【課題】
経時的な表示欠陥が生じ難い有機ＥＬ表示素子の製造方法を得る。
【解決手段】
本発明は、電極間に配置された発光層を備える有機ＥＬ表示素子の製造方法であって、基板２１にカラーフィルタ２２を形成してから無機質固体層２４を形成するステップと、電極間に配置された発光層２７を形成するステップと、シール封止するステップと、発光層形成前に基板を１００℃以上に加熱して無機質固体層２４に設けられた透水経路を介して水分等を乾燥除去するステップとを備え、乾燥ガス雰囲気下において１００℃以上に維持した状態で発光層２７を形成する蒸着装置に搬送するものである。 （もっと読む）

【課題】
短絡部の修復不良を抑制して製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】
電圧印加装置３５からリード線３４を介して有機ＥＬ表示パネル３０に電圧を印加するための、リード線３４と接続される上流共通配線３３と、上流共通配線３３と有機ＥＬ表示パネルとの間に接続され、上流共通配線３３より幅が狭い下流共通配線３２とを有し、第１の有機ＥＬ表示パネル群１００に電圧を印加する第１の電圧印加ルート１０１と、第１の電圧印加ルートと分離され、第２の有機ＥＬ表示パネル群２００に電圧を印加する第２の電圧印加ルート２０１とを少なくとも備えるように上流共通配線を複数配設した。 （もっと読む）

【課題】ガス及び薬液のバリア性に優れるテトラフルオロエチレン共重合体の提供。
【解決手段】テトラフルオロエチレンに基づく繰り返し単位（ａ）、及びＣＦ_２＝ＣＦＯＲ^ｆ（ここで、Ｒ^ｆはシクロヘキサン骨格を含むペルフルオロアルキル基である。）で表されるペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく繰り返し単位（ｂ）を含有し、（ａ）／（ｂ）＝９０／１０〜９９．８／０．２（モル比）であり、３８０℃における容量流速が０．１〜１０００ｍｍ^３／秒であるテトラフルオロエチレン共重合体（例えば、テトラフルオロエチレン／ペルフルオロ（シクロヘキシルメチルビニルエーテル）共重合体。）。 （もっと読む）

【課題】 ヒータに給電するためのストラップを短命化させることなく、成形温度が高いガラスを成形できるフロートバスおよびフロート成形方法を提供する。
【解決手段】 フロートバス１０は、溶融スズ１１がたたえられているボトム１２と当該ボトム１２を覆うルーフ１４とを有し、ルーフ１４内の空間がルーフレンガ層１６によって上方空間２０と下方空間２１とに二分され、ルーフレンガ層１６に設けられた貫通孔１７を貫通してヒータ１８が設置されている。ルーフレンガ層１６の厚みは３２０ｍｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】
経時的な表示欠陥が生じないまたは生じ難い有機ＥＬ表示素子およびその製造方法を得る。
【解決手段】
本発明の一態様は、電極間に設けられた有機発光層を備え、基板２１に設けられたカラーフィルタ２２及びオーバーコート層２３と、オーバーコート層２３の上に設けられた無機質固体層２４と、無機質固体層２４の上に設けられた複数の透明な第１の電極２５と、第１の電極２５の上に設けられた発光層２７と、発光層２７の上に形成された第２の電極２８とを備え、第１の電極間の領域において、無機質固体層２４に透水経路が表示領域全体にわたって均一に設けられている。 （もっと読む）

【課題】
位置ずれを小さした状態で基板を確実に貼り合わせることができる貼り合わせ治具及び表示装置の製造方法を提供することができる。
【解決手段】
本発明の一態様における貼り合わせ治具は、矩形状の対向基板と、円形の素子基板とを貼り合わせるための貼り合わせ治具であって、側面において対向基板の位置を規制する第１段６１と、凹部６３の側面で素子基板の位置を規制する第２段６４とを有し、凹部６３が素子基板の外周形状に沿うように設けられた第１の規制部６９ａ及び第２の規制部６９ｂと、第１の規制部６９ａと第２の規制部６９ｂとの間に設けられた接続部６８とを有するものである。 （もっと読む）

【課題】可視光域で高い反射率を有し、耐湿性や耐塩水性等の耐久性に優れ、かつ入射角依存性が小さい（光の入射角によって反射率が変動しにくい）高反射鏡の提供。
【解決手段】基板上に、銀膜、低屈折率膜、高屈折率膜がこの順で積層された高反射鏡であって、入射角が１５度、４５度、７５度の各々の場合における、膜面反射率の可視光域全域の最低値の偏差が７％以内であることを特徴とする高反射鏡。前記銀膜の基板と反対側に密着改善膜を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】基板での光干渉に起因する透過光量のノイズを低減し、高精度の膜厚制御を実現する。
【解決手段】成膜時に基板を自転させなくても良好な膜厚均一性が得られるカルーセル型のスパッタ装置を用いるとともに、基板１８の成膜面１８Ａに対して基板裏面１８Ｂが所定角度で傾斜している形状の基板を用いる。成膜面１８Ａに対する基板裏面１８Ｂの傾斜角θは０°＜θ≦２°が好ましく、基板１８の最も厚い部分または最も薄い部分が基板ホルダーの上下方向になるように基板を固定する。また、投光部から出射した光が成膜面１８Ａで当該成膜面１８Ａと垂直になるように光軸を調整することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 硬質ポリウレタンフォームの製造に使用でき、かつ分散安定性が良好なポリマー分散ポリオールの製法の提供。
【解決手段】 水酸基価８４ｍｇＫＯＨ／ｇ以下かつオキシエチレン基含量５０重量％以上のポリエーテルポリオール（Ｙ）を含む、平均の水酸基価２００〜８００ｍｇＫＯＨ／ｇのポリオール（Ｘ）中で重合性不飽和基を有するモノマーを重合して、ポリマー微粒子が安定に分散したポリマー分散ポリオールを製造する。 （もっと読む）

高次モードの伝送損失が小さく、モード分散が小さいプラスチック光ファイバを提供する。少なくともコア部と、該コア部の外周にクラッド部とを有してなるプラスチック光ファイバであって、前記コア部が、コア中心から外側に向かって前記プラスチック光ファイバの径方向に漸次低下する屈折率を有し、前記クラッド部の屈折率が前記コア中心の屈折率よりも低く、かつコア周縁の屈折率よりも高いことを特徴とするプラスチック光ファイバ。
（もっと読む）