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エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 製造方法、装置 (15,131) | 表面処理方法 (710)

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【課題】隔壁により区画された画素領域に対して有機発光媒体材料を溶かしたインクを印刷形成し、画素領域内に有機発光媒体層を平坦に形成することで、発光効率を向上させることができる有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子10は、基板11と、基板11上に設けられた格子状隔壁13、13’と、格子状隔壁13、13’により区画された領域内に形成された第一電極12と、第一電極12上に形成された、有機発光材料を含む有機発光媒体層15と、有機発光媒体層15上に形成された第二電極16とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、格子状隔壁13、13’により区画された領域内の中央部で、かつ第一電極12上に平坦化隔壁14を形成したものである。 (もっと読む)


【課題】 直接膜封止法であるにもかかわらず有機EL素子の劣化が防止でき、かつ、有機EL素子の長寿命化が可能である有機ELデバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板101上に、有機エレクトロルミネッセンス素子110が形成された有機エレクトロルミネッセンスデバイス100であって、有機エレクトロルミネッセンス素子110上にガスバリア層120を有し、ガスバリア層120が、金属および半金属の少なくとも1種を含み、ガスバリア層120が、放電処理がされた放電処理層120bと、放電処理がされていない非放電処理層120aとを含んでいることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い耐久性と良好な水蒸気バリアー性能を有する水蒸気バリアーフィルムの製造方法を実現し、そのような優れた性能を有する水蒸気バリアーフィルムと、その水蒸気バリアーフィルムを用いた水蒸気バリアー性に優れた電子機器を得ること。
【解決手段】基材1上に水蒸気バリアー層4と保護層5が積層された水蒸気バリアーフィルム10において、その水蒸気バリアーフィルム10の周縁部の少なくとも一部に、その中央側よりも水蒸気透過率が低い低透過領域Rbを形成することとした。この低透過領域Rbは、周縁部の全体に亘って形成されていることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】等方的発光の光学デバイスに適用して光取り出し効率の向上および出射光波長の出射角度依存性の抑制の双方が可能な光取り出し用光学フィルムを提供する。
【解決手段】光学フィルム1の凹凸構造部12は、凹凸単位12aが少なくとも2つの方向に繰り返し配列されている。凹凸単位12aは、大略、角錐形状、角錐台形状、円錐形状、円錐台形状、屋根形状、半球形状もしくは半球台形状の突起又は窪みを形成している。凹凸構造部12の少なくとも一部が粗面化部12b,12cである。 (もっと読む)


【課題】極めて厳密な封止が必要ない、アルミニウム電極の酸化が簡便かつ低コストに防止された、電極酸化防止有機デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ポリチオフェン系導電性高分子および高分子電解質を含有する導電性高分子/高分子電解質層を有する電極酸化防止有機デバイスであって、前記導電性高分子/高分子電解質層の表面から高分子電解質が溶解除去されている、電極酸化防止有機デバイスおよびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子の発光領域を狭めるのを抑制し、有機EL素子の特性を改善する。
【解決手段】少なくとも透光性基板1上に、画素電極2、対向電極7、有機発光層5、画素電極2に対応した発光領域を区画する樹脂組成物からなる隔壁3を形成し、画素電極2及び対向電極7から有機発光層5に電流を流して発光させる有機エレクトロルミネッセンス素子であって、隔壁3の側面の表面粗さを約3nm以上として粗面化する。 (もっと読む)


【課題】画素電極と対向電極とのショートを抑制することが可能な有機EL装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】画素電極を形成する工程と、画素電極の表面を洗浄する第1洗浄工程と、第1洗浄工程によって除去し切れなかった異物もしくは第1洗浄工程の際に付着した異物が画素電極の上に存在している状態で、画素電極の上に無機化合物からなるホール輸送性を有する材料により第1酸化物層を形成する工程と、第1酸化物層の表面を洗浄し画素電極の上に存在した異物を除去する第2洗浄工程と、第2洗浄工程の後に、第1酸化物層の上及び第1酸化物層から露出していた画素電極の上に無機化合物からなるホール輸送性を有しその抵抗率が第1酸化物層の抵抗率よりも小さい材料により第2酸化物層を形成する工程と、第2酸化物層の上に有機層を形成する工程と、有機層の上に対向電極を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機EL装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高精細、高開口率を有する発光装置を提供する。
【解決手段】第1のトランジスタ及び第2のトランジスタ上の層間絶縁膜と、層間絶縁膜上の第1の電極と、第2の電極と、第1の電極の端部と第2の電極の端部を覆う絶縁物と、第1の電極及び絶縁物上の第1の発光層と、第2の電極及び絶縁物上の第2の発光層と、第1の発光層と重なる位置の第1のカラーフィルタと、第2の発光層と重なる位置の第2のカラーフィルタと、第1のカラーフィルタと第2のカラーフィルタの間の遮光部とを有し、第1の電極は第1のトランジスタに電気的に接続され、第2の電極は第2のトランジスタに電気的に接続され、第1の発光層の一部と第2の発光層の一部は、絶縁物上で重なっており、遮光部は、絶縁物上で重なる第1の発光層の一部と第2の発光層の一部に重なって設けられる。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性能を有するとともに、折り曲げ耐性、平滑性に優れたガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルム、そのガスバリアフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】樹脂フィルムなどの基材1上に、プラズマCVD法などの蒸着法によって形成された金属酸化物を含有する蒸着層2と、ポリシラザンを含む液体を塗布し乾燥した後に真空紫外光を照射して形成されたポリシラザン改質層3とを積層した構成のガスバリアフィルム10において、蒸着層2に真空紫外光を照射するエキシマ処理と、ポリシラザン改質層3にプラズマを照射するプラズマ処理の、少なくとも一方を施すこととした。 (もっと読む)


【課題】十分な難燃性があり、かつ高ガスバリア性能、UVカット性とともに、デバイス素子用フィルムとして優れた耐水性、光取り出し/取り込み性を有する多機能フィルムを提供すること、及びそれを用いた有機素子デバイスを提供する。
【解決手段】難燃性基材の片面にガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、該ガスバリア層とは反対面にUVカット性を有している層を有し、かつ該UVカット性を有している層と難燃性基材の屈折率差が0.01〜0.20であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 (もっと読む)


【課題】最小限の工程で隔壁からのブリードアウトやアウトガスが少なく有機発光媒体層へのダメージが抑えられ、欠陥や劣化のない有機EL素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された第一電極層と、第一電極層を区画する少なくとも表面が有機材料からなる隔壁と、前記第一電極層上に形成された少なくとも発光層を含む有機発光媒体層と、前記有機発光媒体層上に形成される第二電極層と、からなる有機EL素子であって、前記隔壁表面の炭素の二重結合数は隔壁内部の炭素の二重結合数よりも多いことを特徴とする有機EL素子を提供する。 (もっと読む)


【課題】複数のガラス板を互いに接合面で接合したガラス積層体において、接合面における接着力の低下を防止することができると共に、良好な光透過性を維持することができ、しかも、常温でもガラス板の接合を可能とするガラス板の接合方法を提供する。
【解決手段】積層されるガラス板2,3の接合面21,31に酸溶液を塗布した後、または酸溶液21,31を塗布した接合面を洗浄した後、接合面21,31を互いに接触させて接合する。 (もっと読む)


【課題】従来技術と比較して、高い水蒸気バリア性を有するシリコン含有封止膜を提供する。
【解決手段】ポリシラザン膜の主面にプラズマ照射を行うことにより形成された変性領域を備え、変性領域は、ケイ素原子と窒素原子とを含み、またはケイ素原子と窒素原子と酸素原子とを含み、変性領域において、原子組成が徐々に変化している、シリコン含有封止膜。 (もっと読む)


【課題】初期の発光輝度の寿命劣化が改善された有機ELディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】基板101上に少なくとも第1電極102
、第1電極に対向する第2電極、及び前記第1電極と第2電極の間に配置される発光媒体層を形成し、前記発光媒体層は、有機発光層と、前記有機発光層に第1電極側で接触する正孔輸送層105とを少なくとも備える有機ELディスプレイパネルの製造方法であって、
前記有機発光層を形成する前に、前記基板上に形成した前記正孔輸送層の表面に対し光照射109を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】大型マスクが洗浄可能で、マスクへの物理的・熱的な要因の印加や環境への負荷増大のない、有機EL用マスククリーナ装置と方法を提供する。
【解決手段】蒸着工程において表面に付着した有機物を含むマスクから、当該表面に付着した有機物を除去するためのドライ完結型有機EL用マスククリーナ装置は、レーザ洗浄を行うレーザ洗浄装置(10)と、酸素プラズマによるアッシングを行う酸素アッシング装置(20)と、EUVをマスクの表面に照射するEUV装置(30)と、大気圧プラズマ処理を行う大気圧プラズマ処理装置(40)とを備え、互いに隣接して配置すると共に、マスクを搬送するための搬送手段(50)が設けられている。 (もっと読む)


【課題】良好な特性を維持しつつ微細化を達成した半導体装置の提供を目的の一とする。さらに、これらの微細化を達成した半導体装置の良好な特性を維持しつつ、3次元高集積化を図ることを目的の一つとする。
【解決手段】絶縁層中に埋め込まれた配線と、絶縁層上の酸化物半導体層と、酸化物半導体層と電気的に接続するソース電極及びドレイン電極と、酸化物半導体層と重畳して設けられたゲート電極と、酸化物半導体層と、ゲート電極との間に設けられたゲート絶縁層と、を有し、絶縁層は、配線の上面の一部を露出するように形成され、配線は、その上面の一部が絶縁層の表面の一部より高い位置に存在し、且つ、絶縁層から露出した領域において、ソース電極またはドレイン電極と電気的に接続し、絶縁層表面の一部であって、酸化物半導体層と接する領域は、その二乗平均平方根粗さが1nm以下である半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】水分や酸素等による劣化を抑制し、より長寿命のEL発光素子を提供する。
【解決手段】EL発光素子1は、デシカント21の表面22に水素プラズマによる脱酸素処理を行った後、空気中に暴露することなく、デシカントがEL発光部12と対向するように配設されていることにより、脱酸素処理によって、吸酸素能を高められたデシカントが、その吸酸素能を損なうことなくEL発光部と同一空間内に封止される。封止部材内に侵入した酸素や水分をデシカントが効率よく吸収することができるため、より寿命の長いEL発光素子を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】結晶性の高い微結晶半導体膜の作製法を提供する。または、電気特性が良好な半導体装置を、生産性高く作製する方法を提供する。
【解決手段】基板上に第1の微結晶半導体膜を形成した後、当該第1の微結晶半導体膜の表面を平坦化する処理を行い、次に、平坦化された第1の微結晶半導体膜の表面側の非晶質半導体領域を除去する処理を行って、結晶性が高く、且つ平坦性を有する第2の微結晶半導体膜を形成する。次に、第2の微結晶半導体膜上に第3の微結晶半導体膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】画素電極と対向電極とのショートを抑制することが可能な有機EL装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 画素電極を形成する工程と、前記画素電極の表面を洗浄する第1洗浄工程と、前記第1洗浄工程の後に、前記画素電極の上に第1酸化物層を形成する工程と、前記第1酸化物層の表面を洗浄する第2洗浄工程と、前記第2洗浄工程の後に、前記第1酸化物層の上に第2酸化物層を形成する工程と、前記第2酸化物層の上に有機層を形成する工程と、前記有機層の上に対向電極を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機EL装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】面発光体の光取り出し効率を大幅に向上するとともに、耐久性が改良され、フレキシブル性を有する面発光体を提供する。
【解決手段】マトリックス樹脂と、少なくとも1種の磁化率異方性粒子とを含有する光取り出し層を有する面発光体であって、該磁化率異方性粒子の長軸が、該光取り出し層の膜厚方向に配向していることを特徴とする面発光体。 (もっと読む)


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