説明

旭硝子株式会社により出願された特許

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【課題】 自然環境下において微生物等により分解されやすく、潤滑寿命や酸化安定性に優れたグリース組成物の提供。
【解決手段】 tert−ブチルアルコールを有機配位子の少なくとも一部として有する複合金属シアン化物錯体触媒の存在下で、1〜12個の水酸基を有する1種以上の開始剤の存在下、1種以上の炭素数3〜9の環状エステル化合物と1種以上の炭素数2〜20のアルキレンオキシドとを共重合して得られるポリエステルエーテルポリオールおよび/またはポリエステルエーテルモノオール(a1)をグリース組成物の生分解性基油(A)として用いる。 (もっと読む)


【課題】 フッ素基を持ち、開環メタセシス重合等の重合反応性に優れたノルボルネン化合物、およびその重合体を提供する。
【解決手段】 下式(1)で示される含フッ素重合用モノマー。
【化1】


ただし、式中のRおよびRはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、Rf、Rf、RfおよびRfはそれぞれ独立にフッ素原子、または任意の場所に1つ以上のエーテル性酸素原子を含んでもよい炭素原子数1〜20のポリフルオロアルキル基である。 (もっと読む)


【課題】 窓枠内を開閉する障子の錠本体と錠受けからなる錠装置を外観上視認できないものとして見栄えよく意匠性の高い窓構造を実現する窓構造を提供する。
【解決手段】 窓枠1,4と障子2bからなり、前記障子2bを摺動させるレールを上下に備えた窓構造であって、前記レールの移動手段を備え、前記レールを障子パネル面に略垂直な方向に移動した後に、前記障子2bを前記レールに平行な方向に移動し開閉する窓構造において、前記窓枠1,4に前記錠本体が備わり、前記障子2bに前記錠受けが備わる。 (もっと読む)


【課題】TiOを含有するシリカガラスを高温下で加圧成型した時にシリカガラスに発生する泡の防止。
【解決手段】TiOを含有するシリカガラスを高温下で加圧成型して所望の形状に成型するために使用するグラファイト製成型容器のシリカガラスの成型面側の表面に、平均粒径が0.01〜150μmであるSiC粒子を含む懸濁液をSiC粒子の単位面積当たりの塗布質量が0.005〜0.2g/cmとなるように塗布することにより加圧成型した時の発泡を防止する。 (もっと読む)


【課題】幅広い波長領域において高い透明性と不感性とが得られ、PED効果抑制に優れ、高い撥水性を有し、かつアルカリ現像液に可溶なレジスト保護膜の提供。
【解決手段】橋頭原子に水酸基が結合した含フッ素脂肪族環を有するモノマー単位を有する含フッ素重合体(A)を含むレジスト保護膜。特に、前記水酸基が結合した炭素原子(α)に隣接した炭素原子(β)に、フッ素原子が結合していることが好ましく、前記含フッ素脂肪族環が含フッ素アダマンタン環であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】充分な機械的強度があり、かつガラス基板上の金属磁性膜の腐食を改善する磁気ディスク基板用ガラスを提供する。
【解決手段】組成が質量%表示で実質的に、SiO 50〜65、Al 5〜15、NaO 2〜7、KO 4〜9、NaO+KO 7〜14、MgO 0.5〜5、CaO 2〜8、MgO+CaO 2.5〜10、MgO+CaO+SrO+BaO 12〜25、ZrO 1〜6、からなる磁気ディスク基板用ガラス。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、陰イオン交換樹脂のAPFO(含フッ素カルボン酸塩)吸収量を高め、通液時のPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)の凝集物発生を防止し、吸収されたAPFOの溶離が容易な、精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法を提供する。
【解決手段】
平均粒径が0.1〜0.5μmのPTFE微粒子を10〜50質量%、APFOをPTFEの質量に対して0.05〜1.0質量%、非イオン系界面活性剤をPTFEの質量に対して2〜20質量%含有する粗PTFE水性分散液を、弱塩基性AERが充填されたカラム中に、下から上方向へ、線速が0.1〜2m/秒で、弱塩基性AERとの接触時間が0.2〜4時間となるように通液し、APFO濃度を低減する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、加熱炉を大型にすることなく高温雰囲気において多孔質ガラス体にフッ素等の処理ガスを供給することができる多孔質ガラスの処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明は、SiF4 ガス及び反応ガスが炉芯管12から漏出するのを防止するシール構造について、チャンバ14と炉芯管12とを耐熱性及び通気性を有するシール部16でラフにシールするシール構造を採択する。そして、空間34の圧力P1と炉芯管12内の圧力P2とが、差圧20mmAqでP1>P2となるように差圧コントローラ22が容積式ポンプ42を駆動制御し、処理ガス及び反応ガスの漏出を防止する。これにより、炉芯管12を熱伝導率が高いSiC製としても、シール部16を高温域から離間させる必要がなくなるので、炉芯管12の長さが短くなり、装置全体構成を小型化できる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、EUVリソグラフィに好適な光学部材等を製造することができる多孔質TiO2 −SiO2 ガラス体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、スート法による多孔質TiO2 −SiO2 ガラス体の製造方法において、種棒12を25rpm以上の回転数で回転させながら、その回転機構16の多孔質TiO2 −SiO2 ガラス体成長による重量増加で発生する回転機構16の固有振動数f1低下と不安定振動数f2とを、f1>f2の状態を維持しつつ多孔質TiO2 −SiO2 ガラス体を5kg以上に成長形成する。これにより、EUVリソグラフィに好適な光学部材を製造する上で必要な重量の多孔質TiO2 −SiO2 ガラス体を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 基板の材料によらず配向し緻密な強誘電体薄膜を生産性良く形成できる半導体記憶装置および絶縁体層の形成方法を提供すること。
【解決手段】 結晶性BiTi12等からなる強誘電体粒子を分散させて強誘電体粒子分散液を作製する工程(S110)と、強誘電体粒子分散液を基板上にスピンコートし、焼成して板状粒子が堆積した強誘電体粒子堆積膜を形成する工程(S120)と、焼成により誘電体または強誘電体となりうる化合物を強誘電体粒子堆積膜上にスピンコートし、加熱して平坦化された強誘電体薄膜を形成する工程等(S150、S161またはS162)とを備え、強誘電体粒子間の隙間を充填する構成を有している。 (もっと読む)


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