説明

電気化学装置

【課題】高圧な第2流路が減圧される際、前記第2流路に連通するシール溝内を良好に減圧することができ、電解質膜の損傷を可及的に阻止することを可能にする。
【解決手段】水電解装置10を構成する単位セル12は、電解質膜・電極構造体32をアノード側セパレータ34及びカソード側セパレータ36により挟持する。アノード側セパレータ34には、水が供給される第1流路54が形成され、カソード側セパレータ36には、前記水が電気分解されて高圧水素を得る第2流路58が形成される。第2流路58の外側を周回して第1シール部材64aが挿入される第1シール溝62aが設けられるとともに、前記第1シール溝62aと前記第2流路58とは、通路66を介して連通する。通路66は、カソード側セパレータ36と固体高分子電解質膜38との境界部位を迂回して第2流路58と第1シール溝62aとを直接連通する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電解質膜の両側に給電体が設けられ、前記給電体にセパレータが積層されるとともに、一方の給電体と一方のセパレータとの間には、第1の流体を供給する第1流路が形成され、他方の給電体と他方のセパレータとの間には、前記第1の流体が電気分解されて常圧よりも高圧な第2の流体を得る第2流路が形成される電気化学装置に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば、固体高分子型燃料電池は、アノード側電極に燃料ガス(主に水素を含有するガス、例えば、水素ガス)が供給される一方、カソード側電極に酸化剤ガス(主に酸素を含有するガス、例えば、空気)が供給されることにより、直流の電気エネルギを得ている。
【0003】
一般的に、燃料ガスである水素ガスを製造するために、水電解装置(電気化学装置)が採用されている。この水電解装置は、水を分解して水素(及び酸素)を発生させるため、固体高分子電解質膜を用いている。固体高分子電解質膜の両面には、電極触媒層が設けられて電解質膜・電極構造体が構成されるとともに、前記電解質膜・電極構造体の両側には、給電体を配設してユニットが構成されている。すなわち、ユニットは、実質的には、上記の燃料電池と同様に構成されている。
【0004】
そこで、複数のユニットが積層された状態で、積層方向両端に電圧が付与されるとともに、アノード側給電体に水が供給される。このため、電解質膜・電極構造体のアノード側では、水が分解されて水素イオン(プロトン)が生成され、この水素イオンが固体高分子電解質膜を透過してカソード側に移動し、電子と結合して水素が製造される。一方、アノード側では、水素と共に生成された酸素が、余剰の水を伴ってユニットから排出される。
【0005】
この種の設備では、数十MPaの高圧水素を生成するため、例えば、特許文献1に開示されている水素供給装置が知られている。この水素供給装置は、図7に示すように、電極接合体膜1の両面に陽極給電体2及び陰極給電体3を備えた接合体を、複極板4により挟持した単セルを備えている。
【0006】
複極板4と陽極給電体2との間には、水を供給するための通路5aが形成される一方、前記複極板4と陰極給電体3との間には、生成された水素を流動させるための通路5bが形成されている。複極板4の周縁部には、第1のOリング6aを収容するための第1のシール溝7a、7bと、第2のOリング6bを収容するための第2のシール溝7c、7dとが形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特開2004−2914号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
ところで、上記の特許文献1では、高圧水素を生成するため、通路5bが高圧ガス室を構成しており、前記通路5bに連通する第2のシール溝7dも、高圧水素が充填されて高圧になっている。このため、水素供給装置を停止する際のように、この水素供給装置内部を減圧(脱圧)する際に、通路5b内が減圧されるとともに、電極接合体膜1と複極板4との隙間を通って第2のシール溝7d内の高圧水素が前記通路5bに高速で流れるおそれがある。
【0009】
これにより、高圧水素が電極接合体膜1に沿って高速で流れるため、前記電極接合体膜1が損傷し易いという問題がある。
【0010】
本発明はこの種の問題を解決するものであり、高圧な第2流路が減圧される際、前記第2流路に連通するシール溝内を良好に減圧することができ、電解質膜の損傷を可及的に阻止することが可能な電気化学装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明は、電解質膜の両側に給電体が設けられ、前記給電体にセパレータが積層されるとともに、一方の給電体と一方のセパレータとの間には、第1の流体を供給する第1流路が形成され、他方の給電体と他方のセパレータとの間には、前記第1の流体が電気分解されて常圧よりも高圧な第2の流体を得る第2流路が形成される電気化学装置に関するものである。
【0012】
この電気化学装置は、他方のセパレータが、第2流路の外側を周回してシール部材が挿入されるシール溝と、前記第2流路と前記シール溝とを連通する開口部とを設けている。
【0013】
また、この電気化学装置は、シール部材が、セパレータ間に介装される電解質膜に対向して配置されることが好ましい。
【0014】
さらに、この電気化学装置は、第1流路が常圧であり、前記第1流路と第2流路とに差圧が設けられることが好ましい。
【0015】
さらにまた、第1の流体は、水であり、第2の流体は、水素であることが好ましい。
【0016】
また、本発明に係る電気化学装置は、第2流路に連通しセパレータの積層方向に延在する高圧流体連通孔を備え、前記セパレータは、前記高圧流体連通孔の外側を周回してシール部材が挿入されるシール溝と、前記高圧流体連通孔と前記シール溝とを連通する開口部とを設けている。
【0017】
さらに、この電気化学装置は、シール部材が、セパレータ間に介装される電解質膜に対向して配置されることが好ましい。
【0018】
さらにまた、この電気化学装置は、第1の流体は、水であり、第2の流体は、水素であるとともに、高圧流体連通孔は、高圧水素連通孔であることが好ましい。
【発明の効果】
【0019】
本発明によれば、高圧な第1の流体が生成されて第2流路が高圧になると、この第2流路に連通するシール溝も高圧になっている。そして、第2流路が脱圧(減圧)される際には、シール溝と前記第2流路とを直接連通する開口部を介して、前記シール溝も良好に脱圧される。従って、脱圧時に、第2流路とシール溝とに差圧が発生することがなく、脱圧途上で差圧が増大し、前記シール溝から前記第2流路に高圧流体が急激に移動することを確実に阻止することが可能になる。
【0020】
また、本発明によれば、高圧流体連通孔に連通するシール溝が高圧になっている。そして、高圧流体連通孔が脱圧される際には、シール溝と前記高圧流体連通孔とを直接連通する開口部を介して、前記シール溝も良好に脱圧される。これにより、脱圧時に、高圧流体連通孔とシール溝とに差圧が発生することがなく、前記シール溝から前記高圧流体連通孔に高圧流体が急激に移動することを確実に阻止することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る水電解装置の斜視説明図である。
【図2】前記水電解装置の一部断面側面図である。
【図3】前記水電解装置を構成する単位セルの分解斜視説明図である。
【図4】前記単位セルの断面説明図である。
【図5】本発明の第2の実施形態に係る水電解装置を構成するカソード側セパレータの要部断面説明図である。
【図6】本発明の第3の実施形態に係る水素昇圧装置の概略断面説明図である。
【図7】特許文献1に開示されている水電解装置の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
図1及び図2に示すように、本発明の第1の実施形態に係る水電解装置(電気化学装置)10は、高圧水素製造装置を構成しており、複数の単位セル12が鉛直方向(矢印A方向)又は水平方向(矢印B方向)に積層された積層体14を備える。積層体14の積層方向一端には、ターミナルプレート16a、絶縁プレート18a及びエンドプレート20aが上方に向かって、順次、配設される。積層体14の積層方向他端には、同様にターミナルプレート16b、絶縁プレート18b及びエンドプレート20bが下方に向かって、順次、配設される。
【0023】
水電解装置10は、例えば、矢印A方向に延在する複数のタイロッド22を介して円盤形状のエンドプレート20a、20b間を一体的に締め付け保持する。なお、水電解装置10は、エンドプレート20a、20bを端板として含む箱状ケーシング(図示せず)により一体的に保持される構成を採用してもよい。また、水電解装置10は、全体として略円柱体形状を有しているが、立方体形状等の種々の形状に設定可能である。
【0024】
図1に示すように、ターミナルプレート16a、16bの側部には、端子部24a、24bが外方に突出して設けられる。端子部24a、24bは、配線26a、26bを介して電源28に電気的に接続される。陽極(アノード)側である端子部24aは、電源28のプラス極に接続される一方、陰極(カソード)側である端子部24bは、前記電源28のマイナス極に接続される。
【0025】
図2及び図3に示すように、単位セル12は、円盤状の電解質膜・電極構造体32と、この電解質膜・電極構造体32を挟持するアノード側セパレータ34及びカソード側セパレータ36とを備える。アノード側セパレータ34及びカソード側セパレータ36は、円盤状を有するとともに、例えば、カーボン部材等で構成され、又は、鋼板、ステンレス鋼板、チタン板、アルミニウム板、めっき処理鋼板、あるいはその金属表面に防食用の表面処理を施した金属板をプレス成形して、あるいは切削加工した後に防食用の表面処理を施して構成される。
【0026】
電解質膜・電極構造体32は、例えば、パーフルオロスルホン酸の薄膜に水が含浸された固体高分子電解質膜38と、前記固体高分子電解質膜38の両面に設けられるアノード側給電体40及びカソード側給電体42とを備える。
【0027】
固体高分子電解質膜38の両面には、アノード電極触媒層40a及びカソード電極触媒層42aが形成される。アノード電極触媒層40aは、例えば、Ru(ルテニウム)系触媒を使用する一方、カソード電極触媒層42aは、例えば、白金触媒を使用する。
【0028】
アノード側給電体40及びカソード側給電体42は、例えば、球状アトマイズチタン粉末の焼結体(多孔質導電体)により構成される。アノード側給電体40及びカソード側給電体42は、研削加工後にエッチング処理される平滑表面部を設けるとともに、空隙率が10%〜50%、より好ましくは、20%〜40%の範囲内に設定される。
【0029】
単位セル12の外周縁部には、積層方向である矢印A方向に互いに連通して、第1の流体である水(純水)を供給するための水供給連通孔46と、反応により生成された酸素及び使用済みの水を排出するための排出連通孔48と、反応により生成された第2の流体である水素(高圧水素)を流すための水素連通孔(高圧流体連通孔)50とが設けられる。
【0030】
図3及び図4に示すように、アノード側セパレータ34の外周縁部には、水供給連通孔46に連通する供給通路52aと、排出連通孔48に連通する排出通路52bとが設けられる。アノード側セパレータ34の電解質膜・電極構造体32に向かう面34aには、供給通路52a及び排出通路52bに連通する第1流路54が設けられる。この第1流路54は、アノード側給電体40の表面積に対応する範囲内に設けられるとともに、複数の流路溝や複数のエンボス等で構成される(図2及び図3参照)。
【0031】
カソード側セパレータ36の外周縁部には、水素連通孔50に連通する排出通路56が設けられる。カソード側セパレータ36の電解質膜・電極構造体32に向かう面36aには、排出通路56に連通する第2流路58が形成される。この第2流路58は、カソード側給電体42の表面積に対応する範囲内に設けられるとともに、複数の流路溝や複数のエンボス等で構成される(図2及び図3参照)。
【0032】
アノード側セパレータ34及びカソード側セパレータ36の外周端部を周回して、シール部材60a、60bが一体化される。このシール部材60a、60bには、例えば、EPDM、NBR、フッ素ゴム、シリコーンゴム、フロロシリコーンゴム、ブチルゴム、天然ゴム、スチレンゴム、クロロプレーン又はアクリルゴム等のシール材、クッション材、あるいはパッキン材が用いられる。
【0033】
図4に示すように、カソード側セパレータ36の電解質膜・電極構造体32に向かう面36aには、第2流路58の外側を周回して第1シール溝62aが形成される。
【0034】
図3及び図4に示すように、面36aには、水供給連通孔46、排出連通孔48及び水素連通孔50の外側を周回して第2シール溝62b、第3シール溝62c及び第4シール溝62dが形成される。第1シール溝62a〜第4シール溝62dには、例えば、Oリングである第1シール部材64a〜第4シール部材64dが配設される。
【0035】
第2流路58と第1シール溝62aとは、複数、例えば4つの通路(開口部)66を介して連通する。通路66は、第1シール溝62aに対し、第1シール部材64aの配置位置よりも第2流路58側に近接する壁部(内側壁部)に開口する。通路66は、カソード側セパレータ36と固体高分子電解質膜38との境界部位を迂回して第2流路58と第1シール溝62aとを直接連通する。
【0036】
高圧水素連通孔である水素連通孔50と第4シール溝62dとは、1以上の通路(開口部)68を介して連通する。この通路68は、第4シール溝62dの内側壁部に開放される。通路68は、カソード側セパレータ36と固体高分子電解質膜38との境界部位を迂回して水素連通孔50と第4シール溝62dとを直接連通する。
【0037】
アノード側セパレータ34の電解質膜・電極構造体32に向かう面34aには、第1流路54の外側を周回し、且つ第1シール溝62aに対向して第1シール溝70aが形成される。面34aには、水供給連通孔46、排出連通孔48及び水素連通孔50の外側を周回し、且つ第2シール溝62b、第3シール溝62c及び第4シール溝62dに対向して第2シール溝70b、第3シール溝70c及び第4シール溝70dが形成される。
【0038】
第1シール溝70a〜第4シール溝70dには、例えば、Oリングである第1シール部材72a〜第4シール部材72dが収容される。第4シール溝70dと水素連通孔50とは、1以上の通路(開口部)74を介して連通する。この通路74は、第4シール溝70dの内側壁部に開放される。通路74は、アノード側セパレータ34と固体高分子電解質膜38との境界部位を迂回して水素連通孔50と第4シール溝70dとを直接連通する。
【0039】
図1及び図2に示すように、エンドプレート20aには、水供給連通孔46、排出連通孔48及び水素連通孔50に連通する配管76a、76b及び76cが接続される。配管76cには、図示しないが、背圧弁(又は電磁弁)が設けられており、水素連通孔50に生成される水素の圧力を高圧に維持することができる。
【0040】
このように構成される水電解装置10の動作について、以下に説明する。
【0041】
図1に示すように、配管76aから水電解装置10の水供給連通孔46に水が供給されるとともに、ターミナルプレート16a、16bの端子部24a、24bに電気的に接続されている電源28を介して電圧が付与される。このため、図3に示すように、各単位セル12では、水供給連通孔46からアノード側セパレータ34の第1流路54に水が供給され、この水がアノード側給電体40内に沿って移動する。
【0042】
従って、水は、アノード電極触媒層40aで電気により分解され、水素イオン、電子及び酸素が生成される。この陽極反応により生成された水素イオンは、固体高分子電解質膜38を透過してカソード電極触媒層42a側に移動し、電子と結合して水素が得られる。
【0043】
このため、カソード側セパレータ36とカソード側給電体42との間に形成される第2流路58に沿って水素が流動する。この水素は、水供給連通孔46よりも高圧に維持されており、水素連通孔50を流れて水電解装置10の外部に取り出し可能となる。一方、第1流路54には、反応により生成した酸素と、使用済みの水とが流動しており、これらが排出連通孔48に沿って水電解装置10の外部に排出される。
【0044】
上記のように、水電解装置10では、第2流路58には、高圧水素が生成されており、この第2流路58が高圧水素発生室を構成している。第2流路58は、通路66を介して第1シール溝62aに連通しており、この第1シール溝62aにも高圧水素が充填されている。
【0045】
さらに、第2流路58に連通する水素連通孔50も同様に、高圧水素が導入されることにより高圧となっている。一方、水素連通孔50に通路68、74を介して連通する第4シール溝62d、70dも、高圧水素により高圧化されている。
【0046】
次いで、水電解装置10の運転が停止される際、常圧側の第1流路54と高圧側の第2流路58との差圧を解消するために、前記第2流路58に脱圧(減圧)処理が施される。
【0047】
この場合、第1の実施形態では、第1シール溝62aの内面側と第2流路58とが、複数、例えば、4本の通路66を介して直接連通している。このため、第2流路58が脱圧(減圧)される際には、この第2流路58と第1シール溝62aとを連通している通路66を介して、前記第1シール溝62aも良好に脱圧することができる。
【0048】
従って、脱圧時に、第2流路58と第1シール溝62aとに差圧が発生することがなく、脱圧途上で圧力差が増大し、第1シール溝62aから第2流路58に固体高分子電解質膜38に沿って高圧水素が急激に移動することを確実に阻止することが可能になる。これにより、各第1シール部材64a、72aが対向する固体高分子電解質膜38に損傷等が惹起されることを、確実に阻止することができるという効果が得られる。
【0049】
一方、水素連通孔50の脱圧時には、この水素連通孔50にそれぞれ通路68、74を介して直接連通する第4シール溝62d、70d内の高圧水素が、前記水素連通孔50に排出される。このため、第4シール溝62d、70d内が高圧に保持されることがなく、前記第4シール溝62d、70dから水素連通孔50に固体高分子電解質膜38に沿って高圧水素が急激に移動することを阻止し易い。従って、固体高分子電解質膜38の損傷を可及的に阻止することが可能になる。
【0050】
図5は、本発明の第2の実施形態に係る水電解装置を構成するカソード側セパレータ80の要部断面説明図である。
【0051】
なお、第1の実施形態に係る水電解装置10を構成するカソード側セパレータ36と同一の構成要素には同一の参照符号を付して、その詳細な説明は省略する。
【0052】
カソード側セパレータ80は、第2流路58の外周部とこの第2流路58の外側を周回する第1シール溝62aとの境界部位に、多孔質リング部材82を介装する。多孔質リング部材82は、内部に多数の孔部82aが設けられており、第2流路58と第1シール溝62aとを連通する。
【0053】
このため、第2の実施形態では、第2流路58の減圧時に、第1シール溝62aに存在する高圧水素が多孔質リング部材82の孔部82aを通って前記第2流路58側に良好に移動することができる。これにより、第2流路58と第1シール溝62aとに差圧が発生することがなく、上記の第1の実施形態と同様の効果が得られる。
【0054】
なお、第2の実施形態では、多孔質リング部材82を備えているが、これに限定されるものではない。例えば、複数の円弧状の多孔質部材を、所定の角度ずつ離間して第2流路58と第1シール溝62aとの間に設けてもよい。また、多孔質リング部材82は、粉末の焼結体で構成してもよく、あるいは、機械加工等により複数の孔部82aを形成して構成してもよい。
【0055】
図6は、本発明の第3の実施形態に係る水素昇圧装置(電気化学装置)90の概略断面説明図である。
【0056】
水素昇圧装置90は、固体高分子電解質膜92を有し、前記固体高分子電解質膜92の両面には、ガス拡散電極94と、ガス拡散電極(又はガス発生電極)96とが設けられて高分子電解質膜/電極接合体98が構成される。
【0057】
この高分子電解質膜/電極接合体98は、セパレータ100a、100b間に挟持されるとともに、前記セパレータ100a、100bには、電源102が接続される。セパレータ100aには、低圧な水素と水とが供給される第1流路104が形成される一方、セパレータ100bには、高圧な水素が生成される第2流路106が形成される。
【0058】
セパレータ100aには、第1流路104の外側を周回してシール溝108が形成され、前記シール溝108にOリングであるシール部材110が配設される。セパレータ100bには、第2流路106の外側を周回してシール溝112が形成され、このシール溝112にOリングであるシール部材114が配設される。
【0059】
第2流路106とシール溝112とは、複数の通路116を介して連通する。通路116は、セパレータ100bと固体高分子電解質膜92との境界部位を迂回して第2流路106とシール溝112とを直接連通する。
【0060】
このように構成される水素昇圧装置90は、第1流路104に低圧の湿り水素が供給されると、この水素がガス拡散電極94中を拡散し、プロトンと電子とに解離する。
【0061】
そして、電源102の印加電圧により電子が外部回路を通る一方、プロトンは、固体高分子電解質膜92中を拡散し、ガス拡散電極96側で電子と結合して水素が生成される。このため、第2流路106には、電源102からの印加電圧により、高圧な水素が生成される。
【0062】
この場合、第3の実施形態では、高圧水素が生成される第2流路106とシール溝112とが所定数の通路116を介して直接連通している。このため、第2流路106が脱圧される際には、シール溝112も良好に脱圧することができ、上記の第1及び第2の実施形態と同様の効果が得られる。
【符号の説明】
【0063】
10…水電解装置 12…単位セル
14…積層体 16a、16b…ターミナルプレート
18a、18b…絶縁プレート 20a、20b…エンドプレート
24a、24b…端子部 28…電源
32…電解質膜・電極構造体 34…アノード側セパレータ
36、80…カソード側セパレータ 38、92…固体高分子電解質膜
40…アノード側給電体 42…カソード側給電体
46…水供給連通孔 48…排出連通孔
50…水素連通孔 54、58、104、106…流路
62a〜62d、70a〜70d…シール溝
64a〜64d、72a〜72d…シール部材
66、68、74、116…通路 82…多孔質リング部材
82a…孔部 90…水素昇圧装置
94、96…ガス拡散電極 100a、100b…セパレータ

【特許請求の範囲】
【請求項1】
電解質膜の両側に給電体が設けられ、前記給電体にセパレータが積層されるとともに、一方の給電体と一方のセパレータとの間には、第1の流体を供給する第1流路が形成され、他方の給電体と他方のセパレータとの間には、前記第1の流体が電気分解されて常圧よりも高圧な第2の流体を得る第2流路が形成される電気化学装置であって、
前記他方のセパレータは、前記第2流路の外側を周回してシール部材が挿入されるシール溝と、
前記第2流路と前記シール溝とを連通する開口部と、
を設けることを特徴とする電気化学装置。
【請求項2】
請求項1記載の電気化学装置において、前記シール部材は、前記セパレータ間に介装される前記電解質膜に対向して配置されることを特徴とする電気化学装置。
【請求項3】
請求項1又は2記載の電気化学装置において、前記第1流路は、常圧であり、
前記第1流路と前記第2流路とに差圧が設けられることを特徴とする電気化学装置。
【請求項4】
請求項1〜3のいずれか1項に記載の電気化学装置において、前記第1の流体は、水であり、
前記第2の流体は、水素であることを特徴とする電気化学装置。
【請求項5】
電解質膜の両側に給電体が設けられ、前記給電体にセパレータが積層されるとともに、一方の給電体と一方のセパレータとの間には、第1の流体を供給する第1流路が形成され、他方の給電体と他方のセパレータとの間には、前記第1の流体が電気分解されて常圧よりも高圧な第2の流体を得る第2流路が形成される電気化学装置であって、
前記第2流路に連通し前記セパレータの積層方向に延在する高圧流体連通孔を備え、
前記セパレータは、前記高圧流体連通孔の外側を周回してシール部材が挿入されるシール溝と、
前記高圧流体連通孔と前記シール溝とを連通する開口部と、
を設けることを特徴とする電気化学装置。
【請求項6】
請求項5記載の電気化学装置において、前記シール部材は、前記セパレータ間に介装される前記電解質膜に対向して配置されることを特徴とする電気化学装置。
【請求項7】
請求項5又は6記載の電気化学装置において、前記第1の流体は、水であり、
前記第2の流体は、水素であるとともに、
前記高圧流体連通孔は、高圧水素連通孔であることを特徴とする電気化学装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【公開番号】特開2010−196133(P2010−196133A)
【公開日】平成22年9月9日(2010.9.9)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−44374(P2009−44374)
【出願日】平成21年2月26日(2009.2.26)
【出願人】(000005326)本田技研工業株式会社 (23,863)
【Fターム(参考)】