電気光学装置およびその製造方法、電子機器
【課題】発光領域内の有機機能層の厚みがほぼ均一である電気光学装置およびその製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１０は、第１電極１２と、第１電極１２に対応した開口部１４ａを有する絶縁膜１４と、絶縁膜１４上に形成され、開口部１４ａに対応した範囲を囲むバンク１６と、バンク１６に囲まれた範囲内に液滴配置により形成され、開口部１４ａに対応する発光領域１８ｅを有する有機機能層１８と、有機機能層１８を覆う第２電極２０と、を備え、開口部１４ａは、発光領域１８ｅより広くなっている。
【解決手段】電気光学装置１０は、第１電極１２と、第１電極１２に対応した開口部１４ａを有する絶縁膜１４と、絶縁膜１４上に形成され、開口部１４ａに対応した範囲を囲むバンク１６と、バンク１６に囲まれた範囲内に液滴配置により形成され、開口部１４ａに対応する発光領域１８ｅを有する有機機能層１８と、有機機能層１８を覆う第２電極２０と、を備え、開口部１４ａは、発光領域１８ｅより広くなっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置およびその製造方法、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ方式の電気光学装置の製造には、有機機能層（正孔注入層および発光層）を液滴吐出法により形成する方法が広く用いられている。液滴吐出法では、有機機能層材料溶液を所定の領域にのみ選択的に配置するため、プロセスが簡易であるとともに原材料の使用量を少なくすることができる。
【０００３】
一方で、液滴吐出法では、配置された有機機能層材料溶液が画素電極の開口部の領域より広い範囲に濡れ広がってしまう場合がある。このような場合、画素電極の開口部の領域以外も発光することや、画素電極のそれぞれに対応する有機機能層の面積、形状が均一でない場合もある。このような場合、各画素の発光状態がばらつくことがあった。電気光学装置が露光ヘッドである場合、発光領域の拡大や発光状態のばらつきにより、解像度や描画品質が低下するという課題があった。
【０００４】
また、液滴吐出法では、配置された有機機能層がバンクに囲まれた周縁部で盛り上がり、有機機能層の厚みがばらつく場合がある。このような場合、それぞれの領域内での有機機能層の厚みが均一でないため、画素内で発光の強弱が生じることがあった。そのため、有機機能層が局部的に劣化し、電気光学装置としての寿命低下を招いてしまうという課題があった。
【０００５】
これに対して、正孔注入層に紫外線照射により選択的に表面処理を施し、処理を施した部分の表面特性と抵抗値とを変化させる方法が提案されている（例えば特許文献１）。この方法では、発光領域、すなわち正孔注入層の表面処理が施されなかった部分のみに発光層の材料を配置することにより、発光層形成時の材料の発光領域外への拡散を抑え発光領域外の発光を防止しようとしている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１５８４３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、この方法では、発光領域の周囲を撥液性に変化させ、親液性の発光領域内に発光層の材料を配置するため、配置された発光層の材料は発光領域内の周縁部で盛り上がってしまう。したがって、発光層の材料の濡れ広がりは抑えられるが、発光領域内全体に亘って発光層の厚みを均一にすることは困難である。
【０００８】
本発明はこのような課題を鑑みてなされ、その目的の１つは、発光領域内の有機機能層の厚みがほぼ均一である電気光学装置およびその製造方法、電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）本発明に係る電気光学装置は、第１電極と、前記第１電極に対応した開口部を有する絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、少なくとも前記開口部に対応した範囲を囲むバンクと、前記バンクに囲まれた前記範囲内に液滴配置により形成され、前記開口部に対応する発光領域を有する有機機能層と、前記有機機能層を覆う第２電極と、を備え、前記開口部は、前記発光領域より広いことを特徴とする。
【００１０】
これによれば、電極の開口部が発光領域より広いので、開口部を囲むバンク内に形成されている有機機能層の領域は発光領域よりも広い。このため、層の厚みがばらつく有機機能層の周縁部を発光領域外に配置することができる。したがって、発光領域内の有機機能層の厚みをほぼ均一にすることができる。
【００１１】
（２）この電気光学装置では、前記バンクは、複数の前記開口部に対応した前記範囲を囲むように形成されていてもよい。
【００１２】
これによれば、有機機能層は複数の開口部を囲む大面積のバンク内に形成されているので、有機機能層形成領域はより広い。このため、層の厚みのほぼ均一な有機機能層の中央部をより広くすることができる。したがって、発光領域内の有機機能層の厚みをより均一にすることができる。また、有機機能層形成領域の中央部に複数の発光領域が配置されるので、これら複数の発光領域で有機機能層の厚みをほぼ均一にすることができる。このことにより、画素間での発光の強弱のばらつきを抑えることができる。
【００１３】
（３）この電気光学装置では、前記有機機能層は、前記発光領域以外の部分の比抵抗が、前記発光領域の部分の比抵抗より高くなっていてもよい。
【００１４】
これによれば、有機機能層において、発光領域以外の部分の比抵抗が発光領域の部分の比抵抗より高くなっている。比抵抗の高い部分には電流がほとんど流れないので、発光領域以外の部分は発光に寄与しない。したがって、比抵抗の低い発光領域の部分のみを発光に寄与させることができる。
【００１５】
（４）この電気光学装置では、前記有機機能層は正孔注入層を含んでいてもよい。
【００１６】
これによれば、有機機能層は正孔注入層を含んでいる。発光層と正孔注入層との両方において、発光領域以外の部分の比抵抗が高くなっているので、発光領域以外の部分に流れる電流をさらに小さくすることができる。
【００１７】
（５）本発明に係る電子機器は、開口部が発光領域より広い電気光学装置を備えたことを特徴とする。
【００１８】
これによれば、電子機器が備えている電気光学装置は、発光領域内の有機機能層の厚みがほぼ均一である。したがって、画素内での発光の強弱のばらつきが抑えられ有機機能層の局部的な劣化が防止されるので、電子機器を長寿命化することができる。また、発光領域外の発光が防止されるので、解像度や描画品質の優れた画像の電子機器を提供することができる。
【００１９】
（６）本発明に係る電気光学装置の製造方法は、第１電極を形成するステップと、前記第１電極に対応した開口部を有する絶縁膜を形成するステップと、前記絶縁膜上に、少なくとも前記開口部に対応した範囲を囲むようにバンクを形成するステップと、前記バンクで囲まれた前記範囲内に液滴を配置し有機機能層を形成するステップと、前記有機機能層に、前記開口部に対応した発光領域を規定するステップと、前記有機機能層を覆う第２電極を形成するステップと、を含み、前記開口部は、前記発光領域より広く形成されていることを特徴とする。
【００２０】
これによれば、電極の開口部が発光領域より広いので、開口部を囲むバンク内に形成される有機機能層の領域は発光領域よりも広い。このため、層の厚みがばらつく有機機能層の周縁部を発光領域外に配置することができる。したがって、発光領域内の有機機能層の厚みをほぼ均一にすることができる。
【００２１】
（７）この電気光学装置の製造方法では、前記バンクは、複数の前記開口部に対応した前記範囲を囲むように形成されていてもよい。
【００２２】
これによれば、有機機能層は複数の開口部を囲むバンク内に形成されるので、有機機能層形成領域はより広くなる。このため、層の厚みのほぼ均一な有機機能層の中央部をより広くすることができる。したがって、発光領域内の有機機能層の厚みをより均一にすることができる。また、有機機能層の中央部に複数の発光領域を配置するので、これら複数の発光領域で有機機能層の厚みをほぼ均一にすることができる。このことにより、画素間での発光の強弱のばらつきを抑えることができる。
【００２３】
（８）この電気光学装置の製造方法では、前記有機機能層は、前記発光領域以外の部分の比抵抗が、前記発光領域の部分の比抵抗より高くなっていてもよい。
【００２４】
これによれば、有機機能層において、発光領域以外の部分の比抵抗が発光領域の部分の比抵抗より高くなっている。比抵抗の高い部分には電流がほとんど流れないので、発光領域以外の部分は発光に寄与しない。したがって、比抵抗の低い発光領域の部分のみを発光に寄与させることができる。
【００２５】
（９）この電気光学装置の製造方法では、前記発光領域は、前記有機機能層に対して選択的に表面処理を施すことにより規定されていてもよい。
【００２６】
これによれば、有機機能層を発光領域に対応する部分と発光領域に対応する部分以外に区分し、発光領域に対応する部分以外に選択的に表面処理を施す。有機機能層の表面処理が施された部分は比抵抗が変化するので、有機機能層の発光領域に対応する部分以外に対して選択的に表面処理を施すことにより、発光領域に対応する部分以外の比抵抗を変化させることができる。したがって、有機機能層に対して選択的に表面処理を施すことにより発光領域を規定することができる。
【００２７】
（１０）この電気光学装置の製造方法では、前記表面処理の方法は、紫外領域の光の照射であってもよい。
【００２８】
これによれば、紫外領域の光をマスクで部分的に遮光することにより、有機機能層の特定の部分に対して選択的に紫外領域の光を照射することができる。有機機能層の紫外領域の光が照射された部分は比抵抗が変化するので、有機機能層の発光領域に対応する部分をマスクで遮光することにより、有機機能層の発光領域に対応する部分以外に対して選択的に表面処理を施し、発光領域に対応する部分以外の比抵抗を変化させることができる。また、紫外領域の光の照射によれば、基板単位で一括して選択的に表面処理を施すことができる。
【００２９】
（１１）この電気光学装置の製造方法では、前記有機機能層は正孔注入層を含んでいてもよい。
【００３０】
これによれば、有機機能層は正孔注入層を含んでいる。正孔注入層材料は発光層材料よりも比抵抗が低い場合が多いため、正孔注入層に選択的に表面処理を施すことにより比抵抗をより大きく変化させることができる場合が多い。また、発光層と正孔注入層との両方に対して表面処理を施すことにより、発光層と正孔注入層との両方において、発光領域以外の部分の比抵抗を高くすることができるので、発光領域に対応する部分以外に流れる電流をさらに小さくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図面において、構成をわかりやすく示すため、縮尺は各部材ごとに異なる場合がある。
【００３２】
（電気光学装置）
まず、本実施形態に係る電気光学装置の構成について図を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る電気光学装置の概略構成を模式的に示す図である。図２は、図１のII-II線に沿った断面図である。
【００３３】
本実施形態に係る電気光学装置１０は、図１および図２に示すように、複数の第１電極１２と、絶縁膜１４と、バンク１６と、有機機能層１８と、第２電極２０と、を備えている。
【００３４】
複数の第１電極１２のそれぞれは、基板１１（図２参照）上に形成されている。本実施形態では、各構成要素の位置関係をわかり易くするため、８つの第１電極１２が形成されている場合を例にとり説明する。第１電極１２の形状は、例えば円形である。複数の第１電極１２は、それぞれが図１のＸ軸方向に延びる２つの列を構成しており、２つの列のそれぞれにおいて等ピッチＰ１で配置されている。ピッチＰ１は、例えば、８４．５μｍである。第１電極１２の一方の列と他方の列との列間ピッチＰ２は、例えば、８４．５μｍである。一方の列の第１電極１２のそれぞれは、隣接する他方の列の第１電極１２のそれぞれとＸ軸方向に半ピッチずれるように配置されている。
【００３５】
第１電極１２は、透光性導電材料からなる。第１電極１２の材料は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）である。第１電極１２は、陽極であり、電気光学装置１０の画素電極である。基板１１は、本実施形態では、透明な材料からなる。基板１１の材料は、例えば、ガラスである。基板１１の材料は、プラスチックであってもよい。基板１１と第１電極１２との間には、図示しないが、走査線、信号線、保持容量、駆動用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を含む回路素子部が設けられている。第１電極１２は、図示しないが、層間絶縁膜のコンタクトホールを介してＴＦＴに接続されている。
【００３６】
絶縁膜１４は、図２に示すように、基板１１と第１電極１２の一部分とを覆うように形成されている。絶縁膜１４は、第１電極１２のそれぞれに対応する開口部１４ａを有している。開口部１４ａの形状は、例えば円形である。開口部１４ａは、第１電極１２のそれぞれに対応して配置されている。すなわち、図１のＸ軸方向に一列に等しいピッチＰ１で配列された４つの開口部１４ａが、列間ピッチＰ２で２列配置されている。開口部１４ａのそれぞれは、第１電極１２のそれぞれの領域よりも小さい範囲で、できるだけ大きいことが好ましい。開口部１４ａの直径Ｄ１は、後述する発光領域１８ｅの直径Ｄ２が４０μｍである場合は、５０μｍ以上であることが好ましい。開口部１４ａの直径Ｄ１は、例えば、７５μｍである。絶縁膜１４の膜厚は、５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲が好ましい。絶縁膜１４の膜厚が５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲であると、絶縁膜１４の成膜時間が長くなることと、開口部１４ａを形成するためのエッチングの加工精度の低下とを避けることができる。絶縁膜１４の材料は、親液性を有し成膜およびエッチングが容易な材料であれば特に限定されない。絶縁膜１４の材料は、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、等である。
【００３７】
バンク１６は、絶縁膜１４上に形成されている。バンク１６は、本実施形態では、絶縁膜１４のすべての開口部１４ａに対応する範囲を囲んでいる。バンク１６の形状は、例えば、角部が丸みを帯びた四角形である。バンク１６の膜厚は、バンク１６内に液滴配置により形成される有機機能層１８の機能液が溢れない撥液性を発揮し、バンク１６上に形成される第２電極２０の断線が起きない範囲であればよい。バンク１６の膜厚は、例えば、１μｍ〜３μｍである。バンク１６は、少なくとも上面が撥液性である。バンク１６は、例えば、感光性のアクリル、ポリイミド、等の樹脂材料からなる。なお、バンク１６と絶縁膜１４との境界と、開口部１４ａと、の間の距離は、Ｘ軸方向には３ｍｍ以上であることが好ましい。また、Ｙ軸方向には５０μｍ以上であることが好ましく、１００μｍ以上であることがより好ましい。
【００３８】
有機機能層１８は、バンク１６内に形成されており、絶縁膜１４の開口部１４ａのそれぞれに対応する位置にそれぞれの発光領域１８ｅを有している。発光領域１８ｅの直径Ｄ２は、開口部１４ａの直径Ｄ１より小さい。すなわち、開口部１４ａのそれぞれは、発光領域１８ｅより広く形成されている。発光領域１８ｅの直径Ｄ２は、例えば、４０μｍである。有機機能層１８において、発光領域１８ｅ以外の部分の比抵抗は、発光領域１８ｅの部分の比抵抗より高くなっている。発光領域１８ｅ以外の部分は、比抵抗が高いため電流がほとんど流れないので、発光に寄与しない。したがって、比抵抗の低い発光領域１８ｅのみを発光に寄与させることができる。
【００３９】
有機機能層１８は、本実施形態では、図２に示すように、正孔注入層１８ａと発光層１８ｂとから構成されている。有機機能層１８では、発光領域１８ｅ内において、正孔注入層１８ａから注入された正孔と、第２電極２０から注入される電子が発光層１８ｂで再結合し、発光が得られる。
【００４０】
正孔注入層１８ａは、バンク１６で囲まれた範囲内に、絶縁膜１４と開口部１４ａにおいて絶縁膜１４から露出した第１電極１２とを覆うように、形成されている。正孔注入層１８ａの材料は、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等の混合物を用いることができる。
【００４１】
発光層１８ｂは、バンク１６で囲まれた範囲内に、正孔注入層１８ａ上に積層されている。発光層１８ｂの材料は、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープして用いることができる。
【００４２】
有機機能層１８、すなわち正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂは、液滴配置により形成される際、それぞれの開口部１４ａにおいて、絶縁膜１４と第１電極１２との段差があるため、層の厚みがばらついてしまう。さらに、正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂは、撥液性を有するバンク１６に囲まれる周縁部においても機能液の液滴が表面張力により盛り上がるため、層の厚みがばらついてしまう。ここで、絶縁膜１４の開口部１４ａは正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの発光領域１８ｅより広いので、開口部１４ａの段差により層の厚みがばらつく部分を発光領域１８ｅ外に配置することができる。また、バンク１６は、すべての開口部１４ａに対応する範囲を囲んでいるので、バンク１６に囲まれて層の厚みがばらつく正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの周縁部を、すべての発光領域１８ｅ外に配置することができる。したがって、層の厚みがほぼ均一な正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの中央部をより広くすることができ、これにより、発光領域１８ｅ内の正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの厚みをほぼ均一にすることができる。また、層の厚みがほぼ均一な正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの中央部に、すべての発光領域１８ｅが配置されるので、これらすべての発光領域１８ｅで層の厚みをほぼ均一にすることができる。このことにより、画素間での発光の強弱のばらつきを抑えることができる。
【００４３】
有機機能層１８上には、バンク１６と有機機能層１８との全体を覆うように、第２電極２０が形成されている。第２電極２０は、例えば、Ｃａ層とＡｌ層とが積層されて構成されている。第２電極２０は、陰極であり、第１電極１２と対になって有機機能層１８に電流を流す役割を果たす。第２電極２０は、封止層２２に覆われている。封止層２２は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、液状ガラス等からなり、さらにガラス、金属、樹脂フィルム、プラスチック、その他の封止部材を積層接着してもよい。
【００４４】
本実施形態の電気光学装置１０においては、有機機能層１８から基板１１側に発した光が基板１１側に出射されるとともに、有機機能層１８から第２電極２０側に発した光が第２電極２０により反射されて、基板１１側に出射されるようになっている。
【００４５】
（電気光学装置の製造方法）
次に、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法について図を参照して説明する。図３および図４は、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明する図である。
【００４６】
本実施形態に係る電気光学装置１０の製造方法は、図３（ａ）に示すように、まず基板１１を用意し、基板１１上に、図示しないが、走査線、信号線、保持容量、駆動用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を含む回路素子部を設ける。
【００４７】
次に、基板１１上に第１電極１２を形成する。第１電極１２は、それぞれが図１のＸ軸方向に延びる２つの列を構成し、２つの列のそれぞれにおいて等ピッチＰ１で配置されるように形成する。ピッチＰ１は、例えば、８４．５μｍである。第１電極１２の一方の列と他方の列との列間ピッチＰ２は、例えば、８４．５μｍである。一方の列の第１電極１２のそれぞれは、隣接する他方の列の第１電極１２のそれぞれとＸ軸方向に半ピッチずれるように配置する。第１電極１２を形成する方法は、公知の方法を適用すればよい。第１電極１２は、基板１１上に設けられたＴＦＴに接続されるようにする。
【００４８】
次に、基板１１と第１電極１２とを覆うように、絶縁膜１４を形成する。絶縁膜１４を形成する方法は、公知の方法を適用すればよい。
【００４９】
次に、図３（ｂ）に示すように、絶縁膜１４に、第１電極１２のそれぞれに対応する開口部１４ａを形成する。開口部１４ａは、第１電極１２のそれぞれに対応して配置されるように形成する。すなわち、開口部１４ａは、それぞれが図１のＸ軸方向に延びる２つの列を構成し、２つの列のそれぞれにおいて等ピッチＰ１で配置されるように形成する。開口部１４ａの直径Ｄ１は、例えば、７５μｍである。開口部１４ａを形成する方法は、例えば、フォトリソグラフィ法を適用する。
【００５０】
次に、図３（ｃ）に示すように、絶縁膜１４上に、開口部１４ａのすべてに対応する範囲を囲むようにバンク１６を形成する。バンク１６を形成した後、第１電極１２および絶縁膜１４に対してＯ2プラズマ処理を施す。これにより、第１電極１２および絶縁膜１４の表面の親液性が増大する。続いて、バンク１６に対してＣＦ4プラズマ処理を施す。これにより、バンク１６の撥液性が増大する。
【００５１】
次に、バンク１６で囲まれた範囲内に有機機能層１８を形成する。まず、図３（ｄ）に示すように、有機機能層１８のうち正孔注入層１８ａを、絶縁膜１４と開口部１４ａによって絶縁膜１４から露出した第１電極１２とを覆うように形成する。正孔注入層１８ａを形成する方法は、液滴吐出装置を用いた液滴吐出法を適用し、正孔注入層形成材料を含む機能液の液滴を第１電極１２と絶縁膜１４との上面に配置した後、乾燥処理および熱処理を行う。
【００５２】
次に、有機機能層１８のうち発光層１８ｂを、図４（ａ）に示すように、バンク１６で囲まれた範囲内に、正孔注入層１８ａを覆うように形成する。発光層１８ｂを形成する方法は、液滴吐出装置を用いた液滴吐出法を適用し、発光層形成材料を含む機能液の液滴を正孔注入層１８ａの上面に配置した後、乾燥処理および熱処理を行う。
【００５３】
次に、図４（ｂ）に示すように、有機機能層１８に、開口部１４ａのそれぞれに対応するそれぞれの発光領域１８ｅを規定する。有機機能層１８に発光領域１８ｅを規定する方法は、有機機能層１８に対する選択的な表面処理を適用する。具体的には、遮光部２４ａを有するマスク２４を通して紫外領域の光２６を照射する。このとき、遮光部２４ａは、開口部１４ａのそれぞれに対応する位置にそれぞれ配置されている。遮光部２４ａの直径Ｄ２は、例えば、４０μｍである。紫外領域の光２６は、例えば、紫外線光である。紫外領域の光２６は、紫外領域の波長のレーザ光であってもよい。
【００５４】
マスク２４を通して紫外領域の光２６を照射することにより、有機機能層１８は、紫外領域の光２６が照射された部分、すなわちマスク２４の遮光部２４ａに対応する領域を除く部分において比抵抗が増大する。一方、有機機能層１８において、マスク２４の遮光部２４ａに対応する領域の比抵抗は変化しない。したがって、有機機能層１８において、遮光部２４ａに対応する領域以外の部分の比抵抗は、遮光部２４ａに対応する領域の比抵抗より高くなる。有機機能層１８の遮光部２４ａに対応する領域以外の部分は、比抵抗が高いために電流がほとんど流れないので、発光に寄与しない。したがって、比抵抗の低い遮光部２４ａに対応する領域のみを発光に寄与させることができる。このようにして、有機機能層１８に、マスク２４の遮光部２４ａに対応して発光領域１８ｅが規定される。有機機能層１８の発光領域１８ｅは、絶縁膜１４の開口部１４ａのそれぞれに対応する位置にそれぞれが配置される。発光領域１８ｅの直径Ｄ２は、４０μｍである。したがって、開口部１４ａのそれぞれは、発光領域１８ｅより広く形成されている。
【００５５】
次に、図４（ｃ）に示すように、バンク１６と有機機能層１８との全体を覆うように、第２電極２０を形成する。第２電極２０を形成する方法は、公知の方法を適用すればよいが、蒸着法を適用することが、熱による有機機能層１８の損傷を防止できる点で好ましい。
【００５６】
次に、第２電極２０を覆うように、封止層２２を形成する（図２参照）。以上により、電気光学装置１０を製造することができる。
【００５７】
（電子機器）
次に、本実施形態に係る電気光学装置を備えた電子機器について、図を参照して説明する。図５は、本実施形態に係る電子機器を説明する図である。
【００５８】
本実施形態の電子機器は、本実施形態に係る電気光学装置を露光ヘッド１０１として備えた画像形成装置８０である。画像形成装置８０は、露光ヘッド１０１Ｋ、１０１Ｃ、１０１Ｍ、１０１Ｙを、対応する同様な構成である４個の感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙにそれぞれ配置したことにより、露光装置を構成した、タンデム方式のものである。
【００５９】
画像形成装置８０は、駆動ローラ９１と、従動ローラ９２と、テンションローラ９３とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト９０を、図５中の矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト９０に対して、感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙが所定間隔で配置されている。感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっており、露光ヘッド１０１Ｋ、１０１Ｃ、１０１Ｍ、１０１Ｙに対して、所定の感度を有している。
【００６０】
ここで、上記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。なお、これらの符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、図５中の矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００６１】
各感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させるコロナ帯電器４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、コロナ帯電器４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。ここで、露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、前述したようにヘッドケースによってＳＬアレイ（図示しない）とともに互いにアライメントされた状態で一体的に保持され、ラインヘッドモジュールとして用いられている。
【００６２】
また、露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）（ラインヘッドモジュール）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト９０に順次転写する一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００６３】
ここで、各露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、それぞれのアレイ方向が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の母線に沿うように設置されている。そして、各露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とがほぼ一致するように設定されている。
【００６４】
現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００６５】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｓに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｓ上に定着され、その後、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。
【００６６】
なお、画像形成装置８０は、図５に示すように、多数枚の記録媒体Ｓが積層保持されている給紙カセット６３と、給紙カセット６３から記録媒体Ｓを一枚ずつ給送するピックアップローラ６４と、二次転写ローラ６６の二次転写部への記録媒体Ｓの供給タイミングを規定するゲートローラ対６５と、中間転写ベルト９０との間で二次転写部を形成する二次転写ローラ６６と、二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニングブレード６７と、をさらに備えている。
【００６７】
画像形成装置８０は、本実施形態に係る電気光学装置を露光ヘッド１０１として備えている。これにより、画像形成装置８０の露光ヘッド１０１は、画素内での発光の強弱のばらつきが抑えられ有機機能層の局部的な劣化が防止されるので、長寿命である。また、画像形成装置８０の露光ヘッド１０１は、発光領域のみが発光に寄与するので、発光領域外の発光が防止される。したがって、画像形成装置８０は、解像度や描画品質の優れた画像を印刷することができる。
【００６８】
なお、本発明の実施形態は、上記に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
【００６９】
上記実施形態では、第１電極１２は、円形形状で、それぞれが図１のＸ軸方向に延びる２つの列を構成し、２つの列のそれぞれにおいて等ピッチＰ１で配置されているようにしたが、第１電極１２の形状、数、配列、およびピッチはこれに限定されない。例えば、第１電極１２の形状は四角形、楕円、等別の形状であってもよい。
【００７０】
上記実施形態では、バンク１６は、すべての開口部１４ａに対応する範囲を囲んでいるようにしたが、これに限定されない。バンク１６は、すべての開口部１４ａを複数の開口部の集合に分けそれぞれの集合の複数の開口部を囲んでいてもよいし、一つの開口部１４ａに対応する範囲だけを囲んでいてもよい。また、バンク１６の形状は、角部が丸みを帯びた四角形としたが、円形、楕円、等別の形状であってもよい。
【００７１】
上記実施形態では、有機機能層１８は、正孔注入層１８ａと発光層１８ｂとから構成されているようにしたが、これに限定されない。有機機能層１８は、発光層１８ｂのみで構成されていてもよいし、発光層１８ｂに隣接して形成された電子注入輸送などの機能を有する他の機能層をさらに含んでいてもよい。
【００７２】
上記実施形態では、有機機能層１８の発光領域１８ｅは、正孔注入層１８ａと発光層１８ｂとに規定されているようにしたが、これに限定されない。有機機能層１８の発光領域１８ｅは、正孔注入層１８ａのみに規定されていてもよい。この場合は、有機機能層１８を形成するステップにおいて、発光層１８ｂを形成する前に、遮光部２４ａを有するマスク２４を通して紫外領域の光２６を正孔注入層１８ａに照射すればよい。これにより、正孔注入層１８ａのみに発光領域１８ｅが規定される。このとき、有機機能層１８の発光領域１８ｅのみに正孔注入層１８ａから正孔が注入されるので、発光領域１８ｅのみが発光に寄与することができる。
【００７３】
上記実施形態では、有機機能層１８から基板１１側に発した光が基板１１側に出射される構成としたが、これに限定されない。例えば、第２電極２０に透明な材料を用いることにより、第２電極２０側から光を出射させるようにしてもよい。
【００７４】
上記実施形態では、電子機器は、本実施形態に係る電気光学装置を露光ヘッド１０１として備えた画像形成装置８０としたが、これに限定されない。電子機器は、例えば、図６に示すように、本実施形態に係る電気光学装置をディスプレイ２０２として備えた携帯電話２００であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本実施形態に係る電気光学装置の概略構成を模式的に示す図。
【図２】図１のII-II線に沿った断面図。
【図３】本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明する図。
【図４】本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明する図。
【図５】本実施形態に係る電子機器を説明する図。
【図６】本実施形態に係る電子機器を説明する図。
【符号の説明】
【００７６】
１０…電気光学装置、１１…基板、１２…第１電極、１４…絶縁膜、１４ａ…開口部、１６…バンク、１８…有機機能層、１８ａ…正孔注入層、１８ｂ…発光層、１８ｅ…発光領域、２０…第２電極、２２…封止層、２４…マスク、２４ａ…遮光部、２６…光、４１…感光体ドラム、４２…コロナ帯電器、４４…現像装置、４５…一次転写ローラ、４６…クリーニング装置、６１…定着ローラ対、６２…排紙ローラ対、６３…給紙カセット、６４…ピックアップローラ、６５…ゲートローラ対、６６…二次転写ローラ、６７…クリーニングブレード、６８…排紙トレイ、８０…画像形成装置、９０…中間転写ベルト、９１…駆動ローラ、９２…従動ローラ、９３…テンションローラ、１０１…露光ヘッド、２００…携帯電話、２０２…ディスプレイ。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置およびその製造方法、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ方式の電気光学装置の製造には、有機機能層（正孔注入層および発光層）を液滴吐出法により形成する方法が広く用いられている。液滴吐出法では、有機機能層材料溶液を所定の領域にのみ選択的に配置するため、プロセスが簡易であるとともに原材料の使用量を少なくすることができる。
【０００３】
一方で、液滴吐出法では、配置された有機機能層材料溶液が画素電極の開口部の領域より広い範囲に濡れ広がってしまう場合がある。このような場合、画素電極の開口部の領域以外も発光することや、画素電極のそれぞれに対応する有機機能層の面積、形状が均一でない場合もある。このような場合、各画素の発光状態がばらつくことがあった。電気光学装置が露光ヘッドである場合、発光領域の拡大や発光状態のばらつきにより、解像度や描画品質が低下するという課題があった。
【０００４】
また、液滴吐出法では、配置された有機機能層がバンクに囲まれた周縁部で盛り上がり、有機機能層の厚みがばらつく場合がある。このような場合、それぞれの領域内での有機機能層の厚みが均一でないため、画素内で発光の強弱が生じることがあった。そのため、有機機能層が局部的に劣化し、電気光学装置としての寿命低下を招いてしまうという課題があった。
【０００５】
これに対して、正孔注入層に紫外線照射により選択的に表面処理を施し、処理を施した部分の表面特性と抵抗値とを変化させる方法が提案されている（例えば特許文献１）。この方法では、発光領域、すなわち正孔注入層の表面処理が施されなかった部分のみに発光層の材料を配置することにより、発光層形成時の材料の発光領域外への拡散を抑え発光領域外の発光を防止しようとしている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１５８４３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、この方法では、発光領域の周囲を撥液性に変化させ、親液性の発光領域内に発光層の材料を配置するため、配置された発光層の材料は発光領域内の周縁部で盛り上がってしまう。したがって、発光層の材料の濡れ広がりは抑えられるが、発光領域内全体に亘って発光層の厚みを均一にすることは困難である。
【０００８】
本発明はこのような課題を鑑みてなされ、その目的の１つは、発光領域内の有機機能層の厚みがほぼ均一である電気光学装置およびその製造方法、電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）本発明に係る電気光学装置は、第１電極と、前記第１電極に対応した開口部を有する絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、少なくとも前記開口部に対応した範囲を囲むバンクと、前記バンクに囲まれた前記範囲内に液滴配置により形成され、前記開口部に対応する発光領域を有する有機機能層と、前記有機機能層を覆う第２電極と、を備え、前記開口部は、前記発光領域より広いことを特徴とする。
【００１０】
これによれば、電極の開口部が発光領域より広いので、開口部を囲むバンク内に形成されている有機機能層の領域は発光領域よりも広い。このため、層の厚みがばらつく有機機能層の周縁部を発光領域外に配置することができる。したがって、発光領域内の有機機能層の厚みをほぼ均一にすることができる。
【００１１】
（２）この電気光学装置では、前記バンクは、複数の前記開口部に対応した前記範囲を囲むように形成されていてもよい。
【００１２】
これによれば、有機機能層は複数の開口部を囲む大面積のバンク内に形成されているので、有機機能層形成領域はより広い。このため、層の厚みのほぼ均一な有機機能層の中央部をより広くすることができる。したがって、発光領域内の有機機能層の厚みをより均一にすることができる。また、有機機能層形成領域の中央部に複数の発光領域が配置されるので、これら複数の発光領域で有機機能層の厚みをほぼ均一にすることができる。このことにより、画素間での発光の強弱のばらつきを抑えることができる。
【００１３】
（３）この電気光学装置では、前記有機機能層は、前記発光領域以外の部分の比抵抗が、前記発光領域の部分の比抵抗より高くなっていてもよい。
【００１４】
これによれば、有機機能層において、発光領域以外の部分の比抵抗が発光領域の部分の比抵抗より高くなっている。比抵抗の高い部分には電流がほとんど流れないので、発光領域以外の部分は発光に寄与しない。したがって、比抵抗の低い発光領域の部分のみを発光に寄与させることができる。
【００１５】
（４）この電気光学装置では、前記有機機能層は正孔注入層を含んでいてもよい。
【００１６】
これによれば、有機機能層は正孔注入層を含んでいる。発光層と正孔注入層との両方において、発光領域以外の部分の比抵抗が高くなっているので、発光領域以外の部分に流れる電流をさらに小さくすることができる。
【００１７】
（５）本発明に係る電子機器は、開口部が発光領域より広い電気光学装置を備えたことを特徴とする。
【００１８】
これによれば、電子機器が備えている電気光学装置は、発光領域内の有機機能層の厚みがほぼ均一である。したがって、画素内での発光の強弱のばらつきが抑えられ有機機能層の局部的な劣化が防止されるので、電子機器を長寿命化することができる。また、発光領域外の発光が防止されるので、解像度や描画品質の優れた画像の電子機器を提供することができる。
【００１９】
（６）本発明に係る電気光学装置の製造方法は、第１電極を形成するステップと、前記第１電極に対応した開口部を有する絶縁膜を形成するステップと、前記絶縁膜上に、少なくとも前記開口部に対応した範囲を囲むようにバンクを形成するステップと、前記バンクで囲まれた前記範囲内に液滴を配置し有機機能層を形成するステップと、前記有機機能層に、前記開口部に対応した発光領域を規定するステップと、前記有機機能層を覆う第２電極を形成するステップと、を含み、前記開口部は、前記発光領域より広く形成されていることを特徴とする。
【００２０】
これによれば、電極の開口部が発光領域より広いので、開口部を囲むバンク内に形成される有機機能層の領域は発光領域よりも広い。このため、層の厚みがばらつく有機機能層の周縁部を発光領域外に配置することができる。したがって、発光領域内の有機機能層の厚みをほぼ均一にすることができる。
【００２１】
（７）この電気光学装置の製造方法では、前記バンクは、複数の前記開口部に対応した前記範囲を囲むように形成されていてもよい。
【００２２】
これによれば、有機機能層は複数の開口部を囲むバンク内に形成されるので、有機機能層形成領域はより広くなる。このため、層の厚みのほぼ均一な有機機能層の中央部をより広くすることができる。したがって、発光領域内の有機機能層の厚みをより均一にすることができる。また、有機機能層の中央部に複数の発光領域を配置するので、これら複数の発光領域で有機機能層の厚みをほぼ均一にすることができる。このことにより、画素間での発光の強弱のばらつきを抑えることができる。
【００２３】
（８）この電気光学装置の製造方法では、前記有機機能層は、前記発光領域以外の部分の比抵抗が、前記発光領域の部分の比抵抗より高くなっていてもよい。
【００２４】
これによれば、有機機能層において、発光領域以外の部分の比抵抗が発光領域の部分の比抵抗より高くなっている。比抵抗の高い部分には電流がほとんど流れないので、発光領域以外の部分は発光に寄与しない。したがって、比抵抗の低い発光領域の部分のみを発光に寄与させることができる。
【００２５】
（９）この電気光学装置の製造方法では、前記発光領域は、前記有機機能層に対して選択的に表面処理を施すことにより規定されていてもよい。
【００２６】
これによれば、有機機能層を発光領域に対応する部分と発光領域に対応する部分以外に区分し、発光領域に対応する部分以外に選択的に表面処理を施す。有機機能層の表面処理が施された部分は比抵抗が変化するので、有機機能層の発光領域に対応する部分以外に対して選択的に表面処理を施すことにより、発光領域に対応する部分以外の比抵抗を変化させることができる。したがって、有機機能層に対して選択的に表面処理を施すことにより発光領域を規定することができる。
【００２７】
（１０）この電気光学装置の製造方法では、前記表面処理の方法は、紫外領域の光の照射であってもよい。
【００２８】
これによれば、紫外領域の光をマスクで部分的に遮光することにより、有機機能層の特定の部分に対して選択的に紫外領域の光を照射することができる。有機機能層の紫外領域の光が照射された部分は比抵抗が変化するので、有機機能層の発光領域に対応する部分をマスクで遮光することにより、有機機能層の発光領域に対応する部分以外に対して選択的に表面処理を施し、発光領域に対応する部分以外の比抵抗を変化させることができる。また、紫外領域の光の照射によれば、基板単位で一括して選択的に表面処理を施すことができる。
【００２９】
（１１）この電気光学装置の製造方法では、前記有機機能層は正孔注入層を含んでいてもよい。
【００３０】
これによれば、有機機能層は正孔注入層を含んでいる。正孔注入層材料は発光層材料よりも比抵抗が低い場合が多いため、正孔注入層に選択的に表面処理を施すことにより比抵抗をより大きく変化させることができる場合が多い。また、発光層と正孔注入層との両方に対して表面処理を施すことにより、発光層と正孔注入層との両方において、発光領域以外の部分の比抵抗を高くすることができるので、発光領域に対応する部分以外に流れる電流をさらに小さくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図面において、構成をわかりやすく示すため、縮尺は各部材ごとに異なる場合がある。
【００３２】
（電気光学装置）
まず、本実施形態に係る電気光学装置の構成について図を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る電気光学装置の概略構成を模式的に示す図である。図２は、図１のII-II線に沿った断面図である。
【００３３】
本実施形態に係る電気光学装置１０は、図１および図２に示すように、複数の第１電極１２と、絶縁膜１４と、バンク１６と、有機機能層１８と、第２電極２０と、を備えている。
【００３４】
複数の第１電極１２のそれぞれは、基板１１（図２参照）上に形成されている。本実施形態では、各構成要素の位置関係をわかり易くするため、８つの第１電極１２が形成されている場合を例にとり説明する。第１電極１２の形状は、例えば円形である。複数の第１電極１２は、それぞれが図１のＸ軸方向に延びる２つの列を構成しており、２つの列のそれぞれにおいて等ピッチＰ１で配置されている。ピッチＰ１は、例えば、８４．５μｍである。第１電極１２の一方の列と他方の列との列間ピッチＰ２は、例えば、８４．５μｍである。一方の列の第１電極１２のそれぞれは、隣接する他方の列の第１電極１２のそれぞれとＸ軸方向に半ピッチずれるように配置されている。
【００３５】
第１電極１２は、透光性導電材料からなる。第１電極１２の材料は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）である。第１電極１２は、陽極であり、電気光学装置１０の画素電極である。基板１１は、本実施形態では、透明な材料からなる。基板１１の材料は、例えば、ガラスである。基板１１の材料は、プラスチックであってもよい。基板１１と第１電極１２との間には、図示しないが、走査線、信号線、保持容量、駆動用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を含む回路素子部が設けられている。第１電極１２は、図示しないが、層間絶縁膜のコンタクトホールを介してＴＦＴに接続されている。
【００３６】
絶縁膜１４は、図２に示すように、基板１１と第１電極１２の一部分とを覆うように形成されている。絶縁膜１４は、第１電極１２のそれぞれに対応する開口部１４ａを有している。開口部１４ａの形状は、例えば円形である。開口部１４ａは、第１電極１２のそれぞれに対応して配置されている。すなわち、図１のＸ軸方向に一列に等しいピッチＰ１で配列された４つの開口部１４ａが、列間ピッチＰ２で２列配置されている。開口部１４ａのそれぞれは、第１電極１２のそれぞれの領域よりも小さい範囲で、できるだけ大きいことが好ましい。開口部１４ａの直径Ｄ１は、後述する発光領域１８ｅの直径Ｄ２が４０μｍである場合は、５０μｍ以上であることが好ましい。開口部１４ａの直径Ｄ１は、例えば、７５μｍである。絶縁膜１４の膜厚は、５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲が好ましい。絶縁膜１４の膜厚が５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲であると、絶縁膜１４の成膜時間が長くなることと、開口部１４ａを形成するためのエッチングの加工精度の低下とを避けることができる。絶縁膜１４の材料は、親液性を有し成膜およびエッチングが容易な材料であれば特に限定されない。絶縁膜１４の材料は、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、等である。
【００３７】
バンク１６は、絶縁膜１４上に形成されている。バンク１６は、本実施形態では、絶縁膜１４のすべての開口部１４ａに対応する範囲を囲んでいる。バンク１６の形状は、例えば、角部が丸みを帯びた四角形である。バンク１６の膜厚は、バンク１６内に液滴配置により形成される有機機能層１８の機能液が溢れない撥液性を発揮し、バンク１６上に形成される第２電極２０の断線が起きない範囲であればよい。バンク１６の膜厚は、例えば、１μｍ〜３μｍである。バンク１６は、少なくとも上面が撥液性である。バンク１６は、例えば、感光性のアクリル、ポリイミド、等の樹脂材料からなる。なお、バンク１６と絶縁膜１４との境界と、開口部１４ａと、の間の距離は、Ｘ軸方向には３ｍｍ以上であることが好ましい。また、Ｙ軸方向には５０μｍ以上であることが好ましく、１００μｍ以上であることがより好ましい。
【００３８】
有機機能層１８は、バンク１６内に形成されており、絶縁膜１４の開口部１４ａのそれぞれに対応する位置にそれぞれの発光領域１８ｅを有している。発光領域１８ｅの直径Ｄ２は、開口部１４ａの直径Ｄ１より小さい。すなわち、開口部１４ａのそれぞれは、発光領域１８ｅより広く形成されている。発光領域１８ｅの直径Ｄ２は、例えば、４０μｍである。有機機能層１８において、発光領域１８ｅ以外の部分の比抵抗は、発光領域１８ｅの部分の比抵抗より高くなっている。発光領域１８ｅ以外の部分は、比抵抗が高いため電流がほとんど流れないので、発光に寄与しない。したがって、比抵抗の低い発光領域１８ｅのみを発光に寄与させることができる。
【００３９】
有機機能層１８は、本実施形態では、図２に示すように、正孔注入層１８ａと発光層１８ｂとから構成されている。有機機能層１８では、発光領域１８ｅ内において、正孔注入層１８ａから注入された正孔と、第２電極２０から注入される電子が発光層１８ｂで再結合し、発光が得られる。
【００４０】
正孔注入層１８ａは、バンク１６で囲まれた範囲内に、絶縁膜１４と開口部１４ａにおいて絶縁膜１４から露出した第１電極１２とを覆うように、形成されている。正孔注入層１８ａの材料は、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等の混合物を用いることができる。
【００４１】
発光層１８ｂは、バンク１６で囲まれた範囲内に、正孔注入層１８ａ上に積層されている。発光層１８ｂの材料は、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープして用いることができる。
【００４２】
有機機能層１８、すなわち正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂは、液滴配置により形成される際、それぞれの開口部１４ａにおいて、絶縁膜１４と第１電極１２との段差があるため、層の厚みがばらついてしまう。さらに、正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂは、撥液性を有するバンク１６に囲まれる周縁部においても機能液の液滴が表面張力により盛り上がるため、層の厚みがばらついてしまう。ここで、絶縁膜１４の開口部１４ａは正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの発光領域１８ｅより広いので、開口部１４ａの段差により層の厚みがばらつく部分を発光領域１８ｅ外に配置することができる。また、バンク１６は、すべての開口部１４ａに対応する範囲を囲んでいるので、バンク１６に囲まれて層の厚みがばらつく正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの周縁部を、すべての発光領域１８ｅ外に配置することができる。したがって、層の厚みがほぼ均一な正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの中央部をより広くすることができ、これにより、発光領域１８ｅ内の正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの厚みをほぼ均一にすることができる。また、層の厚みがほぼ均一な正孔注入層１８ａおよび発光層１８ｂの中央部に、すべての発光領域１８ｅが配置されるので、これらすべての発光領域１８ｅで層の厚みをほぼ均一にすることができる。このことにより、画素間での発光の強弱のばらつきを抑えることができる。
【００４３】
有機機能層１８上には、バンク１６と有機機能層１８との全体を覆うように、第２電極２０が形成されている。第２電極２０は、例えば、Ｃａ層とＡｌ層とが積層されて構成されている。第２電極２０は、陰極であり、第１電極１２と対になって有機機能層１８に電流を流す役割を果たす。第２電極２０は、封止層２２に覆われている。封止層２２は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、液状ガラス等からなり、さらにガラス、金属、樹脂フィルム、プラスチック、その他の封止部材を積層接着してもよい。
【００４４】
本実施形態の電気光学装置１０においては、有機機能層１８から基板１１側に発した光が基板１１側に出射されるとともに、有機機能層１８から第２電極２０側に発した光が第２電極２０により反射されて、基板１１側に出射されるようになっている。
【００４５】
（電気光学装置の製造方法）
次に、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法について図を参照して説明する。図３および図４は、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明する図である。
【００４６】
本実施形態に係る電気光学装置１０の製造方法は、図３（ａ）に示すように、まず基板１１を用意し、基板１１上に、図示しないが、走査線、信号線、保持容量、駆動用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を含む回路素子部を設ける。
【００４７】
次に、基板１１上に第１電極１２を形成する。第１電極１２は、それぞれが図１のＸ軸方向に延びる２つの列を構成し、２つの列のそれぞれにおいて等ピッチＰ１で配置されるように形成する。ピッチＰ１は、例えば、８４．５μｍである。第１電極１２の一方の列と他方の列との列間ピッチＰ２は、例えば、８４．５μｍである。一方の列の第１電極１２のそれぞれは、隣接する他方の列の第１電極１２のそれぞれとＸ軸方向に半ピッチずれるように配置する。第１電極１２を形成する方法は、公知の方法を適用すればよい。第１電極１２は、基板１１上に設けられたＴＦＴに接続されるようにする。
【００４８】
次に、基板１１と第１電極１２とを覆うように、絶縁膜１４を形成する。絶縁膜１４を形成する方法は、公知の方法を適用すればよい。
【００４９】
次に、図３（ｂ）に示すように、絶縁膜１４に、第１電極１２のそれぞれに対応する開口部１４ａを形成する。開口部１４ａは、第１電極１２のそれぞれに対応して配置されるように形成する。すなわち、開口部１４ａは、それぞれが図１のＸ軸方向に延びる２つの列を構成し、２つの列のそれぞれにおいて等ピッチＰ１で配置されるように形成する。開口部１４ａの直径Ｄ１は、例えば、７５μｍである。開口部１４ａを形成する方法は、例えば、フォトリソグラフィ法を適用する。
【００５０】
次に、図３（ｃ）に示すように、絶縁膜１４上に、開口部１４ａのすべてに対応する範囲を囲むようにバンク１６を形成する。バンク１６を形成した後、第１電極１２および絶縁膜１４に対してＯ2プラズマ処理を施す。これにより、第１電極１２および絶縁膜１４の表面の親液性が増大する。続いて、バンク１６に対してＣＦ4プラズマ処理を施す。これにより、バンク１６の撥液性が増大する。
【００５１】
次に、バンク１６で囲まれた範囲内に有機機能層１８を形成する。まず、図３（ｄ）に示すように、有機機能層１８のうち正孔注入層１８ａを、絶縁膜１４と開口部１４ａによって絶縁膜１４から露出した第１電極１２とを覆うように形成する。正孔注入層１８ａを形成する方法は、液滴吐出装置を用いた液滴吐出法を適用し、正孔注入層形成材料を含む機能液の液滴を第１電極１２と絶縁膜１４との上面に配置した後、乾燥処理および熱処理を行う。
【００５２】
次に、有機機能層１８のうち発光層１８ｂを、図４（ａ）に示すように、バンク１６で囲まれた範囲内に、正孔注入層１８ａを覆うように形成する。発光層１８ｂを形成する方法は、液滴吐出装置を用いた液滴吐出法を適用し、発光層形成材料を含む機能液の液滴を正孔注入層１８ａの上面に配置した後、乾燥処理および熱処理を行う。
【００５３】
次に、図４（ｂ）に示すように、有機機能層１８に、開口部１４ａのそれぞれに対応するそれぞれの発光領域１８ｅを規定する。有機機能層１８に発光領域１８ｅを規定する方法は、有機機能層１８に対する選択的な表面処理を適用する。具体的には、遮光部２４ａを有するマスク２４を通して紫外領域の光２６を照射する。このとき、遮光部２４ａは、開口部１４ａのそれぞれに対応する位置にそれぞれ配置されている。遮光部２４ａの直径Ｄ２は、例えば、４０μｍである。紫外領域の光２６は、例えば、紫外線光である。紫外領域の光２６は、紫外領域の波長のレーザ光であってもよい。
【００５４】
マスク２４を通して紫外領域の光２６を照射することにより、有機機能層１８は、紫外領域の光２６が照射された部分、すなわちマスク２４の遮光部２４ａに対応する領域を除く部分において比抵抗が増大する。一方、有機機能層１８において、マスク２４の遮光部２４ａに対応する領域の比抵抗は変化しない。したがって、有機機能層１８において、遮光部２４ａに対応する領域以外の部分の比抵抗は、遮光部２４ａに対応する領域の比抵抗より高くなる。有機機能層１８の遮光部２４ａに対応する領域以外の部分は、比抵抗が高いために電流がほとんど流れないので、発光に寄与しない。したがって、比抵抗の低い遮光部２４ａに対応する領域のみを発光に寄与させることができる。このようにして、有機機能層１８に、マスク２４の遮光部２４ａに対応して発光領域１８ｅが規定される。有機機能層１８の発光領域１８ｅは、絶縁膜１４の開口部１４ａのそれぞれに対応する位置にそれぞれが配置される。発光領域１８ｅの直径Ｄ２は、４０μｍである。したがって、開口部１４ａのそれぞれは、発光領域１８ｅより広く形成されている。
【００５５】
次に、図４（ｃ）に示すように、バンク１６と有機機能層１８との全体を覆うように、第２電極２０を形成する。第２電極２０を形成する方法は、公知の方法を適用すればよいが、蒸着法を適用することが、熱による有機機能層１８の損傷を防止できる点で好ましい。
【００５６】
次に、第２電極２０を覆うように、封止層２２を形成する（図２参照）。以上により、電気光学装置１０を製造することができる。
【００５７】
（電子機器）
次に、本実施形態に係る電気光学装置を備えた電子機器について、図を参照して説明する。図５は、本実施形態に係る電子機器を説明する図である。
【００５８】
本実施形態の電子機器は、本実施形態に係る電気光学装置を露光ヘッド１０１として備えた画像形成装置８０である。画像形成装置８０は、露光ヘッド１０１Ｋ、１０１Ｃ、１０１Ｍ、１０１Ｙを、対応する同様な構成である４個の感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙにそれぞれ配置したことにより、露光装置を構成した、タンデム方式のものである。
【００５９】
画像形成装置８０は、駆動ローラ９１と、従動ローラ９２と、テンションローラ９３とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト９０を、図５中の矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト９０に対して、感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙが所定間隔で配置されている。感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっており、露光ヘッド１０１Ｋ、１０１Ｃ、１０１Ｍ、１０１Ｙに対して、所定の感度を有している。
【００６０】
ここで、上記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。なお、これらの符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、図５中の矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００６１】
各感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させるコロナ帯電器４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、コロナ帯電器４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。ここで、露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、前述したようにヘッドケースによってＳＬアレイ（図示しない）とともに互いにアライメントされた状態で一体的に保持され、ラインヘッドモジュールとして用いられている。
【００６２】
また、露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）（ラインヘッドモジュール）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト９０に順次転写する一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００６３】
ここで、各露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、それぞれのアレイ方向が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の母線に沿うように設置されている。そして、各露光ヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とがほぼ一致するように設定されている。
【００６４】
現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００６５】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｓに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｓ上に定着され、その後、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。
【００６６】
なお、画像形成装置８０は、図５に示すように、多数枚の記録媒体Ｓが積層保持されている給紙カセット６３と、給紙カセット６３から記録媒体Ｓを一枚ずつ給送するピックアップローラ６４と、二次転写ローラ６６の二次転写部への記録媒体Ｓの供給タイミングを規定するゲートローラ対６５と、中間転写ベルト９０との間で二次転写部を形成する二次転写ローラ６６と、二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニングブレード６７と、をさらに備えている。
【００６７】
画像形成装置８０は、本実施形態に係る電気光学装置を露光ヘッド１０１として備えている。これにより、画像形成装置８０の露光ヘッド１０１は、画素内での発光の強弱のばらつきが抑えられ有機機能層の局部的な劣化が防止されるので、長寿命である。また、画像形成装置８０の露光ヘッド１０１は、発光領域のみが発光に寄与するので、発光領域外の発光が防止される。したがって、画像形成装置８０は、解像度や描画品質の優れた画像を印刷することができる。
【００６８】
なお、本発明の実施形態は、上記に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
【００６９】
上記実施形態では、第１電極１２は、円形形状で、それぞれが図１のＸ軸方向に延びる２つの列を構成し、２つの列のそれぞれにおいて等ピッチＰ１で配置されているようにしたが、第１電極１２の形状、数、配列、およびピッチはこれに限定されない。例えば、第１電極１２の形状は四角形、楕円、等別の形状であってもよい。
【００７０】
上記実施形態では、バンク１６は、すべての開口部１４ａに対応する範囲を囲んでいるようにしたが、これに限定されない。バンク１６は、すべての開口部１４ａを複数の開口部の集合に分けそれぞれの集合の複数の開口部を囲んでいてもよいし、一つの開口部１４ａに対応する範囲だけを囲んでいてもよい。また、バンク１６の形状は、角部が丸みを帯びた四角形としたが、円形、楕円、等別の形状であってもよい。
【００７１】
上記実施形態では、有機機能層１８は、正孔注入層１８ａと発光層１８ｂとから構成されているようにしたが、これに限定されない。有機機能層１８は、発光層１８ｂのみで構成されていてもよいし、発光層１８ｂに隣接して形成された電子注入輸送などの機能を有する他の機能層をさらに含んでいてもよい。
【００７２】
上記実施形態では、有機機能層１８の発光領域１８ｅは、正孔注入層１８ａと発光層１８ｂとに規定されているようにしたが、これに限定されない。有機機能層１８の発光領域１８ｅは、正孔注入層１８ａのみに規定されていてもよい。この場合は、有機機能層１８を形成するステップにおいて、発光層１８ｂを形成する前に、遮光部２４ａを有するマスク２４を通して紫外領域の光２６を正孔注入層１８ａに照射すればよい。これにより、正孔注入層１８ａのみに発光領域１８ｅが規定される。このとき、有機機能層１８の発光領域１８ｅのみに正孔注入層１８ａから正孔が注入されるので、発光領域１８ｅのみが発光に寄与することができる。
【００７３】
上記実施形態では、有機機能層１８から基板１１側に発した光が基板１１側に出射される構成としたが、これに限定されない。例えば、第２電極２０に透明な材料を用いることにより、第２電極２０側から光を出射させるようにしてもよい。
【００７４】
上記実施形態では、電子機器は、本実施形態に係る電気光学装置を露光ヘッド１０１として備えた画像形成装置８０としたが、これに限定されない。電子機器は、例えば、図６に示すように、本実施形態に係る電気光学装置をディスプレイ２０２として備えた携帯電話２００であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本実施形態に係る電気光学装置の概略構成を模式的に示す図。
【図２】図１のII-II線に沿った断面図。
【図３】本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明する図。
【図４】本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明する図。
【図５】本実施形態に係る電子機器を説明する図。
【図６】本実施形態に係る電子機器を説明する図。
【符号の説明】
【００７６】
１０…電気光学装置、１１…基板、１２…第１電極、１４…絶縁膜、１４ａ…開口部、１６…バンク、１８…有機機能層、１８ａ…正孔注入層、１８ｂ…発光層、１８ｅ…発光領域、２０…第２電極、２２…封止層、２４…マスク、２４ａ…遮光部、２６…光、４１…感光体ドラム、４２…コロナ帯電器、４４…現像装置、４５…一次転写ローラ、４６…クリーニング装置、６１…定着ローラ対、６２…排紙ローラ対、６３…給紙カセット、６４…ピックアップローラ、６５…ゲートローラ対、６６…二次転写ローラ、６７…クリーニングブレード、６８…排紙トレイ、８０…画像形成装置、９０…中間転写ベルト、９１…駆動ローラ、９２…従動ローラ、９３…テンションローラ、１０１…露光ヘッド、２００…携帯電話、２０２…ディスプレイ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と、
前記第１電極に対応した開口部を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、少なくとも前記開口部に対応した範囲を囲むバンクと、
前記バンクに囲まれた前記範囲内に液滴配置により形成され、前記開口部に対応する発光領域を有する有機機能層と、
前記有機機能層を覆う第２電極と、を備え、
前記開口部は、前記発光領域より広いことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置であって、
前記バンクは、複数の前記開口部に対応した前記範囲を囲むように形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置であって、
前記有機機能層は、前記発光領域以外の部分の比抵抗が、前記発光領域の部分の比抵抗より高くなっていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の電気光学装置であって、
前記有機機能層は正孔注入層を含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の電気光学装置を備えた電子機器。
【請求項６】
第１電極を形成するステップと、
前記第１電極に対応した開口部を有する絶縁膜を形成するステップと、
前記絶縁膜上に、少なくとも前記開口部に対応した範囲を囲むようにバンクを形成するステップと、
前記バンクで囲まれた前記範囲内に液滴を配置し有機機能層を形成するステップと、
前記有機機能層に、前記開口部に対応した発光領域を規定するステップと、
前記有機機能層を覆う第２電極を形成するステップと、を含み、
前記開口部は、前記発光領域より広く形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記バンクは、複数の前記開口部に対応した前記範囲を囲むように形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記有機機能層は、前記発光領域以外の部分の比抵抗が、前記発光領域の部分の比抵抗より高くなっていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記発光領域は、前記有機機能層に対して選択的に表面処理を施すことにより規定されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記表面処理の方法は、紫外領域の光の照射であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項６から１０のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記有機機能層は正孔注入層を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１】
第１電極と、
前記第１電極に対応した開口部を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、少なくとも前記開口部に対応した範囲を囲むバンクと、
前記バンクに囲まれた前記範囲内に液滴配置により形成され、前記開口部に対応する発光領域を有する有機機能層と、
前記有機機能層を覆う第２電極と、を備え、
前記開口部は、前記発光領域より広いことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置であって、
前記バンクは、複数の前記開口部に対応した前記範囲を囲むように形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置であって、
前記有機機能層は、前記発光領域以外の部分の比抵抗が、前記発光領域の部分の比抵抗より高くなっていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の電気光学装置であって、
前記有機機能層は正孔注入層を含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の電気光学装置を備えた電子機器。
【請求項６】
第１電極を形成するステップと、
前記第１電極に対応した開口部を有する絶縁膜を形成するステップと、
前記絶縁膜上に、少なくとも前記開口部に対応した範囲を囲むようにバンクを形成するステップと、
前記バンクで囲まれた前記範囲内に液滴を配置し有機機能層を形成するステップと、
前記有機機能層に、前記開口部に対応した発光領域を規定するステップと、
前記有機機能層を覆う第２電極を形成するステップと、を含み、
前記開口部は、前記発光領域より広く形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記バンクは、複数の前記開口部に対応した前記範囲を囲むように形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記有機機能層は、前記発光領域以外の部分の比抵抗が、前記発光領域の部分の比抵抗より高くなっていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記発光領域は、前記有機機能層に対して選択的に表面処理を施すことにより規定されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記表面処理の方法は、紫外領域の光の照射であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項６から１０のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記有機機能層は正孔注入層を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００８−１０９００３（Ｐ２００８−１０９００３Ａ）
【公開日】平成２０年５月８日（２００８．５．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２９２１８７（Ｐ２００６−２９２１８７）
【出願日】平成１８年１０月２７日（２００６．１０．２７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年５月８日（２００８．５．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月２７日（２００６．１０．２７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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