００２５】
ハロゲン化炭化水素（特に塩素系溶剤）およびフッ素系溶剤は高い脱脂力を有するものの、近年の環境問題の配慮から、その使用は好ましくない。したがって、上記の有機溶剤の中でも、非塩素系溶剤および非フッ素系溶剤が好ましく、比較的脱脂力に優れるテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールが好ましく、テトラヒドロフラン、メタノールがさらに好ましく、テトラヒドロフランが特に好ましい。
【００２６】
印加する超音波は、出力（周波数）５０〜１００ｋＨｚであり、本発明の優れた効果が発現され易いことから、６０〜８０ｋＨｚが特に好ましい。
超音波の出力が５０ｋＨｚ未満では、衝撃が強過ぎるために、導電性基体の表面がダメージを受けて傷付くことがある。一方、超音波の出力が１００ｋＨｚを超えると、衝撃が弱過ぎるために、十分な洗浄効果が得られないことがある。
【００２７】
超音波は、洗浄対象の状態、超音波の出力などにもよるが、０．５〜１０分間印加されるのが好ましい。
超音波の印加時間が０．５分未満では、衝撃が弱過ぎるために、十分な洗浄効果が得られないことがある。一方、超音波の印加時間が１０分を超えると、衝撃が強過ぎるために、導電性基体の表面がダメージを受けて傷付くことがある。
また、洗浄力を高めるために、洗浄時には洗浄液の有機溶剤を適宜加熱してもよい。加熱温度は用いる有機溶剤の種類などにもよるが２５〜４０℃程度である。
【００２８】
（第２洗浄：界面活性剤を含む水溶液による洗浄）
第２洗浄は、導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加することからなる。
ノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤は、導電性基体のアルミニウム系金属を腐食させ難いことから好ましい。
界面活性剤は、第１洗浄で除去されずに導電性基体の表面に残った切削油や粉塵などをミセル化して包み込み、除去するものと考えられる。
【００２９】
ノニオン系界面活性剤としては、
ポリオキシエチレンアルキルおよびアルキルフェニルエーテル、アルキルアリルホルムアルデヒド縮合ポリオキシエチレンエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシプロピルアルキルエーテルのようなエーテル型；
グリセリンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ソルビタンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ソルビトールエステルのポリオキシエチレンエーテルのようなエーテルエステル型；
ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ポリグリセリンエステル、ソルビタンエステル、プロピレングリコールエステル、ショ糖エステルのようなエステル型；および
脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミンのような含窒素型
の界面活性剤が挙げられる。
【００３０】
アニオン系界面活性剤としては、
石けん、Ｎ−アシルアミノ酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸塩、アシル化ペプチドのようなカルボン酸塩；
アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンまたはアルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩−ホルマリン重縮合物、スルホコハク酸塩、ｏ−オレフィンスルホン酸塩、Ｎ−アシルスルホン酸塩のようなスルホン酸塩；
硫酸化油、アルキル硫酸塩、アルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、アルキルアミド硫酸塩のような硫酸エステル塩；および
アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルリン酸塩のようなリン酸エステル塩
の界面活性剤が挙げられる。
【００３１】
界面活性剤を含む水溶液は、ｐＨ６．０〜９．０を有するのが好ましく、より好ましくはｐＨ６．５〜８．０である。
ｐＨが上記の範囲であれば、アルミニウム系金属製の導電性基体の表面を腐食する水酸化物、酸化物、水和物の生成が抑制され、またこれらの反応生成物によって濡れ性などの物理特性の変化が生じることがないので、感光層の塗工形成の際にハジキ、シミ、塗布ヌケなどの塗布欠陥の発生を抑制できる。
【００３２】
具体的には、次のような界面活性剤が好適に用いられる。
ヘンケル白水株式会社製、製品名：Ｔ−１８０
ライオン株式会社製、製品名：ＦＭ−１０
ライオン株式会社製、製品名：ＦＭ−２０
ライオン株式会社製、製品名：ライオミックスＬ
ライオン株式会社製、製品名：ライオミックスＨ
ケミックス株式会社製、製品名：ＣＡ０１
花王株式会社製、製品名：クリンスルー７５０Ｌ
【００３３】
界面活性剤を含む水溶液は、濃度０．５〜３０重量％の界面活性剤を含むのが好ましい。界面活性剤の濃度が０．５重量％未満では、十分な洗浄効果が得られないことがある。一方、界面活性剤の濃度が３０重量％を超えると、画像欠陥が生じることがある。より好ましい界面活性剤の濃度は４〜１５重量％である。
【００３４】
界面活性剤を含む水溶液は、洗浄力を向上させるために、本発明の効果を阻害しない範囲で洗浄助剤を含んでいてもよい。
洗浄助剤としては、例えば、炭酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、硫酸ナトリウムなどの無機化合物、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、有機アミンなどの有機化合物が挙げられる。
洗浄助剤の配合量は、洗浄助剤の種類や所望する洗浄効果などにより適宜設定すればよい。
【００３５】
印加する超音波は、第１洗浄と同様に、出力（周波数）５０〜１００ｋＨｚであり、本発明の優れた効果が発現され易いことから、６０〜８０ｋＨｚが特に好ましい。
第２洗浄の界面活性剤を含む水溶液は、第１洗浄の有機溶剤に比べて、洗浄力および脱脂力に劣るため、第２洗浄において印加する超音波は、上記の範囲内で第１洗浄時よりも低く設定するのが好ましい。
【００３６】
また、洗浄力を高めるために、洗浄時には洗浄液の界面活性剤を含む水溶液を適宜加熱してもよい。
加熱温度（界面活性剤を含む水溶液の液温）は、用いる界面活性剤の種類などにもよるが３０〜６０℃程度、例えば後述する実施例のように４２℃である。
【００３７】
（水洗：リンス）
次いで、公知の方法により、導電性基体の表面に付着する洗浄剤を洗い流す。例えば、洗浄された導電性基体を市水または純水に浸漬して水洗する。
ここでの洗浄効率を高めるために、導電性基体を複数の水槽に順次浸漬させてもよく、また加熱してもよい。加熱温度は２５〜４０℃程度である。
【００３８】
（乾燥）
次いで、公知の方法により、導電性基体を乾燥させる。例えば、水洗された導電性基体を、クリーン度１００に保持されかつ１００℃に設定された乾燥炉中に保持する。
【００３９】
（装置）
図１は、本発明の感光体の製造方法における導電性基体の洗浄工程に用いられる装置の概略図である。本発明の製造方法は、当該技術分野の製造ラインにおいて既設の装置を転用することができ、図１の装置もその一例であり、これにより本発明が限定されるものではない。
【００４０】
切削加工された導電性基体１は、レール３に配置されたロボットハンド２に支持され、順次各洗浄槽に移動される。
前処理槽７１は、第１洗浄のための前処理液７２として有機溶剤で満たされ、その底部には超音波発振器７３が備えられている。
【００４１】
洗浄槽１１は、第２洗浄のための洗浄液１８として界面活性剤を含む水溶液で満たされ、加熱用のヒーター１６および超音波発振器１７が備えられ、洗浄液１８中の切削粉やダストを捕捉するために洗浄液１８をろ過循環させるための配管１９、ポンプ１４およびフィルター１５が備えられている。
加熱用のヒーター１６は、洗浄液１８を所定の温度、例えば３０〜６０℃（具体的には４２℃）に加熱し、超音波発振器１７は、導電性基体１の浸漬時に所定の出力（周波数）の超音波を印加（発振）する。
洗浄槽１１には、配管１２を通じて定常的に洗浄液１８がタンク（図示せず）から供給され、導電性基体１の浸漬によりオーバーフローした洗浄液１８は配管１３を通じて排出され、廃液処理装置（図示せず）で処理される。
【００４２】
第１の濯ぎ槽２１は、水洗（リンス）のための濯ぎ用水２５として純水で満たされ、超音波発振器２４が備えられ、濯ぎ用水２５中の切削粉やダストを捕捉するために濯ぎ用水２５をろ過循環させる配管２６、ポンプ２２およびフィルター２３が備えられている。
【００４３】
第２の濯ぎ槽３１は、水洗（リンス）のための濯ぎ用水３５として純水で満たされ、濯ぎ用水３５中の切削粉やダストを捕捉するために濯ぎ用水３５をろ過循環させるための配管３６、ポンプ３２およびフィルター３３が備えられている。
第３の濯ぎ槽４１は、水洗（リンス）のための濯ぎ用水４５として純水で満たされ、濯ぎ用水４５中の切削粉やダストを捕捉するために濯ぎ用水４５をろ過循環させるための配管４６、ポンプ４２およびフィルター４３が備えられている。
【００４４】
第１の濯ぎ槽２１、第２の濯ぎ槽３１および第３の濯ぎ槽４１にも、洗浄槽１１と同様に、超音波発振器２４が備えられていてもよい。
濯ぎ用水２５、３５および４５の純水は、タンク６０から第３の濯ぎ槽４１に供給され、オーバーフローにより第２の濯ぎ槽３１に、次いで第１の濯ぎ槽２１に供給され、配管２７から排出され、廃液処理装置（図示せず）で処理される。
【００４５】
（Ｂ）感光層の形成工程
形成工程は、公知の材料を用いて公知の方法により、洗浄された導電性基体上に感光層を形成する。
図２は、本発明の感光体の製造方法において製造される積層型感光体（ａ）および単層型感光体（ｂ）の要部の構成を示す模式断面図である。この図に示される感光体は一例であり、これにより本発明が限定されるものではない。
以下、図２を用いて感光層の形成工程について具体的に説明する。
【００４６】
図２（ａ）は、感光層が電荷発生層と電荷輸送層とがこの順で積層された積層型感光層（「機能分離型感光層」ともいう）である積層型感光体（「機能分離型感光体」ともいう）の要部の構成を示す模式断面図である。
図２（ｂ）は、感光層が一層からなる単層型感光層である単層型感光体の要部の構成を示す模式断面図である。
図２（ａ）の積層型感光層は電荷発生層と電荷輸送層とが逆順であってもよいが、図２（ａ）の順に形成された積層型感光層が好ましい。
【００４７】
図２（ａ）の積層型感光体８０は、導電性基体８２の表面に、下引層８３と、電荷発生物質８９を含有する電荷発生層８６と電荷輸送物質９０を含有する電荷輸送層８７とがこの順で積層された積層型感光層８４がこの順で形成されている。
図２（ｂ）の単層型感光体８１は、導電性基体８２の表面に、下引層８３と、電荷発生物質８９と電荷輸送物質９０とを含有する単層型感光層８５がこの順で形成されている。
図２における図番８８はバインダー樹脂を示す。
【００４８】
（導電性基体８２）
導電性基体は、感光体の電極としての役割を果たすとともに、他の各層の支持部材としても機能し、本発明においては前工程で洗浄された導電性基体が用いられる。
導電性基体の表面には、必要に応じて、画質に影響のない範囲内で、陽極酸化皮膜処理、薬品、熱水などによる表面処理、着色処理、表面を粗面化するなどの乱反射処理が施されていてもよい。
【００４９】
乱反射処理は、レーザを露光光源として用いる電子写真プロセスにおいて本発明による感光体を用いる場合に特に有効である。すなわち、レーザを露光光源として用いる電子写真プロセスでは、レーザ光の波長が揃っているので、感光体の表面で反射されたレーザ光と感光体の内部で反射されたレーザ光とが干渉を起こし、この干渉による干渉縞が画像に現れて画像欠陥の発生することがある。そこで、導電性基体の表面に乱反射処理を施すことにより、波長の揃ったレーザ光の干渉による画像欠陥を防止することができる。
【００５０】
（下引層（「中間層」ともいう）８３）
本発明の感光体は、導電性基体と感光層との間に下引層を有するのが好ましい。
下引層は、導電性基体から単層型感光層または積層型感光層への電荷の注入を防止する（ホール注入に対して障壁となる）機能を有する。すなわち、単層型感光層または積層型感光層の帯電性の低下が抑制され、露光によって消去されるべき部分以外の表面電荷の減少が抑えられ、かぶりなどの画像欠陥の発生が防止される。特に、反転現像プロセスによる画像形成の際に、白地部分にトナーからなる微小な黒点が形成される黒ポチと呼ばれる画像かぶりが発生するのが防止される。
また、導電性基体の表面を被覆する下引層は、導電性基体の表面の欠陥である凹凸の度合を軽減して表面を均一化し、単層型感光層または積層型感光層の成膜性を高め、導電性基体と単層型感光層または積層型感光層との密着性（接着性）を向上させることができる。
【００５１】
下引層８３は、例えば、樹脂材料を適当な溶剤に溶解させて下引層用塗布液を調製し、この塗布液を導電性基体８２の表面に塗布し、乾燥により有機溶剤を除去することによって形成できる。
【００５２】
樹脂材料としては、後述する感光層に含まれるものと同様のバインダー樹脂に加えて、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロースなどの天然高分子材料などが挙げられ、これらの１種または２種以上を使用できる。これらの樹脂の中でも、ポリアミド樹脂が好ましく、特にアルコール可溶性ナイロン樹脂が特に好ましい。
【００５３】
樹脂材料を溶解または分散させる溶剤としては、例えば、水、メタノール、エタノール、ブタノールなどのアルコール類、メチルカルビトール、ブチルカルビトールなどのグライム類、ジクロロエタン、クロロホルムもしくはトリクロロエタンなどの塩素系溶剤、アセトン、ジオキソラン、これらの溶剤を２種以上混合した混合溶剤などが挙げられる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、非ハロゲン系有機溶剤が好適に用いられる。
【００５４】
また、下引層用塗布液は、金属酸化物粒子を含んでいてもよい。
金属酸化物粒子は、下引層の体積抵抗値を容易に調節でき、感光層への電荷の注入をさらに抑制できると共に、各種環境下において感光体の電気特性を維持できる。
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化スズなどが挙げられる。
下引層用塗布液におけるバインダー樹脂と金属酸化物粒子との合計重量Ａと溶剤の重量Ｂとの比率（Ａ／Ｂ）は、１／９９〜４０／６０が好ましい。
また、バインダー樹脂の重量Ｃと金属酸化物粒子の重量Ｄとの比率Ｃ／Ｄは、９０／１０〜１／９９が好ましい。
【００５５】
下引層用塗布液の塗布方法は、塗布液の物性および生産性などを考慮に入れて最適な方法を適宜選択すればよく、例えば、ディップコート法、スプレー法、ノズル法、バーコート法、ロールコート法、ブレード法、リング法および浸漬塗布法などが挙げられる。
これらの塗布方法の中でも、浸漬塗布法は、塗布液を満たした塗工槽に基体を浸漬した後、一定速度または逐次変化する速度で引上げることによって基体の表面に層を形成する方法であり、比較的簡単で、生産性および原価の点で優れているので、感光体の製造に好適に用いることができる。浸漬塗布法に用いる装置には、塗布液の分散性を安定させるために、超音波発生装置に代表される塗布液分散装置が設けられていてもよい。
塗膜の乾燥工程における温度は、使用した有機溶剤を除去し得る温度であれば特に限定されないが、５０〜１４０℃が適当である。
このような感光層の製造における温度条件は、下引層のみならず後述する感光層などの層形成や他の処理においても共通する。
【００５６】
下引層の膜厚は特に限定されないが、０.０１〜２０μｍが好ましく、０.０５〜１０μｍが特に好ましい。
下引層の膜厚が０．０１μｍ未満では、下引層として実質的に機能しなくなり、導電性基体の欠陥を被覆して均一な表面性を得ることができず、導電性基体からの感光層への電荷の注入を防止することができなくなるおそれがある。一方、下引層の膜厚が２０μｍを超えると、均一な下引層を形成し難く、また感光体の感度も低下するおそれがある。
なお、本発明では導電性基体の構成材料がアルミニウムであり、その表面にアルマイトを含む層（アルマイト層）を形成し、下引層としてもよい。
【００５７】
（積層型感光体８０の積層型感光層８４）
積層型感光体８０の積層型感光層８４は、電荷発生層８６と電荷輸送層８７とからなる。このように電荷発生機能と電荷輸送機能とを別々の層に担わせることにより、各層を構成する最適な材料を独立して選択することができる。
以下の説明では、電荷発生層と電荷輸送層とがこの順で積層された積層型感光体（図２（ａ））について説明するが、逆二層型の積層型感光体の場合には積層順が異なるだけで基本的に同様である。
感光体が高感度、高耐久性を有するためには、積層型感光体８０の積層型感光層８４および後述する単層型感光体８１の単層型感光層８５は、負帯電性であるのが好ましい。
【００５８】
（電荷発生層８６）
電荷発生層は、照射された光を吸収することにより電荷を発生する電荷発生能を有する電荷発生物質を主成分とし、任意に公知の添加剤およびバインダー樹脂（結合剤）を含有する。
【００５９】
電荷発生物質としては、当該分野で用いられる化合物を使用できる。
具体的には、アゾ系顔料（カルバゾール骨格、スチリルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベンゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾール骨格またはジスチリルカルバゾール骨格を有する、モノアゾ系顔料、ビスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料など）、ペリレン系顔料（ペリレンイミド、ペリレン酸無水物など）、多環キノン系顔料（キナクリドン、アントラキノン、ピレンキノンなど）、フタロシアニン系顔料（金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、ハロゲン化無金属フタロシアニンなど）、インジゴ系顔料（インジゴ、チオインジゴなど）、スクアリリウム色素、アズレニウム色素、チオピリリウム色素、ピリリウム塩類、トリフェニルメタン系色素などの有機顔料または染料、さらにセレン、非晶質シリコンなどの無機材料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は１種を単独でまたは２種以上を組み合せて使用することができる。これらの中でも、フタロシアニン系顔料、トリスアゾ系顔料は耐久性および高感度を有することから特に好ましい。
【００６０】
電荷発生層は、本発明の好ましい特性が損なわれない範囲内で、化学増感剤、光学増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、分散安定剤、増感剤、レベリング剤、可塑剤、無機化合物もしくは有機化合物の微粒子などから選ばれる１種または２種以上の公知の添加剤を適量含有していてもよい。これらの添加剤は、後述する電荷輸送層に含有されてもよく、電荷発生層および電荷輸送層の両方に含有されてもよい
化学増感剤および光学増感剤は、感光体の感度を向上させ、繰返し使用による残留電位の上昇および疲労などを抑え、電気的耐久性を向上させることができる。
酸化防止剤は、長期にわたって感度安定性を維持させることができる。
レベリング剤および可塑剤は、成膜性、可撓性および表面平滑性を向上させることができる。
無機化合物または有機化合物の微粒子は、機械的強度を増強し、電気特性を向上させることができる。
【００６１】
電荷発生層は、公知の乾式法および湿式法により形成することができる。
乾式法としては、例えば、電荷発生物質を導電性基体の表面に真空蒸着する方法が挙げられる。
湿式法としては、例えば、電荷発生物質、必要に応じて添加剤およびバインダー樹脂を適当な有機溶剤に溶解または分散して電荷発生層形成用塗布液を調製し、この塗布液を導電性基体上に形成された下引層表面に塗布し、次いで乾燥して有機溶剤を除去する方法が挙げられる。
【００６２】
バインダー樹脂は、電荷発生層の機械的強度や耐久性、層間の結着性などを向上させることができ、当該分野で用いられる結着性を有する樹脂を使用できる。
具体的には、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリアミド、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル、ポリアクリルアミド、ポリフェニレンオキサイドなどの熱可塑性樹脂；フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマールなどの熱硬化性樹脂、これらの樹脂の部分架橋物、これらの樹脂に含まれる構成単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂（塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂などの絶縁性樹脂）などが挙げられる。これらのバインダー樹脂は１種を単独でまたは２種以上を組み合せて使用することができる。
電荷発生物質とバインダー樹脂との配合比は特に限定されないが、通常、電荷発生物質が１０〜９９重量％程度である。
【００６３】
有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、ジフェニルメタン、ジメトキシベンゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロプロパンなどのハロゲン化炭化水素；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジベンジルエーテル、ジメトキシメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、イソホロンなどのケトン類；安息香酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジフェニルスルフィドなどの含イオウ溶剤；ヘキサフロオロイソプロパノールなどのフッ素系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性極性溶剤などが挙げられ、これらは単独または混合溶剤として使用できる。また、このような溶剤に、アルコール類、アセトニトリルまたはメチルエチルケトンを加えた混合溶剤を使用することもできる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、非ハロゲン系有機溶剤が好適に用いられる。
【００６４】
バインダー樹脂溶液中に電荷発生物質を分散させる前に、電荷発生物質を予め粉砕機により粉砕処理してもよい。粉砕処理に用いられる粉砕機としては、ボールミル、サンドミル、アトライタ、振動ミルおよび超音波分散機などが挙げられる。
電荷発生物質をバインダ樹脂溶液中に溶解または分散させるために、ペイントシェーカ、ボールミルおよびサンドミルなどの分散機を用いることができる。このとき、容器および分散機を構成する部材から摩耗などによって不純物が発生し、塗布液中に混入しないように、分散条件を適宜設定するのが好ましい。
その他の工程やその条件は、下引層の形成に準ずる。
【００６５】
電荷発生層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは０．０５〜５μｍ、より好ましくは０．１〜１μｍである。電荷発生層の膜厚が０.０５μｍ未満であると、光吸収の効率が低下し、感光体の感度が低下するおそれがある。また、電荷発生層の膜厚が５μｍを超える場合には、電荷発生層内部での電荷移動が感光層表面の電荷を消去する過程の律速段階となり、感光体の感度が低下するおそれがある。
【００６６】
（電荷輸送層８７）
電荷輸送層は、電荷発生物質で発生した電荷を受け入れ、それを輸送する能力を有する電荷輸送物質と、バインダー樹脂（結合剤）とを主成分として含有する。
【００６７】
電荷輸送物質としては、当該分野で用いられる化合物を使用できる。
具体的には、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、ピラゾリン誘導体、フェニルヒドラゾン類、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルアミン系化合物、テトラフェニルジアミン系化合物、トリフェニルメタン系化合物、スチルベン系化合物、３−メチル−２−ベンゾチアゾリン環を有するアジン化合物などの電子供与性物質；
フルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インデノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、インデノピリジン誘導体、チオキサントン誘導体、ベンゾ［ｃ］シンノリン誘導体、フェナジンオキサイド誘導体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノンなどの電子受容性物質
が挙げられる。これらの電荷輸送物質は１種を単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。
【００６８】
バインダー樹脂は、電荷発生層に含まれるものと同様のバインダー樹脂の１種または２種以上を使用できる。
電荷輸送物質の重量Ｅとバインダー樹脂の重量Ｆとの比率Ｅ／Ｆは、１０／１２〜１０／２５が好ましい。
電荷輸送層は、本発明の効果を阻害しない範囲内で必要に応じて、電荷発生層に含まれるものと同様の添加剤を適量含有していてもよい。
【００６９】
電荷輸送層は、電荷輸送物質、バインダー樹脂および必要に応じて他の添加剤を適当な有機溶剤に溶解または分散して電荷輸送層形成用塗布液を調製し、この塗布液を電荷発生層の表面に塗布し、次いで乾燥して有機溶剤を除去することによって形成できる。より具体的には、例えば、バインダー樹脂を有機溶剤に溶解してなる樹脂溶液に電荷輸送物質および必要に応じて他の添加剤を溶解または分散させることにより、電荷輸送層形成用塗布液を調製する。
その他の工程およびその条件は、下引層の形成に準ずる。
【００７０】
電荷輸送層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜４０μｍである。電荷輸送層の膜厚が５μｍ未満であると、帯電保持能が低下するおそれがあり、逆に電荷輸送層の膜厚が５０μｍを超えると、鮮鋭性の低下や残留電位の上昇が発生し、著しく画像劣化が生じるおそれがある。
【００７１】
（単層型感光体８１の単層型感光層８５）
単層型感光層８５は、電荷発生物質８９と、電荷輸送物質９０と、バインダー樹脂（結合剤）とを主成分として含有する。
単層型感光層は、本発明の効果を阻害しない範囲内で必要に応じて、電荷発生層に含まれるものと同様の添加剤を適量含有していてもよい。
【００７２】
単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質および必要に応じて他の添加剤を適当な有機溶剤に溶解および／または分散して単層型感光層形成用塗布液を調製し、この塗布液を導電性基体上に形成された下引層の表面に塗布し、次いで乾燥して有機溶剤を除去することによって形成できる。
その他の工程およびその条件は、下引層の形成に準ずる。
【００７３】
単層型感光層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜４０μｍである。単層型感光層の膜厚が５μｍ未満であると、感光体表面の帯電保持能が低下するおそれがあり、単層型感光層の膜厚が５０μｍを超えると、生産性が低下するおそれがある。
【００７４】
（保護層（図示せず））
本発明の感光体は、積層型感光体８０の積層型感光層８４および単層型感光体８１の単層型感光層８５の表面に保護層（図示せず）を有していてもよい。
保護層は、感光層の摩耗性の改善やオゾン、窒素酸化物などによる化学的悪影響の防止の機能を有する。
【００７５】
保護層は、例えば、適当な有機溶剤にバインダー樹脂、必要に応じて酸化防止剤や紫外線吸収剤などの添加剤、および金属化合物微粒子やポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、フッ素樹脂などの微粒子を溶解または分散させて保護層形成用塗布液を調製し、この保護層形成用塗布液を単層型感光層または積層型感光層の表面に塗布し、乾燥により有機溶剤を除去することによって形成できる。
その他の工程およびその条件は、下引層の形成に準ずる。
【００７６】
保護層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍである。保護層の膜厚が０．５μｍ未満では、感光体表面の耐摩耗性が劣り、耐久性が不十分になるおそれがあり、逆に１０μｍを超えると、感光体の解像度が低下するおそれがある。
【００７７】
以上のような方法によれば、優れた感光特性を有する感光体を歩留まりよく製造することができ、得られた感光体は、複写機やプリンタに好適に用いることができる。
【実施例】
【００７８】
以下に実施例および比較例により本発明の具体例を説明するが、本発明は実施例により限定されるものではない。
【００７９】
（実施例１）
（１）導電性基体の洗浄
前処理液７２の有機溶剤として、液温２５℃のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を満たした前処理槽７１に、直径１２０ｍｍ×長さ３７２ｍｍ×厚さ２ｍｍの円筒状のアルミニウム系金属製（ＪＩＳ Ａ６０６３）の導電性基体１を１分間浸漬し、超音波発振器７３により出力６０ｋＨｚの超音波を印加した（第１洗浄）。
【００８０】
次いで、洗浄液１８として、濃度４．５％に調整し、液温４２℃に加熱した界面活性剤（ライオン株式会社製、製品名：ライオミックスＬ）を含む水溶液を満たした洗浄槽１１に、導電性基体１を２分間浸漬し、超音波発振器１７により出力５０ｋＨｚの超音波を印加した（第２洗浄）。
【００８１】
次いで、濯ぎ用水２５として液温３７℃の純水を満たした第１濯ぎ槽２１、濯ぎ用水３５として純水を満たした第２濯ぎ槽３１および濯ぎ用水４５として純水を満たした第３濯ぎ槽４１に、導電性基体１を２分間ずつ順次浸漬させ（水洗）、最後にクリーン度１００に保持されかつ１００℃に設定された乾燥炉中で導電性基体１を乾燥させた（乾燥）。
【００８２】
（２）下引層の形成
金属酸化物微粒子として酸化チタン（石原産業株式会社製、製品名：ＴＴＯ−ＭＩ−１）３重量部、樹脂材料としてアルコール可溶性ナイロン樹脂（東レ株式会社製、製品名：ＣＭ−８０００）３重量部および溶剤としてメタノール６０重量部と１，３−ジオキソラン４０重量部を、ペイントシェイカで１０時間分散処理することにより、下引層用塗布液３Ｌを調製した。得られた下引層用塗布液を、浸漬塗布法により洗浄済み導電性基体上に成膜して、膜厚１．０μｍの下引層を形成した。
【００８３】
（３）電荷発生層の形成
次に、電荷発生物質として下記構造式（ＶＩ−１）で示されるチタニルフタロシアニン（例えば、特許第３５６９４２２号公報に記載された公知の方法により作製）１５重量部、バインダー樹脂としてブチラール樹脂（積水化学株式会社製、製品名：エスレックＢＭ−２）１０重量部および溶剤として１，３−ジオキソラン１４００重量部を、ボールミルで７２時間分散処理することにより、電荷発生層用塗布液３Ｌを調製した。得られた電荷発生層用塗布液を、浸漬塗布法により導電性基体上に形成した下引層上に成膜して、膜厚０．２μｍとの電荷発生層を形成した。
【００８４】
【化１】
【００８５】
（４）電荷輸送層の形成
次に、電荷輸送物質として下記構造式（Ｉ）で示されるエナミン化合物８重量部、添加剤として下記構造式（II）で示されるジアミン化合物０．２重量部およびバインダー樹脂としてポリカーボネート樹脂（三菱ガス化学株式会社製、製品名：ＰＣＺ４００）１０重量部を、溶剤としてのテトラヒドロフラン８０重量部に溶解させて、電荷輸送層用塗布液３Ｌを調製した。得られた電荷輸送層用塗布液を、浸漬塗布法により先に形成した電荷発生層上に塗布した後、１３０℃で１時間乾燥させて、膜厚３０μｍの電荷輸送層を形成し、実施例１の積層型感光体を作製した。
【００８６】
【化２】
【００８７】
【化３】
【００８８】
（実施例２）
直径１２０ｍｍ×長さ３７２ｍｍ×厚さ２ｍｍの円筒状のアルミニウム系金属製（ＪＩＳ Ａ６０６３）の導電性基体の代わりに、直径８０ｍｍ×長さ３４８ｍｍ×厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム系金属製（ＪＩＳ Ａ６０６３）の導電性基体を用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施例２の積層型感光体を作製した。
【００８９】
（比較例１）
有機溶剤による第１洗浄（前処理）を実施しないこと以外は、実施例１と同様にして比較例１の積層型感光体を作製した。
【００９０】
（実施例３）
有機溶剤としてテトラヒドロフランの代わりにメタノール（Ｍｅ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施例３の積層型感光体を作製した。
【００９１】
（比較例２）
第２洗浄（洗浄槽）における超音波の出力５０ｋＨｚを４５ｋＨｚに設定したこと以外は、実施例１と同様にして比較例２の積層型感光体を作製した。
【００９２】
（実施例４）
第２洗浄（洗浄槽）における超音波の出力５０ｋＨｚを９５ｋＨｚに設定したこと以外は、実施例１と同様にして実施例４の積層型感光体を作製した。
【００９３】
（比較例３）
第２洗浄（洗浄槽）における超音波の出力５０ｋＨｚを１１０ｋＨｚに設定したこと以外は、実施例１と同様にして比較例２の積層型感光体を作製した。
【００９４】
以上のようにして作製した実施例１、３および４ならびに比較例１〜３の積層型感光体（以下「感光体」ともいう）をデジタル複写機（シャープ株式会社製、型式：ＭＸ−８５０）改造機に搭載し、実施例２の感光体をデジタル複写機（シャープ株式会社製、型式：ＭＸ−６５０）改造機に搭載して、画像評価を行った。
各感光体について、白ベタ、黒ベタおよびハーフトーンのサンプル画像を取り、以下の基準により評価し、さらに総合評価を行った。
得られた結果を、洗浄条件および使用した導電性基体の大きさと共に表１に示す。
【００９５】
［白ベタ画像の評価基準］
黒点となって現れるピンホール欠陥数（感光体１本当たりの個数）を計測し、次の基準により評価した。
○： ０個
△： １〜３個
×： ４〜５個
××： ６個以上
【００９６】
［黒ベタ画像の評価基準］
黒ベタでは白点となって現れる洗浄不良（洗浄工程で除去しきれなかった切削粉、粉じん）による欠陥数（感光体１本当たりの個数）を計測し、次の基準により評価した。
○： ０個
△： １〜３個
×： ４〜５個
××： ６個以上
【００９７】
［ハーフトーンの評価基準］
濃度ムラとなって現れる洗浄不良（洗浄工程で除去しきれなかった切削油）による欠陥数（感光体１本当たりの個数）を計測し、次の基準により評価した。
○： ０個
△： １〜２個
×： ３〜４個
××： ５個以上
【００９８】
［総合評価基準］
得られた各評価結果に基づき、次の基準により総合評価した。
各項目（白ベタ画像、黒ベタ画像、フーフトーン）の評価結果において、○を５点、△を４点、×を２点、××を１点とし、合計点数をもって総合評価を行った。
○○： １５点
○： １２点〜１４点
△： １０点〜１１点
×： ８点〜９点
××： ７点以下
感光体評価条件と結果を表１に示す。
【００９９】
【表１】
【０１００】
表１によれば、本発明の製造方法により得られた感光体（実施例１〜４）は、本発明の条件を満たさない製造方法により得られた感光体（比較例１〜３）に比べて、優れた感光特性を有し、これにより本発明によれば、優れた感光特性を有する電子写真感光体を歩留まりよく製造できることがわかる。
【符号の説明】
【０１０１】
１ 導電性基体
２ ロボットハンド
３ レール
１１ 洗浄槽
１２、１３、１９、２７ 配管
１４、２２、３２、４２ ポンプ
１５、２３、３３、４３ フィルター
１６ ヒーター
１７、２４、７３ 超音波発振器
１８ 洗浄液（界面活性剤を含む水溶液）
２１ 第１の濯ぎ槽
３１ 第２の濯ぎ槽
４１ 第３の濯ぎ槽
２５、３５、４５ 濯ぎ用水
２６、３６、４６ 配管
６０ タンク
７１ 前処理槽
７２ 前処理液（有機溶剤）
【０１０２】
８０ 積層型感光体
８１ 単層型感光体
８２ 導電性基体（導電性支持体）
８３ 下引層
８４ 積層型感光層
８５ 単層型感光層
８６ 電荷発生層
８７ 電荷輸送層
８８ バインダー樹脂
８９ 電荷発生物質
９０ 電荷輸送物質
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、複写機やプリンタに用いられる、優れた感光特性を有する電子写真感光体を歩留まりよく製造し得る方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真感光体（以下「感光体」ともいう）は、一般に円筒状の導電性基体上に感光層を積層形成することにより製造される。導電性基体の材料としては、低コストであること、軽量であること、加工が容易であることなどからアルミニウム系金属が広く用いられている。
アルミニウム系金属製の円筒状の導電性基体は、円筒状のアルミニウム系金属の表面を切削することにより成形され、切削加工においては、発生する熱の冷却、潤滑工具の摩耗防止、切削加工を施した導電性基体の面精度向上などのために、切削油として一般に灯油ナフサなどの鉱物油が使用されている。
【０００３】
このようにして加工された導電性基体上に感光層を順次形成して、感光体を得ることになるが、導電性基体表面には、切削時の油分（切削油）や切削粉、空気中（周囲）の粉じんなどが付着しているので、通常、これらの導電性基体表面の付着物を洗浄する。
導電性基体表面に油分や切削粉が残ると、感光層形成の際にハジキやシミの原因になり、均一な感光層が形成できず、感光体の欠陥の原因になる。
【０００４】
導電性基体表面の洗浄方法としては、
（１）有機溶剤または水系洗浄剤などに導電性基体を浸漬する浸漬洗浄、（２）有機溶剤または水系洗浄剤などに導電性基体を浸漬し、超音波を印加する浸漬洗浄、（３）有機溶剤または水系洗浄剤などに導電性基体を浸漬し、ブラシ、スポンジなどによる摩擦で物理的に付着物を除去する接触洗浄、（４）導電性基体に有機溶剤または水系洗浄剤などをシャワーリングしながらブラシ、スポンジなどによる摩擦で物理的に付着物を除去する接触洗浄、（５）導電性基体表面に有機溶剤または水系洗浄剤などをスリットより噴出させるジェット洗浄、（６）導電性基体を有機溶剤または水系洗浄剤などの蒸気中に通過させる蒸気洗浄、およびこれらの組み合わせが挙げられる。
【０００５】
洗浄に用いられる洗浄剤としては、有機溶剤、準水系洗浄剤、水系洗浄剤および純水などが挙げられ、現在では、オゾン層破壊や地球温暖化、大気汚染などの環境問題および人体への悪影響の観点から、塩素系溶剤の削減、全廃の方向に移行しており、水系洗浄剤または純水が主流となっている。
【０００６】
例えば、特開平２−２０１３７３号公報（特許文献１）には、上記（３）に相当する、感光体用の導電性基体を、少なくとも溶剤中においてブラシで洗浄する方法が記載され、特開平２−１９１９６３号公報（特許文献２）には、上記（５）に相当する、特定の研磨剤を用いて導電性基体を湿式ホーニング処理する方法が記載されている。
【０００７】
また、特開平７−１０４４８５号公報（特許文献３）には、上記（２）に相当する、水もしくは界面活性剤水溶液からなる洗浄液により導電性基体を洗浄し、次いで特定の比誘電率を有する水溶性有機溶剤より導電性基体を洗浄する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平２−２０１３７３号公報
【特許文献２】特開平２−１９１９６３号公報
【特許文献３】特開平７−１０４４８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
洗浄剤としての水系洗浄剤や純水は、塩素系溶剤に比べて洗浄力が低く、水系洗浄剤や純水を用いて塩素系溶剤と同等の洗浄力を得るためには、特許文献１および２のように、接触洗浄のような物理的手段に頼らざるを得ない。
しかしながら、接触洗浄などは、確かに洗浄力を高めることができる反面、導電性基体表面にキズをつける可能性が高くなるという欠点がある。
【００１０】
他方、切削加工時に水溶性切削油を用いることで、洗浄効率を高める方法も提案されているが、水溶性切削油は非水溶性切削油に比べて切削加工後の被切削物、ここでは導電性基体の水による腐食が生じ易いという欠点がある。
【００１１】
そこで、非水溶性切削油を用いた導電性基体の洗浄において、接触洗浄に代わり、特許文献３のような、超音波を印加する浸漬洗浄（超音波洗浄）が用いられるようになってきた。
超音波洗浄とは、超音波により発生したキャビテーションの衝撃力により、導電性基体表面の油分や切削粉、空気中の粉じんを除去する方法である。
キャビテーションの衝撃力は、一般的に、超音波の周波数が小さいほど大きくなり、逆に周波数が大きくなるほど小さくなることが知られている。
したがって、洗浄力を高めるためには、超音波によるキャビテーション衝撃力を大きくする、つまり低周波数で超音波を印加する、または長時間超音波を印加する必要がある。
【００１２】
しかしながら、アルミニウム系金属は比較的機械的衝撃に弱く、キャビテーションによる衝撃力が強いと、ダメージを受けることになる。
また、長時間超音波を印加すると、エロージョンと呼ばれる腐食が起こり、導電性基体表面にピンホールと呼ばれる微細な穴が生じさせることになる。
特に被洗浄物が大型で重量が大きい場合には、被洗浄物自体が超音波を吸収し、十分な洗浄力を得ることが困難になる。
そこで、高い洗浄力を得るために、超音波を低周波数にする、あるいは長時間超音波を印加すると、上記のように導電性基体自体を痛めることになる。
【００１３】
本発明は、超音波の周波数を小さくすることなしに短時間で高い洗浄力をもって導電性基体を洗浄し、その上に感光層を形成して、優れた感光特性を有する感光体を歩留まりよく製造し得る感光体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、感光体用のアルミニウム系金属製の導電性基体の洗浄工程において、水系洗浄剤中で超音波洗浄を行う前に、有機溶剤を用いた超音波洗浄（前処理）を行うことにより、導電性基体の表面に付着した切削油や切削粉を除去し易くなることを意外にも見出し、本発明を完成するに至った。
【００１５】
かくして、本発明によれば、アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いで前記導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いでさらに水洗および乾燥して、前記導電性基体を洗浄する工程、および洗浄された導電性基体上に感光層を形成する工程を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、超音波の周波数を小さくすることなしに短時間で高い洗浄力をもって導電性基体を洗浄し、その上に感光層を形成して、優れた感光特性を有する感光体を歩留まりよく製造し得る感光体の製造方法を提供することができる。
導電性基体の表面に付着する除去対象の汚れは、切削時の油分（切削油）や切削粉、空気中の粉じんである。切削粉や粉じんは、導電性基体上に付着した切削油を介して付着しているので、導電性基体上の切削油を除去できれば、切削粉や粉じんも除去できる。
有機溶剤は一般に水系洗浄剤に比べて脱脂力が高く、有機溶剤および界面活性剤を含む水溶液の順に導電性基体を浸漬し、超音波を印加（超音波洗浄）することにより、高い洗浄力をもって導電性基体を洗浄できたものと推察される。
【００１７】
本発明によれば、有機溶剤がテトラヒドロフラン、メタノール、エタノールまたはイソプロピルアルコールである場合に、特に有機溶剤がテトラヒドロフランである場合に、上記の効果がさらに発揮される。
また、本発明によれば、界面活性剤がアルキルグリコシドのような低分子系、ポリエチレングリコールやポリビニルアルコールのような高分子系から選択されるノニオン系界面活性剤およびカルボン酸、スルホン酸、リン酸構造を持つ物質を含むアニオン系界面活性剤である場合に、界面活性剤を含む水溶液が濃度０．５〜３０重量％の界面活性剤を含む場合に、界面活性剤を含む水溶液が液温３０〜６０℃に加熱されてなる場合に、上記の効果がさらに発揮される。
【００１８】
本発明によれば、超音波が０．５〜１０分間印加される場合に、導電性基体が直径８０〜１５０ｍｍの円筒状である場合に、上記の効果がさらに発揮される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の感光体の製造方法における導電性基体の洗浄工程に用いられる装置の概略図である。
【図２】本発明の感光体の製造方法において製造される積層型感光体（ａ）および単層型感光体（ｂ）の要部の構成を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の感光体の製造方法は、
アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いで導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いでさらに水洗および乾燥して、導電性基体を洗浄する工程、および
洗浄された導電性基体上に感光層を形成する工程
を含むことを特徴とする。
本発明の感光体の製造方法は、上記のように導電性基体の洗浄工程と導電性基体上への感光層の形成工程に分けられ、以下、これらの各工程について具体的に説明する。
【００２１】
（Ａ）導電性基体の洗浄工程
洗浄工程は、アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し（第１洗浄）、次いで導電性基体を界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し（第２洗浄）、次いで導電性基体を水洗および乾燥することからなり、大きく洗浄、水洗（リンス）および乾燥に分けられる。
【００２２】
（導電性基体）
導電性基体は、アルミニウム系金属製であり、例えば、単結晶ダイヤモンド焼結体からなるバイトにより円筒状のアルミニウム系金属の表面を切削加工することにより製造される。例えば、導電性基体の表面にミスト状にした切削油を吹きつけながら、バイトで切削する。切削油をミスト状にすることで、切削時に発生した切削粉や環境異物の頑強な付着を防止する。しかしながら、これらの付着を完全に防止できず、残った付着物を本発明の方法で除去する。
また、切削加工において切削油を用いることにより、導電性基体の表面が切削油で被覆され、均一な酸化膜が形成されるため、導電性基体の表面が安定化し、その腐食が防止できる。このような切削油の被膜は、切削後に長期間導電性基体が放置されても、本発明の方法の洗浄工程で容易に除去することができる。
【００２３】
アルミニウム系金属とは、純アルミニウムおよび所定量のマンガンやマグネシウムなどの金属を含有する合金を意味し、例えば、ＪＩＳ規格されているＡ１０７０、Ａ１１００、Ａ３００３、Ａ５００５、Ａ５８０５およびＡ６００３などが挙げられる。
導電性基体の形状としては、シート状、円筒状、円柱状、無端ベルト（シームレスベルトまたはエンドレスシートベルト）状などが挙げられ、これらの中でも、複合機に搭載した際に駆動が容易である、また強度の面から円筒状が好ましい。なお、円筒状の導電性基体を素管ともいう。
【００２４】
（第１洗浄：有機溶剤による洗浄）
第１洗浄は、アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加することからなる。
有機溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、ジフェニルメタン、ジメトキシベンゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム（トリクロロメタン）、1,1,1-トリクロロエタン（メチルクロロホルム）、トリクロロエチレン（トリクレン）、パークロロエチレン（四塩化エチレン）、テトラクロロプロパンなどのハロゲン化炭化水素；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジベンジルエーテル、ジメトキシメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、イソホロンなどのケトン類；安息香酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジフェニルスルフィドなどの含イオウ溶剤；フロン１１２（1,1,2,2-テトラクロロ-1,2-ジフルオロエタン）、フロン１１３（1,1,2-トリフルオロトリクロロエタン）、ヘキサフロオロイソプロパノールなどのフッ素系溶剤；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性極性溶剤などが挙げられ、これらは単独または混合溶剤として使用できる。
【００２５】
ハロゲン化炭化水素（特に塩素系溶剤）およびフッ素系溶剤は高い脱脂力を有するものの、近年の環境問題の配慮から、その使用は好ましくない。したがって、上記の有機溶剤の中でも、非塩素系溶剤および非フッ素系溶剤が好ましく、比較的脱脂力に優れるテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールが好ましく、テトラヒドロフラン、メタノールがさらに好ましく、テトラヒドロフランが特に好ましい。
【００２６】
印加する超音波は、出力（周波数）５０〜１００ｋＨｚであり、本発明の優れた効果が発現され易いことから、６０〜８０ｋＨｚが特に好ましい。
超音波の出力が５０ｋＨｚ未満では、衝撃が強過ぎるために、導電性基体の表面がダメージを受けて傷付くことがある。一方、超音波の出力が１００ｋＨｚを超えると、衝撃が弱過ぎるために、十分な洗浄効果が得られないことがある。
【００２７】
超音波は、洗浄対象の状態、超音波の出力などにもよるが、０．５〜１０分間印加されるのが好ましい。
超音波の印加時間が０．５分未満では、衝撃が弱過ぎるために、十分な洗浄効果が得られないことがある。一方、超音波の印加時間が１０分を超えると、衝撃が強過ぎるために、導電性基体の表面がダメージを受けて傷付くことがある。
また、洗浄力を高めるために、洗浄時には洗浄液の有機溶剤を適宜加熱してもよい。加熱温度は用いる有機溶剤の種類などにもよるが２５〜４０℃程度である。
【００２８】
（第２洗浄：界面活性剤を含む水溶液による洗浄）
第２洗浄は、導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加することからなる。
ノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤は、導電性基体のアルミニウム系金属を腐食させ難いことから好ましい。
界面活性剤は、第１洗浄で除去されずに導電性基体の表面に残った切削油や粉塵などをミセル化して包み込み、除去するものと考えられる。
【００２９】
ノニオン系界面活性剤としては、
ポリオキシエチレンアルキルおよびアルキルフェニルエーテル、アルキルアリルホルムアルデヒド縮合ポリオキシエチレンエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシプロピルアルキルエーテルのようなエーテル型；
グリセリンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ソルビタンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ソルビトールエステルのポリオキシエチレンエーテルのようなエーテルエステル型；
ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ポリグリセリンエステル、ソルビタンエステル、プロピレングリコールエステル、ショ糖エステルのようなエステル型；および
脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミンのような含窒素型
の界面活性剤が挙げられる。
【００３０】
アニオン系界面活性剤としては、
石けん、Ｎ−アシルアミノ酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸塩、アシル化ペプチドのようなカルボン酸塩；
アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンまたはアルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩−ホルマリン重縮合物、スルホコハク酸塩、ｏ−オレフィンスルホン酸塩、Ｎ−アシルスルホン酸塩のようなスルホン酸塩；
硫酸化油、アルキル硫酸塩、アルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、アルキルアミド硫酸塩のような硫酸エステル塩；および
アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルリン酸塩のようなリン酸エステル塩
の界面活性剤が挙げられる。
【００３１】
界面活性剤を含む水溶液は、ｐＨ６．０〜９．０を有するのが好ましく、より好ましくはｐＨ６．５〜８．０である。
ｐＨが上記の範囲であれば、アルミニウム系金属製の導電性基体の表面を腐食する水酸化物、酸化物、水和物の生成が抑制され、またこれらの反応生成物によって濡れ性などの物理特性の変化が生じることがないので、感光層の塗工形成の際にハジキ、シミ、塗布ヌケなどの塗布欠陥の発生を抑制できる。
【００３２】
具体的には、次のような界面活性剤が好適に用いられる。
ヘンケル白水株式会社製、製品名：Ｔ−１８０
ライオン株式会社製、製品名：ＦＭ−１０
ライオン株式会社製、製品名：ＦＭ−２０
ライオン株式会社製、製品名：ライオミックスＬ
ライオン株式会社製、製品名：ライオミックスＨ
ケミックス株式会社製、製品名：ＣＡ０１
花王株式会社製、製品名：クリンスルー７５０Ｌ
【００３３】
界面活性剤を含む水溶液は、濃度０．５〜３０重量％の界面活性剤を含むのが好ましい。界面活性剤の濃度が０．５重量％未満では、十分な洗浄効果が得られないことがある。一方、界面活性剤の濃度が３０重量％を超えると、画像欠陥が生じることがある。より好ましい界面活性剤の濃度は４〜１５重量％である。
【００３４】
界面活性剤を含む水溶液は、洗浄力を向上させるために、本発明の効果を阻害しない範囲で洗浄助剤を含んでいてもよい。
洗浄助剤としては、例えば、炭酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、硫酸ナトリウムなどの無機化合物、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、有機アミンなどの有機化合物が挙げられる。
洗浄助剤の配合量は、洗浄助剤の種類や所望する洗浄効果などにより適宜設定すればよい。
【００３５】
印加する超音波は、第１洗浄と同様に、出力（周波数）５０〜１００ｋＨｚであり、本発明の優れた効果が発現され易いことから、６０〜８０ｋＨｚが特に好ましい。
第２洗浄の界面活性剤を含む水溶液は、第１洗浄の有機溶剤に比べて、洗浄力および脱脂力に劣るため、第２洗浄において印加する超音波は、上記の範囲内で第１洗浄時よりも低く設定するのが好ましい。
【００３６】
また、洗浄力を高めるために、洗浄時には洗浄液の界面活性剤を含む水溶液を適宜加熱してもよい。
加熱温度（界面活性剤を含む水溶液の液温）は、用いる界面活性剤の種類などにもよるが３０〜６０℃程度、例えば後述する実施例のように４２℃である。
【００３７】
（水洗：リンス）
次いで、公知の方法により、導電性基体の表面に付着する洗浄剤を洗い流す。例えば、洗浄された導電性基体を市水または純水に浸漬して水洗する。
ここでの洗浄効率を高めるために、導電性基体を複数の水槽に順次浸漬させてもよく、また加熱してもよい。加熱温度は２５〜４０℃程度である。
【００３８】
（乾燥）
次いで、公知の方法により、導電性基体を乾燥させる。例えば、水洗された導電性基体を、クリーン度１００に保持されかつ１００℃に設定された乾燥炉中に保持する。
【００３９】
（装置）
図１は、本発明の感光体の製造方法における導電性基体の洗浄工程に用いられる装置の概略図である。本発明の製造方法は、当該技術分野の製造ラインにおいて既設の装置を転用することができ、図１の装置もその一例であり、これにより本発明が限定されるものではない。
【００４０】
切削加工された導電性基体１は、レール３に配置されたロボットハンド２に支持され、順次各洗浄槽に移動される。
前処理槽７１は、第１洗浄のための前処理液７２として有機溶剤で満たされ、その底部には超音波発振器７３が備えられている。
【００４１】
洗浄槽１１は、第２洗浄のための洗浄液１８として界面活性剤を含む水溶液で満たされ、加熱用のヒーター１６および超音波発振器１７が備えられ、洗浄液１８中の切削粉やダストを捕捉するために洗浄液１８をろ過循環させるための配管１９、ポンプ１４およびフィルター１５が備えられている。
加熱用のヒーター１６は、洗浄液１８を所定の温度、例えば３０〜６０℃（具体的には４２℃）に加熱し、超音波発振器１７は、導電性基体１の浸漬時に所定の出力（周波数）の超音波を印加（発振）する。
洗浄槽１１には、配管１２を通じて定常的に洗浄液１８がタンク（図示せず）から供給され、導電性基体１の浸漬によりオーバーフローした洗浄液１８は配管１３を通じて排出され、廃液処理装置（図示せず）で処理される。
【００４２】
第１の濯ぎ槽２１は、水洗（リンス）のための濯ぎ用水２５として純水で満たされ、超音波発振器２４が備えられ、濯ぎ用水２５中の切削粉やダストを捕捉するために濯ぎ用水２５をろ過循環させる配管２６、ポンプ２２およびフィルター２３が備えられている。
【００４３】
第２の濯ぎ槽３１は、水洗（リンス）のための濯ぎ用水３５として純水で満たされ、濯ぎ用水３５中の切削粉やダストを捕捉するために濯ぎ用水３５をろ過循環させるための配管３６、ポンプ３２およびフィルター３３が備えられている。
第３の濯ぎ槽４１は、水洗（リンス）のための濯ぎ用水４５として純水で満たされ、濯ぎ用水４５中の切削粉やダストを捕捉するために濯ぎ用水４５をろ過循環させるための配管４６、ポンプ４２およびフィルター４３が備えられている。
【００４４】
第１の濯ぎ槽２１、第２の濯ぎ槽３１および第３の濯ぎ槽４１にも、洗浄槽１１と同様に、超音波発振器２４が備えられていてもよい。
濯ぎ用水２５、３５および４５の純水は、タンク６０から第３の濯ぎ槽４１に供給され、オーバーフローにより第２の濯ぎ槽３１に、次いで第１の濯ぎ槽２１に供給され、配管２７から排出され、廃液処理装置（図示せず）で処理される。
【００４５】
（Ｂ）感光層の形成工程
形成工程は、公知の材料を用いて公知の方法により、洗浄された導電性基体上に感光層を形成する。
図２は、本発明の感光体の製造方法において製造される積層型感光体（ａ）および単層型感光体（ｂ）の要部の構成を示す模式断面図である。この図に示される感光体は一例であり、これにより本発明が限定されるものではない。
以下、図２を用いて感光層の形成工程について具体的に説明する。
【００４６】
図２（ａ）は、感光層が電荷発生層と電荷輸送層とがこの順で積層された積層型感光層（「機能分離型感光層」ともいう）である積層型感光体（「機能分離型感光体」ともいう）の要部の構成を示す模式断面図である。
図２（ｂ）は、感光層が一層からなる単層型感光層である単層型感光体の要部の構成を示す模式断面図である。
図２（ａ）の積層型感光層は電荷発生層と電荷輸送層とが逆順であってもよいが、図２（ａ）の順に形成された積層型感光層が好ましい。
【００４７】
図２（ａ）の積層型感光体８０は、導電性基体８２の表面に、下引層８３と、電荷発生物質８９を含有する電荷発生層８６と電荷輸送物質９０を含有する電荷輸送層８７とがこの順で積層された積層型感光層８４がこの順で形成されている。
図２（ｂ）の単層型感光体８１は、導電性基体８２の表面に、下引層８３と、電荷発生物質８９と電荷輸送物質９０とを含有する単層型感光層８５がこの順で形成されている。
図２における図番８８はバインダー樹脂を示す。
【００４８】
（導電性基体８２）
導電性基体は、感光体の電極としての役割を果たすとともに、他の各層の支持部材としても機能し、本発明においては前工程で洗浄された導電性基体が用いられる。
導電性基体の表面には、必要に応じて、画質に影響のない範囲内で、陽極酸化皮膜処理、薬品、熱水などによる表面処理、着色処理、表面を粗面化するなどの乱反射処理が施されていてもよい。
【００４９】
乱反射処理は、レーザを露光光源として用いる電子写真プロセスにおいて本発明による感光体を用いる場合に特に有効である。すなわち、レーザを露光光源として用いる電子写真プロセスでは、レーザ光の波長が揃っているので、感光体の表面で反射されたレーザ光と感光体の内部で反射されたレーザ光とが干渉を起こし、この干渉による干渉縞が画像に現れて画像欠陥の発生することがある。そこで、導電性基体の表面に乱反射処理を施すことにより、波長の揃ったレーザ光の干渉による画像欠陥を防止することができる。
【００５０】
（下引層（「中間層」ともいう）８３）
本発明の感光体は、導電性基体と感光層との間に下引層を有するのが好ましい。
下引層は、導電性基体から単層型感光層または積層型感光層への電荷の注入を防止する（ホール注入に対して障壁となる）機能を有する。すなわち、単層型感光層または積層型感光層の帯電性の低下が抑制され、露光によって消去されるべき部分以外の表面電荷の減少が抑えられ、かぶりなどの画像欠陥の発生が防止される。特に、反転現像プロセスによる画像形成の際に、白地部分にトナーからなる微小な黒点が形成される黒ポチと呼ばれる画像かぶりが発生するのが防止される。
また、導電性基体の表面を被覆する下引層は、導電性基体の表面の欠陥である凹凸の度合を軽減して表面を均一化し、単層型感光層または積層型感光層の成膜性を高め、導電性基体と単層型感光層または積層型感光層との密着性（接着性）を向上させることができる。
【００５１】
下引層８３は、例えば、樹脂材料を適当な溶剤に溶解させて下引層用塗布液を調製し、この塗布液を導電性基体８２の表面に塗布し、乾燥により有機溶剤を除去することによって形成できる。
【００５２】
樹脂材料としては、後述する感光層に含まれるものと同様のバインダー樹脂に加えて、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロースなどの天然高分子材料などが挙げられ、これらの１種または２種以上を使用できる。これらの樹脂の中でも、ポリアミド樹脂が好ましく、特にアルコール可溶性ナイロン樹脂が特に好ましい。
【００５３】
樹脂材料を溶解または分散させる溶剤としては、例えば、水、メタノール、エタノール、ブタノールなどのアルコール類、メチルカルビトール、ブチルカルビトールなどのグライム類、ジクロロエタン、クロロホルムもしくはトリクロロエタンなどの塩素系溶剤、アセトン、ジオキソラン、これらの溶剤を２種以上混合した混合溶剤などが挙げられる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、非ハロゲン系有機溶剤が好適に用いられる。
【００５４】
また、下引層用塗布液は、金属酸化物粒子を含んでいてもよい。
金属酸化物粒子は、下引層の体積抵抗値を容易に調節でき、感光層への電荷の注入をさらに抑制できると共に、各種環境下において感光体の電気特性を維持できる。
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化スズなどが挙げられる。
下引層用塗布液におけるバインダー樹脂と金属酸化物粒子との合計重量Ａと溶剤の重量Ｂとの比率（Ａ／Ｂ）は、１／９９〜４０／６０が好ましい。
また、バインダー樹脂の重量Ｃと金属酸化物粒子の重量Ｄとの比率Ｃ／Ｄは、９０／１０〜１／９９が好ましい。
【００５５】
下引層用塗布液の塗布方法は、塗布液の物性および生産性などを考慮に入れて最適な方法を適宜選択すればよく、例えば、ディップコート法、スプレー法、ノズル法、バーコート法、ロールコート法、ブレード法、リング法および浸漬塗布法などが挙げられる。
これらの塗布方法の中でも、浸漬塗布法は、塗布液を満たした塗工槽に基体を浸漬した後、一定速度または逐次変化する速度で引上げることによって基体の表面に層を形成する方法であり、比較的簡単で、生産性および原価の点で優れているので、感光体の製造に好適に用いることができる。浸漬塗布法に用いる装置には、塗布液の分散性を安定させるために、超音波発生装置に代表される塗布液分散装置が設けられていてもよい。
塗膜の乾燥工程における温度は、使用した有機溶剤を除去し得る温度であれば特に限定されないが、５０〜１４０℃が適当である。
このような感光層の製造における温度条件は、下引層のみならず後述する感光層などの層形成や他の処理においても共通する。
【００５６】
下引層の膜厚は特に限定されないが、０.０１〜２０μｍが好ましく、０.０５〜１０μｍが特に好ましい。
下引層の膜厚が０．０１μｍ未満では、下引層として実質的に機能しなくなり、導電性基体の欠陥を被覆して均一な表面性を得ることができず、導電性基体からの感光層への電荷の注入を防止することができなくなるおそれがある。一方、下引層の膜厚が２０μｍを超えると、均一な下引層を形成し難く、また感光体の感度も低下するおそれがある。
なお、本発明では導電性基体の構成材料がアルミニウムであり、その表面にアルマイトを含む層（アルマイト層）を形成し、下引層としてもよい。
【００５７】
（積層型感光体８０の積層型感光層８４）
積層型感光体８０の積層型感光層８４は、電荷発生層８６と電荷輸送層８７とからなる。このように電荷発生機能と電荷輸送機能とを別々の層に担わせることにより、各層を構成する最適な材料を独立して選択することができる。
以下の説明では、電荷発生層と電荷輸送層とがこの順で積層された積層型感光体（図２（ａ））について説明するが、逆二層型の積層型感光体の場合には積層順が異なるだけで基本的に同様である。
感光体が高感度、高耐久性を有するためには、積層型感光体８０の積層型感光層８４および後述する単層型感光体８１の単層型感光層８５は、負帯電性であるのが好ましい。
【００５８】
（電荷発生層８６）
電荷発生層は、照射された光を吸収することにより電荷を発生する電荷発生能を有する電荷発生物質を主成分とし、任意に公知の添加剤およびバインダー樹脂（結合剤）を含有する。
【００５９】
電荷発生物質としては、当該分野で用いられる化合物を使用できる。
具体的には、アゾ系顔料（カルバゾール骨格、スチリルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベンゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾール骨格またはジスチリルカルバゾール骨格を有する、モノアゾ系顔料、ビスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料など）、ペリレン系顔料（ペリレンイミド、ペリレン酸無水物など）、多環キノン系顔料（キナクリドン、アントラキノン、ピレンキノンなど）、フタロシアニン系顔料（金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、ハロゲン化無金属フタロシアニンなど）、インジゴ系顔料（インジゴ、チオインジゴなど）、スクアリリウム色素、アズレニウム色素、チオピリリウム色素、ピリリウム塩類、トリフェニルメタン系色素などの有機顔料または染料、さらにセレン、非晶質シリコンなどの無機材料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は１種を単独でまたは２種以上を組み合せて使用することができる。これらの中でも、フタロシアニン系顔料、トリスアゾ系顔料は耐久性および高感度を有することから特に好ましい。
【００６０】
電荷発生層は、本発明の好ましい特性が損なわれない範囲内で、化学増感剤、光学増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、分散安定剤、増感剤、レベリング剤、可塑剤、無機化合物もしくは有機化合物の微粒子などから選ばれる１種または２種以上の公知の添加剤を適量含有していてもよい。これらの添加剤は、後述する電荷輸送層に含有されてもよく、電荷発生層および電荷輸送層の両方に含有されてもよい
化学増感剤および光学増感剤は、感光体の感度を向上させ、繰返し使用による残留電位の上昇および疲労などを抑え、電気的耐久性を向上させることができる。
酸化防止剤は、長期にわたって感度安定性を維持させることができる。
レベリング剤および可塑剤は、成膜性、可撓性および表面平滑性を向上させることができる。
無機化合物または有機化合物の微粒子は、機械的強度を増強し、電気特性を向上させることができる。
【００６１】
電荷発生層は、公知の乾式法および湿式法により形成することができる。
乾式法としては、例えば、電荷発生物質を導電性基体の表面に真空蒸着する方法が挙げられる。
湿式法としては、例えば、電荷発生物質、必要に応じて添加剤およびバインダー樹脂を適当な有機溶剤に溶解または分散して電荷発生層形成用塗布液を調製し、この塗布液を導電性基体上に形成された下引層表面に塗布し、次いで乾燥して有機溶剤を除去する方法が挙げられる。
【００６２】
バインダー樹脂は、電荷発生層の機械的強度や耐久性、層間の結着性などを向上させることができ、当該分野で用いられる結着性を有する樹脂を使用できる。
具体的には、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリアミド、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル、ポリアクリルアミド、ポリフェニレンオキサイドなどの熱可塑性樹脂；フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマールなどの熱硬化性樹脂、これらの樹脂の部分架橋物、これらの樹脂に含まれる構成単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂（塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂などの絶縁性樹脂）などが挙げられる。これらのバインダー樹脂は１種を単独でまたは２種以上を組み合せて使用することができる。
電荷発生物質とバインダー樹脂との配合比は特に限定されないが、通常、電荷発生物質が１０〜９９重量％程度である。
【００６３】
有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、ジフェニルメタン、ジメトキシベンゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロプロパンなどのハロゲン化炭化水素；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジベンジルエーテル、ジメトキシメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、イソホロンなどのケトン類；安息香酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジフェニルスルフィドなどの含イオウ溶剤；ヘキサフロオロイソプロパノールなどのフッ素系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性極性溶剤などが挙げられ、これらは単独または混合溶剤として使用できる。また、このような溶剤に、アルコール類、アセトニトリルまたはメチルエチルケトンを加えた混合溶剤を使用することもできる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、非ハロゲン系有機溶剤が好適に用いられる。
【００６４】
バインダー樹脂溶液中に電荷発生物質を分散させる前に、電荷発生物質を予め粉砕機により粉砕処理してもよい。粉砕処理に用いられる粉砕機としては、ボールミル、サンドミル、アトライタ、振動ミルおよび超音波分散機などが挙げられる。
電荷発生物質をバインダ樹脂溶液中に溶解または分散させるために、ペイントシェーカ、ボールミルおよびサンドミルなどの分散機を用いることができる。このとき、容器および分散機を構成する部材から摩耗などによって不純物が発生し、塗布液中に混入しないように、分散条件を適宜設定するのが好ましい。
その他の工程やその条件は、下引層の形成に準ずる。
【００６５】
電荷発生層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは０．０５〜５μｍ、より好ましくは０．１〜１μｍである。電荷発生層の膜厚が０.０５μｍ未満であると、光吸収の効率が低下し、感光体の感度が低下するおそれがある。また、電荷発生層の膜厚が５μｍを超える場合には、電荷発生層内部での電荷移動が感光層表面の電荷を消去する過程の律速段階となり、感光体の感度が低下するおそれがある。
【００６６】
（電荷輸送層８７）
電荷輸送層は、電荷発生物質で発生した電荷を受け入れ、それを輸送する能力を有する電荷輸送物質と、バインダー樹脂（結合剤）とを主成分として含有する。
【００６７】
電荷輸送物質としては、当該分野で用いられる化合物を使用できる。
具体的には、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、ピラゾリン誘導体、フェニルヒドラゾン類、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルアミン系化合物、テトラフェニルジアミン系化合物、トリフェニルメタン系化合物、スチルベン系化合物、３−メチル−２−ベンゾチアゾリン環を有するアジン化合物などの電子供与性物質；
フルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インデノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、インデノピリジン誘導体、チオキサントン誘導体、ベンゾ［ｃ］シンノリン誘導体、フェナジンオキサイド誘導体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノンなどの電子受容性物質
が挙げられる。これらの電荷輸送物質は１種を単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。
【００６８】
バインダー樹脂は、電荷発生層に含まれるものと同様のバインダー樹脂の１種または２種以上を使用できる。
電荷輸送物質の重量Ｅとバインダー樹脂の重量Ｆとの比率Ｅ／Ｆは、１０／１２〜１０／２５が好ましい。
電荷輸送層は、本発明の効果を阻害しない範囲内で必要に応じて、電荷発生層に含まれるものと同様の添加剤を適量含有していてもよい。
【００６９】
電荷輸送層は、電荷輸送物質、バインダー樹脂および必要に応じて他の添加剤を適当な有機溶剤に溶解または分散して電荷輸送層形成用塗布液を調製し、この塗布液を電荷発生層の表面に塗布し、次いで乾燥して有機溶剤を除去することによって形成できる。より具体的には、例えば、バインダー樹脂を有機溶剤に溶解してなる樹脂溶液に電荷輸送物質および必要に応じて他の添加剤を溶解または分散させることにより、電荷輸送層形成用塗布液を調製する。
その他の工程およびその条件は、下引層の形成に準ずる。
【００７０】
電荷輸送層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜４０μｍである。電荷輸送層の膜厚が５μｍ未満であると、帯電保持能が低下するおそれがあり、逆に電荷輸送層の膜厚が５０μｍを超えると、鮮鋭性の低下や残留電位の上昇が発生し、著しく画像劣化が生じるおそれがある。
【００７１】
（単層型感光体８１の単層型感光層８５）
単層型感光層８５は、電荷発生物質８９と、電荷輸送物質９０と、バインダー樹脂（結合剤）とを主成分として含有する。
単層型感光層は、本発明の効果を阻害しない範囲内で必要に応じて、電荷発生層に含まれるものと同様の添加剤を適量含有していてもよい。
【００７２】
単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質および必要に応じて他の添加剤を適当な有機溶剤に溶解および／または分散して単層型感光層形成用塗布液を調製し、この塗布液を導電性基体上に形成された下引層の表面に塗布し、次いで乾燥して有機溶剤を除去することによって形成できる。
その他の工程およびその条件は、下引層の形成に準ずる。
【００７３】
単層型感光層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜４０μｍである。単層型感光層の膜厚が５μｍ未満であると、感光体表面の帯電保持能が低下するおそれがあり、単層型感光層の膜厚が５０μｍを超えると、生産性が低下するおそれがある。
【００７４】
（保護層（図示せず））
本発明の感光体は、積層型感光体８０の積層型感光層８４および単層型感光体８１の単層型感光層８５の表面に保護層（図示せず）を有していてもよい。
保護層は、感光層の摩耗性の改善やオゾン、窒素酸化物などによる化学的悪影響の防止の機能を有する。
【００７５】
保護層は、例えば、適当な有機溶剤にバインダー樹脂、必要に応じて酸化防止剤や紫外線吸収剤などの添加剤、および金属化合物微粒子やポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、フッ素樹脂などの微粒子を溶解または分散させて保護層形成用塗布液を調製し、この保護層形成用塗布液を単層型感光層または積層型感光層の表面に塗布し、乾燥により有機溶剤を除去することによって形成できる。
その他の工程およびその条件は、下引層の形成に準ずる。
【００７６】
保護層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍである。保護層の膜厚が０．５μｍ未満では、感光体表面の耐摩耗性が劣り、耐久性が不十分になるおそれがあり、逆に１０μｍを超えると、感光体の解像度が低下するおそれがある。
【００７７】
以上のような方法によれば、優れた感光特性を有する感光体を歩留まりよく製造することができ、得られた感光体は、複写機やプリンタに好適に用いることができる。
【実施例】
【００７８】
以下に実施例および比較例により本発明の具体例を説明するが、本発明は実施例により限定されるものではない。
【００７９】
（実施例１）
（１）導電性基体の洗浄
前処理液７２の有機溶剤として、液温２５℃のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を満たした前処理槽７１に、直径１２０ｍｍ×長さ３７２ｍｍ×厚さ２ｍｍの円筒状のアルミニウム系金属製（ＪＩＳ Ａ６０６３）の導電性基体１を１分間浸漬し、超音波発振器７３により出力６０ｋＨｚの超音波を印加した（第１洗浄）。
【００８０】
次いで、洗浄液１８として、濃度４．５％に調整し、液温４２℃に加熱した界面活性剤（ライオン株式会社製、製品名：ライオミックスＬ）を含む水溶液を満たした洗浄槽１１に、導電性基体１を２分間浸漬し、超音波発振器１７により出力５０ｋＨｚの超音波を印加した（第２洗浄）。
【００８１】
次いで、濯ぎ用水２５として液温３７℃の純水を満たした第１濯ぎ槽２１、濯ぎ用水３５として純水を満たした第２濯ぎ槽３１および濯ぎ用水４５として純水を満たした第３濯ぎ槽４１に、導電性基体１を２分間ずつ順次浸漬させ（水洗）、最後にクリーン度１００に保持されかつ１００℃に設定された乾燥炉中で導電性基体１を乾燥させた（乾燥）。
【００８２】
（２）下引層の形成
金属酸化物微粒子として酸化チタン（石原産業株式会社製、製品名：ＴＴＯ−ＭＩ−１）３重量部、樹脂材料としてアルコール可溶性ナイロン樹脂（東レ株式会社製、製品名：ＣＭ−８０００）３重量部および溶剤としてメタノール６０重量部と１，３−ジオキソラン４０重量部を、ペイントシェイカで１０時間分散処理することにより、下引層用塗布液３Ｌを調製した。得られた下引層用塗布液を、浸漬塗布法により洗浄済み導電性基体上に成膜して、膜厚１．０μｍの下引層を形成した。
【００８３】
（３）電荷発生層の形成
次に、電荷発生物質として下記構造式（ＶＩ−１）で示されるチタニルフタロシアニン（例えば、特許第３５６９４２２号公報に記載された公知の方法により作製）１５重量部、バインダー樹脂としてブチラール樹脂（積水化学株式会社製、製品名：エスレックＢＭ−２）１０重量部および溶剤として１，３−ジオキソラン１４００重量部を、ボールミルで７２時間分散処理することにより、電荷発生層用塗布液３Ｌを調製した。得られた電荷発生層用塗布液を、浸漬塗布法により導電性基体上に形成した下引層上に成膜して、膜厚０．２μｍとの電荷発生層を形成した。
【００８４】
【化１】
【００８５】
（４）電荷輸送層の形成
次に、電荷輸送物質として下記構造式（Ｉ）で示されるエナミン化合物８重量部、添加剤として下記構造式（II）で示されるジアミン化合物０．２重量部およびバインダー樹脂としてポリカーボネート樹脂（三菱ガス化学株式会社製、製品名：ＰＣＺ４００）１０重量部を、溶剤としてのテトラヒドロフラン８０重量部に溶解させて、電荷輸送層用塗布液３Ｌを調製した。得られた電荷輸送層用塗布液を、浸漬塗布法により先に形成した電荷発生層上に塗布した後、１３０℃で１時間乾燥させて、膜厚３０μｍの電荷輸送層を形成し、実施例１の積層型感光体を作製した。
【００８６】
【化２】
【００８７】
【化３】
【００８８】
（実施例２）
直径１２０ｍｍ×長さ３７２ｍｍ×厚さ２ｍｍの円筒状のアルミニウム系金属製（ＪＩＳ Ａ６０６３）の導電性基体の代わりに、直径８０ｍｍ×長さ３４８ｍｍ×厚さ１ｍｍの円筒状のアルミニウム系金属製（ＪＩＳ Ａ６０６３）の導電性基体を用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施例２の積層型感光体を作製した。
【００８９】
（比較例１）
有機溶剤による第１洗浄（前処理）を実施しないこと以外は、実施例１と同様にして比較例１の積層型感光体を作製した。
【００９０】
（実施例３）
有機溶剤としてテトラヒドロフランの代わりにメタノール（Ｍｅ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施例３の積層型感光体を作製した。
【００９１】
（比較例２）
第２洗浄（洗浄槽）における超音波の出力５０ｋＨｚを４５ｋＨｚに設定したこと以外は、実施例１と同様にして比較例２の積層型感光体を作製した。
【００９２】
（実施例４）
第２洗浄（洗浄槽）における超音波の出力５０ｋＨｚを９５ｋＨｚに設定したこと以外は、実施例１と同様にして実施例４の積層型感光体を作製した。
【００９３】
（比較例３）
第２洗浄（洗浄槽）における超音波の出力５０ｋＨｚを１１０ｋＨｚに設定したこと以外は、実施例１と同様にして比較例２の積層型感光体を作製した。
【００９４】
以上のようにして作製した実施例１、３および４ならびに比較例１〜３の積層型感光体（以下「感光体」ともいう）をデジタル複写機（シャープ株式会社製、型式：ＭＸ−８５０）改造機に搭載し、実施例２の感光体をデジタル複写機（シャープ株式会社製、型式：ＭＸ−６５０）改造機に搭載して、画像評価を行った。
各感光体について、白ベタ、黒ベタおよびハーフトーンのサンプル画像を取り、以下の基準により評価し、さらに総合評価を行った。
得られた結果を、洗浄条件および使用した導電性基体の大きさと共に表１に示す。
【００９５】
［白ベタ画像の評価基準］
黒点となって現れるピンホール欠陥数（感光体１本当たりの個数）を計測し、次の基準により評価した。
○： ０個
△： １〜３個
×： ４〜５個
××： ６個以上
【００９６】
［黒ベタ画像の評価基準］
黒ベタでは白点となって現れる洗浄不良（洗浄工程で除去しきれなかった切削粉、粉じん）による欠陥数（感光体１本当たりの個数）を計測し、次の基準により評価した。
○： ０個
△： １〜３個
×： ４〜５個
××： ６個以上
【００９７】
［ハーフトーンの評価基準］
濃度ムラとなって現れる洗浄不良（洗浄工程で除去しきれなかった切削油）による欠陥数（感光体１本当たりの個数）を計測し、次の基準により評価した。
○： ０個
△： １〜２個
×： ３〜４個
××： ５個以上
【００９８】
［総合評価基準］
得られた各評価結果に基づき、次の基準により総合評価した。
各項目（白ベタ画像、黒ベタ画像、フーフトーン）の評価結果において、○を５点、△を４点、×を２点、××を１点とし、合計点数をもって総合評価を行った。
○○： １５点
○： １２点〜１４点
△： １０点〜１１点
×： ８点〜９点
××： ７点以下
感光体評価条件と結果を表１に示す。
【００９９】
【表１】
【０１００】
表１によれば、本発明の製造方法により得られた感光体（実施例１〜４）は、本発明の条件を満たさない製造方法により得られた感光体（比較例１〜３）に比べて、優れた感光特性を有し、これにより本発明によれば、優れた感光特性を有する電子写真感光体を歩留まりよく製造できることがわかる。
【符号の説明】
【０１０１】
１ 導電性基体
２ ロボットハンド
３ レール
１１ 洗浄槽
１２、１３、１９、２７ 配管
１４、２２、３２、４２ ポンプ
１５、２３、３３、４３ フィルター
１６ ヒーター
１７、２４、７３ 超音波発振器
１８ 洗浄液（界面活性剤を含む水溶液）
２１ 第１の濯ぎ槽
３１ 第２の濯ぎ槽
４１ 第３の濯ぎ槽
２５、３５、４５ 濯ぎ用水
２６、３６、４６ 配管
６０ タンク
７１ 前処理槽
７２ 前処理液（有機溶剤）
【０１０２】
８０ 積層型感光体
８１ 単層型感光体
８２ 導電性基体（導電性支持体）
８３ 下引層
８４ 積層型感光層
８５ 単層型感光層
８６ 電荷発生層
８７ 電荷輸送層
８８ バインダー樹脂
８９ 電荷発生物質
９０ 電荷輸送物質
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いで前記導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いでさらに水洗および乾燥して、前記導電性基体を洗浄する工程、および
洗浄された導電性基体上に感光層を形成する工程
を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
前記有機溶剤が、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノールまたはイソプロピルアルコールである請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記有機溶剤が、テトラヒドロフランである請求項２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記界面活性剤を含む水溶液が、濃度０．５〜３０重量％の前記界面活性剤を含む請求項１〜３のいずれか１つに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
前記界面活性剤を含む水溶液が、液温３０〜６０℃に加熱されてなる請求項１〜４のいずれか１つに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
前記超音波が、０．５〜１０分間印加される請求項１〜５のいずれか１つに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項７】
前記導電性基体が、直径８０〜１５０ｍｍの円筒状である請求項１〜６のいずれか１つに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１】
アルミニウム系金属製の導電性基体を有機溶剤に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いで前記導電性基体をノニオン系界面活性剤およびアニオン系界面活性剤から選択される１種の界面活性剤を含む水溶液に浸漬して出力５０〜１００ｋＨｚの超音波を印加し、次いでさらに水洗および乾燥して、前記導電性基体を洗浄する工程、および
洗浄された導電性基体上に感光層を形成する工程
を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
前記有機溶剤が、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノールまたはイソプロピルアルコールである請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記有機溶剤が、テトラヒドロフランである請求項２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記界面活性剤を含む水溶液が、濃度０．５〜３０重量％の前記界面活性剤を含む請求項１〜３のいずれか１つに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
前記界面活性剤を含む水溶液が、液温３０〜６０℃に加熱されてなる請求項１〜４のいずれか１つに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
前記超音波が、０．５〜１０分間印加される請求項１〜５のいずれか１つに記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項７】
前記導電性基体が、直径８０〜１５０ｍｍの円筒状である請求項１〜６のいずれか１つに記載の電子写真感光体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１３−１１７３４（Ｐ２０１３−１１７３４Ａ）
【公開日】平成２５年１月１７日（２０１３．１．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１４４３９４（Ｐ２０１１−１４４３９４）
【出願日】平成２３年６月２９日（２０１１．６．２９）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月１７日（２０１３．１．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年６月２９日（２０１１．６．２９）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
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