電磁波シールドフィルム
【課題】電磁波シールド特性のよい導電性網目状パターン形状を備える電磁波シールドフィルムを提供する。
【解決手段】電磁波シールドフィルムは、透明基板２と、透明基板２上に形成された導電性の網目状パターン１を備え、網目状パターン１は、導電性材料からなる多数の帯体１ａが格子状に配置されて構成され、隣接する帯体１ａの相互の間隔Ｄが１μｍ以上２５μｍ以下である。そして、網目状パターン１の開口率を５０％以上１００％未満の範囲内に設定した。
【解決手段】電磁波シールドフィルムは、透明基板２と、透明基板２上に形成された導電性の網目状パターン１を備え、網目状パターン１は、導電性材料からなる多数の帯体１ａが格子状に配置されて構成され、隣接する帯体１ａの相互の間隔Ｄが１μｍ以上２５μｍ以下である。そして、網目状パターン１の開口率を５０％以上１００％未満の範囲内に設定した。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ等の電子機器の表示装置に用いる電磁波シールドフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
情報処理装置から放射される電磁波は、他の情報処理装置に影響を及ぼし、性能を低下させるだけでなく誤動作をさせる危険性がある。そのため、情報処理装置に対して１９８５年にＩＥＣ（国際電気標準会議）の国際無線障害特別委員会（ＣＩＳＰＲ）が国際規格を発効しており、同年、日本においても情報処理装置等電波障害自主規制協議会（ＶＣＣＩ）が設立され、情報処理装置からの電磁波に対して１ＧＨｚまで制限を設けた規格が設置されている。米国やヨーロッパ等でも、日本と同様に情報処理装置からの電磁波の規格が設定されており、情報処理装置を販売する際には、販売する国の電磁波を規制する規格の認定を受ける必要がある。
【０００３】
情報処理装置の一つであるディスプレイには、プラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰと記す）やＣＲＴといった表示素子から電磁波を強く放射するディスプレイもあり、それらのディスプレイでは、表示素子の前面に電磁波を放射させないために電磁波をシールドする素子が必要となる。
ディスプレイ前面の電磁波シールド素子には、遮光性の導電体を用いた導電性網目状パターンを透明樹脂フィルムに形成した電磁波シールドフィルムが一般的に使用されている。
【０００４】
導電性網目状パターンは遮光性があるため、ディスプレイパネルの輝度が下がり、視認性が悪くなる欠点があり、導電性網目状パターンが形成されていない部分である開口部の比率（以下、開口率と記す）を上げることが求められている。
そのため、透明導電膜を使用した電磁波シールドフィルムの技術が開示されている。上記、透明導電膜の材料としては酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が使用されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平５−３２３１０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１で使用するＩＴＯ透明導電膜は１ＧＨｚ付近の高周波帯域のシールド特性がほとんどないため、導電性網目状パターン等の導電性メッシュと併用する必要があり、高周波帯域ではやはり導電性メッシュによるシールドが支配的であり、導電性メッシュ形状の最適化が必要であるといえる。
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、その目的は、電磁波シールド特性のよい導電性網目状パターン形状を備える電磁波シールドフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために本発明の電磁波シールドフィルムは、透明基板と、前記透明基板上に形成された導電性の網目状パターンを備え、前記網目状パターンは、導電性材料からなる多数の帯体が格子状に配置されて構成され、隣接する前記帯体相互の間隔Ｄが１μｍ以上２５μｍ以下であることを特徴とする。
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１記載の電磁波シールドフィルムにおいて、前記導電性の網目状パターンは、導電性材料からなる多数の帯体が互いに直交する縦方向と横方向に格子状に配列された格子状パターンであることを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項１または２記載の電磁波シールドフィルムにおいて、前記網目状パターンの開口率が５０％以上１００％未満であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、導電性網目状パターンの間隔を１μｍ以上２５μｍ以下とすることにより、電磁波シールド特性の改善効果が大きくなるため、網目状パターンの線幅を細くすることができる。その結果、電磁波シールド特性にすぐれ開口率の高い電磁波シールドフィルムを安価に提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施の形態における電磁波シールドフィルムを示す断面模式図である。
【図２】本発明の一実施の形態における電磁波シールドフィルムを示す平面視の模式図である。
【図３】本発明の他の実施の形態における電磁波シールドフィルムを示す平面視の模式図である。
【図４】本発明の更に他の実施の形態における電磁波シールドフィルムを示す平面視の模式図である。
【図５】本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムと従来の電磁波シールドフィルムとのシールド特性の測定結果を示す図である。
【図６】本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムのシールド特性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
次に、本発明にかかる電磁波シールドフィルムの実施の形態について、図１〜図６を参照して説明する。
本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムは、図１及び図２に示すように、透明基板２と、この透明基板２上に形成した導電性の網目状パターン１とを備える。
網目状パターン１は、導電性材料からなる一定の幅と一定の厚さを有する多数の帯体１ａを互いに直交する縦方向と横方向に格子状に配置することで構成される。
【００１２】
図３に示す網目状パターン１は、透明基板２が露出している開口部が六角形となるように導電性材料からなる入一定は幅と一定の厚さを有する多数の帯体を配置することで構成される。
また、図４に示す網目状パターン１は、透明基板２が露出している開口部が三角形となるように導電性材料からなる入一定は幅と一定の厚さを有する多数の帯体を配置することで構成される。
なお、網目状パターン１を形成する場合、透明基板２と網目状パターン１の界面には、透明基材２と網目状パターン１を貼りあわせるための接着剤層等が設けられてもよい。
【００１３】
また、本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにおいて、網目状パターン１の平行して隣接する帯体１ａ相互の間隔Ｄは１μｍ以上２５μｍ以下の範囲内に設定されている。
このような網目状パターン１を有する電磁波シールドフィルムの本発明者らによる後述の実験の結果によれば、電磁波シールドメッシュのシールド特性にあっては、網目状パターン１を構成する帯体１ａの線幅よりも帯体１ａ相互の間隔Ｄ（網目間隔）が支配的であることを見出した。特に、図６から明らかなように、帯体相互の間隔Ｄを２５μｍ以下とすることにより、低周波の電磁波に対するシールド特性に優れる電磁波シールドフィルムとすることができる。帯体相互の間隔Ｄが２５μｍを超える場合には、十分なシールド特性を備える電磁はシールドフィルムとすることはできない。一方、帯体１ａ相互の間隔Ｄが１μｍに満たない網目状パターンを形成することは困難である。
【００１４】
本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにおける導電性の網目状パターンは、透明基板が露出している開口部が正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整数）となるように形成された網目模様であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上を組み合わせた網目模様が挙げられる。
【００１５】
また、本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにあっては、前記導電性の網目状パターンが、図２に示すような導電性材料からなる多数の帯体が互いに直交する縦方向と横方向に格子状に配置された格子状パターンであることが好ましい。網目状パターンを格子状とすることにより、製造時の不具合を抑え、設計や検査工程を単純化することが可能であり、量産に適したパターンとすることができる。
【００１６】
また、本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにあっては、導電性網目状パターン１の開口率が５０％以上１００％未満の範囲内であることが好ましい。導電性網目状パターン１の開口率が５０％以上とすることにより、本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムをプラズマディスプレイ等の表示装置に設けた際に映し出される画像の表示品位の低下を抑えることができる。
【００１７】
また、本実施の形態に示す透明基板２としては、透明性を有する種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。
【００１８】
また、透明基板２の厚みは、５μｍ〜５００μｍ程度が好ましい。５μｍ未満だと取扱い性が悪くなり、５００μｍを越えてもフレキシブル性が無くなり、取扱い性が悪くなる。
【００１９】
本実施の形態に示す網目状パターン１を形成するための導電性材料としては、銅（Ｃｕ）、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属材料、あるいはそれらの２種以上を組み合わせた合金材料を使用できる。導電性（電磁波遮蔽性）やメッシュパターン形成の容易さ、価格の点から銅、アルミニウム、ニッケルの薄膜が好ましく用いることができる。また、ニッケル、鉄、ステンレス、チタン等の金属材料は、磁性遮蔽性にも優れるため好ましく用いることができる。
【００２０】
本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにおいて、透明基板２上に導電性材料からなる網目状パターン１を形成する方法としては、例えばエッチング法により形成することができる。ただし、本発明の電磁波シールドフィルムの製造方法にあってはこれに限定されるものではない。
【００２１】
次に、本発明の実施の形態における電磁波シールドメッシュについてさらに説明する。
図１及び図２に示した、導電性網目状パターンを格子状に配置した導電性メッシュ（格子状パターン）１を、Ｃｕ箔を透明基板２に貼り付け、Ｃｕ箔をエッチングすることで形成した。
このとき、銅箔上にネガ型ドライフィルムレジストＡＱ−１５５８（商品名：旭化成エレクトロニクス製）を熱ラミネートにより形成し、電磁波シールドメッシュパターンが描画されたガラス版を介して紫外線露光を行った。
続いて、１％炭酸ナトリウム溶液、３０℃でスプレー現像を行うことで、銅箔上にレジストパターンを形成した。
更に本基材をエッチング処理することにより、シールドメッシュパターンの形成を行った。
エッチング条件は塩化第二鉄液５０℃、３６°Ｂｅの液を用いて、スプレーエッチング装置でスプレー圧０．２ＭＰａでエッチング処理を行った。
続いて、５０℃の３％水酸化ナトリウムを用いて不用になったレジスト層を除去することによって導電性網目状パターンが形成された導電性シールドフィルムを作成した。
【００２２】
ここで、透明基板２に１００μｍ厚のポリエステル（ＰＥＴ）フィルムを使用し、導電性メッシュ（格子状パターン）１に１μｍ厚のＣｕ箔を使用し、エッチングにより配線幅（帯体１ａの幅）を１０μｍ、格子間隔（帯体１ａ相互の間隔）Ｄを２５μｍ、線厚（帯体１ａの厚さ）を１μｍの正方形格子の格子状パターンの導電性シールドフィルムを形成した。
【００２３】
そして、上記実施の形態と同様の材料と工程で比較用に作成した４つの従来技術の電磁波シールドフィルム１（配線幅１０μｍ、格子間隔５０μｍ、線厚１μｍ）、電磁波シールドフィルム２（配線幅１０μｍ、格子間隔１００μｍ、線厚１μｍ）、電磁波シールドフィルム３（配線幅１０μｍ、格子間隔２００μｍ、線厚１μｍ）、電磁波シールドフィルム４（配線幅２０μｍ、格子間隔２００μｍ、線厚１μｍ）（以下、比較例１、比較例２、比較例３、比較例４と示す）、について、電磁波シールド特性を測定した結果を図５にまとめる。電磁波シールド特性はＫＥＣ（関西電子工業振興センター）法に準じて、周波数を低周波の１０ＭＨｚと高周波の５００ＭＨｚで何ｄＢのシールド効果が得られるかを測定して評価している。
【００２４】
格子間隔（帯体１ａ相互の間隔）Ｄが半分になることによる、シールド特性の改善は、図４からも明らかなように、２００μｍから１００μｍで９．７ｄＢ（１ＭＨｚ），９．８ｄＢ（５００ＭＨｚ）、１００μｍから５０μｍで１２．６ｄＢ（１ＭＨｚ），１２．５ｄＢ（５００ＭＨｚ）、５０μｍから２５μｍで１８．６ｄＢ（１０ＭＨｚ），１８．７ｄＢ（５００ＭＨｚ）であり、格子間隔が５０μｍから２５μｍに半減するところで、その効果が他より大きくなっている。よって、網目（格子）間隔が２５μｍ以下の導電性網目状シールドフィルムを作成することで、従来技術よりシールド特性のよい電磁波シールドフィルムを提供することが可能となる。
【００２５】
また、図５に示す比較例２と比較例４のシールド特性結果から、線幅よりも格子間隔の方がシールド特性において、支配的であることがわかる。図６に線幅を１０μｍとした場合（比較例１、比較例１〜比較例３）の周波数１０ＭＨｚと高周波の５００ＭＨでのシールド特性のグラフを示した。今回は線幅１０μｍで行なったが、線幅が異なった場合でも同様の結果となることが容易に推測される。
【００２６】
本発明の実施の形態で得られた電磁波シールドフィルムは表示装置の前面や窓用フィルムとして用いることができる。特にプラズマディスプレイの前面板として好適に用いることができる。プラズマディスプレイの前面板として用いる場合、電磁波シールドフィルムを直接プラズマディスプレイの本体の前面に貼り付けることにより設置できる。この際、前記網目状パターンを接着又は粘着剤に埋め込むことができ、接着又は粘着剤により他の部材と貼り合わせることができる。
また、得られた電磁波シールドフィルムに接着又は粘着剤を設け、プラズマディスプレイに直接貼り付ける場合において、接着又は粘着剤に添加剤を加えても良い。添加剤としては、近赤外線吸収機能、色補正機能、紫外線吸収機能などの機能を有する材料が挙げられる。
【００２７】
なお、網目状パターンは、導通部を通し、アースすることが好ましい。具体的には、ディスプレイの大きさに応じた電磁波シールドメッシュを作成し、その端部は電磁波遮蔽層に物理強度を与えるために額縁状にする。そして、その端部の一部から導通をとり、電磁波シールド特性を確実にすることが好ましい。
【符号の説明】
【００２８】
１……網目状パターン（導電性メッシュ）、１ａ……帯体、２……透明基板。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ等の電子機器の表示装置に用いる電磁波シールドフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
情報処理装置から放射される電磁波は、他の情報処理装置に影響を及ぼし、性能を低下させるだけでなく誤動作をさせる危険性がある。そのため、情報処理装置に対して１９８５年にＩＥＣ（国際電気標準会議）の国際無線障害特別委員会（ＣＩＳＰＲ）が国際規格を発効しており、同年、日本においても情報処理装置等電波障害自主規制協議会（ＶＣＣＩ）が設立され、情報処理装置からの電磁波に対して１ＧＨｚまで制限を設けた規格が設置されている。米国やヨーロッパ等でも、日本と同様に情報処理装置からの電磁波の規格が設定されており、情報処理装置を販売する際には、販売する国の電磁波を規制する規格の認定を受ける必要がある。
【０００３】
情報処理装置の一つであるディスプレイには、プラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰと記す）やＣＲＴといった表示素子から電磁波を強く放射するディスプレイもあり、それらのディスプレイでは、表示素子の前面に電磁波を放射させないために電磁波をシールドする素子が必要となる。
ディスプレイ前面の電磁波シールド素子には、遮光性の導電体を用いた導電性網目状パターンを透明樹脂フィルムに形成した電磁波シールドフィルムが一般的に使用されている。
【０００４】
導電性網目状パターンは遮光性があるため、ディスプレイパネルの輝度が下がり、視認性が悪くなる欠点があり、導電性網目状パターンが形成されていない部分である開口部の比率（以下、開口率と記す）を上げることが求められている。
そのため、透明導電膜を使用した電磁波シールドフィルムの技術が開示されている。上記、透明導電膜の材料としては酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が使用されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平５−３２３１０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１で使用するＩＴＯ透明導電膜は１ＧＨｚ付近の高周波帯域のシールド特性がほとんどないため、導電性網目状パターン等の導電性メッシュと併用する必要があり、高周波帯域ではやはり導電性メッシュによるシールドが支配的であり、導電性メッシュ形状の最適化が必要であるといえる。
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、その目的は、電磁波シールド特性のよい導電性網目状パターン形状を備える電磁波シールドフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために本発明の電磁波シールドフィルムは、透明基板と、前記透明基板上に形成された導電性の網目状パターンを備え、前記網目状パターンは、導電性材料からなる多数の帯体が格子状に配置されて構成され、隣接する前記帯体相互の間隔Ｄが１μｍ以上２５μｍ以下であることを特徴とする。
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１記載の電磁波シールドフィルムにおいて、前記導電性の網目状パターンは、導電性材料からなる多数の帯体が互いに直交する縦方向と横方向に格子状に配列された格子状パターンであることを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項１または２記載の電磁波シールドフィルムにおいて、前記網目状パターンの開口率が５０％以上１００％未満であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、導電性網目状パターンの間隔を１μｍ以上２５μｍ以下とすることにより、電磁波シールド特性の改善効果が大きくなるため、網目状パターンの線幅を細くすることができる。その結果、電磁波シールド特性にすぐれ開口率の高い電磁波シールドフィルムを安価に提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施の形態における電磁波シールドフィルムを示す断面模式図である。
【図２】本発明の一実施の形態における電磁波シールドフィルムを示す平面視の模式図である。
【図３】本発明の他の実施の形態における電磁波シールドフィルムを示す平面視の模式図である。
【図４】本発明の更に他の実施の形態における電磁波シールドフィルムを示す平面視の模式図である。
【図５】本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムと従来の電磁波シールドフィルムとのシールド特性の測定結果を示す図である。
【図６】本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムのシールド特性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
次に、本発明にかかる電磁波シールドフィルムの実施の形態について、図１〜図６を参照して説明する。
本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムは、図１及び図２に示すように、透明基板２と、この透明基板２上に形成した導電性の網目状パターン１とを備える。
網目状パターン１は、導電性材料からなる一定の幅と一定の厚さを有する多数の帯体１ａを互いに直交する縦方向と横方向に格子状に配置することで構成される。
【００１２】
図３に示す網目状パターン１は、透明基板２が露出している開口部が六角形となるように導電性材料からなる入一定は幅と一定の厚さを有する多数の帯体を配置することで構成される。
また、図４に示す網目状パターン１は、透明基板２が露出している開口部が三角形となるように導電性材料からなる入一定は幅と一定の厚さを有する多数の帯体を配置することで構成される。
なお、網目状パターン１を形成する場合、透明基板２と網目状パターン１の界面には、透明基材２と網目状パターン１を貼りあわせるための接着剤層等が設けられてもよい。
【００１３】
また、本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにおいて、網目状パターン１の平行して隣接する帯体１ａ相互の間隔Ｄは１μｍ以上２５μｍ以下の範囲内に設定されている。
このような網目状パターン１を有する電磁波シールドフィルムの本発明者らによる後述の実験の結果によれば、電磁波シールドメッシュのシールド特性にあっては、網目状パターン１を構成する帯体１ａの線幅よりも帯体１ａ相互の間隔Ｄ（網目間隔）が支配的であることを見出した。特に、図６から明らかなように、帯体相互の間隔Ｄを２５μｍ以下とすることにより、低周波の電磁波に対するシールド特性に優れる電磁波シールドフィルムとすることができる。帯体相互の間隔Ｄが２５μｍを超える場合には、十分なシールド特性を備える電磁はシールドフィルムとすることはできない。一方、帯体１ａ相互の間隔Ｄが１μｍに満たない網目状パターンを形成することは困難である。
【００１４】
本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにおける導電性の網目状パターンは、透明基板が露出している開口部が正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整数）となるように形成された網目模様であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上を組み合わせた網目模様が挙げられる。
【００１５】
また、本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにあっては、前記導電性の網目状パターンが、図２に示すような導電性材料からなる多数の帯体が互いに直交する縦方向と横方向に格子状に配置された格子状パターンであることが好ましい。網目状パターンを格子状とすることにより、製造時の不具合を抑え、設計や検査工程を単純化することが可能であり、量産に適したパターンとすることができる。
【００１６】
また、本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにあっては、導電性網目状パターン１の開口率が５０％以上１００％未満の範囲内であることが好ましい。導電性網目状パターン１の開口率が５０％以上とすることにより、本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムをプラズマディスプレイ等の表示装置に設けた際に映し出される画像の表示品位の低下を抑えることができる。
【００１７】
また、本実施の形態に示す透明基板２としては、透明性を有する種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。
【００１８】
また、透明基板２の厚みは、５μｍ〜５００μｍ程度が好ましい。５μｍ未満だと取扱い性が悪くなり、５００μｍを越えてもフレキシブル性が無くなり、取扱い性が悪くなる。
【００１９】
本実施の形態に示す網目状パターン１を形成するための導電性材料としては、銅（Ｃｕ）、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属材料、あるいはそれらの２種以上を組み合わせた合金材料を使用できる。導電性（電磁波遮蔽性）やメッシュパターン形成の容易さ、価格の点から銅、アルミニウム、ニッケルの薄膜が好ましく用いることができる。また、ニッケル、鉄、ステンレス、チタン等の金属材料は、磁性遮蔽性にも優れるため好ましく用いることができる。
【００２０】
本実施の形態に示す電磁波シールドフィルムにおいて、透明基板２上に導電性材料からなる網目状パターン１を形成する方法としては、例えばエッチング法により形成することができる。ただし、本発明の電磁波シールドフィルムの製造方法にあってはこれに限定されるものではない。
【００２１】
次に、本発明の実施の形態における電磁波シールドメッシュについてさらに説明する。
図１及び図２に示した、導電性網目状パターンを格子状に配置した導電性メッシュ（格子状パターン）１を、Ｃｕ箔を透明基板２に貼り付け、Ｃｕ箔をエッチングすることで形成した。
このとき、銅箔上にネガ型ドライフィルムレジストＡＱ−１５５８（商品名：旭化成エレクトロニクス製）を熱ラミネートにより形成し、電磁波シールドメッシュパターンが描画されたガラス版を介して紫外線露光を行った。
続いて、１％炭酸ナトリウム溶液、３０℃でスプレー現像を行うことで、銅箔上にレジストパターンを形成した。
更に本基材をエッチング処理することにより、シールドメッシュパターンの形成を行った。
エッチング条件は塩化第二鉄液５０℃、３６°Ｂｅの液を用いて、スプレーエッチング装置でスプレー圧０．２ＭＰａでエッチング処理を行った。
続いて、５０℃の３％水酸化ナトリウムを用いて不用になったレジスト層を除去することによって導電性網目状パターンが形成された導電性シールドフィルムを作成した。
【００２２】
ここで、透明基板２に１００μｍ厚のポリエステル（ＰＥＴ）フィルムを使用し、導電性メッシュ（格子状パターン）１に１μｍ厚のＣｕ箔を使用し、エッチングにより配線幅（帯体１ａの幅）を１０μｍ、格子間隔（帯体１ａ相互の間隔）Ｄを２５μｍ、線厚（帯体１ａの厚さ）を１μｍの正方形格子の格子状パターンの導電性シールドフィルムを形成した。
【００２３】
そして、上記実施の形態と同様の材料と工程で比較用に作成した４つの従来技術の電磁波シールドフィルム１（配線幅１０μｍ、格子間隔５０μｍ、線厚１μｍ）、電磁波シールドフィルム２（配線幅１０μｍ、格子間隔１００μｍ、線厚１μｍ）、電磁波シールドフィルム３（配線幅１０μｍ、格子間隔２００μｍ、線厚１μｍ）、電磁波シールドフィルム４（配線幅２０μｍ、格子間隔２００μｍ、線厚１μｍ）（以下、比較例１、比較例２、比較例３、比較例４と示す）、について、電磁波シールド特性を測定した結果を図５にまとめる。電磁波シールド特性はＫＥＣ（関西電子工業振興センター）法に準じて、周波数を低周波の１０ＭＨｚと高周波の５００ＭＨｚで何ｄＢのシールド効果が得られるかを測定して評価している。
【００２４】
格子間隔（帯体１ａ相互の間隔）Ｄが半分になることによる、シールド特性の改善は、図４からも明らかなように、２００μｍから１００μｍで９．７ｄＢ（１ＭＨｚ），９．８ｄＢ（５００ＭＨｚ）、１００μｍから５０μｍで１２．６ｄＢ（１ＭＨｚ），１２．５ｄＢ（５００ＭＨｚ）、５０μｍから２５μｍで１８．６ｄＢ（１０ＭＨｚ），１８．７ｄＢ（５００ＭＨｚ）であり、格子間隔が５０μｍから２５μｍに半減するところで、その効果が他より大きくなっている。よって、網目（格子）間隔が２５μｍ以下の導電性網目状シールドフィルムを作成することで、従来技術よりシールド特性のよい電磁波シールドフィルムを提供することが可能となる。
【００２５】
また、図５に示す比較例２と比較例４のシールド特性結果から、線幅よりも格子間隔の方がシールド特性において、支配的であることがわかる。図６に線幅を１０μｍとした場合（比較例１、比較例１〜比較例３）の周波数１０ＭＨｚと高周波の５００ＭＨでのシールド特性のグラフを示した。今回は線幅１０μｍで行なったが、線幅が異なった場合でも同様の結果となることが容易に推測される。
【００２６】
本発明の実施の形態で得られた電磁波シールドフィルムは表示装置の前面や窓用フィルムとして用いることができる。特にプラズマディスプレイの前面板として好適に用いることができる。プラズマディスプレイの前面板として用いる場合、電磁波シールドフィルムを直接プラズマディスプレイの本体の前面に貼り付けることにより設置できる。この際、前記網目状パターンを接着又は粘着剤に埋め込むことができ、接着又は粘着剤により他の部材と貼り合わせることができる。
また、得られた電磁波シールドフィルムに接着又は粘着剤を設け、プラズマディスプレイに直接貼り付ける場合において、接着又は粘着剤に添加剤を加えても良い。添加剤としては、近赤外線吸収機能、色補正機能、紫外線吸収機能などの機能を有する材料が挙げられる。
【００２７】
なお、網目状パターンは、導通部を通し、アースすることが好ましい。具体的には、ディスプレイの大きさに応じた電磁波シールドメッシュを作成し、その端部は電磁波遮蔽層に物理強度を与えるために額縁状にする。そして、その端部の一部から導通をとり、電磁波シールド特性を確実にすることが好ましい。
【符号の説明】
【００２８】
１……網目状パターン（導電性メッシュ）、１ａ……帯体、２……透明基板。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、前記透明基板上に形成された導電性の網目状パターンを備え、
前記網目状パターンは、導電性材料からなる多数の帯体が格子状に配置されて構成され、
隣接する前記帯体相互の間隔Ｄが１μｍ以上２５μｍ以下である、
ことを特徴とする電磁波シールドフィルム。
【請求項２】
前記導電性の網目状パターンは、導電性材料からなる多数の帯体が互いに直交する縦方向と横方向に格子状に配列された格子状パターンであることを特徴とする請求項１記載の電磁波シールドフィルム。
【請求項３】
前記網目状パターンの開口率が５０％以上１００％未満の範囲内であることを特徴とする請求項１記載の電磁波シールドフィルム。
【請求項１】
透明基板と、前記透明基板上に形成された導電性の網目状パターンを備え、
前記網目状パターンは、導電性材料からなる多数の帯体が格子状に配置されて構成され、
隣接する前記帯体相互の間隔Ｄが１μｍ以上２５μｍ以下である、
ことを特徴とする電磁波シールドフィルム。
【請求項２】
前記導電性の網目状パターンは、導電性材料からなる多数の帯体が互いに直交する縦方向と横方向に格子状に配列された格子状パターンであることを特徴とする請求項１記載の電磁波シールドフィルム。
【請求項３】
前記網目状パターンの開口率が５０％以上１００％未満の範囲内であることを特徴とする請求項１記載の電磁波シールドフィルム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−１９２５５７（Ｐ２０１０−１９２５５７Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３３５１６（Ｐ２００９−３３５１６）
【出願日】平成２１年２月１７日（２００９．２．１７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月１７日（２００９．２．１７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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